KR19990015003A - 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법 - Google Patents

화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법은 감광 벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭과 예상 펄스 폭을 비교하여 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 작으면, 검출된 펄스 폭을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 현재의 예상 펄스 폭에서 소정의 값을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하며, 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 크거나 같으면, 예상 펄스 폭을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 다음 예상 펄스 폭의 세팅을 위해 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작은지를 판별한다. 이 판별에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작으면, 현재의 예상 펄스 폭에서 소정의 값을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하고, 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 크거나 같으면 현재의 예상 펄스 폭 값에 소정의 값을 더한 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅한다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 감광벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭과 예상 펄스 폭을 상호 비교/분석하여 그 결과를 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 특히 이때 세팅되는 다음 예상 펄스 폭의 일부는 펄스 카운트 값과 오프셋 값을 비교하여 결정되므로, 레이저 빔의 주주사방향의 칼라 미스 레지스트레이션을 정량적으로 조정할 수 있는 장점이 있다.

Description

화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법
본 발명은 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션(color registration) 조정방법에 관한 것으로서, 특히 감광 벨트의 에지(edge) 합성 알고리즘을 이용하여 회로적으로 주주사방향의 칼라 레지스트레이션을 조정하는 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법에 관한 것이다.
화상형성장치는 전송된 문자나 화상 데이터 신호에 따라 기록매체상에 문자나 화상을 재현해 내는 장치로서, 통상 기록매체상에 정전 잠상(latent electro -static image)을 형성하기 위한 감광부재(예컨대, 감광드럼이나 감광벨트)와, 그 감광부재를 대전시키기 위한 대전장치와, 대전된 감광부재에 광을 조사하여 선택적으로 제전시켜 소정의 패턴으로 정전잠상을 형성하는 노광장치와, 노광된 정전잠상 위에 현상매체(예컨대, 토너나 현상액)를 분사하여 정전잠상을 현상하는 현상장치와, 현상된 정전잠상을 가압 및 가열에 의해 기록매체에 전사하는 전사장치를 구비하고 있다.
도 1은 종래 화상형성장치의 개략적인 장치 구성도이다.
도 1을 참조하면, 종래 화상형성장치는 제1, 제2 및 제3 벨트 로울러(101) (102)(103)에 의해 순환이동 가능하게 설치된 감광 벨트(104)와, 그 감광 벨트(104)에 잔존하는 전하를 제거하기 위한 제전 장치(105)와, 감광 벨트(104)에 새로이 전하를 대전시키기 위한 대전 장치(106)와, 정전 잠상을 형성하기 위하여 대전된 상기 감광 벨트(104)의 이미지 형성 영역을 이미지 형상의 패턴으로 선택적으로 제전시키기 위하여 레이저빔을 조사하는 레이저 스캐닝 유니트(laser scanning unit)(미도시)를 가지는 노광 장치(107)(108)(109)(110)와, 상기 감광 벨트(104)에 형성된 잠상을 현상액에 의해 현상하는 현상 장치(111)(112)(113)(114)와, 상기 잠상에 뿌려진 현상액을 건조시키기 위한 건조 장치(115)와, 상기 감광 벨트(104)에 형성된 현상된 임의의 화상을 기록용지나 필름 등과 같은 기록매체(117)에 전사하기 위한 전사 장치(116)를 구비하고 있다.
여기서, 상기 현상 장치(111)는 현상액을 감광 벨트(104)에 도포하기 위한 현상 로울러(111a)와, 그 현상 로울러(111a)에 현상액을 공급해주기 위한 현상액 공급장치(111b)와, 현상 로울러(111a)의 후면부에 점착된 현상액을 제거하기 위한 클리닝(cleaning) 로울러(111c)와, 감광 벨트(104) 상의 여분의 현상액을 제거하기 위한 제1,제2 스퀴지(squeegee) 로울러(111d)(111e)와, 그 제1,제2 스퀴지 로울러(111d)(111e)에 점착된 현상액을 제거하기 위한 제1,제2 블레이드(111f)(111g)와, 장치내의 현상액을 다시 회수하기 위한 현상액 회수용기(111h)로 구성되어 있다. 그리고, 상기 건조 장치(115)에는 감광 벨트(104) 상에 점착된 현상액을 건조시키기 위한 히팅 로울러(115h)가 마련되어 있고, 전사 장치(116)는 감광 벨트(104)를 사이에 두고 제1벨트 로울러(101)와 밀착회전함으로써 감광 벨트(104) 상의 화상을 전사받는 전사 로울러(116t)와, 전사 로울러(116t)와 밀착되어 회전함으로써 전사 로울러(116t)로 전사된 화상을 기록용지(117)에 정착시키는 정착 로울러(116p)로 구성되어 있다.
한편, 이상과 같은 구성의 종래 화상형성장치에 있어서, 레이저빔 주사와 관련된 오차 요인들을 살펴보기로 한다.
먼저, 상기 감광 벨트(104) 상에 마련된 각 에지 검출기의 장착상태를 보면, 도 2에 도시된 바와 같이 Y-벨트 에지 검출기(201)를 기준으로 M,C,K 각 벨트 에지 검출기(202)(203)(204)가 일직선 상에 나란히 정렬되어 있지 않다. 따라서, 레이저빔 주사에 있어서 오차를 발생시키게 된다. 이때, 주주사방향(감광 벨트의 진행방향에 대한 횡방향) 해상도가 600dpi이라면 벨트 에지의 장착(배치) 정확도가 최소한 1/600 inch 이내이어야 한다. 더우기 미스 칼라 레지스트레이션의 양을 1/5 픽셀 이내로 하고자 한다면 Y, M, C, K 각 벨트 에지 검출기(201)(202)(203)(204)의 일직선상에의 배치(장착) 정확도는 1/(5×600) inch 이내이어야 한다. 이것을 기구적으로 조정하기에는 거의 불가능하며, 결국 회로적으로 보정해 주어야 한다.
두 번째는 도 3에 도시된 바와 같이 Y, M, C, K 각 스캐너(301)(302)(303) (304)가 일직선 상에 나란히 정렬되어 있지 않아, 레이저 빔 주사에 있어서 오차를 발생시키게 된다. 이 역시 기구적 보정에 한계가 있다.
세 번째는 벨트 위빙(weaving)을 들 수 있다. 상기 감광 벨트(104)는 구동중 스티어링(steering)을 하여도 주주사방향으로 변위가 발생하여, 결국 레이저 빔 주사에 있어서 오차를 발생시키게 된다.
네 번째는 감광 벨트(104) 자체의 결함을 지적할 수 있다. 즉, 감광 벨트(104)의 에지가 일직선이 아니고, 굴곡을 형성하고 있을 경우 레이저 빔 주사에 있어서 오차를 발생시키게 된다. 이상과 같은 세 번째 및 네 번째의 오차 요인들도 기구적 보정에 한계가 있으며, 결국 회로적으로 보정해 주어야 한다.
본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 감광 벨트의 에지 합성 알고리즘을 이용하여 회로적으로 주주사방향의 칼라 레지스트레이션을 조정할 수 있는 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법을 제공함에 그 목적이 있다.
도 1은 종래 화상형성장치의 개략적인 장치 구성도.
도 2는 종래 화상형성장치에 있어서의 비정렬된 Y,M,C,K 각 벨트 에지 검출기의 배치 상태도.
도 3은 종래 화상형성장치에 있어서의 비정렬된 Y,M,C,K 각 스캐너의 배치 상태도.
도 4는 본 발명에 따른 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법의 실행과정을 나타내 보인 플로우 챠트.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
101...제1 벨트 로울러 102...제2 벨트 로울러
103...졔3 벨트 로울러 104...감광 벨트
105...제전 장치 106...대전 장치
107,108,109,110...노광 장치 111,112,113,114...현상 장치
115...건조 장치 116...전사 장치
117...기록매체 111a...현상 로울러
111b...현상액 공급장치 111c...클리닝 로울러
111d...제1 스퀴지 로울러 111e...제2 스퀴지 로울러
111f...제1 블레이드 111g...제2 블레이드
111h...현상액 회수용기 115h...가열 로울러
116p...정착 로울러 116t...전사 로울러
201,202,203,204...Y,M,C,K 벨트 에지 검출기
301,302,303,304...Y,M,C,K 스캐너
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법은, (a) 감광 벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 작은지의 여부를 판별하는 단계; (b) 상기 단계 (a)에서 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 작으면, 검출된 펄스 폭을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 현재의 예상 펄스 폭에서 소정의 값을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 단계; (c) 상기 단계 (a)에서 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 크거나 같으면, 예상 펄스 폭을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 다음 예상 펄스 폭의 세팅을 위해 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작은지의 여부를 판별하는 단계; (d) 상기 단계 (c)에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작으면, 현재의 예상 펄스 폭에서 소정의 값을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 단계; (e) 상기 단계 (c)에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 크거나 같으면 현재의 예상 펄스 폭 값에 소정의 값을 더한 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 단계를 포함하는 점에 그 특징이 있다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 감광벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭과 예상 펄스 폭을 상호 비교/분석하여 그 결과를 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 특히 이때 세팅되는 다음 예상 펄스 폭의 일부는 펄스 카운트 값과 오프셋 값을 비교하여 결정되므로, 레이저 빔의 주주사방향의 칼라 미스 레지스트레이션을 정량적으로 조정할 수 있는 장점이 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법의 실행과정을 나타내 보인 플로우 챠트이다.
도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법은 먼저, 감광 벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭(PWD)이 예상 펄스 폭(PWE)보다 작은지의 여부를 판별한다(단계 401). 이 단계 401에서 검출된 펄스 폭(PWD)이 예상 펄스 폭(PWE)보다 작으면, 검출된 펄스 폭(PWD)을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고(단계 402), 현재의 예상 펄스 폭(PWE)에서 1을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭(PWE)으로 세팅한다(단계 403). 그리고, 상기 단계 401에서 검출된 펄스 폭(PWD)이 예상 펄스 폭(PWE)보다 크거나 같으면, 예상 펄스 폭(PWE)을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고(단계 404), 다음 예상 펄스 폭(PWE)의 세팅을 위해 펄스의 카운트 값이 오프셋(offset) 값(Y,M,C,K 각 스캐너의 스타트 위치가 틀려서 이를 보상해주는 값)보다 작은지의 여부를 판별한다(단계 405). 이 단계 405에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작으면, 현재의 예상 펄스 폭(PWE)에서 1을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭(PWE)으로 세팅한다(단계 406). 그리고, 상기 단계 405에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 크거나 같으면 현재의 예상 펄스 폭(PWE)에 1을 더한 값을 다음 예상 펄스 폭(PWE)으로 세팅한다(단계 407).
이상과 같은 일련의 과정에 의해 감광 벨트의 에지는 광검출기(미도시)의 검출범위 내에 있게 되고, 감광 벨트의 에지가 광검출기의 검출범위 내의 어느 위치에 있어도 상기 예상 펄스 폭(PWE)이 검출된 펄스 폭(PWD)보다 작게 자동적으로 보정된다. 그에 따라 레이저 빔의 주주사방향의 칼라 미스 레지스트레이션의 정밀 조정이 가능해진다.
이상의 설명에서와 같이, 본 발명에 따른 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법은 감광벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭과 예상 펄스 폭을 상호 비교/분석하여 그 결과를 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 특히 이때 세팅되는 다음 예상 펄스 폭의 일부는 펄스 카운트 값과 오프셋 값을 비교하여 결정되므로, 레이저 빔의 주주사방향의 칼라 미스 레지스트레이션을 정량적으로 조정할 수 있는 장점이 있다.

Claims (4)

  1. (a) 감광 벨트의 에지에 대한 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 작은지의 여부를 판별하는 단계;
    (b) 상기 단계 (a)에서 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 작으면, 검출된 펄스 폭을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 현재의 예상 펄스 폭에서 소정의 값을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 단계;
    (c) 상기 단계 (a)에서 검출된 펄스 폭이 예상 펄스 폭보다 크거나 같으면, 예상 펄스 폭을 스캔 시작 신호(합성된 에지 신호)로 세팅하고, 다음 예상 펄스 폭의 세팅을 위해 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작은지의 여부를 판별하는 단계;
    (d) 상기 단계 (c)에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 작으면, 현재의 예상 펄스 폭에서 소정의 값을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 단계; 및
    (e) 상기 단계 (c)에서 펄스 카운트 값이 오프셋 값보다 크거나 같으면 현재의 예상 펄스 폭에 소정의 값을 더한 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (b)에서 현재의 예상 펄스 폭 값에서 1을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (d)에서 현재의 예상 펄스 폭 값에서 1을 뺀 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (e)에서 현재의 예상 펄스 폭 값에 1을 더한 값을 다음 예상 펄스 폭으로 세팅하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치에서의 칼라 레지스트레이션 조정방법.
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