KR102445961B1 - Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad - Google Patents

Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad Download PDF

Info

Publication number
KR102445961B1
KR102445961B1 KR1020220016729A KR20220016729A KR102445961B1 KR 102445961 B1 KR102445961 B1 KR 102445961B1 KR 1020220016729 A KR1020220016729 A KR 1020220016729A KR 20220016729 A KR20220016729 A KR 20220016729A KR 102445961 B1 KR102445961 B1 KR 102445961B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heat
phase change
pad
capping film
mixing
Prior art date
Application number
KR1020220016729A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정인수
정 이
하상백
김태우
Original Assignee
주식회사 에프엔디컴퍼니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에프엔디컴퍼니 filed Critical 주식회사 에프엔디컴퍼니
Priority to KR1020220016729A priority Critical patent/KR102445961B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102445961B1 publication Critical patent/KR102445961B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3737Organic materials with or without a thermoconductive filler
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/10Encapsulated ingredients
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K5/00Heat-transfer, heat-exchange or heat-storage materials, e.g. refrigerants; Materials for the production of heat or cold by chemical reactions other than by combustion
    • C09K5/02Materials undergoing a change of physical state when used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a heat dissipation device comprising a heat absorption pad. According to the present invention, a method of manufacturing a heat dissipation device comprising a heat absorbing pad includes a step of mixing a mixture of liquid silicone rubber and microcapsules; a molding step; a curing step; and a sealing step. Accordingly, the heat dissipation efficiency and durability of an electronic device such as an SSD can be improved.

Description

열흡수 패드를 구비하는 방열장치의 제조방법{Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad}Method of manufacturing a heat dissipation device comprising a heat absorption pad

본 발명은 열흡수 패드를 구비하는 방열장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 액상 실리콘 고무와 마이크로 캡슐의 혼합물을 배합하는 단계, 성형하는 단계, 경화시키는 단계 및 밀봉 단계를 포함하여 열충격 신뢰성, 고온신뢰성 및 방열특성을 제공하는 방열장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a heat dissipation device having a heat absorbing pad, and more particularly, to a thermal shock comprising mixing, molding, curing and sealing a mixture of liquid silicone rubber and microcapsules. It relates to a method of manufacturing a heat dissipation device that provides reliability, high temperature reliability and heat dissipation characteristics.

일반적으로 SSD(Solid State Drive)는 반도체를 이용한 디스크로서 저장매체로 플래시 매모리나 DRAM을 사용함으로써 종래에 물리적으로 구동되어 사용되는 HDD보다 매우 빠르게 읽고 쓰기를 할 수 있으며, 소음이 전혀 발생되지 않으므로 최근에 사용자가 급속도로 확산되고 있는 추세이다.In general, a solid state drive (SSD) is a disk using a semiconductor, and by using flash memory or DRAM as a storage medium, it can read and write much faster than HDDs that are physically driven and used. The trend of users is spreading rapidly.

SSD(solid state drive)는 인쇄 회로 기판(PCB), PCB에 연결된 호스트 인터페이스 커넥터, 상기 PCB에 장착된 플래시 메모리, 컨트롤러(DRIVE IC 칩) 등을 포함한다. SSD는 플래시 매모리나 DRAM과 같은 반도체 칩이 PCB에 실장되어 SSD용 하우징(케이스)에 내장된다. A solid state drive (SSD) includes a printed circuit board (PCB), a host interface connector connected to the PCB, a flash memory mounted on the PCB, a controller (DRIVE IC chip), and the like. In the SSD, a semiconductor chip such as flash memory or DRAM is mounted on a PCB and embedded in a housing (case) for SSD.

SDD는 동작 중에 반도체 칩에서 상당한 양의 열이 발생되는데, 칩의 집적도(용량)이 점차 커짐에 따라 칩에서 발생하는 열도 동반 상승되며, 칩의 열이 높아질 경우 데이터 이송속도 저하로 제품 성능이 저하된다. 이를 방지하기 위해 HDD나 SSD는 열전도성 Pad, 히트 싱크 또는 냉각팬을 통해 열을 제거하고 있다. SDD generates a significant amount of heat from the semiconductor chip during operation. As the chip's density (capacity) increases, the heat generated from the chip also increases. do. To prevent this, the HDD or SSD removes heat through a thermally conductive pad, heat sink, or cooling fan.

한국공개특허 10-2014-0004864호에는 SSD에서 방생되는 열이 방출되도록 열전도성 금속으로 형성된 방열금속판(32)과 열이 방출되는 방출구(33)를 구비하는 방열케이스가 개시되어 있다(도 1 참고). 도 1과 같이, 열전도성 금속을 통해 열을 제거하는 경우 필연적으로 열을 케이스 외부로 방출하여야 하므로 케이스의 온도가 올라가거나, 가열 공기가 방출구로 방출되어 인체에 열이 전달될 수 있다. 이러한 이유로 소비자의 신체에 닿는 전자제품의 경우 접촉되는 부분에 온도제한이 있어(화상방지를 위한 40℃ 온도제한) 칩의 열을 케이스쪽으로 많이 전달할 수 없는 한계가 있었다(결과적으로 방열량에 제한이 있으므로 장치의 효율(데이터 이동속도)을 높이는 데 어려움이 있었다).Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0004864 discloses a heat dissipation case having a heat dissipation metal plate 32 formed of a thermally conductive metal to dissipate heat generated by an SSD and a dissipation hole 33 through which heat is dissipated (FIG. 1). Reference). As shown in FIG. 1 , when heat is removed through a thermally conductive metal, heat must inevitably be radiated to the outside of the case, so that the temperature of the case rises, or the heated air is discharged through the outlet, so that heat can be transferred to the human body. For this reason, in the case of electronic products that touch the consumer's body, there is a temperature limit on the contact part (40℃ temperature limit to prevent burns), so there is a limit that the heat of the chip cannot be transferred much to the case (as a result, there is a limit on the amount of heat dissipation) It was difficult to increase the efficiency (data transfer speed) of the device).

본 발명은 케이스 외측으로 열이 전달되는 막아 케이스의 온도상승을 기존 방식에 비해 대폭 낮출 수 있는 방열 시스템을 제공하는 것이다.The present invention is to provide a heat dissipation system that can significantly lower the temperature rise of the case compared to the conventional method by preventing the heat from being transferred to the outside of the case.

본 발명은 SSD 등 전자기기의 방열 효율과 내구성을 높일 수 있는 방열 장치 및 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a heat dissipation device and method capable of increasing heat dissipation efficiency and durability of electronic devices such as SSDs.

본 발명은 the present invention

액상 실리콘 고무, 상변화 마이크로캡슐 및 경화제를 넣어 혼합하는 배합단계 ;A mixing step of mixing the liquid silicone rubber, the phase change microcapsule and the curing agent;

배합된 혼합물을 롤투롤(roll to roll) 장치로 성형하여 열흡수 패드(pad)를 제조하는 단계 ;Forming the blended mixture with a roll to roll device to prepare a heat absorbing pad (pad);

열을 가해 상기 열흡수 패드(pad)를 경화반응시키는 단계 ;curing the heat absorbing pad by applying heat;

경화된 상기 열흡수 패드를 캡핑필름으로 둘러싸 밀봉하는 단계를 포함하는 열흡수 방열장치 제조방법에 관련된다.It relates to a method for manufacturing a heat absorbing and dissipating device comprising the step of enclosing and sealing the cured heat absorbing pad with a capping film.

본 발명의 방열장치 및 이의 제조방법은 내부에 상변화 마이크로캡슐이 분산 고정된 실리콘 패드를 사용함으로서 반도체 칩에서 발생되는 열을 상변화 물질을 통해 충분히 흡수하여 전자기기 하우징(케이스)으로 열이 전달되는 것을 차단할 수 있다. 결과적으로, 본 발명의 방열장치 및 제조방법은 기존 열전도성 패드나 금속에 비해 하우징의 온도를 크게 상승시키지 않으면서 전자기기(외장 저장장치 등)의 전송속도나 용량을 높여 제품의 성능 향상에 기여할 수 있다.The heat dissipation device of the present invention and its manufacturing method use a silicon pad having a phase-change microcapsule dispersed and fixed therein to sufficiently absorb heat generated from a semiconductor chip through a phase-change material and transfer the heat to the electronic device housing (case). can be prevented from being As a result, the heat dissipation device and manufacturing method of the present invention increase the transmission speed or capacity of electronic devices (external storage devices, etc.) without significantly increasing the temperature of the housing compared to the existing thermally conductive pad or metal, thereby contributing to product performance improvement. can

또한, 본 발명의 방열장치 및 방법은 내부에 열전도성 금속이나 필러를 사용하지 않으므로 기존 열전도성 패드 대비 (동일부피 조건에서) 무게가 2.5~3배 가벼워 전자기기의 상품성을 높일 수 있다.In addition, since the heat dissipation device and method of the present invention do not use a thermally conductive metal or filler therein, it is 2.5 to 3 times lighter in weight (under the same volume condition) compared to the existing thermally conductive pad, thereby increasing the commercial value of electronic devices.

또한, 기존 열전도성 패드는 고무 재질을 사용하여 늘어나는 경우가 있어 조립시 작업에 어려움이 있었으나, 본 발명의 방열장치 및 제조방법은 실리콘 바인더에 비해 연신율이 낮은 캡핑필름으로 열흡수 패드를 감싸, 원하는 크기로 제작 가능하고 사용시 늘어나지 않아 조립성과 내구성을 높일 수 있다. In addition, the conventional thermal conductive pad is stretched using a rubber material, so there was a difficulty in assembly. It can be manufactured in any size and does not stretch when used, increasing assembly and durability.

또한, 상변화 마이크로 캡슐이 분산된 열흡수 패드에 반복적인 열충격이 가해지면 마이크로 캡슐이 시간이 지남에 따라 파괴되어 내부의 상변화 물질이 실리콘 바인더 외부로 유출될 수 있으나, 본 발명의 방열장치 제조방법은 열흡수 패드를 밀봉하는 캡핑 필름을 제공하여 상변화 물질이 유출되는 것을 방지하고 열흡수 패드의 내구성을 높일 수 있다.In addition, when repeated thermal shock is applied to the heat-absorbing pad in which the phase-change microcapsules are dispersed, the microcapsules are destroyed over time so that the internal phase-change material may flow out of the silicone binder, but the heat dissipation device of the present invention The method may provide a capping film sealing the heat-absorbing pad to prevent leakage of the phase change material and increase durability of the heat-absorbing pad.

도 1은 한국공개특허 10-2014-0004864호에서 개시한 방열케이스의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 방열장치가 설치되는 SSD의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 방열장치의 단면도이다.
도 4는 캡핑 필름으로 열흡수 패드를 밀봉하는 조립도이다.
도 5는 방열 특성 시험 장치에 대한 개요도이다.
1 is a cross-sectional view of a heat dissipation case disclosed in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0004864.
2 is a schematic diagram of an SSD in which the heat dissipation device of the present invention is installed.
3 is a cross-sectional view of the heat dissipation device of the present invention.
4 is an assembly view of sealing the heat absorbing pad with a capping film.
5 is a schematic diagram of a heat dissipation characteristic test apparatus.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 구현예 및 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments and examples of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily carry out the present invention.

본원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is used only to describe specific embodiments, and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate that a feature, number, step, operation, element, or combination thereof described in the specification exists, but is one or more other features or It should be understood that the possibility of the presence or addition of numbers, steps, acts, elements, or combinations thereof is not precluded in advance.

도 2는 본 발명의 방열장치가 설치되는 SSD의 개략도이고, 도 3은 본 발명의 방열장치의 단면도이고, 도 4는 캡핑 필름으로 열흡수 패드를 밀봉하는 조립도이고, 도 5는 방열 특성 시험 장치에 대한 개요도이다. 2 is a schematic diagram of an SSD in which the heat dissipation device of the present invention is installed, FIG. 3 is a cross-sectional view of the heat dissipation device of the present invention, FIG. 4 is an assembly view of sealing the heat absorbing pad with a capping film, and FIG. 5 is a heat dissipation characteristic test It is a schematic diagram of the device.

도 2와 도 3을 참고하면, 본 발명의 방열장치는 열흡수 패드(10) 및 캡핑 필름(20)을 포함한다. 본 발명의 열흡수 방열장치 제조방법은 열흡수 패드를 성형 및 경화하고, 경화된 열흡수 패드를 캡핑필름으로 밀봉하는 단계를 포함한다. 좀 더 구체적으로, 본 발명의 열흡수 방열장치 제조방법은 배합단계, 패드 제조단계, 경화단계, 밀봉 단계를 포함한다.2 and 3 , the heat dissipation device of the present invention includes a heat absorption pad 10 and a capping film 20 . The method for manufacturing a heat absorbing and dissipating device of the present invention includes molding and curing a heat absorbing pad, and sealing the cured heat absorbing pad with a capping film. More specifically, the method for manufacturing a heat absorbing and dissipating device of the present invention includes a mixing step, a pad manufacturing step, a curing step, and a sealing step.

먼저, 상기 열흡수 패드(10)는 인쇄회로기판(1)에 실장되는 반도체 칩(2)의 상면에 접촉하여 설치될 수 있다. 상기 열흡수 패드(10)는 경화된 실리콘 바인더(11)와 상기 실리콘 바인더 내부에 분산된 상변화 마이크로캡슐(12)을 포함한다. 상기 실리콘 바인더(11)는 후술하는 액상 실리콘 고무가 경화되어 형성될 수 있다. First, the heat absorption pad 10 may be installed in contact with the upper surface of the semiconductor chip 2 mounted on the printed circuit board 1 . The heat absorption pad 10 includes a cured silicone binder 11 and a phase change microcapsule 12 dispersed in the silicone binder. The silicone binder 11 may be formed by curing a liquid silicone rubber to be described later.

상기 배합단계는 액상 실리콘 고무, 마이크로캡슐 및 경화제를 넣어 혼합하는 단계이다.The mixing step is a step of mixing the liquid silicone rubber, microcapsules and curing agent.

상기 상변화 마이크로캡슐(12)은 캡슐 내부에 40~50℃ 범위에서의 융점을 가지는 상변화 물질을 포함할 수 있다. The phase change microcapsule 12 may include a phase change material having a melting point in the range of 40 to 50° C. inside the capsule.

상기 상변화 마이크로캡슐은 상기 코어인 상변화 물질과 상기 코어를 둘러싸는 고분자 중합체로 형성된 쉘을 포함한다. The phase change microcapsule includes a shell formed of a phase change material as the core and a polymer polymer surrounding the core.

상기 상변화 마이크로캡슐은 공지된 제품이 사용될 수 있다. 예를 들면, 쉘을 형성하는 고분자 중합체로는 폴리하이드록시알코네이트, 폴리아미드, 폴리아민, 폴리이미드, 폴리아크릴(예를 들어폴리아크릴아미드, 폴리아크릴로니트릴 및 메타크릴산 및 아크릴산의 에스테르), 폴리카르보네이트(예를 들어 폴리비스페놀 A 카르보네이트 및 폴리프로필렌 카르보네이트), 폴리디엔(예를 들어 폴리부타디엔, 폴리이소프렌및 폴리노보넨), 폴리에폭시드, 폴리에스테르(예를 들어 폴리카프로락톤, 폴리에틸렌 아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리프로필렌 숙시네이트, 테레프탈산 기재 폴리에스테르 및 프탈산 기재 폴리에스테르), 폴리에테르(예를들어 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리에틸렌 옥시드, 폴리부틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 옥시드, 폴리옥시메틸렌 또는 파라포름알데히드, 폴리테트라메틸렌 에테르 또는 폴리테트라하이드로푸란 및 폴리에피클로로하이드린), 폴리플루오로카본, 포름알데히드 중합체(예를 들어 우레아-포름알데히드, 멜라민-포름알데히드 및 페놀 포름알데히드), 천연 중합체(예를 들어 다당류 예컨대 셀룰로오스, 키틴, 키토산 및 녹말; 리그닌; 단백질; 및 왁스), 폴리올레핀(예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부틸렌, 폴리부텐 및 폴리옥텐), 폴리페닐렌, 규소 함유 중합체(예를 들어 폴리디메틸 실록산 및 폴리카르보메틸 실란), 폴리우레탄, 폴리비닐(예를 들어 폴리비닐부티랄, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 알콜의 에스테르 및 에테르, 폴리비닐 아세테이트, 폴리스티렌, 폴리메틸스티렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리메틸 비닐 에테르, 폴리에틸 비닐 에테르 및 폴리비닐 메틸 케톤), 폴리아세탈, 폴리아릴레이트, 알킬-기재 중합체(예를 들어 글리세리드 오일 기재 중합체), 공중합체(예를 들어 폴리에틸렌-공-비닐 아세테이트 및 폴리에틸렌-공-아크릴산) 및 이의 혼합물 등이 중합되어 형성될 수 있다.As the phase change microcapsule, a known product may be used. For example, shell-forming polymers include polyhydroxyalkonates, polyamides, polyamines, polyimides, polyacrylics (such as polyacrylamide, polyacrylonitrile and esters of methacrylic acid and acrylic acid); Polycarbonates (such as polybisphenol A carbonate and polypropylene carbonate), polydiene (such as polybutadiene, polyisoprene and polynorbornene), polyepoxides, polyesters (such as poly caprolactone, polyethylene adipate, polybutylene adipate, polypropylene succinate, polyesters based on terephthalic acid and polyesters based on phthalic acid), polyethers (e.g. polyethylene glycol or polyethylene oxide, polybutylene glycol, polypropylene oxide) seeds, polyoxymethylene or paraformaldehyde, polytetramethylene ether or polytetrahydrofuran and polyepichlorohydrin), polyfluorocarbons, formaldehyde polymers (such as urea-formaldehyde, melamine-formaldehyde and phenol) formaldehyde), natural polymers (such as polysaccharides such as cellulose, chitin, chitosan and starch; lignin; proteins; and waxes), polyolefins (such as polyethylene, polypropylene, polybutylene, polybutene and polyoctene), poly phenylene, silicon-containing polymers (eg polydimethyl siloxane and polycarbomethyl silane), polyurethanes, polyvinyl (eg polyvinylbutyral, polyvinyl alcohol, esters and ethers of polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate , polystyrene, polymethylstyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl pyrrolidone, polymethyl vinyl ether, polyethyl vinyl ether and polyvinyl methyl ketone), polyacetals, polyarylates, alkyl-based polymers (eg glyceride oil) base polymers), copolymers (eg, polyethylene-co-vinyl acetate and polyethylene-co-acrylic acid), and mixtures thereof, and the like.

상기 상변화 물질은 파라핀(N-Paraffin) 계열, 불포화 지방산 계열(Fatty Acids), 폴리글리콜(Polyglycol) 계열, 알코올(Alcohol) 계열, 페놀(Phenol) 계열, 알데하이드(Aldehyde) 계열, 케톤(Keton)계열, 에테르(Ether) 계열 등이 사용될 수 있다. The phase change material is paraffin (N-Paraffin) series, unsaturated fatty acid series (Fatty Acids), polyglycol (Polyglycol) series, alcohol (Alcohol) series, phenol (Phenol) series, aldehyde (Aldehyde) series, ketone (Keton) series, ether series, etc. may be used.

바람직하게는 상기 상변화 물질은 융점이 40~50℃이고, 잠열량이 180J/g 이상인 파라핀 계열일 수 있다. 상기 상변화 물질은 n-도코산(n-docosane) n-트리코산(n-tricosane), n-헤네이코산(heneicosane)일 수 있다.Preferably, the phase change material may be a paraffin-based material having a melting point of 40 to 50° C. and a latent heat of 180 J/g or more. The phase change material may be n-docosane, n-tricosane, or n-heneicosane.

상기 마이크로캡슐(12)은 크기가 5~25㎛일 수 있다. 크기가 크면 열용량이 높아지는 반면 캡슐 분산 시 캡슐이 파괴될 확률이 높아 Pad형태로의 제작이 어렵다는 문제가 있다.The microcapsule 12 may have a size of 5 to 25 μm. If the size is large, the heat capacity increases, but there is a problem that it is difficult to manufacture in the form of a pad because there is a high probability that the capsule will be destroyed when the capsule is dispersed.

상기 액상실리콘은 폴리디메틸실록산 등의 폴리오가노실론산 수지일 수 있다. The liquid silicone may be a polyorganosilonic acid resin such as polydimethylsiloxane.

상기 액상 실리콘의 점도는 200cps~40,000cps범위일 수 있다.The viscosity of the liquid silicone may be in the range of 200 cps to 40,000 cps.

상기 액상 실리콘은 적어도 하나 이상의 비닐기를 가지는 폴리오가노실록산 수지일 수 있다.The liquid silicone may be a polyorganosiloxane resin having at least one vinyl group.

경화된 상기 실리콘 바인더의 경도가 40~50(Shore 00 type), 연신율이 30~70%, 열전도도가 0.2~0.25일 수 있다.The cured silicone binder may have a hardness of 40 to 50 (Shore 00 type), an elongation of 30 to 70%, and a thermal conductivity of 0.2 to 0.25.

상기 배합단계는 상기 실리콘 바인더 100중량부 대비 50~130중량부, 바람직하게는 100~130중량부의 마이크로캡슐, 경화제 1 - 2 중량부를 넣어 혼합하는 단계일 수 있다. 상기 마이크로캡슐이 130중량부를 초과하면 Slurry(반제품) 배합이 안되는(입자 분산 문제) 문제가 있고, 50중량부 미만이면 열흡수 패드의 열흡수 용량이 떨어진다. The mixing step may be a step of mixing 50 to 130 parts by weight, preferably 100 to 130 parts by weight of the microcapsule, and 1-2 parts by weight of the curing agent, based on 100 parts by weight of the silicone binder. If the microcapsule exceeds 130 parts by weight, there is a problem that the slurry (semi-finished product) cannot be mixed (particle dispersion problem), and if it is less than 50 parts by weight, the heat absorption capacity of the heat absorption pad is deteriorated.

상기 배합단계는 실리콘 바인더, 상변화 마이크로캡슐 및 경화제를 25±10℃, 교반기 RPM을 7 이하로 4~7시간 동안 혼합할 수 있다. In the mixing step, the silicone binder, the phase change microcapsules and the curing agent may be mixed at 25±10° C. and the stirrer RPM of 7 or less for 4 to 7 hours.

좀 더 구체적으로는, 상기 배합단계는 상변화 마이크로캡슐이 실리콘 바인더 내에서 뭉쳐진 부분이 없도록 충분한 시간 동안 혼합(5~6시간)하고, 이어서 배합된 혼합물에 경화 촉매를 넣어 진공(-700mm/Hg이하)상태에서 고점도용 프레네터리믹서로 1시간 정도 추가로 교반할 수 있다.More specifically, in the mixing step, the phase change microcapsules are mixed for a sufficient time (5 to 6 hours) so that there is no agglomerated part in the silicone binder, and then a curing catalyst is put into the blended mixture and vacuum (-700 mm/Hg). In the following) state, it can be further stirred for about 1 hour with a planetary mixer for high viscosity.

상기 배합단계는 믹서의 RPM이 7을 초과하거나 온도가 상기 조건을 초과하는 경우 마이크로캡슐에 충격이 지속적으로 가해져 내구성을 떨어트리는 요인이 될 수 있다. 즉, 배합 혹은 성형 동안 캡슐의 크랙(crack) 내지 파손의 원인이 될수 있으며 나아가 열흡수 패드 사용중에 마이크로캡슐 내 PCM 물질의 리키지(Leakage) 내지 파손의 원인이 될 수 있다. In the blending step, when the RPM of the mixer exceeds 7 or the temperature exceeds the above conditions, the impact is continuously applied to the microcapsules, which can be a factor to reduce durability. That is, it may cause cracking or breakage of the capsule during compounding or molding, and further may cause leakage or breakage of the PCM material in the microcapsule during use of the heat absorbing pad.

상기 열흡수 패드 제조단계는 배합된 혼합물을 롤투롤(roll to roll) 장치로 성형하여 패드(pad) 형상으로 성형하는 단계이다. The heat absorbing pad manufacturing step is a step of molding the blended mixture into a pad shape by molding it with a roll to roll device.

배합된 혼합물이 롤투롤(roll to roll) 장치로 투입되어 1~20mm, 바람직하게는 2~20mm, 더욱 바람직하게는 2~10mm 두께의 패드로 성형될 수 있다. 두께(L)가 1mm 이하이면 충분한 양의 마이크로캡슐을 담지할 수 없어 지속적이고 반복적인 열충격이 가해지는 전자기기의 방열장치로 사용되는 것에 한계가 있다. The blended mixture may be introduced into a roll to roll device and molded into a pad having a thickness of 1 to 20 mm, preferably 2 to 20 mm, more preferably 2 to 10 mm. If the thickness (L) is less than 1mm, it is impossible to support a sufficient amount of microcapsules, so there is a limit to being used as a heat dissipation device for electronic devices that are subjected to continuous and repeated thermal shock.

상기 경화(반응) 단계는 열을 가해 상기 열흡수 패드를 경화하는 단계이다. 상기 경화(반응)단계는 10~20분 동안 120±5℃의 온도를 상기 패드에 가하는 반응이다. 경화반응이 110℃ 이하에서 이루어지면 실리콘 바인더가 충분히 경화되지 못하고, 130℃ 이상에서 이루어지면 캡슐이 파손되어 캡슐내 물질이 실리콘의 경화를 방해, 부분적으로 경화가 이루어지지 않아 제품 불량이 발생한다. 또한, 높은 경화 온도로 인해 상변화 마이크로 캡슐벽이 손상되어 열충격 신뢰성(85℃ ~ -40℃)이 떨어질 수 있다. The curing (reaction) step is a step of curing the heat absorbing pad by applying heat. The curing (reaction) step is a reaction in which a temperature of 120±5° C. is applied to the pad for 10 to 20 minutes. When the curing reaction is carried out at 110° C. or lower, the silicone binder is not sufficiently cured, and when the curing reaction is performed at 130° C. or higher, the capsule is broken, and the material in the capsule interferes with the curing of the silicone, resulting in product defects due to partial curing. In addition, due to the high curing temperature, the phase change microcapsule wall may be damaged, resulting in poor thermal shock reliability (85°C to -40°C).

본 발명의 열흡수 패드는 경도가 낮고 연신율과 열전도율이 높은 실리콘을 바인더로 사용함으로써 경도가 높은 다른 고분자 중합체에 비해 충격으로부터 마이크로캡슐을 보호하는데 효과적이다. The heat-absorbing pad of the present invention is effective in protecting microcapsules from impact as compared to other high-hardness polymers by using silicone having low hardness and high elongation and thermal conductivity as a binder.

상기 밀봉단계는 경화된 상기 패드를 캡핑필름으로 둘러싸 밀봉하는 단계이다. 즉, 상기 캡핑필름(20)은 상기 열흡수 패드(10)를 둘러싸 밀봉한다. The sealing step is a step of enclosing and sealing the cured pad with a capping film. That is, the capping film 20 surrounds and seals the heat absorption pad 10 .

상기 캡핑필름(20)은 밀도가 1.2g/㎤ 이상, 바람직하게는 1.3g/㎤ 이상일 수 있다. 상기 캡핑필름(20)은 밀도가 1.2g/㎤ 이상으로 높아 상변화 마이크로캡슐의 쉘이 파손되는 경우에도 내부의 상변화 물질이 캡핑필름을 투과하여 전자기기측으로 유출되는 것을 방지할 수 있다. 상기 캡핑필름(20)의 밀도가 1.2g/㎤ 미만이면 유출된 상변화 물질이 필름을 서서히 통과하여 유출될 수 있다. The capping film 20 may have a density of 1.2 g/cm 3 or more, preferably 1.3 g/cm 3 or more. The capping film 20 has a density of 1.2 g/cm 3 or more, so that even when the shell of the phase change microcapsule is broken, it is possible to prevent the internal phase change material from penetrating the capping film and leaking to the electronic device side. When the density of the capping film 20 is less than 1.2 g/cm 3 , the leaked phase change material may slowly pass through the film and flow out.

상기 캡핑필름(20)은 내열성(융점, 유리전이 온도)이 우수한 PET(polyethylene terephthalate) 또는 폴리이미드일 수 있다. The capping film 20 may be made of polyethylene terephthalate (PET) or polyimide having excellent heat resistance (melting point, glass transition temperature).

도 4는 열흡수 패드(10)에 캡핑 필름(20)을 결합하는 조립도이다. 도 4를 참고하면, 열흡수 패드(10)의 상부와 하부측에 캡핑필름 20a, 20b가 각각 위치하고, 캡핑필름 20a와 20b는 접착필름(3, 열경화성 hot melt 필름)으로 열융착될 수 있다.4 is an assembly view of coupling the capping film 20 to the heat absorption pad 10 . Referring to FIG. 4 , capping films 20a and 20b are respectively positioned on the upper and lower sides of the heat absorbing pad 10 , and the capping films 20a and 20b may be heat-sealed with an adhesive film 3 (thermosetting hot melt film).

상기 캡핑 필름의 두께(S)는 10~350㎛, 바람직하게는 50~100㎛일 수 있다. 상기 캡핑 필름의 두께가 50㎛ 미만인 경우 열압착 시 필름의 변형이 심하며 열충격 신뢰성이 떨어질 수 있다.The thickness (S) of the capping film may be 10 ~ 350㎛, preferably 50 ~ 100㎛. When the thickness of the capping film is less than 50 μm, the film may be severely deformed during thermocompression bonding, and thermal shock reliability may be deteriorated.

위와 같이, 상기 캡핑 필름은 상변화 물질이 유출되는 것을 방지하고 열흡수 패드의 조립성과 내구성을 높일 수 있다. As described above, the capping film may prevent the phase change material from leaking out and increase the assembly and durability of the heat absorption pad.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 요지에 따라 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. These examples are only for illustrating the present invention in more detail, and it is obvious to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples according to the gist of the present invention.

실시예 1Example 1

Silicone Binder (WACKER sil-gel 650) 48g, 상변화 캡슐 파우더(Insilico P-Thermoball 45BN, 하기 표 1 참고) 52g, 경화제(HANS CHEMICAL CL200) 0.1g을 투입 후 고점도용 프레네터리믹서를 사용하여 배합을 진행하였다. 배합 시 온도는 냉각기를 사용하여 25℃를 유지하고 RPM은 최대 7이 넘지 않도록(rpm 6으로 교반) 진행하였다.Silicone Binder (WACKER sil-gel 650) 48g, phase change capsule powder (Insilico P-Thermoball 45BN, refer to Table 1 below) 52g, hardener (HANS CHEMICAL CL200) 0.1g, mixed using a planetary mixer for high viscosity proceeded. At the time of mixing, the temperature was maintained at 25° C. using a cooler, and the RPM was carried out so that the maximum did not exceed 7 (stirring at rpm 6).

상변화 캡슐 파우더(PCM Capsule powder)가 뭉쳐진 부분이 없도록 충분한 시간 동안 배합(약 5~6시간)후 경화촉매(DY SILICONE PTC310) 0.2g을 투입 후 1hr 동안 진공(-700mm/Hg이하)상태에서 고점도용 프레네터리믹서를 사용하여 추가로 교반하였다. After mixing (about 5 to 6 hours) for a sufficient time so that the phase change capsule powder (PCM Capsule powder) does not have agglomerated parts, 0.2 g of curing catalyst (DY SILICONE PTC310) is added and vacuum (-700mm/Hg or less) for 1 hr. It was further stirred using a planetary mixer for high viscosity.

상기 배합 완료된 혼합물을 Roll to Roll 성형장비에 투입하여 두께 2mm로 성형하면서 120℃로 10분 정도 경화반응시켰다. 이후 상온에서 건조시켜 열흡수 패드를 수득하였다. The mixture was put into a roll-to-roll molding equipment and cured at 120° C. for about 10 minutes while being molded to a thickness of 2 mm. Thereafter, it was dried at room temperature to obtain a heat absorption pad.

제조된 열흡수 패드를 가로 50mm, 세로 30mm 로 절단하고, 두께 0.1mm PET 필름(XP35, Toray)으로 감싼 후 핫멜트 필름(INH-5050PH, 인스텍)으로 접착하였다(도 4 참고). The prepared heat-absorbing pad was cut to 50 mm in width and 30 mm in length, wrapped with a 0.1 mm thick PET film (XP35, Toray), and then adhered with a hot melt film (INH-5050PH, Instek) (see FIG. 4 ).

캡슐 capsule 사이즈size 캡슐벽 두께capsule wall thickness 캡슐 내 물질substances in capsules Insilico P-Thermoball 45BNInsilico P-Thermoball 45BN 7 ~ 20um7~20um 200~300nm200~300nm N-DocosaneN-Docosane

비교예 1Comparative Example 1

상변화 캡슐 파우더를 Microtek 43D(하기 표 2 참고) 로 바꾸어 진행하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 열흡수 패드를 제조하였다.A heat-absorbing pad was prepared in the same manner as in Example 1, except that the phase change capsule powder was changed to Microtek 43D (see Table 2 below).

캡슐 capsule 사이즈size 캡슐벽 두께capsule wall thickness 캡슐 내 물질substances in capsules Microtek 43DMicrotek 43D 15 ~ 30um15 to 30um 60~100nm60~100nm Paraffin WaxParaffin Wax

비교예 2Comparative Example 2

상기 상변화 캡슐 파우더 함량을 65g으로 투입하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 열흡수 패드를 제조하였다.A heat absorption pad was prepared in the same manner as in Example 1, except that the phase change capsule powder content was added to 65 g.

비교예 3Comparative Example 3

배합조건 중 믹서 RPM을 15, 2시간 정도로 교반하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 열흡수 패드를 제조하였다.A heat absorption pad was prepared in the same manner as in Example 1, except that the mixer RPM was stirred for about 15 and 2 hours among the mixing conditions.

비교예 4Comparative Example 4

온도 150℃로 5분 정도로 (성형된 패드를) 경화하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 열흡수 패드를 제조하였다.A heat-absorbing pad was prepared in the same manner as in Example 1 except for curing (the molded pad) at a temperature of 150° C. for about 5 minutes.

비교예 5Comparative Example 5

실시예 1에서 제조된 열흡수 패드를 PET 필름으로 밀봉하지 않은 채로 사용하였다.The heat-absorbing pad prepared in Example 1 was used without being sealed with a PET film.

비교예 6Comparative Example 6

실시예 1에서 제조된 열흡수 패드를 PE필름으로 밀봉하였다.The heat absorption pad prepared in Example 1 was sealed with a PE film.

비교예 7Comparative Example 7

실리콘 바인더를 사용하는 대신 아크릴 바인더를 사용하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 열흡수 패드를 제조하였다.A heat absorbing pad was prepared in the same manner as in Example 1 except that an acrylic binder was used instead of a silicone binder.

비교예 8Comparative Example 8

열흡수 캡슐파우더 대신 열전도성 세라믹(알루미나)파우더를 사용한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 열전도성 실리콘패드를 제조하였다.A thermally conductive silicone pad was prepared in the same manner as in Example 1 except that thermally conductive ceramic (alumina) powder was used instead of the thermally absorbing capsule powder.

[시험][exam]

실시예 1, 비교예 1 내지 8에 대해 배합성, 성형성, 열충격 신뢰성, 고온 신뢰성 및 방열 특성을 시험하여 하기 표 3에 나타내었다. Example 1 and Comparative Examples 1 to 8 were tested for compounding properties, moldability, thermal shock reliability, high temperature reliability and heat dissipation properties, and are shown in Table 3 below.

항목Item 배합성compatibility 성형성formability 열충격신뢰성Thermal shock reliability 고온
신뢰성
High temperature
reliability
방열
특성
radiation
characteristic
비고note
실시예Example OO OO OO OO T1:45℃
T2:32℃
T1:45℃
T2:32℃
방열특성 등 모든 결과가 안정적임All results including heat dissipation characteristics are stable
비교예1Comparative Example 1 OO OO XX OO -- 캡슐벽의 두께가 얇고 캡슐의 size가 커 열충격시험 후 캡슐이 파괴되어 봉지된 PET필름 내부에 파라핀이 심하게 누출. (고온에서는 액상으로 존재하고 상온에서 매우 딱딱해짐)The capsule wall is thin and the size of the capsule is large, so after the thermal shock test, the capsule is destroyed and paraffin leaks inside the encapsulated PET film. (It exists as a liquid at high temperature and becomes very hard at room temperature) 비교예2Comparative Example 2 OO XX XX OO -- 캡슐파우더의 투입양이 너무 많아 배합이 이루어 지지 않음.Mixing is not done because the amount of capsule powder is too large. 비교예3Comparative Example 3 OO XX XX OO -- 배합 시 RPM이 너무 높아 캡슐이 물리적인 힘에 의하여 파괴되어 캡슐 내부의 파라핀이 외부로 유출됨. 유출 후 고온에서 액상으로 존재하여 Pad의 성형이 이루어지지 않음.When mixing, the RPM is too high and the capsule is destroyed by physical force, and the paraffin inside the capsule leaks to the outside. Pad is not molded because it exists as a liquid at high temperature after spillage. 비교예4Comparative Example 4 OO OO XX OO -- 성형시 경화온도가 너무 높아 캡슐벽이 성형이 많이 파괴되어 열충격 신뢰성 후 비교예 1과 동일한 현상 발생.During molding, the curing temperature was too high, and the capsule wall was broken a lot, resulting in the same phenomenon as Comparative Example 1 after thermal shock reliability. 비교예5Comparative Example 5 OO OO XX OO -- 열충격 시험 후 파라핀이 외부로 유출되어 외관 불량 발생.After the thermal shock test, paraffin leaked to the outside, resulting in poor appearance. 비교예6Comparative Example 6 OO OO XX OO -- 약간의 파라핀이 누출된 후 상대적으로 밀도가 낮은 PE필름을 기체상태로 통과하여 필름 외부로 유출 및 외관불량 발생.After a little paraffin leaks, it passes through a relatively low density PE film in a gaseous state and leaks to the outside of the film and causes poor appearance. 비교예7Comparative Example 7 OO OO OO XX T1:46℃
T2:33℃
T1:46℃
T2:33℃
고온 신뢰성 후 Pad의 경도가 높아져 조립성 불량.After high temperature reliability, the hardness of the pad increases, resulting in poor assembly.
비교예8Comparative Example 8 OO OO OO O
O
T1:43℃
T2:40℃
T1:43℃
T2:40℃
T1(발열부 칩셋)의 온도는 매우 안정적이나 T2(케이스)의 온도가 너무 높아 Fail.The temperature of T1 (heating part chipset) is very stable, but the temperature of T2 (case) is too high, so Fail.

성형성 조건 : 경화반응 및 건조한 후에 혼합물이 Pad로의 성형 여부열충격 신뢰성 조건 : 제조된 열흡수 패드를 20℃ 10분 유지 → 60℃까지 10분 승온 → 60℃ 10 분 유지 → 20℃까지 10분 냉각 → 0℃ 10분 유지(1cycle)를 1,000cycle 반복하였음. Formability conditions: Whether the mixture is molded into a pad after curing reaction and drying Thermal shock reliability conditions: Keep the manufactured heat-absorbing pad at 20°C for 10 minutes → Raise the temperature to 60°C for 10 minutes → Maintain at 60°C for 10 minutes → Cool to 20°C for 10 minutes → Repeated 1,000 cycles of holding at 0°C for 10 minutes (1 cycle).

고온 신뢰성 조건: 제조된 열흡수 패드를 150℃에서 1,000hr 노출시킴High-temperature reliability conditions: Expose the manufactured heat-absorbing pad at 150°C for 1,000 hours

또한, 방열 특성은 하기와 같이 측정하였다. In addition, the heat dissipation characteristic was measured as follows.

측정 조건(25℃ 조건 온도) - 도 5에 방열 특성 시험 장치 참고 Measurement conditions (25°C condition temperature) - Refer to the heat dissipation characteristic test apparatus in FIG. 5

(1) Test sample(제조된 열흡수 패드)이 없는 상태에서 T1의 온도가 15분 동안 약 90℃가 되도록 발열체를 셋팅하였다.(1) The heating element was set so that the temperature of T1 was about 90° C. for 15 minutes in the absence of a test sample (manufactured heat absorption pad).

(2) 발열체가 완전히 식은 후 Sample 투입 및 PC plate가 Sample 상부에 완전히 닿도록 셋팅하였다.(2) After the heating element was completely cooled, the sample was put in and the PC plate was set so that it completely touches the upper part of the sample.

(3) 발열체 전원 ON 후 15분 뒤 T1과 T2 온도를 측정하였다.(3) The temperature of T1 and T2 was measured 15 minutes after the heating element was powered on.

* T1은 55℃ 미만, T2는 40℃ 미만 조건임.* T1 is less than 55℃, T2 is less than 40℃.

지금까지 본 발명의 구체적인 실시예들을 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본질적인 특성에 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다. So far, specific embodiments of the present invention have been described. Those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will understand that the present invention may be implemented in a modified form without departing from the essential characteristics. The scope of the present invention is indicated in the claims rather than the foregoing description, and all differences within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the present invention.

Claims (8)

액상 실리콘 고무, 상변화 마이크로캡슐 및 경화제를 넣어 혼합하는 배합단계 ;
배합된 혼합물을 롤투롤(roll to roll) 장치로 성형하여 열흡수 패드(pad)를 제조하는 단계 ;
열을 가해 상기 열흡수 패드(pad)를 경화반응시키는 단계 ;
경화된 상기 열흡수 패드를 캡핑필름으로 둘러싸 밀봉하는 단계를 포함하고,
상기 배합단계는 상기 액상 실리콘 고무 100중량부 대비 상변화 마이크로캡슐 50~130중량부, 경화제 1 - 2 중량부를 넣어 혼합하는 단계이고,
상기 열흡수 패드 제조단계는 두께를 1~20mm로 성형하는 단계이고,
상기 캡핑 필름은 밀도가 1.2g/㎤ 이상이고, 두께가 50~350㎛이고,
상기 캡핑 필름은 상기 액상 실리콘 고무에 비해 연신율이 낮고,
상기 켑핑 필름은 상기 상변화 마이크로캡슐의 쉘이 파손되는 경우에도 내부의 상변화 물질이 캡핑필름을 투과하여 전자기기측으로 유출되는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 열흡수 방열장치 제조방법.
A mixing step of mixing the liquid silicone rubber, the phase change microcapsule and the curing agent;
Forming the blended mixture with a roll to roll device to prepare a heat absorbing pad (pad);
curing the heat absorbing pad by applying heat;
enclosing and sealing the cured heat-absorbing pad with a capping film,
The mixing step is a step of mixing with 50 to 130 parts by weight of a phase change microcapsule, 1 - 2 parts by weight of a curing agent compared to 100 parts by weight of the liquid silicone rubber,
The heat absorption pad manufacturing step is a step of forming a thickness of 1 to 20 mm,
The capping film has a density of 1.2 g/cm 3 or more, and a thickness of 50 to 350 μm,
The capping film has a lower elongation than the liquid silicone rubber,
The capping film is a method of manufacturing a heat absorption and heat dissipation device, characterized in that even when the shell of the phase change microcapsule is broken, the phase change material inside the capping film is passed through the capping film to prevent leakage to the electronic device side.
삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 상변화 마이크로 캡슐은 40~50℃ 범위에서의 융점을 가지는 상변화 물질을 내부에 포함하고,
상기 상변화 마이크로 캡슐의 열용량이 180J/g 이상이고, 크기가 5~25㎛인 것을 특징으로 하는 열흡수 방열장치 제조방법.
According to claim 1, wherein the phase change microcapsule contains a phase change material having a melting point in the range of 40 ~ 50 ℃,
A method for manufacturing a heat absorbing and dissipating device, characterized in that the phase change microcapsule has a heat capacity of 180J/g or more and a size of 5 to 25 μm.
제 1항에 있어서, 상기 배합단계는 교반기의 RPM을 7 이하에서 4~7시간 동안 혼합하는 단계인 것을 특징으로 하는 열흡수 방열장치 제조방법.The method of claim 1, wherein the mixing step is a step of mixing the RPM of the stirrer at 7 or less for 4 to 7 hours. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 경화반응 단계는 온도가 120±5℃, 경화시간은 10~20분인 것을 특징으로 하는 열흡수 방열장치 제조방법.The method of claim 1, wherein the curing reaction step has a temperature of 120±5° C. and a curing time of 10 to 20 minutes. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 캡핑 필름은 PET(polyethylene terephthalate) 또는 폴리이미드인 것을 특징으로 하는 열흡수 방열 장치 제조방법.


The method of claim 1, wherein the capping film is made of polyethylene terephthalate (PET) or polyimide.


KR1020220016729A 2022-02-09 2022-02-09 Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad KR102445961B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220016729A KR102445961B1 (en) 2022-02-09 2022-02-09 Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220016729A KR102445961B1 (en) 2022-02-09 2022-02-09 Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102445961B1 true KR102445961B1 (en) 2022-09-22

Family

ID=83445796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220016729A KR102445961B1 (en) 2022-02-09 2022-02-09 Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102445961B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002088171A (en) * 2000-09-13 2002-03-27 Polymatech Co Ltd Heat-conductive sheet and method for producing the same and heat radiation device
KR20070003626A (en) * 2005-06-30 2007-01-05 폴리마테크 컴퍼니 리미티드 Heat radiation member and production method for the same
WO2015059855A1 (en) * 2013-10-21 2015-04-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 Thermal insulation sheet and method for producing same
KR20170002039A (en) * 2015-06-29 2017-01-06 엘지전자 주식회사 heat emission film and mobile terminal using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002088171A (en) * 2000-09-13 2002-03-27 Polymatech Co Ltd Heat-conductive sheet and method for producing the same and heat radiation device
KR20070003626A (en) * 2005-06-30 2007-01-05 폴리마테크 컴퍼니 리미티드 Heat radiation member and production method for the same
WO2015059855A1 (en) * 2013-10-21 2015-04-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 Thermal insulation sheet and method for producing same
KR20170002039A (en) * 2015-06-29 2017-01-06 엘지전자 주식회사 heat emission film and mobile terminal using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1720108B (en) Thermally conductive EMI shield
TW549011B (en) Dissipation of heat from a circuit board having bare silicon chips mounted thereon
JP7028788B2 (en) Thermal interface material
US6261404B1 (en) Heat dissipation apparatus and method for attaching a heat dissipation apparatus to an electronic device
TWI327322B (en)
WO2006110394A1 (en) Thermal interface material having spheroidal particulate filler
CN101247715B (en) Thermal diffusion sheet and manufacturing method of the same
US9226428B2 (en) High heat capacity electronic components and methods for fabricating
CN103228120A (en) Heat radiation sheet
TW200303166A (en) Thermal management materials having a phase change dispersion
JP2002294269A (en) Extrusible crosslinked grease-like radiation material, container in which the material is filled and enclosed, manufacturing method of the container and radiation method using these
JP7144542B2 (en) Thermal gap filler and its application in battery management systems
CN113519051A (en) Multi-component thermally conductive silicone gel composition, thermally conductive member, and heat dissipation structure
CN105453255A (en) Thermal interface material layer and package-on-package device comprising thermal interface material layer
KR101796206B1 (en) thermal dissipation pad
JP5134693B2 (en) Thermally conductive and conductive interconnect structure
CN107408545A (en) Energy storage material and associated technology and configuration for heat management
KR102445961B1 (en) Method of preparing heat dissipation device comprising Heat absorption pad
CN105315970A (en) Thermal interface material for chip testing and preparation method of thermal interface material
CN112447636A (en) Thermal interface material piece and electronic device comprising same
US10244657B2 (en) Thermal insulation sheet and method for producing same
KR102600194B1 (en) Heat dissipation device comprising Heat absorption pad
CN108728046A (en) A kind of heat conduction heat accumulation composite material and preparation method, heat conduction heat accumulation radiator
US20220298305A1 (en) Thermally Conductive Non-Oil Bleed Liquid Thermal Interface Materials
CN114539780A (en) Single-component thermal interface material and preparation method thereof