KR102298850B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치의 하판은 절연막을 사이에 두고 중첩되는 하부 전극 및 상부 전극, 및 상기 하부 전극과 상기 상부 전극에 접촉되는 배향막을 포함한다. 상기 배향막은 상기 절연막을 관통하는 홀을 통에 상기 하부 전극에 접촉된다.In the present invention, a lower plate of the liquid crystal display includes a lower electrode and an upper electrode overlapping with an insulating film therebetween, and an alignment film in contact with the lower electrode and the upper electrode. The alignment layer is in contact with the lower electrode through a hole penetrating the insulating layer.

Description

액정표시장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Liquid crystal display device {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

본 발명은 저속 구동 모드를 갖는 액정표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display having a low-speed driving mode.

액정표시장치(Liquid Crystal Display Device: LCD), 유기 발광 다이오드 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display : OLED Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP), 전기영동 표시장치(Electrophoretic Display Device: EPD) 등 각종 평판 표시장치가 개발되고 있다. 액정표시장치는 액정 분자에 인가되는 전계를 데이터 전압에 따라 제어하여 화상을 표시한다. 액티브 매트릭스(Active Matrix) 구동방식의 액정표시장치에는 픽셀 마다 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : 이하 "TFT"라 함)가 형성되어 있다. Liquid Crystal Display Device (LCD), Organic Light Emitting Diode Display (OLED Display), Plasma Display Panel (PDP), Electrophoretic Display Device (EPD) Various flat panel display devices are being developed. A liquid crystal display displays an image by controlling an electric field applied to liquid crystal molecules according to a data voltage. In an active matrix driving type liquid crystal display device, a thin film transistor (hereinafter, referred to as “TFT”) is formed for each pixel.

액정표시장치는 액정표시패널, 액정표시패널에 빛을 조사하는 백라이트 유닛, 액정표시패널의 데이터라인들에 데이터전압을 공급하기 위한 소스 드라이브 집적회로(Integrated Circuit, 이하 "IC"라 함), 액정표시패널의 게이트라인들(또는 스캔라인들)에 게이트 펄스(또는 스캔 펄스)를 공급하기 위한 게이트 드라이브 IC, 및 상기 IC들을 제어하는 제어회로, 백라이트 유닛의 광원을 구동하기 위한 광원 구동회로 등을 구비한다.The liquid crystal display includes a liquid crystal display panel, a backlight unit irradiating light to the liquid crystal display panel, a source drive integrated circuit (hereinafter referred to as “IC”) for supplying data voltages to data lines of the liquid crystal display panel, and liquid crystal display. A gate drive IC for supplying a gate pulse (or scan pulse) to the gate lines (or scan lines) of the display panel, a control circuit for controlling the ICs, a light source driving circuit for driving a light source of a backlight unit, etc. be prepared

액정표시장치의 액정에 직류전압이 인가되면, 잔상이 보일 수 있다. 잔상은 영상이 바뀌어도 이전 영상이 보이는 현상이다. 잔상은 액정표시장치에서 정지 영상이 오랫 동안 표시되거나 액정에 인가되는 직류 전압이 인가 시간이 길어질 수록 더 두드러지게 보인다. 잔상이 발생되는 메커니즘 중 하나는 액정 분자의 선경사각(pretilt angle)을 설정하기 위한 배향막에 액정층 내의 불순물 이온들이 축적되는 현상이다. 액정에 인가되는 전계의 극성을 따라 음전하를 띈 이온들과 양전하를 띈 이온들이 움직임 백터 방향을 따라 반대 방향으로 이동하면서 분극화된다. 움직임 백터가 동일하기 때문에 시간이 지날수록 배향막 상에 축적되는 이온들의 양이 많아진다. 이온들의 축적양이 증가하면 액정의 초기 배향 상태로 복구하려는 거동 특성에 영향을 주어 잔상이 보이게 된다.When a DC voltage is applied to the liquid crystal of the liquid crystal display, an afterimage may be seen. An afterimage is a phenomenon in which the previous image is visible even when the image is changed. The afterimage becomes more prominent as a still image is displayed for a long time in the liquid crystal display device or the DC voltage applied to the liquid crystal is applied for a longer time. One of the mechanisms by which the afterimage is generated is a phenomenon in which impurity ions in the liquid crystal layer are accumulated in the alignment layer for setting the pretilt angle of the liquid crystal molecules. Depending on the polarity of the electric field applied to the liquid crystal, negatively charged ions and positively charged ions move in opposite directions along the movement vector direction and are polarized. Since the motion vectors are the same, the amount of ions accumulated on the alignment layer increases over time. When the amount of accumulation of ions increases, an afterimage is seen by affecting the behavioral characteristics of the liquid crystal to be restored to the initial alignment state.

액정표시장치의 소비 전력을 줄이기 위하여 저속 구동 모드로 동작하여 입력 영상이 정지 영상인 경우에 프레임 주파수(Frame rate 혹은 Frame frequency)를 낮출 수 있다. 그런데 프레임 주파수를 낮추면, 데이터 전압이 바뀔 때마다 휘도가 급변하는 현상이 보이거나 픽셀의 전압 방전 시간이 길어져 영상이 깜빡이는 플리커 현상이 보일 수 있다. In order to reduce power consumption of the liquid crystal display, it is operated in a low speed driving mode to lower a frame rate or frame frequency when the input image is a still image. However, if the frame frequency is lowered, a phenomenon in which the luminance changes rapidly whenever the data voltage is changed or a flicker phenomenon in which the image flickers due to a prolonged voltage discharge time of the pixel may be observed.

또한, 저속 구동 모드는 액정에 인가되는 직류 전압 인가 시간이 길어지므로 잔상 문제에 취약하다. 따라서, 액정표시장치의 저속 구동 모드에서 화질 저하를 방지할 수 있는 방법이 요구되고 있다.In addition, the low-speed driving mode is vulnerable to an afterimage problem because the DC voltage applied to the liquid crystal takes a long time. Accordingly, there is a need for a method for preventing image quality deterioration in a low-speed driving mode of the liquid crystal display device.

본 발명은 저속 구동 모드에서 화질 저하를 방지할 수 있는 액정표시장치를 제공한다. The present invention provides a liquid crystal display capable of preventing image quality deterioration in a low-speed driving mode.

본 발명의 액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 대향하는 상판 및 하판과, 상기 상판과 하판 사이에 배치된 스페이서를 포함한다. The liquid crystal display device of the present invention includes upper and lower plates facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a spacer disposed between the upper and lower plates.

상기 하판은 절연막을 사이에 두고 중첩되는 하부 전극 및 상부 전극, 및 The lower plate includes a lower electrode and an upper electrode overlapping with an insulating film therebetween, and

상기 하부 전극과 상기 상부 전극에 접촉되는 배향막을 포함한다. and an alignment layer in contact with the lower electrode and the upper electrode.

상기 배향막이 상기 절연막을 관통하는 홀을 통에 상기 하부 전극에 접촉된다.The alignment layer is in contact with the lower electrode through a hole penetrating the insulating layer.

본 발명은 절연막을 사이에 두고 하부 전극과 상부 전극이 중첩된 구조를 갖는 액정표시장치에서 절연막을 관통하는 홀을 통해 배향막을 하부 전극에 접촉한다. 그 결과, 본 발명은 배향막이 하부 전극과 상부 전극에 직접 접적되어 배향막 상에 축적된 이온의 방전 경로를 형성함으로써 정상 구동 및 저속 구동 모드에서 이온의 축적을 방지하여 잔상 및 플리커로 인한 화질 저하를 방지할 수 있다. 나아가, 본 발명은 네가타브 액정, 광배향막, 및 산화물 TFT를 이용하여 저속 구동 모드에서 화질을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, in a liquid crystal display having a structure in which a lower electrode and an upper electrode are overlapped with an insulating film interposed therebetween, the alignment film is in contact with the lower electrode through a hole penetrating the insulating film. As a result, in the present invention, the alignment layer is directly in contact with the lower electrode and the upper electrode to form a discharge path of ions accumulated on the alignment layer, thereby preventing the accumulation of ions in normal driving and low speed driving modes, thereby reducing image quality deterioration due to afterimage and flicker. can be prevented Furthermore, the present invention can improve image quality in a low-speed driving mode by using a negative liquid crystal, a photo-alignment layer, and an oxide TFT.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 보여 주는 블록도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 종래 기술과 본 발명의 잔상 실험 결과를 보여 주는 도면들이다.
도 5는 잔상 실험 결과에 사용된 샘플의 영상 패턴을 보여 주는 도면이다.
도 6a 내지 도 6e는 배향막에서 픽셀 전극과 공통 전극의 다양한 접촉 면적 비율을 보여 주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치에서 한 개의 서브 픽셀을 확대하여 보여 주는 평면도이다.
도 8은 도 7에서 선 "I-Ⅰ'"를 따라 절취하여 액정표시장치의 하판 단면 구조를 보여 주는 단면도이다.
도 9는 데이터 라인과 컬럼 스페이서와 중첩된 도전성 연결부들을 보여 주는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다.
도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다.
도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치에서 한 개의 서브 픽셀을 확대하여 보여 주는 평면도이다.
도 13은 도 12에서 선 "Ⅱ-Ⅱ'"를 따라 절취하여 액정표시장치의 하판 단면 구조를 보여 주는 단면도이다.
도 14는 도 13에 도시된 액정표시장치에서 오픈홀을 형성하는 방법을 보여 주는 단면도이다.
도 15는 본 발명의 화소 구조의 개구 영역(Apxl)을 비교예와 비교한 평면도이다.
도 16은 도 15에서 선 "Ⅲ-Ⅲ'"과 선 "Ⅳ-Ⅳ'"을 따라 절취하여 액정표시장치의 하판 단면 구조를 보여 주는 단면도들이다.
1 is a block diagram showing a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing the structure of the lower plate of the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention.
3 is a view showing a structure of a lower plate of a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.
4A and 4B are diagrams showing the afterimage test results of the prior art and the present invention.
5 is a view showing an image pattern of a sample used for an afterimage test result.
6A to 6E are diagrams illustrating various contact area ratios between a pixel electrode and a common electrode in an alignment layer.
7 is an enlarged plan view of one sub-pixel in the liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the cross-sectional structure of the lower plate of the liquid crystal display device taken along the line "I-I'" in FIG. 7 .
9 is a cross-sectional view illustrating conductive connections overlapping a data line and a column spacer.
10 is a view showing a structure of a lower plate of a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.
11 is a view showing a structure of a lower plate of a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.
12 is an enlarged plan view of one sub-pixel in the liquid crystal display according to the third exemplary embodiment of the present invention.
13 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a lower plate of the liquid crystal display device taken along line "II-II'" in FIG. 12 .
14 is a cross-sectional view illustrating a method of forming an open hole in the liquid crystal display of FIG. 13 .
15 is a plan view comparing the aperture area Apxl of the pixel structure of the present invention with that of a comparative example.
16 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the lower plate of the liquid crystal display device taken along the line “III-III′” and the line “IV-IV′” in FIG. 15 .

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals refer to substantially identical elements throughout. In the following description, if it is determined that a detailed description of a known function or configuration related to the present invention may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1을 참조하면, 본 발명의 액정표시장치는 픽셀 어레이가 형성된 표시패널(100)과, 표시패널(100)에 입력 영상의 데이터를 기입하기 위한 표시패널 구동부(102, 104), 전원부(112) 등을 구비한다. 표시패널(100)의 아래에는 표시패널(100)에 빛을 균일하게 조사하기 위한 백라이트 유닛이 배치될 수 있다. Referring to FIG. 1 , the liquid crystal display of the present invention includes a display panel 100 having a pixel array formed thereon, display panel drivers 102 and 104 for writing input image data to the display panel 100 , and a power supply unit 112 . ), etc. A backlight unit for uniformly irradiating light to the display panel 100 may be disposed under the display panel 100 .

본 발명의 액정표시장치는 투과형 액정표시장치, 반투과형 액정표시장치, 반사형 액정표시장치 등 어떠한 형태로도 구현될 수 있다. 투과형 액정표장치와 반투과형 액정표시장치에서는 백라이트 유닛이 필요하다. 백라이트 유닛은 직하형(direct type) 백라이트 유닛 또는, 에지형(edge type) 백라이트 유닛으로 구현될 수 있다.The liquid crystal display of the present invention may be implemented in any form, such as a transmissive liquid crystal display, a transflective liquid crystal display, or a reflective liquid crystal display. A backlight unit is required in a transmissive liquid crystal display device and a transflective liquid crystal display device. The backlight unit may be implemented as a direct type backlight unit or an edge type backlight unit.

표시패널(100)은 액정층을 사이에 두고 대향하는 상부 기판과 하부 기판을 포함한다. 표시패널(100)의 픽셀 어레이는 데이터라인들(S1~Sm)과 게이트라인들(G1~Gn)의 교차 구조에 의해 매트릭스 형태로 배열되는 픽셀들을 포함한다. 픽셀들 각각은 TFT를 통해 데이터 전압을 충전하는 픽셀 전극(1)과 공통전압(Vcom)이 인가되는 공통 전극(2)의 전압차에 의해 구동되는 액정 분자들을 이용하여 빛의 투과양을 조정한다. The display panel 100 includes an upper substrate and a lower substrate facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. The pixel array of the display panel 100 includes pixels arranged in a matrix form by a cross structure of data lines S1 to Sm and gate lines G1 to Gn. Each of the pixels adjusts the amount of light transmission by using liquid crystal molecules driven by the voltage difference between the pixel electrode 1 that charges the data voltage through the TFT and the common electrode 2 to which the common voltage Vcom is applied. .

표시패널(100)의 하판에는 데이터라인들(S1~Sm), 게이트라인들(G1~Gn), 공통 전극(2), TFT들, TFT에 접속된 픽셀 전극(1), 및 픽셀 전극(1)에 접속된 스토리지 커패시터(Storage Capacitor, Cst) 등을 포함한다. TFT들은 서브 픽셀 마다 하나씩 형성되어 픽셀 전극(1)에 연결된다. TFT들은 비정질 실리콘(amorphose Si, a-Si) TFT, LTPS(Low Temperature Poly Silicon) TFT, 산화물 TFT(Oxide TFT) 등으로 구현될 수 있다. TFT들은 서브 픽셀들의 화소 전극에 1:1로 연결된다. 공통 전극(2)과 픽셀 전극(1)은 절연막을 사이에 두고 분리된다. On the lower plate of the display panel 100 , data lines S1 to Sm, gate lines G1 to Gn, a common electrode 2 , TFTs, a pixel electrode 1 connected to the TFT, and a pixel electrode 1 are provided. ) and the like connected to a storage capacitor (Storage Capacitor, Cst). TFTs are formed one for each sub-pixel and are connected to the pixel electrode 1 . The TFTs may be implemented as an amorphous silicon (a-Si) TFT, a LTPS (Low Temperature Poly Silicon) TFT, an oxide TFT (Oxide TFT), or the like. The TFTs are connected 1:1 to the pixel electrode of the sub-pixels. The common electrode 2 and the pixel electrode 1 are separated with an insulating film interposed therebetween.

표시패널(100)의 상판에는 블랙 매트릭스(Black matrix, BM)와 컬러 필터(Color filter, CF)를 포함한 컬러 필터 어레이가 형성된다. A color filter array including a black matrix (BM) and a color filter (CF) is formed on the upper plate of the display panel 100 .

표시패널(100)의 상판과 하판 사이에는 액정층이 형성된다. 표시패널(100)의 상판과 하판 각각에는 편광판이 부착되고 액정의 선경사각(pretilt angle)을 설정하기 위한 배향막이 형성된다. 배향막은 광배향이 가능한 고분자 재료 예를 들면, 폴리 이미드(Polyimide)로 형성된다. 상판과 하판 사이에는 액정셀의 셀갭(Cell gap)을 유지하기 위한 스페이서(spacer)가 형성될 수 있다. A liquid crystal layer is formed between the upper and lower plates of the display panel 100 . A polarizing plate is attached to each of the upper and lower plates of the display panel 100 , and an alignment layer for setting a pretilt angle of the liquid crystal is formed. The alignment layer is formed of a polymer material capable of photo-alignment, for example, polyimide. A spacer for maintaining a cell gap of the liquid crystal cell may be formed between the upper plate and the lower plate.

본 발명은 액정표시장치의 잔상과 플리커를 줄이기 위하여, 배향막을 공통 전극(2)과 픽셀 전극(1)에 접촉시킴으로써 배향막 상의 방전 경로를 형성한다. In the present invention, a discharge path is formed on the alignment layer by bringing the alignment layer into contact with the common electrode 2 and the pixel electrode 1 in order to reduce the afterimage and flicker of the liquid crystal display device.

저속 구동 모드에서 화질을 더 향상시키기 위하여 픽셀 어레이의 TFT를 산화물 TFT로 구현하고, 액정층을 네가티브 액정(negative liquid crystal, nLC)으로 구현한다. 배향막은 광배향 처리된다. In order to further improve image quality in the low-speed driving mode, the TFT of the pixel array is implemented as an oxide TFT, and the liquid crystal layer is implemented as a negative liquid crystal (nLC). The alignment layer is subjected to photo-alignment treatment.

산화물 TFT는 오프 상태의 누설 전류가 매우 낮기 때문에 저속 구동 모드에서 픽셀들의 방전을 억제할 수 있다. 산화물 TFT는 도 7 내지 도 9와 같은 에치 스토퍼(Etch stopper, ES)를 사용한 액정표시장치에 적용될 수 있고 도한, 백채널 에치(Back Channel Etch, BCE) 타입의 액정표시장치에도 적용 가능하다. The oxide TFT can suppress the discharge of pixels in the low-speed driving mode because the leakage current in the OFF state is very low. The oxide TFT can be applied to a liquid crystal display device using an etch stopper (ES) as shown in FIGS. 7 to 9 and can also be applied to a back channel etch (BCE) type liquid crystal display device.

광배향 처리된 광배향막은 빛이 새는 현상을 줄여 명암비를 향상시킬 수 있다. 광배향막은 액정의 선경사각(pretilt angle)을 0에 가깝게 하여 시청 각도와 관계없이 균일한 화질을 구현할 수 있게 한다. The photo-alignment layer treated with photo-alignment may reduce light leakage and improve the contrast ratio. The photo-alignment layer makes the pretilt angle of the liquid crystal close to zero, enabling uniform image quality regardless of the viewing angle.

네가티브 액정은 포지티브 액정보다 투과율이 높아 영상의 휘도를 향상시킬 수 있다. 네가티브 액정은 장축과 단축의 유전율 차이가 음(-)인 액정이다. 네가티브 액정은 전압이 인가될 때 액정 분자의 단축이 전계(E)와 나란하게 된다. The negative liquid crystal has a higher transmittance than the positive liquid crystal, so that the luminance of an image can be improved. The negative liquid crystal is a liquid crystal in which the difference in permittivity between the major axis and the minor axis is negative (-). In the negative liquid crystal, when a voltage is applied, the shortening of the liquid crystal molecules is parallel to the electric field (E).

표시패널 구동부(102, 104)는 데이터 구동부(102)와 게이트 구동부(104)를 포함한다. 표시패널 구동부(102, 104)는 타이밍 콘트롤러(106)의 제어 하에 정지 영상이 입력될 때 저속 구동 모드로 동작하고, 동영상이 입력될 때 정상 구동 모드(normal mode)로 동작한다. 저속 구동 모드의 프레임 주파수는 정상 구동 모드에 비하여 낮다. The display panel drivers 102 and 104 include a data driver 102 and a gate driver 104 . The display panel drivers 102 and 104 operate in a low-speed driving mode when a still image is input under the control of the timing controller 106 and operate in a normal driving mode when a moving image is input. The frame frequency in the low-speed driving mode is lower than that in the normal driving mode.

데이터 구동부(102)는 다수의 소스 드라이브 IC를 포함한다. 소스 드라이브 IC들의 데이터 출력 채널들은 픽셀 어레이의 데이터라인들(S1~Sm)에 연결된다. 소스 드라이브 IC들은 타이밍 콘트롤러(106)로부터 입력 영상의 디지털 비디오 데이터를 입력 받는다. 소스 드라이브 IC들은 타이밍 콘트롤러(106)의 제어 하에 입력 영상의 디지털 비디오 정극성/부극성 감마보상전압으로 변환하여 정극성/부극성 데이터전압을 출력한다. 소스 드라이브 IC들의 출력 전압은 데이터 라인들(S1~Sm)에 공급된다. 데이터 구동부(102)의 소스 드라이브 IC들은 저속 구동 모드에서 프레임 주파수가 낮아지므로 동작 주파수가 낮아진다. The data driver 102 includes a plurality of source drive ICs. Data output channels of the source drive ICs are connected to data lines S1 to Sm of the pixel array. The source drive ICs receive digital video data of an input image from the timing controller 106 . The source drive ICs convert the input image into digital video positive/negative gamma compensation voltages under the control of the timing controller 106 to output positive/negative data voltages. Output voltages of the source drive ICs are supplied to the data lines S1 to Sm. Since the frame frequency of the source drive ICs of the data driver 102 is lowered in the low speed driving mode, the operating frequency is lowered.

소스 드라이드 IC들 각각은 타이밍 콘트롤러(106)의 제어 하에 픽셀들에 공급될 데이터 전압의 극성을 반전시켜 데이터 라인들(S1~Sm)로 출력한다. 소스 드라이브 IC들은 데이터 라인들에 인가되는 데이터 전압의 극성을 1 프레임 기간 동안 유지한 후, 매 프레임마다 데이터전압의 극성을 반전시킬 수 있다. 저속 구동 모드에서 1 프레임 기간은 낮아진 프레임 주파수로 인하여 길어 진다. Each of the source drive ICs inverts the polarity of the data voltage to be supplied to the pixels under the control of the timing controller 106 and outputs the inverted polarity to the data lines S1 to Sm. The source drive ICs may maintain the polarity of the data voltage applied to the data lines for one frame period and then invert the polarity of the data voltage every frame. In the low-speed drive mode, one frame period becomes longer due to the lowered frame frequency.

게이트 구동부(104)는 타이밍 콘트롤러(106)의 제어 하에 게이트 라인들(G1~Gn)에 데이터 전압에 동기되는 게이트 펄스를 순차적으로 공급한다. 게이트 구동부(104)로부터 출력된 게이트 펄스는 픽셀들에 충전될 정극성/부극성 데이터 전압에 동기된다. 게이트 구동부(104)는 IC 비용을 줄이기 위하여, 픽셀 어레이와 함께 표시패널(100)의 하부 기판 상에 직접 형성될 수 있다. 게이트 구동부(104)는 저속 구동 모드에서 프레임 주파수가 낮아지므로 동작 주파수가 낮아진다. The gate driver 104 sequentially supplies gate pulses synchronized with the data voltage to the gate lines G1 to Gn under the control of the timing controller 106 . The gate pulse output from the gate driver 104 is synchronized with the positive/negative data voltage to be charged in the pixels. The gate driver 104 may be directly formed on the lower substrate of the display panel 100 together with the pixel array in order to reduce the cost of the IC. Since the frame frequency of the gate driver 104 is lowered in the low speed driving mode, the operating frequency is lowered.

타이밍 콘트롤러(106)는 호스트 시스템(110)으로부터 수신된 입력 영상의 디지털 비디오 데이터를 데이터 구동부(102)로 전송한다. 타이밍 콘트롤러(106)는 입력 영상 데이터와 동기되는 타이밍 신호들을 호스트 시스템(110)으로부터 수신한다. 타이밍 신호들은 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(DE), 클럭(CLK) 등을 포함한다. 타이밍 콘트롤러(106)는 입력 영상의 픽셀 데이터와 함께 수신되는 타이밍 신호들(Vsync, Hsync, DE, CLK)을 바탕으로 데이터 구동부(102)와 게이트 구동부(104)의 동작 타이밍을 제어한다. 타이밍 콘트롤러(106)는 픽셀 어레이의 극성을 제어하기 위한 극성제어신호를 데이터 구동부(102)의 소스 드라이브 IC들 각각에 전송할 수 있다. The timing controller 106 transmits digital video data of an input image received from the host system 110 to the data driver 102 . The timing controller 106 receives timing signals synchronized with the input image data from the host system 110 . The timing signals include a vertical synchronization signal Vsync, a horizontal synchronization signal Hsync, a data enable signal DE, a clock CLK, and the like. The timing controller 106 controls operation timings of the data driver 102 and the gate driver 104 based on the timing signals Vsync, Hsync, DE, and CLK received together with the pixel data of the input image. The timing controller 106 may transmit a polarity control signal for controlling the polarity of the pixel array to each of the source drive ICs of the data driver 102 .

타이밍 콘트롤러(106)는 정상 구동 모드(Normal driving mode)에서 입력 영상의 프레임 주파수×N(N은 양의 정수) Hz의 프레임 주파수로 표시패널 구동부(102, 104)의 동작 타이밍을 제어할 수 있다. 정상 구동 모드에서 입력 영상의 프레임 주파수(frame rate)는 NTSC(National Television Standards Committee) 방식에서 60Hz이며, PAL(Phase-Alternating Line) 방식에서 50Hz이다. 저속 구동 모드에서 프레임 주파수는 30Hz ~ 1Hz 정도로 낮아질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The timing controller 106 may control the operation timing of the display panel drivers 102 and 104 in a normal driving mode with a frame frequency of the input image×N (N is a positive integer) Hz. . In the normal driving mode, the frame rate of the input image is 60 Hz in the NTSC (National Television Standards Committee) method and 50 Hz in the PAL (Phase-Alternating Line) method. In the low speed driving mode, the frame frequency may be lowered to about 30 Hz to 1 Hz, but is not limited thereto.

호스트 시스템(110)은 TV(Television) 시스템, 셋톱박스, 네비게이션 시스템, DVD 플레이어, 블루레이 플레이어, 개인용 컴퓨터(PC), 홈 시어터 시스템, 폰 시스템(Phone system) 중 어느 하나일 수 있다.The host system 110 may be any one of a television (Television) system, a set-top box, a navigation system, a DVD player, a Blu-ray player, a personal computer (PC), a home theater system, and a phone system.

본 발명의 액정표시장치는 도시하지 않은 전원부를 더 포함한다. 전원부는 직류-직류 변환기(DC-DC converter)를 이용하여 표시패널(100)의 구동에 필요한 전압들을 발생한다. 이 전압들은 고전위 전원전압(Vdd), 로직 전원전압(Vcc), 감마기준전압, 게이트 하이 전압(VGH), 게이트 로우 전압(VGL), 공통전압(Vcom) 등을 포함한다. 고전위 전원전압(Vdd)은 표시패널(100)의 픽셀에 충전될 최대 데이터 전압이다. 로직 전원전압(Vcc)은 타이밍 콘트롤러(106), 데이터 구동부(102)의 소스 드라이브 IC들, 및 게이트 구동부(104)의 게이트 드라이브 IC들의 구동에 필요한 전압 전압이다. 게이트 하이전압(VGH)은 픽셀 어레이의 TFT들의 문턱전압 이상으로 설정된 게이트 펄스의 하이논리전압이고, 게이트 로우전압(VGL)은 픽셀 어레이의 TFT들의 문턱 전압 보다 낮은 전압으로 설정된 게이트 펄스의 로우논리전압이다. 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL)은 게이트 구동부(104)에 공급된다. 게이트 펄스는 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL) 사이에서 스윙한다. 공통전압(Vcom)은 액정셀들(Clc)의 공통전극(2)에 공급된다. 전원부는 고전위 전원전압(Vdd)을 분압하여 감마기준전압을 발생한다. 감마기준전압은 소스 드라이브 IC들에 공급된다. 소스 드라이브IC들은 감마기준전압을 분압하여 계조별 정극성/부극성 감마보상전압을 발생하고, 디지털 비디오 데이터를 정극성/부극성 감마보상전압으로 변환함으로써 데이터 전압을 출력한다. The liquid crystal display device of the present invention further includes a power supply (not shown). The power supply unit generates voltages necessary for driving the display panel 100 using a DC-DC converter. These voltages include a high potential power voltage Vdd, a logic power supply voltage Vcc, a gamma reference voltage, a gate high voltage VGH, a gate low voltage VGL, and a common voltage Vcom. The high potential power voltage Vdd is the maximum data voltage to be charged in the pixels of the display panel 100 . The logic power voltage Vcc is a voltage voltage necessary for driving the timing controller 106 , the source drive ICs of the data driver 102 , and the gate drive ICs of the gate driver 104 . The gate high voltage VGH is the high logic voltage of the gate pulse set to be higher than the threshold voltage of the TFTs of the pixel array, and the gate low voltage VGL is the low logic voltage of the gate pulse set to a voltage lower than the threshold voltage of the TFTs of the pixel array. am. The gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL are supplied to the gate driver 104 . The gate pulse swings between the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL. The common voltage Vcom is supplied to the common electrode 2 of the liquid crystal cells Clc. The power supply part divides the high potential power voltage Vdd to generate a gamma reference voltage. The gamma reference voltage is supplied to the source drive ICs. Source drive ICs divide the gamma reference voltage to generate positive/negative gamma compensation voltages for each gray level, and convert digital video data into positive/negative gamma compensation voltages to output data voltages.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다. 2 is a view showing the structure of the lower plate of the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 액정표시장치는 절연막을 사이에 두고 공통 전극(COM) 위에 배치된 픽셀 전극(PXL)과, 공통 전극(COM)에 접촉된 도전성 연결부(CNT)와, 픽셀 전극(PXL)과 도전성 연결부(CNT)에 접촉된 배향막(PI)을 포함한다. 보호막(PAS1)은 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PXL) 사이에 형성된 절연막이다. 도전성 연결부(CNT)는 공통 전극(COM)과 연결되기 때문에 공통 전극(COM)의 일부로 볼 수 있다. 이 실시예에서, 공통 전극(COM)이 픽셀 전극(PXL) 아래에 위치하는 하부 전극이고, 픽셀 전극(PXL)이 상부 전극이다. Referring to FIG. 2 , the liquid crystal display of the present invention includes a pixel electrode PXL disposed on a common electrode COM with an insulating layer interposed therebetween, a conductive connection part CNT in contact with the common electrode COM, and a pixel electrode (PXL) and an alignment layer (PI) in contact with the conductive connection portion (CNT). The passivation layer PAS1 is an insulating layer formed between the common electrode COM and the pixel electrode PXL. Since the conductive connection part CNT is connected to the common electrode COM, it may be viewed as a part of the common electrode COM. In this embodiment, the common electrode COM is a lower electrode positioned below the pixel electrode PXL, and the pixel electrode PXL is an upper electrode.

도전성 연결부(CNT)는 픽셀 전극(PXL)과 같은 층에 형성되고 보호막(PAS1)을 관통하는 콘택홀 내에 채워져 공통 전극(COM)과 접촉된다. 도전성 연결부(CNT)는 배향막(PI)에 접촉된다. 도전성 연결부(CNT)는 픽셀 전극(PXL)과 동일한 물질로 형성되어 픽셀 전극(PXL)과 동시에 패터닝될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 도전성 연결부(CNT)는 픽셀 전극(PXL)의 재료와는 다른 금속으로 형성될 수 있다. 도전성 연결부(CNT)는 배향막(PI)을 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 연결하여 배향막(PI) 상에 축적된 이온의 방전 경로를 형성한다. 도전성 연결부(CNT)는 공통 전극(COM)을 덮어 픽셀 전극(PXL)의 식각 공정에서 공통 전극(COM)의 식각을 방지하고, 배향막(PI)과 공통 전극(COM)이 연결되는 부분에서 단차가 커지는 것을 방지한다. The conductive connection part CNT is formed on the same layer as the pixel electrode PXL and is filled in a contact hole penetrating the passivation layer PAS1 to contact the common electrode COM. The conductive connection part CNT is in contact with the alignment layer PI. The conductive connection part CNT may be formed of the same material as the pixel electrode PXL and may be patterned simultaneously with the pixel electrode PXL, but is not limited thereto. The conductive connection part CNT may be formed of a metal different from that of the pixel electrode PXL. The conductive connection part CNT connects the alignment layer PI to the pixel electrode PXL and the common electrode COM to form a discharge path of ions accumulated on the alignment layer PI. The conductive connection part CNT covers the common electrode COM to prevent the common electrode COM from being etched in the etching process of the pixel electrode PXL, and a step difference between the alignment layer PI and the common electrode COM is connected. prevent it from growing

공통 전극(COM)은 유기 보호막(PAC) 상에 형성될 수 있다. 도전성 연결부(CNT)는 픽셀의 개구율 저하를 최소화하기 위하여 데이터 라인(DL)과 중첩되거나 스페이서와 중첩될 수 있다. 또한, 도전성 연결부(CNT)는 데이터 라인(DL)과 중첩되고 또한, 스페이서와 중첩될 수 있다. The common electrode COM may be formed on the organic passivation layer PAC. The conductive connection part CNT may overlap the data line DL or overlap the spacer in order to minimize the decrease in the aperture ratio of the pixel. In addition, the conductive connection part CNT may overlap the data line DL and may also overlap the spacer.

블랙 매트릭스는 TFT, 데이터 라인(DL), 게이트 라인(GL), 스페이서, 도전성 연결부(CNT) 등과 중첩되어 이러한 구성 요소들이 보이지 않도록 한다.The black matrix overlaps the TFT, the data line DL, the gate line GL, the spacer, the conductive connection part CNT, and the like to make these components invisible.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다. 3 is a view showing a structure of a lower plate of a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 액정표시장치는 절연막을 사이에 두고 픽셀 전극(PXL) 위에 배치된 공통 전극(COM)과, 픽셀 전극(PXL)에 접촉된 도전성 연결부(CNT)와, 공통 전극(COM)과 도전성 연결부(CNT)에 접촉된 배향막(PI)을 포함한다. 보호막(PAS1)은 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PXL) 사이에 형성된 절연막이다. 도전성 연결부(CNT)는 픽셀 전극(PIX)과 연결되기 때문에 픽셀 전극(PXL) 의 일부이다. 이 실시예에서, 픽셀 전극(PXL)이 공통 전극(COM) 아래에 위치하는 하부 전극이고, 공통 전극(COM)이 상부 전극이다.Referring to FIG. 3 , the liquid crystal display of the present invention includes a common electrode COM disposed on the pixel electrode PXL with an insulating layer interposed therebetween, a conductive connection part CNT in contact with the pixel electrode PXL, and the common electrode. (COM) and an alignment layer (PI) in contact with the conductive connection portion (CNT). The passivation layer PAS1 is an insulating layer formed between the common electrode COM and the pixel electrode PXL. The conductive connection part CNT is a part of the pixel electrode PXL because it is connected to the pixel electrode PIX. In this embodiment, the pixel electrode PXL is a lower electrode positioned below the common electrode COM, and the common electrode COM is an upper electrode.

도전성 연결부(CNT)는 공통 전극(COM)과 같은 층에 형성되고 보호막(PAS1)을 관통하는 콘택홀 내에 채워져 픽셀 전극(PXL)과 접촉된다. 도전성 연결부(CNT)는 배향막(PI)에 접촉된다. 도전성 연결부(CNT)는 공통 전극(COM)과 동일한 물질로 형성되어 공통 전극(COM)과 동시에 패터닝될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 도전성 연결부(CNT)는 공통 전극(COM)의 재료와는 다른 금속으로 형성될 수 있다. 도전성 연결부(CNT)는 배향막(PI)을 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 연결하여 배향막(PI) 상에 축적된 이온의 방전 경로를 형성한다. 도전성 연결부(CNT)는 픽셀 전극(PXL)을 덮어 공통 전극(COM)의 식각 공정에서 픽셀 전극(PXL)의 식각을 방지하고, 배향막(PI)과 공통 전극(COM)이 연결되는 부분에서 단차가 커지는 것을 방지한다. The conductive connection part CNT is formed on the same layer as the common electrode COM and is filled in a contact hole penetrating the passivation layer PAS1 to contact the pixel electrode PXL. The conductive connection part CNT is in contact with the alignment layer PI. The conductive connection part CNT may be formed of the same material as the common electrode COM and may be patterned simultaneously with the common electrode COM, but is not limited thereto. The conductive connection part CNT may be formed of a metal different from that of the common electrode COM. The conductive connection part CNT connects the alignment layer PI to the pixel electrode PXL and the common electrode COM to form a discharge path of ions accumulated on the alignment layer PI. The conductive connection part CNT covers the pixel electrode PXL to prevent the pixel electrode PXL from being etched in the etching process of the common electrode COM, and there is a step difference between the alignment layer PI and the common electrode COM. prevent it from growing

픽셀 전극(PXL)은 유기 보호막(PAL) 상에 형성될 수 있다. 도전성 연결부(CNT)는 픽셀의 개구율 저하를 최소화하기 위하여 데이터 라인(DL)과 중첩되거나 스페이서와 중첩될 수 있다. 블랙 매트릭스는 TFT, 데이터 라인(DL), 게이트 라인(GL), 스페이서, 도전성 연결부(CNT) 등과 중첩되어 이러한 구성 요소들이 보이지 않도록 한다.The pixel electrode PXL may be formed on the organic passivation layer PAL. The conductive connection part CNT may overlap the data line DL or overlap the spacer in order to minimize the decrease in the aperture ratio of the pixel. The black matrix overlaps the TFT, the data line DL, the gate line GL, the spacer, the conductive connection part CNT, and the like to make these components invisible.

본원의 발명자는 저항이 다른 다양한 배향막들을 대상으로 잔상 실험을 한 결과, 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 배향막이 접촉되면 이온의 방전 경로가 형성되어 잔상 문제가 개선되는 효과를 확인하였다. 발명자는 배향막의 저항이 높더라도 잔상 개선 효과를 확인하였다. 발명자는 배향막의 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)의 접촉 면적 비율을 달리하여 잔상 실험을 한 결과, 그 접촉 면적 비율이 달라져도 잔상 문제가 개선된 것을 확인하였다. 도 4a는 종래 기술과 본 발명의 잔상 실험 결과를 보여 주는 도면들이다. 이 실험에서 종래 기술로 선택된 샘플은 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PXL)이 절연막을 사이에 두고 분리되고 배향막(PI)이 픽셀 전극에만 연결된 액정표시장치이다. The inventors of the present application conducted an afterimage test on various alignment layers having different resistances, and as a result, when the alignment layer was in contact with the pixel electrode PXL and the common electrode COM, a discharge path of ions was formed and the afterimage problem was improved. . The inventor confirmed the afterimage improvement effect even if the resistance of the alignment layer was high. As a result of an afterimage experiment by varying the contact area ratio between the pixel electrode PXL and the common electrode COM of the alignment layer, the inventors confirmed that the afterimage problem was improved even when the contact area ratio was changed. 4A is a view showing an afterimage test result of the prior art and the present invention. In this experiment, the sample selected as a conventional technique is a liquid crystal display device in which the common electrode COM and the pixel electrode PXL are separated with an insulating layer interposed therebetween, and the alignment layer PI is connected only to the pixel electrode.

잔상 실험에서 본 발명으로 선택된 샘플은 도 2와 같은 구조의 하판을 갖는 도 7 내지 도 9에 도시된 액정표시장치이다. 잔상, 플리커 실험은 화이트 계조 블록과 블랙 계조 블록을 액정표시장치의 화면에 표시하고 일정 시간 동안 유지된 후에 화면 전체에서 픽셀 데이터의 계조값을 중간 계조 예를 들어, 127로 변하여 잔상이 보이는 가를 확인하는 실험이다. 잔상 실험 결과, 종래 기술의 경우에 도 4a와 같이 잔상이 보이는 반면, 본 발명은 도 4b와 잔상이 보이지 않았다. The sample selected as the present invention in the afterimage experiment is the liquid crystal display shown in FIGS. 7 to 9 having a lower plate having the structure as shown in FIG. 2 . In the afterimage and flicker experiment, after displaying the white grayscale block and the black grayscale block on the screen of the liquid crystal display and maintaining it for a certain period of time, the grayscale value of the pixel data on the entire screen is changed to an intermediate grayscale, for example, 127 to check whether an afterimage is visible. It is an experiment to As a result of the afterimage test, an afterimage as shown in FIG. 4A was seen in the case of the prior art, whereas the afterimage was not seen in the case of the present invention as shown in FIG. 4B.

도 5는 잔상 실험 결과에 사용된 샘플의 영상 패턴을 보여 주는 도면이다.5 is a view showing an image pattern of a sample used for an afterimage test result.

도 5의 (A)는 액정표시장치에서 잔상을 유도하기 위한 솔리드 패턴에서 화이트 계조 블록 내의 일부 픽셀들을 보여 주는 도면이다. 솔리드 패턴의 경우에, 화이트 계조 블록에서 정극성 픽셀들과 부극성 픽셀들에 화이트 계조 전압이 공급된 후 일정 시간이 경과된 후에 중간 계조 전압이 공급된다. 솔리드 패턴의 경우에, 블랙 계조 블록에서 정극성 픽셀들과 부극성 픽셀들에 블랙 계조 전압이 공급된 후 일정 시간이 경과된 후에 중간 계조 전압이 공급된다. 정극성 픽셀들은 정극성 데이터 전압이 공급되는 픽셀들이다. 부극성 픽셀들은 부극성 데이터 전압이 공급되는 픽셀들이다. 데이터 전압의 극성은 프레임 기간 단위로 반전된다. FIG. 5A is a diagram illustrating some pixels in a white grayscale block in a solid pattern for inducing an afterimage in a liquid crystal display. In the case of the solid pattern, after a predetermined time elapses after the white gray voltage is supplied to the positive pixels and the negative pixels in the white gray block, the half gray voltage is supplied. In the case of the solid pattern, after a predetermined time elapses after the black gray voltage is supplied to the positive pixels and the negative pixels in the black gray block, the half gray voltage is supplied. The positive polarity pixels are pixels to which a positive polarity data voltage is supplied. The negative polarity pixels are pixels to which a negative polarity data voltage is supplied. The polarity of the data voltage is inverted in units of frame periods.

도 5의 (B)는 액정표시장치에서 플리커를 유도하기 위한 플리커 패턴에서 화이트 계조 블록 내의 일부 픽셀들을 보여 주는 도면이다. 플리커 패턴의 경우에, 화이트 계조 블록에서 같은 제1 극성의 픽셀들에 화이트 계조 전압이 공급되고 제2 극성의 픽셀들에 블랙 계조 전압이 공급된 후, 일정 시간이 경과된 후에 중간 계조 전압이 공급된다. 제1 극성은 정극성 또는 부극성이다. 제2 극성은 제1 극성과 다른 극성이다. 블랙 계조 블록에서 정극성 픽셀들과 부극성 픽셀들에 블랙 계조 전압이 공급된 후 일정 시간이 경과된 후에 중간 계조 전압이 공급된다. 데이터 전압은 프레임 기간 단위로 반전된다.FIG. 5B is a diagram illustrating some pixels within a white grayscale block in a flicker pattern for inducing flicker in a liquid crystal display. In the case of the flicker pattern, a white gradation voltage is supplied to pixels of the same first polarity in a white gradation block, a black gradation voltage is supplied to pixels of a second polarity, and then, after a predetermined time elapses, the intermediate gradation voltage is supplied do. The first polarity is positive or negative. The second polarity is different from the first polarity. After a predetermined time elapses after the black gray voltage is supplied to the positive pixels and the negative pixels in the black gray block, the half gray voltage is supplied. The data voltage is inverted in units of frame periods.

본원 발명자는 잔상 실험에서 배향막(PI)이 픽셀 전극(PXL)과 접촉된 면적과 배향막(PI)이 공통 전극(COM)과 접촉된 면적의 비율을 도 6a 내지 도 6e와 같이 다양하게 변경하면서 잔상 개선 효과를 확인하였다. 도 6a 내지 도 6e에서 배향막(PI)과 픽셀 전극(PXL)의 면적 비율은 동일하고, 배향막(PI)과 공통 전극(COM)의 면적 비율은 달라진다. 배향막(PI)과 공통 전극(COM)의 면적 비율은 도 6a 내지 도 6e와 같이 도전성 연결부(CNT)의 개수 및 크기 변화에 따라 달라진다. The inventors of the present inventors changed the ratio of the area in which the alignment layer PI was in contact with the pixel electrode PXL and the area in which the alignment layer PI was in contact with the common electrode COM in the afterimage experiment, as shown in FIGS. The improvement effect was confirmed. 6A to 6E , the area ratio of the alignment layer PI and the pixel electrode PXL is the same, and the area ratio of the alignment layer PI and the common electrode COM is different. The area ratio of the alignment layer PI and the common electrode COM varies according to the number and size of the conductive connection parts CNT as shown in FIGS. 6A to 6E .

배향막(PI)은 데이터 라인(DL) 위나 컬럼 스페이서(Column spacer, CS) 위에 배치된 도전성 연결부(CNT, CNT1, CNT2)를 통해 공통 전극(COM)과 접촉되고, 픽셀 전극(PXL)과 직접 접촉된다. 도 6e에서, "CNT1"은 데이터 라인(DL) 위에 배치된 제1 도전성 연결부이고, "CNT2"는 컬럼 스페이서(CS)와 중첩된 제2 도전성 연결부이다. 도전성 연결부(CNT, CNT1, CNT2)는 블랙 매트릭스(BM)와 중첩되어 블랙 매트릭스(BM)에 의해 가려진다. 도 9는 도 6e와 같은 도전성 연결부들(CNT1, CNT2)을 보여 주는 단면도이다. The alignment layer PI is in contact with the common electrode COM through the conductive connections CNT, CNT1, and CNT2 disposed on the data line DL or on the column spacer CS, and is in direct contact with the pixel electrode PXL. do. In FIG. 6E , “CNT1” is a first conductive connection disposed on the data line DL, and “CNT2” is a second conductive connection overlapping the column spacer CS. The conductive connection portions CNT, CNT1, and CNT2 overlap the black matrix BM and are covered by the black matrix BM. FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating conductive connection parts CNT1 and CNT2 as shown in FIG. 6E .

본원 발명자는 잔상, 플리커 실험 결과를 바탕으로, 표 1과 같이 배향막(PI)이 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 접촉되는 비율이 2:1 ~ 6:1 일 때 잔상 개선 효과를 확인할 수 있었다. Based on the afterimage and flicker test results, the inventors of the present invention have obtained an afterimage improvement effect when the ratio of the alignment layer (PI) to the pixel electrode (PXL) and the common electrode (COM) is 2:1 to 6:1, as shown in Table 1 could check

도면drawing 도 5aFigure 5a 도 5bFigure 5b 도 5cFigure 5c 도 5dFigure 5d 도 5eFigure 5e 배향막의 접촉 면적
the contact area of the alignment layer
픽셀전극
(PXL)
pixel electrode
(PXL)
4776.0 ㎛2 4776.0 μm 2 4776.0 ㎛2 4776.0 μm 2 4776.0 ㎛2 4776.0 μm 2 4776.0 ㎛2 4776.0 μm 2 4776.0 ㎛2 4776.0 μm 2
공통전극
(COM)
common electrode
(COM)
729.1 ㎛2 729.1 μm 2 727.4 ㎛2 727.4 μm 2 1212.8 ㎛2 1212.8 μm 2 1480.6 ㎛2 1480.6 μm 2 2303.9 ㎛2 2303.9 μm 2
접촉 면적 비율
(PXL : COM)
contact area ratio
(PXL: COM)
6 : 1 6:1 6 : 1 6:1 4 : 1 4:1 3 : 1 3 : 1 2 : 1 2:1
접촉 위치
contact location
매 서브 픽셀 마다 양측 데이터 라인(DL) 위에서 접촉됨Contacted on both data lines (DL) for every sub-pixel 매 서브 픽셀 마다 일측 데이터 라인(DL) 위에서 접촉됨Contacted on one data line DL for every sub-pixel 매 서브 픽셀 마다 양측 데이터 라인(DL) 위에서 접촉되는 면적을 확대함Enlarges the contact area on both data lines DL for every sub-pixel 매 서브 픽셀 마다 양측 데이터 라인(DL) 위에서 접촉되는 면적을 더 확대함The contact area on both data lines DL is further enlarged for every sub-pixel 매 서브 픽셀 마다 양측 데이터 라인(DL) 위에서 접촉되고, 스페이서 위치에서 접촉됨Contacted on both data lines DL for every sub-pixel, and contacted at a spacer position

도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정표시장치에서 한 개의 서브 픽셀을 확대하여 보여 주는 평면도이다. 도 8은 도 7에서 선 "I-Ⅰ'"를 따라 절취하여 액정표시장치의 하판 단면 구조를 보여 주는 단면도이다. 도 9는 도 6e와 같은 도전성 연결부들(CNT1, CNT2)을 보여 주는 단면도이다. 도 7 내지 도 9에 도시된 액정표시장치는 도 2와 같은 구조의 하판을 포함한다. 7 is an enlarged plan view of one sub-pixel in the liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention. FIG. 8 is a cross-sectional view showing the cross-sectional structure of the lower plate of the liquid crystal display device taken along the line "I-I'" in FIG. 7 . FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating conductive connection parts CNT1 and CNT2 as shown in FIG. 6E . The liquid crystal display shown in FIGS. 7 to 9 includes a lower plate having the same structure as in FIG. 2 .

도 7 내지 도 9를 참조하면, 하판은 TFT, 게이트 절연막(GI), 에치 스토퍼층(Etch stopper, ES), 제1 무기 보호막(PAS0), 유기 보호막(PAC), 공통 전극(COM), 제2 무기 보호막(PAS1), 도전성 연결부(CNT), 픽셀 전극(PXL), 및 하부 배향막(PI)을 포함한다. 7 to 9 , the lower plate includes a TFT, a gate insulating layer (GI), an etch stopper layer (ES), a first inorganic passivation layer (PAS0), an organic passivation layer (PAC), a common electrode (COM), and a second 2 includes an inorganic passivation layer PAS1 , a conductive connection part CNT, a pixel electrode PXL, and a lower alignment layer PI.

게이트 라인(GL)과 TFT의 게이트(G)는 하부 기판(SUBS1) 상에 형성된다. 게이트 절연막(GI)은 SiOx, SiNx 등의 무기 절연막으로 형성되어 TFT의 게이트(G)를 덮는다. TFT의 게이트(G)는 게이트 라인(GL)과 일체화된다. 반도체 패턴(ACT)은 TFT의 게이트(G)와 중첩되도록 게이트 절연막(GI) 상에 형성된다. 반도체 패턴(ACT)은 비정질 실리콘(a-Si) LTPS, 산화물 반도체 등의 반도체 물질로 형성되어 TFT의 액티브 채널층으로 이용된다. TFT의 소스 및 드레인(S, D)은 TFT의 게이트(G)와 중첩되도록 반도체 패턴(ACT) 상에 형성된다. 드레인(D)은 데이터 라인(DL)과 일체화된다. 소스(S)는 제1 무기 보호막(PAS0), 유기 보호막(PAC), 및 제2 무기 보호막(PAS1)을 관통하는 콘택홀(CH)을 통해 픽셀 전극(PXL)과 접촉된다. 에치 스토퍼층(ES)은 SiOx와 같은 무기 절연 물질로 반도체 패턴(ACT)과 게이트 절연막(GI) 상에 형성되어 소스 및 드레인(S, D)의 식각 시에 식각액(etchant)로부터 반도체 패턴(ACT)을 보호한다. 제1 무기 보호막(PAS0)은 SiOx, SiNx 등의 무기 절연막으로 형성되어 TFT와 에치 스토퍼(ES)를 덮는다. 유기 보호막(PAC)은 포토 아크릴(Photo-acryl)과 같은 유기 절연 물질로 형성되어 제1 무기 보호막(PAS0)을 덮는다. 공통 전극(COM), 도전성 연결부(CNT) 및 픽셀 전극(PXL)은 ITO(Indium-Tin Oxide)와 같은 투명 전극 물질로 형성될 수 있다. The gate line GL and the gate G of the TFT are formed on the lower substrate SUBS1. The gate insulating film GI is formed of an inorganic insulating film such as SiOx or SiNx to cover the gate G of the TFT. The gate G of the TFT is integrated with the gate line GL. The semiconductor pattern ACT is formed on the gate insulating layer GI to overlap the gate G of the TFT. The semiconductor pattern ACT is formed of a semiconductor material such as amorphous silicon (a-Si) LTPS or an oxide semiconductor and is used as an active channel layer of the TFT. Sources and drains S and D of the TFT are formed on the semiconductor pattern ACT to overlap the gate G of the TFT. The drain D is integrated with the data line DL. The source S is in contact with the pixel electrode PXL through a contact hole CH passing through the first inorganic passivation layer PAS0 , the organic passivation layer PAC, and the second inorganic passivation layer PAS1 . The etch stopper layer ES is made of an inorganic insulating material such as SiOx and is formed on the semiconductor pattern ACT and the gate insulating layer GI. ) to protect The first inorganic passivation layer PAS0 is formed of an inorganic insulating layer such as SiOx or SiNx to cover the TFT and the etch stopper ES. The organic passivation layer PAC is formed of an organic insulating material such as photo-acryl and covers the first inorganic passivation layer PAS0. The common electrode COM, the conductive connection part CNT, and the pixel electrode PXL may be formed of a transparent electrode material such as indium-tin oxide (ITO).

공통 전극(COM)은 유기 보호막(PAC) 상에 형성된다. 제2 무기 보호막(PAS1)은 SiOx, SiNx 등의 무기 절연막으로 형성되어 공통 전극(COM)을 덮는다. 도전성 연결부(CNT)는 제2 무기 보호막(PAS1)을 관통하는 콘택홀을 통해 공통 전극(COM)에 연결된다. 픽셀 전극(PXL)은 공통 전극(COM)과 중첩되도록 제2 무기 보호막(PAS1) 상에 형성된다. 픽셀 전극(PXL)과 도전성 연결부(CNT)는 같은 물질로 동시에 형성될 수 있다. 픽셀 전극(PXL)은 콘택홀(CH)을 통해 TFT의 소스(S)와 접촉된다. The common electrode COM is formed on the organic passivation layer PAC. The second inorganic passivation layer PAS1 is formed of an inorganic insulating layer such as SiOx or SiNx to cover the common electrode COM. The conductive connection part CNT is connected to the common electrode COM through a contact hole penetrating the second inorganic passivation layer PAS1 . The pixel electrode PXL is formed on the second inorganic passivation layer PAS1 to overlap the common electrode COM. The pixel electrode PXL and the conductive connection part CNT may be simultaneously formed of the same material. The pixel electrode PXL is in contact with the source S of the TFT through the contact hole CH.

하부 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)과 도전성 연결부(CNT)를 덮도록 제2 무기 보호막(PAS1) 상에 형성된다. 하부 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)에 직접 접촉되고, 도전성 연결부(CNT)를 통해 공통 전극(COM)과 연결된다. 하부 배향막(PI)은 하판에서 네가티브 액정(nLC)과 접하여 광배향되어 액정 분자의 선경사각을 설정한다. The lower alignment layer PI is formed on the second inorganic passivation layer PAS1 to cover the pixel electrode PXL and the conductive connection part CNT. The lower alignment layer PI directly contacts the pixel electrode PXL and is connected to the common electrode COM through the conductive connection part CNT. The lower alignment layer PI is photo-aligned in contact with the negative liquid crystal nLC on the lower plate to set a pretilt angle of the liquid crystal molecules.

상판에는 블랙 매트릭스(BM), 컬러 필터(CF), 상부 배향막(PI), 및 컬럼 스페이서(CS)가 형성된다. 블랙 매트릭스(BM)와 컬러 필터(CF)는 상부 기판(SUBS2) 상에 형성된다. 상부 배향막(PI)은 상판에서 네가티브 액정(nLC)과 접하여 광배향되어 액정 분자의 선경사각을 설정한다. 컬럼 스페이서(CS)는 상판과 하판 사이에 형성되어 네가티브 액정층의 셀갭을 유지한다. A black matrix BM, a color filter CF, an upper alignment layer PI, and a column spacer CS are formed on the upper plate. The black matrix BM and the color filter CF are formed on the upper substrate SUBS2. The upper alignment layer PI is photo-aligned in contact with the negative liquid crystal nLC on the upper plate to set a pre-tilt angle of the liquid crystal molecules. The column spacer CS is formed between the upper and lower plates to maintain a cell gap of the negative liquid crystal layer.

본 발명의 제2 실시예에 따른 액정표시장치의 경우에, 도 7 내지 도 9 에서 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)의 위치가 서로 반대로 되고 픽셀 전극(PXL)이 TFT에 연결된다.In the case of the liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention, positions of the pixel electrode PXL and the common electrode COM are opposite to each other in FIGS. 7 to 9 , and the pixel electrode PXL is connected to the TFT.

도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다. 10 is a view showing a structure of a lower plate of a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 발명의 액정표시장치는 절연막을 사이에 두고 공통 전극(COM) 위에 배치된 픽셀 전극(PXL)과, 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 접촉된 배향막(PI)을 포함한다. 보호막(PAS1)은 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PXL) 사이에 형성된 절연막이다. Referring to FIG. 10 , the liquid crystal display of the present invention includes a pixel electrode PXL disposed on the common electrode COM with an insulating layer interposed therebetween, and an alignment layer PI in contact with the pixel electrode PXL and the common electrode COM. ) is included. The passivation layer PAS1 is an insulating layer formed between the common electrode COM and the pixel electrode PXL.

이 실시예에서, 공통 전극(COM)이 픽셀 전극(PXL) 아래에 위치하는 하부 전극이고, 픽셀 전극(PXL)이 상부 전극이다. In this embodiment, the common electrode COM is a lower electrode positioned below the pixel electrode PXL, and the pixel electrode PXL is an upper electrode.

보호막(PAS1)에는 공통 전극(COM)을 노출하는 오픈홀(OH)이 형성된다. 오픈홀(OH)은 픽셀 전극(PXL)을 제외한 모든 영역에서 공통 전극(COM)을 노출한다. 예컨대, 오픈홀(OH)은 픽셀의 개구 영역 내에서 픽셀 전극들(PXL) 사이에서 공통 전극(COM)을 노출하고, 또한 블랙 매트릭스에 의해 가려지는 비개구 영역에서도 공통 전극(COM)을 노출한다. 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)과 접촉되고 또한, 오픈홀(OH)을 통해 공통 전극(COM)에 접촉된다. 배향막(PI)에 축적된 이온은 배향막(PI)이 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 직접 연결되기 때문에 그 전극들(PXL, COM)을 통해 방전된다. An open hole OH exposing the common electrode COM is formed in the passivation layer PAS1 . The open hole OH exposes the common electrode COM in all areas except the pixel electrode PXL. For example, the open hole OH exposes the common electrode COM between the pixel electrodes PXL in the opening area of the pixel, and also exposes the common electrode COM in the non-opening area covered by the black matrix. . The alignment layer PI contacts the pixel electrode PXL and also contacts the common electrode COM through the open hole OH. Ions accumulated in the alignment layer PI are discharged through the electrodes PXL and COM because the alignment layer PI is directly connected to the pixel electrode PXL and the common electrode COM.

오픈홀(OH)이 픽셀 전극 이외의 다른 부분에서 공통 전극(COM)을 노출하기 때문에 전술한 실시예에 비하여 배향막(PI)과 공통 전극(COM)의 접촉 면적을 확대할 수 있다. 배향막(PI)과 공통 전극(COM) 간의 접촉 면적이 작거나 그 접촉 저항이 크면 배향막 물질에 따라 잔상 및 플리커 개선 효과가 차이가 있다. 실험 결과, 도 10과 같이 배향막(PI)과 공통 전극(COM) 간의 접촉 면적을 확대하면 배향막의 조성이나 물성 차이가 있더라도 장상 및 플리커를 현저히 개선할 수 있다. Since the open hole OH exposes the common electrode COM at a portion other than the pixel electrode, a contact area between the alignment layer PI and the common electrode COM may be increased compared to the above-described exemplary embodiment. When the contact area between the alignment layer PI and the common electrode COM is small or the contact resistance thereof is high, the effect of improving afterimage and flicker is different depending on the alignment layer material. As a result of the experiment, if the contact area between the alignment layer PI and the common electrode COM is enlarged as shown in FIG. 10 , even if there is a difference in composition or physical properties of the alignment layer, the image quality and flicker can be significantly improved.

도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 액정표시장치의 하판 구조를 보여 주는 도면이다. 11 is a view showing a structure of a lower plate of a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 본 발명의 액정표시장치는 절연막을 사이에 두고 픽셀 전극(PXL) 위에 배치된 공통 전극(COM)과, 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 접촉된 배향막(PI)을 포함한다. 보호막(PAS1)은 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PXL) 사이에 형성된 절연막이다. Referring to FIG. 11 , the liquid crystal display of the present invention includes a common electrode COM disposed on the pixel electrode PXL with an insulating layer interposed therebetween, and an alignment layer PI in contact with the pixel electrode PXL and the common electrode COM. ) is included. The passivation layer PAS1 is an insulating layer formed between the common electrode COM and the pixel electrode PXL.

이 실시예에서, 픽셀 전극(PXL)이 공통 전극(COM) 아래에 위치하는 하부 전극이고, 공통 전극(COM)이 상부 전극이다. In this embodiment, the pixel electrode PXL is a lower electrode positioned below the common electrode COM, and the common electrode COM is an upper electrode.

보호막(PAS1)에는 픽셀 전극(PXL)을 노출하는 오픈홀(OH)이 형성된다. 예컨대, 오픈홀(OH)은 픽셀의 개구 영역 내에서 공통 전극들(COM) 사이에서 픽셀 전극(PXL)을 노출한다. 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)과 접촉되고 또한, 오픈홀(OH)을 통해 공통 전극(COM)에 접촉된다. 배향막(PI)에 축적된 이온은 배향막(PI)이 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 직접 연결되기 때문에 그 전극들(PXL, COM)을 통해 방전된다.An open hole OH exposing the pixel electrode PXL is formed in the passivation layer PAS1 . For example, the open hole OH exposes the pixel electrode PXL between the common electrodes COM in the opening region of the pixel. The alignment layer PI contacts the pixel electrode PXL and also contacts the common electrode COM through the open hole OH. Ions accumulated in the alignment layer PI are discharged through the electrodes PXL and COM because the alignment layer PI is directly connected to the pixel electrode PXL and the common electrode COM.

이 실시예는 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PIX)의 위치가 서로 바뀐 구조를 제외하면 본 발명의 제3 실시예와 실질적으로 동일하다.This embodiment is substantially the same as the third embodiment of the present invention except for a structure in which the positions of the common electrode COM and the pixel electrode PIX are exchanged.

도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정표시장치에서 한 개의 서브 픽셀을 확대하여 보여 주는 평면도이다. 도 13은 도 12에서 선 "Ⅱ-Ⅱ'"를 따라 절취하여 액정표시장치의 하판 단면 구조를 보여 주는 단면도이다. 12 is an enlarged plan view of one sub-pixel in the liquid crystal display according to the third exemplary embodiment of the present invention. 13 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a lower plate of the liquid crystal display device taken along line "II-II'" in FIG. 12 .

도 12 및 도 13을 참조하면, 이 액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 접합된 상판 및 하판을 포함한다. 상판 구조는 전술한 실시예들과 실질적으로 동일하다. 하판은 TFT, 게이트 절연막(GI), 에치 스토퍼층(ES), 제1 무기 보호막(PAS0), 유기 보호막(PAC), 공통 전극(COM), 제2 무기 보호막(PAS1), 픽셀 전극(PXL), 및 하부 배향막(PI)을 포함한다. 12 and 13 , the liquid crystal display includes an upper plate and a lower plate bonded to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. The structure of the upper plate is substantially the same as that of the above-described embodiments. The lower plate is TFT, gate insulating layer (GI), etch stopper layer (ES), first inorganic passivation layer (PAS0), organic passivation layer (PAC), common electrode (COM), second inorganic passivation layer (PAS1), pixel electrode (PXL) , and a lower alignment layer PI.

게이트 라인(GL)과 TFT의 게이트(G)는 하부 기판(SUBS1) 상에 형성된다. 게이트 절연막(GI)은 SiOx, SiNx 등의 무기 절연막으로 형성되어 TFT의 게이트(G)를 덮는다. TFT의 게이트(G)는 게이트 라인(GL)과 일체화된다. 반도체 패턴(ACT)은 TFT의 게이트(G)와 중첩되도록 게이트 절연막(GI) 상에 형성된다. 반도체 패턴(ACT)은 비정질 실리콘(a-Si) LTPS, 산화물 반도체 등의 반도체 물질로 형성되어 TFT의 액티브 채널층으로 이용된다. TFT의 소스 및 드레인(S, D)은 TFT의 게이트(G)와 중첩되도록 반도체 패턴(ACT) 상에 형성된다. 드레인(D)은 데이터 라인(DL)과 일체화된다. 소스(S)는 제1 무기 보호막(PAS0), 유기 보호막(PAC), 및 제2 무기 보호막(PAS1)을 관통하는 콘택홀(CH)을 통해 픽셀 전극(PXL)과 접촉된다. 에치 스토퍼층(ES)은 SiOx와 같은 무기 절연 물질로 반도체 패턴(ACT)과 게이트 절연막(GI) 상에 형성되어 소스 및 드레인(S, D)의 식각 시에 식각액(etchant)로부터 반도체 패턴(ACT)을 보호한다. 제1 무기 보호막(PAS0)은 SiOx, SiNx 등의 무기 절연막으로 형성되어 TFT와 에치 스토퍼(ES)를 덮는다. 유기 보호막(PAC)은 포토 아크릴(Photo-acryl)과 같은 유기 절연 물질로 형성되어 제1 무기 보호막(PAS0)을 덮는다. 공통 전극(COM)과 픽셀 전극(PXL)은 ITO와 같은 투명 전극 물질로 형성될 수 있다. The gate line GL and the gate G of the TFT are formed on the lower substrate SUBS1. The gate insulating film GI is formed of an inorganic insulating film such as SiOx or SiNx to cover the gate G of the TFT. The gate G of the TFT is integrated with the gate line GL. The semiconductor pattern ACT is formed on the gate insulating layer GI to overlap the gate G of the TFT. The semiconductor pattern ACT is formed of a semiconductor material such as amorphous silicon (a-Si) LTPS or an oxide semiconductor and is used as an active channel layer of the TFT. Sources and drains S and D of the TFT are formed on the semiconductor pattern ACT to overlap the gate G of the TFT. The drain D is integrated with the data line DL. The source S is in contact with the pixel electrode PXL through a contact hole CH passing through the first inorganic passivation layer PAS0 , the organic passivation layer PAC, and the second inorganic passivation layer PAS1 . The etch stopper layer ES is made of an inorganic insulating material such as SiOx and is formed on the semiconductor pattern ACT and the gate insulating layer GI. ) to protect The first inorganic passivation layer PAS0 is formed of an inorganic insulating layer such as SiOx or SiNx to cover the TFT and the etch stopper ES. The organic passivation layer PAC is formed of an organic insulating material such as photo-acryl and covers the first inorganic passivation layer PAS0. The common electrode COM and the pixel electrode PXL may be formed of a transparent electrode material such as ITO.

공통 전극(COM)은 유기 보호막(PAC) 상에 형성된다. 제2 무기 보호막(PAS1)은 SiOx, SiNx 등의 무기 절연막으로 형성되어 공통 전극(COM)의 일부를 덮는다. 제2 무기 보호막(PAS1)에는 공통 전극(COM)을 노출하는 오픈홀(OH)이 형성된다. 오픈홀(OH)은 픽셀 전극 패턴을 마스크로 패터닝되기 때문에 픽셀 전극을 제외한 모든 영역에서 공통 전극(COM)을 노출한다. The common electrode COM is formed on the organic passivation layer PAC. The second inorganic passivation layer PAS1 is formed of an inorganic insulating layer such as SiOx or SiNx to cover a portion of the common electrode COM. An open hole OH exposing the common electrode COM is formed in the second inorganic passivation layer PAS1 . Since the open hole OH is patterned using the pixel electrode pattern as a mask, the common electrode COM is exposed in all areas except the pixel electrode.

픽셀 전극(PXL)은 공통 전극(COM)과 중첩되도록 제2 무기 보호막(PAS1) 상에 형성된다. 픽셀 전극(PXL)은 콘택홀(CH)을 통해 TFT의 소스(S)와 접촉된다. The pixel electrode PXL is formed on the second inorganic passivation layer PAS1 to overlap the common electrode COM. The pixel electrode PXL is in contact with the source S of the TFT through the contact hole CH.

하부 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)을 덮고 또한, 오픈홀(OH)을 통해 공통 전극(COM)을 덮도록 제2 무기 보호막(PAS1) 상에 형성된다. 하부 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 직접 접촉된다. 하부 배향막(PI)은 하판에서 네가티브 액정(nLC)과 접하여 광배향되어 액정 분자의 선경사각을 설정한다. The lower alignment layer PI is formed on the second inorganic passivation layer PAS1 to cover the pixel electrode PXL and also to cover the common electrode COM through the open hole OH. The lower alignment layer PI directly contacts the pixel electrode PXL and the common electrode COM. The lower alignment layer PI is photo-aligned in contact with the negative liquid crystal nLC on the lower plate to set a pretilt angle of the liquid crystal molecules.

도 12 및 도 13 에서 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)의 위치가 서로 반대로 변경되고 픽셀 전극(PXL)이 TFT에 연결되면, 그 구조는 도 11과 같은 본 발명의 제4 실시예에 따른 액정표시장치와 같다.12 and 13, when the positions of the pixel electrode PXL and the common electrode COM are changed to be opposite to each other and the pixel electrode PXL is connected to the TFT, the structure is the same as in the fourth embodiment of the present invention as shown in FIG. It is the same as the liquid crystal display according to the

도 14는 도 13에 도시된 액정표시장치에서 오픈홀을 형성하는 방법을 보여 주는 단면도이다. 14 is a cross-sectional view illustrating a method of forming an open hole in the liquid crystal display of FIG. 13 .

도 14를 참조하면, 공통 전극(COM) 위에 보호막(PAS1)과 픽셀 전극 물질층이 적층되어 있다. Referring to FIG. 14 , a passivation layer PAS1 and a pixel electrode material layer are stacked on the common electrode COM.

픽셀 전극(PXL)과 보호막(PAS1)은 하나의 포토리소그래피(Photo Lithography) 공정으로 패터닝될 수 있다. 픽셀 전극 물질층 상에 포토레지스트(photoresist)를 도포하고, 그 위에 포토마스크(photomask)를 정렬하여 노광 및 현상 공정을 실시하여 포토레지스트를 패터닝함으로써 픽셀 전극 물질층 상에 포토레지스트 패턴(PR)을 형성한다. The pixel electrode PXL and the passivation layer PAS1 may be patterned through a single photolithography process. A photoresist is applied on the pixel electrode material layer, a photomask is arranged thereon, and exposure and development processes are performed to pattern the photoresist, thereby forming a photoresist pattern (PR) on the pixel electrode material layer. to form

본 발명은 습식 식각(wet etch)을 실시하여 포토레지스트 패턴(PR) 아래의 픽셀 전극 물질층만 남기고 다른 픽셀 전극 물질층을 식각하여 제거하여 픽셀 전극(PXL)을 보호막(PAS1) 상에 형성한다. 이어서, 본 발명은 포토레지스트 패턴(PR)이 잔류한 상태에서 건식 식각(dry etch)을 실시하여 포토 레지스터 패턴(PR)에 의해 가려진 보호막 이외의 다른 보호막을 식각함으로써 공통 전극(COM)을 노출하는 오픈홀(OH)을 형성한다. 도시하지 않은 배향막(PI)은 하판 상에 전면 도포된다. 배향막(PI)은 픽셀 전극(PXL)에 접촉되고 또한, 오픈홀(OH)을 통해 공통 전극(COM)에 접촉된다. In the present invention, the pixel electrode PXL is formed on the passivation layer PAS1 by performing wet etching to remove only the pixel electrode material layer under the photoresist pattern PR and etching away the other pixel electrode material layers. . Next, in the present invention, the common electrode COM is exposed by performing dry etching while the photoresist pattern PR remains and etching a protective layer other than the protective layer covered by the photoresist pattern PR. An open hole (OH) is formed. An alignment layer PI (not shown) is applied over the entire lower plate. The alignment layer PI contacts the pixel electrode PXL and also contacts the common electrode COM through the open hole OH.

도 14에서 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)의 위치가 서로 바뀌면, 도 11과 같은 구조와 같다. When the positions of the pixel electrode PXL and the common electrode COM are changed in FIG. 14 , the structure is the same as in FIG. 11 .

본 발명의 액정표시장치는 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)이 수직으로 중첩되어 그 사이에 스토리지 커패시터(Cst)를 형성한다. 그 결과, 본 발명은 배향막(PI)을 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)에 접촉시켜 잔상 및 플리커를 개선할 수 있을 뿐 아니라, 픽셀에 넓은 스토리지 커패시터(Cst)를 별도로 형성하지 않기 때문에 픽셀의 개구율을 높일 수 있다. 이러한 개구율 효과에 대하여 도 15 및 도 16에서 명확하게 알 수 있을 것이다. In the liquid crystal display of the present invention, the pixel electrode PXL and the common electrode COM are vertically overlapped to form a storage capacitor Cst therebetween. As a result, according to the present invention, the alignment layer PI is brought into contact with the pixel electrode PXL and the common electrode COM to improve afterimage and flicker, and since a wide storage capacitor Cst is not separately formed in the pixel. It is possible to increase the aperture ratio of the pixel. The effect of the aperture ratio can be clearly seen in FIGS. 15 and 16 .

도 15 및 도 16은 본 발명의 픽셀 구조와 비교예의 픽셀 구조를 비교한 도면들이다. 비교예는 절연막(PAS1)을 관통하는 오픈홀을 통해 공통 전극(COM)이 노출되고, 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)이 중첩되지 않은 화소 구조의 일 예이다. 비교예는 본 발명의 화소 구조와 유사하지만 스토리지 커패시터가 다른 예의 픽셀 구조이다. 비교예는 널리 알려진 종래 기술이 아니라는 것에 주의하여야 한다. 15 and 16 are diagrams comparing the pixel structure of the present invention and the pixel structure of the comparative example. The comparative example is an example of a pixel structure in which the common electrode COM is exposed through an open hole passing through the insulating layer PAS1 and the pixel electrode PXL and the common electrode COM do not overlap each other. The comparative example is a pixel structure of an example similar to the pixel structure of the present invention, but in which the storage capacitor is different. It should be noted that the comparative example is not a well-known prior art.

도 15는 본 발명의 화소 구조의 개구 영역(Apxl)을 비교예와 비교한 평면도이다. 도 16은 도 15에서 선 "Ⅲ-Ⅲ'"과 선 "Ⅳ-Ⅳ'"을 따라 절취하여 액정표시장치의 하판 단면 구조를 보여 주는 단면도들이다.15 is a plan view comparing the aperture area Apxl of the pixel structure of the present invention with that of a comparative example. FIG. 16 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of a lower plate of the liquid crystal display device taken along the lines “III-III′” and “IV-IV′” in FIG. 15 .

도 15의 (A) 및 도 16의 (A)는 도 11 및 도 12와 같은 본 발명의 픽셀 구조이다. 도 15의 (B) 및 도 16의 (B)는 비교예의 픽셀 구조이다.15A and 16A are the pixel structures of the present invention as shown in FIGS. 11 and 12 . 15(B) and 16(B) are pixel structures of a comparative example.

본 발명의 픽셀들은 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)이 중첩되기 때문에 그 사이에 스토리지 커패시터(Cst)가 형성된다. 이에 비하여, 비교예는 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM)이 중첩되지 않기 때문에 픽셀들 각각에서 넓은 면적의 스토리지 커패시터(Cst)를 마련하여야 한다. 따라서, 본 발명은 비교예에 비하여, 픽셀의 개구 영역(Apxl)을 더 넓힐 수 있으므로 픽셀의 개구율과 투과율을 높일 수 있다. Since the pixels of the present invention overlap the pixel electrode PXL and the common electrode COM, a storage capacitor Cst is formed therebetween. In contrast, in the comparative example, since the pixel electrode PXL and the common electrode COM do not overlap, a storage capacitor Cst having a large area should be provided in each of the pixels. Accordingly, in the present invention, since the aperture area Apxl of the pixel can be wider than that of the comparative example, the aperture ratio and transmittance of the pixel can be increased.

본 발명은 픽셀 전극(PXL)과 공통 전극(COM) 간의 프린지 필드(fringe field) 용량(Cf)이 비교예에 비하여 크기 때문에 액정을 구동하는 프린지 필드가 비교예에 비하여 더 강하게 인가될 수 있다.In the present invention, since the fringe field capacitance Cf between the pixel electrode PXL and the common electrode COM is larger than that of the comparative example, the fringe field for driving the liquid crystal may be applied more strongly than that of the comparative example.

전술한 바와 같이, 본 발명은 절연막을 사이에 두고 하부 전극과 상부 전극이 중첩된 구조를 갖는 액정표시장치에서 절연막을 관통하는 홀을 통해 배향막을 하부 전극에 접촉한다. 그 결과, 본 발명은 배향막이 하부 전극과 상부 전극에 직접 접적되어 배향막 상에 축적된 이온의 방전 경로를 형성함으로써 정상 구동 및 저속 구동 모드에서 이온의 축적을 방지하여 잔상 및 플리커로 인한 화질 저하를 방지할 수 있다. 나아가, 본 발명은 네가타브 액정, 광배향막, 및 산화물 TFT를 이용하여 저속 구동 모드에서 화질을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, in a liquid crystal display having a structure in which a lower electrode and an upper electrode are overlapped with an insulating film interposed therebetween, the alignment film is in contact with the lower electrode through a hole penetrating the insulating film. As a result, in the present invention, the alignment layer is directly in contact with the lower electrode and the upper electrode to form a discharge path of ions accumulated on the alignment layer, thereby preventing the accumulation of ions in normal driving and low speed driving modes, thereby reducing image quality deterioration due to afterimage and flicker. can be prevented Furthermore, the present invention can improve image quality in a low-speed driving mode by using a negative liquid crystal, a photo-alignment layer, and an oxide TFT.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art from the above description will be able to see that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Accordingly, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

SUBS1, SUBS2 : 기판 GI : 게이트 절연막
GL : 게이트 라인 ACT : 반도체 패턴
G : TFT의 게이트 전극 S, G : TFT의 소스 및 드레인 전극
PAS1, PAS2 : 무기 보호막 PAC : 유기 보호막
COM : 공통 전극 PXL : 픽셀 전극
CNT : 도전성 연결부 PI : 배향막
SUBS1, SUBS2: Substrate GI: Gate Insulation Film
GL: gate line ACT: semiconductor pattern
G: gate electrode of TFT S, G: source and drain electrode of TFT
PAS1, PAS2: inorganic protective film PAC: organic protective film
COM: common electrode PXL: pixel electrode
CNT: conductive connection part PI: alignment layer

Claims (12)

액정층을 사이에 두고 대향하는 상판 및 하판과, 상기 상판과 하판 사이에 배치된 스페이서를 포함한 액정표시장치에 있어서,
상기 하판은,
절연막을 사이에 두고 중첩되는 하부 전극 및 상부 전극;
상기 하부 전극 및 상기 상부 전극 중 어느 하나와 연결된 TFT; 및
상기 하부 전극과 상기 상부 전극에 접촉되는 배향막을 포함하고,
상기 배향막은, 상기 절연막을 관통하고 상기 하부 전극과 접촉하는 홀에 배치된 도전성 연결부를 통해 상기 하부 전극에 접촉되고,
상기 도전성 연결부는 상기 TFT와 중첩되는 액정표시장치.
In the liquid crystal display device comprising an upper plate and a lower plate facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a spacer disposed between the upper plate and the lower plate,
The lower plate is
a lower electrode and an upper electrode overlapping with an insulating film therebetween;
a TFT connected to any one of the lower electrode and the upper electrode; and
an alignment layer in contact with the lower electrode and the upper electrode;
The alignment layer is in contact with the lower electrode through a conductive connection portion disposed in a hole passing through the insulating layer and in contact with the lower electrode,
The conductive connection portion overlaps the TFT.
제 1 항에 있어서,
상기 하부 전극은 공통 전압이 공급되는 공통 전극이고,
상기 상부 전극이 데이터 전압이 공급되는 픽셀 전극인 액정표시장치.
The method of claim 1,
The lower electrode is a common electrode to which a common voltage is supplied,
The upper electrode is a pixel electrode to which a data voltage is supplied.
제 1 항에 있어서,
상기 상부 전극은 공통 전압이 공급되는 공통 전극이고,
상기 하부 전극이 데이터 전압이 공급되는 픽셀 전극인 액정표시장치.
The method of claim 1,
The upper electrode is a common electrode to which a common voltage is supplied,
The lower electrode is a pixel electrode to which a data voltage is supplied.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 홀은 상기 상부 전극 이외의 다른 영역에서 상기 하부 전극을 노출하는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The hole exposes the lower electrode in a region other than the upper electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 하판은,
서로 교차하는 데이터 라인 및 게이트 라인을 더 포함하고,
상기 도전성 연결부는 상기 데이터 라인 위에 배치되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The lower plate is
Further comprising a data line and a gate line crossing each other,
The conductive connection part is disposed on the data line.
제 1 항에 있어서,
상기 도전성 연결부는 상기 스페이서와 중첩되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The conductive connection portion overlaps the spacer.
제 1 항에 있어서,
상기 하판은,
서로 교차하는 데이터 라인 및 게이트 라인을 더 포함하고,
상기 도전성 연결부는 상기 데이터 라인과 중첩되고, 상기 스페이서와 중첩되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The lower plate is
Further comprising a data line and a gate line crossing each other,
The conductive connection portion overlaps the data line and overlaps the spacer.
제 1 항에 있어서,
상기 액정층은 네가티브 액정을 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The liquid crystal layer includes a negative liquid crystal display.
제 1 항에 있어서,
상기 하판은,
서로 교차하는 데이터 라인 및 게이트 라인; 및
상기 데이터 라인과 상기 게이트 라인 사이에 배치된 산화물 TFT를 포함하는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The lower plate is
data lines and gate lines crossing each other; and
and an oxide TFT disposed between the data line and the gate line.
제 1 항에 있어서,
상기 배향막이 광배향막인 액정표시장치.
The method of claim 1,
The liquid crystal display device wherein the alignment layer is a photo-alignment layer.
제 1 항에 있어서,
상기 상판은 블랙 매트릭스를 포함하고,
상기 도전성 연결부는 상기 블랙 매트릭스와 중첩되는 액정표시장치.
The method of claim 1,
The upper plate includes a black matrix,
The conductive connection portion overlaps the black matrix.
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