KR20060129790A - Apparatus for substrate cleaning dry - Google Patents

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KR20060129790A
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Abstract

A substrate cleaning/drying apparatus is provided to consistently maintain concentration of isopropyl alcohol, if process conditions are altered, thereby improving an ability of a dry process. A substrate is cleaned and dried in a process chamber(110). An evaporator(124) heats a mixture of a carrier gas and an organic solvent to generate a dry fluid. An organic solvent supply unit supplies the organic solvent to the evaporator. A carrier gas supply unit supplies the carrier gas to the evaporator. A concentration maintaining unit(140) constantly maintains concentration of the organic solvent supplied to the process chamber. The concentration maintaining unit has a flow rate control member controlling an amount of the carrier gas to be supplied to the evaporator.

Description

기판 세정 건조 장치{APPARATUS FOR SUBSTRATE CLEANING DRY} Substrate cleaning drying apparatus {APPARATUS FOR SUBSTRATE CLEANING DRY}

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 세정 건조 장치를 보여주는 구성도이다. 1 is a block diagram showing a substrate cleaning drying apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

110 : 프로세스 챔버110: process chamber

120 : 건조용 유체 공급부120: drying fluid supply unit

124 : 기화기124: Carburetor

126 : 유기용제 공급부126: organic solvent supply unit

132 : 캐리어 가스 공급부132: carrier gas supply unit

140 : 농도 유지부140: concentration maintaining unit

144 : 농도계144 densitometer

본 발명은 기판 세정 건조 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판 등의 기판을 약액이나 린스액등의 세정액에 침적해서 세정한 후, IPA 증기를 이용하여 건조하는 기판 세정 건조 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning drying apparatus. More specifically, a substrate cleaning drying method is performed by depositing and cleaning a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate for an LCD in a cleaning liquid such as a chemical liquid or a rinse liquid, and then drying the substrate using IPA vapor. Relates to a device.

반도체 소자의 제조 공정은 다양한 종류의 물질을 사용하고, 다단계의 처리공정을 거쳐 회로패턴 및 배선을 형성한다. 그러므로, 각 처리 단계 이후에 후속의 공정에 오염에 방지하기 위해 반도체 웨이퍼 표면으로부터 불순물 입자 및 기타 오염물을 제거하는 것이 필수적이다. 종래에도 기판 표면의 미립자나 유기오염물, 금속불순물과 같은 오염물을 제거하기 위해 세정장치를 사용하고 있는 바, 그 중 특히 기판 세정 건조 장치는 오염물을 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라 배치 처리(batch process)로 대량처리를 할 수 있기 때문에 널리 보급되고 있다.The semiconductor device manufacturing process uses various kinds of materials and forms circuit patterns and wiring through a multi-step processing process. Therefore, it is essential to remove impurity particles and other contaminants from the semiconductor wafer surface after each processing step to prevent contamination in subsequent processes. Conventionally, cleaning devices are used to remove contaminants such as fine particles, organic contaminants, and metal impurities on the surface of the substrate. Among them, in particular, the substrate cleaning and drying device is capable of effectively removing contaminants as well as a batch process. It is widely used because it can be processed in large quantities.

이러한 기판 세정 건조 장치에서는 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판 등의 피처리체(이하, 기판이라 한다)에 대해 암모니아 처리, 플루오르산 처리, 황산 처리와 같은 약액 세정처리, 순수 같은 것으로 세정하는 수세 세정처리, 이소프로필알코올(IPA) 등으로 처리하는 건조처리가 행해지도록 구성되고, 각각 처리순으로 배열된 처리조와 건조실로 약액과 순수 및 이소프로필알코올을 각각 공급하여, 기판을 처리조에 순차로 침지한 후 건조시키는 배치 처리방법이 널리 채택되고 있다.In such a substrate cleaning drying apparatus, chemical liquid cleaning treatment such as ammonia treatment, fluoric acid treatment, sulfuric acid treatment, and the like can be washed with a pure water on a target object (hereinafter, referred to as a substrate) such as a semiconductor wafer or a glass substrate for LCD. It is configured to perform drying treatment with isopropyl alcohol (IPA) or the like, and supplies chemical liquid, pure water and isopropyl alcohol, respectively, to the treatment tank and the drying chamber arranged in the order of treatment, and immerses the substrate in the treatment tank sequentially and then dries. Batch treatment methods have been widely adopted.

기존의 기판 세정 건조 장치에서 기판 건조에 사용되는 이소프로필알코올 증기(이하, IPA 증기)의 농도는 배관의 문제나 설비의 오작동 또 그 외의 요인에 의해 그 농도가 변동한다. 이러한 IPA 증기의 농도 변화는 기판 건조 불량의 가장 큰 원인이 된다. 그러나, 기존 기판 세정 건조 장치는 농도 변화를 감지하여 인터록을 발생할 뿐 농도 변화에 대처하지 못하고 있고, 공정 중 인터록 발생은 전체 공정에 영향을 미치는 등의 문제점이 있다. The concentration of isopropyl alcohol vapor (hereinafter referred to as IPA vapor) used for drying a substrate in a conventional substrate cleaning drying apparatus varies depending on piping problems, equipment malfunction, and other factors. This concentration change of the IPA vapor is the biggest cause of poor substrate drying. However, the conventional substrate cleaning drying apparatus does not cope with the change in concentration by generating an interlock by detecting a change in concentration, and there is a problem such that the generation of interlock affects the entire process.

이에 본 발명은 상술한 종래 기술상의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 IPA 증기의 농도를 일정하게 유지시킬 수 있는 기판 세정 건조 장치를 제공하는데 있다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the prior art, an object of the present invention to provide a substrate cleaning drying apparatus capable of maintaining a constant concentration of IPA vapor.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판 세정 건조 장치는 기판들의 세정 및 건조가 이루어지는 프로세스챔버; 캐리어 가스와 유기용제의 혼합물을 가열하여 건조용 유체를 생성하는 기화기; 상기 기화기로 유기용제를 공급하는 유기용제 공급부; 상기 기화기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어가스 공급부; 및 상기 기화기에서 상기 프로세스챔버로 제공되는 유기용제의 농도를 일정하게 유지시키기 위한 농도유지부를 구비할 수 있다. The substrate cleaning drying apparatus of the present invention for achieving the above object is a process chamber in which the cleaning and drying of the substrate is made; A vaporizer for heating the mixture of the carrier gas and the organic solvent to produce a drying fluid; An organic solvent supply unit supplying an organic solvent to the vaporizer; A carrier gas supply unit supplying a carrier gas to the vaporizer; And a concentration maintaining part for maintaining a constant concentration of the organic solvent provided to the process chamber in the vaporizer.

일 실시예에 따르면, 상기 농도유지부는 상기 캐리어 가스공급부에 상기 기화기로 공급되는 캐리어 가스의 공급량을 조절하는 제1유량조절장치; 상기 기화기 후단에 설치되어 상기 기화기로부터 상기 프로세스챔버로 공급되는 유기용제의 농도를 감지하는 농도계; 및 상기 농도계로부터 농도값을 받아 그 농도의 변화에 따라 상기 제1유량조절장치를 제어하는 콘트롤러를 구비할 수 있다.According to one embodiment, the concentration maintaining unit comprises a first flow rate adjusting device for adjusting the supply amount of the carrier gas supplied to the vaporizer to the carrier gas supply unit; A concentration meter installed at a rear end of the vaporizer to sense a concentration of the organic solvent supplied from the vaporizer to the process chamber; And a controller that receives the concentration value from the densitometer and controls the first flow rate adjusting device according to the change of the concentration.

일 실시예에 따르면, 상기 유기용제 공급부는 유기용제가 담겨져 있는 가압탱크; 상기 가압탱크에 불활성가스를 공급하는 가압라인; 불활성 가스의 가압에 의해 상기 가압탱크로부터 상기 기화기로 유기용제가 공급되는 유기용제 공급라인을 포함하고; 상기 농도유지부는 상기 유기용제 공급라인에 설치되어 상기 유기용제 공급라인을 통해 공급되는 유기용제의 유량을 제어하는 메터링펌프와 상기 가압라 인에 상기 가압탱크를 가압하기 위한 불활성가스의 공급량을 제어하는 제2유량조절장치를 더 구비할 수 있다. According to one embodiment, the organic solvent supply unit pressurized tank containing the organic solvent; A pressurizing line for supplying an inert gas to the pressurized tank; An organic solvent supply line supplied with the organic solvent from the pressure tank to the vaporizer by pressurization of an inert gas; The concentration maintaining unit is installed in the organic solvent supply line to control the supply amount of the metering pump for controlling the flow rate of the organic solvent supplied through the organic solvent supply line and the inert gas for pressurizing the pressure tank to the pressure line. A second flow rate control device may be further provided.

일 실시예에 따르면, 상기 유기용제 공급부에 상기 기화기로 공급되는 유기용제의 공급량을 조절하는 제3유량조절장치를 더 구비할 수 있다. According to one embodiment, the organic solvent supply unit may further include a third flow rate adjusting device for adjusting the supply amount of the organic solvent supplied to the vaporizer.

이하, 본 발명에 따른 기판 세정 건조 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the substrate cleaning drying apparatus according to the present invention will be described in detail.

본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구현될 수 있다. 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상과 특징이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면들에 있어서, 각각의 장치는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 개략적으로 도시된 것이다. 또한, 각각의 장치에는 본 명세서에서 자세히 설명되지 아니한 각종의 다양한 부가 장치가 구비되어 있을 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 도면부호는 동일한 구성요소를 나타낸다.The invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. The embodiments introduced herein are provided to make the disclosed contents thorough and complete, and to fully convey the spirit and features of the present invention to those skilled in the art. In the drawings, each device is schematically shown for clarity of the invention. Each device may also be equipped with a variety of additional devices not described in detail herein. Like reference numerals denote like elements throughout the specification.

(실시예)(Example)

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 세정 건조 장치를 보여주는 구성도이다. 1 is a block diagram showing a substrate cleaning drying apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 기본적인 의도는 기판 건조를 위해 질소 내에 기화되어 건조실로 함께 공급되는 IPA(이소프로필알코올)의 농도를 공정 조건에 따라 일정하게 유지시킬 수 있는 기판 세정 건조 장치를 제공하는데 있다. The basic intention of the present invention is to provide a substrate cleaning drying apparatus capable of maintaining a constant concentration of IPA (isopropyl alcohol) which is vaporized in nitrogen for supplying a substrate and supplied together with a drying chamber according to process conditions.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 기판 세정 건조 장치(100)는 세정공정 과 건조공정이 하나의 챔버 내에서 이루어지는 프로세스 챔버(110)를 포함한다. 이 프로세스 챔버(110)는 기판들의 세정이 이루어지는 세정실(112)과, 이 세정실의 상부에 배치되며 기판들의 건조가 이루어지는 건조실(116), 세정실(112)과 건조실(116)간의 기판 반송을 위한 기판 보우트(115) 그리고 건조용 유체 공급부(120)를 갖는다.As shown in FIG. 1, the substrate cleaning and drying apparatus 100 of the present invention includes a process chamber 110 in which a cleaning process and a drying process are performed in one chamber. The process chamber 110 transfers the substrate between the cleaning chamber 112 where the substrates are cleaned, the drying chamber 116 disposed above the cleaning chamber, and the substrates are dried, the cleaning chamber 112 and the drying chamber 116. Has a substrate bow 115 and a drying fluid supply 120.

세정실(112)은 기판(10)들을 세정하기 위한 세정액이 수용되는 내조(112a)와, 내조(112a)의 외벽 상측부에 위치하며 세정공정중 내조로부터 흘러 넘칠 수 있는 세정액을 수용하는 외조(112b)를 갖는다. 내조(112a)는 상부가 개방되며, 내조의 바닥 양측에는 세정액을 공급하는 노즐(114)이 설치되고, 내조의 바닥 중앙에는 세정액이 배출되는 배출구(미도시됨)가 설치되어 있다. 여기서, 세정액으로는 불산(HF) 또는 불산/탈이온수(deionized water)의 혼합액, 이외에 암모니아/과수/탈이온수의 혼합액, 염산/과수/탈이온수의 혼합액 또는 이들의 혼합액을 세정액으로 사용할 수 있다. The cleaning chamber 112 includes an inner tank 112a in which a cleaning liquid for cleaning the substrates 10 is accommodated, and an outer tank containing a cleaning liquid that is located at an upper side of the outer wall of the inner tank 112a and may overflow from the inner tank during the cleaning process. 112b). The upper part of the inner tank 112a is opened, and the nozzle 114 which supplies a cleaning liquid is installed in the bottom both sides of the inner tank, and the outlet (not shown) which discharges a cleaning liquid is provided in the center of the bottom of an inner tank. Here, as the washing liquid, a mixed liquid of hydrofluoric acid (HF) or hydrofluoric acid / deionized water, a mixed liquid of ammonia / fruit water / deionized water, a mixed liquid of hydrochloric acid / fruit water / deionized water, or a mixture thereof can be used as the washing liquid.

복수의 기판(10)들은 기판 보우트(115)에 탑재되어 세정실의 내조(112a)에 위치하게 된다. 기판 보우트(115)에는 25 또는 50매의 기판들이 수직으로 세워진 상태로 지지되며, 이 기판 보우트(115)는 프로세스 챔버(110) 밖에 설치된 승강장치(미도시됨)에 의해 승강되게 된다. The plurality of substrates 10 are mounted on the substrate boat 115 to be positioned in the inner tank 112a of the cleaning chamber. 25 or 50 substrates are vertically supported on the substrate boat 115, and the substrate boat 115 is lifted by an elevator (not shown) installed outside the process chamber 110.

건조실(116)은 이미 앞서 설명한 바와 같이 세정조(112)에서 세정 처리되어 이송된 기판(10)의 건조 처리를 수행하기 위한 것이다. 이를 위해 건조실(116)의 상부에는 건조실(116) 내에서 기판 보우트(115)에 보유지지된 기판(10)에 대해 질 소 가스(불활성 가스) 및 질소+이소프로필알코올(IPA)의 혼합 가스(건조용 유체)를 아래를 향해 불어넣는 노즐(1122)이 설치되어 있다. 이 노즐(122)은 건조실(116) 상부에 개폐 가능한 커버(117)상에 설치된다. 건조용 유체(예를 들어, 질소, 이소프로필알코올, 또는 질소와 이소프로필알코올의 혼합 유체 등)는 노즐(122)을 통해 건조실(116)로 유입된다. As described above, the drying chamber 116 is for performing a drying process of the substrate 10 that has been cleaned and transferred in the cleaning tank 112. To this end, a mixed gas of nitrogen gas (inert gas) and nitrogen + isopropyl alcohol (IPA) with respect to the substrate 10 held in the substrate boat 115 in the drying chamber 116 is disposed above the drying chamber 116. A nozzle 1122 for blowing a drying fluid) downward is provided. The nozzle 122 is provided on the cover 117 that can be opened and closed at the top of the drying chamber 116. Drying fluid (eg, nitrogen, isopropyl alcohol, or a mixed fluid of nitrogen and isopropyl alcohol) is introduced into the drying chamber 116 through the nozzle 122.

건조용 유체(질소+이소프로필알코올의 혼합 가스)는 기화기(124)를 통해 제공된다. 기화기(124)는 캐리어 가스(불활성가스)인 질소가스와 유기용제인 이소프로필알코올의 혼합물을 가열하여 건조용 유체를 생성하게 된다. 기화기(124)에서 필요로 하는 질소가스와 이소프로필알코올은 캐리어 가스 공급부(132)와 유기용제(건조액체) 공급부(126)를 통해 제공된다.Drying fluid (mixed gas of nitrogen + isopropyl alcohol) is provided through the vaporizer 124. The vaporizer 124 generates a drying fluid by heating a mixture of nitrogen gas, which is a carrier gas (inert gas), and isopropyl alcohol, which is an organic solvent. Nitrogen gas and isopropyl alcohol required by the vaporizer 124 are provided through the carrier gas supply unit 132 and the organic solvent (dry liquid) supply unit 126.

유기용제 공급부(126)는 이소프로필알코올이 담겨져 있는 가압탱크(127)를 갖는다. 가압탱크(127)에는 가압라인(128)과 가압라인(128)을 통해 제공되는 질소가스의 가압에 의해 가압탱크(127)로부터 기화기로 유기용제가 공급되는 유기용제 공급라인(129)이 연결된다. 유기용제 공급라인(129)에는 농도유지부(140)의 컨트롤러(142)와 피드백 제어가 가능한 정량펌프인 메터링펌프(130)가 설치된다. 한편, 캐리어 가스 공급부(132)는 질소가스탱크(134)를 갖으며, 이 질소가스탱크(134)에는 기화기(124)와 연결되는 질소공급라인(135)들과, 가압라인(128)이 연결된다. The organic solvent supply unit 126 has a pressurized tank 127 in which isopropyl alcohol is contained. The pressure tank 127 is connected to the organic solvent supply line 129 in which the organic solvent is supplied from the pressure tank 127 to the vaporizer by pressurization of nitrogen gas provided through the pressure line 128 and the pressure line 128. . The organic solvent supply line 129 is provided with a metering pump 130 which is a metering pump capable of feedback control with the controller 142 of the concentration maintaining unit 140. Meanwhile, the carrier gas supply unit 132 has a nitrogen gas tank 134, and the nitrogen gas tank 134 is connected to the nitrogen supply lines 135 connected to the vaporizer 124 and the pressurization line 128. do.

본 실시예에서는 수용성이면서 기판에 대한 초순수나 처리액의 표면 장력을 저하시키는 작용을 하는 유기 용제로서 이소프로필알코올을 사용하였으나, 메탄올과 같은 1가알코올, 아세톤과 같은 케톤류, 에틸에테르와 같은 에테르류, 에틸렌글 리콜과 같은 다가알코올 등의 유기 용제를 채택할 수 있다. 그리고, 피처리물은 반도체 기판에 한정되지 아니하고, 플라즈마 디스플레이 또는 액정디스플레이 장치의 기판, 또는 포토마스크 기판 등도 이에 포함된다.In this embodiment, isopropyl alcohol is used as an organic solvent that is water-soluble and acts to lower the surface tension of the ultrapure water or the processing liquid on the substrate. However, monohydric alcohols such as methanol, ketones such as acetone, and ethers such as ethyl ether are used. And organic solvents such as polyhydric alcohols such as ethylene glycol. The object to be processed is not limited to a semiconductor substrate, but also includes a substrate of a plasma display or a liquid crystal display device, a photomask substrate, and the like.

한편, 본 발명의 기판 세정 건조 장치(100)는 기화기(124)에서 프로세스 챔버(110)로 제공되는 건조용 유체의 이소프로필알코올 농도를 일정하게 유지시키기 위한 농도유지부(140)를 갖는다.On the other hand, the substrate cleaning drying apparatus 100 of the present invention has a concentration maintaining unit 140 for maintaining a constant isopropyl alcohol concentration of the drying fluid provided to the process chamber 110 from the vaporizer 124.

농도유지부(140)는 제1,2유량조절장치(MFC)와 농도계(144) 그리고 컨트롤러(142)를 포함한다. 제1유량조절장치(146a)는 캐리어 가스공급부의 질소공급라인에 설치되며, 제2유량조절장치(146b)는 가압라인(128)에 설치된다. 즉, 농도유지부(140)는 이소프로필알코올과 혼합되는 질소가스의 양을 조절하거나 또는 가압탱크(127)를 가압하는 질소가스 양을 조절하여 이소프로필알코올 농도를 조절하는 것이다. 농도계(144)는 기화기(124) 후단에 설치되어 기화기(124)로부터 프로세스 챔버(110)로 공급되는 건조용 유체의 이소프로필알코올 농도를 감지하며, 농도계(144)에서 측정된 농도값은 컨트롤러(142)로 제공되고, 컨트롤러(142)에서는 농도계(144)로부터 받은 농도값의 변화에 따라 제1,2유량조절장치(146a,146b) 중 적어도 하나를 제어하여 기화기(124)로 제공되는 유기용제의 유량을 제어하게 된다. The concentration maintaining unit 140 includes first and second flow rate regulating devices (MFC), a concentration meter 144, and a controller 142. The first flow control device 146a is installed in the nitrogen supply line of the carrier gas supply unit, and the second flow control device 146b is installed in the pressure line 128. That is, the concentration maintaining unit 140 adjusts the isopropyl alcohol concentration by adjusting the amount of nitrogen gas mixed with isopropyl alcohol or by adjusting the amount of nitrogen gas pressurizing the pressure tank 127. The densitometer 144 is installed at the rear end of the vaporizer 124 to detect the isopropyl alcohol concentration of the drying fluid supplied from the vaporizer 124 to the process chamber 110, the concentration value measured in the densitometer 144 is a controller ( 142, and the controller 142 controls at least one of the first and second flow rate control devices 146a and 146b according to the change in the concentration value received from the densitometer 144 to be provided to the vaporizer 124. To control the flow rate.

이와 같이 본 발명의 기판 세정 건조 장치는 프로세스 챔버로 제공되기 직전의 건조용 유체의 이소프로필알코올 농도를 실시간으로 감지하여, 농도 변화에 따라 기화기로 제공되는 유기용제의 공급량을 조절함으로써 일정한 이소프로필알코올 농도를 유지할 수 있는 이점이 있다. As described above, the substrate cleaning and drying apparatus of the present invention senses isopropyl alcohol concentration of the drying fluid immediately before being provided to the process chamber in real time, and adjusts the supply amount of the organic solvent provided to the vaporizer according to the concentration change, thereby adjusting the constant isopropyl alcohol. There is an advantage to maintain the concentration.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description merely shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. And, it is possible to change or modify within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the written description, and / or the skill or knowledge in the art. The above-described embodiments are for explaining the best state in carrying out the present invention, the use of other inventions such as the present invention in other state known in the art, and the specific fields of application and uses of the present invention. Various changes are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명의 기판 세정 건조 장치는 이소프로필알코올 농도를 미세하게 조절할 수 있는 장치를 사용하여 공정조건의 변화에도 일정한 이소프로필알코올 농도를 유지하여 건조 공정 능력을 향상시킬 수 있는 각별한 효과를 갖는다. As described in detail above, the substrate cleaning and drying apparatus of the present invention can improve the drying process ability by maintaining a constant isopropyl alcohol concentration even when the process conditions are changed by using a device capable of finely adjusting the isopropyl alcohol concentration. It has a special effect.

Claims (4)

기판 세정 건조 장치에 있어서: In the substrate cleaning drying apparatus: 기판들의 세정 및 건조가 이루어지는 프로세스챔버;A process chamber in which substrates are cleaned and dried; 캐리어 가스와 유기용제의 혼합물을 가열하여 건조용 유체를 생성하는 기화기;A vaporizer for heating the mixture of the carrier gas and the organic solvent to produce a drying fluid; 상기 기화기로 유기용제를 공급하는 유기용제 공급부;An organic solvent supply unit supplying an organic solvent to the vaporizer; 상기 기화기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어가스 공급부; 및A carrier gas supply unit supplying a carrier gas to the vaporizer; And 상기 기화기에서 상기 프로세스챔버로 제공되는 유기용제의 농도를 일정하게 유지시키기 위한 농도유지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 건조 장치.And a concentration maintaining unit for maintaining a constant concentration of the organic solvent provided to the process chamber in the vaporizer. 제1항에 있어서The method of claim 1 상기 농도유지부는The concentration maintaining unit 상기 캐리어 가스공급부에 상기 기화기로 공급되는 캐리어 가스의 공급량을 조절하는 제1유량조절장치;A first flow rate adjusting device for adjusting a supply amount of a carrier gas supplied to the vaporizer to the carrier gas supply part; 상기 기화기 후단에 설치되어 상기 기화기로부터 상기 프로세스챔버로 공급되는 유기용제의 농도를 감지하는 농도계; 및A concentration meter installed at a rear end of the vaporizer to sense a concentration of the organic solvent supplied from the vaporizer to the process chamber; And 상기 농도계로부터 농도값을 받아 그 농도의 변화에 따라 상기 제1유량조절장치를 제어하는 콘트롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 건조 장치.And a controller which receives the concentration value from the densitometer and controls the first flow rate adjusting device in accordance with the change of the concentration. 제2항에 있어서The method of claim 2 상기 유기용제 공급부는The organic solvent supply unit 유기용제가 담겨져 있는 가압탱크;Pressurized tank containing an organic solvent; 상기 가압탱크에 불활성가스를 공급하는 가압라인;A pressurizing line for supplying an inert gas to the pressurized tank; 불활성 가스의 가압에 의해 상기 가압탱크로부터 상기 기화기로 유기용제가 공급되는 유기용제 공급라인을 포함하고;An organic solvent supply line supplied with the organic solvent from the pressure tank to the vaporizer by pressurization of an inert gas; 상기 농도유지부는 The concentration maintaining unit 상기 유기용제 공급라인에 설치되어 상기 유기용제 공급라인을 통해 공급되는 유기용제의 유량을 제어하는 메터링펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 건조 장치.And a metering pump installed in the organic solvent supply line to control a flow rate of the organic solvent supplied through the organic solvent supply line. 제2항에 있어서The method of claim 2 상기 유기용제 공급부는The organic solvent supply unit 유기용제가 담겨져 있는 가압탱크;Pressurized tank containing an organic solvent; 상기 가압탱크에 불활성가스를 공급하는 가압라인;A pressurizing line for supplying an inert gas to the pressurized tank; 불활성 가스의 가압에 의해 상기 가압탱크로부터 상기 기화기로 유기용제가 공급되는 유기용제 공급라인을 포함하고;An organic solvent supply line supplied with the organic solvent from the pressure tank to the vaporizer by pressurization of an inert gas; 상기 농도유지부는 상기 가압라인에 상기 가압탱크를 가압하기 위한 불활성가스의 공급량을 제어하는 제2유량조절장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 건조 장치.The concentration maintaining unit further comprises a second flow rate control device for controlling the supply amount of inert gas for pressurizing the pressure tank to the pressure line.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100789886B1 (en) * 2007-02-09 2007-12-28 세메스 주식회사 Apparatus and method for treating substrate
KR100839910B1 (en) * 2006-12-28 2008-06-19 세메스 주식회사 Vaporizer and apparatus for treating substrate with the same
CN110429046A (en) * 2019-06-19 2019-11-08 清华大学 A kind of fluid supply apparatus and substrate drying apparatus for drying substrates

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