KR102414079B1 - Low profile dual polarization antenna - Google Patents

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KR102414079B1
KR102414079B1 KR1020210033106A KR20210033106A KR102414079B1 KR 102414079 B1 KR102414079 B1 KR 102414079B1 KR 1020210033106 A KR1020210033106 A KR 1020210033106A KR 20210033106 A KR20210033106 A KR 20210033106A KR 102414079 B1 KR102414079 B1 KR 102414079B1
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feeding
substrate
patch
probes
polarization antenna
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KR1020210033106A
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황상철
김연문
이상우
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주식회사 에이스테크놀로지
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Abstract

본 발명은 기판, 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되면서, 각각 가운데 일부가 기판의 일면으로부터 이격되어 평행하게 진행하는 모자 형상(hat shape)으로 구현되며, 각각 급전 신호를 인가받는 2개의 급전 프로브 및 기판의 일면으로부터 2개의 급전 프로브의 상단면과 동일한 높이로 배치되고, 2개의 급전 프로브로부터 커플링 급전 방식에 따라 급전 신호를 인가받는 급전 패치를 포함하되, 급전 패치는 2개의 급전 프로브 상단면 각각이 내측에 이격되어 삽입되는 2개의 제1 슬롯이 형성되어 로우 프로파일을 실현할 수 있는 이중 편파 안테나를 제공할 수 있다.The present invention is implemented in a hat shape extending in a predetermined direction on a substrate and one surface of the substrate, a portion of each of which is spaced apart from one surface of the substrate and proceeds in parallel, and two feeding probes each receiving a feeding signal and a feeding patch disposed at the same height as the top surfaces of the two feeding probes from one surface of the substrate and receiving a feeding signal from the two feeding probes according to a coupling feeding method, wherein the feeding patch is the top surface of the two feeding probes. It is possible to provide a dual polarization antenna capable of realizing a low profile by forming two first slots, each of which is spaced apart inside and inserted.

Description

로우 프로파일 이중 편파 안테나{Low profile dual polarization antenna}Low profile dual polarization antenna

본 발명은 이중 편파 안테나에 관한 것으로, 로우 프로파일 이중 편파 안테나에 관한 것이다.The present invention relates to a dual polarization antenna, and to a low profile dual polarization antenna.

최근 여러 무선 통신 시스템은 풍압 등의 외부환경에 강건한 설계를 위해 낮은 높이를 갖는 안테나를 요구하고 있다. 즉 로우 프로파일(Low profile) 안테나를 요구하고 있다. 특히 RU + 안테나 결합형 시스템 등에서는 0.05λ 이하의 높이를 요구하기도 한다. 따라서 기존의 구조를 탈피하여 새로운 구조를 갖는 안테나가 제안될 필요가 있다.Recently, various wireless communication systems require an antenna having a low height for a design robust to external environments such as wind pressure. That is, a low profile antenna is required. In particular, a height of 0.05λ or less is required in an RU + antenna combined system. Therefore, it is necessary to propose an antenna having a new structure by breaking away from the existing structure.

한국 등록 특허 제10-2125971호 (2020.06.17 등록)Korean Patent Registration No. 10-2125971 (Registered on June 17, 2020)

본 발명의 목적은 로우 프로파일 이중 편파 안테나를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a low profile dual polarized antenna.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 편파 안테나는 기판; 상기 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되면서, 각각 가운데 일부가 상기 기판의 일면으로부터 이격되어 평행하게 진행하는 모자 형상(hat shape)으로 구현되며, 각각 급전 신호를 인가받는 2개의 급전 프로브; 및 상기 기판의 일면으로부터 상기 2개의 급전 프로브의 상단면과 동일한 높이로 배치되고, 상기 2개의 급전 프로브로부터 커플링 급전 방식에 따라 급전 신호를 인가받는 급전 패치를 포함하되, 상기 급전 패치는 상기 2개의 급전 프로브 상단면 각각이 내측에 이격되어 삽입되는 2개의 제1 슬롯이 형성된다.A dual polarization antenna according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a substrate; Two feeding probes extending in a predetermined direction on one surface of the substrate, each of which is implemented in a hat shape, a portion of which is spaced apart from one surface of the substrate and proceeds in parallel, and receives a feeding signal, respectively; and a feeding patch disposed at the same height as the top surfaces of the two feeding probes from one surface of the substrate and receiving a feeding signal from the two feeding probes according to a coupling feeding method, wherein the feeding patch comprises the two Two first slots into which each of the top surfaces of the feeding probes are spaced apart and inserted therein are formed.

상기 2개의 제1 슬롯은 상기 기판의 일면상의 기지정된 위치에서 45° 및 -45° 방향으로 연장되는 형태로 형성된 상기 2개의 급전 프로브에 대응하여, 45° 및 -45° 방향으로 형성될 수 있다.The two first slots may be formed in 45° and -45° directions corresponding to the two feeding probes formed to extend in 45° and -45° directions at predetermined positions on one surface of the substrate. .

상기 이중 편파 안테나는 상기 2개의 급전 프로브의 형상에 대응하는 형상을 갖고, 상기 기판의 일면 상에서 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하는 위치 및 연장 방향을 갖고 배치되는 2개의 매칭 구조체를 더 포함할 수 있다.The double polarization antenna has a shape corresponding to the shape of the two feed probes, and has two matching structures disposed on one surface of the substrate having positions and extension directions corresponding to the positions and extension directions of the two feed probes. may include more.

상기 이중 편파 안테나는 상기 기판과 상기 급전 패치 사이에 배치되어, 상기 기판으로부터 서로 다른 기지정된 간격만큼 이격된 기지정된 위치에 상기 급전 패치를 고정시키는 지지체를 더 포함하고, 상기 지지체는 상기 2개의 제1 슬롯 각각의 위치 및 형상에 대응하는 위치와 형상을 갖고 상기 2개의 급전 프로브의 상단면이 삽입 관통되는 2개의 제1 관통홀이 형성될 수 있다.The dual polarization antenna further includes a support disposed between the substrate and the feed patch to fix the feed patch at a predetermined position spaced apart from the substrate by a different predetermined distance, the support including the two second Two first through-holes having positions and shapes corresponding to the positions and shapes of each of the slots and through which upper surfaces of the two feeding probes are inserted may be formed.

상기 이중 편파 안테나는 상기 기판의 일면 방향에서 상기 급전 패치와 기기정된 간격만큼 이격 배치되고, 상기 급전 패치로부터 커플링 급전 방식으로 급전되는 방사 패치를 더 포함할 수 있다.The dual polarization antenna may further include a radiation patch that is spaced apart from the feeding patch by a predetermined distance in the direction of one surface of the substrate and is fed by a coupling feeding method from the feeding patch.

상기 이중 편파 안테나는 상기 2개의 급전 프로브의 형상에 대응하는 형상을 갖고, 상기 기판의 일면 상에서 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하는 위치 및 연장 방향을 갖고 배치되는 2개의 매칭 구조체; 및 상기 방사 패치에 형성되고, 상기 2개의 급전 프로브와 상기 2개의 매칭 구조체의 배치 위치 및 연장 방향에 대응하는 형상을 갖는 다수의 슬릿을 더 포함할 수 있다.The dual polarization antenna has a shape corresponding to the shape of the two feeding probes, two matching structures disposed on one surface of the substrate having positions and extension directions corresponding to the positions and extension directions of the two feeding probes; and a plurality of slits formed in the radiation patch and having shapes corresponding to the arrangement positions and extension directions of the two feeding probes and the two matching structures.

상기 급전 패치는 상기 2개의 매칭 구조체 상단면 각각이 내측에 이격되어 삽입되도록, 상기 2개의 매칭 구조체 각각의 위치 및 연장 방향 대응하여 45° 및 -45° 방향으로 연장되는 2개의 제2 슬롯이 더 형성될 수 있다.The feeding patch further includes two second slots extending in 45° and -45° directions corresponding to the position and extension direction of each of the two matching structures so that the top surfaces of the two matching structures are respectively spaced apart inside and inserted. can be formed.

상기 방사 패치는 상기 2개의 급전 프로브와 상기 2개의 매칭 구조체의 배치 위치 및 연장 방향에 대응하는 형상을 갖는 다수의 슬릿이 형성될 수 있다.In the radiation patch, a plurality of slits having shapes corresponding to the arrangement positions and extension directions of the two feeding probes and the two matching structures may be formed.

상기 2개의 급전 프로브 각각은 상기 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되며, 급전 신호를 인가받는 급전부; 상기 급전부에 일단이 연결되고 상기 기판으로부터 수직 방향으로 연장되는 제1 벤딩부; 상기 제1 벤딩부의 타단에 일단이 연결되어, 상기 기판의 일면과 평행하게 연장되어 상기 급전 프로브의 상단면을 형성하는 상단 평활부; 상기 상단 평활부의 타단에 일단이 연결되어 기판 방향으로 상기 상단 평활부에 수직하여 연장되는 제2 벤딩부; 및 상기 기판의 일면 상에서 상기 제2 벤딩부의 타단에 일단이 연결되어 상기 급전부의 연장 방향을 따라 기지정된 거리만큼 다시 연장되는 프로브 지지부를 포함할 수 있다.Each of the two feeding probes extends in a predetermined direction on one surface of the substrate, the feeding unit receiving a feeding signal; a first bending part having one end connected to the feeding part and extending in a vertical direction from the substrate; an upper smooth part having one end connected to the other end of the first bending part and extending parallel to one surface of the substrate to form an upper surface of the feeding probe; a second bending part having one end connected to the other end of the top smoothing part and extending perpendicular to the top smoothing part in the direction of the substrate; and a probe support part having one end connected to the other end of the second bending part on one surface of the substrate and extending again by a predetermined distance along an extension direction of the feeding part.

상기 이중 편파 안테나는 상기 기판의 타면상에 형성되는 접지면; 및 상기 기판의 타면 방향으로 상기 접지면과 기지정된 간격만큼 이격되어 배치되는 반사판을 더 포함할 수 있다.The dual polarization antenna may include a ground plane formed on the other surface of the substrate; and a reflective plate disposed to be spaced apart from the ground plane by a predetermined distance in the direction of the other surface of the substrate.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 이중 편파 안테나는 기판; 상기 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되면서, 각각 가운데 일부가 상기 기판의 일면으로부터 이격되어 평행하게 진행하는 모자 형상(hat shape)으로 구현되며, 각각 45°및 -45°편파 신호를 급전 신호로 인가받는 2개의 급전 프로브; 상기 기판의 일면으로부터 기지정된 간격만큼 이격 배치되고, 상기 2개의 급전 프로브로부터 커플링 급전 방식에 따라 급전 신호를 인가받으며, 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하는 위치 및 연장 방향을 갖고 상기 2개의 급전 프로브의 상단면이 삽입되는 2개의 제1 슬롯이 형성되는 급전 패치; 및 상기 기판의 일면 방향에서 상기 급전 패치와 기기정된 간격만큼 이격되어 배치되고, 상기 급전 패치로부터 커플링 급전 방식으로 급전되어 이중 편파를 방사하는 방사 패치를 포함한다.A dual polarization antenna according to another embodiment of the present invention for achieving the above object includes a substrate; While extending in a predetermined direction on one surface of the substrate, a portion of each is implemented in a hat shape that is spaced apart from the one surface of the substrate and proceeds in parallel, and 45° and -45° polarized signals are respectively used as feed signals. Two energized feed probes; It is spaced apart from one surface of the substrate by a predetermined distance, receives a feed signal from the two feed probes according to a coupling feed method, and has a position and an extension direction corresponding to the position and extension direction of the two feed probes. a feeding patch in which two first slots into which upper surfaces of the two feeding probes are inserted are formed; and a radiation patch disposed to be spaced apart from the feeding patch by a predetermined distance in the direction of one surface of the substrate, and fed by a coupling feeding method from the feeding patch to radiate a double polarized wave.

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 이중 편파 안테나는 2개의 급전 프로브를 모자형으로 구현하고, 급전 패치에 2개의 모자형 급전 프로브의 상단면이 각각 삽입되는 슬롯이 형성되어, 급전 패치가 기판으로부터 급전 프로브의 상단면과 동일한 높이에 배치되면서 커플링 급전 방식에 따라 급전되도록 함으로써 로우 프로파일을 실현할 수 있다.Therefore, the dual polarization antenna according to the embodiment of the present invention implements two feeding probes in a hat shape, and slots into which the top surfaces of the two hat feeding probes are respectively inserted are formed in the feeding patch, so that the feeding patch is separated from the substrate. A low profile can be realized by allowing the power to be fed according to the coupling feeding method while being disposed at the same height as the top surface of the feeding probe.

도 1 및 도 2는 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 분해 사시도를 나타낸다.
도 3은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 조립 과정을 나타낸다.
도 4 및 도 5는 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 측단면도를 나타낸다.
도 6은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 상면도 및 측면도를 나타낸다.
도 7은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 반사 손실을 나타낸다.
도 8은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 수평 방사 패턴을 나타낸다.
1 and 2 are exploded perspective views of a dual polarization antenna according to the present embodiment.
3 shows an assembly process of the dual polarization antenna according to the present embodiment.
4 and 5 are cross-sectional side views of the dual polarization antenna according to the present embodiment.
6 is a top view and a side view of a dual polarization antenna according to the present embodiment.
7 shows the return loss of the dual polarization antenna according to the present embodiment.
8 shows a horizontal radiation pattern of the dual polarization antenna according to the present embodiment.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다. In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings illustrating preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 설명하는 실시예에 한정되는 것이 아니다. 그리고, 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 생략되며, 도면의 동일한 참조부호는 동일한 부재임을 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in detail by describing preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be embodied in various different forms, and is not limited to the described embodiments. In addition, in order to clearly explain the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals in the drawings indicate the same members.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라, 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "...부", "...기", "모듈", "블록" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어 또는 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다. Throughout the specification, when a part "includes" a certain component, it does not exclude other components, unless otherwise stated, meaning that other components may be further included. In addition, terms such as "...unit", "...group", "module", and "block" described in the specification mean a unit that processes at least one function or operation, which is hardware, software, or hardware. and a combination of software.

도 1 및 도 2는 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 분해 사시도를 나타내고, 도 3은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 조립 과정을 나타내며, 도 4 및 도 5는 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 측단면도를 나타낸다. 그리고 도 6은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 상면도 및 측면도를 나타낸다.1 and 2 are exploded perspective views of the dual polarization antenna according to the present embodiment, FIG. 3 is an assembly process of the dual polarization antenna according to the present embodiment, and FIGS. 4 and 5 are the dual polarization antennas according to the present embodiment. A side cross-sectional view of the antenna is shown. And Figure 6 shows a top view and a side view of the dual polarization antenna according to the present embodiment.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나는 기판(10), 2개의 급전 프로브(21, 22), 급전 패치(30) 및 방사 패치(40)를 포함한다.1 to 6 , the dual polarization antenna according to the present embodiment includes a substrate 10 , two feed probes 21 and 22 , a feed patch 30 , and a radiation patch 40 .

2개의 급전 프로브(21, 22)는 기판(10)의 일면 상에 각각 기지정된 방향으로 연장되도록 형성되며, 급전 신호를 인가받는다. 2개의 급전 프로브(21, 22)는 기판(10)의 일면 상의 기지정된 위치에서 서로 직교하는 방향으로 연장되도록 형성된다. 여기서는 일 예로 제1 급전 프로브(21)가 45° 방향으로 연장되고, 제2 급전 프로브(22)는 -45° 방향으로 연장되도록 형성되었으며, 제1 급전 프로브(21)는 45° 편파 신호를 급전 신호로 인가받고, 제2 급전 프로브(22)는 -45° 편파 신호를 급전 신호로 인가받을 수 있다. 즉 도 1 내지 도 6에서는 이중 경사 이중 편파 안테나(dual slant polarization antenna)를 도시하였다.The two feeding probes 21 and 22 are respectively formed to extend in a predetermined direction on one surface of the substrate 10 and receive a feeding signal. The two feeding probes 21 and 22 are formed to extend in a direction orthogonal to each other at a predetermined position on one surface of the substrate 10 . Here, as an example, the first feed probe 21 extends in a 45° direction, the second feed probe 22 extends in a -45° direction, and the first feed probe 21 feeds a 45° polarized signal. In response to the signal being applied, the second feeding probe 22 may receive a -45° polarized signal as a feeding signal. That is, FIGS. 1 to 6 show a dual slant polarization antenna.

본 실시예에서 2개의 급전 프로브(21, 22) 각각은 상기 기판의 일면상에서 기지정된 방향으로 연장되면서, 각각 가운데 일부가 상기 기판의 일면으로부터 이격되어 평행하게 진행하는 모자 형상(hat shape)( "

Figure 112021029853396-pat00001
" 형상)으로 구현된다.In this embodiment, each of the two feeding probes 21 and 22 extends in a predetermined direction on one surface of the substrate, and a part of each of them is spaced apart from one surface of the substrate and proceeds in parallel in a hat shape ("
Figure 112021029853396-pat00001
"shape) is implemented.

도 4에 도시된 제1 급전 프로브(21)의 확대 도면을 살펴보면, 본 실시예에 따른 급전 프로브(21, 22)는 급전부(310), 제1 벤딩부(320), 상단 평활부(330), 제2 벤딩부(340) 및 프로브 지지부(350)로 구분될 수 있다. 우선 급전부(310)는 기판(10)의 일면상에서 기지정된 방향으로 연장되는 형태를 가지며, 급전 신호를 인가받는다. 여기서는 일 예로 급전부(310)가 기판(10)의 일면 상에 형성된 급전 선로(11, 12) 중 대응하는 급전 선로(11)를 통해 급전 신호를 인가받는 것으로 도시하였으나, 급전부(310)는 다른 방식으로 급전 신호를 인가받도록 구성될 수 도 있다.Referring to the enlarged view of the first feeding probe 21 shown in FIG. 4 , the feeding probes 21 and 22 according to the present embodiment include a feeding part 310 , a first bending part 320 , and an upper smoothing part 330 . ), the second bending part 340 and the probe support part 350 may be divided. First, the power feeding unit 310 has a shape extending in a predetermined direction on one surface of the substrate 10 and receives a power feeding signal. Here, as an example, the power feeding unit 310 is illustrated as receiving a feeding signal through a corresponding feeding line 11 among the feeding lines 11 and 12 formed on one surface of the substrate 10, but the feeding unit 310 is It may be configured to receive the power supply signal in another way.

급전부(310)에 일단이 연결되는 제1 벤딩부(320)는 급전부(310)와 연결된 위치에서 벤딩되어 기판(10)에 대해 수직 방향으로 연장되도록 형성된다. 그리고 상단 평활부(330)는 일단이 제1 벤딩부(320)의 타단에서 벤딩되어 기판(10)과 기지정된 높이만큼 이격되어 평행하게 연장되는 형태로 형성된다. 제2 벤딩부(340)는 상단 평활부(330)의 타단에서 벤딩되어 기판(10) 방향으로 수직하여 연장되도록 형성되며, 프로브 지지부(350)는 제2 벤딩부(340)가 연장되어 상기 기판(10)에 도달하는 위치에서 벤딩되어 다시 급전부(310)의 연장 방향을 따라 기지정된 거리만큼 연장되도록 형성된다. 이때 프로브 지지부(350)는 도 4의 확대도면에 나타난 바와 같이 급전 선로(11)와 직접 연결되지 않는다.The first bending unit 320 having one end connected to the power feeding unit 310 is bent at a position connected to the power feeding unit 310 to extend in a vertical direction with respect to the substrate 10 . In addition, the upper smooth part 330 is formed in such a way that one end is bent at the other end of the first bending part 320 and is spaced apart from the substrate 10 by a predetermined height and extends in parallel. The second bending part 340 is bent at the other end of the upper smoothing part 330 to extend vertically in the direction of the substrate 10 , and the probe support part 350 includes the second bending part 340 extending from the substrate. It is bent at the position reaching 10 and is formed to extend by a predetermined distance along the extending direction of the power feeding unit 310 again. At this time, the probe support part 350 is not directly connected to the feed line 11 as shown in the enlarged view of FIG. 4 .

그리고 본 실시예의 이중 편파 안테나는 2개의 급전 프로브(21, 22)와 대칭되는 구조를 갖는 2개의 매칭 구조체(23, 24)를 더 포함할 수 있다. 2개의 매칭 구조체(23, 24)는 이중 편파 안테나의 임피던스 매칭을 위해 구비된다. 2개의 매칭 구조체(23, 24)는 각각 급전 프로브(21, 22)에 대응하는 형상 구조를 갖고, 기판(10)의 일면 상에서 2개의 급전 프로브(21, 22)에 대응하는 위치 및 연장 방향으로 배치될 수 있다. 즉 2개의 매칭 구조체(23, 24)는 각각 45° 방향과 -45° 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다.In addition, the dual polarization antenna of the present embodiment may further include two matching structures 23 and 24 having a structure symmetrical to the two feeding probes 21 and 22 . Two matching structures 23 and 24 are provided for impedance matching of the dual polarization antenna. The two matching structures 23 and 24 have a shape structure corresponding to the feeding probes 21 and 22, respectively, and are positioned on one surface of the substrate 10 in positions and extension directions corresponding to the two feeding probes 21 and 22. can be placed. That is, the two matching structures 23 and 24 may be formed to extend in a 45° direction and a -45° direction, respectively.

2개의 매칭 구조체(23, 24) 각각은 급전 프로브(21, 22)와 동일하게 급전부, 제1 벤딩부, 상단 평활부, 제2 벤딩부 및 프로브 지지부로 구성될 수 있다. 다만, 매칭 구조체(23, 24)는 급전 프로브(21, 22)와 달리 급전 신호를 인가받을 필요가 없으므로, 급전부에 급전 선로가 연결되지 않는다. 이에 매칭 구조체(23, 24)에서는 급전부가 급전 프로브(21, 22)의 급전부(310)보다 짧은 길이를 갖도록 구현될 수 있으며, 이는 급전부를 대신하여 프로브 지지부가 양단에 위치하는 구조로 볼 수도 있다.Each of the two matching structures 23 and 24 may include a feeding part, a first bending part, a top smoothing part, a second bending part, and a probe support part in the same way as the feeding probes 21 and 22 . However, since the matching structures 23 and 24 do not need to receive a feed signal unlike the feed probes 21 and 22 , the feed line is not connected to the feed part. Accordingly, in the matching structures 23 and 24, the feeding part may be implemented to have a shorter length than the feeding part 310 of the feeding probes 21 and 22, which is a structure in which the probe support parts are located at both ends instead of the feeding part. may be

한편, 급전 패치(30)는 2개의 급전 프로브(21, 22)로부터 커플링 방식으로 인가되는 급전 신호를 방사 패치(40)로 다시 커플링 방식으로 전달한다. 특히 본 실시예에서 급전 패치(30)에는 다수의 슬롯(31, 32)이 형성된다. 여기서 제1 슬롯(31)은 급전 프로브(21, 22)의 상단면, 즉 상단 평활부(330)가 내측에 삽입되도록 형성되며, 제2 슬롯(32)은 매칭 구조체(23, 24)의 상단면이 내측에 삽입되도록 형성된다.On the other hand, the feed patch 30 transfers the feed signal applied from the two feed probes 21 and 22 in a coupling manner back to the radiation patch 40 in a coupling manner. In particular, a plurality of slots 31 and 32 are formed in the feeding patch 30 in this embodiment. Here, the first slot 31 is formed such that the upper surface of the feeding probes 21 and 22, that is, the upper smooth part 330 is inserted therein, and the second slot 32 is the upper end of the matching structures 23 and 24. The surface is formed to be inserted inside.

여기서 제1 및 제2 슬롯(31, 32) 각각은 급전 프로브(21, 22)와 매칭 구조체(23, 24)의 상단면을 이루는 상단 평활부(330)와 직접적으로 접촉되지 않도록, 상단 평활부(330)보다 크게 형성되고, 상단 평활부(330)는 제1 및 제2 슬롯(31, 32)의 내측에서 기지정된 간격 이상 이격되도록 삽입될 수 있다.Here, each of the first and second slots 31 and 32 is a top smooth part so as not to come in direct contact with the top smooth part 330 constituting the top surfaces of the feeding probes 21 and 22 and the matching structures 23 and 24 , respectively. Formed to be larger than 330, the upper smooth portion 330 may be inserted so as to be spaced apart from each other by a predetermined distance or more from the inside of the first and second slots 31 and 32.

이와 같이 급전 패치(30)에 다수의 슬롯(31, 32)이 형성되어 급전 프로브(21, 22)와 매칭 구조체(23, 24)의 상단 평활부(330)가 대응하는 슬롯(31, 32)의 내부에 삽입될 수 있게 됨에 따라, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서 급전 패치(30)는 기판(10)의 일면으로부터 급전 프로브(21, 22)의 상단면 높이, 즉 상단 평활부(330)와 평행하게 배치될 수 있다. 이는 급전 패치(30)가 커플링 급전 방식으로 급전 프로브(21, 22)로부터 급전 신호를 인가받음에도 불구하고, 급전 프로브(21, 22)와 방사 패치(40) 사이에 급전 패치(30)를 위치시키기 위한 추가적인 높이를 요구하지 않도록 한다. 즉 이중 편파 안테나의 높이를 줄일 수 있어 로우 프로파일을 실현할 수 있도록 한다.In this way, a plurality of slots 31 and 32 are formed in the feeding patch 30, so that the feeding probes 21 and 22 and the upper smooth portion 330 of the matching structures 23 and 24 correspond to the slots 31 and 32. As it can be inserted into the inside of, as shown in FIGS. 4 and 5, the feeding patch 30 in this embodiment is the top surface height of the feeding probes 21 and 22 from one side of the substrate 10, That is, it may be disposed parallel to the upper smooth part 330 . This is in spite of the fact that the feeding patch 30 receives a feeding signal from the feeding probes 21 and 22 in a coupling feeding method, the feeding patch 30 is placed between the feeding probes 21 and 22 and the radiation patch 40 . Do not require additional height for positioning. In other words, it is possible to reduce the height of the dual polarization antenna to realize a low profile.

그리고 방사 패치(40)는 기판(10)의 일면 방향으로 급전 패치(30)로부터 기지정된 간격만큼 이격되어 배치된다. 방사 패치(40)는 급전 패치(30)로부터 커플링 급전 방식으로 급전 신호를 인가받아 인가된 급전 신호에 대응하는 신호를 방사한다. 이때 방사 패치(40)에는 방사 특성을 개선하기 위한 다양한 패턴의 슬릿(slit)(41)이 더 형성될 수 있다. 여기서는 다수의 슬릿(41)이 급전 프로브(21, 22)와 매칭 구조체(23, 24) 각각이 연장되는 방향으로 형성된 경우를 도시하였다. 그러나 방사 패치(40)에 형성되는 슬릿(41)은 다양한 패턴을 가질 수 있다.In addition, the radiation patch 40 is disposed to be spaced apart from the feed patch 30 by a predetermined distance in the direction of one surface of the substrate 10 . The radiation patch 40 receives a feed signal from the feed patch 30 in a coupling feed method and radiates a signal corresponding to the applied feed signal. In this case, the radiation patch 40 may further have slits 41 having various patterns for improving radiation characteristics. Here, a case in which the plurality of slits 41 are formed in a direction in which the feeding probes 21 and 22 and the matching structures 23 and 24 extend respectively is illustrated. However, the slits 41 formed in the radiation patch 40 may have various patterns.

한편, 기판(10)의 타면 상에는 접지면(14)이 형성될 수 있다. 또한 기판(10)의 타면과 밀착되거나, 타면으로부터 기지정된 간격만큼 이격되어 반사판(50)이 더 배치될 수 있다.Meanwhile, the ground plane 14 may be formed on the other surface of the substrate 10 . In addition, the reflective plate 50 may be further disposed in close contact with the other surface of the substrate 10 or spaced apart from the other surface by a predetermined distance.

추가적으로 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나에서는 급전 패치(30)와 방사 패치(40)가 각각 기판(10)으로부터 기지정된 간격만큼 이격된 위치에서 안정적으로 배치되도록 하는 지지체(60)를 더 포함할 수 있다. 지지체(60)는 기판(10)의 일면 상에 배치될 수 있다. 즉 지지체(60)는 기판(10)과 급전 패치(30) 사이에 위치할 수 있다. 지지체(60)는 기판 결합부(66)를 이용하여 기판(10)의 일면에 결합될 수 있으며, 급전 프로브(21, 22)와 매칭 구조체(23, 24)의 상단 평활부(330)가 지지체(60)의 급전 패치(30) 방향 일면으로 관통되어 돌출될 수 있도록 다수의 관통홀(61, 62)이 형성된다. 여기서 2개의 제1 관통홀(61)은 2개의 제1 슬롯(31)에 대응하는 패턴으로 형성되고, 2개의 제2 관통홀(62)은 2개의 제2 슬롯(32)에 대응하는 패턴으로 형성될 수 있다.. 이때 지지체(60)의 두께는 지지체(60)의 일면 상에 거치되는 급전 프로브(21, 22)와 매칭 구조체(23, 24)의 상단 평활부와 급전 패치(30)가 평행하게 배치되도록 설정될 수 있다. 즉 지지체(60)는 급전 프로브(21, 22)의 제1 및 제2 벤딩부(330, 340) 길이에 대응하는 두께를 가질 수 있다.Additionally, in the dual polarization antenna according to this embodiment, the feed patch 30 and the radiation patch 40 may further include a support 60 to be stably disposed at a position spaced apart from the substrate 10 by a predetermined distance, respectively. have. The support 60 may be disposed on one surface of the substrate 10 . That is, the support 60 may be positioned between the substrate 10 and the feeding patch 30 . The support 60 may be coupled to one surface of the substrate 10 using the substrate coupling part 66, and the upper smooth part 330 of the feeding probes 21 and 22 and the matching structures 23 and 24 is the support. A plurality of through-holes (61, 62) are formed so as to protrude through one surface of the feeding patch (60) in the direction of (60). Here, the two first through-holes 61 are formed in a pattern corresponding to the two first slots 31 , and the two second through-holes 62 are formed in a pattern corresponding to the two second slots 32 . In this case, the thickness of the support 60 is the feeding probes 21 and 22 mounted on one surface of the support 60 and the smooth upper end of the matching structures 23 and 24 and the feeding patch 30. It may be set to be arranged in parallel. That is, the support 60 may have a thickness corresponding to the lengths of the first and second bending portions 330 and 340 of the feeding probes 21 and 22 .

또한 지지체(60)에는 급전 패치(30)가 안정적으로 거치되어 고정되도록 지지체의 일면으로부터 방사 패치(40) 방향으로 돌출된 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63)가 형성될 수 있다. 여기서는 일 예로 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63)가 지지체(60)의 네 모서리에 삼각 기둥 형상으로 구현된 것으로 도시하였으며, 이에 대응하여 급전 패치(30)의 네 모서리 또한 급전 패치 결합 돌출부(63)의 형상에 대응하여 컷팅되어 급전 패치 결합부(34)가 형성된 것으로 도시하였다. 다만 이는 제조의 편의를 위한 것으로 급전 패치 결합 돌출부(63)와 급전 패치 결합부(34)는 지지체(60)에 급전 패치(30)가 거치되어 고정될 수 있는 다양한 형태로 형성될 수 있다.In addition, a plurality of feeding patch coupling protrusions 63 protruding in the direction of the radiation patch 40 from one surface of the support body may be formed on the support 60 so that the feed patch 30 is stably mounted and fixed. Here, as an example, a plurality of feeding patch coupling protrusions 63 are illustrated as being implemented in a triangular prism shape at the four corners of the support 60, and in response to this, the four corners of the feeding patch 30 are also fed patch coupling protrusions 63. It is shown that the cut corresponding to the shape of the feed patch coupling portion 34 is formed. However, this is for the convenience of manufacturing, and the feeding patch coupling protrusion 63 and feeding patch coupling part 34 may be formed in various shapes in which the feeding patch 30 is mounted and fixed to the support 60 .

뿐만 아니라 지지체(60)의 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63) 각각의 상단면에는 방사 패치 결합 돌기(64)가 더 형성될 수 있다. 상기한 바와 같이, 방사 패치(40)는 급전 패치(30)으로부터 기지정된 간격만큼 이격되어야 한다. 이에 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63) 각각의 상단면에는 방사 패치 결합 돌기(64)가 더 형성되고, 방사 패치(40)에는 다수의 방사 패치 결합 돌기(64)에 대응하는 위치에 다수의 방사 패치 결합홀(42)이 형성된다. 여기서 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63) 각각은 대응하는 방사 패치 결합홀(42)에 삽입됨으로서, 방사 패치(40)가 결합 고정되도록 한다. 이때 급전 패치(30)는 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63)의 측면을 따라 지지체(60)의 일면상에 밀착되어 배치되고, 방사 패치(40)는 다수의 급전 패치 결합 돌출부(63)의 상단면 상에 배치되므로, 급전 패치 결합 돌출부(63)의 높이에 따라 서로 이격되어 배치된다. 즉 급전 패치(30)와 방사 패치(40) 사이의 이격된 간격은 급전 패치 결합 돌출부(63)의 높이에 따라 조절될 수 있다.In addition, a radiation patch coupling protrusion 64 may be further formed on the upper surface of each of the plurality of feeding patch coupling protrusions 63 of the support 60 . As described above, the radiation patch 40 should be spaced apart from the feed patch 30 by a predetermined distance. Accordingly, a radiation patch coupling protrusion 64 is further formed on the top surface of each of the plurality of feeding patch coupling protrusions 63 , and a plurality of radiating patches are formed in the radiation patch 40 at positions corresponding to the plurality of radiation patch coupling projections 64 . A patch coupling hole 42 is formed. Here, each of the plurality of feeding patch coupling protrusions 63 is inserted into the corresponding radiation patch coupling hole 42, so that the radiation patch 40 is coupled and fixed. At this time, the feeding patch 30 is arranged in close contact with one surface of the support 60 along the side of the plurality of feeding patch coupling protrusions 63 , and the radiation patch 40 is the upper end of the plurality of feeding patch coupling protrusions 63 . Since it is disposed on the surface, it is disposed to be spaced apart from each other according to the height of the feeding patch coupling protrusion 63 . That is, the spaced distance between the feeding patch 30 and the radiation patch 40 may be adjusted according to the height of the feeding patch coupling protrusion 63 .

또한 지지체(60)의 일면 상에는 거치된 급전 패치(30)의 유동을 최대한 억제하기 위한 다수의 급전 패치 고정 돌기(65)가 더 형성될 수 있으며, 다수의 급전 패치 고정 돌기(65)에 대응하여 급전 패치(30)에는 다수의 급전 패치 고정홈(33)이 형성될 수 있다. 다수의 급전 패치 고정 돌기(65)는 급전 패치(30)가 지지체(60)의 일면 상에 배치되면, 다수의 급전 패치 고정홈(33) 중 대응하는 급전 패치 고정홈에 삽입되어 급전 패치(30)의 유동을 억제할 수 있다. 여기서는 일 예로 급전 패치(30)에 삼각형 형상의 급전 패치 고정홈(33)이 형성되는 것으로 도시하였으나, 급전 패치(30)에는 급전 패치 고정 돌기(65)에 대응하는 위치에 급전 패치 고정홀이 형성되어도 무방하다.In addition, a plurality of feeding patch fixing protrusions 65 for maximally suppressing the flow of the mounted feeding patch 30 may be further formed on one surface of the support 60, and in response to the plurality of feeding patch fixing projections 65 A plurality of feeding patch fixing grooves 33 may be formed in the feeding patch 30 . The plurality of feeding patch fixing protrusions 65 are inserted into the corresponding feeding patch fixing grooves among the plurality of feeding patch fixing grooves 33 when the feeding patch 30 is disposed on one surface of the support body 60 to feed the feeding patch 30 . ) can be suppressed. Here, as an example, the feeding patch 30 is shown as having a triangular-shaped feeding patch fixing groove 33 formed, but the feeding patch 30 has a feeding patch fixing hole formed at a position corresponding to the feeding patch fixing protrusion 65 . it is free to be

추가적으로 지지체(60)의 타면 상에는 기판(10)에 결합된 지지체(60)의 유동을 억제하기 위한 다수의 지지체 고정 돌기(67)가 더 형성될 수 있다. 그리고 기판(10)에는 다수의 지지체 고정 돌기(67) 각각에 대응하는 위치에 지지체 결합홀(13)이 형성되어, 이중 편파 안테나 결합 시에 다수의 지지체 고정 돌기(67)가 삽입됨으로써, 지지체(60)가 유동되지 않고 안정적으로 기판(10) 상에 고정되도록 할 수 있다.Additionally, a plurality of support fixing protrusions 67 for suppressing the flow of the support 60 coupled to the substrate 10 may be further formed on the other surface of the support 60 . In addition, the support coupling hole 13 is formed in the substrate 10 at a position corresponding to each of the plurality of support fixing protrusions 67, and by inserting the plurality of support fixing projections 67 when the double polarized antenna is coupled, the support ( 60) can be stably fixed on the substrate 10 without flowing.

상기한 이중 편파 안테나는 도 3에 도시된 바와 같이, 우선 기판(10) 일면 상에 2개의 급전 프로브(21, 22)와 2개의 매칭 구조체(23, 24)를 각각 배치하고, 기판(10)의 일면 상에 2개의 급전 프로브(21, 22)와 2개의 매칭 구조체(23, 24)가 관통하도록 지지체(60)를 결합 고정하며, 이후, 급전 패치(30)와 방사 패치(40)를 순차적으로 지지체(60)의 일면 방향에서 결합하여 용이하게 제조될 수 있다.As shown in FIG. 3 , the double polarization antenna described above is first by disposing two feeding probes 21 and 22 and two matching structures 23 and 24 on one surface of the substrate 10, respectively, and the substrate 10 The two feeding probes 21 and 22 and the two matching structures 23 and 24 are coupled and fixed on one side of the support 60 to pass through, and then, the feeding patch 30 and the radiation patch 40 are sequentially connected. By combining in the direction of one side of the support 60 can be easily manufactured.

결과적으로 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나는 기판의 일면 상에 2개의 급전 프로브(21, 22)를 모자 형상으로 구현하고, 2개의 급전 프로브(21, 22)의 상단면 각각에 대응하는 2개의 제1 슬롯(31)이 형성된 급전 패치(30)를 급전 프로브(21, 22)의 상단면과 동일한 높이에 배치함에 따라, 급전 프로브(21, 22)와 방사 패치(40) 사이에 급전 패치(30)를 위치 시키기 위한 추가적인 높이가 요구되지 않으므로, 로우 프로파일을 실현할 수 있다.As a result, the dual polarization antenna according to the present embodiment implements two feed probes 21 and 22 in a hat shape on one surface of the substrate, and two feed probes 21 and 22 corresponding to the top surfaces of the two feed probes 21 and 22, respectively. By disposing the feeding patch 30 with the first slot 31 formed at the same height as the top surfaces of the feeding probes 21 and 22, the feeding patch ( 30) is not required, so a low profile can be realized.

도 7은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 반사 손실을 나타내고, 도 8은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 수평 방사 패턴을 나타낸다.7 shows the return loss of the dual polarization antenna according to the present embodiment, and FIG. 8 shows the horizontal radiation pattern of the dual polarization antenna according to the present embodiment.

도 7에서는 2.496 GHz 주파수 대역에서의 반사 손실을 측정한 결과를 나타낸다. 도 7에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나는 낮은 반사 손실을 가짐을 알 수 있다. 그리고 도 8은 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 주파수별 방사 패턴을 나타낸다. 여기서는 일 예로 2.496 GHz, 2.550 GHz, 2.660 GHz 및 2.690 GHz 주파수 대역 각각에서의 방사 패턴을 도시하였다. 도 8에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 이중 편파 안테나의 수평 빔폭은 종래기술에 따른 안테나와 유사한 성능을 가짐을 알 수 있다.7 shows the result of measuring the return loss in the 2.496 GHz frequency band. As shown in FIG. 7 , it can be seen that the dual polarization antenna according to the present embodiment has a low return loss. And FIG. 8 shows a radiation pattern for each frequency of the dual polarization antenna according to the present embodiment. Here, as an example, radiation patterns in each of the 2.496 GHz, 2.550 GHz, 2.660 GHz, and 2.690 GHz frequency bands are illustrated. As shown in FIG. 8 , it can be seen that the horizontal beamwidth of the dual polarization antenna according to the present embodiment has similar performance to that of the antenna according to the prior art.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, which is only exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom.

따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be defined by the technical spirit of the appended claims.

10: 기판 11, 12: 급전 선로
13: 지지체 결합홀 14: 접지면
21, 22: 급전 프로브 23, 24: 매칭 구조체
30: 급전 패치 31: 제1 슬롯
32: 제2 슬롯 33: 급전 패치 고정홈
34: 급전 패치 결합부 40: 방사 패치
41: 이중 편파 슬릿 42: 방사 패치 결합홀
50: 반사판 60: 지지체
61: 제1 관통홀 62: 제2 관통홀
63: 급전 패치 결합 돌출부 64: 방사 패치 결합 돌기
65: 급전 패치 고정 돌기 66: 기판 결합부
67: 지지체 고정 돌기 310: 급전부
330: 제1 벤딩부 340: 상단 평활부
340: 제2 벤딩부 350: 프로브 지지부
10: board 11, 12: feed line
13: support coupling hole 14: ground plane
21, 22: feeding probe 23, 24: matching structure
30: feed patch 31: first slot
32: second slot 33: feeding patch fixing groove
34: feed patch coupling portion 40: radiation patch
41: double polarization slit 42: radiation patch coupling hole
50: reflector 60: support
61: first through hole 62: second through hole
63: feeding patch engaging projection 64: radial patch engaging projection
65: feeding patch fixing protrusion 66: board coupling part
67: support fixing protrusion 310: feeding unit
330: first bending part 340: upper smooth part
340: second bending part 350: probe support part

Claims (13)

기판;
상기 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되면서, 각각 가운데 일부가 상기 기판의 일면으로부터 이격되어 평행하게 진행하는 모자 형상(hat shape)으로 구현되며, 각각 급전 신호를 인가받는 2개의 급전 프로브; 및
상기 기판의 일면으로부터 상기 2개의 급전 프로브의 상단면과 동일한 높이로 배치되고, 상기 2개의 급전 프로브로부터 커플링 급전 방식에 따라 급전 신호를 인가받는 급전 패치를 포함하되,
상기 급전 패치는
상기 2개의 급전 프로브 상단면 각각이 내측에 이격되어 삽입되는 2개의 제1 슬롯이 형성되고,
상기 2개의 제1 슬롯은
상기 기판의 일면상의 기지정된 위치에서 45° 및 -45° 방향으로 연장되는 형태로 형성된 상기 2개의 급전 프로브에 대응하여, 45° 및 -45° 방향으로 형성되는 이중 편파 안테나.
Board;
Two feeding probes extending in a predetermined direction on one surface of the substrate, each of which is implemented in a hat shape, a portion of which is spaced apart from one surface of the substrate and proceeds in parallel, and receives a feeding signal, respectively; and
and a feeding patch disposed at the same height as the top surfaces of the two feeding probes from one surface of the substrate and receiving a feeding signal from the two feeding probes according to a coupling feeding method,
The feed patch is
Two first slots are formed in which each of the top surfaces of the two feeding probes are spaced apart and inserted therein,
The two first slots are
A dual polarization antenna formed in 45° and -45° directions corresponding to the two feeding probes formed in a shape extending in 45° and -45° directions at predetermined positions on one surface of the substrate.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 이중 편파 안테나는
상기 2개의 급전 프로브의 형상에 대응하는 형상을 갖고, 상기 기판의 일면 상에서 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하는 위치 및 연장 방향을 갖고 배치되는 2개의 매칭 구조체를 더 포함하는 이중 편파 안테나.
According to claim 1, wherein the dual polarization antenna
Double polarization further comprising two matching structures having a shape corresponding to the shape of the two feeding probes and disposed on one surface of the substrate having positions and extension directions corresponding to the positions and extension directions of the two feeding probes antenna.
제1항에 있어서, 상기 이중 편파 안테나는
상기 기판과 상기 급전 패치 사이에 배치되어, 상기 기판으로부터 서로 다른 기지정된 간격만큼 이격된 기지정된 위치에 상기 급전 패치를 고정시키는 지지체를 더 포함하고,
상기 지지체는
상기 2개의 제1 슬롯 각각의 위치 및 형상에 대응하는 위치와 형상을 갖고 상기 2개의 급전 프로브의 상단면이 삽입 관통되는 2개의 제1 관통홀이 형성되는 이중 편파 안테나.
According to claim 1, wherein the dual polarization antenna
It is disposed between the substrate and the feeding patch, further comprising a support for fixing the feeding patch at a predetermined position spaced apart from each other by a predetermined distance from the substrate,
The support is
A dual polarization antenna having a position and a shape corresponding to the position and shape of each of the two first slots, and having two first through-holes through which top surfaces of the two feeding probes are inserted.
제1항에 있어서, 상기 이중 편파 안테나는
상기 기판의 일면 방향에서 상기 급전 패치와 기기정된 간격만큼 이격 배치되고, 상기 급전 패치로부터 커플링 급전 방식으로 급전되는 방사 패치를 더 포함하는 이중 편파 안테나
According to claim 1, wherein the dual polarization antenna
The double polarization antenna further comprising a radiation patch that is spaced apart from the feeding patch by a predetermined distance in the direction of one surface of the substrate and is fed by a coupling feeding method from the feeding patch.
제5항에 있어서, 상기 이중 편파 안테나는
상기 2개의 급전 프로브의 형상에 대응하는 형상을 갖고, 상기 기판의 일면 상에서 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하는 위치 및 연장 방향을 갖고 배치되는 2개의 매칭 구조체; 및
상기 방사 패치에 형성되고, 상기 2개의 급전 프로브와 상기 2개의 매칭 구조체의 배치 위치 및 연장 방향에 대응하는 형상을 갖는 다수의 슬릿을 더 포함하는 이중 편파 안테나
The method of claim 5, wherein the dual polarization antenna
two matching structures having a shape corresponding to the shape of the two feeding probes and disposed on one surface of the substrate having positions and extending directions corresponding to the positions and extending directions of the two feeding probes; and
A double polarization antenna formed on the radiation patch and further comprising a plurality of slits having shapes corresponding to the arrangement positions and extension directions of the two feeding probes and the two matching structures
제3항에 있어서, 상기 급전 패치는
상기 2개의 매칭 구조체 상단면 각각이 내측에 이격되어 삽입되도록, 상기 2개의 매칭 구조체 각각의 위치 및 연장 방향 대응하여 45° 및 -45° 방향으로 연장되는 2개의 제2 슬롯이 더 형성되는 이중 편파 안테나.
The method of claim 3, wherein the feeding patch
Double polarized wave in which two second slots extending in 45° and -45° directions corresponding to the position and extension direction of each of the two matching structures are further formed so that the top surfaces of the two matching structures are respectively spaced apart and inserted therein antenna.
제1항에 있어서, 상기 2개의 급전 프로브 각각은
상기 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되며, 급전 신호를 인가받는 급전부;
상기 급전부에 일단이 연결되고 상기 기판으로부터 수직 방향으로 연장되는 제1 벤딩부;
상기 제1 벤딩부의 타단에 일단이 연결되어, 상기 기판의 일면과 평행하게 연장되어 상기 급전 프로브의 상단면을 형성하는 상단 평활부;
상기 상단 평활부의 타단에 일단이 연결되어 기판 방향으로 상기 상단 평활부에 수직하여 연장되는 제2 벤딩부; 및
상기 기판의 일면 상에서 상기 제2 벤딩부의 타단에 일단이 연결되어 상기 급전부의 연장 방향을 따라 기지정된 거리만큼 다시 연장되는 프로브 지지부를 포함하는 이중 편파 안테나.
The method of claim 1, wherein each of the two feeding probes is
a power feeding unit extending in a predetermined direction on one surface of the substrate and receiving a power feeding signal;
a first bending part having one end connected to the feeding part and extending in a vertical direction from the substrate;
an upper smoothing part having one end connected to the other end of the first bending part and extending parallel to one surface of the substrate to form an upper surface of the feeding probe;
a second bending part having one end connected to the other end of the upper smoothing part and extending perpendicular to the upper smoothing part in a direction of the substrate; and
and a probe support part having one end connected to the other end of the second bending part on one surface of the substrate and extending again by a predetermined distance along an extension direction of the feeding part.
제1항에 있어서, 상기 이중 편파 안테나는
상기 기판의 타면상에 형성되는 접지면; 및
상기 기판의 타면 방향으로 상기 접지면과 밀착되거나 기지정된 간격만큼 이격되어 배치되는 반사판을 더 포함하는 이중 편파 안테나.
According to claim 1, wherein the dual polarization antenna
a ground plane formed on the other surface of the substrate; and
The double polarization antenna further comprising a reflector disposed in close contact with the ground plane in the direction of the other surface of the substrate or spaced apart by a predetermined interval.
기판;
상기 기판의 일면 상에서 기지정된 방향으로 연장되면서, 각각 가운데 일부가 상기 기판의 일면으로부터 이격되어 평행하게 진행하는 모자 형상(hat shape)으로 구현되며, 각각 45°및 -45°편파 신호를 급전 신호로 인가받는 2개의 급전 프로브;
상기 기판의 일면으로부터 기지정된 간격만큼 이격 배치되고, 상기 2개의 급전 프로브로부터 커플링 급전 방식에 따라 급전 신호를 인가받으며, 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하는 위치 및 연장 방향을 갖고 상기 2개의 급전 프로브의 상단면이 삽입되는 2개의 제1 슬롯이 형성되는 급전 패치; 및
상기 기판의 일면 방향에서 상기 급전 패치와 기기정된 간격만큼 이격되어 배치되고, 상기 급전 패치로부터 커플링 급전 방식으로 급전되어 이중 편파를 방사하는 방사 패치를 포함하되,
상기 2개의 급전 프로브의 상단면이 삽입 관통되도록 상기 2개의 제1 슬롯 각각의 위치 및 형상에 대응하는 위치와 형상으로 2개의 제1 관통홀이 형성되고, 상기 기판과 상기 급전 패치 사이에 배치되어, 상기 기판으로부터 서로 다른 기지정된 간격만큼 이격된 지정된 위치에 상기 급전 패치와 상기 방사 패치 각각을 고정시키는 지지체를 더 포함하는 이중 편파 안테나.
Board;
While extending in a predetermined direction on one surface of the substrate, a part of each of them is implemented in a hat shape that is spaced apart from one surface of the substrate and proceeds in parallel, and 45° and -45° polarized signals are respectively used as feed signals. Two energized feed probes;
It is spaced apart from one surface of the substrate by a predetermined distance, receives a feed signal from the two feed probes according to a coupling feed method, and has a position and an extension direction corresponding to the position and extension direction of the two feed probes. a feeding patch in which two first slots into which upper surfaces of the two feeding probes are inserted are formed; and
and a radiation patch disposed to be spaced apart from the feeding patch by a predetermined distance in the direction of one surface of the substrate, and fed by a coupling feeding method from the feeding patch to radiate a double polarized wave,
Two first through holes are formed with positions and shapes corresponding to the positions and shapes of the two first slots so that the top surfaces of the two feeding probes are inserted through, and disposed between the substrate and the feeding patch, , Double polarized antenna further comprising a support for fixing each of the feed patch and the radiation patch at a designated position spaced apart from each other by a predetermined distance from the substrate.
삭제delete 제10항에 있어서, 상기 이중 편파 안테나는
상기 2개의 급전 프로브 각각의 형상에 대응하는 형상을 갖고, 상기 기판의 일면 상에서 상기 2개의 급전 프로브의 위치 및 연장 방향에 대응하여 45°및 -45°방향 연장되는 방향으로 형성되는 2개의 매칭 구조체를 더 포함하는 이중 편파 안테나.
11. The method of claim 10, wherein the dual polarization antenna
Two matching structures having a shape corresponding to the shape of each of the two feeding probes and formed in a direction extending in 45° and -45° directions corresponding to the positions and extension directions of the two feeding probes on one surface of the substrate A dual polarization antenna further comprising a.
제12항에 있어서, 상기 급전 패치는
상기 2개의 매칭 구조체 각각의 위치 및 연장 방향에 대응하여 45°및 -45°방향으로 연장되는 2개의 제2 슬롯이 더 형성되고,
상기 지지체는
상기 2개의 매칭 구조체의 상단면이 삽입 관통되도록 상기 2개의 제2 슬롯 각각의 위치 및 형상에 대응하는 위치와 형상을 갖는 2개의 제2 관통홀이 더 형성되는 이중 편파 안테나.
The method of claim 12, wherein the feeding patch
Two second slots extending in 45° and -45° directions are further formed corresponding to the positions and extension directions of the two matching structures, respectively,
The support is
A double polarization antenna further comprising two second through-holes having positions and shapes corresponding to positions and shapes of the two second slots so that upper surfaces of the two matching structures are inserted through.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20120021037A (en) * 2010-08-31 2012-03-08 현대자동차주식회사 A patch antenna synchronous generating linearly polarized wave and circularly polarized wave
KR20160045649A (en) * 2016-04-08 2016-04-27 에이피위성통신주식회사 Multilayer ceramic circular polarized antenna having a Stub parasitic element
KR102125971B1 (en) 2019-04-19 2020-06-25 주식회사 에이스테크놀로지 Dual Polarization Base Station Antenna

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