KR102471861B1 - Polyamic acid solution and transparent polyimide film using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (a) 화학식 1로 표시되는 디아민과 화학식 2로 표시되는 디아민을 포함하는 디아민 혼합물; (b) 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 포함하는 디안하이드라이드 혼합물; (c) 140 내지 200℃ 범위의 비점을 갖는 염기성 촉매; 및 (d) 유기 용매를 포함하는 폴리아믹산 용액을 제공한다.
이러한 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름 및 투명 기판은 광학적 특성 및 기계적 특성이 우수하여 플렉서블 디스플레이에 적용될 수 있다.
The present invention relates to (a) a diamine mixture comprising diamine represented by Formula 1 and diamine represented by Formula 2; (b) a dianhydride mixture comprising dianhydride represented by Formula 3 and dianhydride represented by Formula 4; (c) a basic catalyst having a boiling point in the range of 140 to 200°C; and (d) a polyamic acid solution containing an organic solvent.
A transparent polyimide resin film and a transparent substrate prepared by imidizing such a polyamic acid solution have excellent optical and mechanical properties and can be applied to flexible displays.

Description

폴리아믹산 용액 및 이를 이용한 투명 폴리이미드 수지 필름{POLYAMIC ACID SOLUTION AND TRANSPARENT POLYIMIDE FILM USING THE SAME}Polyamic acid solution and transparent polyimide resin film using the same {POLYAMIC ACID SOLUTION AND TRANSPARENT POLYIMIDE FILM USING THE SAME}

본 발명은 플렉서블 디스플레이에 적용이 가능한 폴리아믹산 용액 및 이를 이용하여 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a polyamic acid solution applicable to a flexible display and a transparent polyimide resin film manufactured using the same.

폴리이미드(polyimide, PI) 수지는 불용, 불융의 초고내열성 수지로서 전기적, 화학적, 열적 그리고 기계적 물성이 우수한 장점이 있어, 자동차 재료, 항공 및 우주선 소재 등과 같은 내열 첨단 소재; 절연 코팅제, 절연막, 반도체, LCD 전극보호막 등의 전자 재료에 널리 사용되고 있다.Polyimide (PI) resin is an insoluble, insoluble, ultra-high heat-resistant resin that has excellent electrical, chemical, thermal, and mechanical properties, and is used in heat-resistant high-tech materials such as automobile materials, aviation and spacecraft materials; It is widely used in electronic materials such as insulating coatings, insulating films, semiconductors, and LCD electrode protective films.

이러한 폴리이미드 수지를 합성하는 방법으로는 디안하이드라이드와 디아민을 유기용매 내에서 중합시켜 폴리아믹산(Polyamic acid) 용액을 제조한 후, 이를 열처리에 의해 경화시켜 필름으로 제조하는 방법 또는 화학적으로 이미드화(Imidazation)한 뒤 침지, 세척, 건조, 재용해 등의 과정을 거쳐 필름으로 제조하는 방법이 일반적이다.As a method of synthesizing such a polyimide resin, a polyamic acid solution is prepared by polymerizing dianhydride and diamine in an organic solvent, and then cured by heat treatment to form a film or chemically imidized. (Imidazation), followed by immersion, washing, drying, re-dissolving, etc., to produce a film is common.

먼저, 폴리아믹산 용액을 열처리에 의해 경화시켜 폴리이미드 수지 필름을 제조하는 방법은 250 내지 400℃의 고온에서 수 시간 가열하는 과정을 포함한다. 그 과정에서 수지가 착색되기 때문에 가시광선 영역에서의 투과도와 황색도가 저하되어, 투명성이 요구되는 광학 재료로 사용하기에는 곤란한 점이 있다. 한편, 저온에서 가열하는 경우, 폴리이미드 수지 필름의 제조에 필요한 시간이 길어질 뿐만 아니라 폴리아믹산의 저분자량화가 발생하기 때문에 제조된 폴리이미드 수지 필름의 강도가 저하되는 문제점이 있다.First, a method of preparing a polyimide resin film by curing a polyamic acid solution by heat treatment includes heating at a high temperature of 250 to 400 ° C. for several hours. Since the resin is colored in the process, transmittance and yellowness in the visible ray region are reduced, making it difficult to use it as an optical material requiring transparency. On the other hand, when heating at a low temperature, there is a problem in that the strength of the polyimide resin film is reduced because the time required for manufacturing the polyimide resin film is increased and the molecular weight of the polyamic acid is reduced.

다음, 폴리아믹산 용액을 화학적으로 이미드화하여 폴리이미드 수지 필름을 제조하는 방법은, 폴리아믹산 용액에 자일렌이나 톨루엔 등을 더하여 Dean Stark Method로 이미드화하는 과정, 또는 폴리아믹산 용액에 피리딘 등의 촉매와 아세트산 무수물 등의 탈수제를 첨가하여 저온에서 이미드화하는 과정을 포함한다. 그러나 상기 화학적으로 이미드화하는 방법은, 별도의 Dean Stark 설비를 필요로 하거나 이미드화한 뒤 침지, 세척, 건조, 재용해 등의 여러 과정을 거치므로 공정이 복잡하고 많은 양의 오염폐수가 발생되는 문제점이 있다.Next, a method for preparing a polyimide resin film by chemically imidizing the polyamic acid solution is a process of imidizing the polyamic acid solution by the Dean Stark Method by adding xylene or toluene to the polyamic acid solution, or using a catalyst such as pyridine in the polyamic acid solution and a process of imidization at low temperature by adding a dehydrating agent such as acetic anhydride. However, the chemical imidization method requires a separate Dean Stark facility or undergoes various processes such as immersion, washing, drying, and re-dissolution after imidization, so the process is complicated and a large amount of contaminated wastewater is generated. There is a problem.

따라서, 비교적 간단한 공정에 의해 고투명성을 나타내면서도 열적 특성과 기계적 특성이 우수한 투명 폴리이미드 수지 필름을 제조하기 위한 폴리아믹산 용액의 개발이 요구되고 있다.Therefore, there is a need to develop a polyamic acid solution for producing a transparent polyimide resin film having excellent thermal and mechanical properties while exhibiting high transparency by a relatively simple process.

본 발명은 특정 구조의 디안하이드라이드 단량체와 디아민 단량체를 채택하여 이들의 함량을 특정 범위로 조절함과 동시에 특정 비점 범위의 촉매를 사용하여 일정 온도에서 경화함으로써, 낮은 YI(Yellow Index), 높은 광투과도를 구현하고, 기계적 특성을 조절할 수 있는 투명 폴리아믹산 용액 및 투명 폴리이미드 필름을 제조하는 것을 목적으로 한다.The present invention adopts a dianhydride monomer and a diamine monomer of a specific structure and adjusts their content to a specific range and at the same time cures it at a constant temperature using a catalyst with a specific boiling point range, resulting in low YI (Yellow Index) and high light intensity. An object of the present invention is to prepare a transparent polyamic acid solution and a transparent polyimide film capable of implementing transmittance and adjusting mechanical properties.

아울러, LCD 및 OLED의 플렉서블(Flexible) 디스플레이용 플라스틱(Plastic) 투명 기판, TFT 기판, 플렉서블 인쇄회로기판, 플렉서블(Flexible) OLED 면조명 기판, 전자 종이용 기판소재 등에 적용 가능한 폴리아믹산 조성물 및 투명 폴리이미드 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, polyamic acid compositions and transparent polyis applicable to plastic transparent substrates for flexible displays of LCD and OLED, TFT substrates, flexible printed circuit boards, flexible OLED surface lighting substrates, substrate materials for electronic paper, etc. It aims at providing a mid film.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 (a) 하기 화학식 1로 표시되는 디아민과 하기 화학식 2로 표시되는 디아민을 포함하는 디아민 혼합물; (b) 하기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 하기 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 포함하는 디안하이드라이드 혼합물; (c) 140 내지 200℃ 범위의 비점을 갖는 염기성 촉매; 및 (d) 유기 용매를 포함하는 폴리아믹산 용액을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides (a) a diamine mixture comprising diamine represented by Formula 1 and diamine represented by Formula 2; (b) a dianhydride mixture comprising a dianhydride represented by the following Chemical Formula 3 and a dianhydride represented by the following Chemical Formula 4; (c) a basic catalyst having a boiling point in the range of 140 to 200°C; and (d) a polyamic acid solution containing an organic solvent.

Figure 112017128025538-pat00001
Figure 112017128025538-pat00001

(상기 화학식 1에서,(In Formula 1 above,

A는 단일결합, C(=O), C(=O)NH, 및 C6~C20의 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되며,A is selected from the group consisting of a single bond, C(=O), C(=O)NH, and C 6 ~ C 20 arylene groups;

X1 및 X2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,X 1 and X 2 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms,

다만, A가 단일결합인 경우 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상은 할로겐 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기이며,However, when A is a single bond, at least one of X 1 and X 2 is a halogen or a C 1 to C 6 alkyl group substituted with a halogen atom,

상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있으며, m은 0 내지 2의 정수임)The C 6 ~ C 20 arylene group may be substituted with a halogen or a C 1 ~ C 6 alkyl group substituted with a halogen atom, and m is an integer of 0 to 2)

Figure 112017128025538-pat00002
Figure 112017128025538-pat00002

(상기 화학식 2에서,(In Formula 2 above,

B는 C1~C6 알킬기, 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기, O, O-B-O, S, SO2, 및 C6~C20의 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되며,B is selected from the group consisting of C 1 ~ C 6 alkyl groups, C 1 ~ C 6 alkyl groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, O, OBO, S, SO 2 , and C 6 ~ C 20 arylene groups;

X3 및 X4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되며,X 3 and X 4 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, C 1 ~ C 6 alkyl groups, and C 1 ~ C 6 alkyl groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms,

상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐, C1~C6 알킬기 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있음)The C 6 ~C 20 arylene group may be substituted with a halogen, a C 1 ~C 6 alkyl group, or a C 1 ~C 6 alkyl group substituted with a halogen atom)

Figure 112017128025538-pat00003
Figure 112017128025538-pat00003

(상기 화학식 3에서,(In Formula 3,

C는 C6~C20의 아릴렌기, 연결기로 연결된 C6~C20의 아릴렌기, 및 C4 내지 C40의 지환족기로 이루어진 군에서 선택되고,C is selected from the group consisting of a C 6 ~ C 20 arylene group, a C 6 ~ C 20 arylene group connected by a linking group, and a C 4 to C 40 alicyclic group;

상기 C6~C20의 아릴렌기는 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있으며,The C 6 ~ C 20 arylene group may be substituted with a C 1 ~ C 6 alkyl group,

상기 연결기는 -C(=O)-, -C(=O)NH- 및 -S(=O)2로 이루어진 군에서 1종 이상 선택될 수 있음)The linking group may be one or more selected from the group consisting of -C(=O)-, -C(=O)NH- and -S(=O) 2 )

Figure 112017128025538-pat00004
Figure 112017128025538-pat00004

(상기 화학식 4에서,(In Chemical Formula 4,

D는 C1~C6 알킬기, 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기, O, S 및 SO2로 이루어진 군에서 선택되며,D is selected from the group consisting of a C 1 ~ C 6 alkyl group, a C 1 ~ C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, O, S and SO 2 ;

X5 및 X6은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,X 5 and X 6 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms;

n은 1 내지 3의 정수임).n is an integer from 1 to 3).

또한, 본 발명은 상기 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름을 제공한다.In addition, the present invention provides a transparent polyimide resin film prepared by imidizing the polyamic acid solution.

또한, 본 발명은 상기 투명 폴리이미드 수지 필름을 포함하는 투명 시판을 제공한다.In addition, the present invention provides a transparent commercial product including the transparent polyimide resin film.

본 발명에서는 특정 구조의 디아민 단량체와 디안하이드라이드 단량체를 채택하고 이들의 함량을 특정 범위로 조절함과 동시에 특정 비점 범위의 촉매를 사용함으로써, 우수한 광학 특성, 기계적 특성, 열적 특성 등을 동시에 가지는 투명 폴리아믹산 용액 및 폴리이미드 수지 필름을 제공할 수 있다.In the present invention, by adopting a diamine monomer and a dianhydride monomer of a specific structure, adjusting their content to a specific range, and using a catalyst with a specific boiling point range, transparency having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. at the same time A polyamic acid solution and a polyimide resin film may be provided.

또한 본 발명에서는 우수한 광학 특성, 기계적 특성, 열적 특성 등을 갖는 상기 투명 폴리이미드용 조성물을 기판으로 적용함으로써, 우수한 물성과 제품 신뢰성을 발휘하는 플렉서블 디스플레이용 투명 기판을 제공할 수 있다.In addition, in the present invention, by applying the composition for transparent polyimide having excellent optical properties, mechanical properties, thermal properties, etc. to a substrate, it is possible to provide a transparent substrate for a flexible display exhibiting excellent physical properties and product reliability.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다. 다만, 이는 예시로써 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

<폴리아믹산 용액><Polyamic acid solution>

본 발명에 따른 폴리아믹산 용액은 고투명성과 함께 우수한 광학적 특성을 유지하면서 기계적 특성 및 열적 특성이 개선된 폴리이미드 수지 필름을 제조하기 위한 것으로, (a) 하기 화학식 1로 표시되는 디아민과 하기 화학식 2로 표시되는 디아민을 포함하는 디아민 혼합물; (b) 하기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 하기 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 포함하는 디안하이드라이드 혼합물; (c) 140 내지 200℃ 범위의 비점을 갖는 염기성 촉매; 및 (d) 유기 용매를 포함한다.The polyamic acid solution according to the present invention is for preparing a polyimide resin film having improved mechanical and thermal properties while maintaining high transparency and excellent optical properties, and is composed of (a) diamine represented by Formula 1 and Formula 2 below. diamine mixtures containing the indicated diamines; (b) a dianhydride mixture comprising a dianhydride represented by the following Chemical Formula 3 and a dianhydride represented by the following Chemical Formula 4; (c) a basic catalyst having a boiling point in the range of 140 to 200°C; and (d) an organic solvent.

(a) 디아민 혼합물(a) diamine mixture

본 발명에 따른 폴리아믹산 용액은 디아민 성분으로 하기 화학식 1로 표시되는 디아민과 하기 화학식 2로 표시되는 디아민을 포함한다.The polyamic acid solution according to the present invention includes diamine represented by Formula 1 and diamine represented by Formula 2 as diamine components.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017128025538-pat00005
Figure 112017128025538-pat00005

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

A는 단일결합, C(=O), C(=O)NH, 및 C6~C20의 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되며,A is selected from the group consisting of a single bond, C(=O), C(=O)NH, and C 6 ~ C 20 arylene groups;

X1 및 X2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,X 1 and X 2 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms,

다만, A가 단일결합인 경우 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상은 할로겐 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기이며,However, when A is a single bond, at least one of X 1 and X 2 is a halogen or a C 1 to C 6 alkyl group substituted with a halogen atom,

상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있으며, m은 0 내지 2의 정수이다.The C 6 ~C 20 arylene group may be substituted with a halogen or a C 1 ~C 6 alkyl group substituted with a halogen atom, and m is an integer of 0 to 2.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017128025538-pat00006
Figure 112017128025538-pat00006

(상기 화학식 2에서,(In Formula 2 above,

B는 C1~C6 알킬기, 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기, O, O-B-O, S, SO2, 및 C6~C20의 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되며,B is selected from the group consisting of C 1 ~ C 6 alkyl groups, C 1 ~ C 6 alkyl groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, O, OBO, S, SO 2 , and C 6 ~ C 20 arylene groups;

X3 및 X4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되며,X 3 and X 4 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, C 1 ~ C 6 alkyl groups, and C 1 ~ C 6 alkyl groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms,

상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐, C1~C6 알킬기 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있다.The C 6 ~C 20 arylene group may be substituted with a halogen, a C 1 ~C 6 alkyl group, or a C 1 ~C 6 alkyl group substituted with a halogen atom.

본 발명의 바람직한 일례에 따르면, 상기 X1 및 X4는 당 업계에 알려진 통상적인 전자흡인성기(electron withdrawing group, EWG) 일 수 있으며, 각각 독립적으로 불소(F) 또는 CF3인 것이 바람직하다.According to a preferred example of the present invention, the X 1 and X 4 may be a conventional electron withdrawing group known in the art (electron withdrawing group, EWG), and each independently fluorine (F) or CF 3 It is preferable.

또한 상기 A는 당 분야에 알려진 통상적인 C6~C20의 아릴렌기일 수 있으며, 이의 구체적인 예로는 페닐렌, 비페닐렌, 트리페닐렌일 등이 있다. 특히, 상기 A는 하기 화학식으로 표시되는 치환체 군에서 선택되는 것이 바람직하다.In addition, A may be a conventional C 6 ~ C 20 arylene group known in the art, and specific examples thereof include phenylene, biphenylene, triphenylenyl, and the like. In particular, the A is preferably selected from a group of substituents represented by the following formula.

Figure 112017128025538-pat00007
Figure 112017128025538-pat00007

상기 치환체에서, *는 상기 화학식 1에 연결되는 부위를 의미한다. 또한, R1 내지 R3는 서로 동일하거나 또는 상이하며, 각각 독립적으로 수소, F 및 CF3로 이루어진 군에서 선택된다.In the above substituents, * means a site connected to Formula 1 above. In addition, R 1 to R 3 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, F and CF 3 .

전술한 화학식 1에 불소(F)나 CF3 등의 전자흡인성기(EWG)를 적어도 하나 이상 도입함에 따라, 분자 사슬 간 및 분자 사슬 내 전하 이동 착물 (Change transfer complex, CTC)의 형성을 제어함으로써 폴리이미드 수지의 투명도를 향상시킬 수 있다.By introducing at least one electron-withdrawing group (EWG) such as fluorine (F) or CF 3 into the above-described formula 1, controlling the formation of charge transfer complexes (Change transfer complexes, CTC) between and within molecular chains. Transparency of polyimide resin can be improved.

본 발명에서, 상기 화학식 1로 표시되는 디아민은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐-4,4'-디아민, 2,2'-디메틸비페닐-4,4'-디아민, 4-아미노-N-(4-아미노페닐)벤즈아민, 비스(4-아미노페닐)메타논 등에서 유래하는 구조 중 선택될 수 있으나 이에 국한된 것은 아니다. 다만, 불소화 비페닐 구조를 함유하는 디아민은 디안하이드라이드와의 반응성을 조절하면서 높은 유리전이온도 및 낮은 열팽창성을 구현하여 열적 특성을 개선시킬 수 있다. 예컨대, 2,2'-TFDB를 사용할 경우에는 폴리이미드 수지의 투과도 및 유리전이온도를 높이면서 열팽창계수를 낮출 수 있다.In the present invention, the diamine represented by Formula 1 is 2,2'-bis(trifluoromethyl)biphenyl-4,4'-diamine, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4'-diamine, It may be selected from structures derived from 4-amino-N-(4-aminophenyl)benzamine, bis(4-aminophenyl)methanone, etc., but is not limited thereto. However, diamine containing a fluorinated biphenyl structure can improve thermal properties by realizing a high glass transition temperature and low thermal expansion while controlling reactivity with dianhydride. For example, when 2,2'-TFDB is used, the thermal expansion coefficient can be lowered while increasing the transmittance and glass transition temperature of the polyimide resin.

이러한 상기 화학식 1로 표시되는 디아민의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 디아민 혼합물 100 몰%를 기준으로 50 내지 99.9 몰%일 수 있으며, 바람직하게는 70 내지 99몰% 일 수 있다. 상기 범위로 화학식 1로 표시되는 디아민을 포함할 경우에는 단량체 내 치환기들 사이의 전하 이동 효과로 인해 광학적 특성이 보다 향상될 수 있다.The content of the diamine represented by Formula 1 is not particularly limited, but may be 50 to 99.9 mol%, preferably 70 to 99 mol%, based on 100 mol% of the diamine mixture. When the diamine represented by Formula 1 is included within the above range, optical properties may be further improved due to a charge transfer effect between substituents in the monomer.

본 발명에서, 상기 화학식 2로 표시되는 디아민은 4,4'-옥시디벤젠아민(4,4'-ODA), 3,4-옥시디벤젠아민(3,4'-ODA), 3,3'-옥시디벤젠아민(3,3'-ODA), 4,4'-옥시비스(3-(트리플르오로메틸)벤젠아민)(FODA), 4,4'-(1,4-페닐렌비스(옥시))비스 (3-(트리플르오로메틸)벤젠아민)(FAPB), 4,4'-(퍼플르오로프로판-2,2'-디일)디벤젠 아민, 4,4'-(2,2'-(1,4-페닐렌)비스(1,1,1,3,3,3-헥사플르오로프로판-2,2-디일) 디벤젠아민, 4,4'-설포닐디벤젠아민(4,4'-DDS), 4,4'-(4,4'-(퍼플르오로프로판-2,2-디일)비스(4,1-페닐렌))비스(옥시)디벤젠아민, 4,4'-(4,4'-설포닐비스(4,1-페닐렌) 비스(옥시))디벤젠아민, 4,4'-(1,4-페닐렌비스(옥시))디벤젠아민, 4,4'-(4,4'-(프로판-2,2-디일)비스(4,1-페닐렌))비스(옥시)디벤젠아민, 시클로헥산-1,4-디아민, 4,4'-메틸렌디시클로헥산아민, 4,4'-메틸렌비스(2-메틸시클로헥산아민) 등에서 유래하는 구조 중 선택될 수 있으나 이에 국한된 것은 아니다. 이러한 화학식 2로 표시되는 디아민은 페닐, 비페닐, 설폰기(SO2), 실란기 등을 포함하는 단량체일 수 있다. 이때, m-Tolidine, 4,4'-ODA, FODA, FAPB, DABA, 4,4-DDS 또는 4,4'-(퍼플르오로프로판-2,2'-디일)디벤젠아민을 사용할 경우에는 폴리이미드 수지의 열적 특성이 저하되지 않고 광학적 특성을 더 향상시킬 수 있다.In the present invention, the diamine represented by Formula 2 is 4,4'-oxydibenzeneamine (4,4'-ODA), 3,4-oxydibenzeneamine (3,4'-ODA), 3,3 '-oxydibenzenamine (3,3'-ODA), 4,4'-oxybis(3-(trifluoromethyl)benzenamine) (FODA), 4,4'-(1,4-phenylene Bis(oxy))bis(3-(trifluoromethyl)benzenamine)(FAPB), 4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl)dibenzene amine, 4,4'-( 2,2'-(1,4-phenylene)bis(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl) dibenzenamine, 4,4'-sulfonyldibenzene Amine (4,4'-DDS), 4,4'-(4,4'-(perfluoropropane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(oxy)dibenzeneamine , 4,4'-(4,4'-sulfonylbis(4,1-phenylene) bis(oxy))dibenzenamine, 4,4'-(1,4-phenylenebis(oxy))di Benzeneamine, 4,4'-(4,4'-(propane-2,2-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(oxy)dibenzenamine, cyclohexane-1,4-diamine, It may be selected from structures derived from 4,4'-methylenedicyclohexanamine, 4,4'-methylenebis(2-methylcyclohexanamine), etc., but is not limited thereto. It may be a monomer containing a biphenyl, a sulfone group (SO 2 ), a silane group, etc. In this case, m-Tolidine, 4,4'-ODA, FODA, FAPB, DABA, 4,4-DDS or 4,4' In the case of using -(perfluoropropane-2,2'-diyl)dibenzeneamine, the thermal properties of the polyimide resin are not deteriorated and the optical properties can be further improved.

이러한 상기 화학식 2로 표시되는 디아민의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 디아민 혼합물 100 몰%를 기준으로 0.01 내지 50 몰%일 수 있으며, 바람직하게는 0.1 내지 30몰% 일 수 있다. 상기 범위로 화학식 2로 표시되는 디아민을 포함할 경우에는 광학적 특성(광투과도 및 황색도)이 보다 향상될 수 있다.The content of the diamine represented by Formula 2 is not particularly limited, but may be 0.01 to 50 mol%, preferably 0.1 to 30 mol%, based on 100 mol% of the diamine mixture. When the diamine represented by Formula 2 is included within the above range, optical properties (light transmittance and yellowness) may be further improved.

본 발명에 따른 (a) 디아민은 폴리이미드 수지의 고투명성 및 낮은 황색도를 고려하여 상기 화학식 1로 표시되는 디아민으로 2,2'-TFDB를 사용하면서 상기 화학식 2로 표시되는 디아민으로 m-Tolidine, 4,4'-ODA, FODA, FAPB, DABA, 4,4-DDS 또는 4,4'-(퍼플르오로프로판-2,2'-디일)디벤젠아민을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.(a) diamine according to the present invention uses 2,2'-TFDB as the diamine represented by the formula (1) in consideration of high transparency and low yellowness of the polyimide resin, and m-Tolidine as the diamine represented by the formula (2) , 4,4'-ODA, FODA, FAPB, DABA, 4,4-DDS or 4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl) dibenzenamine is preferably used in combination.

(b) 디안하이드라이드 혼합물(b) dianhydride mixture

본 발명에 따른 폴리아믹산 용액은 디안하이드라이드 성분으로 하기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 하기 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 포함한다.The polyamic acid solution according to the present invention includes a dianhydride represented by the following Chemical Formula 3 and a dianhydride represented by the following Chemical Formula 4 as a dianhydride component.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112017128025538-pat00008
Figure 112017128025538-pat00008

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

C는 C6~C20의 아릴렌기, 연결기로 연결된 C6~C20의 아릴렌기, 및 C4 내지 C40의 지환족기로 이루어진 군에서 선택되고,C is selected from the group consisting of a C 6 ~ C 20 arylene group, a C 6 ~ C 20 arylene group connected by a linking group, and a C 4 to C 40 alicyclic group;

상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐, C1~C6 알킬기 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있으며,The C 6 ~C 20 arylene group may be substituted with a halogen, a C 1 ~C 6 alkyl group, or a C 1 ~C 6 alkyl group substituted with a halogen atom,

상기 연결기는 -C(=O)-, -C(=O)NH- 및 -S(=O)2로 이루어진 군에서 1종 이상 선택될 수 있다.The linking group may be one or more selected from the group consisting of -C(=O)-, -C(=O)NH-, and -S(=O) 2 .

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017128025538-pat00009
Figure 112017128025538-pat00009

상기 화학식 4에서,In Formula 4,

D는 C1~C6 알킬기, 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기, O, S 및 SO2로 이루어진 군에서 선택되며,D is selected from the group consisting of a C 1 ~ C 6 alkyl group, a C 1 ~ C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, O, S and SO 2 ;

X5 및 X6은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,X 5 and X 6 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms;

n은 1 내지 3의 정수이다.n is an integer from 1 to 3;

본 발명의 바람직한 일례에 따르면, 상기 C는 당 분야에 알려진 통상적인 C6~C20의 방향족 고리 또는 C4~C40의 지환족 고리인 것으로, 6원 방향족 고리 또는 6원 지환족 고리인 것이 바람직하다. 이때, C가 6원 방향족 고리일 경우에는 디아민 구조를 함유하는 방향족 디안하이드라이드고, C가 6원 지환족 고리일 경우에는 디아민 구조를 함유하는 비방향족 디안하이드라이드일 수 있다.According to a preferred example of the present invention, the C is a conventional C 6 ~ C 20 aromatic ring or C 4 ~ C 40 alicyclic ring known in the art, which is a 6-membered aromatic ring or a 6-membered alicyclic ring. desirable. In this case, when C is a 6-membered aromatic ring, it may be an aromatic dianhydride containing a diamine structure, and when C is a 6-membered alicyclic ring, it may be a non-aromatic dianhydride containing a diamine structure.

상기 C가 6원 방향족 고리일 경우에는 당 분야에 알려진 통상적인 하나 이상의 C6~C40의 아릴렌기, 설폰기 또는 아릴렌기와 설폰기가 연결된 형태일 수 있다. 이의 구체적인 예로는 페닐렌, 비페닐렌, 트리페닐렌, 설포닐 디페닐렌 등이 있다. 특히, 상기 C는 하기 화학식으로 표시되는 치환체 군에서 선택되는 것이 바람직하다.When C is a 6-membered aromatic ring, it may be in the form of one or more common C 6 ~ C 40 arylene groups, sulfone groups, or arylene groups and sulfone groups connected to each other known in the art. Specific examples thereof include phenylene, biphenylene, triphenylene, and sulfonyl diphenylene. In particular, the C is preferably selected from a group of substituents represented by the following formula.

Figure 112017128025538-pat00010
Figure 112017128025538-pat00010

상기 치환체에서, *는 상기 화학식 3에 연결되는 부위를 의미하고, R4 내지 R6는 서로 동일하거나 또는 상이하며, 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C6의 알킬기이다, 바람직하게는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸일 수 있다.In the substituent, * means a site linked to Formula 3, R 4 to R 6 are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen or a C 1 -C 6 alkyl group, preferably each independently It can be hydrogen or methyl.

상기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드는 디안하이드라이드 사이에 강직한 구조를 가지는 아릴렌기 및/또는 설폰기가 도입됨에 따라 열이나 빛에 의해 분해되지 않고 외부 충격에 대해 보다 안정적이므로, 이를 이용하여 제조된 폴리이미드 수지의 광학적 특성, 열적 특성 및 기계적 특성 등이 유의적으로 개선될 수 있다. 또한, 화학식 3으로 표시되는 화합물은 디안하이드라이드 사이에 디아민기가 도입됨에 따라 다른 디안하이드라이드 단량체 내 산소 원자와 반응하여 수소결합을 형성함으로써 고분자의 주사슬에 일정한 결합력이 발생하고, 이로 인해 폴리이미드 수지의 기계적 특성 및 내열 특성이 유의적으로 개선될 수 있다.The dianhydride represented by Formula 3 is not decomposed by heat or light and is more stable against external impact as an arylene group and/or a sulfone group having a rigid structure are introduced between the dianhydrides, so it is prepared using this The optical properties, thermal properties and mechanical properties of the polyimide resin can be significantly improved. In addition, the compound represented by Chemical Formula 3 reacts with an oxygen atom in another dianhydride monomer as a diamine group is introduced between dianhydride monomers to form a hydrogen bond, thereby generating a certain binding force in the main chain of the polymer. The mechanical properties and heat resistance properties of the resin can be significantly improved.

또한, 상기 C가 6원 지환족 고리일 경우에는 화합물 구조 내에 π 전자들이 존재하지 않기에 전하 이동 착물 (Change transfer complex, CTC)의 형성을 제어함으로써 폴리이미드 수지의 높은 투과도와 낮은 황색도를 구현하는데 큰 역할을 한다.In addition, when C is a 6-membered alicyclic ring, since π electrons do not exist in the compound structure, the formation of a change transfer complex (CTC) is controlled to realize high transmittance and low yellowness of the polyimide resin. plays a big role in

상기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드는 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드 (CBDA), 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CHDA), 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CPBA), 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3', 4,4'-비페닐테트라카복실릭 디안하이드라이드(S-BPDA), 2,3,3', 4'-비페닐테트라카복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA), 피로멜리트릭 디안하이드라이드(PMDA), N,N'-(4,4'-설포닐비스(4,1-페닐렌))비스(1,3-디옥소-옥타하이드로이소벤조퓨란-5-카복사미드) 등에서 유래하는 구조 중 선택될 수 있으나 이에 국한된 것은 아니다.The dianhydride represented by Formula 3 is 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA), 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (CHDA) ), 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride (CPBA), bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (S-BPDA) , 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA), pyromellitric dianhydride (PMDA), N, N'-(4,4'-sulfonylbis( 4,1-phenylene)) may be selected from structures derived from bis(1,3-dioxo-octahydroisobenzofuran-5-carboxamide), etc., but is not limited thereto.

이러한 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 디안하이드라이드 혼합물 100 몰%를 기준으로 10 내지 95몰%일 수 있으며, 바람직하게는 50 내지 90 몰%일 수 있다. 상기 범위로 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드를 포함할 경우에는 폴리이미드 수지의 높은 광투과도 및 낮은 황색도를 유지하면서 폴리이미드 수지의 열팽창계수를 더 낮출 수 있다.The content of the dianhydride represented by Formula 3 is not particularly limited, but may be 10 to 95 mol%, preferably 50 to 90 mol%, based on 100 mol% of the dianhydride mixture. When the dianhydride represented by Chemical Formula 3 is included within the above range, the thermal expansion coefficient of the polyimide resin may be further lowered while maintaining high light transmittance and low yellowness of the polyimide resin.

또한 본 발명의 바람직한 일례에 따르면, 상기 X5 및 X6은 당 업계에 알려진 통상적인 전자흡인성기(electron withdrawing group, EWG) 일 수 있으며, 각각 독립적으로 불소(F) 또는 CF3인 것이 바람직하다.In addition, according to a preferred example of the present invention, the X 5 and X 6 may be a conventional electron withdrawing group (electron withdrawing group, EWG) known in the art, and each independently fluorine (F) or CF 3 It is preferable that .

상기 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드는 5,5'-(퍼플르오로프로판-2,2-디일)디이소벤조퓨란-1,3-디온(6-FDA), 5,5'-옥시디이소벤조퓨란-1,3-디온(ODPA), 5,5'-설포닐디이소벤조퓨란-1,3-디온(DSDA), 벤조페논-3,3',4,4′'-테트라카복실릭 디안하이드라이드(BTDA) 등에서 유래하는 구조 중 선택될 수 있으나 이에 국한된 것은 아니다. 이때, 6FDA를 사용할 경우에는 분자 사슬 간 및 분자 사슬 내 전하 이동 착물 (Change transfer complex, CTC)의 형성을 제어함으로써 폴리이미드 수지의 투명도를 향상시킬 수 있다.The dianhydride represented by Formula 4 is 5,5'-(perfluoropropane-2,2-diyl)diisobenzofuran-1,3-dione (6-FDA), 5,5'-oxydi Isobenzofuran-1,3-dione (ODPA), 5,5'-sulfonyldiisobenzofuran-1,3-dione (DSDA), benzophenone-3,3',4,4''-tetracarboxylic It may be selected from structures derived from dianhydride (BTDA) and the like, but is not limited thereto. At this time, when 6FDA is used, the transparency of the polyimide resin can be improved by controlling the formation of charge transfer complexes (Change transfer complexes, CTCs) between and within molecular chains.

이러한 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 디안하이드라이드 100 몰%를 기준으로 5 내지 90몰%일 수 있으며, 바람직하게는 10 내지 50 몰%일 수 있다.The content of the dianhydride represented by Chemical Formula 4 is not particularly limited, but may be 5 to 90 mol%, preferably 10 to 50 mol%, based on 100 mol% of the dianhydride.

전술한 바와 같이, 본 발명의 일 예에서는 상기 디아민 성분으로 화학식 1로 표시되는 디아민과 화학식 2로 표시되는 디아민을, 디안하이드라이드 성분으로 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 혼합하여 사용하는데, 이때 (a) 디아민 혼합물과 (b) 디안하이드라이드 혼합물은 폴리이미드 수지의 황색도 및 기계적 특성을 개선하기 위해 (a):(b)=1: 0.1~10의 중량비로 혼합될 수 있다.As described above, in one example of the present invention, diamine represented by Chemical Formula 1 and diamine represented by Chemical Formula 2 are used as the diamine component, and dianhydride represented by Chemical Formula 3 and dianhydride represented by Chemical Formula 4 are used as dianhydride components. Hydrides are mixed and used, where (a) diamine mixture and (b) dianhydride mixture are (a): (b) = 1: 0.1 to 10 to improve the yellowness and mechanical properties of the polyimide resin. They can be mixed in weight ratio.

(c) 염기성 촉매(c) basic catalyst

염기성 촉매류는 비점 140 내지 200℃ 사이의 4-에틸피리딘, 2-메틸피페라진, 2,6-디메틸피페라진, 4-터트-부틸피리딘, 2-프로필피리딘, 4-프로필피리딘, 2,3,5-콜리딘, 2,5-루티딘, 2,6-루티딘, 2,3-루티딘, 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 3-에틸피리딘, 3-피콜린, 2,3-디메틸피라진, 2,5-디메틸피라진 등일 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다.Basic catalysts are 4-ethylpyridine, 2-methylpiperazine, 2,6-dimethylpiperazine, 4-tert-butylpyridine, 2-propylpyridine, 4-propylpyridine, 2,3 at a boiling point between 140 and 200°C. ,5-Collidine, 2,5-lutidine, 2,6-lutidine, 2,3-lutidine, 4-diazabicyclo[2.2.2]octane, 3-ethylpyridine, 3-picoline, 2 ,3-dimethylpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine, and the like, which may be used alone or in combination of two or more.

만약 염기성 촉매류의 비점이 140℃ 이하이면 필름의 형성이 어렵다. 한편, 비점이 200℃이상이면 본 발명의 경화온도에서 촉매의 제거가 어려우며, 촉매 제거를 위해 경화온도를 높일 경우 광 특성을 저해하게 된다If the boiling point of the basic catalyst is less than 140 ° C., it is difficult to form a film. On the other hand, if the boiling point is 200 ℃ or more, it is difficult to remove the catalyst at the curing temperature of the present invention, and when the curing temperature is increased to remove the catalyst, the optical properties are impaired.

(d) 유기 용매(d) organic solvents

상기 폴리아믹산 용액을 합성하기 위한 용매는 당업계에 공지된 것이라면 특별히 한정하지는 않는다. 상기 유기 용매로는 m-크레졸, N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMAc), 디메틸설폭사이드(DMSO), 아세톤, 디에틸아세테이트, 디메틸 프탈레이트(DMP) 등의 극성용매; 테트라하이드로퓨란(THF), 클로로포름 등의 저비점 용액; γ-부티로락톤 등의 저흡수성 용매 등일 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다.A solvent for synthesizing the polyamic acid solution is not particularly limited as long as it is known in the art. The organic solvent includes m-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetone, diethyl acetate, dimethyl polar solvents such as phthalate (DMP); low boiling point solutions such as tetrahydrofuran (THF) and chloroform; It may be a low water absorption solvent such as γ-butyrolactone, and these may be used alone or in combination of two or more.

전술한 본 발명에 따른 폴리아믹산 용액에서, 디아민 혼합물, 디안하이드라이드 혼합물, 촉매 및 유기 용매의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 폴리아믹산 용액의 전체 100 중량을 기준으로 (a) 디아민 혼합물이 1 ~ 20 중량%이고 (b) 디안하이드라이드 혼합물이 1 ~ 20 중량%이며, (c) 촉매 및 (d) 유기 용매가 잔량일 수 있다. 이때, 폴리아믹산 용액 내 각 성분의 함량이 상기 범위 미만일 경우에는 상기 폴리아믹산 용액의 점도가 너무 낮아질 수 있으며, 반면 상기 범위를 초과할 경우에는 폴리아믹산 용액의 점도가 지나치게 높아질 수 있다. 따라서, 상기 범위로 본 발명에 따른 폴리아믹산 용액 내 각 성분의 함량을 조절하면, 폴리아믹산 용액이 약 1,000 내지 500,000 cps, 바람직하게는 약 10,000 내지 200,000 cps 범위의 점도를 가질 수 있다. 또한, 폴리아믹산 용액의 점도가 상기 범위일 경우에는 폴리아믹산 용액의 코팅 시 두께 조절이 용이하며, 코팅된 도막의 표면이 균일하게 형성될 수 있다.In the polyamic acid solution according to the present invention described above, the contents of the diamine mixture, the dianhydride mixture, the catalyst and the organic solvent are not particularly limited, but based on the total weight of 100 polyamic acid solution (a) the diamine mixture is 1 to 20 % by weight and (b) 1 to 20% by weight of the dianhydride mixture, (c) catalyst and (d) organic solvent may be the balance. At this time, when the content of each component in the polyamic acid solution is less than the above range, the viscosity of the polyamic acid solution may be too low, whereas when it exceeds the above range, the viscosity of the polyamic acid solution may be excessively high. Therefore, when the content of each component in the polyamic acid solution according to the present invention is adjusted within the above range, the polyamic acid solution may have a viscosity ranging from about 1,000 to 500,000 cps, preferably from about 10,000 to 200,000 cps. In addition, when the viscosity of the polyamic acid solution is within the above range, it is easy to control the thickness during coating of the polyamic acid solution, and the surface of the coated film can be formed uniformly.

한편, 본 발명에 따른 폴리아믹산 용액은 필요에 따라 본 발명의 목적과 효과를 현저히 손상시키지 않는 범위 내에서 가소제, 산화방지제, 난연화제, 분산제, 점도 조절제, 레벨링제 등의 첨가제를 소량 포함할 수 있다.On the other hand, the polyamic acid solution according to the present invention may contain a small amount of additives such as plasticizers, antioxidants, flame retardants, dispersants, viscosity modifiers, leveling agents, etc. within a range that does not significantly impair the objects and effects of the present invention, if necessary. have.

전술한 바와 같은 본 발명에 따른 폴리아믹산 용액을 용액 중합 반응하면, 폴리아믹산을 얻을 수 있다. 구체적으로, 화학식 1로 표시되는 디아민과 화학식 2로 표시되는 디아민을 유기 용매에 투입하여 용해시킨 다음, 여기에 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 첨가한 후 용액 중합 반응시키면, 폴리아믹산이 제조될 수 있다. 이때, 반응 조건은 특별히 한정되지 않으며, -20 내지 80℃에서 1 내지 12시간(바람직하게는, 1 내지 3시간) 동안 반응시킬 수 있다.Polyamic acid can be obtained by solution polymerization of the polyamic acid solution according to the present invention as described above. Specifically, the diamine represented by Chemical Formula 1 and the diamine represented by Chemical Formula 2 were put into an organic solvent to dissolve them, and then dianhydride represented by Chemical Formula 3 and dianhydride represented by Chemical Formula 4 were added to the solution. When polymerized, polyamic acid can be produced. At this time, the reaction conditions are not particularly limited, and may be reacted at -20 to 80 ° C for 1 to 12 hours (preferably, 1 to 3 hours).

<투명 폴리이미드 수지 필름> <Transparent polyimide resin film >

본 발명에서는 전술한 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름을 제공한다.The present invention provides a transparent polyimide resin film prepared by imidizing the polyamic acid solution described above.

이때, 폴리이미드 수지는 랜덤 공중합체(random copolymer)나 블록 공중합체(block copolymer) 형태일 수 있다.In this case, the polyimide resin may be in the form of a random copolymer or a block copolymer.

본 발명에 따른 투명 폴리이미드 수지 필름은 상기 폴리아믹산 용액을 이용하여 제조되기 때문에, 광학적 특성(투명도 및 황색도)과 함께 개선된 기계적 특성(탄성률, 강도)을 가지면서 우수한 열적 특성(열팽창계수 및 유리전이온도)을 기대할 수 있다. 구체적으로, 본 발명에 따른 투명 폴리이미드 수지 필름은 파장 550 nm의 광선 투과율이 88% 이상이고, 파장 550 nm 파장에서의 황색도(Yellow index, YI)가 5.0 이하이고, 헤이즈(Haze)가 1.0 이하이고, 탄성률(Modulus)이 3 내지 6 GPa이고, 기계적 강도(Strength)가 120 내지 200 MPa이다.Since the transparent polyimide resin film according to the present invention is prepared using the polyamic acid solution, it has excellent thermal properties (coefficient of thermal expansion and glass transition temperature). Specifically, the transparent polyimide resin film according to the present invention has a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm, a yellow index (YI) of 5.0 or less, and a haze of 1.0 at a wavelength of 550 nm. or less, the elastic modulus (Modulus) is 3 to 6 GPa, and the mechanical strength (Strength) is 120 to 200 MPa.

또한, 본 발명에 따른 투명 폴리이미드 수지 필름은 이미드기(imide)를 함유하기 때문에, 내열성, 내화학성, 내마모성 및 전기적 특성이 우수하다.In addition, since the transparent polyimide resin film according to the present invention contains an imide group, it has excellent heat resistance, chemical resistance, abrasion resistance and electrical properties.

이러한 투명 폴리이미드 수지 필름을 제조하는 방법은 특별히 한정되지 않으나, 일례로 상기 투명 폴리아믹산 조성물을 유리기판, 금속 기판, 내열성 고분자기판에 코팅(캐스팅)한 후 80~300의 범위에서 온도를 서서히 승온시키면서 1 ~ 12시간 동안 이미드화 반응(Imidazation)을 진행하여 폴리이미드 수지 필름을 제조할 수 있다.The method for producing such a transparent polyimide resin film is not particularly limited, but, for example, after coating (casting) the transparent polyamic acid composition on a glass substrate, a metal substrate, or a heat-resistant polymer substrate, the temperature is gradually raised in the range of 80 to 300 °C. A polyimide resin film may be prepared by performing an imidation reaction (Imidazation) for 1 to 12 hours while doing so.

상기 코팅방법은 당 업계에 알려진 통상적인 방법을 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어 스핀코팅(Spin coating), 딥 코팅(Dip coating), 용매 캐스팅(Solvent casting), 슬롯다이 코팅(Slot die coating) 및 스프레이 코팅(Sparay coating) 등을 사용할 수 있다.As the coating method, conventional methods known in the art may be used without limitation, and examples thereof include spin coating, dip coating, solvent casting, and slot die coating. and spray coating.

상기 투명 폴리이미드 수지 필름의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 수백 nm에서 수십 ㎛가 되도록 전술한 폴리아믹산 조성물을 1회 이상 코팅하여 조절할 수 있다.The thickness of the transparent polyimide resin film is not particularly limited, but may be adjusted by coating the above-described polyamic acid composition one or more times to have a thickness of several hundred nm to several tens of μm.

이와 같은 투명 폴리이미드 수지 필름은 다양한 분야에 사용될 수 있으며, 특히, 고투명성 및 내열성이 요구되는 유기 EL 소자(OLED)용 디스플레이, 액정 소자용 디스플레이, TFT 기판, 플렉서블 인쇄회로기판, 플렉서블(Flexible) OLED 면조명 기판, 전자 종이용 기판소재와 같은 Flexible 디스플레이용 기판 및 보호막으로 활용될 수 있다.Such a transparent polyimide resin film can be used in various fields, in particular, displays for organic EL devices (OLED), displays for liquid crystal devices, TFT substrates, flexible printed circuit boards, and flexible substrates requiring high transparency and heat resistance. It can be used as a substrate and protective film for flexible displays such as OLED surface lighting substrates and substrate materials for electronic paper.

이하, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의거하여 더욱 상세히 설명하나, 하기 실시예 및 비교예에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited by the following Examples and Comparative Examples.

[실시예 1][Example 1]

1-1. 1-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

1500 ml 3구 둥근바닥 플라스크에 N,N-디메틸아세타아미드(DMAc) 640.016g을 채운 후, 플라스크의 온도를 50℃로 승온시켰다. 이후, 플라스크에 2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐-4,4'-디아민(TFMB) 85.0g을 첨가하고, 60분 후 2,2'-디메틸비페닐-4,4'-디아민(m-Tol) 1.743g을 첨가하였다. 이를 1시간 동안 교반하여 TFMB, m-Tol을 완전히 용해시켰다. 이후, 플라스크에 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실릭 디안하이드라이드(CBDA) 45.615g 및 5,5'-(퍼플르오로프로판-2,2-디일)디이소벤조퓨란-1,3-디온(6FDA) 18.235g을 각각 순차적으로 첨가하여 용해시켰다. 이때, 고형분은 15%였으며, 이후 5.5시간 동안 교반하여 반응시켰다. 단량체들 간의 반응이 완료된 것을 점도의 증가로 확인한 후, 4-터트-부틸피리딘 37g을 서서히 첨가하여 4.5시간 교반하였다. 이후 자연 냉각하여 폴리아믹산 용액(25 ℃에서의 용액점도: 85000 CPs)을 얻었다.After filling 640.016 g of N,N-dimethylacetamide (DMAc) into a 1500 ml three-necked round bottom flask, the temperature of the flask was raised to 50°C. Thereafter, 85.0 g of 2,2'-bis(trifluoromethyl)biphenyl-4,4'-diamine (TFMB) was added to the flask, and after 60 minutes, 2,2'-dimethylbiphenyl-4,4' - Added 1.743 g of diamine (m-Tol). It was stirred for 1 hour to completely dissolve TFMB and m-Tol. Then, 45.615 g of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (CBDA) and 5,5'-(perfluoropropane-2,2-diyl)diisobenzofuran-1 were added to the flask. 18.235 g of ,3-dione (6FDA) was sequentially added to dissolve each. At this time, the solid content was 15%, and then reacted by stirring for 5.5 hours. After confirming that the reaction between the monomers was completed by increasing the viscosity, 37 g of 4-tert-butylpyridine was gradually added and stirred for 4.5 hours. Then, it was naturally cooled to obtain a polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs).

1-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조1-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-1에서 제조된 폴리아믹산 용액을 LCD용 유리판에 바코터(Bar Coater)를 이용하여 코팅한 후 질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 280℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응(Imidazation)을 진행하였다. 그 결과, 막 두께가 52㎛인 투명 폴리이미드 수지 필름(이미드화율: 85% 이상)을 제조하였다. 이후 유리판으로부터 필름을 분리하여 투명 폴리이미드 수지 필름을 취하였다.The polyamic acid solution prepared in 1-1 of Example 1 was coated on a glass plate for LCD using a bar coater, and then in a nitrogen atmosphere convection oven at 80 ° C for 30 minutes, at 150 ° C for 30 minutes, at 200 ° C 1 hour at 280 ° C. for 1 hour, while gradually increasing the temperature in stages, drying and imidation were performed. As a result, a transparent polyimide resin film (imidation rate: 85% or more) having a film thickness of 52 μm was produced. Then, the film was separated from the glass plate to obtain a transparent polyimide resin film.

[실시예 2][Example 2]

2-1. 2-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 85000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1.

2-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조2-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 320℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 320 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 3][Example 3]

3-1. 3-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 85000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1.

1-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조1-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 350℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 350 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 4][Example 4]

4-1. 4-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로 [2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 79000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 79000 CPs) in the same manner as in 1-1 of Example 1, except that 4-diazabicyclo [2.2.2] octane was used instead of 4-tert-butylpyridine. ) was prepared.

4-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조4-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 5][Example 5]

5-1. 5-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-에틸피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 82000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 82000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1, except that 4-ethylpyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

5-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조5-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 6][Example 6]

6-1. 6-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 2-메틸피페라진을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 81000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 81000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1, except that 2-methylpiperazine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

6-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조6-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 7][Example 7]

7-1. 7-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:4,4-ODA:CBDA:6FDA를 9:1:9:1의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 122000 CPs)을 제조하였다.Polyamic acid solution (solution at 25 ° C. Viscosity: 122000 CPs).

7-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조7-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 8][Example 8]

8-1. 8-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 7의 7-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 118000 CPs)을 제조하였다.Except for using 4-diazabicyclo[2.2.2]octane instead of 4-tert-butylpyridine, a polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 118000 CPs) was prepared in the same manner as 7-1 of Example 7. ) was prepared.

8-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조8-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 9][Example 9]

9-1. 9-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 7의 7-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 119000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 119000 CPs) was prepared in the same manner as 7-1 of Example 7, except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

9-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조9-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 7의 7-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 7-2 of Example 7.

[실시예 10][Example 10]

10-1. 10-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:FODA:CHDA:6FDA를 9:1:8:2의 몰비율로 사용하고, 4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 47000 CPs)을 제조하였다.TFMB: FODA: CHDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 8: 2, except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine, 1-1 of Example 1 and A polyamic acid solution (solution viscosity at 25°C: 47000 CPs) was prepared in the same manner.

10-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조10-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 11][Example 11]

11-1. 11-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 47000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 47000 CPs) was prepared in the same manner as in Example 1 1-1.

11-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조11-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 320℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 320 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 12][Example 12]

12-1. 12-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 47000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 47000 CPs) was prepared in the same manner as in Example 1 1-1.

12-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조12-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 350℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 350 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 13][Example 13]

13-1. 13-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:FODA:s-BPDA:6FDA를 9:1:9:1의 몰비율로 사용하고, 4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 112000 CPs)을 제조하였다.TFMB: FODA: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 9: 1: 9: 1, and 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine, 1- A polyamic acid solution (solution viscosity at 25°C: 112000 CPs) was prepared in the same manner as in 1.

13-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조13-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 14][Example 14]

14-1. 14-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-메톡시피리딘 대신 4-터트-부틸피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 13의 13-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 113000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 113000 CPs) was prepared in the same manner as 13-1 of Example 13, except that 4-tert-butylpyridine was used instead of 4-methoxypyridine.

14-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조14-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 15][Example 15]

15-1. 15-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-메톡시피리딘 대신 3-피콜린을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 13의 13-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 110000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 110000 CPs) was prepared in the same manner as in 13-1 of Example 13, except that 3-picoline was used instead of 4-methoxypyridine.

15-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조15-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 16][Example 16]

16-1. 16-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-메톡시피리딘 대신 2,3-루티딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 13의 13-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 112000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 112000 CPs) was prepared in the same manner as in 13-1 of Example 13, except that 2,3-lutidine was used instead of 4-methoxypyridine.

16-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조16-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 17][Example 17]

17-1. 17-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-메톡시피리딘 대신 2,3,5-콜리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 13의 13-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 119000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 119000 CPs) was prepared in the same manner as in 13-1 of Example 13, except that 2,3,5-collidine was used instead of 4-methoxypyridine. .

17-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조17-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 18][Example 18]

18-1. 18-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:FAPB:a-BPDA:ODPA를 9:1:7:3의 몰비율로 사용하고, 4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 52000 CPs)을 제조하였다.Except that TFMB:FAPB:a-BPDA:ODPA was used in a molar ratio of 9:1:7:3 and 4-diazabicyclo[2.2.2]octane was used instead of 4-tert-butylpyridine, the above A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 52000 CPs) was prepared in the same manner as in Example 1 1-1.

18-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조18-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 19][Example 19]

19-1. 19-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

상기 실시예 18의 18-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 52000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 52000 CPs) was prepared in the same manner as in 18-1 of Example 18.

19-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조19-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 320℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 320 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 20][Example 20]

20-1. 20-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

상기 실시예 18의 18-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 52000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 52000 CPs) was prepared in the same manner as in 18-1 of Example 18.

20-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조20-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 350℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 350 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 21][Example 21]

21-1. 21-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:DABA:CBDA:DSDA를 8:2:8:2의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 83000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 83000 CPs) in the same manner as 1-1 of Example 1, except that TFMB: DABA: CBDA: DSDA was used in a molar ratio of 8: 2: 8: 2 ) was prepared.

21-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조21-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 22][Example 22]

22-1. 22-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 2,3,5-콜리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 21의 21-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 81000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 81000 CPs) was prepared in the same manner as 21-1 of Example 21, except that 2,3,5-collidine was used instead of 4-tert-butylpyridine. did

22-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조22-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 23][Example 23]

23-1. 23-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 21의 21-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 82000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 82000 CPs) was prepared in the same manner as 21-1 of Example 21, except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

23-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조23-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 24][Example 24]

24-1. 24-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:4,4-DDS:s-BPDA:6FDA를 9:1:7:3의 몰비율로 사용하고, 4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 61000 CPs)을 제조하였다.Except that TFMB:4,4-DDS:s-BPDA:6FDA was used in a molar ratio of 9:1:7:3 and 4-diazabicyclo[2.2.2]octane was used instead of 4-tert-butylpyridine. Then, a polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 61000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1.

24-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조24-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 25][Example 25]

25-1. 25-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

상기 실시예 24의 24-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 61000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 61000 CPs) was prepared in the same manner as in 24-1 of Example 24.

25-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조25-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 350℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 350 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1.

[실시예 26][Example 26]

26-1. 26-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:4,4'-(퍼플르오로프로판-2,2'-디일)디벤젠아민:CBDA:6FDA를 9:1:7:3의 몰비율로 사용하고, 4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 47000 CPs)을 제조하였다.TFMB:4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl)dibenzenamine:CBDA:6FDA was used in a molar ratio of 9:1:7:3, and 4-tert-butylpyridine was replaced by 4 -Except for using methoxypyridine, a polyamic acid solution (solution viscosity at 25°C: 47000 CPs) was prepared in the same manner as in Example 1 1-1.

26-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조26-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 27][Example 27]

27-1. 27-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:FODA:s-BPDA:DSDA를 9:1:9:1의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 107000 CPs)을 제조하였다.Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 107000 CPs) were prepared.

27-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조27-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 28][Example 28]

28-1. 28-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:FODA:s-BPDA:BTDA를 9:1:9:1의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 89000 CPs)을 제조하였다.Polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C.: 89000 CPs) were prepared.

28-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조28-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 29][Example 29]

29-1. 29-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 28의 28-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 85000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 85000 CPs) was prepared in the same manner as 28-1 of Example 28, except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

29-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조29-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 30][Example 30]

30-1. 30-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 28의 28-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 87000 CPs)을 제조하였다.Except for using 4-diazabicyclo[2.2.2]octane instead of 4-tert-butylpyridine, a polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 87000 CPs) in the same manner as in 28-1 of Example 28. ) was prepared.

30-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조30-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 31][Example 31]

31-1. 31-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB : 4,4-DDS : s-BPDA:6FDA를 8:2:7:3의 몰비율로 사용하고, 4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 46000 CPs)을 제조하였다.TFMB: 4,4-DDS: s-BPDA: 6FDA was used in a molar ratio of 8:2:7:3, except that 4-diazabicyclo[2.2.2]octane was used instead of 4-tert-butylpyridine. Then, a polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 46000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1.

31-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조31-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 32][Example 32]

32-1. 32-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB : 4,4-DDS : 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드 : 6FDA를 8:2:7:3의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 37000 CPs)을 제조하였다.TFMB: 4,4-DDS: bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride: 6FDA except for using a molar ratio of 8:2:7:3 A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 37000 CPs) was prepared in the same manner as in Example 1 1-1.

32-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조32-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 33][Example 33]

33-1. 33-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 2,3,5-콜리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 32의 32-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 35000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 35000 CPs) was prepared in the same manner as 32-1 of Example 32, except that 2,3,5-collidine was used instead of 4-tert-butylpyridine. did

33-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조33-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 34][Example 34]

34-1. 34-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 32의 32-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 35000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 35000 CPs) was prepared in the same manner as 32-1 of Example 32, except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

34-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조34-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 35][Example 35]

35-1. 35-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB : FODA : 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드 : 6FDA를 8:2:7:3의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 41000 CPs)을 제조하였다.TFMB:FODA:Bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride:Except for using 6FDA in a molar ratio of 8:2:7:3 A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 41000 CPs) was prepared in the same manner as in Example 1 1-1.

35-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조35-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 36][Example 36]

36-1. 36-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 35의 35-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 41000 CPs)을 제조하였다.Except for using 4-diazabicyclo[2.2.2]octane instead of 4-tert-butylpyridine, a polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 41000 CPs) in the same manner as 35-1 of Example 35. ) was prepared.

36-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조36-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[실시예 37][Example 37]

37-1. 37-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 4-메톡시피리딘을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 35의 35-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 40000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 40000 CPs) was prepared in the same manner as in 35-1 of Example 35, except that 4-methoxypyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

37-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조37-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다.It proceeded in the same way as 1-2 of Example 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

1-1. 1-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

4-터트-부틸피리딘 대신 피리딘 19.987g을 사용한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 82000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 82000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Example 1, except that 19.987 g of pyridine was used instead of 4-tert-butylpyridine.

1-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조1-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였으나, 이후 유리판으로부터 필름의 분리를 시도하였으나 형성된 막 전체가 조각나서 필름을 얻지 못하였다.In the same manner as in 1-2 of Example 1, the separation of the film from the glass plate was attempted, but the film was not obtained because the entire formed film was fragmented.

[비교예 2][Comparative Example 2]

2-1. 2-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

피리딘 대신 이소퀴놀린을 사용한 것을 제외하고는, 상기 비교예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 80000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 80000 CPs) was prepared in the same manner as in 1-1 of Comparative Example 1, except that isoquinoline was used instead of pyridine.

2-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조2-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

비교예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였으나, 이소퀴놀린의 잔량이 너무 많아 올바른 필름을 얻지 못하였다It was carried out in the same way as 1-2 of Comparative Example 1, but the remaining amount of isoquinoline was too large, so the correct film could not be obtained.

[비교예 3][Comparative Example 3]

3-1. 3-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

TFMB:BTDA:6FDA를 10:7:3의 몰비율로 사용한 것을 제외하고는, 상기 비교예 1의 1-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 73000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25 ° C: 73000 CPs) was prepared in the same manner as 1-1 of Comparative Example 1, except that TFMB: BTDA: 6FDA was used in a molar ratio of 10: 7: 3. .

3-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조3-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였으나, 이후 유리판으로부터 필름의 분리를 시도하였으나 형성된 막 전체가 조각나서 필름을 얻지 못하였다.In the same manner as in 1-2 of Example 1, the separation of the film from the glass plate was attempted, but the film was not obtained because the entire formed film was fragmented.

[비교예 4][Comparative Example 4]

4-1. 4-1. 폴리아믹산polyamic acid 용액의 제조 preparation of solution

실시예 35의 35-1과 동일한 방법으로 폴리아믹산 용액(25℃에서의 용액점도: 73000 CPs)을 제조하였다.A polyamic acid solution (solution viscosity at 25° C.: 73000 CPs) was prepared in the same manner as in 35-1 of Example 35.

4-2. 투명 폴리이미드 수지 필름의 제조4-2. Manufacturing of transparent polyimide resin film

질소 분위기의 컨벡션 오븐에서 80℃에서 30분, 150℃에서 30분, 200℃에서 1시간, 350℃에서 1시간으로 단계적으로 서서히 승온시키면서 건조하고 이미드화반응을 진행한 것을 제외하고는, 실시예 1의 1-2와 동일한 방법으로 진행하였다. 이후 유리판으로부터 폴리이미드 필름을 분리하여 취하였다.Example, except that the imidation reaction was carried out while gradually increasing the temperature step by step at 80 ° C. for 30 minutes, 150 ° C. for 30 minutes, 200 ° C. for 1 hour, and 350 ° C. for 1 hour in a convection oven under a nitrogen atmosphere. It proceeded in the same way as 1-2 of 1. Then, the polyimide film was separated from the glass plate and taken.

상기 실시예 1 내지 37, 비교예 1 내지 3에서 사용된 디아민 혼합물, 디안하이드라이드 혼합물 및 촉매의 조성을 하기 표 1에 나타내었다.Compositions of the diamine mixture, the dianhydride mixture, and the catalyst used in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Table 1 below.

조성 (몰비)composition (molar ratio) 경화
온도
Hardening
temperature
디아민diamine 디안하이드라이드dianhydride 촉매catalyst 실시예 1Example 1 TFDB
-9-
TFDB
-9-
m-Tol
-1-
m-Tol
-One-
CBDA
-7-
CBDA
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine 280280
실시예 2Example 2 320320 실시예 3Example 3 350350 실시예 4Example 4 4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
280280
실시예 5* Example 5 * 4-에틸피리딘4-Ethylpyridine 실시예 6Example 6 2-메틸피페라진2-Methylpiperazine 실시예 7Example 7 TFDB
-9-
TFDB
-9-
4,4-ODA
-1-
4,4-ODA
-One-
CBDA
-9-
CBDA
-9-
6FDA
-1-
6FDA
-One-
4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine 280280
실시예 8Example 8 4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
실시예 9Example 9 4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 실시예 10Example 10 TFDB
-9-
TFDB
-9-
FODA
-1-
FODA
-One-
CHDA
-8-
CHDA
-8-
6FDA
-2-
6FDA
-2-
4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 280280
실시예 11Example 11 320320 실시예 12Example 12 350350 실시예 13Example 13 TFDB
-9-
TFDB
-9-
FODA
-1-
FODA
-One-
S-BPDA
-9-
S-BPDA
-9-
6FDA
-1-
6FDA
-One-
280280
실시예 14Example 14 4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine 280280 실시예 15* Example 15 * 3-피콜린3-picoline 실시예 16* Example 16 * 2,3-루티딘2,3-lutidine 실시예 17Example 17 2,3,5-콜리딘2,3,5-Collidine 실시예 18Example 18 TFDB
-9-
TFDB
-9-
FAPB
-1-
FAPB
-One-
a-BPDA
-7-
a-BPDA
-7-
ODPA
-3-
ODPA
-3-
4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
280280
실시예 19Example 19 320320 실시예 20* Example 20 * 350350 실시예 21Example 21 TFDB
-8-
TFDB
-8-
DABA
-2-
DABA
-2-
CBDA
-8-
CBDA
-8-
DSDA
-2-
DSDA
-2-
4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine 280280
실시예 22Example 22 2,3,5-콜리딘2,3,5-Collidine 실시예 23Example 23 4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 실시예 24Example 24 TFDB
-9-
TFDB
-9-
4,4-DDS
-1-
4,4-DDS
-One-
S-BPDA
-7-
S-BPDA
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
280280
실시예 25* Example 25 * 350350 실시예 26Example 26 TFDB
-9-
TFDB
-9-
4,4'-(퍼플르오로프로판-2,2'-디일)디벤젠아민
-1-
4,4'-(perfluoropropane-2,2'-diyl)dibenzenamine
-One-
CBDA
-7-
CBDA
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 280280
실시예 27Example 27 TFDB
-9-
TFDB
-9-
FODA
-1-
FODA
-One-
S-BPDA
-9-
S-BPDA
-9-
DSDA
-1-
DSDA
-One-
4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine
실시예 28Example 28 TFDB
-9-
TFDB
-9-
FODA
-1-
FODA
-One-
S-BPDA
-9-
S-BPDA
-9-
BTDA
-1-
BTDA
-One-
실시예 29Example 29 4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 실시예 30* Example 30 * 4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
실시예 31Example 31 TFDB
-8-
TFDB
-8-
4,4-DDS
-2-
4,4-DDS
-2-
S-BPDA
-7-
S-BPDA
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
280280
실시예 32Example 32 TFDB
-8-
TFDB
-8-
4,4-DDS
-2-
4,4-DDS
-2-
비시클로[2.2.1]헵탄-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드
-7-
Bicyclo[2.2.1]heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine
실시예 33Example 33 2,3,5-콜리딘2,3,5-Collidine 실시예 34Example 34 4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 실시예 35Example 35 TFDB
-9-
TFDB
-9-
FODA
-1-
FODA
-One-
비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭 디안하이드라이드
-7-
Bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
4-터트-부틸피리딘4-tert-butylpyridine 280280
실시예 36Example 36 4-디아자비시클로
[2.2.2]옥탄
4-diazabicyclo
[2.2.2] Octane
실시예 37Example 37 4-메톡시피리딘4-methoxypyridine 비교예 1Comparative Example 1 TFDB
-9-
TFDB
-9-
m-Tol
-1-
m-Tol
-One-
CBDA
-7-
CBDA
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
피리딘pyridine 280280
비교예 2Comparative Example 2 이소퀴놀린isoquinoline 비교예 3Comparative Example 3 TFDB
-10-
TFDB
-10-
-- BTDA
-7-
BTDA
-7-
6FDA
-3-
6FDA
-3-
피리딘pyridine 280280
비교예 4* Comparative Example 4 * 350350

*: 부분적 손상(brittle)*: partial damage (brittle)

[실험예 1] 투명 폴리이미드 수지 필름의 물성 평가[Experimental Example 1] Evaluation of physical properties of transparent polyimide resin film

상기 실시예 1 내지 37, 비교예 1 내지 4에서 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름의 물성을 하기와 같은 방법으로 평가하였고, 그 결과를 표 2에 나타내었다. The physical properties of the transparent polyimide resin films prepared in Examples 1 to 37 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated in the following manner, and the results are shown in Table 2.

(1) 광투과도(T%) 측정(1) Measurement of light transmittance (T%)

550 nm 파장에서 UV-Vis NIR Spectrophotometer (Shimadzu, 모델명: UV-3150)를 이용하여 ASTM E313-73의 규격인 C광원과 시야각 2°에서 측정하였다. It was measured using a UV-Vis NIR Spectrophotometer (Shimadzu, model name: UV-3150) at a wavelength of 550 nm at a C light source and a viewing angle of 2°, which is the standard of ASTM E313-73.

(2) 황색도(Yellow index, YI) 측정(2) Yellow index (YI) measurement

분광측색계(Konica Minolta, 모델명: CM-3700d)를 이용하여 550 nm에서의 황색도를 ASTM E313 규격에 따라 측정하였다.Yellowness at 550 nm was measured according to the ASTM E313 standard using a spectrophotometer (Konica Minolta, model name: CM-3700d).

(3) 기계적 특성 측정(3) Measurement of mechanical properties

UTM(Instron, 모델명: 5942)을 이용하여 ISO 527-3 규격에 따라 인장강도(Strength, MPa) 및 탄성율(Modulus, GPa)을 측정하였다.Tensile strength (Strength, MPa) and elastic modulus (Modulus, GPa) were measured according to ISO 527-3 standard using UTM (Instron, model name: 5942).

특성characteristic 광투과도
%T
light transmittance
%T
황색도
Y.I
yellowness
YI
헤이즈haze 탄성율
GPa
modulus of elasticity
GPa
인장강도
MPa
The tensile strength
MPa
실시예 1Example 1 89.889.8 1.71.7 0.40.4 5.85.8 176176 실시예 2Example 2 89.189.1 2.62.6 0.50.5 6.06.0 184184 실시예 3Example 3 88.288.2 3.13.1 0.70.7 6.06.0 191191 실시예 4Example 4 88.588.5 2.12.1 0.40.4 5.65.6 167167 실시예 5* Example 5 * 88.088.0 2.52.5 0.50.5 5.55.5 170170 실시예 6Example 6 88.488.4 2.92.9 0.70.7 5.75.7 166166 실시예 7Example 7 88.188.1 2.32.3 0.70.7 5.05.0 155155 실시예 8Example 8 86.586.5 4.84.8 1.01.0 5.15.1 160160 실시예 9Example 9 88.588.5 2.72.7 0.60.6 5.55.5 163163 실시예 10Example 10 89.189.1 2.32.3 0.40.4 5.25.2 151151 실시예 11Example 11 88.588.5 3.63.6 0.80.8 5.15.1 152152 실시예 12Example 12 88.188.1 4.14.1 0.90.9 5.25.2 161161 실시예 13Example 13 89.389.3 3.23.2 0.80.8 5.45.4 153153 실시예 14Example 14 89.589.5 2.12.1 0.50.5 5.45.4 156156 실시예 15* Example 15 * 88.388.3 3.93.9 0.80.8 4.94.9 150150 실시예 16* Example 16 * 88.288.2 4.64.6 1.01.0 5.25.2 153153 실시예 17Example 17 88.388.3 3.83.8 0.80.8 5.15.1 149149 실시예 18Example 18 88.788.7 3.73.7 1.01.0 3.73.7 127127 실시예 19Example 19 86.286.2 4.54.5 1.01.0 3.53.5 128128 실시예 20* Example 20 * 88.088.0 4.94.9 1.01.0 3.03.0 123123 실시예 21Example 21 88.888.8 2.22.2 0.60.6 5.65.6 171171 실시예 22Example 22 88.488.4 2.72.7 0.90.9 5.15.1 166166 실시예 23Example 23 88.188.1 2.42.4 0.70.7 5.35.3 168168 실시예 24Example 24 88.388.3 2.72.7 0.90.9 5.15.1 156156 실시예 25* Example 25 * 88.188.1 4.84.8 1.01.0 4.94.9 167167 실시예 26Example 26 88.588.5 2.12.1 0.70.7 4.54.5 139139 실시예 27Example 27 88.288.2 2.32.3 0.70.7 4.34.3 141141 실시예 28Example 28 88.388.3 2.42.4 0.70.7 5.15.1 146146 실시예 29Example 29 88.188.1 3.13.1 0.70.7 4.34.3 141141 실시예 30* Example 30 * 88.288.2 4.14.1 0.90.9 4.34.3 141141 실시예 31Example 31 88.488.4 2.62.6 0.80.8 3.13.1 136136 실시예 32Example 32 88.288.2 2.72.7 0.90.9 4.14.1 139139 실시예 33Example 33 88.188.1 3.13.1 0.70.7 3.93.9 141141 실시예 34Example 34 88.388.3 2.62.6 0.80.8 4.04.0 140140 실시예 35Example 35 89.389.3 1.41.4 0.40.4 4.14.1 139139 실시예 36Example 36 88.388.3 3.73.7 0.80.8 3.93.9 142142 실시예 37Example 37 88.288.2 2.72.7 0.70.7 4.04.0 143143 비교예 1Comparative Example 1 손상damaged 비교예 2Comparative Example 2 촉매 제거 불가Catalyst cannot be removed 비교예 3Comparative Example 3 손상damaged 비교예 4* Comparative Example 4 * 83.583.5 11.011.0 77 4.54.5 150150

상기 표 1 및 표 2를 참조하면, 제조한 투명 폴리이미드 수지 필름의 조성에 따른 특성 변화를 알 수 있다.Referring to Table 1 and Table 2, it can be seen that the characteristics of the prepared transparent polyimide resin film according to the composition.

먼저, 실시예 1 내지 실시예 3의 결과를 보면, 동일 조성, 동일 촉매를 사용하는 한편 각각 다른 경화온도를 적용한 경우에 경화온도가 높아질수록 광 특성은 나빠지며 기계적 특성은 큰 차이가 없음을 알 수 있다. 즉, 경화온도가 280℃인 이미드화 공정에서 우수한 특성을 갖는 투명 폴리이미드 수지 필름을 얻을 수 있음을 알 수 있다.First, looking at the results of Examples 1 to 3, when the same composition and the same catalyst were used while different curing temperatures were applied, the higher the curing temperature, the worse the optical properties and the mechanical properties showed no significant difference. can That is, it can be seen that a transparent polyimide resin film having excellent properties can be obtained in the imidization process at a curing temperature of 280 °C.

또한, 실시예 1과 실시예 4 내지 6의 결과를 보면, 동일 경화온도(280℃)에서 다른 비점의 촉매를 적용하는 경우에 유사한 특성을 갖는 투명 폴리이미드 수지 필름을 얻을 수 있음을 알 수 있다. 다만, 실시예 5의 경우는 얻어진 필름이 부분적으로 손상됨을 확인할 수 있었다.In addition, looking at the results of Example 1 and Examples 4 to 6, it can be seen that transparent polyimide resin films having similar properties can be obtained when catalysts of different boiling points are applied at the same curing temperature (280 ° C). . However, in the case of Example 5, it was confirmed that the obtained film was partially damaged.

다음으로, 실시예 7 내지 실시예 37의 결과를 보면, 140 내지 200℃ 사이의 비점을 갖는 다양한 염기성 촉매를 사용하는 경우에 경화온도가 300℃ 이하로 비교적 낮은 이미드화 공정에서도 우수한 특성을 갖는 투명 폴리이미드 수지 필름을 얻을 수 있음을 알 수 있다. 즉, 제작 시 고온공정을 개선할 수 있음을 확인하였다.Next, looking at the results of Examples 7 to 37, in the case of using various basic catalysts having a boiling point between 140 and 200 ° C., the curing temperature is 300 ° C. or less, transparent with excellent properties even in the imidation process. It can be seen that a polyimide resin film can be obtained. That is, it was confirmed that the high-temperature process during manufacturing can be improved.

전술한 결과들을 통해, 조성, 경화온도, 촉매 종류의 조합으로 광학적 특성 및 기계적 특성 조절이 가능함을 확인할 수 있었다.Through the above results, it was confirmed that optical properties and mechanical properties can be controlled by a combination of composition, curing temperature, and type of catalyst.

한편, 비교예 1 및 비교예 2의 결과를 보면, 동일 조성에서 115℃의 낮은 비점을 갖는 피리딘을 촉매로 사용한 경우에 필름을 얻을 수 없었으며(비교예 1), 240℃의 비점을 갖는 이소퀴놀린을 촉매로 사용한 경우에 필름을 얻을 수는 있으나 촉매의 잔량이 많음을 확인할 수 있었다. 이러한 문제는 대량으로 양산한 이후 디바이스에 적용 할 경우 큰 문제를 야기할 수 있음이 자명하다On the other hand, looking at the results of Comparative Example 1 and Comparative Example 2, when pyridine having a low boiling point of 115 ° C. was used as a catalyst in the same composition, a film could not be obtained (Comparative Example 1), and an iso having a boiling point of 240 ° C. When quinoline was used as a catalyst, a film could be obtained, but it was confirmed that the residual amount of the catalyst was large. It is obvious that these problems can cause big problems when applied to devices after mass production.

또한, 비교예 3 내지 비교예 4의 결과를 보면, 115℃의 비점을 갖는 촉매를 사용하는 경우에 280℃의 낮은 경화온도에서는 필름을 얻을 수 없었으며(비교예 3), 350℃의 경화온도에서는 필름을 얻을 수는 있었지만 일부 손상됨을 확인할 수 있었다(비교예 4).In addition, looking at the results of Comparative Examples 3 to 4, when using a catalyst having a boiling point of 115 ° C, a film could not be obtained at a low curing temperature of 280 ° C (Comparative Example 3), and a curing temperature of 350 ° C Although it was possible to obtain a film, it was confirmed that it was partially damaged (Comparative Example 4).

상기 결과들을 분석한 결과, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 실시예 37의 투명 폴리이미드 수지 필름은 우수한 광학 특성을 가질 뿐만 아니라, 인장강도 및 탄성률 상승 등의 우수한 기계적 특성을 가진다는 것을 알 수 있었다.As a result of analyzing the above results, it was found that the transparent polyimide resin films of Examples 1 to 37 according to the present invention not only had excellent optical properties, but also had excellent mechanical properties such as increased tensile strength and elastic modulus. .

구체적으로, 실시예 1 내지 37의 투명 폴리이미드 수지 필름은 투과도 88% 이상, 황색도 값 5.0 이하, 탄성률이 3 내지 6 GPa, 강도 120 내지 160 MPa으로, 비교예 1 내지 4의 투명 폴리이미드 수지 필름에 비해 광 투과도가 높고 황색도가 낮으면서 기계적 특성이 우수하여 플렉서블 디스플레이 소재로 적용 가능한 조건에 충족된다는 것을 알 수 있었다,Specifically, the transparent polyimide resin films of Examples 1 to 37 have a transmittance of 88% or more, a yellowness value of 5.0 or less, an elastic modulus of 3 to 6 GPa, and a strength of 120 to 160 MPa, and the transparent polyimide resins of Comparative Examples 1 to 4 It was found that the light transmittance was higher than that of the film, the yellowness was low, and the mechanical properties were excellent, satisfying the applicable conditions for flexible display materials.

이와 같이, 본 발명에 따른 폴리아믹산 용액을 이용하여 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름은 제작 시 고온공정을 개선함과 동시에 광 투과도가 높고, 황색도가 낮으며, 기계적 특성이 우수하기 때문에 플렉서블 디스플레이 소재나 기판 또는 보호막으로 적용될 수 있음을 확인할 수 있었다.As described above, the transparent polyimide resin film prepared using the polyamic acid solution according to the present invention improves the high-temperature process during manufacturing and at the same time has high light transmittance, low yellowness, and excellent mechanical properties, making it a flexible display material. It was confirmed that it can be applied as a substrate or a protective film.

Claims (12)

(a) 하기 화학식 1로 표시되는 디아민과 하기 화학식 2로 표시되는 디아민을 포함하는 디아민 혼합물;
(b) 하기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드와 하기 화학식 4로 표시되는 디안하이드라이드를 포함하는 디안하이드라이드 혼합물;
(c) 140 내지 200℃ 범위의 비점을 갖는 염기성 촉매; 및
(d) 유기 용매
를 포함하고,
상기 염기성 촉매는 4-에틸피리딘, 2-메틸피페라진, 2,6-디메틸피페라진, 4-터트-부틸피리딘, 2-프로필피리딘, 4-프로필피리딘, 2,3,5-콜리딘, 2,5-루티딘, 2,6-루티딘, 2,3-루티딘, 4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 3-에틸피리딘, 2,3-디메틸피라진, 2,5-디메틸피라진으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 폴리아믹산 용액:
[화학식 1]
Figure 112022068024783-pat00011

(상기 화학식 1에서,
A는 단일결합, C(=O), C(=O)NH, 및 C6~C20의 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되며,
X1 및 X2는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,
다만, A가 단일결합인 경우 X1 및 X2 중 적어도 하나 이상은 할로겐 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기이며,
상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있으며, m은 0 내지 2의 정수임)
[화학식 2]
Figure 112022068024783-pat00012

(상기 화학식 2에서,
B는 C1~C6 알킬기, 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기, O, O-B-O, S, SO2, 및 C6~C20의 아릴렌기로 이루어진 군에서 선택되며,
X3 및 X4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되며,
상기 C6~C20의 아릴렌기는 할로겐, C1~C6 알킬기 또는 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있음)
[화학식 3]
Figure 112022068024783-pat00013

(상기 화학식 3에서,
C는 C6~C20의 아릴렌기, 연결기로 연결된 C6~C20의 아릴렌기, 및 C4 내지 C40의 지환족기로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 C6~C20의 아릴렌기는 C1~C6 알킬기로 치환될 수 있으며,
상기 연결기는 -C(=O)-, -C(=O)NH- 및 -S(=O)2로 이루어진 군에서 1종 이상 선택될 수 있음)
[화학식 4]
Figure 112022068024783-pat00014

(상기 화학식 4에서,
D는 C1~C6 알킬기, 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6 알킬기, O, S 및 SO2로 이루어진 군에서 선택되며,
X5 및 X6은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1~C6의 알킬기, 및 하나 이상의 수소가 할로겐 원자로 치환된 C1~C6의 알킬기로 이루어진 군에서 선택되고,
n은 1 내지 3의 정수임).
(a) a diamine mixture including diamine represented by Formula 1 and diamine represented by Formula 2 below;
(b) a dianhydride mixture comprising a dianhydride represented by the following Chemical Formula 3 and a dianhydride represented by the following Chemical Formula 4;
(c) a basic catalyst having a boiling point in the range of 140 to 200°C; and
(d) organic solvents
including,
The basic catalyst is 4-ethylpyridine, 2-methylpiperazine, 2,6-dimethylpiperazine, 4-tert-butylpyridine, 2-propylpyridine, 4-propylpyridine, 2,3,5-collidine, 2 ,5-lutidine, 2,6-lutidine, 2,3-lutidine, 4-diazabicyclo[2.2.2]octane, 3-ethylpyridine, 2,3-dimethylpyrazine, 2,5-dimethylpyrazine At least one selected from the group consisting of, polyamic acid solution:
[Formula 1]
Figure 112022068024783-pat00011

(In Formula 1,
A is selected from the group consisting of a single bond, C(=O), C(=O)NH, and C 6 ~ C 20 arylene groups;
X 1 and X 2 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms,
However, when A is a single bond, at least one of X 1 and X 2 is a halogen or a C 1 to C 6 alkyl group substituted with a halogen atom,
The C 6 ~ C 20 arylene group may be substituted with a halogen or a C 1 ~ C 6 alkyl group substituted with a halogen atom, and m is an integer of 0 to 2)
[Formula 2]
Figure 112022068024783-pat00012

(In Formula 2,
B is selected from the group consisting of C 1 ~ C 6 alkyl groups, C 1 ~ C 6 alkyl groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, O, OBO, S, SO 2 , and C 6 ~ C 20 arylene groups;
X 3 and X 4 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, C 1 ~ C 6 alkyl groups, and C 1 ~ C 6 alkyl groups in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms,
The C 6 ~C 20 arylene group may be substituted with a halogen, a C 1 ~C 6 alkyl group, or a C 1 ~C 6 alkyl group substituted with a halogen atom)
[Formula 3]
Figure 112022068024783-pat00013

(In Formula 3,
C is selected from the group consisting of a C 6 ~ C 20 arylene group, a C 6 ~ C 20 arylene group connected by a linking group, and a C 4 to C 40 alicyclic group;
The C 6 ~ C 20 arylene group may be substituted with a C 1 ~ C 6 alkyl group,
The linking group may be one or more selected from the group consisting of -C(=O)-, -C(=O)NH- and -S(=O) 2 )
[Formula 4]
Figure 112022068024783-pat00014

(In Chemical Formula 4,
D is selected from the group consisting of a C 1 ~ C 6 alkyl group, a C 1 ~ C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms, O, S and SO 2 ;
X 5 and X 6 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a C 1 to C 6 alkyl group, and a C 1 to C 6 alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with halogen atoms;
n is an integer from 1 to 3).
제1항에 있어서,
상기 X1 내지 X6는 각각 독립적으로 F 또는 CF3인 전자흡인성기(EWG)인 폴리아믹산 용액.
According to claim 1,
The X 1 to X 6 are each independently F or CF 3 Electron withdrawing group (EWG) polyamic acid solution.
제1항에 있어서,
상기 A는 하기 화학식으로 표시되는 치환체 군에서 선택되는 폴리아믹산 용액:
Figure 112017128025538-pat00015

상기 치환체에서,
*는 상기 화학식 1에 연결되는 부위를 의미하고,
R1 내지 R3는 서로 동일하거나 또는 상이하며, 각각 독립적으로 수소, F 및 CF3로 이루어진 군에서 선택된다.
According to claim 1,
The A is a polyamic acid solution selected from the group of substituents represented by the following formula:
Figure 112017128025538-pat00015

In the substituent,
* means a site linked to Formula 1,
R 1 to R 3 are the same as or different from each other, and are each independently selected from the group consisting of hydrogen, F and CF 3 .
제1항에 있어서,
상기 C는 하기 화학식으로 표시되는 치환체 군에서 선택되는 폴리아믹산 용액:
Figure 112017128025538-pat00016

상기 치환체에서,
*는 상기 화학식 3에 연결되는 부위를 의미하고,
R4 내지 R6는 서로 동일하거나 또는 상이하며, 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C6의 알킬기에서 선택된다.
According to claim 1,
The C is a polyamic acid solution selected from the group of substituents represented by the following formula:
Figure 112017128025538-pat00016

In the substituent,
* means a site connected to Formula 3,
R 4 to R 6 are the same as or different from each other, and are each independently selected from hydrogen or a C 1 to C 6 alkyl group.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 디아민의 함량은 상기 디아민 혼합물 100 몰%를 기준으로, 50 내지 99.9 몰%이고,
상기 화학식 2로 표시되는 디아민의 함량은 상기 디아민 혼합물 100 몰%를 기준으로, 0.1 내지 50 몰%인 폴리아믹산 용액.
According to claim 1,
The content of the diamine represented by Formula 1 is 50 to 99.9 mol% based on 100 mol% of the diamine mixture,
The content of the diamine represented by Formula 2 is 0.1 to 50 mol% based on 100 mol% of the diamine mixture, the polyamic acid solution.
제1항에 있어서,
상기 화학식 3으로 표시되는 디안하이드라이드의 함량은 상기 디안하이드라이드 혼합물 100몰%를 기준으로, 10 내지 95몰%인 폴리아믹산 용액.
According to claim 1,
The content of the dianhydride represented by Formula 3 is 10 to 95 mol% based on 100 mol% of the dianhydride mixture, the polyamic acid solution.
제1항에 있어서,
상기 (a) 디아민 혼합물과 (b) 디안하이드라이드 혼합물의 함량비는 (a):(b)=1:0.1 ∼ 10의 중량비인 폴리아믹산 용액.
According to claim 1,
The content ratio of (a) diamine mixture and (b) dianhydride mixture is (a): (b) = 1: polyamic acid solution in a weight ratio of 0.1 to 10.
제1항에 있어서,
25 ℃에서의 점도가 1,000 내지 500,000 cps인 폴리아믹산 용액.
According to claim 1,
A polyamic acid solution having a viscosity of 1,000 to 500,000 cps at 25 °C.
제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 제조된 투명 폴리이미드 수지 필름.A transparent polyimide resin film produced by imidizing the polyamic acid solution according to any one of claims 1 to 4 and 6 to 9. 제10항에 있어서,
하기 (ⅰ) 내지 (ⅴ)의 물성 조건을 만족하는 투명 폴리이미드 수지 필름:
(ⅰ) 막 두께 100 ㎛ 이하에서 파장 550 nm의 광투과도가 88% 이상이며,
(ⅱ) ASTM E313 규격에 의한 황색도가 5.0 이하이며,
(ⅲ) 헤이즈가 1.0 이하이며,
(ⅳ) 탄성률이 3 내지 6 GPa 범위이며,
(ⅴ) 인장강도가 120 내지 200 MPa 범위이다.
According to claim 10,
A transparent polyimide resin film satisfying the physical property conditions of the following (i) to (v):
(i) a light transmittance of 88% or more at a wavelength of 550 nm at a film thickness of 100 μm or less;
(ii) Yellowness according to ASTM E313 standard is 5.0 or less,
(iii) has a haze of 1.0 or less;
(iv) an elastic modulus in the range of 3 to 6 GPa;
(v) tensile strength in the range of 120 to 200 MPa;
제10항에 기재된 투명 폴리이미드 수지 필름을 포함하는 투명 기판.A transparent substrate comprising the transparent polyimide resin film according to claim 10.
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