KR20030021985A - A composition for a conductive layer and a conductive layer therefrom - Google Patents

A composition for a conductive layer and a conductive layer therefrom Download PDF

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KR20030021985A
KR20030021985A KR1020010055585A KR20010055585A KR20030021985A KR 20030021985 A KR20030021985 A KR 20030021985A KR 1020010055585 A KR1020010055585 A KR 1020010055585A KR 20010055585 A KR20010055585 A KR 20010055585A KR 20030021985 A KR20030021985 A KR 20030021985A
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Abstract

PURPOSE: A composition for formation of a conductive film and a conductive film produced from the same are provided to reduce manufacturing costs by using metallic oxide fine particles rather than metallic colloid, while improving mechanical strength and contrast. CONSTITUTION: A composition contains metallic oxide fine particles, a coloring agent, and a silane coupling agent. The metallic oxide fine particles are 0.5 to 6 percent calculated in terms of a solid, the coloring agent is 0.01 to 10 percent calculated in terms of a solid, and the silane coupling agent is 0.01 to 10 percent calculated in terms of a solid. The metallic oxide fine particles are selected from a group consisting of indium tin oxide, antimony tin oxide, aluminum zinc oxide, SnO2, In2O3 and Sb2O3. The coloring agent is selected from a group consisting of organic or inorganic pigment and metal complex.

Description

도전막 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 도전막{A COMPOSITION FOR A CONDUCTIVE LAYER AND A CONDUCTIVE LAYER THEREFROM}A composition for forming a conductive film and a conductive film produced therefrom {A COMPOSITION FOR A CONDUCTIVE LAYER AND A CONDUCTIVE LAYER THEREFROM}

[산업상 이용분야][Industrial use]

본 발명은 도전막 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 도전막에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투과율 및 바디 칼라(body color) 조절이 가능하며, 기계적 강도 및 콘트라스트를 향상시키고, 대전 방지성 및 전자파 차폐성이 우수한 도전막 형성용 조성물 및 그 조성물로부터 제조되는 투명 도전막에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for forming a conductive film and a conductive film prepared therefrom, and more particularly, transmittance and body color can be controlled, mechanical strength and contrast can be improved, and antistatic and electromagnetic shielding properties. The excellent conductive film formation composition and the transparent conductive film manufactured from this composition are related.

[종래 기술][Prior art]

음극선관(CRT; Cathode Ray Tube) 패널 표면에는 패널의 종류에 따라 여러 가지 기능을 가진 막이 코팅되어 있다. 투과율을 저하시키기 위한 고콘트라스트용 막, 반사율을 감소시키기 위한 반사 방지막, 정전기 및 먼지의 부착을 방지하는 대전 방지막 등이 그 예이다. 최근에는 전자파가 인체에 미치는 영향에 대한 관심이 커지고, 전자파에 대한 규제가 엄격해지면서, 전자파 및 전자파로부터 형성되는 전자장을 차폐할 수 있는 막에 대한 개발도 활발하게 이루어지고 있다. 상기 막들의 소재 및 구조는 패널에 필요한 도전성과 투과율 및 반사율 등에 따라서 결정된다.Cathode Ray Tube (CRT) panels are coated with a multifunction film depending on the type of panel. Examples thereof include a high contrast film for reducing the transmittance, an antireflection film for reducing the reflectance, an antistatic film for preventing adhesion of static electricity and dust, and the like. Recently, with increasing interest in the effects of electromagnetic waves on the human body and stricter regulations on electromagnetic waves, development of membranes capable of shielding electromagnetic fields formed from electromagnetic waves and electromagnetic waves has been actively conducted. The material and structure of the films are determined according to the conductivity, transmittance and reflectance required for the panel.

표시장치의 대전 방지, 반사 방지 및 전자파 차폐를 목적으로 패널 표면에 도전 미립자를 포함하는 도포액을 이용하여 투명 도전막을 형성하고 있다. 투명 도전막은 광투과율이 높은 유리 기판 또는 플라스틱 기판 상에 형성된 얇은 도전막이다.A transparent conductive film is formed on the panel surface using a coating liquid containing conductive fine particles for the purpose of antistatic, antireflection and electromagnetic shielding of the display device. The transparent conductive film is a thin conductive film formed on a glass substrate or a plastic substrate having a high light transmittance.

일반적으로 투명도전막은 안티몬(Sb)이 도핑된 주석 산화물 또는 주석(Sn)이 도핑된 인듐 산화물과 같은 금속 산화물과 같은 투명 도전성 입자를 포함하는 조성물을 스핀 코팅, 스프레이 코팅 또는 침적(dipping) 코팅 등과 같은 습식 코팅법을 이용하여 코팅한 다음 저온 소성하여 형성된다.In general, the transparent conductive film is a spin coating, spray coating or dipping coating composition comprising a transparent conductive particles, such as metal oxides such as tin oxide doped with antimony (Sb) or indium oxide doped with tin (Sn), etc. It is formed by coating using the same wet coating method followed by low temperature baking.

그러나 이러한 방법으로 형성된 투명도전막은 표면 저항이 107Ω/?정도로 전자 차폐를 위해 요구되는 표면 저항인 102Ω/?내지 104Ω/?보다도 크다. 또한, 이 표면 저항을 낮추기 위해서는 도전막 두께를 증가시켜야 하나, 도전막 두께가 증가되면 반사 방지 효과가 감소되므로, Sb 도핑된 주석 산화물 또는 Sn 도핑된 인듐 산화물로는 낮은 표면 저항, 우수한 전자 차폐 및 반사 방지 효과를 나타내는 투명 도전막을 형성하기 어렵다. 특히 평면 모니터의 경우에는 고전압과 투명 패널이 적용되므로 고도전성의 저투과율막을 투명 도전막으로 형성하여야만 스웨덴 사무 노동 조합(The Swedish Confederation for Professional Employees; TCO)의 전자파 규제에 대응가능하다.However, the transparent conductive film formed by this method has a surface resistance of about 10 7 kW / ?, which is larger than 10 2 kW /? 10 4 kW / ?. In addition, in order to lower the surface resistance, the thickness of the conductive film must be increased, but as the thickness of the conductive film is increased, the anti-reflective effect is reduced. Therefore, a low surface resistance, good electron shielding and It is difficult to form a transparent conductive film having an antireflection effect. In particular, in the case of flat panel monitors, high-voltage and transparent panels are applied, a highly conductive low-transmittance film must be formed as a transparent conductive film to cope with electromagnetic regulations of the Swedish Confederation for Professional Employees (TCO).

이와 같은 단점을 해결하기 위하여 Au, Ag, Pd, Ru, Rh 및 Pt와 같은 금속 미립자를 단독으로 또는 합금 상태로 용매에 분산시킨 금속 콜로이드를 기판에 도포하여 도전성 박막을 형성하는 방법이 이용되고 있다(대한민국 특허공개 제2000-50674호). 대한민국 특허공개 제1999-11487호에는 금속 미립자, 결합제 및 용매를 포함하는 조성물을 이용하여 제조한 단일막 구조의 대전 방지막이 개시되어 있다. 이 방법에서는, 상기 금속 미립자의 표면을 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 피롤리돈 및 실리콘 알콕사이드 올리고머와 같은 결합제로 처리하여 상기 금속 미립자의 분산성을 향상시켰다.In order to solve this drawback, a method of forming a conductive thin film by applying a metal colloid obtained by dispersing metal fine particles such as Au, Ag, Pd, Ru, Rh and Pt in a solvent alone or in an alloy state to a substrate is used. (Korean Patent Publication No. 2000-50674). Korean Patent Laid-Open Publication No. 1999-11487 discloses an antistatic film having a single film structure prepared using a composition comprising metal fine particles, a binder, and a solvent. In this method, the surface of the metal fine particles was treated with a binder such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone and silicon alkoxide oligomer to improve the dispersibility of the metal fine particles.

그러나 이러한 금속 콜로이드를 이용하는 방법은, 도전성 산화물 미립자로 사용되는 금속의 원가가 비싸므로 생산비용을 절감하는 데 한계가 있다. 또한, 금속 콜로이드 특성상 성막성 및 안정성이 떨어져 코팅막의 얼룩 및 이물이 생길 수 있고, 공정에 민감하여 기존의 산화 미립자보다도 생산성이 낮다는 문제점이 있다. 상술한 문제점에도 불구하고, 평면 모니터의 TCO 전자파 규격을 만족시키기 위하여 금속 콜로이드를 적용하고 있는 실정이다.However, the method of using the metal colloid has a limit in reducing the production cost since the cost of the metal used as the conductive oxide fine particles is expensive. In addition, due to the metal colloid property, film formation and stability may be poor, and stains and foreign substances may be generated on the coating layer. In spite of the above-described problems, a metal colloid is applied to satisfy the TCO electromagnetic wave standard of the flat panel monitor.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 투과율 조절이 가능하고, 도전성 및 콘트라스트가 높으며, 대전 방지 및 전자파 차폐가 가능한 도전막 형성용 조성물을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a composition for forming a conductive film capable of controlling transmittance, high conductivity and contrast, antistatic and electromagnetic shielding.

본 발명의 다른 목적은 상기 조성물로부터 제조되어 투과율 조절이 가능하고 도전성 및 콘트라스트가 높고, 대전 방지 및 전자파 차폐가 가능한 도전막을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a conductive film capable of controlling transmittance, having high conductivity and high contrast, antistatic and electromagnetic shielding prepared from the composition.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 금속 산화물 미립자; 착색제; 및 실란 커플링제를 포함하는 도전막 형성용 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, in the present invention, metal oxide fine particles; coloring agent; And it provides a composition for forming a conductive film comprising a silane coupling agent.

본 발명은 또한 상기 도전막 형성용 조성물로부터 제조되는 투명 도전막을 제공한다.The present invention also provides a transparent conductive film prepared from the composition for forming a conductive film.

본 발명은 또한 상기 도전막 형성용 조성물로부터 제조되는 도전막; 및 상기 도전막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 조성물을 도포하여 형성되는 반사 방지막(보호막)을 포함하는 표시장치용 코팅막을 제공한다.The present invention also comprises a conductive film prepared from the composition for forming a conductive film; And an anti-reflective film (protective film) formed by coating a composition including a metal alkoxide or an oligomer thereof on the conductive film.

본 발명은 또한 상기 도전막 형성용 조성물로부터 제조되는 도전막; 상기 도전막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 조성물을 도포하여 형성되는 반사 방지막; 및 상기 반사 방지막 위에 형성되는 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 가수분해물을 스프레이 코팅하여 형성되는 난반사(non-glare)층을 포함한다.The present invention also comprises a conductive film prepared from the composition for forming a conductive film; An antireflection film formed by applying a composition including a metal alkoxide or an oligomer thereof on the conductive film; And a non-glare layer formed by spray coating a hydrolyzate including a metal alkoxide or an oligomer thereof formed on the anti-reflection film.

이하 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 도전막 형성용 조성물은 금속 산화물 미립자; 착색제; 및 실란 커플링제로 이루어진다.The composition for forming a conductive film according to the present invention includes metal oxide fine particles; coloring agent; And a silane coupling agent.

상기 금속 산화물 미립자는 ITO(indium tin oxide), ATO(antimony tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), SnO2, In2O3및 Sb2O3중에서 선택되는 하나의 이상의 산화물을 포함한다. 상기 도전성 금속 산화물은 성막성이 우수하고, 공정성이 용이하며, 원가가 저렴하다는 장점을 지닌다. 상기 도전성 산화물 미립자는 도전막 형성용 조성물에 고형분 기준으로 0.5 내지 6 %로 함유되는 것이 바람직하다. 도전성 산화물 미립자의 양이 0.5 % 미만인 경우에는 도전성이 부족하고 6 %를 초과하는 경우에는 성막성이 나빠지고 반사율이 높아지며, 제조 원가가 상승되는 문제점이 있다.The metal oxide fine particles include at least one oxide selected from indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), aluminum zinc oxide (AZO), SnO 2 , In 2 O 3, and Sb 2 O 3 . The conductive metal oxide has advantages of excellent film formation, easy processability, and low cost. The conductive oxide fine particles are preferably contained in the composition for forming a conductive film at 0.5 to 6% on a solids basis. When the amount of the conductive oxide fine particles is less than 0.5%, there is a problem that the conductivity is insufficient and when the amount of the fine particles exceeds 6%, the film forming property is poor, the reflectance is high, and the manufacturing cost is increased.

상기 착색제로는 유기 또는 무기 안료, 또는 금속 착체 등이 사용될 수 있다. 상기 유기 안료로는 카본 블랙 또는 흑연 등의 탄소계 물질, 황색, 청색 또는 바이올렛 계열 안료가 있으며, 무기안료로는 TiO, TiN, TiO1-xNx(0<x<1), TiC, TiN-TiC, 산화코발트, 산화아연, 산화철, 산화루테늄, 산화알루미늄 또는 이들중 둘 이상의 혼합물이 사용될 수 있다. 상기 금속 착체로는 금속 착체 아조 염료(Metal complex azo dyes), 금속 착체 안트라퀴논 염료(Metal complex anthraquinone dyes) 등이 있다. 이중에서 색순도가 높은 유기 안료를 사용하는 것이 바람직하다.As the colorant, an organic or inorganic pigment, a metal complex, or the like may be used. The organic pigments include carbon-based materials such as carbon black or graphite, yellow, blue or violet pigments, and inorganic pigments include TiO, TiN, TiO 1-x N x (0 <x <1), TiC, TiN. -TiC, cobalt oxide, zinc oxide, iron oxide, ruthenium oxide, aluminum oxide or mixtures of two or more thereof can be used. The metal complex includes metal complex azo dyes, metal complex anthraquinone dyes, and the like. Of these, it is preferable to use organic pigments having high color purity.

착색제는 도전막의 투과율 및 바디 칼라(색감) 조절을 용이하게 한다. 상기 착색제는 도전막의 투과율에 따라 함량이 조절될 수 있다. 본 발명에서는 조성물에 첨가된 착색제의 고형분 함량이 착색제가 0.01 내지 10 %로 함유되는 것이 바람직하다. 착색제의 함량이 고형분 기준으로 0.01 % 미만인 경우에는 발색이 안되고 10 %를 초과하는 경우에는 투과도가 떨어져 해상도가 나빠진다는 문제점이 있다.The colorant facilitates control of the transmittance and body color (color) of the conductive film. The colorant may be adjusted in amount depending on the transmittance of the conductive film. In this invention, it is preferable that solid content of the coloring agent added to the composition contains 0.01 to 10% of a coloring agent. If the content of the colorant is less than 0.01% based on the solid content, there is a problem that the color is not developed, and when the content of the colorant exceeds 10%, the transmittance is lowered and the resolution becomes worse.

상기 실란 커플링제는 하기 화학식 1로 나타내어진다.The silane coupling agent is represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

YRSiX3 YRSiX 3

(상기 식에서, Y는 유기재료와 친화성(또는 반응성)이 있는 비닐기, 페닐기, 에폭시기, 아미노기, 및 머캅토기로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 유기 관능기이고, R은 알킬기이고 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, X는 무기재료에 친화성(또는 반응성)이 있는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 바람직하게는 메톡시기 또는 에톡시기이다.) 상기 화학식 1을 가지는 실란 커플링제의 바람직한 예로는 에폭시 실란, 트리메톡시 실란, 페닐트리메톡시 실란, 비닐실란 등이 있다.Wherein Y is one organic functional group selected from the group consisting of a vinyl group, a phenyl group, an epoxy group, an amino group, and a mercapto group having affinity (or reactivity) with an organic material, and R is an alkyl group, preferably having 1 carbon X is an alkyl group of 4 to 4, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methoxy group or an ethoxy group having affinity (or reactivity) to the inorganic material.) Preferred examples of the silane coupling agent having the general formula (1) Epoxy silane, trimethoxy silane, phenyltrimethoxy silane, vinyl silane and the like.

착색제로 사용되는 유기 또는 무기 안료는 도전성 산화물 미립자와의 친화성이 낮아 구성 성분들이 균일하게 분산된 도전막을 얻기가 어렵다. 따라서 본 발명에서는 실란 커플링제를 첨가하여 도전성 산화물 미립자와 착색제(특히 유기 또는 무기 안료)의 친화성을 향상시킨다. 즉 실란 커플링제의 비닐기, 페닐기, 에폭시기, 아미노기 및 머캅토기와 같은 유기 관능기들은 유기 또는 무기 안료와 친화성이 있기 때문에, 도전막 형성시 사용되는 착색제와의 친화성을 향상시킬 수 있어서, 착색제와 도전 미립자가 균일하게 분산된 도전막을 형성할 수 있다. 또한, 실란 커플링제는 무기 재료와 친화성을 가지는 알콕시기도 포함하므로, 패널 기판과의 결합력을 향상시켜 도전막의 기계적 강도를 향상시킬 수 있다.Organic or inorganic pigments used as colorants have low affinity with conductive oxide fine particles, making it difficult to obtain conductive films in which components are uniformly dispersed. Therefore, in this invention, a silane coupling agent is added and the affinity of electroconductive oxide fine particle and a coloring agent (especially organic or inorganic pigment) is improved. That is, since organic functional groups such as vinyl group, phenyl group, epoxy group, amino group and mercapto group of the silane coupling agent have affinity with organic or inorganic pigments, the affinity with the colorant used in the formation of the conductive film can be improved, so that the colorant And a conductive film in which the conductive fine particles are uniformly dispersed can be formed. In addition, since the silane coupling agent includes an alkoxy group having affinity with the inorganic material, the bonding strength with the panel substrate can be improved to improve the mechanical strength of the conductive film.

상기 실란 커플링제는 도전막 형성용 조성물에 고형분 기준으로 0.01 내지 10 %로 함유되는 것이 바람직하다. 실란 커플링제의 함량이 0.01 % 미만인 경우에는 첨가 효과가 미미하고 10 %를 초과하는 경우에는 도전성이 저하된다는 문제점이있다. 또한 실란 커플링제는 조성물 내에 존재하는 무기성분에 대하여 고형분 기준으로 10 % 전후로 사용되는 것이 바람직하다. 상기 실란 커플링제의 첨가량은 사용되는 무기재료의 특성과 실란 커플링제의 종류에 따라서 조절이 가능하다.It is preferable that the silane coupling agent is contained in the composition for forming a conductive film at 0.01 to 10% based on solids. If the content of the silane coupling agent is less than 0.01%, there is a problem that the addition effect is insignificant, and if the content of the silane coupling agent exceeds 10%, the conductivity is lowered. In addition, the silane coupling agent is preferably used around 10% based on the solids content of the inorganic components present in the composition. The addition amount of the said silane coupling agent can be adjusted according to the characteristic of the inorganic material used, and the kind of silane coupling agent.

본 발명의 도전막 형성용 조성물은 도전성 산화물 미립자를 유기 용매에 첨가하여 분산시키고, 여기에 착색제와 실란 커플링제를 첨가하여 제조한다. 상기 유기 용매로는 메탄올, 에탄올, n-부탄올, 이소프로판올, 디아세톤 알코올 등과 같은 알코올계 용매 또는 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 이소프로필 셀로솔브 및 디메틸포름아마이드 중에서 하나 이상을 사용할 수 있다. 상기 조성물을 스핀코팅, 스프레이 코팅 또는 침적 코팅 등과 같은 종래의 코팅 방법을 이용하여 도포하고 건조 및 소성하여 도전막을 형성한다.The composition for forming a conductive film of the present invention is prepared by adding conductive oxide fine particles to an organic solvent to disperse the same, and adding a colorant and a silane coupling agent thereto. As the organic solvent, one or more alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-butanol, isopropanol, diacetone alcohol, or methyl cellosolve, ethyl cellosolve, isopropyl cellosolve, and dimethylformamide may be used. The composition is applied using a conventional coating method such as spin coating, spray coating or dip coating, drying and firing to form a conductive film.

본 발명의 표시장치용 코팅막은 도전막 형성용 조성물을 표시장치용 패널 외면에 도포하여 형성되는 도전막; 및 상기 도전막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 조성물을 스핀 코팅 또는 침적 코팅함으로써 형성되는 반사 방지막의 2층막으로 이루어진다.The coating film for a display device of the present invention is a conductive film formed by applying a composition for forming a conductive film on the outer surface of the panel for a display device; And an antireflection film formed by spin coating or dip coating a composition comprising a metal alkoxide or an oligomer thereof on the conductive film.

본 발명에서는 또한 상기 도전막 형성용 조성물을 표시장치용 패널 외면에 도포하여 제조되는 도전막; 상기 도전막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 조성물을 도포하여 형성되는 반사 방지막; 및 상기 반사 방지막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 가수분해물을 스프레이 코팅하여 형성되는 난반사층을 포함하는 3층막으로 이루어진다.In the present invention, the conductive film formed by applying the composition for forming a conductive film on the outer surface of the panel for a display device; An antireflection film formed by applying a composition including a metal alkoxide or an oligomer thereof on the conductive film; And a diffuse reflection layer formed by spray coating a hydrolyzate including a metal alkoxide or an oligomer thereof on the anti-reflection film.

반사 방지막은 금속 알콕사이드 또는 올리고머를 물, 유기 용매 또는 이들의혼합물을 스핀 코팅 또는 침적 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 유기 용매로는 메탄올, 에탄올, n-부탄올, 이소프로판올, 디아세톤 알코올 등과 같은 알코올계 용매 또는 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 이소프로필 셀로솔브 및 디메틸포름아마이드 중에서 하나 이상을 사용할 수 있다.The antireflection film may be formed by spin coating or dip coating a metal alkoxide or oligomer with water, an organic solvent or a mixture thereof. The organic solvent may be one or more of an alcohol solvent such as methanol, ethanol, n-butanol, isopropanol, diacetone alcohol, or methyl cellosolve, ethyl cellosolve, isopropyl cellosolve, and dimethylformamide.

상기 반사 방지막이나 난반사층에 사용되는 금속 알콕사이드는 하기 화학식 2를 가진다.The metal alkoxide used for the antireflection film or the diffuse reflection layer has the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

M(OR')4 M (OR ') 4

(상기 식에서, M은 Si, Ti, Sn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 원소이고, R'은 탄소수 1 내지 4의 알킬기이다.)(Wherein, M is one element selected from the group consisting of Si, Ti, Sn and Zr, R 'is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

금속 알콕사이드 올리고머는 중합도가 중합도가 2 내지 10인 것이 바람직하다. 중합도가 10을 초과하면 점도가 높아 사용하기 곤란한 문제점이 있다.The metal alkoxide oligomer preferably has a degree of polymerization of 2 to 10. When the degree of polymerization exceeds 10, there is a problem in that the viscosity is high and it is difficult to use.

이러한 금속 알콕사이드중 실리콘 알콕사이드 또는 이의 올리고머 및 플루오로 실리케이트가 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 플루오로 실리케이트의 예로는 CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3, CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3, CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)2, CF3CH2CH2Si(CH3)3, CF3(CF2)5CH2CH2SiCl3, CF3(CF2)7CH2CH2SiCl3, CF3(CF2)7CH2CH2SiMeCl3, CF3CH2CH2SiCl3등이 있다.Of these metal alkoxides, silicon alkoxides or oligomers thereof and fluorosilicates can be preferably used. Examples of the fluorosilicates include CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 2 , CF 3 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCl 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiMeCl 3 , CF 3 CH 2 CH 2 SiCl 3 and the like.

다음은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예들은 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명이 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.The following presents a preferred embodiment to aid the understanding of the present invention. However, the following examples are merely provided to more easily understand the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

<실시예 1><Example 1>

고도전성의 ITO 분산액(고형분 10%) 30 g을 메탄올 10g, 에탄올 30g, 이소프로필 알콜 15g, 메틸 셀로솔브 15g의 혼합 유기용매 70 g에 첨가한 후 착색제로서 카본 블랙 분산액(고형분 10%) 2g 및 실란 커플링제로서 페닐트리메톡시 실란(PTMS) 0.3g를 첨가하여 도전막 형성용 조성물을 제조하였다. 이 도전막 형성용 조성물을 투명 글라스 패널에 스핀도포한 다음 건조하고 200 ℃의 온도에서 소성하여 도전막을 형성하였다.30 g of highly conductive ITO dispersion (10% solids) was added to 70 g of a mixed organic solvent of 10 g of methanol, 30 g of ethanol, 15 g of isopropyl alcohol, and 15 g of methyl cellosolve, followed by 2 g of a carbon black dispersion (10% of solids) as a colorant, and 0.3 g of phenyltrimethoxy silane (PTMS) was added as a silane coupling agent, and the composition for electrically conductive film formation was prepared. The conductive film-forming composition was spin-coated on a transparent glass panel, dried, and baked at 200 ° C. to form a conductive film.

<실시예 2><Example 2>

ITO 미립자 대신 ATO를 사용한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 도전막을 형성하였다.A conductive film was formed in the same manner as in Example 1 except that ATO was used instead of ITO fine particles.

<비교예 1>Comparative Example 1

실란 커플링제를 첨가하지 않은 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 도전막을 형성하였다.A conductive film was formed in the same manner as in Example 1 except that the silane coupling agent was not added.

상기 실시예 1과 2에서 제조된 도전막의 투과율, 표면저항, 2 kHz 내지 400 kHz 범위에서의 초저주파(VLF)에 대한 전자파 차폐도를 측정하여, 그 결과를 표 1에 나타내었다.The transmittance, surface resistance, and electromagnetic shielding of the ultra low frequency (VLF) in the range of 2 kHz to 400 kHz of the conductive films prepared in Examples 1 and 2 were measured, and the results are shown in Table 1 below.

투과율(%)Transmittance (%) 표면 저항(kΩ)Surface resistance (kΩ) 전자파 차폐도(V/m)Electromagnetic shielding degree (V / m) 전자파 차폐 규격Electromagnetic shielding standard 실시예 1Example 1 6565 30 이하30 or less 0.85 이하0.85 or less TCO 대응(1 V/m 이하)TCO compatible (1 V / m or less) 실시예 2Example 2 6565 107 10 7 1.31.3 MPR-Ⅱ 대응(2.5 V/m 이하)MPR-II compatible (2.5 V / m or less)

상기 표 1의 결과에서 본 발명에 따라 제조된 도전막은 표면저항이 낮음을 알 수 있다. TCO 규격에서 제한하는 초저주파의 전자파 차폐도는 모니터 앞 30 ㎝ 떨어진 곳에서 전자파를 측정할 경우 1 V/m 이하이다. 역시 스웨덴에서 제정한 전자파 규제안의 하나인 MPR-Ⅱ(Measure and proof Radiation Board)가 제시하는 전자파 차폐도 규격은 모니터의 50 ㎝ 떨어진 곳에서 측정할 경우 2.5 V/m 이하이다. 따라서 본 발명에 따른 도전막은 TCO 또는 MPR-Ⅱ 규격을 모두 충족시키고 있으므로 전자파 차폐도도 우수함을 알 수 있다.It can be seen from the results of Table 1 that the conductive film prepared according to the present invention has a low surface resistance. The electromagnetic shielding of ultra low frequency limited by the TCO standard is less than 1 V / m when measuring electromagnetic waves 30 cm away from the monitor. The electromagnetic shielding standard proposed by the Measure and proof Radiation Board (MPR-II), also one of Sweden's regulations, is 2.5 V / m or less when measured 50 cm away from the monitor. Therefore, since the conductive film according to the present invention satisfies all TCO or MPR-II standards, it can be seen that the electromagnetic wave shielding degree is also excellent.

실시예 1과 2, 및 비교예 1의 도전막에 대하여 막강도, 막경도 및 표면조도(roughness)를 측정하고, 그 결과는 하기 표 2에 나타내었다. 지우개 테스트는 1kg 하중으로 10㎝에서 일정속도로 100회 왕복하여 실시한 후 표면 상태 변화 유무를 육안으로 확인하였다. 테스트에 사용된 지우개는 규격품을 사용하였다. 표면조도는 산업용 원자력 현미경(Atomic Force Microscope)으로 측정하였다.Film strength, film hardness, and surface roughness of the conductive films of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were measured, and the results are shown in Table 2 below. The eraser test was reciprocated 100 times at a constant speed at 10 cm with a 1 kg load, and then visually confirmed whether the surface condition changed. The eraser used for the test used a standard product. Surface roughness was measured by an industrial atomic force microscope.

막강도(지우개 테스트)Membrane Strength (Eraser Test) 막경도(연필 경도)Film hardness (pencil hardness) 표면조도Surface roughness 평균높이(Å)Average height 실시예 1Example 1 100 회에서도양호Even 100 times 7~8 H7 ~ 8 H 74.774.7 279279 비교예 1Comparative Example 1 50회에 흔적이생김Traces occur 50 times 7 H7 H 120120 450450

본 발명에 도전막은 막강도 또는 막경도와 같은 기계적 강도가 우수하다는 것을 확인할 수 있다. It can be seen that the conductive film of the present invention is excellent in mechanical strength such as film strength or film hardness.

본 발명의 도전막 형성용 조성물은 금속 콜로이드 대신 금속 산화물 미립자를 적용함으로써, 제조원가를 낮출 수 있으며, 생산성을 높일 수 있다. 또한, 착색제를 사용하여 도전막의 투과율과 바디 칼라를 용이하게 조절할 수 있으며, 커플링제로서 실란 커플링제를 첨가함으로써, 착색제와 도전성 산화물 미립자가 균일하게 분산되어 균일한 박막을 형성할 수 있고, 기계적 강도도 향상시킬 수 있다.In the composition for forming a conductive film of the present invention, by applying metal oxide fine particles instead of metal colloids, manufacturing costs can be lowered and productivity can be increased. In addition, by using a colorant, the transmittance and body color of the conductive film can be easily adjusted, and by adding a silane coupling agent as the coupling agent, the colorant and the conductive oxide fine particles can be uniformly dispersed to form a uniform thin film, and mechanical strength Can also be improved.

Claims (13)

금속 산화물 미립자; 착색제; 및 실란 커플링제를 포함하는 도전막 형성용 조성물.Metal oxide fine particles; coloring agent; And a silane coupling agent. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 고형분 기준으로 0.5 내지 6 %이고, 착색제는 고형분 기준으로 0.01 내지 10 %이고, 실란 커플링제는 고형분 기준으로 0.01 내지 10 %인 도전막 형성용 조성물.The composition of claim 1, wherein the metal oxide fine particles are 0.5 to 6% based on solids, the colorant is 0.01 to 10% based on solids, and the silane coupling agent is 0.01 to 10% based on solids. 제1항에 있어서, 상기 금속 산화물 미립자는 ITO(indium tin oxide), ATO(antimony tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), SnO2, In2O3및 Sb2O3산화물로 이루어진 군에서 선택되는 도전막 형성용 조성물.The method of claim 1, wherein the metal oxide fine particles are selected from the group consisting of indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), aluminum zinc oxide (AZO), SnO 2 , In 2 O 3 and Sb 2 O 3 oxides. A conductive film forming composition. 제1항에 있어서, 상기 착색제가 유기 또는 무기 안료 및 금속 착체로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 도전막 형성용 조성물.The composition for forming a conductive film according to claim 1, wherein the colorant is at least one selected from the group consisting of organic or inorganic pigments and metal complexes. 제4항에 있어서, 상기 착색제가 카본 블랙, 흑연, TiO, TiN, TiO1-xNx(0<x<1), TiC, TiN-TiC, 산화코발트, 산화아연, 산화철, 산화루테늄, 산화알루미늄, 금속 착체 아조 염료, 금속 착체 안트라퀴논(anthraquinone) 염료 및 이들중둘 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나인 도전막 형성용 조성물.The method of claim 4, wherein the colorant is carbon black, graphite, TiO, TiN, TiO 1-x N x (0 <x <1), TiC, TiN-TiC, cobalt oxide, zinc oxide, iron oxide, ruthenium oxide, oxidation A composition for forming a conductive film, which is at least one selected from the group consisting of aluminum, metal complex azo dyes, metal complex anthraquinone dyes, and mixtures of two or more thereof. 제1항에 있어서, 상기 실란 커플링제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 도전막 형성용 조성물.The composition for forming a conductive film of claim 1, wherein the silane coupling agent is a compound represented by the following Chemical Formula 1. [화학식 1][Formula 1] YRSiX3 YRSiX 3 (상기 식에서, Y는 유기재료와 친화성(또는 반응성)이 있는 비닐기, 페닐기, 에폭시기, 아미노기, 및 머캅토기로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 유기 관능기이고, R은 알킬기이고, X는 무기재료에 친화성(또는 반응성)이 있는 알콕시기임.)Wherein Y is one organic functional group selected from the group consisting of vinyl group, phenyl group, epoxy group, amino group, and mercapto group having affinity (or reactivity) with the organic material, R is an alkyl group, and X is an inorganic material Alkoxy group having affinity (or reactivity) 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항의 도전막 형성용 조성물로부터 제조되는 표시장치용 도전막.A conductive film for display device manufactured from the composition for forming a conductive film of any one of claims 1 to 6. 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항의 도전막 형성용 조성물로부터 제조되는 도전막; 및 상기 도전막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 조성물을 도포하여 형성되는 반사 방지막을 포함하는 표시장치용 코팅막.A conductive film prepared from the composition for forming a conductive film of any one of claims 1 to 6; And an anti-reflection film formed by coating a composition including a metal alkoxide or an oligomer thereof on the conductive film. 제8항에 있어서, 상기 금속 알콕사이드가 하기 화학식 2로 표시되는 표시장치용 코팅막.The coating film for a display device according to claim 8, wherein the metal alkoxide is represented by the following Chemical Formula 2. 10. [화학식 2][Formula 2] M(OR')4 M (OR ') 4 (상기 식에서, M은 Si, Ti, Sn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 원소이고, R'은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.)(Wherein, M is one element selected from the group consisting of Si, Ti, Sn and Zr, R 'is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) 제8항에 있어서, 상기 금속 알콕사이드 올리고머의 중합도가 2 내지 10인 표시장치용 코팅막.The coating film of claim 8, wherein the polymerization degree of the metal alkoxide oligomer is 2 to 10. 10. 제1항 내지 제6항 중 어느 하나의 항의 도전막 형성용 조성물로부터 제조되는 도전막; 및 상기 도전막 위에 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 조성물을 도포하여 형성되는 반사 방지막; 및 상기 반사 방지막 위에 형성되는 금속 알콕사이드 또는 이의 올리고머를 포함하는 가수분해물을 스프레이 코팅하여 형성되는 난반사층을 포함하는 표시장치용 코팅막.A conductive film prepared from the composition for forming a conductive film of any one of claims 1 to 6; And an antireflection film formed by applying a composition including a metal alkoxide or an oligomer thereof on the conductive film. And a diffuse reflection layer formed by spray coating a hydrolyzate including a metal alkoxide or an oligomer thereof formed on the anti-reflection film. 제11항에 있어서, 상기 금속 알콕사이드는 하기 화학식 2로 표시되는 표시장치용 코팅막.The coating film of claim 11, wherein the metal alkoxide is represented by the following Chemical Formula 2. 14. [화학식 2][Formula 2] M(OR')4 M (OR ') 4 (상기 식에서, M은 Si, Ti, Sn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 원소이고, R'은 탄소수 1 내지 4의 알킬기임.)(Wherein, M is one element selected from the group consisting of Si, Ti, Sn and Zr, R 'is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) 제11항에 있어서, 상기 금속 알콕사이드 올리고머의 중합도가 2 내지 10인 표시장치용 코팅막.The coating film of claim 11, wherein the degree of polymerization of the metal alkoxide oligomer is 2 to 10. 13.
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