KR102392098B1 - Release film and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이형 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 세라믹 적층 콘덴서(MLCC), 편광판 보호용, OCA(Opticallly Clear Adhesive)용 등의 전자재료분야에 사용되는 인라인코팅(In-Line Coating) 초경박리 이형필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film and a method for manufacturing the same. In more detail, it relates to an in-line coating carbide release film used in the field of electronic materials such as ceramic multilayer capacitors (MLCC), polarizing plate protection, and OCA (Optically Clear Adhesive).

Description

이형 필름 및 이의 제조방법{RELEASE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}Release film and manufacturing method thereof

본 발명은 이형 필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 세라믹 적층 콘덴서(MLCC), 편광판 보호용, OCA(Opticallly Clear Adhesive)용 등의 전자재료분야에 사용되는 인라인코팅(In-Line Coating) 초경박리 이형필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film and a method for manufacturing the same. In more detail, it relates to an in-line coating carbide release film used in the field of electronic materials such as ceramic multilayer capacitors (MLCC), polarizing plate protection, and OCA (Optically Clear Adhesive).

이형필름은 점착제나 접착제 등을 사용하기 위한 접착면 보호용 필름 또는 플렉서블한 재료를 지지하는 캐리어 시트 등에 사용되고 있다. The release film is used for an adhesive surface protection film for using an adhesive or an adhesive, or a carrier sheet for supporting a flexible material.

한편, 점착제 또는 접착제 등의 형상은 광학 제품의 용도와 품종이 다양화되고 생산성을 개선하기 위해 액상에서 시트로 변화되고 있다. On the other hand, the shape of the pressure-sensitive adhesive or adhesive is changing from a liquid to a sheet in order to diversify the uses and varieties of optical products and to improve productivity.

이러한 시트 형상을 보호하는 이형필름은 라벨이 사용될 때까지 분진, 파편, 수분 또는 기타 오염물로 인한 오염으로부터 접착제품의 접착면을 일시적으로 보호하다가, 접착제품의 사용 직전에 접착면으로부터 분리된다. 따라서 이형필름은 제품의 표면에 박리성을 부여하면서 동시에 제품과의 밀착력을 부여할 수 있는 코팅층이 형성되어 있다.The release film that protects the sheet shape temporarily protects the adhesive surface of the adhesive product from contamination by dust, debris, moisture or other contaminants until the label is used, and then is separated from the adhesive surface immediately before use of the adhesive product. Therefore, the release film is formed with a coating layer capable of imparting peelability to the surface of the product and at the same time providing adhesion to the product.

이형필름은 코팅방법 또는 용도에 따라 용제형 또는 에멀전형으로 제조할 수 있다. 일반적으로 에멀전형 조성물은 안정성이 떨어지고 물을 분산매로 사용함에 따른 증발 잠열이 높아 고온 경화가 필요한 문제가 있다. The release film can be prepared in a solvent type or an emulsion type depending on the coating method or use. In general, the emulsion-type composition has a problem that has poor stability and requires high temperature curing due to high latent heat of evaporation due to the use of water as a dispersion medium.

오프라인 코팅(Off-Line Coating)에 적용되는 이형필름은 건조 공정 온도가 낮고, 건조 라인(Line)의 길이가 짧아 용제형 또는 무용제형 코팅 조성물이 주로 사용된다. The release film applied to off-line coating has a low drying process temperature and a short drying line, so a solvent-type or solvent-free coating composition is mainly used.

인라인 코팅(In-Line Coating)에 적용되는 이형필름은 PET 필름 제막 공정에서 용제 사용에 따른 폭발 위험이 있으므로 주로 에멀젼형 조성물이 사용된다. Since the release film applied to in-line coating has a risk of explosion due to the use of solvents in the PET film film forming process, an emulsion-type composition is mainly used.

이러한 에멀젼형 조성물이 인라인 코팅에 적용되는 이유는 텐터(Tenter) 공정의 온도가 높아 충분한 가교결합이 가능하기 때문이다. 그러나 인라인 코팅용 실리콘 에멀젼 조성물은 연신이 가능해야 함에 따른 사용 원료가 제한되는 문제가 있어 인라인 코팅 실리콘 이형필름은 극히 제한적으로 생산되고 있다. The reason why such an emulsion-type composition is applied to the in-line coating is that sufficient crosslinking is possible because the temperature of the tenter process is high. However, the silicone emulsion composition for in-line coating has a problem in that the raw materials used are limited due to the need to be stretchable, so the in-line coating silicone release film is extremely limitedly produced.

상기와 같은 문제점을 해소하기 위해, 초기 박리가 용이하고, 충분한 경화반응이 이루어져 잔류점착율이 높으며, 배면 전사율이 낮은 인라인 코팅용 조성물 및 이를 이용한 이형필름을 제공하기 위한 다양한 시도가 있어 왔다. In order to solve the above problems, various attempts have been made to provide a composition for in-line coating that is easy to peel at the initial stage, has a sufficient curing reaction, has a high residual adhesive rate, and has a low back transfer rate, and a release film using the same.

대한민국 공개특허 제2014-0080659호에는 박리력 조절제로 하이드록실기 또는 알케닐기를 포함하는 오르가노 폴리실록산 수지를 포함하여 박리력 비를 조절하는 기술이 개시되어 있다. 하지만, 상기 기술은 경박리 즉, 이형력이 20 gf/inch 내외 수준까지만 도달할 수 있고, 초경박리, 즉, 이형력이 10 gf/inch 이하를 구현하기 어렵다. 또한, 인라인 코팅법으로는 코팅 두께를 높이는 데 한계가 있고, 코팅층의 두께가 상승할수록 제조 후 권취성이 떨어지고, 코팅 외관이 불량해지거나 코팅원료의 단가가 높아지는 문제가 있어, 이를 개선할 수 있는 연구개발이 요구되는 실정이다. Korean Patent Application Laid-Open No. 2014-0080659 discloses a technique for controlling a peel force ratio by including an organo polysiloxane resin including a hydroxyl group or an alkenyl group as a peel force control agent. However, in the above technique, light peeling, that is, the release force can reach only about 20 gf/inch, and it is difficult to implement ultra-hard peeling, that is, the release force is 10 gf/inch or less. In addition, the in-line coating method has a limitation in increasing the coating thickness, and as the thickness of the coating layer increases, the winding property after manufacturing decreases, the coating appearance is poor, or the unit cost of the coating raw material is increased. R&D is required.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로, 초기 이형력이 10 gf/inch 이하의 초경박리성을 달성할 수 있으며, 이형력의 경시 변화가 적고, 코팅 외관이 우수한 이형필름 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been derived to solve the above problems, and the initial release force can achieve super light peelability of 10 gf/inch or less, the change in the release force over time is small, and the release film has an excellent coating appearance and its An object of the present invention is to provide a manufacturing method.

또한, 본 발명은 권취 특성, 잔류 점착률이 우수하며, 이형력 편차를 최소화할 수 있는 이형필름 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a release film having excellent winding characteristics and residual adhesiveness, and minimizing deviation in release force, and a method for manufacturing the same.

본 발명은 이형필름 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a release film and a method for manufacturing the same.

본 발명은 폴리에스테르 기재 필름과, 상기 기재필름의 일면 또는 양면에 형성되는 이형코팅층을 포함하는 이형필름을 제공한다. 이때, 상기 이형코팅층은 평균입경이 0.05㎛ 내지 2㎛인 실리콘 비드를 포함하며, 하기 식 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a release film comprising a polyester base film and a release coating layer formed on one or both surfaces of the base film. In this case, the release coating layer includes silicon beads having an average particle diameter of 0.05 μm to 2 μm, and satisfying Equations 1 to 3 below.

[식 1][Equation 1]

Ri ≤ 10R i ≤ 10

[식 2][Equation 2]

|Rf - Ri| ≤ 20|R f - R i | ≤ 20

[식 3][Equation 3]

|Rf-max - Rf-min| ≤ 1.2|R f-max - R f-min | ≤ 1.2

상기 식 1 내지 3에서, Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf -max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf-min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.In Equations 1 to 3, R i is the release force measured after standing at 55° C. for 24 hours, R f is the release force measured after leaving it at 55° C. for 240 hours, and R f -max is 55° C. It is the maximum value among the release forces measured 5 times after leaving it at for 240 hours, and R f-min is the minimum value among the release forces measured 5 times after leaving it for 240 hours at 55°C.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름에 있어서, 이형코팅층은 규소화합물 조성물 및 알코올에 분산된 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물로 형성된 것일 수 있다. 이때, 실리콘 비드는 무수에탄올 및 무수이소프로필알콜 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 알코올을 분산매로 사용하여 분산된 상태로 이형코팅층 조성물에 혼합될 수 있다. In the release film according to an embodiment of the present invention, the release coating layer may be formed of a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicone beads dispersed in alcohol. At this time, the silicone beads may be mixed with the release coating layer composition in a dispersed state using any one or more alcohols selected from anhydrous ethanol and anhydrous isopropyl alcohol as a dispersion medium.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름에 있어서, 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다. In the release film according to an embodiment of the present invention, the silicon compound composition may include a silicon compound, a platinum-based catalyst, and a silicone-based wetting agent.

상기 규소화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. The silicon compound may include any one or two or more compounds selected from the following Chemical Formulas 1 to 3 and a compound represented by Chemical Formula 4.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016129327511-pat00001
Figure 112016129327511-pat00001

상기 화학식 1에서, n은 20 내지 3000이고, m은 1 내지 500이고, n+m은 21 내지 3000이다.In Formula 1, n is 20 to 3000, m is 1 to 500, and n+m is 21 to 3000.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016129327511-pat00002
Figure 112016129327511-pat00002

상기 화학식 2에서, x는 1 내지 3000이다.In Formula 2, x is 1 to 3000.

[화학식 3] [Formula 3]

Figure 112016129327511-pat00003
Figure 112016129327511-pat00003

상기 화학식 3에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 -CH=CH2, -(SiC2H6O)kCH=CH2, -(SiC2H6O)k(CH2)lCH=CH2에서 선택되는 어느 하나이며, k와 l은 각각 독립적으로 0 내지 300이며, y는 20 내지 3000이고, z는 1 내지 500이고, y + z는 21 내지 3000이다.In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently -CH=CH 2 , -(SiC 2 H 6 O) k CH=CH 2 , -(SiC 2 H 6 O) k ( CH 2 ) l CH=CH 2 Any one selected from, k and l are each independently 0 to 300, y is 20 to 3000, z is 1 to 500, and y + z is 21 to 3000.

[화학식 4] [Formula 4]

Figure 112016129327511-pat00004
Figure 112016129327511-pat00004

상기 화학식 4에서, a는 1 내지 150이고, b는 3 내지 300이고, a+b는 5 내지 300이다. In Formula 4, a is 1-150, b is 3-300, and a+b is 5-300.

또한, 본 발명은 Also, the present invention

a) 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 시트로 제조하는 단계;a) melt-extruding a polyester resin to prepare a sheet;

b) 상기 시트를 종방향으로 연신하는 단계;b) stretching the sheet in the longitudinal direction;

c) 상기 b) 단계 시트의 일면 또는 양면에 규소화합물 조성물 및 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물을 인라인 코팅법으로 도포하는 단계;c) applying a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicone beads to one or both surfaces of the sheet in step b) by an in-line coating method;

d) 상기 c) 단계 시트를 건조 및 예열한 후, 횡방향으로 연신하여 이형필름을 제조하는 단계; 및d) preparing a release film by drying and preheating the sheet in step c) and then stretching in the transverse direction; and

e) 상기 이형필름을 열처리하는 단계;e) heat-treating the release film;

를 포함하는 이형필름 제조방법을 제공한다. It provides a release film manufacturing method comprising a.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, 이형코팅층 조성물은 알코올에 분산된 실리콘 비드를 별도로 혼합시키는 것을 포함할 수 있다. In the method for manufacturing a release film according to an embodiment of the present invention, the release coating layer composition may include separately mixing silicone beads dispersed in alcohol.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, 실리콘 비드는 평균입경이 0.05㎛ 내지 2㎛인 것일 수 있다.In the method for manufacturing a release film according to an embodiment of the present invention, the silicone beads may have an average particle diameter of 0.05 μm to 2 μm.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다.In the method of manufacturing a release film according to an embodiment of the present invention, the silicon compound composition may include a silicon compound, a platinum-based catalyst, and a silicone-based wetting agent.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, d) 단계는 140℃ 이하에서 건조 및 예열을 실시할 수 있다. In the manufacturing method of the release film according to an embodiment of the present invention, step d) may be performed drying and preheating at 140 ℃ or less.

본 발명의 일 실시예에 따른 이형필름의 제조방법에 있어서, b) 단계 또는 d) 단계의 연신은 80 내지 150℃에서 실시할 수 있다. In the method of manufacturing a release film according to an embodiment of the present invention, the stretching of step b) or step d) may be performed at 80 to 150°C.

본 발명에 따른 이형필름은 인라인 코팅법을 적용함에도 10 gf/inch 이하의 초경박리성을 달성할 수 있다. 또한, 이형력의 경시 변화가 적으며 코팅 외관이 우수하고, 이형력의 편차를 최소화하여 박리 안정성이 우수하고, 이형필름 박리 시 발생할 수 있는 점착제 들뜸 현상으로 인한 불량을 개선할 수 있는 장점이 있다.The release film according to the present invention can achieve carbide peelability of 10 gf/inch or less even when the in-line coating method is applied. In addition, there is an advantage in that there is little change in release force over time, excellent coating appearance, excellent peel stability by minimizing variation in release force, and improvement of defects due to adhesive lifting that may occur during release film peeling. .

상기와 같은 물성 구현을 통해, 본 발명에 따른 이형필름은 콘덴서용, 사진필름용, 라벨용, 감압 테이프, 장식용 라미네이트, 트랜스퍼 테이프, 편광판 및 세라믹이형용 그린시트 등의 다양한 분야에 적용될 수 있는 장점이 있다.Through the realization of the above physical properties, the release film according to the present invention can be applied to various fields such as capacitors, photo films, labels, pressure-sensitive tapes, decorative laminates, transfer tapes, polarizing plates, and green sheets for ceramic release. there is.

이하, 구체예들을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며 여러 형태로 구현될 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the following specific examples or examples are only a reference for describing the present invention in detail, and the present invention is not limited thereto and may be implemented in various forms.

또한, 달리 정의되지 않은 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본원에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다.Further, unless otherwise defined, all technical and scientific terms have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. The terminology used herein is for the purpose of effectively describing particular embodiments only and is not intended to limit the invention.

또한, 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다.Further, the singular forms used in the specification and appended claims may also be intended to include the plural forms unless the context specifically dictates otherwise.

본 발명에 따른 이형필름은 폴리에스테르 기재 필름과, 이의 일면 또는 양면에 형성되는 이형코팅층을 포함하는 것으로, 상기 이형코팅층은 평균입경이 0.05㎛ 내지 2㎛인 실리콘 비드를 포함하며, 하기 식 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 한다.The release film according to the present invention comprises a polyester base film and a release coating layer formed on one or both sides thereof, wherein the release coating layer includes silicone beads having an average particle diameter of 0.05 μm to 2 μm, and Formulas 1 to 3 is satisfied.

[식 1][Equation 1]

Ri ≤ 10R i ≤ 10

[식 2][Equation 2]

|Rf - Ri| ≤ 20|R f - R i | ≤ 20

[식 3][Equation 3]

|Rf -max - Rf -min| ≤ 1.2|R f -max - R f -min | ≤ 1.2

상기 식 1 내지 3에서, Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf -max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf -min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.In Equations 1 to 3, R i is the release force measured after standing at 55° C. for 24 hours, R f is the release force measured after leaving it at 55° C. for 240 hours, and R f -max is 55° C. It is the maximum value among the release forces measured 5 times after leaving it at for 240 hours, and R f -min is the minimum value among the release forces measured 5 times after leaving it for 240 hours at 55°C.

본 발명에서 폴리에스테르 기재필름은 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬글리콜을 주성분으로 하는 글리콜 성분을 축중합하여 얻어지는 폴리에스테르 수지로 이루어질 수 있다. In the present invention, the polyester base film may be made of a polyester resin obtained by polycondensation of an acid component containing dicarboxylic acid as a main component and a glycol component containing alkyl glycol as a main component.

상기 디카르복실산의 주성분으로는 테레프탈산 또는 그의 알킬에스테르나 페닐에스테르 등을 주로 사용하지만, 그의 일부를 예컨대 이소프탈산, 옥시에톡시 안식향산, 아디핀산, 세바신산, 5-나트륨설포이소프탈산 등의 이관능성 카르본산 또는 그의 에스테르형성 유도체로 대체하여 사용할 수 있다. As the main component of the dicarboxylic acid, terephthalic acid or its alkyl ester, phenyl ester, etc. are mainly used, but a part thereof is, for example, isophthalic acid, oxyethoxybenzoic acid, adipic acid, sebacic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, etc. It can be used instead of difunctional carboxylic acid or its ester-forming derivative.

상기 글리콜성분으로는 에틸렌글리콜을 주된 대상으로 하지만, 그 일부를 예컨대 프로필렌 글리콜, 트리메틸렌 글리콜, 1,4-사이클로헥산디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,4-비스옥시에톡시벤젠, 비스페놀, 폴리옥시에틸렌 글리콜로 대체하여 사용할 수도 있으며, 또한 적은 함량이라면 일관능성 화합물 또는 삼관능성 화합물을 병용하여도 좋다.As the glycol component, ethylene glycol is mainly used, but a part thereof is, for example, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 1,4-bisoxyethoxybenzene. , bisphenol, and polyoxyethylene glycol may be used instead of, and if the content is small, a monofunctional compound or a trifunctional compound may be used in combination.

본 발명에서 이형코팅층은 하기 식 1 내지 3을 만족할 때, 이형력의 경시변화가 적으며, 균일한 점착특성을 달성할 수 있다.In the present invention, when the release coating layer satisfies the following formulas 1 to 3, there is little change in the release force over time, and uniform adhesive properties can be achieved.

[식 1][Equation 1]

Ri ≤ 10R i ≤ 10

[식 2][Equation 2]

|Rf - Ri| ≤ 20|R f - R i | ≤ 20

[식 3][Equation 3]

|Rf -max - Rf -min| ≤ 1.2|R f -max - R f -min | ≤ 1.2

상기 식 1 내지 3에서 Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf -max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf -min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.In Equations 1 to 3, R i is the release force measured after leaving at 55° C. for 24 hours, R f is the release force measured after leaving it at 55° C. for 240 hours, and R f -max is at 55° C. It is the maximum value among the release forces measured 5 times after standing for 240 hours, and R f -min is the minimum value among the release forces measured 5 times after leaving it for 240 hours at 55°C.

상기 식 1은 이형필름의 초경박리성을 나타내는 것으로, 상기 범위를 벗어나는 경우 본 발명에서 요구하는 초경박리성을 달성하기 어렵다. 상기 식 1의 하한은 크게 제한되지는 않으나, 바람직하게는 이형력 Ri이 3 이상인 것이 좋다. 이형력 Ri이 3 미만인 경우 초기 이형력이 너무 떨어져 피접착체에 대한 접착성이 제대로 발현되지 않을 수 있다.Equation 1 represents the carbide peelability of the release film, and when it is out of the above range, it is difficult to achieve the carbide peelability required in the present invention. The lower limit of Formula 1 is not particularly limited, but preferably, the release force R i is 3 or more. When the release force R i is less than 3, the initial release force is too low, so that the adhesion to the adherend may not be properly expressed.

식 2는 이형력의 경시변화를 의미하는 것이다. 경시변화가 적을수록 최종 제품화 한 후 장기 보관하여 사용할 수 있으므로 관리의 이점이 있고, 이형필름 박리 시 균일한 박리력을 나타내므로 바람직하다. 상기 식 2의 하한은 크게 제한되지는 않았으나, 바람직하게는 이형력의 경시변화(|Rf - Ri|)가 10 이상인 것이 좋다. 이형력의 경시변화가 10 미만인 경우 필름 1,000㎜ 폭 이상에서 기계로 박리 시 박리의 흔적이 남지 않아 더욱 좋다. 반면, 이형력의 경시변화가 20 초과인 경우에는 필름 폭 1,000㎜ 이상 박리 시 높은 이형력이 나타남에 따라 그린시트 또는 전자재료용 시트 표면에 이형필름 박리의 흔적이 남을 수 있다.Equation 2 means the change with time of the release force. The smaller the change over time, the better because it can be stored and used for a long time after being made into a final product. Although the lower limit of Equation 2 is not particularly limited, it is preferable that the change over time (|R f - R i |) of the release force is 10 or more. If the change over time of the release force is less than 10, it is better because no trace of peeling is left when peeling the film with a machine with a width of 1,000 mm or more. On the other hand, when the change in release force over time is more than 20, high release force appears when peeling a film width of 1,000 mm or more, so traces of peeling of the release film may remain on the surface of the green sheet or sheet for electronic materials.

식 3은 이형력 편차를 의미하는 것으로, 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력의 값들의 편차가 1.2 미만인 경우에는 이형력 편차를 느낄 수 없으며, 박리 시 발생하는 소음이 나타나지 않아 바람직하다. 반면, 1.2를 초과하는 경우는 감각적으로 이형력 편차를 느낄 수 있으며, 박리 시 소음 즉, 박리되며 나타나는 타닥 소리가 발생할 뿐만 아니라, 전체적으로 균일하게 박리되지 않아 불량의 원인이 될 수 있다.Equation 3 means the release force deviation, and when the deviation of the values of the measured release force after standing at 55 ° C. for 240 hours is less than 1.2, the release force deviation cannot be felt, and the noise generated during peeling does not appear. Do. On the other hand, when it exceeds 1.2, a deviation in the release force can be sensed, and a noise during peeling, that is, a clicking sound that appears when peeling occurs, as well as not uniformly peeling as a whole may cause defects.

상기 물성의 밸런스를 구현하기 위하여, 본 발명에 따른 이형코팅층은 규소화합물 조성물 및 알코올에 분산된 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅 조성물로 형성된다. 상기 이형코팅 조성물은 크게 제한되는 것은 아니지만, 규소화합물 조성물 10 내지 40 중량%, 실리콘 비드 0.1 내지 5 중량%, 알코올 5 내지 20 중량% 및 잔량의 용매로 이루어질 수 있다. 이때, 상기 실리콘 비드는 바람직하게는 무수에탄올 또는 무수이소프로필알콜 등을 분산매로 사용하여 분산시킨 형태로 이형코팅 조성물에 혼합된다. In order to realize the balance of the physical properties, the release coating layer according to the present invention is formed of a release coating composition comprising a silicon compound composition and silicone beads dispersed in alcohol. The release coating composition is not particularly limited, but may consist of 10 to 40% by weight of the silicon compound composition, 0.1 to 5% by weight of silicone beads, 5 to 20% by weight of alcohol, and the remaining amount of the solvent. At this time, the silicone beads are preferably mixed with the release coating composition in the form of dispersion using anhydrous ethanol or anhydrous isopropyl alcohol as a dispersion medium.

상기 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다. The silicon compound composition may include a silicon compound, a platinum-based catalyst, and a silicon-based wetting agent.

상기 규소화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. The silicon compound may include any one or two or more compounds selected from the following Chemical Formulas 1 to 3 and a compound represented by Chemical Formula 4.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016129327511-pat00005
Figure 112016129327511-pat00005

상기 화학식 1에서, n은 20 내지 3000이고, m은 1 내지 500이고, n+m은 21 내지 3000이다. In Formula 1, n is 20 to 3000, m is 1 to 500, and n+m is 21 to 3000.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016129327511-pat00006
Figure 112016129327511-pat00006

상기 화학식 2에서, x는 1 내지 3000이다. In Formula 2, x is 1 to 3000.

[화학식 3] [Formula 3]

Figure 112016129327511-pat00007
Figure 112016129327511-pat00007

상기 화학식 3에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 -CH=CH2, -(SiC2H6O)kCH=CH2, -(SiC2H6O)k(CH2)lCH=CH2에서 선택되는 어느 하나이며, k와 l은 각각 독립적으로 0 내지 300이며, y는 20 내지 3000이고, z는 1 내지 500이고, y + z는 21 내지 3000이다.In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently -CH=CH 2 , -(SiC 2 H 6 O) k CH=CH 2 , -(SiC 2 H 6 O) k ( CH 2 ) l CH=CH 2 Any one selected from, k and l are each independently 0 to 300, y is 20 to 3000, z is 1 to 500, and y + z is 21 to 3000.

[화학식 4] [Formula 4]

Figure 112016129327511-pat00008
Figure 112016129327511-pat00008

상기 화학식 4에서, a는 1 내지 150이고, b는 3 내지 300이고, a+b는 5 내지 300이다. In Formula 4, a is 1-150, b is 3-300, and a+b is 5-300.

상기 화학식 1, 2 및 3으로 표시되는 화합물은 각각 이형코팅층의 주제로서 실록산 구조의 프리폴리머 상태이다. 또한, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 경화제로서, 화학식 1 내지 3과 반응하여 PDMS(Polydimethylsilicone Resin)을 형성한다. 화학식 1 내지 3의 비닐그룹(Vinyl group)과 화학식 4의 실란그룹(Silane group)이 반응하게 되며, 화학식 3은 Silane Group(Si-H)와 Si-CH3가 랜덤(Random)하게 교차됨에 따라 Si-H만 연속으로 되어 있는 경화제보다 입체 장애(Steric hindrance)가 낮아 반응속도가 빨라지는 장점이 있으며, 본원발명의 폴리에스테르 기재필름의 물성을 저해하지 않으므로 바람직하다.Each of the compounds represented by Chemical Formulas 1, 2 and 3 is a prepolymer state of a siloxane structure as a subject of the release coating layer. In addition, the compound represented by Chemical Formula 4 is a curing agent, and reacts with Chemical Formulas 1 to 3 to form polydimethylsilicone resin (PDMS). The vinyl group of Formulas 1 to 3 and the silane group of Formula 4 react, and in Formula 3, Silane Group (Si-H) and Si-CH 3 Randomly cross It has the advantage of having a lower steric hindrance and a faster reaction rate than a curing agent in which only Si-H is continuous, and it is preferable because it does not impair the physical properties of the polyester base film of the present invention.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Dehesive 490 등이 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Dehesive 430, 신에츠사(shin-etsu)의 KM3951, KM3952 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Dehesive 440, Dowcorning사의 SYL-OFF 7920, SYL-OFF 7924 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 Crosslinker V72, Crosslinker V15 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. Commercialized examples of the compound represented by Formula 1 include, but are not limited to, Dehesive 490 manufactured by Wacker Chemie AG. Commercialized examples of the compound represented by Formula 2 include, but are not limited to, Dehesive 430 manufactured by Wacker Chemie AG, KM3951 manufactured by shin-etsu, and KM3952 manufactured by shin-etsu. In addition, commercialized examples of the compound represented by Chemical Formula 3 include Dehesive 440 by Wacker Chemie AG, SYL-OFF 7920 by Dowcorning, SYL-OFF 7924 by Dowcorning, and the like, but are not limited thereto. Commercialized examples of the compound represented by Formula 4 include, but are not limited to, Crosslinker V72 and Crosslinker V15 manufactured by Wacker Chemie AG.

본 발명에서 상기 백금계 촉매는 상기 화학식 1 내지 3로 표시되는 화합물이 가지는 폴리디메틸실록산의 비닐기와 화학식 4로 표시되는 화합물의 폴리하이드로실록산의 수소 간의 반응을 촉진하여 코팅층이 기재필름에 접착되는 접착성, 즉 밀착성을 상승시키는 역할을 한다. 이러한 백금촉매는 전체 규소화합물 조성물 중 1 내지 20ppm으로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 범위를 만족하는 경우 반응성 향상 효과가 상승하고, 제조비용을 절감할 수 있다. 상기 백금계 촉매의 상업화된 예로는 Wacker Chemie AG사의 EM440 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 실리콘계 웨팅제의 상업화된 예로는 Dow Corning사의 Q2-5211 등이 있으며 이에 제한되는 것은 아니다.In the present invention, the platinum-based catalyst promotes a reaction between the vinyl group of polydimethylsiloxane of the compound represented by Formulas 1 to 3 and hydrogen of the polyhydrosiloxane of the compound represented by Formula 4, whereby the coating layer adheres to the base film. It plays a role in increasing the strength, that is, adhesion. The platinum catalyst is preferably included in an amount of 1 to 20 ppm in the total silicon compound composition. When the above range is satisfied, the effect of improving the reactivity is increased, and the manufacturing cost can be reduced. Commercialized examples of the platinum-based catalyst include, but are not limited to, EM440 manufactured by Wacker Chemie AG. In addition, commercial examples of the silicone-based wetting agent include, but are not limited to, Q2-5211 manufactured by Dow Corning.

본 발명에 따른 이형코팅 조성물에서 상기 화학식 1, 2 또는 3 화합물의 고형분 함량은 5 내지 25 중량%, 바람직하게는 8 내지 16 중량%인 것일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우 폴리에스테르 필름 표면을 충분히 코팅할 수 있으며, 반응전환율을 높여 잔류점착율을 효과적으로 조절할 수 있다.In the release coating composition according to the present invention, the solid content of the compound of Formulas 1, 2 or 3 may be 5 to 25% by weight, preferably 8 to 16% by weight. When the above range is satisfied, the surface of the polyester film can be sufficiently coated, and the residual adhesive rate can be effectively controlled by increasing the reaction conversion rate.

또한, 화학식 4 화합물의 고형분 함량이 0.5 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.8 내지 2 중량%인 것일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우 이형코팅층을 충분히 경화 할 수 있고, 미반응한 실란 그룹(Silane Group)이 없이 이형력 경시변화를 낮출 수 있다. In addition, the solid content of the compound of Formula 4 may be 0.5 to 5% by weight, preferably 0.8 to 2% by weight. When the above range is satisfied, the release coating layer can be sufficiently cured, and the change in the release force over time can be reduced without unreacted silane groups.

또한, 상기 백금계 촉매의 고형분 함량은 0.001 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.005 내지 0.1 중량%인 것일 수 있다. 상기 범위에서 촉매 첨가 효과가 충분히 발현되며, 이형력의 불균일을 억제할 수 있다.In addition, the solid content of the platinum-based catalyst may be 0.001 to 3% by weight, preferably 0.005 to 0.1% by weight. In the above range, the effect of adding the catalyst is sufficiently expressed, and the non-uniformity of the release force can be suppressed.

또한, 상기 실리콘계 웨팅제의 고형분 함량은 0.1 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 2 중량%인 것이 더욱 좋다. 상기 범위를 만족하는 경우, 제조되는 필름의 헤이즈를 낮추면서 코팅 얼룩을 유발을 방지할 수 있다.In addition, the solid content of the silicone-based wetting agent is more preferably 0.1 to 3% by weight, preferably 0.5 to 2% by weight. When the above range is satisfied, it is possible to prevent coating stains while lowering the haze of the film to be manufactured.

상기 규소화합물 조성물은 바람직한 일 양태로, 상기 화학식 1의 화합물, 상기 화학식 4의 화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하거나, 상기 화학식 2의 화합물, 상기 화학식 4의 화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하거나, 상기 화학식 3의 화합물, 상기 화학식 4의 화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함할 수 있다. 보다 바람직하게는 상기 규소화합물은 화학식 2 및 화학식 4로 표기되는 화합물의 조합을 포함하여 이형력 편차를 줄이고 잔류점착력을 향상시킬 수 있어 더욱 좋다. In a preferred embodiment, the silicon compound composition includes the compound of Formula 1, the compound of Formula 4, a platinum-based catalyst and a silicone-based wetting agent, or the compound of Formula 2, the compound of Formula 4, a platinum-based catalyst, and a silicone-based compound A wetting agent may be included, or the compound of Formula 3, the compound of Formula 4, a platinum-based catalyst, and a silicone-based wetting agent may be included. More preferably, the silicon compound may include a combination of the compounds represented by Chemical Formulas 2 and 4 to reduce the deviation in the release force and improve the residual adhesive force.

본 발명에서 상기 규소화합물 조성물은 전체 이형코팅층 조성물 100 중량% 중 10 내지 40 중량% 포함할 수 있다. 상기 범위에서 기재필름과 코팅층 간의 밀착력을 향상시키면서 미반응된 규소화합물의 낭비를 억제할 수 있다.In the present invention, the silicon compound composition may include 10 to 40% by weight of 100% by weight of the total release coating layer composition. In the above range, it is possible to suppress waste of unreacted silicon compounds while improving adhesion between the base film and the coating layer.

본 발명에서 상기 실리콘 비드는 낮은 박리력과 표면 조도를 균일하게 하며, 접착제와의 접촉면적을 낮춰 이형력을 낮출 수 있다. 이때, 실리콘 비드는 평균입경이 평균 입경은 0.05㎛ 내지 2㎛일 수 있다. 0.05㎛ 미만인 경우는 그 효과가 미미하며, 2㎛ 초과인 경우는 실리콘 비드의 침전에 따른 조액 안정성이 떨어질 수 있으며, 코팅외관이 불량 할 수 있다.In the present invention, the silicone bead has a low peeling force and uniform surface roughness, and can lower the release force by lowering the contact area with the adhesive. In this case, the silicon beads may have an average particle diameter of 0.05 μm to 2 μm. If it is less than 0.05㎛, the effect is insignificant, and if it is more than 2㎛, the stability of the crude solution may be deteriorated due to the precipitation of silicon beads, and the appearance of the coating may be poor.

또한, 상기 실리콘 비드는 변동계수(Coefficient of Variance, C.V. = 실리콘 비드의 표준 입경(Standard Size)/사용 실리콘 비드의 평균 입경(Average Size))가 20 이하이며, 120℃, 30min 조건에서 수분 분석기로 측정한 함수율(Moisture Contents)이 0.6% 이하일 수 있다. 상기 실리콘 비드의 변동계수가 20 초과인 경우 실리콘 비드의 생산 Lot에 따른 사이즈 분포차이가 큼에 따라 코팅성 및 주행성의 차이가 커질 수 있어 제품의 재현성이 떨어질 수 있다. 또한 함수율이 0.6% 초과인 경우 수분에 따른 실리콘 반응의 저해요소가 될 수 있다.In addition, the silicon beads have a coefficient of variation (Coefficient of Variance, C.V. = Standard Size of silicon beads/Average Size of silicon beads used) of 20 or less, and a moisture analyzer at 120 ° C., 30 min. The measured moisture content may be 0.6% or less. When the coefficient of variation of the silicon bead is greater than 20, as the size distribution difference according to the production lot of the silicon bead is large, the difference in coating properties and runability may increase, and thus the reproducibility of the product may be deteriorated. In addition, when the moisture content is more than 0.6%, it may become an inhibitory factor of the silicone reaction according to moisture.

본 발명에서 상기 실리콘 비드는 전체 이형코팅층 조성물 100 중량% 중 0.1 내지 5 중량% 포함할 수 있다. 0.1 중량% 미만인 경우 조도를 형성하지 않아 이형력을 낮추는 역할을 할 수 없으며, 5 중량% 초과하는 경우 오히려 이형반응의 반응 전환율을 낮추고, 코팅외관이 불량 할 수 있다.In the present invention, the silicone beads may include 0.1 to 5% by weight of 100% by weight of the total release coating layer composition. If it is less than 0.1% by weight, it cannot play a role of lowering the release force because it does not form roughness, and if it exceeds 5% by weight, the reaction conversion rate of the release reaction may be lowered, and the coating appearance may be poor.

본 발명에서 상기 실리콘 비드는 알코올에 분산시켜 사용함으로써 더욱 균일한 분산성을 나타내며, 다른 성분과의 조합으로 목적하는 물성 상승효과를 구현할 수 있다. 이때, 알코올은 바람직하게는 무수알코올이 좋으며, 보다 바람직하게는 무수에탄올 및 무수이소프로필알콜 중에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물인 것일 수 있다. 이는 실리콘 비드 자체의 입경이 작은 것과 동시에 실리콘의 표면이 소수성이기 때문에 분산용매로 물을 사용할 경우 더욱 분산성이 떨어지기 때문이다. 이와 동시에, 본 발명에 따른 알코올은 종래 물을 20 내지 30% 정도 포함하는 것과는 달리 무수알코올을 사용하는 것을 특징으로 한다. 이러한 무수알코올을 사용할 경우, 실리콘비드의 분산이 더욱 향상되며, 외관 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. In the present invention, the silicone beads are dispersed in alcohol to exhibit more uniform dispersibility, and a desired synergistic effect can be realized in combination with other components. In this case, the alcohol is preferably anhydrous alcohol, and more preferably, may be any one selected from anhydrous ethanol and anhydrous isopropyl alcohol or a mixture thereof. This is because, when water is used as a dispersing solvent, dispersibility is further deteriorated because the silicon bead itself has a small particle size and at the same time the surface of the silicon is hydrophobic. At the same time, the alcohol according to the present invention is characterized in that anhydrous alcohol is used, unlike conventional water containing about 20 to 30%. When such anhydrous alcohol is used, the dispersion of the silicone beads is further improved, and it is possible to prevent appearance defects from occurring.

본 발명에 따른 이형필름은 잔류 점착율이 90% 이상인 것일 수 있다.The release film according to the present invention may have a residual adhesive ratio of 90% or more.

상기 잔류 점착율이 90% 이상인 범위에서 이형필름의 미반응물이 낮은 것으로 판단할 수 있어 고객사에서 후가공후에 이형필름의 미반응물이 최종제품에 전사되는 양이 적으므로 바람직하다.In the range where the residual adhesion rate is 90% or more, it can be determined that the unreacted material of the release film is low, so it is preferable because the amount of the unreacted material of the release film transferred to the final product after post-processing at the customer is small.

본 발명에 따른 이형필름에서 상기 폴리에스테르 기재 필름의 두께는 10 내지 200 ㎛, 더욱 좋게는 10 내지 50㎛인 것일 수 있으며, 상기 이형코팅층의 두께는 0.01 내지 0.5㎛, 더욱 좋게는 0.1 ~ 0.3㎛인 것일 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.In the release film according to the present invention, the thickness of the polyester base film may be 10 to 200 µm, more preferably 10 to 50 µm, and the thickness of the release coating layer is 0.01 to 0.5 µm, more preferably 0.1 to 0.3 µm may be, but the present invention is not limited thereto.

본 발명에 따른 이형필름의 제조방법은 기재필름 표면 특성 제어를 통해 제품 물성을 극대화하고, 인라인 코팅 공정을 도입함에 따라 비용을 절감할 수 있어 경제적이고 생산성을 극대화할 수 있는 장점이 있다.The method of manufacturing a release film according to the present invention has the advantage of maximizing product properties by controlling the surface properties of the base film, and reducing costs by introducing an inline coating process, thereby maximizing economical and productivity.

본 발명에 따른 이형필름의 제조방법은 The manufacturing method of the release film according to the present invention is

a) 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 시트로 제조하는 단계;a) melt-extruding a polyester resin to prepare a sheet;

b) 상기 시트를 종방향으로 연신하는 단계;b) stretching the sheet in the longitudinal direction;

c) 상기 b) 단계 시트의 일면 또는 양면에 규소화합물 조성물 및 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물을 인라인 코팅법으로 도포하는 단계;c) applying a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicone beads to one or both surfaces of the sheet in step b) by an in-line coating method;

d) 상기 c) 단계 시트를 건조 및 예열한 후, 횡방향으로 연신하여 이형필름을 제조하는 단계; 및d) preparing a release film by drying and preheating the sheet in step c) and then stretching in the transverse direction; and

e) 상기 이형필름을 열처리하는 단계;e) heat-treating the release film;

를 포함한다. includes

이때, 이형코팅층 조성물은 알코올에 분산된 실리콘 비드를 별도로 혼합시키는 것을 특징으로 한다. At this time, the release coating layer composition is characterized in that the silicone beads dispersed in alcohol are mixed separately.

상기 c) 단계는 이형코팅 조성물 도포는 그라비어(Gravure) 롤을 이용하여 도포하는 것일 수 있다. 그라비아 코팅롤을 사용하는 경우, 이형코팅 조성물이 균일한 두께로 도포될 수 있다.In step c), the release coating composition may be applied using a gravure roll. When a gravure coating roll is used, the release coating composition may be applied to a uniform thickness.

상기 d) 단계는 140℃ 이하, 더욱 구체적으로 110 ~ 140℃ 에서 건조 및 예열을 실시하는 것이 바람직하다. 140℃ 초과하여 진행하는 경우 이형력 편차가 증가하여 균일성이 크게 떨어질 수 있다.In step d), drying and preheating are preferably performed at 140° C. or less, more specifically, at 110 to 140° C. In the case of exceeding 140 ° C., the deviation of the release force may increase and thus the uniformity may be greatly reduced.

또한, 상기 b) 단계 또는 d) 단계 연신은 80 내지 150℃에서 실시하는 것이 바람직하다. 80℃ 미만인 경우 연신에 필요한 열이 충분치 않아 연신이 제대로 일어나지 않으며, 150℃ 초과인 경우 필름에 열주름 또는 오렌지 필(orange peel)이 발생할 수 있다. In addition, the step b) or step d) is preferably carried out at 80 to 150 ℃ stretching. If the temperature is less than 80°C, the heat required for stretching is not sufficient, so stretching does not occur properly, and if it is more than 150°C, thermal wrinkles or orange peel may occur on the film.

또한, d) 단계에서 연신 시 연신 비율은 크게 제한되는 것은 아니지만, 기계 방향(MD) 및 폭 방향(TD)으로 각각 3 내지 5배 연신할 수 있다. 상기 범위에서 제조되는 필름의 두께 균일성이 유지되면서, 필름의 파단을 억제할 수 있다.In addition, the stretching ratio during stretching in step d) is not particularly limited, but may be stretched 3 to 5 times in the machine direction (MD) and the width direction (TD), respectively. While maintaining the thickness uniformity of the film produced in the above range, it is possible to suppress the breakage of the film.

e) 단계에서 열처리는 230 내지 250℃에서 실시하는 것일 수 있다. 230℃ 미만에서는 이형코팅층이 충분히 반응이 이루어지지 않아 밀리는 현상이 발생할 수 있고, 250℃ 초과에서는 필름의 열주름과 오렌지필(orange peel)현상이 발생을 할 수 있다.The heat treatment in step e) may be performed at 230 to 250 °C. If the temperature is lower than 230°C, the release coating layer may not react sufficiently, so that the release coating layer may be pushed. If it is higher than 250°C, thermal wrinkles and orange peel of the film may occur.

이하는 본 발명의 보다 구체적인 설명을 위하여, 실시예를 들어 설명을 하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, for a more detailed description of the present invention, examples are given for description, but the present invention is not limited to the following examples.

이하 물성을 다음과 같이 측정하였다.The following physical properties were measured as follows.

1) 코팅 균일성 측정1) Measurement of coating uniformity

폴리에스테르 이형필름에 있어서 기재필름 면적 대비 이형층이 형성되지 않은 부분의 면적이 1%이하이면 양호, 1%를 초과할 경우 불량으로 표기하였다. In the polyester release film, if the area of the portion where the release layer is not formed compared to the area of the base film is 1% or less, it is indicated as good, and if it exceeds 1%, it is indicated as defective.

2) 코팅 두께2) Coating thickness

검량된 XRF 장비(Oxford사 LX3500)로 이형층의 실리콘 함량을 측정한 후 이를 코팅 두께로 환산하여 표기하였다.After measuring the silicon content of the release layer with a calibrated XRF device (LX3500, Oxford), it was converted into a coating thickness and expressed.

3) 이형력3) release force

FINAT 10의 방법에 따라 표준 Tape으로 TESA 7475를 사용하여 이형력을 측정하였다.The release force was measured using TESA 7475 as a standard tape according to the method of FINAT 10.

(1) 이형력 Ri (1) Release force R i

실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 이형코팅층 위에 TESA 7475를 놓고 2Kg 고무롤을 사용하여 2회 왕복 문지른 다음, 10cm간격으로 50mm×15cm 크기의 샘플을 잘라 5장 준비하였다. 준비된 샘플을 70g/㎠의 하중을 주고 55℃에서 24시간 동안 방치한 후, Peel Tester(Chem Instrument사, AR-1000)을 사용하여 180도 Peel 박리 평가를 실시하였다. 박리속도는 300mm/min으로 하였다. 상기 5장의 샘플의 이형력을 측정하여 평균값을 나타내었다. TESA 7475 was placed on the release coating layer of the films prepared in Examples and Comparative Examples and reciprocated twice using a 2Kg rubber roll, and then 5 samples were prepared by cutting 50mm×15cm samples at 10cm intervals. After applying a load of 70 g/cm 2 to the prepared sample and leaving it at 55° C. for 24 hours, Peel Tester (Chem Instrument, AR-1000) was used to evaluate peel peeling at 180 degrees. The peeling rate was 300 mm/min. The release force of the five samples was measured and the average value was shown.

(2) 이형력 Rf (2) Release force R f

실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 이형코팅층 위에 TESA 7475를 놓고 2Kg 고무롤을 사용하여 2회 왕복 문지른 다음, 10cm간격으로 50mm×15cm 크기의 샘플을 잘라 5장 준비하였다. 준비된 샘플을 70g/㎠의 하중을 주고 55℃에서 240시간 동안 방치한 후, Peel Tester(Chem Instrument사, AR-1000)을 사용하여 180도 Peel 박리 평가를 실시하였다. 박리속도는 300mm/min으로 하였다. 상기 5장의 샘플의 이형력을 측정하여 평균값을 나타내었다. TESA 7475 was placed on the release coating layer of the films prepared in Examples and Comparative Examples and reciprocated twice using a 2Kg rubber roll, and then 5 samples were prepared by cutting 50mm×15cm samples at 10cm intervals. After applying a load of 70 g/cm 2 to the prepared sample and leaving it at 55° C. for 240 hours, Peel Tester (Chem Instrument, AR-1000) was used to evaluate peel peeling at 180 degrees. The peeling rate was 300 mm/min. The release force of the five samples was measured and the average value was shown.

(3) 이형력의 경시변화(|Rf - Ri|)(3) Change with time of release force (|R f - R i |)

상기 이형력 Rf와 이형력 Ri의 차이 값을 이형력의 경시변화로 한다. Let the difference value between the releasing force R f and the releasing force R i be the change with time of the releasing force.

(4) 이형력 편차(|Rf-max Rf-min|)(4) Deviation of release force (|R f-max R f-min |)

상기 이형력 Rf 측정 시, 5회 측정된 이형력 중 최대값을 Rf -max로 하고, 최소값을 Rf-min로 하여 그 차이 값을 계산하였다.The release force R f At the time of measurement, the maximum value of the release force measured 5 times was R f -max , and the minimum value was R f-min , and the difference value was calculated.

4) 잔류 점착율4) Residual adhesion rate

(1) 제 1 점착력 : 표준 테이프(Tape)인 Nitto 31B Tape를 70℃에서 24시간 동안 방치한 후 테프론(Teflon) 시트에 합지하고, 2kg의 고무롤로 2회 반복하여 압착시켰다. 합지된 샘플의 Nitto 31B Tape를 180도 필 테스터(Chem Instrument사 AR1000)를 이용하여 점착력을 측정하였다.(1) First adhesive strength: Nitto 31B Tape, a standard tape, was left at 70° C. for 24 hours, then laminated on a Teflon sheet, and compressed twice with a 2 kg rubber roll. Adhesion of the Nitto 31B Tape of the laminated sample was measured using a 180 degree peel tester (Chem Instrument's AR1000).

(2) 제 2 점착력 : 표준 테이프(Tape)인 Nitto 31B Tape를 실시예 및 비교예에서 제조된 필름의 이형코팅층에 접착시키고 70g/㎠의 하중을 가한 상태에서 70℃에서 24시간 동안 방치한 후 Nitto 31B Tape를 떼어내었다. 떼어낸 Nitto 31B Tape를 다시 테프론(Teflon) 시트에 합지하고, 2kg의 고무롤로 2회 반복하여 압착시켰다. 합지된 샘플의 Nitto 31B Tape를 180도 필 테스터(Chem Instrument사 AR1000)를 이용하여 점착력을 측정하였다.(2) Second adhesive strength: Nitto 31B Tape, a standard tape, was adhered to the release coating layer of the films prepared in Examples and Comparative Examples, and left at 70° C. for 24 hours under a load of 70 g/cm 2 The Nitto 31B Tape was removed. The removed Nitto 31B Tape was again laminated on a Teflon sheet, and compressed twice with a 2 kg rubber roll. Adhesion of the Nitto 31B Tape of the laminated sample was measured using a 180 degree peel tester (Chem Instrument's AR1000).

잔류 점착력은 하기 식 4와 같이 측정하였다. 단위는 gf/inch이며, 잔류 점착율이 90%이상일 때 만족으로 한다.Residual adhesive force was measured as in Equation 4 below. The unit is gf/inch, and it is satisfied when the residual adhesion rate is 90% or more.

[식 4][Equation 4]

잔류 점착율 = (제 2 점착력 / 제 1 점착력) × 100Residual adhesion rate = (second adhesion / first adhesion) × 100

하기 실시예 및 비교예에서 사용된 조성은 다음과 같다.The compositions used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

코팅액 1 : 화학식 1의 규소화합물로 폴리디메틸실록산(Wacker Chemie AG사, DEHESIVE® 490)을 고형분함량으로 49.99중량%, 백금촉매(Wacker Chemie AG사, EM440)를 고형분 함량으로 0.01 중량% 포함하며, 전체 고형분 함량이 50 중량%인 조성물.Coating solution 1: As a silicon compound of Formula 1, polydimethylsiloxane (Wacker Chemie AG, DEHESIVE® 490) as a solid content of 49.99 wt%, a platinum catalyst (Wacker Chemie AG, EM440) as a solid content of 0.01 wt%, A composition having a total solids content of 50% by weight.

코팅액 2 : 화학식 2의 규소화합물로 폴리디메틸실록산(신에츠사, KM3951)을 고형분 함량으로 49.99 중량%, 백금촉매(Wacker Chemie AG사, EM440)를 고형분 함량으로 0.01 중량% 포함하며, 전체 고형분 함량이 50 중량%인 조성물.Coating solution 2: The silicon compound of Formula 2 contains 49.99 wt% of polydimethylsiloxane (Shin-Etsu, KM3951) as a solid content, and 0.01 wt% of a platinum catalyst (Wacker Chemie AG, EM440) as a solid content, and the total solid content is 50% by weight of the composition.

코팅액 3 : 화학식 4의 규소화합물로 수소실란계 화합물(Wacker Chemie AG사, Crosslinker V15, 화학식 4에서 a가 5이고, b가 95이며, 중량평균분자량이 4000 g/mol인 화합물)을 고형분 함량으로 50 중량% 포함하는 조성물.Coating solution 3: As a silicon compound of Formula 4, a hydrogen silane compound (Wacker Chemie AG, Crosslinker V15, a compound in which a is 5, b is 95, and a weight average molecular weight of 4000 g/mol in Formula 4) as a solid content A composition comprising 50% by weight.

상기 중량평균분자량은 스티렌을 스탠다드 물질로 사용하여 겔크로마토그래피(GPC)로 측정된 것이다.The weight average molecular weight is measured by gel chromatography (GPC) using styrene as a standard material.

코팅액 4 : 실리콘계 웨팅제이며, Dow Corning사, Q2-5212로 고형분이 80중량%인 조성물.Coating solution 4: A silicone-based wetting agent, Dow Corning, Q2-5212, a composition having a solid content of 80% by weight.

코팅액 5 : 화학식 3의 폴리디메틸실록산과 화학식 4의 수소실란계 화합물이 포함된 Dow Corning사, SYL-OFF® 7920을 고형분 함량으로 49.99중량%, 백금촉매(Wacker Chemie AG사, EM440)를 고형분 함량으로 0.01 중량% 포함하며, 전체 고형분 함량이 45 중량%인 조성물.Coating solution 5: 49.99% by weight of Dow Corning, SYL-OFF ® 7920 containing polydimethylsiloxane of Formula 3 and hydrogensilane-based compound of Formula 4, solids content of platinum catalyst (Wacker Chemie AG, EM440) As a composition comprising 0.01% by weight, the total solid content is 45% by weight.

[실시예 1][Example 1]

상기 코팅액 1을 20 중량%, 코팅액 3을 1 중량%, 코팅액 4를 0.5 중량%, 실리콘 비드 0.5 중량% 및 잔량의 물을 용매로 사용하여 조액하였다. 또한, 상기 실리콘 비드는 별도로 무수에탄올을 이용하여 분산시킨 후 혼합하여 조액하였다. 이때, 무수에탄올의 함량은 전체 코팅액 조성물 중 10 중량%이다. 20 wt% of the coating solution 1, 1 wt% of the coating solution 3, 0.5 wt% of the coating solution 4, 0.5 wt% of silicone beads, and the remaining amount of water were used as solvents to prepare a crude solution. In addition, the silicone beads were separately dispersed using absolute ethanol and mixed to prepare a liquid. At this time, the content of absolute ethanol is 10% by weight of the total coating solution composition.

다음으로, 1000g의 디메틸테레프탈레트, 576g의 에틸렌글리콜, 폴리에스테르 수지 함량 대비 300ppm의 마그네슘 아세테이트, 400ppm의 트리메틸 포스페이트를 반응기에 넣고 메탄올을 유출시키면서 에스테르교환반응을 시켰다. 이후, 285℃, 0.3torr 진공 하에서 축중합반응을 하여 고유점도가 0.61인 폴리에스테르 칩을 얻었다. Next, 1000 g of dimethyl terephthalet, 576 g of ethylene glycol, 300 ppm of magnesium acetate and 400 ppm of trimethyl phosphate relative to the polyester resin content were put into the reactor, and the transesterification reaction was performed while flowing out methanol. Thereafter, a polycondensation reaction was performed at 285° C. under a vacuum of 0.3 torr to obtain a polyester chip having an intrinsic viscosity of 0.61.

상기 폴리에스테르 칩을 280℃에서 용융 압출한 후 대형롤을 이용하여 24℃로 급냉하여 폴리에스테르 시트를 얻었다. 얻어진 폴리에스테르 시트를 110℃에서 3.5배 종방향 연신하고 냉각된 필름에 그라비아 코터를 이용하여 코팅액을 도포하였다.The polyester chips were melt-extruded at 280°C and then rapidly cooled to 24°C using a large roll to obtain a polyester sheet. The obtained polyester sheet was stretched 3.5 times in the longitudinal direction at 110° C., and a coating solution was applied to the cooled film using a gravure coater.

그리고, 125℃에서 건조 및 예열한 후 횡방향으로 3.5배 연신하여 이축 연신 필름을 제조하였다. 얻어진 이축연신 필름을 240℃에서 열처리하여 두께가 25㎛인 이형필름을 얻었다. 얻어진 이형필름의 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.Then, after drying and preheating at 125° C., the film was stretched 3.5 times in the transverse direction to prepare a biaxially oriented film. The obtained biaxially oriented film was heat-treated at 240° C. to obtain a release film having a thickness of 25 μm. The physical properties of the obtained release film were measured and shown in Table 2 below.

[실시예 2 내지 9 및 비교예 1 내지 3][Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 3]

하기 표 1과 같이 코팅액의 조성비, 예열온도 등을 달리한 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 이형필름을 제조하였다. 제조된 이형필름의 물성을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다.As shown in Table 1 below, a release film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition ratio of the coating solution and the preheating temperature were changed. The physical properties of the prepared release film were measured and shown in Table 2 below.

이형코팅층 조성물Release coating layer composition 코팅액 도포 후 예열 온도(℃)Preheating temperature (℃) after coating solution is applied 코팅액coating solution 실리콘 비드silicone beads 1One 22 33 44 55 분산용매
종류
dispersion solvent
Kinds
평균입경
(㎛)
average particle diameter
(μm)
첨가량
(중량%)
addition amount
(weight%)
실시예 1Example 1 2020 -- 1One 0.50.5 -- ETET 0.50.5 0.50.5 125125 실시예 2Example 2 2020 -- 1One 0.50.5 -- IPAIPA 0.30.3 1One 125125 실시예 3Example 3 2020 -- 1One 0.30.3 -- IPAIPA 0.10.1 33 120120 실시예 4Example 4 -- 2020 1One 0.50.5 -- ETET 0.50.5 0.50.5 125125 실시예 5Example 5 -- 2020 1One 0.50.5 -- IPAIPA 0.30.3 1One 125125 실시예 6Example 6 -- 2020 1One 0.30.3 -- IPAIPA 0.10.1 33 120120 실시예 7Example 7 -- 2020 1One 1One -- IPAIPA 1One 0.050.05 130130 실시예 8Example 8 2020 -- 1One 1One -- IPAIPA 22 0.050.05 130130 실시예 9Example 9 00 00 00 0.50.5 2020 IPAIPA 0.50.5 0.050.05 125125 비교예 1Comparative Example 1 2020 -- 1.51.5 1One -- -- -- 0.50.5 130130 비교예 2Comparative Example 2 2020 -- 1One 0.50.5 -- water 0.50.5 0.50.5 130130 비교예 3Comparative Example 3 2020 -- 1One 0.50.5 -- ETET 0.50.5 0.50.5 150150

상기 표 1에서 ET은 무수에탄올이고, IPA는 무수이소프로필알콜이다. In Table 1, ET is anhydrous ethanol, and IPA is anhydrous isopropyl alcohol.

코팅
균일성
coating
uniformity
코팅 두께
(㎛)
coating thickness
(μm)
Ri
(gf/inch)
R i
(gf/inch)
경시 후 이형력release force after aging 잔류 점착율
(%)
Residual adhesion rate
(%)
Rf
(gf/inch)
R f
(gf/inch)
이형력 경시변화Change of release force over time 이형력 편차Deviation of release force
실시예 1Example 1 양호Good 0.20.2 44 1919 1515 1One 9393 실시예 2Example 2 양호Good 0.20.2 44 1818 1414 0.90.9 9292 실시예 3Example 3 양호Good 0.20.2 55 2121 1616 0.90.9 9292 실시예 4Example 4 양호Good 0.20.2 44 1717 1313 0.50.5 9292 실시예 5Example 5 양호Good 0.20.2 44 1515 1111 0.90.9 9292 실시예 6Example 6 양호Good 0.250.25 55 1919 1414 0.30.3 9494 실시예 7Example 7 양호Good 0.20.2 44 1818 1414 0.40.4 9292 실시예 8Example 8 양호Good 0.20.2 44 1818 1414 0.60.6 9191 실시예 9Example 9 양호Good 0.20.2 55 1919 1414 0.50.5 9393 비교예 1Comparative Example 1 불량error 0.20.2 88 3535 2727 1One 9595 비교예 2Comparative Example 2 불량error 외관 불량으로 측정 불가Unable to measure due to poor appearance 비교예 3Comparative Example 3 불량error 0.20.2 77 2222 1515 1.51.5 9292

상기 표 2에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 발명을 통해 제조된 이형필름은 코팅 균일성이 양호하고, 이형력 Ri이 10 이하로 낮은 것을 알 수 있다. 또한 식 2에 따른 이형력의 경시변화가 20 이하이며, 식 3에 따른 이형력 편차가 1.2 이하인 물성을 모두 만족하였다. 또한, 잔류 점착율이 90% 이상인 물성을 나타내어 미반응물이 낮은 것을 확인하였다.As can be seen in Table 2, the release film prepared through the present invention has good coating uniformity, and it can be seen that the release force R i is as low as 10 or less. In addition, according to Equation 2, the change over time of the release force was 20 or less, and the deviation of the release force according to Equation 3 was 1.2 or less, all of which were satisfied. In addition, it was confirmed that the amount of unreacted material was low as the residual adhesion rate was 90% or more.

이에 반해 비교예의 경우 초기 이형력이 높고, 이형력의 편차가 큰 것을 알 수 있다. 특히 분산용매로 물을 사용한 비교예 2의 경우 외관불량으로 물성을 측정하지 못하는 것을 확인하였으며, 비교예 3은 예열 온도를 150℃로 함에 따라 이형력 편차가 커져 코팅 균일성이 불량인 것을 확인할 수 있다.On the other hand, in the case of the comparative example, it can be seen that the initial release force is high and the deviation of the release force is large. In particular, in the case of Comparative Example 2 using water as the dispersion solvent, it was confirmed that the physical properties could not be measured due to poor appearance, and in Comparative Example 3, as the preheating temperature was 150° C. there is.

이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.As described above in detail a specific part of the present invention, for those of ordinary skill in the art, it is clear that this specific description is only a preferred embodiment, and the scope of the present invention is not limited thereby. something to do. Accordingly, the substantial scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (11)

폴리에스테르 기재필름 및 이의 일면 또는 양면에 형성되는 이형코팅층을 포함하며,
상기 이형코팅층은 평균입경이 0.05 내지 2㎛인 실리콘 비드를 함유하고,
상기 이형코팅층은 규소화합물 조성물 및 알코올에 분산된 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물로 형성된 것이며,
상기 알코올은 무수알코올이고,
하기 식 1 내지 3을 만족하는 것을 특징으로 하는 이형필름.
[식 1]
Ri ≤ 10 gf/inch
[식 2]
|Rf - Ri| ≤ 20 gf/inch
[식 3]
|Rf-max - Rf-min| ≤ 1.2 gf/inch
상기 식 1 내지 3에서, Ri는 55℃에서 24시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 측정된 이형력이고, Rf-max는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최대값이고, Rf-min는 55℃에서 240시간 동안 방치한 후 5회 측정된 이형력 중 최소값이다.
A polyester base film and a release coating layer formed on one or both sides thereof,
The release coating layer contains silicon beads having an average particle diameter of 0.05 to 2 μm,
The release coating layer is formed of a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicone beads dispersed in alcohol,
The alcohol is anhydrous alcohol,
A release film, characterized in that it satisfies the following formulas 1 to 3.
[Equation 1]
R i ≤ 10 gf/inch
[Equation 2]
|R f - R i | ≤ 20 gf/inch
[Equation 3]
|R f-max - R f-min | ≤ 1.2 gf/inch
In Equations 1 to 3, R i is the release force measured after standing at 55 ° C. for 24 hours, R f is the release force measured after leaving it at 55 ° C. for 240 hours, and R f-max is 55 ° C. It is the maximum value among the release forces measured 5 times after leaving it at for 240 hours, and R f-min is the minimum value among the release forces measured 5 times after leaving it for 240 hours at 55°C.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하는 이형필름.
The method of claim 1,
The silicon compound composition is a release film comprising a silicon compound, a platinum-based catalyst and a silicone-based wetting agent.
제 4항에 있어서,
상기 규소화합물은 하기 화학식 1 내지 화학식 3에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물 및 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 이형필름.
[화학식 1]
Figure 112016129327511-pat00009

상기 화학식 1에서, n은 20 내지 3000이고, m은 1 내지 500이고, n+m은 21 내지 3000이다.
[화학식 2]
Figure 112016129327511-pat00010

상기 화학식 2에서, x는 1 내지 3000이다.
[화학식 3]
Figure 112016129327511-pat00011

상기 화학식 3에서, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 -CH=CH2, -(SiC2H6O)kCH=CH2, -(SiC2H6O)k(CH2)lCH=CH2에서 선택되는 어느 하나이며, k와 l은 각각 독립적으로 0 내지 300이며, y는 20 내지 3000이고, z는 1 내지 500이고, y + z는 21 내지 3000이다.
[화학식 4]
Figure 112016129327511-pat00012

상기 화학식 4에서, a는 1 내지 150이고, b는 3 내지 300이고, a+b는 5 내지 300이다.
5. The method of claim 4,
The silicon compound is a release film comprising any one or two or more compounds selected from the following Chemical Formulas 1 to 3 and a compound represented by Chemical Formula 4.
[Formula 1]
Figure 112016129327511-pat00009

In Formula 1, n is 20 to 3000, m is 1 to 500, and n+m is 21 to 3000.
[Formula 2]
Figure 112016129327511-pat00010

In Formula 2, x is 1 to 3000.
[Formula 3]
Figure 112016129327511-pat00011

In Formula 3, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently -CH=CH 2 , -(SiC 2 H 6 O) k CH=CH 2 , -(SiC 2 H 6 O) k ( CH 2 ) l CH=CH 2 Any one selected from, k and l are each independently 0 to 300, y is 20 to 3000, z is 1 to 500, and y + z is 21 to 3000.
[Formula 4]
Figure 112016129327511-pat00012

In Formula 4, a is 1-150, b is 3-300, and a+b is 5-300.
a) 폴리에스테르 수지를 용융 압출하여 시트로 제조하는 단계;
b) 상기 시트를 종방향으로 연신하는 단계;
c) 상기 b) 단계 시트의 일면 또는 양면에 규소화합물 조성물 및 실리콘 비드를 포함하는 이형코팅층 조성물을 인라인 코팅법으로 도포하는 단계;
d) 상기 c) 단계 시트를 건조 및 예열한 후, 횡방향으로 연신하여 이형필름을 제조하는 단계; 및
e) 상기 이형필름을 열처리하는 단계; 를 포함하고,
상기 이형코팅층 조성물은 알코올에 분산된 실리콘 비드를 별도로 혼합시키는 것을 포함하고,
상기 알코올은 무수알코올이고,
상기 실리콘 비드는 평균입경이 0.05 내지 2㎛인,
제1항의 이형필름 제조방법.
a) melt-extruding a polyester resin to prepare a sheet;
b) stretching the sheet in the longitudinal direction;
c) applying a release coating layer composition comprising a silicon compound composition and silicone beads to one or both surfaces of the sheet in step b) by an in-line coating method;
d) preparing a release film by drying and preheating the sheet in step c) and then stretching in the transverse direction; and
e) heat-treating the release film; including,
The release coating layer composition comprises separately mixing silicone beads dispersed in alcohol,
The alcohol is anhydrous alcohol,
The silicon beads have an average particle diameter of 0.05 to 2 μm,
The method for manufacturing the release film of claim 1.
삭제delete 삭제delete 제 6항에 있어서,
상기 규소화합물 조성물은 규소화합물, 백금계 촉매 및 실리콘계 웨팅제를 포함하는 이형필름 제조방법.
7. The method of claim 6,
The silicon compound composition is a method for producing a release film comprising a silicon compound, a platinum-based catalyst and a silicone-based wetting agent.
제 6항에 있어서,
상기 d) 단계는 140℃ 이하에서 건조 및 예열을 실시하는 것인 이형필름 제조방법.
7. The method of claim 6,
The step d) is a method for producing a release film to carry out drying and preheating at 140 ℃ or less.
제 6항에 있어서,
상기 b) 단계 또는 d) 단계 연신은 80 내지 150℃에서 실시하는 것인 이형필름 제조방법.

7. The method of claim 6,
The step b) or step d) stretching the release film production method is carried out at 80 to 150 ℃.

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