KR20040051464A - Chip on film by electroplating and its manufacturing method. - Google Patents

Chip on film by electroplating and its manufacturing method. Download PDF

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KR20040051464A KR1020020080087A KR20020080087A KR20040051464A KR 20040051464 A KR20040051464 A KR 20040051464A KR 1020020080087 A KR1020020080087 A KR 1020020080087A KR 20020080087 A KR20020080087 A KR 20020080087A KR 20040051464 A KR20040051464 A KR 20040051464A
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Abstract

PURPOSE: A chip on film by carrying out an electroplating process and a manufacturing method thereof are provided to be capable of precisely forming a pattern and economizing the materials. CONSTITUTION: A chip on film by carrying out an electroplating process is provided with an electrode base(21), a plurality of pin electrode bases(22) formed on the electrode base, and a foaming release agent(24) filled into the gaps between the pin electrode bases. A heat treatment is carried out on the resultant structure for swelling the foaming release agent of the resultant structure. A drying process is carried out on the swollen foaming release agent for hardening the shape of the swollen foaming release agent.

Description

전주가공에 의한 칩 온 필름과 그의 제작방법.{omitted}Chip-on-film by Jeonju processing and its manufacturing method. {Omitted}

본 발명은 일반적으로 반도체와 기타 전자장치 등에서 흔히 사용이 되어지는 미세한 통전회로, PCB 기판, 리드프레임 등의 다양한 형태로 구성이 되어지는 칩 온 필름과 그에 제작방법에 그 제조방법에 대한 발명이다. 이러한 칩 온 필름은 다양한 분야에서 사용이 되어지며, 극히 미세한 모양의 형상을 가지는 칩 온 필름을 제조하는 데 있어서, 종래에는 에칭기술에 의하여 일반적으로 이들이 생산이 되어져 왔다. 본 발명에서는 이들을 전주가공에 의하여 생산을 가능케 한다. 본 발명은 이들의 생산에 있어서, 전주가공물을 생성시키는 전주마스타를 사용하며, 상기 전주마스타를 전주욕에 침지시켜서 전기분해를 통하여 다양한 형태의 전주가공물을형성한 후 이들에 얇은 기저부를 결합시킴으로 본 발명의 칩 온 필름을 구성한다.The present invention relates to a chip-on-film and a method of manufacturing the same, which are generally configured in various forms such as micro-current circuits, PCB boards, and lead frames that are commonly used in semiconductors and other electronic devices. Such a chip on film is used in various fields, and in the manufacture of a chip on film having an extremely fine shape, conventionally, these have been produced by etching techniques. In the present invention, these can be produced by electroplating. The present invention uses the Jeonju master to produce the Jeonju processed products in the production of these, by immersing the Jeonju Master in the Jeonju bath to form various types of Jeonju processed products through electrolysis, and then combine them with a thin base The chip on film of the invention is constituted.

종래의 에칭법에 의한 가공방법은 금속의 부식에 의한 방법을 채택함으로 인하여 그 정밀도의 한계를 가질 수밖에 없었다. 또는 에칭법에 의한 가공은 필연적으로 부식되어지는 양만큼의 소재를 폐기할 수 밖에 없다. 본 발명은 전주가공법에 의한 가공을 채택함으로서 에칭법에 비하여 보다 정밀한 패턴의 형성이 가능하며, 필요로 되어지는 소재만이 전주마스타에 구성이 되는 까닭에 전혀 소재의 낭비를 하지 않아도되는 점이 특징이다. 본 발명에 의한 제품은 또한 생산 공정에 있어서도 제품마다 노광을 시키어 에칭하는 과정을 거치지 않고 바로 전주욕조에서 전주를 통하여 제품을 형성하게 됨으로서 종래의 기법보다 간단한 공정으로 제품을 생산할 수가 있게 한다.Conventional processing methods by the etching method has a limitation of the precision due to the method by the corrosion of metal. Alternatively, the processing by the etching method inevitably disposes the material as much as it is corroded. The present invention is capable of forming a more precise pattern than the etching method by adopting the processing by the electric pole processing method, and since only the required material is constituted in the electric pole master, no material waste is required. . The product according to the present invention also enables the production of the product by a simpler process than the conventional technique by forming the product through the pole immediately in the electric bath, without undergoing the exposure and etching process for each product in the production process.

제 1 도, 제 2 도, 제 3 도는 패턴과 동일한 형상을 가지는 전극베이스를 제작하는 방법을 설명하는 설명도이다.1, 2, and 3 are explanatory views for explaining a method for producing an electrode base having the same shape as the pattern.

제 4 도, 제 5 도, 제 6 도는 전주가공에 의하여 리드프레임 등 전주가 공물을 제작할 수가 있게 하는 전주 마스터를 제작하는 제작방법을 설명하는 설명도이다.4, 5, and 6 are explanatory views for explaining a production method for manufacturing a pole master, which enables pole poles such as lead frames to be tribute by pole pole machining.

제 7 도는 본 발명의 전주마스타를 전주 욕조에 침지하여 전주를 행하는 상태를 설명하는 설명도이다.7 is an explanatory diagram for explaining a state in which the electric pole is immersed in the electric bath tub of the electric pole master of the present invention.

제 8 도는 전주가공물이 점차 충진되어 핀부 이형재의 높이로 형성이 되었을 때의 상태를 나타내는 상태도이다.8 is a state diagram showing the state when the electroformed workpiece is gradually filled and formed at the height of the pin part release material.

제 9 도는 전주마스타로부터 탈형된 전주가공물의 분리 상태를 설명하는 설명도이다.9 is an explanatory diagram for explaining a separation state of the electroformed workpiece deformed from the electric pole master.

제 10 도(A)는 다양한 형태의 문양과, 상기 문양의 주위로 상기 문양을 지지하는 기저부로 구성이 되어지는 패턴의 설명도이다.FIG. 10A is an explanatory diagram of a pattern composed of various patterns and a base portion supporting the pattern around the pattern.

제 10 도(B)는 제 10 도(A)의 반전패턴의 설명도이다FIG. 10B is an explanatory diagram of the inversion pattern of FIG. 10A.

제 11 도는 전주마스타에 전주가공물이 형성되어진 상태로 필름을 접합시키어 칩 온 필름을 제작하는 것에 대한 설명도이다.FIG. 11 is an explanatory diagram for fabricating a chip-on film by bonding a film in a state where an electroforming material is formed on a pole pole master.

제 12 도는 제 11 도에서 구성되어진 칩 온 필름을 설명하는 설명도이다.FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating a chip on film constructed in FIG. 11.

제 13 도는 열가소성수지를 이용한 칩 온 필름의 구성을 설명하는 설명도이다.13 is an explanatory diagram for explaining a configuration of a chip-on film using thermoplastic resin.

제 14 도는 제 13 도의 열가소성수지를 이용한 칩 온 필름의 구성을 설명하는 설명도이다.FIG. 14 is an explanatory view for explaining the configuration of the chip-on film using the thermoplastic resin of FIG.

제 15 도는 핀부 전극베이스를 형성하는 전주마스타를 제작하기 위하여 전극베이스(17) 판에 감광제(18)를 균일하게 도포한 상태도이다.FIG. 15 is a state diagram in which the photosensitive agent 18 is uniformly applied to the electrode base 17 plate in order to fabricate the electroforming master forming the pin base electrode base.

제 16 도는 제 15 도의 감광제에 패턴을 노광시켜서 노광부(19)를 구성한 것의 상태도이다.FIG. 16 is a state diagram of the exposure unit 19 formed by exposing a pattern to the photosensitive agent of FIG.

제17 도는 제 16 도의 노광이 되지 않은 감광제의 부분이 공간부(20)로 구성이 되는 것을 설명하는 설명도이다.FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining that a portion of the photosensitive agent which is not exposed in FIG. 16 is constituted by the space portion 20.

제 18 도는 제 17 도의 전극베이스 모재(17)를 전주욕에 침지시켜서 전주가공을 시행하여 핀부를 가지는 전극베이스(21)를 구성하는 것을 설명하는 설명도이다.FIG. 18 is an explanatory diagram for explaining the configuration of the electrode base 21 having the pin portion by performing electroplating by dipping the electrode base base material 17 of FIG.

제 19 도는 제 18 도의 핀부(22)를 구성한 전극베이스(21)를 노광층이 형성된 전극베이스모재로부터 탈형시킨 것의 상태를 설명하는 설명도이다.19 is an explanatory diagram for explaining a state in which the electrode base 21 constituting the pin portion 22 of FIG. 18 is demolded from an electrode base base material on which an exposure layer is formed.

제 20 도는 제 19 도의 핀부 전극베이스(22)가 구성된 전극베이스(21)에 이형재(23)를 충진하는 것을 설명하는 설명도이다.FIG. 20 is an explanatory diagram for explaining the filling of the release material 23 into the electrode base 21 including the pin electrode base 22 of FIG.

제 21 도는 본 발명의 실시예로서 발포성 이형재에 대한 설명도이다.21 is an explanatory view of the foam release agent as an embodiment of the present invention.

제 22 도는 제 20 도의 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타를 이용하여 전주가공물을 만드는 것을 설명하는 설명도이다.FIG. 22 is an explanatory diagram for explaining the creation of a pole pole workpiece using the pole pole master on which the pin base electrode base of FIG. 20 is formed.

제 23 도는 제 22 도의 전주가공물을 칩 온 필름으로 제작하는 것을 설명하는 설명도이다FIG. 23 is an explanatory diagram for explaining the fabrication of the electroplated workpiece of FIG. 22 with a chip on film.

제 24 도는 제 23 도에서 탈형을 시킨 상태의 칩 온 필름의 상태를 나타내는 칩 온 필름의 상태도이다.24 is a state diagram of the chip-on film showing the state of the chip-on film in the state of demolding in FIG.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1:전극베이스 모재 2:감광제 3:노광부 4:전극베이스 5:에칭 공간부 6:상부 전극베이스 7:핀부 이형재 8:뿌리부 이형재 9:베이스 10:전주가공물DESCRIPTION OF SYMBOLS 1: Electrode base base material 2: Photosensitive agent 3: Exposure part 4: Electrode base 5: Etching space part 6: Upper electrode base 7: Pin part release material 8: Root part release material 9: Base 10: Electrode processing

본 발명은 몸체를 지지하는 베이스와 상기 베이스 상부에 구성되는 뿌리부이형재와, 상기 뿌리부 이형재의 상부에 핀부 이형재 및 전극베이스가 구성이 되며, 상기 전극베이스의 공간부에 핀부 이형재가 충진이 되어지는 형태로 구성이 되어지는 것을 특징으로 하는 전주마스타를 이용하여 제작하는 칩 온 필름과 그 제조방법에 대한 것이다. 본 발명에서의 이형재로서는 발포성의 이형재를 사용할 수도 있으며 이러한 이형재의 실시예로 실리콘 또는 발포성 실리콘을 사용하며, 전극베이스의 실시예로는 스텐인레스 스틸을 사용할 수가 있다. 본 발명의 전주 마스타의 제작공정의 큰 특징은 반전패턴을 사용하여 에칭가공에 의하여 전극베이스를 가공하는 공정과, 베이스와 전극베이스사이에 이형재를 충진하는 공정을 거쳐서, 뿌리부 이형재와 핀부 이형재를 형성하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 또다른 실시예에서는 저부에 어느 정도의 강도를 가지며 전도체 물질로서 구성이 되어지는 전극베이스가 구성이 되며, 상기 전극베이스의 상부로 돌출형태의 형성되는 핀부 전극베이스가 구성되며, 상기 핀부 전극베이스의 사이에는 이형재가 충진되어지는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 기저부를 형성한다.The present invention is a base for supporting the body and the root release member is formed on the base, and the pin portion release material and the electrode base is configured on the upper portion of the root release material, the pin portion release material is filled in the space portion of the electrode base It relates to a chip-on film and a manufacturing method using a Jeonju master characterized in that the paper is configured in the form. As the release material in the present invention, a foamable release material may be used, and silicone or foamable silicon may be used as an example of such a release material, and stainless steel may be used as an example of the electrode base. A major feature of the fabrication process of Jeonju Master of the present invention is a process of processing an electrode base by etching using an inversion pattern, and filling a release material between the base and the electrode base. It is characterized by forming. In another embodiment of the present invention, an electrode base having a certain level of strength at the bottom and configured as a conductive material is configured, and a fin part electrode base protruding to the upper part of the electrode base is configured. Between the electrode base is composed of the pole pole through the pole pole in the pole pole is filled with the release material, and forms a base on the surface of the pole pole workpiece.

이하에서는 도면을 바탕으로 본 발명을 자세히 설명하겠다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

제 1 도와 제 2 도 및 제 3 도는 패턴과 동일한 형상을 가지는 전극베이스를 제작하는 방법을 설명하는 설명도이다. 일반적으로 반도체와 기타 전자장치 등에서 흔히 사용이 되어지는 미세한 통전회로, PCB기판, 리드프레임 등의 형태로 다양한 분야에서 사용이 되어지는 미세한 모양의 형상을 본 발명에서는 패턴이란 단어로 정의를 한다. 일반적으로 존재하는 다양한 형태의 패턴의 문양은 도면 제 10 도(A)에서 보는 바와 같이 주로 전도성물질로 구성이 된다. 패턴은 다양한 형태의 패턴문양(12)과, 상기 패턴문양의 주위로 상기 패턴문양을 지지하는 기저부(13)로 구성이 되어진다. 이러한 패턴을 형성하기 위하여서 먼저 문양을 그래픽으로 처리하여 패턴필름을 형성하고 상기 패턴필름을 감광제를 이용한 에칭법에 의하여 패턴으로 구성을 하게 된다. 패턴필름에서는 투명부와 불투명부의 형상으로 통상 패턴필름이 구성이 되어진다. 본 발명에서의 패턴의 개념을 특정한 형상 또는 문양으로 구성이 되어진 모든 것을 패턴이라 칭하도록 정의한다. 일반적으로 패턴은 극히 미세한 치수로 구성이 되어진다. 예로서 패턴에서 문양의 간격의 거리가 불과 수 미크론 또는 수심 미크론 단위의 정밀한 형상을 띈다. 또한 본 발명에서는 반전패턴이라는 용어를 정의한다. 반전패턴이란 상기의 패턴의 투명부와 불투명부가 바꾸어진 형태의 패턴을 반전패턴으로 정의한다. 제 10 도(A)의 반전패턴은 제 10 도(B)와 같은 형상으로 구성이 되어진다.1, 2, and 3 are explanatory views for explaining a method for producing an electrode base having the same shape as the pattern. In general, the shape of the minute shape that is used in a variety of fields in the form of a minute conduction circuit, PCB board, lead frame, etc. that are commonly used in semiconductors and other electronic devices, etc. are defined as the word pattern. Patterns of various types of patterns that are generally present are mainly composed of a conductive material, as shown in Figure 10 (A). The pattern is composed of various patterns of patterns 12 and a base 13 supporting the pattern patterns around the pattern patterns. In order to form such a pattern, a pattern film is first formed by graphic processing of the pattern, and the pattern film is formed into a pattern by an etching method using a photosensitive agent. In a pattern film, a pattern film is usually formed in the shape of a transparent part and an opaque part. The concept of the pattern in the present invention is defined to be referred to as a pattern of everything that is composed of a particular shape or pattern. In general, patterns consist of extremely fine dimensions. As an example, the distance of the pattern's spacing in the pattern is precisely measured in units of only a few microns or depth microns. In addition, the present invention defines the term inversion pattern. The inversion pattern defines a pattern in which the transparent portion and the opacity portion of the pattern are replaced as the inversion pattern. The inversion pattern of FIG. 10A has the same shape as that of FIG. 10B.

제 1 도는 전도성물질로서 전주가공물이 극히 용이하게 탈형이 가능한 금속소재로 구성이 되며, 패턴과 같은 형상을 가지는 전극베이스를 제작하는 방법을 설명하는 설명도이다. 전도성물질로서 전주가공물이 극히 용이하게 탈형이 가능한 성질을 가지는 판형의 금속소재로 구성이 되는 전극베이스 모재(1)에 감광제(2)를 소정의 두께만큼 도포한 상태를 나타내는 상태도이다.FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing an electrode base having a shape like a pattern, which is composed of a metal material which can be demoulded extremely easily as a conductive material. It is a state diagram which shows the state in which the photosensitive agent 2 was apply | coated to the electrode base base material 1 which consists of a plate-shaped metal material which has a property which can be demoulded extremely easily as a conductive material by predetermined thickness.

제 2 도는 반전패턴필름을 사용하여 감광제를 노광을 시켜 노광부(3)를 형성하는 것을 설명하는 설명도이다.FIG. 2 is an explanatory view for explaining the exposure part 3 being formed by exposing a photosensitive agent using an inversion pattern film.

제 3 도는 노광부가 형성된 전극베이스 모재에 에칭을 통하여 에칭공간부(5)를 형성한 상태를 설명하는 설명도이다. 이상의 공정을 통하여 에칭공간부(5)가 구성되어진 전극베이스 모재는 패턴과 동일한 형태를 갖게 된다. 이것을 본 발명에서는 전극베이스라 정의를 한다.3 is an explanatory diagram for explaining a state where the etching space portion 5 is formed by etching the electrode base base material on which the exposure portion is formed. Through the above process, the electrode base base material on which the etching space 5 is formed has the same shape as the pattern. In the present invention, this is defined as an electrode base.

제 4 도 제 5 도 제 6 도는 상기의 전극베이스를 이용하여 전주가공에 의하여 리드프레임 등 전주가공물들을 제작할 수가 있게 하는 전주 마스터를 제작하는 제작방법을 설명하는 설명도이다.4 and 5 are explanatory views for explaining a manufacturing method of manufacturing an electric pole master, which enables the electric pole workpieces such as lead frames to be manufactured by the electric pole machining using the electrode base.

제 4 도는 두 개의 전극베이스를 겹쳐서 포개어진 상태를 설명하는 설명도이다. 상부의 전극베이스(6)와 하부의 전극베이스(4)는 동일한 두께로 구성을 할 수도 있지만 실제 제작이 되어질 전주가공물의 두께에 응하여 상부의 전극베이스의 두께를 조절할 수가 있음은 물론이다.4 is an explanatory diagram for explaining a state in which two electrode bases are overlapped. The upper electrode base 6 and the lower electrode base 4 may be configured to have the same thickness, but of course the thickness of the upper electrode base can be adjusted in response to the thickness of the electroformed workpiece to be manufactured.

제 5 도는 포개어진 두 개의 전극베이스의 하부에, 소정 간격을 이격시킨 상태로 판형의 베이스(9)부를 구성되며, 상기 베이스부와 상기의 포개어진 전극베이스부 사이에 이형재를 충진되어진다. 이형재를 충진시키고 나서 상부전극베이스의 높이를 기준으로 이형재를 정리한다. 이때, 전극베이스부의 에칭공간부에 충진되어진 이형재를 핀부 이형재(7)라 정의를 하고, 전극베이스와 베이스사이에 충진되어진 이형재를 뿌리부 이형재(8)라 정의를 한다.5 shows a plate-shaped base 9 portion below the two overlapping electrode bases at a predetermined interval, and a release material is filled between the base portion and the overlapped electrode base portion. After filling the release material, the release material is arranged based on the height of the upper electrode base. At this time, the release material filled in the etching space portion of the electrode base part is defined as the pin part release material 7, and the release material filled between the electrode base and the base is defined as the root release material 8.

제 6 도는 전주마스타의 구성도로서 이는 제 5 도에서 상부의 전극베이스를 제거한 형태이다. 즉 본 발명의 전주마스타는 베이스(9)상부에 뿌리부 이형재(8)가 구성이 되며, 상기 뿌리부 이형재의 상부에는 핀부 이형재(7)와 전극베이스(4)가 구성이 되며, 상기 전극베이스의 공간부에 핀부 이형재가 충진이 되어지는 형태로 구성이 되어지는 것이다.FIG. 6 is a schematic diagram of the electric pole master, in which the upper electrode base is removed in FIG. That is, in the electric pole master of the present invention, the root release member 8 is configured on the base 9, and the pin release member 7 and the electrode base 4 are configured on the root release member. The pin part release material is filled in the space portion is to be configured in the form.

제 7 도는 본 발명의 전주마스타를 전주 욕조에 침지하여 전주를 행하는 상태를 설명하는 설명도이다. 전극베이스(4)에 음극을 연결하여 전주 욕조에서 전주가공을 시작하면 상기 전극베이스에 융해되어진 금속이 결합되기 시작을 하여 전주가공물(10)이 형성하기 시작된다. 전주금속으로는 니켈, 구리 등 도전성 금속이 사용이 되어지며, 구리로 구성이 되어지는 리드프레임의 경우에는 전주금속을 구리를 사용하게 된다.7 is an explanatory diagram for explaining a state in which the electric pole is immersed in the electric bath tub of the electric pole master of the present invention. When the cathode is connected to the electrode base 4 to start the electric pole processing in the electric pole, the molten metal begins to be bonded to the electrode base, thereby forming the electric pole workpiece 10. As the pole metal, a conductive metal such as nickel or copper is used. In the case of a lead frame composed of copper, the pole metal is copper.

제 8 도는 전주가공물(10)이 점차 충진되어 핀부 이형재의 높이로 형성이 되었을 때의 상태를 나타내는 상태도이다.8 is a state diagram showing the state when the electroformed workpiece 10 is gradually filled and formed at the height of the pin part release material.

제 9 도는 제 8 도와 같이 전주가공물의 높이가 핀부 이형재의 높이로 되었을 때, 전주가공물(10)을 전주 마스타로부터 탈형하여 분리한 상태를 설명하는 설명도이다. 이러한 전주가공물은 패턴과 동일한 형태를 가지게 된다.FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining a state in which the electroplated workpiece 10 is demolded and separated from the electroplated master when the height of the electroplated workpiece becomes the height of the pin release member as shown in FIG. This pole pole processed article will have the same shape as the pattern.

제 11 도는 전주마스타에 전주가공물이 형성되어진 상태에 얇은 기저부를 결합시키어 칩 온 필름을 제작하는 것에 대한 설명도이다. 핀부이형재와 거의 같은 높이로 성장되어진 전주가공물(10)의 표면과 핀부 이형재의 표면에 얇은 접착성 필름(15)을 코팅시킨 후 필름과 전주가 공물을 전주마스타로부터 탈형을 시키게 되면 원하는 본 발명의 칩 온 필름을 얻을 수가 있게 된다.FIG. 11 is an explanatory diagram for fabricating a chip-on film by joining a thin base to a state in which a workpiece is formed on a pole pole. After the thin adhesive film 15 is coated on the surface of the electroformed workpiece 10 and the surface of the pinned mold release member, which are grown at almost the same height as the pin-shaped mold release material, the film and the electroplating material are demolded from the electroplating master. The chip on film can be obtained.

제 12 도는 제 11 도에서 구성되어진 칩 온 필름을 설명하는 설명도이다. 이것은 필름(15)에 전주가공물(10)이 접착된 형태이다 본 발명에서는 이형재와 얇은 접착성 필름이 상호 결합하지 않는 성분을 가지게 구성을 하게 된다. 실시예로서 이형재를 실리콘으로 구성하고 전주가 공물을 구리로 구성을 하여 접착성 필름으로 결합을 시키게 되면, 실리콘과 필름은 결합되지 않고, 구리와 필름이 결합이 되게 된다.FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating a chip on film constructed in FIG. 11. This is a form in which the electroformed workpiece 10 is adhered to the film 15. In the present invention, the release material and the thin adhesive film are configured to have components that do not bond with each other. As an example, when the release material is made of silicon and the pole is made of copper and bonded to the adhesive film, the silicon and the film are not bonded, and the copper and the film are bonded.

제 13 도는 기저부를 열가소성수지를 이용하여 형성하는 칩 온 필름의 구성을 설명하는 설명도이다. 전주마스타에 성장되어진 전주가공물(10)의 표면과 핀부 이형재의 표면에 액상의 열가소성수지를 얇고 균일하게 도포한 후, 상기의 열가소성수지를 건조시켜 굳힌 후 이들을 전주마스타로부터 탈형을 시키게 되면, 열가소성수지와 전주가공물만 탈형이 되어지게 된다. 본 발명의 실시예로서 열가소성수지를 에폭시수지로 하며, 전주가공물을 구리로 하고, 이형재를 실리콘으로 하게 되면, 에폭시수지는 실리콘에 접합되지는 않지만 구리에 접합된다. 열가소성수지가 액상에서 고상으로 건조되어 굳히어진 상태에서는 견고한 결합력으로 전주가공물을 지지하게 된다.FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining a configuration of a chip-on film forming a base part by using a thermoplastic resin. After the liquid thermoplastic resin is applied thinly and uniformly to the surface of the electroforming material 10 grown on the Jeonju master and the surface of the pin release member, the thermoplastic resin is dried and hardened and then demolded from the Jeonju master. Only workpieces and poles will be demoulded. As an embodiment of the present invention, when the thermoplastic resin is an epoxy resin, the electroforming material is copper, and the release material is silicon, the epoxy resin is not bonded to silicon, but is bonded to copper. When the thermoplastic resin is dried and solidified in the liquid phase, it supports the workpiece with solid bonding force.

제 14 도는 제 13 도의 열가소성수지를 이용한 칩 온 필름의 구성을 설명하는 설명도이다. 다양한 소재와 다양한 형태를 가지는 전주가공물(10)은 열가소성수지(16)에 의하여 견고히 지지가 되어진다.FIG. 14 is an explanatory view for explaining the configuration of the chip-on film using the thermoplastic resin of FIG. The electroformed workpiece 10 having various materials and various shapes is firmly supported by the thermoplastic resin 16.

제 15 도에서 제 24 도는 본 발명의 또다른 실시예로서, 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타에 의한 칩 온 필름에 대한 설명도이다. 핀부 전극베이스란 전극베이스의 상부로 돌출이 되어지는 핀부의 전극베이스로 정의를 한다. 상기 핀부 전극베이스의 사방 측면으로는 이형재가 충진이 되어진다.15 to 24 are explanatory views of a chip on film formed by a pole pole master on which a pin electrode base is formed as another embodiment of the present invention. The pin part electrode base is defined as an electrode base of the pin part which protrudes above the electrode base. The release material is filled to the four sides of the pin base electrode base.

제 15 도는 핀부 전극베이스를 형성하는 전주마스타를 제작하기 위하여 전극베이스(17) 판에 감광제(18)를 균일하게 도포한 상태도이다.FIG. 15 is a state diagram in which the photosensitive agent 18 is uniformly applied to the electrode base 17 plate in order to fabricate the electroforming master forming the pin base electrode base.

제 16 도는 제 15 도의 감광제에 패턴을 노광시켜서 노광부(19)를 구성한 것의 상태도이다.FIG. 16 is a state diagram of the exposure unit 19 formed by exposing a pattern to the photosensitive agent of FIG.

제17 도는 제 16 도의 노광이 되지 않은 감광제의 부분이 공간부(20)로 구성이 되는 것을 설명하는 설명도이다.FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining that a portion of the photosensitive agent which is not exposed in FIG. 16 is constituted by the space portion 20.

제 18 도는 제 17 도의 전극베이스 모재(17)를 전주욕에 침지시켜서 전주가공을 시행하여 핀부를 가지는 전극베이스(21)를 구성하는 것을 설명하는 설명도이다. 즉 전주가공이 실시됨에 따라서 공간부(2)부터 용융금속이 성장하기 시작하여 마침내는 전극베이스모재(17)의 상부 전체에 걸쳐서 전주가공물이 형성되어지게 된다.FIG. 18 is an explanatory diagram for explaining the configuration of the electrode base 21 having the pin portion by performing electroplating by dipping the electrode base base material 17 of FIG. That is, as the electroplating is carried out, the molten metal begins to grow from the space 2, and finally, the electroplating material is formed over the entire upper portion of the electrode base base material 17.

제 19 도는 제 18 도의 핀부(22)를 구성한 전극베이스(21)를 노광층이 형성된 전극베이스모재로부터 탈형시킨 것의 상태를 설명하는 설명도이다.19 is an explanatory diagram for explaining a state in which the electrode base 21 constituting the pin portion 22 of FIG. 18 is demolded from an electrode base base material on which an exposure layer is formed.

제 20 도는 제 19 도의 핀부 전극베이스(22)가 구성된 전극베이스(21)에 이형재(23)를 충진하는 것을 설명하는 설명도이다. 전극베이스(21)상부에 핀부 전극베이스(22)의 높이정도로 이형재(23)를 충진한다. 이와 같은 공정을 거쳐서 얻어진 결과물을 본 발명에서는 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타라 정의한다. 즉 본 발명에서 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타란 저부에 어느 정도의 강도를 가지며 전도체 물질로서 구성이 되어지는 전극베이스가 구성이 되며, 상기 전극베이스의 상부로 돌출형태의 핀부 전극베이스가 구성되며, 상기 핀부 전극베이스의 사이에는 이형재가 충진되어지는 전주마스타로 정의를 한다.FIG. 20 is an explanatory diagram for explaining the filling of the release material 23 into the electrode base 21 including the pin electrode base 22 of FIG. The release member 23 is filled in the upper portion of the electrode base 21 to the height of the pin electrode base 22. In the present invention, the resultant obtained through such a process is defined as a pole master formed with a pin electrode base. That is, in the present invention, an electrode base having a certain strength at the bottom of the electric pole master formed the pin electrode base is configured as a conductive material, and the pin electrode electrode base protruding from the electrode base is configured. , Between the pin portion of the electrode base is defined as the electric pole master is filled with a release material.

제 21 도는 본 발명의 실시예로서 발포성 이형재에 대한 설명도이다.21 is an explanatory view of the foam release agent as an embodiment of the present invention.

발포성 이형재란 이형재를 충진시킨 후, 온도 변화와 같은 물리적 환경 변화를 시켜 줌으로서 이형재가 발포하여 팽창되며, 상기 팽창되어진 이형재가 굳어질 수가 있는 형태의 이형재로 정의를 한다. 제 21 도는 전극베이스(21)와 핀부전극베이스(22)사이의 공간부에 발포성 이형재(24)를 충진시킨 후, 물리적 조건변화를 가하여 상기의 이형재가 발포하여 완만한 원호상의 표면을 갖도록 이형재가 변화되게 한 것을 설명하는 설명도이다. 가장 대표적인 실시예로서는 발포제를 혼합한 실리콘을 충진한 후, 온도를 증가시켜서 실리콘을 부풀리게 한 후, 이를 건조시켜서 굳히게 하는 것을 들 수가 있다.The expandable release material is defined as a release material in which a release material is expanded and expanded by filling the release material, and then expands by expanding the physical environment such as a temperature change. FIG. 21 shows that the release member 24 is filled with a foamable release member 24 in the space between the electrode base 21 and the pin electrode base 22, and then the physical release member is foamed to have a smooth arc surface by applying a change in physical conditions. It is explanatory drawing explaining what made it change. As the most representative example, after filling the silicone mixed with the blowing agent, the temperature is increased to inflate the silicone, and then dried to harden the silicone.

제 22 도는 제 20 도의 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타를 이용하여 전주가공물을 만드는 것을 설명하는 설명도이다. 전주마스타의 전극베이스(21)에 전주욕조에서 전주가공을 시행하게 되면, 돌출되어진 뾰쪽한 핀부 전극베이스(22)에 용융금속이 붙어지기 시작하여 전주가공물(25)이 형성이 되기 시작한다. 물론 이때, 전극베이스의 하부에는 전주가공물이 생성하지 못하게 이형재로 처리를 함은 물론이다. 일정높이로 성장한 전주가공물을 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타로 부터 탈형을 시키게 되면 제품이 완성이 되어지게 된다.FIG. 22 is an explanatory diagram for explaining the creation of a pole pole workpiece using the pole pole master on which the pin base electrode base of FIG. 20 is formed. When electric pole machining is performed on the electrode base 21 of the electric pole master, the molten metal begins to adhere to the protruding pointed pin electrode base 22 and the electric pole workpiece 25 starts to form. Of course, at this time, the lower portion of the electrode base is treated with a release material so that the electro-processed workpiece is not generated. The product is completed when demoulded from the Jeonju Master which formed the pin base electrode base.

제 23 도는 제 22 도의 전주가공물을 칩 온 필름으로 제작하는 것을 설명하는 설명도이다. 전주가공물은 미세하며 강도를 유지를 하기 어려운 상태이므로 이러한 전주가공물의 기저부를 형성하는 것이 중요한다. 본 발명의 칩 온 필름에서는 핀부 전극베이스를 형성한 전주마스타에 전주가공을 시행한 후, 상부에 액상의 열 가소성 수지를 균일한 두께로 도포한 후 이를 건조시켜서 기저부(26)를 형성하거나, 얇은 필름을 코팅하여 기저부(26)를 형성한다.FIG. 23 is an explanatory diagram for explaining the production of the electroplated workpiece of FIG. 22 into a chip-on film. It is important to form the base of the pole pole work because the pole pole is fine and difficult to maintain strength. In the chip-on film of the present invention, after the electroforming is performed on the electric pole master on which the pin electrode base is formed, the liquid thermoplastic resin is applied to the top with a uniform thickness and then dried to form a base portion 26 or thin. The film is coated to form the base 26.

제 24 도는 제 23 도에서 탈형을 시킨 상태의 칩 온 필름의 상태를 나타내는 칩 온 필름의 상태도이다.24 is a state diagram of the chip-on film showing the state of the chip-on film in the state of demolding in FIG.

본 발명에서 베이스는 본 발명의 전주마스타를 내구성이 있도록 지지하는 역할을 수행한다. 본 발명에서 전극베이스와 이형재는 다양한 소재로 구성을 할 수가 있음은 물론이다. 본 발명에서 전극베이스와 이형재의 한 실시예로서, 전극베이스는 스텐인레스 스틸을 들 수가 있다.In the present invention, the base serves to support the electric pole master of the present invention to be durable. Of course, the electrode base and the release material in the present invention can be made of a variety of materials. In one embodiment of the electrode base and the release material in the present invention, the electrode base may be stainless steel.

스텐인레스 스틸은 내구성이 탁월하며 탈형시 구리 등의 전주가공물이 극히 용이하게 탈형이 되어지기 때문이다. 또한 본 발명에서 이형재로서는 실리콘을 실시예로 사용을 하였다. 실리콘을 이형재로 사용하였을 경우 핀부 이형재가 탄성을 지니게 되어 전주가공물을 탈형을 경우에도 핀부 이형재는 전혀 손상을 입지를 않는다. 또한 전주가공물에 대하여 실리콘은 극히 용이하게 분리가 된다. 본 발명의 또다른 실시예로서 이형재에 있어서, 상기 이형재가 발포성을 가지는 이형재를 구성함이 바람직한 경우가 있다. 발포성 이형재란 이형재를 충진시킨 다음 열이나 기타의 방법을 이용하여 이형재를 부풀리게 발포를 시킬 수가 있는 것을 의미한다. 실시예로서 실리콘에 열에 의하여 발포되는 발포재를 혼합하여 이형재를 충진한 뒤, 상기 이형재에 열을 가하게 되면 이형재가 부풀어져 오르게 되며, 완만한 원호상으로 발포되어진 발포성 이형재는 전주가공에 있어서 전주의 효율을 증가시키는 역할을 하게 된다.This is because stainless steel is excellent in durability, and when demolding, electro-formed products such as copper are easily demolded. In the present invention, as the release material, silicon was used as an example. When silicone is used as a release material, the pin release material has elasticity, so even when demolding the electroformed workpiece, the pin release material is not damaged at all. In addition, the silicon is very easily separated from the electroformed workpiece. In another embodiment of the present invention, in the release material, it may be preferable that the release material constitutes a release material having foamability. The foamable release material means that the release material can be filled with foam after the filling of the release material by heat or other methods. As an embodiment, after filling the release material by mixing the foamed foam by heat into the silicone, when the heat is applied to the release material, the release material is swollen, and the foamed release material foamed in a gentle arc shape is the jeonju It will increase the efficiency.

이상에서는 그래픽으로 그려진 패턴과 상기 패턴의 반대형인 반전패턴을 이용하여 본 발명의 전주마스타 및 그 제조방법을 설명을 하였다.In the above, the electric pole master of the present invention and a manufacturing method thereof have been described using a graphic drawn pattern and an inverted pattern opposite to the pattern.

이하에서는 본 발명의 개념을 그대로 이용하여 또 다른 형태의 본 발명의 실시예를 설명하겠다. 이것은 이미 제작이 되어진 제품을 이용하여, 전주마스타와 그 제조방법에 대한 것이다. 이것은 반전패턴필림을 이용하여 에칭법에 의하여 전극베이스를 제작하지 않고, 이미 제작이 되어진 제품의 도전체 부분만을 분리하여 이것을 본 발명의 전극베이스로 이용하는 방법이다. 전극베이스를 구성하는 방법 이외의 부분은 동일하게 처리된다. 이 경우에는 전극베이스의 재질이 전주가공물의 탈형이 용이하지 않은 소재일 가능성이 많으므로 이 경우에는 제품 생산 시에 전극베이스에 이형물질을 도포한 뒤 생산에 착수하여야 하는 불편함이 따른다.Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described using the concept of the present invention as it is. This is about Jeonju Master and its manufacturing method using the already manufactured products. This is a method in which an electrode base of an already manufactured product is separated without using an inverted pattern film by an etching method and used as the electrode base of the present invention. Parts other than the method of constructing the electrode base are treated in the same manner. In this case, since the material of the electrode base may be a material that is not easily demolded in the electroformed workpiece, in this case, it is inconvenient to start production after applying a release material to the electrode base during production.

본 발명은 종래의 에칭법에 의한 금속의 부식가공에 비하여 보다 정교하며 치밀한 전주가공물을 용이하게 제작을 할 수가 있으며, 본 발명에 의한 방법은 에칭법에 비하여 소재의 낭비가 전혀 없으며, 필요시 핀부 이형재가 망가진 경우에는 그 부분만 보수하여 활용을 할 수가 있는 장점이 있다. 본 발명에 의한 제품은 또한 생산 공정에 있어서도 제품마다 노광을 시키어 에칭하는 과정을 거치지 않고 바로 전주욕조에서 전주를 통하여 제품을 형성하게 됨으로서 종래의 기법보다 보다 간단한 공정으로 보다 정교한 제품을 생산할 수가 있게 한다.Compared to the etching method of the present invention, the present invention can more easily manufacture a more precise and dense electroformed workpiece, and the method according to the present invention has no waste of material as compared to the etching method, If the release material is broken, there is an advantage that can be utilized to repair only that part. The product according to the present invention can also produce a more sophisticated product in a simpler process than the conventional technique by forming the product through the pole in the electric bath immediately without undergoing the exposure and etching process for each product in the production process. .

Claims (30)

패턴이 얇은 기저부에 결합이 되어있는 칩 온 필름에 있어서, 뿌리부 이형재와, 상기 뿌리부 이형재의 상부에 구성되는 전극베이스와 상기 전극베이스의 공간부에 이형재가 충진되어 구성이 되어지는 핀부 이형재로 구성이 되는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 얇은 필름을 접합시킴에 의하여 제작이 되는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.In the chip-on film bonded to a thin base, the root release member, the electrode base formed on the upper portion of the root release material, and the pin portion release material formed by filling the release material in the space portion of the electrode base. Chip-on film, characterized in that by constructing the electric pole workpiece through the pole pole processing to the jeonju master to be made, by bonding a thin film on the surface of the pole pole workpiece. 제 1 항에 있어서, 이형재가 실리콘 또는 발포제 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip on film according to claim 1, wherein the release material is silicone or blowing agent silicone. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전극베이스가 스텐인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip-on film according to claim 1 or 2, wherein the electrode base is stainless steel. 패턴이 얇은 기저부에 결합이 되어있는 칩 온 필름의 제작방법에 있어서, 뿌리부 이형재와, 상기 뿌리부 이형재의 상부에 구성되는 전극베이스와 상기 전극베이스의 공간부에 이형재가 충진되어 구성이 되어지는 핀부 이형재로 구성이 되는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 얇은 필름을 접합시키는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.In the method for manufacturing a chip-on film bonded to a thin base portion, the root release member, the electrode base formed on the upper portion of the root release material and the space portion of the electrode base is filled with a release material is configured A method for producing a chip-on film, comprising: forming an electric pole workpiece through an electric pole machining on a pole pole master made of a pin release member, and bonding a thin film to the surface of the electric pole workpiece. 제 4 항에 있어서, 이형재가 실리콘 또는 발포성 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.The method of manufacturing a chip on film according to claim 4, wherein the release material is silicone or expandable silicone. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 전극베이스가 스텐인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.The method of manufacturing a chip on film according to claim 4 or 5, wherein the electrode base is stainless steel. 패턴이 얇은 기저부에 결합이 되어있는 칩 온 필름에 있어서, 뿌리부 이형재와, 상기 뿌리부 이형재의 상부에 구성되는 전극베이스와 상기 전극베이스의 공간부에 이형재가 충진되어 구성이 되어지는 핀부 이형재로 구성이 되는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 액상의 열가소성수지를 도포 후 건조시킴에 의하여 제작이 되는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.In the chip-on film bonded to a thin base, the root release member, the electrode base formed on the upper portion of the root release material, and the pin portion release material formed by filling the release material in the space portion of the electrode base. Chip-on film, characterized in that the jeonju master to constitute the jeonju processing through the jeonju processing, and is produced by applying a liquid thermoplastic resin on the surface of the jeonju processing and then dried. 제 7 항에 있어서, 이형재가 실리콘 또는 발포성 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.8. The chip on film according to claim 7, wherein the release material is silicone or expandable silicone. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 전극베이스가 스텐인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip-on film according to claim 7 or 8, wherein the electrode base is stainless steel. 제 7 항 또는 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서, 열가소성수지가 에폭시수지인것을 특징으로 하는 칩 온 필름.10. The chip on film according to claim 7 or 8 or 9, wherein the thermoplastic resin is an epoxy resin. 패턴이 얇은 기저부에 결합이 되어있는 칩 온 필름의 제작방법에 있어서, 뿌리부 이형재와, 상기 뿌리부 이형재의 상부에 구성되는 전극베이스와 상기 전극베이스의 공간부에 이형재가 충진되어 구성이 되어지는 핀부 이형재로 구성이 되는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주 가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 액상의 열가소성수지를 도포 후 건조시킴에 의하여 제작이 되는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.In the method for manufacturing a chip-on film bonded to a thin base portion, the root release member, the electrode base formed on the upper portion of the root release material and the space portion of the electrode base is filled with a release material is configured A method of manufacturing a chip-on film, characterized in that the electro-formed workpiece is formed through a pole-casting operation on a pole-casting master composed of a pin-shaped release material, and is produced by applying a liquid thermoplastic resin to the surface of the pole-shaped workpiece and drying it. 제 11 항에 있어서, 이형재가 실리콘 또는 발포성 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.12. The method of claim 11, wherein the release material is silicone or expandable silicone. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 전극베이스가 스텐인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.The method of manufacturing a chip on film according to claim 11 or 12, wherein the electrode base is stainless steel. 제 11 항 또는 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서, 열가소성수지가 에폭시수지인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.The method for producing a chip on film according to claim 11, 12 or 13, wherein the thermoplastic resin is an epoxy resin. 패턴이 얇은 기저부에 결합이 되는 칩 온 필름에 있어서, 저부에 어느 정도의 강도를 가지며 전도체 물질로서 구성이 되어지는 전극베이스가 구성이 되며, 상기 전극베이스의 상부로 돌출형태의 형성되는 핀부 전극베이스가 구성되며, 상기 핀부 전극베이스의 사이에는 이형재가 충진되어지는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 기저부를 형성하는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.In the chip-on film that is bonded to a thin base portion, an electrode base having a certain strength at the bottom portion and configured as a conductive material is constituted, and a pin portion electrode base protruding to the upper portion of the electrode base. Comprising, between the pin portion of the electrode base is composed of a pole pole through the pole pole in the pole pole to be filled with a release material, the chip-on film, characterized in that to form a base on the surface of the pole pole workpiece. 제 15 항에 있어서, 이형재가 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip on film according to claim 15, wherein the release material is silicon. 제 15 항에 있어서, 이형재가 발포제 이형재인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip on film according to claim 15, wherein the release material is a blowing agent release material. 제 15 항에 있어서, 이형재가 발포제 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip on film according to claim 15, wherein the release material is a blowing agent silicone. 제 15 항 또는 제 16 항 또는 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 전극베이스가 스텐인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.The chip on film according to claim 15 or 16 or 17 or 18, wherein the electrode base is stainless steel. 제 15 항 또는 제 16 항 또는 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 기저부가 열가소성 수지인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.19. The chip on film according to claim 15 or 16 or 17 or 18, wherein the base is a thermoplastic resin. 제 20 항에 있어서, 열가소성수지가 에폭시수지인 것을 특징으로 하는 칩 온필름.21. The chip on film as claimed in claim 20, wherein the thermoplastic resin is an epoxy resin. 제 15 항 또는 제 16 항 또는 제 17 항 또는 제 18 항에 있어서, 기저부가 필름코팅에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름.19. A chip on film as claimed in claim 15 or 16 or 17 or 18, wherein the base is formed by film coating. 패턴이 얇은 기저부에 결합이 되는 칩 온 필름의 제작방법에 있어서, 저부에 어느 정도의 강도를 가지며 전도체 물질로서 구성이 되어지는 전극베이스가 구성이 되며, 상기 전극베이스의 상부로 돌출형태의 핀부 전극베이스가 구성되며, 상기 핀부 전극베이스의 사이에는 이형재가 충진되어 지는 전주마스타에 전주가공을 통하여 전주가공물을 구성하며, 상기 전주가공물의 표면에 기저부를 형성하는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.In the method of manufacturing a chip-on film in which a pattern is bonded to a thin base portion, an electrode base having a certain strength at the bottom portion and configured as a conductive material is formed, and the pin portion electrode protruding on the electrode base is formed. A base is constructed, and a method of manufacturing a chip-on film, characterized in that a base is formed on the surface of the pole pole by forming a pole pole in the pole pole that is filled with a release material between the pin base electrode bases. . 제 23 항에 있어서, 이형재가 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.24. The method of manufacturing a chip on film according to claim 23, wherein the release material is silicon. 제 23 항에 있어서, 이형재가 발포제 이형재인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.24. The method of claim 23, wherein the release material is a blowing agent release material. 제 23 항에 있어서, 이형재가 발포제 실리콘인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.24. The method of claim 23, wherein the release material is a blowing agent silicone. 제 23 항 또는 제 24 항 또는 제 25 항 또는 제 26 항에 있어서, 전극 베이스가 스텐인레스 스틸인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.27. The method of claim 23, 24, 25, or 26, wherein the electrode base is stainless steel. 제 23 항 또는 제 24 항 또는 제 25 항 또는 제 26 항에 있어서, 기저부가 열가소성 수지인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.27. The method of claim 23, 24, 25, or 26, wherein the base is a thermoplastic resin. 제 28 항에 있어서, 열가소성수지가 에폭시수지인 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.29. The method of claim 28, wherein the thermoplastic resin is an epoxy resin. 제 23 항 또는 제 24 항 또는 제 25 항 또는 제 26 항에 있어서, 기저부가 필름코팅에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 칩 온 필름의 제작방법.27. The method of claim 23, 24, 25, or 26, wherein the base is formed by film coating.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100948636B1 (en) * 2005-11-08 2010-03-24 이종기 Electro-forming
WO2013051755A1 (en) * 2011-10-07 2013-04-11 숭실대학교산학협력단 Intraocular pressure sensor and method for manufacturing same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100948636B1 (en) * 2005-11-08 2010-03-24 이종기 Electro-forming
WO2013051755A1 (en) * 2011-10-07 2013-04-11 숭실대학교산학협력단 Intraocular pressure sensor and method for manufacturing same
JP2014533983A (en) * 2011-10-07 2014-12-18 スンシル ユニバーシティー リサーチ コンソルティウム テクノーパークSoongsil University Research Consortium Techno−Park Intraocular pressure sensor and manufacturing method thereof
US9717411B2 (en) 2011-10-07 2017-08-01 Soongsil University Research Consortium Techno-Park Intraocular pressure sensor and method for manufacturing same

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