KR102142670B1 - Three-dimensional film with color-change function and method for manufacturing the film - Google Patents

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KR102142670B1
KR102142670B1 KR1020190097799A KR20190097799A KR102142670B1 KR 102142670 B1 KR102142670 B1 KR 102142670B1 KR 1020190097799 A KR1020190097799 A KR 1020190097799A KR 20190097799 A KR20190097799 A KR 20190097799A KR 102142670 B1 KR102142670 B1 KR 102142670B1
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KR1020190097799A
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Inventor
이승현
김광영
최준혁
권신
이응숙
최인식
감병서
김형우
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한국기계연구원
(주)쓰리에스엠케이
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images

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Abstract

According to one embodiment of the present invention, disclosed is a three-dimensional film, which comprises: a transparent or translucent base substrate; a micro lens array formed on a first surface of the base substrate and having a plurality of micro-lenses arranged in a two-dimensional plane; a micro-pattern layer formed on a second surface facing the first surface of the base substrate and having a plurality of micro-patterns arranged in a two-dimensional plane; and a nano-pattern layer formed on a surface of the micro-pattern layer and having a plurality of nano-patterns arranged in a two-dimensional plane.

Description

색변환이 가능한 입체 필름 및 이의 제조 방법 {Three-dimensional film with color-change function and method for manufacturing the film} Three-dimensional film capable of color conversion and its manufacturing method {Three-dimensional film with color-change function and method for manufacturing the film}

본 발명은 입체 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 필름을 보는 각도에 따라 이미지 형상과 색이 변환하는 색변환 기능을 갖는 입체 필름 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a three-dimensional film, and more particularly, to a three-dimensional film having a color conversion function that converts the image shape and color according to the viewing angle of the film and a method for manufacturing the same.

입체 필름은 렌티큘러(Lenticular) 렌즈 또는 반구형 렌즈의 어레이와 렌즈의 초점거리만큼 이격되어 배열된 마이크로 패턴으로 구성되고, 입체 필름을 보는 사용자의 양안 시차에 의한 착시 효과 원리에 의해 평면적인 2차원 이미지를 3차원적인 이미지로 보여주는 필름이다. The stereoscopic film is composed of a lenticular lens or an array of hemispherical lenses and a micro pattern arranged to be spaced apart by the focal length of the lens. It is a film that shows as a three-dimensional image.

이러한 입체 필름은 육안식별이 가능하고 일정 수준 이상의 보안성을 유지할 수 있으므로 지폐, 상품권, 신분증, 여권 등과 같이 다양한 제품에 활용되고 있다. 하지만 인쇄기술의 발전에 따른 모조 기술의 발전과 홀로그램을 제조하는 기술이 일반화 및 대중화됨에 따라 입체 필름을 정교하게 위조하는 사례도 증가하고 있으며, 보안성을 향상시킨 입체 필름에 대한 필요성에 제기되고 있다. These three-dimensional films are used in various products such as banknotes, gift certificates, ID cards, passports, etc. because they can be visually identified and maintain a certain level of security. However, as the development of imitation technology and the technology for manufacturing holograms have been generalized and popularized according to the development of printing technology, cases of elaborate forgery of three-dimensional films have also increased, and the need for a three-dimensional film with improved security has been raised. .

특허문헌1: 한국 공개특허 제2013-0085310호 (2013년 7월 29일 공개)Patent Literature 1: Korean Patent Publication No. 2013-0085310 (published on July 29, 2013) 특허문헌2: 한국 공개특허 제2018-0022269호 (2018년 3월 6일 공개)Patent Document 2: Korean Published Patent No. 2018-0022269 (published on March 6, 2018)

본 발명의 일 실시예에 따르면, 종래의 마이크로렌즈 어레이와 마이크로 패턴층에 더하여 나노 패턴층이 추가된 입체 필름을 구성하여 이미지를 입체적으로 보이게 할 뿐만 아니라 색변환까지 일어나도록 하여 보안성이 향상된 입체 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. According to an embodiment of the present invention, in addition to the conventional micro lens array and the micro pattern layer, the nano pattern layer is added to form a three-dimensional film to not only make the image look three-dimensional, but also to perform color conversion to improve security. It aims at providing a film.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 입체 필름으로서, 투명 또는 반투명의 베이스 기재; 상기 베이스 기재의 제1 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 렌즈가 2차원 평면으로 배열된 마이크로렌즈 어레이; 상기 베이스 기재의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 패턴이 2차원 평면으로 배열된 마이크로 패턴층; 및 상기 마이크로 패턴층의 표면에 형성되며 복수개의 나노 패턴이 2차원 평면으로 배열된 나노 패턴층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름을 개시한다. According to an embodiment of the present invention, as a three-dimensional film, a transparent or translucent base substrate; A micro lens array formed on a first surface of the base substrate and having a plurality of micro lenses arranged in a two-dimensional plane; A micro pattern layer formed on a second surface facing the first surface of the base substrate and having a plurality of micro patterns arranged in a two-dimensional plane; And a nano pattern layer formed on the surface of the micro pattern layer and having a plurality of nano patterns arranged in a two-dimensional plane.

본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 입체 필름으로서, 투명 또는 반투명의 베이스 기재; 상기 베이스 기재의 제1 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 렌즈가 2차원 평면으로 배열된 마이크로렌즈 어레이; 상기 베이스 기재의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 형성되며 복수개의 나노 패턴이 2차원 평면으로 배열된 나노 패턴층; 및 상기 나노 패턴층의 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 패턴이 2차원 평면으로 배열된 마이크로 패턴층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름을 개시한다. According to another embodiment of the present invention, as a three-dimensional film, a transparent or translucent base substrate; A micro lens array formed on a first surface of the base substrate and having a plurality of micro lenses arranged in a two-dimensional plane; A nano pattern layer formed on a second surface facing the first surface of the base substrate and having a plurality of nano patterns arranged in a two-dimensional plane; And a micro pattern layer formed on a surface of the nano pattern layer and having a plurality of micro patterns arranged in a two-dimensional plane.

본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 입체 필름을 제조하는 방법으로서, 투명 또는 반투명의 베이스 기재의 제1 표면에 2차원 평면으로 배열된 복수개의 마이크로 렌즈를 형성하는 마이크로 렌즈 어레이 형성 단계; 상기 베이스 기재의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 2차원 평면으로 배열된 복수개의 마이크로 패턴을 형성하는 마이크로 패턴층 형성 단계; 및 상기 마이크로 패턴층의 표면에 2차원 평면으로 배열된 복수개의 나노 패턴을 형성하는 나노 패턴층 형성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름 제조 방법을 개시한다. According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a stereoscopic film, comprising: a micro lens array forming step of forming a plurality of micro lenses arranged in a two-dimensional plane on a first surface of a transparent or translucent base substrate; Forming a micro pattern layer on a second surface facing the first surface of the base substrate to form a plurality of micro patterns arranged in a two-dimensional plane; And nano-pattern layer forming step of forming a plurality of nano-patterns arranged in a two-dimensional plane on the surface of the micro-pattern layer; discloses a three-dimensional film production method comprising a.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 입체 필름이 마이크로 패턴과 나노 패턴의 적층으로 구성됨으로써 마이크로 패턴에 의해 입체 이미지를 형성할 뿐만 아니라 나노 패턴에 의해 색변환도 발생하므로 한층 강화된 보안성을 제공할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the three-dimensional film is composed of a stack of micro-patterns and nano-patterns, thereby not only forming a stereoscopic image by a micro-pattern, but also generating color conversion by a nano-pattern, thereby providing enhanced security. Can.

도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 입체 필름을 설명하는 도면,
도2 및 도3은 제1 실시예에 따른 입체 필름을 제조하는 방법을 설명하는 도면,
도4는 제2 실시예에 따른 입체 필름을 설명하는 도면,
도5는 도4의 나노 패턴을 형성하는 예시적 방법을 설명하는 도면,
도6은 제3 실시예에 따른 입체 필름을 설명하는 도면,
도7은 제4 실시예에 따른 입체 필름을 설명하는 도면,
도8은 일 실시예에 따라 메탈이 형성된 나노 패턴의 전자현미경 사진이다. 1 is a view for explaining a three-dimensional film according to a first embodiment of the present invention,
2 and 3 are views for explaining a method of manufacturing a three-dimensional film according to the first embodiment,
4 is a view for explaining the three-dimensional film according to the second embodiment,
5 is a view for explaining an exemplary method of forming the nano-pattern of Figure 4,
6 is a view for explaining the three-dimensional film according to the third embodiment,
7 is a view for explaining the three-dimensional film according to the fourth embodiment,
8 is an electron microscope photograph of a nano pattern formed with metal according to an embodiment.

이상의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.The above objects, other objects, features and advantages of the present invention will be readily understood through the following preferred embodiments related to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed contents are thorough and complete and that the spirit of the present invention is sufficiently conveyed to those skilled in the art.

본 명세서의 도면에 있어서, 구성요소들의 길이, 두께, 넓이 등의 수치는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장하여 표시될 수 있다. In the drawings of the present specification, numerical values such as length, thickness, and width of components may be exaggerated for effective description of technical content.

본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprise)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.In the present specification, the singular form also includes the plural form unless otherwise specified in the phrase. As used herein,'comprise' and/or'comprising' does not exclude the presence or addition of one or more other components.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 아래의 특정 실시예를 기술하는데 있어서, 여러 가지의 특정적인 내용들은 발명을 더 구체적으로 설명하고 이해를 돕기 위해 작성되었다. 하지만 본 발명을 이해할 수 있을 정도로 이 분야의 지식을 갖고 있는 독자는 이러한 여러 가지의 특정적인 내용들이 없어도 사용될 수 있다는 것을 인지할 수 있다. 어떤 경우에는 발명을 기술하는 데 있어서 흔히 알려졌으면서 발명과 크게 관련 없는 부분들은 본 발명을 설명하는 데 있어 혼돈을 막기 위해 기술하지 않음을 미리 언급해 둔다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In describing the specific embodiments below, various specific contents have been prepared to more specifically describe and understand the invention. However, a reader who has knowledge in this field to understand the present invention can recognize that it can be used without these various specific contents. It should be noted that, in some cases, parts that are commonly known in describing the invention and which are not significantly related to the invention are not described in order to prevent confusion in describing the invention.

도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 입체 필름을 나타낸다. 도면을 참조하면, 일 실시예에 따른 입체 필름은 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 나노 패턴층(40)이로 구성될 수 있다. 1 shows a three-dimensional film according to a first embodiment of the present invention. Referring to the drawings, the three-dimensional film according to an embodiment may be composed of a base substrate 10, a micro lens array 20, a micro pattern layer 30, and a nano pattern layer 40.

베이스 기재(10)는 마이크로렌즈 어레이(20)와 마이크로 패턴층(30) 사이에 위치하며 이 두 층(20,30) 사이의 거리를 유지하여 마이크로 렌즈의 초점거리를 유지하는 역할을 한다. 일 실시예에서 베이스 기재(10)는 PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트), PC(폴리카보네이트), PVC(폴리염화비닐), 및 TPU(열가소성 폴리우레탄) 등과 같은 투명 또는 반투명 수지 중 적어도 하나로 만들어질 수 있다. The base substrate 10 is positioned between the microlens array 20 and the micro pattern layer 30 and maintains a distance between the two layers 20 and 30 to maintain a focal length of the micro lens. In one embodiment, the base substrate 10 may be made of at least one of transparent or translucent resins such as PET (polyethylene terephthalate), PC (polycarbonate), PVC (polyvinyl chloride), and TPU (thermoplastic polyurethane). .

마이크로렌즈 어레이(10)를 구성하는 마이크로 렌즈의 곡률, 두께 등에 따라 마이크로 렌즈의 초점거리가 달라질 수 있으며, 베이스 기재(10)는 마이크로 렌즈의 형상에 따라 수 마이크로미터에서 수백 마이크로미터 사이의 두께로 형성될 수 있다. The focal length of the micro-lens may vary depending on the curvature, thickness, etc. of the micro-lens constituting the micro-lens array 10, and the base substrate 10 may have a thickness of several micrometers to hundreds of micrometers depending on the shape of the micro-lens. Can be formed.

마이크로렌즈 어레이(20)는 베이스 기재(10)의 제1 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 렌즈가 2차원 평면으로 배열된 형태를 갖는다. The micro lens array 20 is formed on the first surface of the base substrate 10 and has a shape in which a plurality of micro lenses are arranged in a two-dimensional plane.

마이크로렌즈 어레이(20)를 구성하는 마이크로 렌즈는 복수개의 반원통형의 볼록렌즈가 평행하게 배열된 렌티큘러 렌즈로 구성될 수도 있고 복수개의 반구형의 볼록렌즈가 2차원으로 연속 배열되어 구성될 수도 있다. 각각의 마이크로 렌즈의 직경, 두께, 및 곡률은 구체적 실시 형태에 따라 달라질 수 있으며, 베이스 기재(10)의 두께를 함께 고려하여 설정될 수 있다. The micro lens constituting the micro lens array 20 may be formed of a lenticular lens in which a plurality of semi-cylindrical convex lenses are arranged in parallel, or a plurality of hemispherical convex lenses may be continuously arranged in two dimensions. The diameter, thickness, and curvature of each micro lens may vary according to specific embodiments, and may be set in consideration of the thickness of the base substrate 10 together.

일 실시예에서 베이스 기재(10)를 형성한 후 그 위에 마이크로렌즈 어레이(20)를 형성할 수 있고, 대안적 실시예에서, 베이스 기재(10)와 마이크로렌즈 어레이(20)를 하나의 재질로 함께 형성할 수 있다. In one embodiment, after forming the base substrate 10, a microlens array 20 may be formed thereon, and in an alternative embodiment, the base substrate 10 and the microlens array 20 may be formed of one material. Can be formed together.

마이크로 패턴층(30)은 마이크로렌즈 어레이(20)에 대향하여, 즉 베이스 기재(10)의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 형성된다. 마이크로 패턴층은 자외선 수지(UV Resin), 에폭시 수지(Epoxy Resin), 및 아크릴 수지(Acryl Resin) 중 적어도 하나의 재질로 구성될 수 있다.The micro pattern layer 30 is formed opposite the micro lens array 20, that is, on a second surface facing the first surface of the base substrate 10. The micro pattern layer may be made of at least one material of UV resin (UV Resin), epoxy resin (Epoxy Resin), and acrylic resin (Acryl Resin).

마이크로 패턴층(30)은 2차원 평면으로 배열된 복수개의 마이크로 패턴을 포함하며, 제작자가 구현하고자 하는 문자, 그림, 로고 등에 따라 다양한 패턴으로 형성된다. 각각의 마이크로 패턴은 마이크로 패턴층(30)의 표면에 양각 또는 음각으로 형성될 수 있다. 도시한 실시예와 같이 마이크로 패턴이 음각으로 형성된 경우, 음각의 패턴 내에 소정 색깔의 잉크(33)가 충진될 수 있다. 마이크로 패턴의 각각에 다양한 색의 잉크(33)를 충진함으로써 입체 이미지를 보다 입체적이고 선명하게 보이도록 할 수 있다. The micro-pattern layer 30 includes a plurality of micro-patterns arranged in a two-dimensional plane, and is formed in various patterns according to characters, pictures, logos, etc. that the manufacturer intends to implement. Each micro-pattern may be embossed or engraved on the surface of the micro-pattern layer 30. When the micro-pattern is formed as an engraved as in the illustrated embodiment, ink 33 of a predetermined color may be filled in the engraved pattern. By filling the ink 33 of various colors in each of the micro patterns, it is possible to make the three-dimensional image look more three-dimensional and clear.

일 실시예에서 마이크로 패턴층(30)과 나노 패턴층(40) 사이에 하나 이상의 기능층(35)을 더 포함할 수 있다. 이 기능층(35)은 발명의 구체적 실시 형태에 따라 다양한 목적으로 부가되는 층이다. 예를 들어 기능층(35)은 마이크로 패턴층(30)의 표면을 평탄화하거나(평탄화층), 마이크로 패턴을 보호하거나(보호층), 마이크로 패턴과 나노 패턴 사이의 거리를 소정 거리만큼 이격시키거나(간격유지층), 나노 패턴층(40)이 마이크로 패턴층(30)에서 박리되는 것을 방지하거나(박리 방지층), 또는 마이크로 패턴이나 나노 패턴의 분석 및 모방을 방지하는(모방 방지층) 기능들 중 하나 이상의 기능을 갖는 하나 이상의 층(필름)으로 구성될 수 있다. In one embodiment, one or more functional layers 35 may be further included between the micro pattern layer 30 and the nano pattern layer 40. This functional layer 35 is a layer added for various purposes according to a specific embodiment of the invention. For example, the functional layer 35 may planarize the surface of the micro pattern layer 30 (planarization layer), protect the micro pattern (protective layer), or space the distance between the micro pattern and the nano pattern by a predetermined distance, or (Spacing layer), among the features to prevent the nano-pattern layer 40 from peeling off the micro-pattern layer 30 (prevention layer), or to prevent analysis and imitation of the micro-pattern or nano-pattern (anti-imitation layer) It may be composed of one or more layers (films) having one or more functions.

나노 패턴층(40)은 마이크로 패턴층(30) 또는 그 위의 하나 이상의 기능층(35) 위에 형성되며, 2차원 평면으로 배열된 복수개의 나노 패턴을 포함한다. 이와 같이 규칙적으로 배열된 나노 구조물에 빛이 조사되면 해당 나노 구조물의 특정 배열에 의해 빛이 회절, 간섭, 산란되어 특정 파장의 빛만 반사함으로써 이 파장의 색이 표현되고, 보는 각도에 따라 색이 변하게 된다. 이 때 보여지는 색은 나노 구조물의 크기나 형상, 나노 구조물 사이의 간격 등 나노 패턴의 형상에 따라 달라질 수 있다. 일 실시예에서 나노 패턴층(40)의 표면에 복수개의 나노 패턴이 양각 또는 음각으로 형성될 수 있고, 각 나노 패턴의 직경은 수십 내지 수백 나노미터일 수 있다.The nano pattern layer 40 is formed on the micro pattern layer 30 or one or more functional layers 35 thereon, and includes a plurality of nano patterns arranged in a two-dimensional plane. When light is irradiated to the nanostructures regularly arranged in this way, the light is diffracted, interfered, and scattered by a specific arrangement of the nanostructures to reflect only the light of a specific wavelength, thereby expressing the color of this wavelength and changing the color according to the viewing angle. do. The color shown at this time may vary depending on the size or shape of the nanostructure, the spacing between the nanostructures, and the shape of the nano pattern. In one embodiment, a plurality of nano-patterns may be embossed or engraved on the surface of the nano-pattern layer 40, and the diameter of each nano-pattern may be tens to hundreds of nanometers.

또한 도시한 실시예와 같이 나노 패턴이 음각으로 형성된 경우, 각각의 음각 패턴 내에 메탈(44)이 형성될 수 있다. 메탈(44)은 음각 패턴 내부를 모두 채울 필요는 없으며 음각 패턴 내부에 적어도 부분적으로 형성되면 된다. 나노 패턴 내에 메탈(44)을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며 예컨대 증착, 도금, 충진 등 공지의 방법으로 형성할 수 있다. 나노 패턴 내에 형성되는 메탈(44)은 예컨대 금이나 은 등 임의의 메탈일 수 있다. 음각의 각 나노 패턴에 메탈(44)이 형성되면 금속 나노입자의 2차원 배열이 형성되고, 이에 따라 플라즈몬 공명(plasmon resonance)에 의해 특정 대역에서 광흡수가 일어나면서 특정 색이 선명해진다. 따라서 나노 패턴의 형성 및 각 나노 패턴에 형성된 메탈에 의해 한층 선명한 색변환 현상을 구현할 수 있다. 도2 및 도3은 도1의 제1 실시예에 따른 입체 필름을 제조하는 예시적 방법을 나타낸다. In addition, when the nano pattern is formed as an engraved as in the illustrated embodiment, the metal 44 may be formed in each engraved pattern. The metal 44 need not fill all of the intaglio pattern, but may be formed at least partially inside the intaglio pattern. The method of forming the metal 44 in the nano pattern is not particularly limited, and can be formed by a known method such as vapor deposition, plating, and filling. The metal 44 formed in the nano pattern may be any metal such as gold or silver. When the metal 44 is formed on each of the intaglio nano-patterns, a two-dimensional array of metal nanoparticles is formed, and accordingly plasmon resonance causes light absorption in a specific band to make a specific color clear. Therefore, it is possible to realize a more vivid color conversion phenomenon by the formation of the nano pattern and the metal formed on each nano pattern. 2 and 3 show an exemplary method of manufacturing a stereoscopic film according to the first embodiment of FIG. 1.

도면을 참조하면, 우선 도2(a)와 같이 베이스 기재(10)의 일측 표면 위에 마이크로렌즈 어레이(20)를 형성한다. 마이크로렌즈 어레이는 2차원 평면으로 배열된 복수개의 마이크로 렌즈의 집합이며, 마이크로 렌즈는 예를 들어 반원통형의 렌티큘러 렌즈 또는 반구형의 렌즈를 2차원 평면으로 배열하여 형성할 수 있다. Referring to the drawings, first, a microlens array 20 is formed on one surface of the base substrate 10 as shown in FIG. 2(a). The microlens array is a collection of a plurality of microlenses arranged in a two-dimensional plane, and the microlens can be formed by arranging a semi-cylindrical lenticular lens or a hemispherical lens in a two-dimensional plane, for example.

베이스 기재(10)와 마이크로 렌즈 어레이(20)의 각각은 PET, PV, PVC 등의 수지 중 하나로 구성될 수 있다. 베이스 기재(10)의 두께는 수십 내지 수백 마이크로미터이며, 마이크로렌즈 어레이(20)를 구성하는 마이크로 렌즈의 크기, 곡률 등에 따른 초점거리에 기초하여 베이스 기재(10)의 두께가 결정될 수 있다. Each of the base substrate 10 and the micro lens array 20 may be made of one of resins such as PET, PV, and PVC. The thickness of the base substrate 10 is tens to hundreds of micrometers, and the thickness of the base substrate 10 may be determined based on a focal length according to the size and curvature of the micro lenses constituting the micro lens array 20.

그 후 도2(b)에 도시한 것처럼 베이스 기재(10)의 타측 표면에 마이크로 패턴층(30)을 형성한다. 일 실시예에서 마이크로 임프린팅 방식을 사용하여 마이크로 패턴층(30)을 형성할 수 있다. 예를 들어, 베이스 기재(10)의 표면에 자외선(UV) 경화성 수지를 도포하고, 마이크로 패턴이 형성된 템플릿을 가압하여 부착하거나 또는 마이크로 패턴이 형성된 필름을 롤투롤 공정에 의해 가압하며 부착하여 UV 경화성 수지에 마이크로 패턴을 형성시킨다. 그 후 자외선을 조사하여 UV 경화성 수지를 경화시킨 후 템플릿이나 필름을 제거하여 도2(b)와 같은 마이크로 패턴층(30)을 형성할 수 있다. Thereafter, as shown in FIG. 2(b), a micro pattern layer 30 is formed on the other surface of the base substrate 10. In one embodiment, the micro pattern layer 30 may be formed using a micro-imprinting method. For example, UV-curable by applying ultraviolet (UV) curable resin to the surface of the base substrate 10 and attaching it by pressing a template on which a micro pattern is formed or attaching while attaching a micro patterned film by a roll-to-roll process A micro pattern is formed on the resin. Thereafter, the UV-curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays, and then the template or film is removed to form the micro pattern layer 30 as shown in FIG. 2(b).

다음으로, 도2(c)에 도시한 것처럼 마이크로 패턴층(30)의 각각의 마이크로 패턴 내에 적어도 부분적으로 잉크(33)를 충진할 수 있다. 일 실시예에서, 충진할 잉크를 마이크로 패턴층(30)의 표면에 도포하고 롤러 등으로 가압하여 패턴 내부에 잉크를 충진하고, 그 후 닥터 블레이드로 표면을 밀어서 마이크로 패턴층(30) 표면의 잉크를 제거함으로써 도2(c)와 같이 잉크를 충진할 수 있다. Next, as shown in Fig. 2(c), the ink 33 can be at least partially filled in each micro pattern of the micro pattern layer 30. In one embodiment, the ink to be filled is applied to the surface of the micro pattern layer 30 and pressed with a roller or the like to fill the inside of the pattern, and then the surface of the micro pattern layer 30 is pushed with a doctor blade to push the surface. By removing, ink can be filled as shown in Fig. 2(c).

위와 같이 마이크로 패턴층(30)을 형성하면 평탄화층, 보호층, 또는 간격유지층 등 하나 이상의 기능층(35)을 마이크로 패턴층(30) 위에 선택적으로 적층하고(도2(d) 참조), 그 후 도3(a)에 도시한 것처럼 나노 패턴층(40)을 형성한다. 일 실시예에서 나노 임프린팅 방식으로 나노 패턴층(40)을 형성할 수 있으며, 나노 임프린팅은 상술한 마이크로 임프린팅과 유사하다. 예컨대, UV 경화성 수지를 기능층(35) 또는 마이크로 패턴층(30) 위에 도포하고 나노 패턴이 형성된 템플릿이나 필름을 압착한 후 자외선 조사에 의해 UV 경화성 수지를 경화시키고 템플릿이나 필름을 제거하여 도3(a)와 같은 나노 패턴층(40)을 만들 수 있다. When the micro pattern layer 30 is formed as described above, one or more functional layers 35 such as a planarization layer, a protective layer, or a gap maintaining layer are selectively stacked on the micro pattern layer 30 (see FIG. 2(d)), Thereafter, as shown in FIG. 3(a), the nano pattern layer 40 is formed. In one embodiment, the nano pattern layer 40 may be formed by the nano-imprinting method, and the nano-imprinting is similar to the micro-imprinting described above. For example, after applying a UV curable resin on the functional layer 35 or the micro pattern layer 30 and compressing the template or film on which the nano pattern is formed, the UV curable resin is cured by ultraviolet irradiation and the template or film is removed. It is possible to make the nano pattern layer 40 as shown in (a).

도3(a)는 나노 패턴의 일 예로서 음각으로 형성된 나노 패턴(41b)을 구비한 나노 패턴층(40)을 도시하였다. 나노 패턴층(40)의 표면(41a)에 음각의 나노 패턴(41b)이 규칙적인 또는 불규칙한 간격으로 형성되어 배열되어 있다. 나노 패턴(41b)은 수십 내지 수백 나노미터, 예컨대 대략 80 내지 200 나노미터 크기를 가질 수 있다. 그러나 나노 패턴(41b)의 크기나 단면 형상 및 패턴간의 간격은 구체적 실시 형태에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어 대안적 실시예에서 나노 패턴(41b)이 스트립 형상을 가질 수도 있다. 즉 각 나노 패턴(41b)들이 반드시 아일랜드 형태로 서로 떨어져 있을 필요는 없고 복수개의 나노 패턴(41b)이 연결되어 스트립 형상을 가질 수도 있다. 3(a) shows a nano-pattern layer 40 having a nano-pattern 41b formed as an intaglio as an example of the nano-pattern. On the surface 41a of the nano pattern layer 40, intaglio nano patterns 41b are formed and arranged at regular or irregular intervals. The nano pattern 41b may have a size of tens to hundreds of nanometers, for example, approximately 80 to 200 nanometers. However, the size or cross-sectional shape of the nano pattern 41b and the spacing between the patterns may vary depending on the specific embodiment. For example, in an alternative embodiment, the nano pattern 41b may have a strip shape. That is, the nano patterns 41b do not necessarily have to be separated from each other in an island shape, and the plurality of nano patterns 41b may be connected to have a strip shape.

위와 같이 나노 패턴층(40)을 형성한 후 나노 패턴(41b) 위에 메탈(44)을 형성한다. 일 실시예에서 스트립-오프(strip-off) 방법으로 메탈을 나노 패턴(41b)에 형성할 수 있다. 이 방법에 따르면, 우선 나노 패턴층(40)에 금 또는 은과 같은 메탈을 형성한다. 즉 도3(b)와 같이 나노 패턴층(40)의 표면(41a)과 나노 패턴(41b) 내부에에 메탈을 형성한다. 도면에서 부재번호 43은 나노 패턴층(40)의 표면(41a)에 형성된 메탈이고 부재번호 44는 나노 패턴(41b) 내에 형성된 메탈을 의미한다. 이 때 메탈(44)은 음각의 패턴(41b) 내부를 모두 채울 필요는 없으며 적어도 음각 패턴(41b) 내부에 부분적으로 형성되어도 무방하다. 예를 들어, 나노 패턴층의 표면(41a)과 나노 패턴(41b) 내에 각각 형성된 메탈의 두께는 60 나노미터 이하, 바람직하게는 대략 20 내지 50 나노미터일 수 있다. 메탈을 형성하는 방법으로 예컨대 물리증착(PVD), 화학증착(CVD) 등의 증착법을 사용할 수 있고 그 외에 공지의 다른 방법을 사용할 수도 있다. After forming the nano pattern layer 40 as above, the metal 44 is formed on the nano pattern 41b. In one embodiment, the metal may be formed on the nano pattern 41b by a strip-off method. According to this method, first, a metal such as gold or silver is formed on the nano pattern layer 40. That is, as shown in FIG. 3(b), metal is formed on the surface 41a of the nano pattern layer 40 and the nano pattern 41b. In the drawing, member number 43 denotes a metal formed on the surface 41a of the nano pattern layer 40, and member number 44 denotes a metal formed in the nano pattern 41b. In this case, the metal 44 need not fill all of the intaglio pattern 41b, and at least partially formed inside the intaglio pattern 41b. For example, the thickness of each metal formed in the surface 41a of the nano pattern layer and the nano pattern 41b may be 60 nanometers or less, and preferably approximately 20 to 50 nanometers. As a method of forming a metal, for example, a vapor deposition method such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD) may be used, and other known methods may also be used.

그 후 점착성 필름(도시 생략)을 메탈층 위에 부착한다. 이에 따라 나노 패턴층(40)의 표면(41a)의 메탈(43)이 점착성 필름에 부착되지만 나노 패턴(41b) 내의 메탈(44)은 점착성 필름에 접촉하지 않는다. 그 후 점착성 필름을 나노 패턴층(40)에서 제거하면 표면(41a)의 메탈(43)이 점착성 필름과 함께 떨어져서 제거되고(strip-off) 나노 패턴(41b)의 메탈(44)만 남겨지고, 따라서 도3(c)에 도시한 것과 같이 나노 패턴마다 메탈(44)이 형성된 나노 패턴층(40)을 만들 수 있다. Thereafter, an adhesive film (not shown) is attached on the metal layer. Accordingly, the metal 43 of the surface 41a of the nano pattern layer 40 is attached to the adhesive film, but the metal 44 in the nano pattern 41b does not contact the adhesive film. After that, when the adhesive film is removed from the nano pattern layer 40, the metal 43 of the surface 41a is removed with the adhesive film (strip-off), and only the metal 44 of the nano pattern 41b is left, Therefore, as shown in FIG. 3(c), it is possible to make a nano pattern layer 40 in which metal 44 is formed for each nano pattern.

일 실시예에서, 나노 패턴층(40)에서 메탈(43)을 제거(strip-off)하기 위한 점착성 필름으로 광 경화성 기판(예컨대 UV 경화성 기판)을 사용할 수 있다. 이 방법의 경우, 광경화성 기판을 소정 경화시간으로 사전경화(pre-curing)하여 광경화성 기판이 소정의 점착성을 갖도록 한 후 이 기판을 나노 패턴층(40)의 메탈(43)에 접촉시키고 가압하여 부착한다. 그 후 광경화층 기판을 노광하여 완전히 경화시킨 후 기판을 나노 패턴층(40)에서 제거하면 나노 패턴층의 표면(41a)의 메탈(43)이 광경화성 기판으로 전사되어 제거된다. In one embodiment, a photo-curable substrate (eg, a UV curable substrate) may be used as an adhesive film for strip-off of the metal 43 from the nano pattern layer 40. In the case of this method, the photocurable substrate is pre-cured with a predetermined curing time so that the photocurable substrate has a predetermined adhesive property, and then the substrate is brought into contact with the metal 43 of the nano pattern layer 40 and pressurized. To attach. Thereafter, when the photocurable layer substrate is completely cured by exposing the substrate, and the substrate is removed from the nanopattern layer 40, the metal 43 on the surface 41a of the nanopattern layer is transferred to and removed from the photocurable substrate.

이와 관련하여 도8은 나노 패턴층(40)의 나노 패턴(41b)에 메탈(44)을 형성한 모습의 전자현미경 사진이다. 도8(a)는 도3(b)의 공정까지 수행한 모습으로, 나노 패턴층(40)의 표면(41a)과 나노 패턴(41b) 내에 각각 메탈(43,44)이 형성되어 있다. 그 후 광경화성 기판을 사용한 상술한 방법에 따라 나노 패턴층(40)에서 메탈(43)을 제거하면 도8(b)와 같이 메탈(43)이 제거되고 나노 패턴(41b) 내의 메탈(44)만 형성된 나노 패턴층을 만들 수 있다. In this regard, FIG. 8 is an electron microscope photograph of a metal 44 formed on the nano pattern 41b of the nano pattern layer 40. 8(a) is a view performed up to the process of FIG. 3(b), wherein metals 43 and 44 are formed on the surfaces 41a and nano patterns 41b of the nano pattern layer 40, respectively. Then, when the metal 43 is removed from the nano pattern layer 40 according to the above-described method using a photocurable substrate, the metal 43 is removed as shown in FIG. 8(b) and the metal 44 in the nano pattern 41b is removed. Only the formed nano pattern layer can be made.

도4는 제2 실시예에 따른 입체 필름을 나타낸다. 도면을 참조하면, 제2 실시예에 따른 입체 필름은 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 나노 패턴층(40)이로 구성될 수 있다. 도1의 제1 실시예와 비교할 때 제2 실시예는 나노 패턴층(40)이 제1 실시예와 상이함을 이해할 것이다.4 shows a three-dimensional film according to the second embodiment. Referring to the drawings, the three-dimensional film according to the second embodiment may be composed of a base substrate 10, a micro lens array 20, a micro pattern layer 30, and a nano pattern layer 40. It will be understood that the nanopattern layer 40 is different from the first embodiment in the second embodiment when compared to the first embodiment in FIG. 1.

제2 실시예의 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 및 마이크로 패턴층(30)은 제1 실시예와 동일 또는 유사하므로 설명을 생략한다. 제2 실시예에서 나노 패턴층(40)은 점착층(50), 나노 사이즈의 메탈 아일랜드(74), 및 보호층(60)을 포함한다. Since the base substrate 10, the microlens array 20, and the micro pattern layer 30 of the second embodiment are the same or similar to the first embodiment, a description is omitted. In the second embodiment, the nano pattern layer 40 includes an adhesive layer 50, a nano-sized metal island 74, and a protective layer 60.

점착층(50)은 점착성을 갖는 층이며 필요에 따라 적절한 두께로 마이크로 패턴층(30) 위에 적층될 수 있다. 점착층(50) 위에 나노 크기의 복수개의 메탈 아일랜드들이 2차원 격자 배열로 형성되고, 그 위에 보호층(60)이 적층되어 메탈 아일랜드(74)를 보호할 수 있다. 일 실시예에서 보호층(60)이 생략될 수도 있다. The adhesive layer 50 is a layer having tackiness and may be stacked on the micro pattern layer 30 to an appropriate thickness as needed. A plurality of nano-sized metal islands are formed on the adhesive layer 50 in a two-dimensional grid arrangement, and a protective layer 60 is stacked thereon to protect the metal islands 74. In one embodiment, the protective layer 60 may be omitted.

각각의 메탈 아일랜드(74)의 형상, 크기, 높이, 및 메탈 아일랜드간 이격 거리에 따라 빛의 회절 특성이 달라지고 플라즈몬 공명 특성도 달라진다. 일 실시예에서 각각의 메탈 아일랜드(74)는 지름이 수십 내지 수백 나노미터, 바람직하게는 80 내지 200 나노미터 사이즈의 기둥(pillar) 형상이며 인접한 메탈 아일랜드 간의 거리는 예컨대 각 메탈 아일랜드의 지름의 수 내지 수십배가 될 수 있다. 각 메탈 아일랜드(74)의 높이는 수 내지 수백 나노미터, 바람직하게는 60 나노미터 이하, 보다 바람직하게는 20 내지 50 나노미터 일 수 있다. Diffraction characteristics of light and plasmon resonance characteristics are changed according to the shape, size, height of each metal island 74, and the separation distance between metal islands. In one embodiment, each metal island 74 has a pillar shape having a size of tens to hundreds of nanometers, preferably 80 to 200 nanometers, and the distance between adjacent metal islands is, for example, the number of diameters of each metal island. It can be dozens of times. The height of each metal island 74 may be several to hundreds of nanometers, preferably 60 nanometers or less, and more preferably 20 to 50 nanometers.

도5는 도4에서와 같이 점착층(50) 위에 메탈 아일랜드(74)를 형성하는 예시적 방법을 나타낸다. 설명의 편의를 위해, 도5(c)에 도시한 것처럼, 베이스 기재(10)의 양 표면에 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 점착층(50)으로 이루어진 입체 필름이 준비되어 있다고 전제한다. 5 shows an exemplary method of forming the metal island 74 on the adhesive layer 50 as in FIG. 4. For convenience of description, as shown in Fig. 5(c), a three-dimensional film composed of a microlens array 20, a micro pattern layer 30, and an adhesive layer 50 is formed on both surfaces of the base substrate 10. It is assumed that it is ready.

도면을 참조하면, 우선 도5(a)에 도시한 것처럼 전사용 기판(70)의 일측 표면에 양각의 나노 패턴(71b)을 형성한다. 즉 전사용 기판(70)의 표면(71a)에 나노 사이즈의 기둥(pillar) 형상의 패턴(71b)을 형성한다. 그 후 전사용 기판(70)의 표면에 금 또는 은과 같은 메탈(73)을 형성한다. 기판(70)에 표면에 메탈을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않으며 예컨대 증착, 도금, 충진 등 공지의 방법으로 형성할 수 있다. 이에 따라 도5(b)에 도시한 것처럼 기판(70)의 표면(71a)과 나노 패턴(71b)의 표면에 메탈(73,74)이 형성된다. 도면에서 부재번호 73은 기판의 표면(71a)에 형성된 메탈이고 부재번호 74는 나노 패턴(71b)에 형성된 메탈을 의미한다. Referring to the drawings, first, as shown in FIG. 5(a), an embossed nano pattern 71b is formed on one surface of the transfer substrate 70. That is, a nano-sized pillar-shaped pattern 71b is formed on the surface 71a of the transfer substrate 70. Thereafter, a metal 73 such as gold or silver is formed on the surface of the transfer substrate 70. The method of forming the metal on the surface of the substrate 70 is not particularly limited, and can be formed by a known method such as vapor deposition, plating, filling, and the like. Accordingly, as shown in FIG. 5(b), metals 73 and 74 are formed on the surface 71a of the substrate 70 and the surface of the nano pattern 71b. In the drawing, member number 73 denotes a metal formed on the surface 71a of the substrate, and member number 74 denotes a metal formed on the nano pattern 71b.

그 후 입체 필름의 점착층(50) 위에 전사용 기판(70)을 부착하여 메탈(74)을 입체 필름으로 전사(transfer)한다. 즉 도5(c)에 도시한 것처럼 나노 패턴(71b)의 메탈(74)이 점착층(50)에 밀착되도록 전사용 기판(70)을 입체 필름에 부착한 후 전사용 기판(70)을 제거하며, 이 때 전사용 기판(70)의 나노 패턴(71b) 위에 형성되었던 메탈(74)이 점착층(50)으로 전사됨으로써 도5(d)에 도시한 것처럼 점착층(50) 위에 나노 사이즈의 메탈 아일랜드(74)가 형성된다. 그 후 필요에 따라 선택적으로 보호층(60)을 형성할 수 있다. Thereafter, the transfer substrate 70 is attached to the adhesive layer 50 of the three-dimensional film to transfer the metal 74 to the three-dimensional film. That is, as shown in FIG. 5(c), the transfer substrate 70 is attached to the three-dimensional film so that the metal 74 of the nano pattern 71b is in close contact with the adhesive layer 50, and then the transfer substrate 70 is removed. At this time, the metal 74 that was formed on the nano pattern 71b of the transfer substrate 70 is transferred to the adhesive layer 50, so that the nano-size on the adhesive layer 50 as shown in FIG. 5(d). The metal island 74 is formed. Thereafter, the protective layer 60 may be selectively formed as necessary.

일 실시예에서, 점착층(50)으로 광경화성 기판을 사용할 수 있다. 즉 도3에서 설명한 것과 유사하게, 광경화성 기판의 점착층(50)을 소정 경화시간으로 사전경화(pre-curing)하여 소정의 점착성을 갖도록 한 후 점착층(50) 위에 전사용 기판(70)을 가압하여 부착하고, 그 후 점착층(50)을 완전히 경화시키고 전사용 기판(70)을 점착층(50)에서 제거하면 전사용 기판(70)의 메탈(74)이 점착층(50)으로 전사되어 메탈 아일랜드를 형성할 수 있다. In one embodiment, a photocurable substrate may be used as the adhesive layer 50. That is, similar to that described in FIG. 3, the adhesive layer 50 of the photocurable substrate is pre-cured with a predetermined curing time to have a predetermined adhesive property, and then the transfer substrate 70 is applied onto the adhesive layer 50. When the adhesive layer 50 is completely cured and the transfer substrate 70 is removed from the adhesive layer 50, the metal 74 of the transfer substrate 70 is transferred to the adhesive layer 50. It can be transferred to form metal islands.

도6은 제3 실시예에 따른 입체 필름을 나타낸다. 도면을 참조하면, 제3 실시예에 따른 입체 필름은 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 나노 패턴층(40)으로 구성된다. 6 shows a three-dimensional film according to the third embodiment. Referring to the drawings, the three-dimensional film according to the third embodiment is composed of a base substrate 10, a microlens array 20, a micro pattern layer 30, and a nano pattern layer 40.

베이스 기재(10)는 투명 또는 반투명의 기재이며, 베이스 기재(10)의 제1 표면에 마이크로렌즈 어레이(20)가 형성된다. 마이크로렌즈 어레이(20)는 복수개의 마이크로 렌즈가 2차원 평면으로 배열된 구조이다. 베이스 기재(20)의 제2 표면에는 나노 패턴층(40)이 형성된다. 나노 패턴층(40)은 복수개의 나노 패턴이 2차원 평면으로 배열되어 있다. 마이크로 패턴층(30)은 나노 패턴층(40)의 표면에 형성되며, 복수개의 마이크로 패턴이 2차원 평면으로 배열되어 있다. The base substrate 10 is a transparent or translucent substrate, and a microlens array 20 is formed on the first surface of the base substrate 10. The micro lens array 20 is a structure in which a plurality of micro lenses are arranged in a two-dimensional plane. The nano pattern layer 40 is formed on the second surface of the base substrate 20. In the nano pattern layer 40, a plurality of nano patterns are arranged in a two-dimensional plane. The micro pattern layer 30 is formed on the surface of the nano pattern layer 40, and a plurality of micro patterns are arranged in a two-dimensional plane.

도1의 제1 실시예와 비교할 때 제3 실시예의 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 나노 패턴층(40)의 각각의 재질과 형성 방법은 제1 실시예와 동일 또는 유사하며 따라서 설명을 생략한다. 다만 제3 실시예에서는 마이크로 패턴층(30)과 나노 패턴층(40)의 순서가 바뀌었다. 즉 베이스 기재(10)의 제2 표면에 나노 패턴층(40)이 먼저 적층되고 나노 패턴층(40)의 표면에 마이크로 패턴층(30)이 적층되었다. Compared to the first embodiment of FIG. 1, each of the materials and the forming method of the base substrate 10, the microlens array 20, the micro pattern layer 30, and the nano pattern layer 40 of the third embodiment is manufactured. It is the same or similar to the first embodiment, and thus description is omitted. However, in the third embodiment, the order of the micro pattern layer 30 and the nano pattern layer 40 is changed. That is, the nano pattern layer 40 is first deposited on the second surface of the base substrate 10 and the micro pattern layer 30 is deposited on the surface of the nano pattern layer 40.

도면에 도시하지 않았지만 나노 패턴층(40)과 마이크로 패턴층(30) 사이에 평탄화층, 보호층, 또는 간격유지층 등의 하나 이상의 기능층이 개재될 수 있고, 마이크로 패턴층(40)의 표면에도 하나 이상의 기능층이 형성될 수 있다. Although not shown in the drawing, one or more functional layers such as a planarization layer, a protective layer, or a gap maintaining layer may be interposed between the nano pattern layer 40 and the micro pattern layer 30, and the surface of the micro pattern layer 40 may be interposed. Even one or more functional layers may be formed.

도7은 제4 실시예에 따른 입체 필름을 나타낸다. 도면을 참조하면, 제4 실시예에 따른 입체 필름은 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 나노 패턴층(40)이로 구성된다. 7 shows a three-dimensional film according to the fourth embodiment. Referring to the drawings, the three-dimensional film according to the fourth embodiment includes a base substrate 10, a microlens array 20, a micro pattern layer 30, and a nano pattern layer 40.

도4의 제2 실시예와 비교할 때 제4 실시예의 베이스 기재(10), 마이크로렌즈 어레이(20), 마이크로 패턴층(30), 및 나노 패턴층(40)의 각각의 재질과 형성 방법은 제2 실시예와 동일 또는 유사하며 따라서 설명을 생략한다. 다만 제4 실시예에서는 마이크로 패턴층(30)과 나노 패턴층(40)의 순서가 바뀌었다. 즉 베이스 기재(10)의 제2 표면에 나노 패턴층(40)이 먼저 적층되고 나노 패턴층(40)의 표면에 마이크로 패턴층(30)이 적층되었다. Compared to the second embodiment of FIG. 4, the material and forming method of each of the base substrate 10, the micro lens array 20, the micro pattern layer 30, and the nano pattern layer 40 of the fourth embodiment are It is the same as or similar to the second embodiment, and thus description is omitted. However, in the fourth embodiment, the order of the micro pattern layer 30 and the nano pattern layer 40 is changed. That is, the nano pattern layer 40 is first deposited on the second surface of the base substrate 10 and the micro pattern layer 30 is deposited on the surface of the nano pattern layer 40.

도면에 도시하지 않았지만 나노 패턴층(40)과 마이크로 패턴층(30) 사이에 평탄화층, 보호층, 또는 간격유지층 등의 하나 이상의 기능층이 개재될 수 있고, 마이크로 패턴층(40)의 표면에도 하나 이상의 기능층이 형성될 수 있다. Although not shown in the drawing, one or more functional layers such as a planarization layer, a protective layer, or a gap maintaining layer may be interposed between the nano pattern layer 40 and the micro pattern layer 30, and the surface of the micro pattern layer 40 may be interposed. Even one or more functional layers may be formed.

이상과 같이 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 명세서의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능함을 이해할 수 있다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다. As described above, those skilled in the art to which the present invention pertains can understand that various modifications and variations are possible from the description of this specification. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined not only by the following claims, but also by the claims and equivalents.

10: 베이스 기재 20: 마이크로렌즈 어레이
30: 마이크로 패턴층 40: 나노 패턴층
50: 점착층 60: 보호층
70: 전사용 기판 10: base substrate 20: microlens array
30: micro pattern layer 40: nano pattern layer
50: adhesive layer 60: protective layer
70: transfer substrate

Claims (12)

입체 필름으로서,
투명 또는 반투명의 베이스 기재(10);
상기 베이스 기재의 제1 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 렌즈가 2차원 평면으로 배열된 마이크로렌즈 어레이(20);
상기 베이스 기재의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 패턴이 2차원 평면으로 배열된 마이크로 패턴층(30); 및
상기 마이크로 패턴층의 표면에 형성되며 복수개의 나노 패턴이 2차원 평면으로 배열된 나노 패턴층(40);을 포함하고,
상기 나노 패턴층에는 이 나노 패턴층의 일측 표면에 소정 간격으로 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 메탈이 형성된 것을 특징으로 하는 입체 필름. As a three-dimensional film,
A transparent or translucent base substrate 10;
A micro lens array 20 formed on a first surface of the base substrate and having a plurality of micro lenses arranged in a two-dimensional plane;
A micro pattern layer 30 formed on a second surface facing the first surface of the base substrate and having a plurality of micro patterns arranged in a two-dimensional plane; And
The nano pattern layer 40 is formed on the surface of the micro pattern layer and a plurality of nano patterns are arranged in a two-dimensional plane.
The nano-pattern layer is a three-dimensional film, characterized in that a metal having a size of each nano-sized and arranged at a predetermined interval on one surface of the nano-pattern layer. 제 1 항에 있어서,
상기 나노 패턴층의 표면(41a)에 소정 간격으로 이격되어 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 복수개의 나노 패턴(41b)이 형성되고, 나노 패턴(41b)의 적어도 일부 영역에 상기 메탈이 형성된 것을 특징으로 하는 입체 필름. According to claim 1,
A plurality of nano-patterns 41b having a size of nano-sized and arranged at a predetermined interval on the surface 41a of the nano-pattern layer are formed, and the metal is formed on at least a portion of the nano-pattern 41b Three-dimensional film, characterized in that. 제 2 항에 있어서,
상기 마이크로 패턴층과 나노 패턴층 사이에 개재되어 마이크로 패턴층 표면을 평탄화하고 마이크로 패턴과 나노 패턴의 거리를 이격시키는 평탄화층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름. According to claim 2,
A three-dimensional film interposed between the micro-pattern layer and the nano-pattern layer further comprises a planarization layer to flatten the surface of the micro-pattern layer and to separate the distance between the micro-pattern and the nano-pattern. 제 1 항에 있어서,
상기 나노 패턴층이 마이크로 패턴층 위에 형성된 점착층(50)을 포함하고,
상기 메탈이, 상기 점착층 위에 소정 간격으로 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 복수개의 메탈 아일랜드(74)로 형성된 것을 특징으로 하는 입체 필름. According to claim 1,
The nano pattern layer includes an adhesive layer 50 formed on the micro pattern layer,
The three-dimensional film, characterized in that the metal is arranged at a predetermined interval on the adhesive layer, each of which is formed of a plurality of metal islands having a size of nano-size (74). 제 4 항에 있어서,
상기 점착층 위에 적층되고 상기 복수개의 메탈 아일랜드를 커버하는 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름. The method of claim 4,
A three-dimensional film laminated on the adhesive layer and further comprising a protective layer covering the plurality of metal islands. 입체 필름으로서,
투명 또는 반투명의 베이스 기재(10);
상기 베이스 기재의 제1 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 렌즈가 2차원 평면으로 배열된 마이크로렌즈 어레이(20);
상기 베이스 기재의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 형성되며 복수개의 나노 패턴이 2차원 평면으로 배열된 나노 패턴층(40); 및
상기 나노 패턴층의 표면에 형성되며 복수개의 마이크로 패턴이 2차원 평면으로 배열된 마이크로 패턴층(30);을 포함하고,
상기 나노 패턴층에는 이 나노 패턴층의 일측 표면에 소정 간격으로 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 메탈이 형성된 것을 특징으로 하는 입체 필름. As a three-dimensional film,
A transparent or translucent base substrate 10;
A micro lens array 20 formed on a first surface of the base substrate and having a plurality of micro lenses arranged in a two-dimensional plane;
A nano pattern layer 40 formed on a second surface facing the first surface of the base substrate and having a plurality of nano patterns arranged in a two-dimensional plane; And
The micro pattern layer 30 is formed on the surface of the nano pattern layer and a plurality of micro patterns are arranged in a two-dimensional plane.
The nano-pattern layer is a three-dimensional film, characterized in that a metal having a size of each nano-sized and arranged at a predetermined interval on one surface of the nano-pattern layer. 제 6 항에 있어서,
상기 나노 패턴층의 표면에 소정 간격으로 이격되어 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 복수개의 나노 패턴이 형성되고, 나노 패턴의 적어도 일부 영역에 상기 메탈이 형성된 것을 특징으로 하는 입체 필름. The method of claim 6,
A three-dimensional film, characterized in that a plurality of nano-patterns each having a size of a nano-size are formed spaced apart at predetermined intervals on the surface of the nano-pattern layer, and the metal is formed in at least a part of the nano-pattern. 제 7 항에 있어서,
상기 나노 패턴층이 상기 베이스 기재의 제2 표면에 형성된 점착층(50)을 포함하고,
상기 메탈이, 상기 점착층 위에 소정 간격으로 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 복수개의 메탈 아일랜드(74)로 형성된 것을 특징으로 하는 입체 필름. The method of claim 7,
The nano pattern layer includes an adhesive layer 50 formed on the second surface of the base substrate,
The three-dimensional film, characterized in that the metal is arranged at a predetermined interval on the adhesive layer, each of which is formed of a plurality of metal islands having a size of nano-size (74). 입체 필름을 제조하는 방법으로서,
투명 또는 반투명의 베이스 기재(10)의 제1 표면에 2차원 평면으로 배열된 복수개의 마이크로 렌즈를 형성하는 마이크로 렌즈 어레이 형성 단계;
상기 베이스 기재의 제1 표면과 마주보는 제2 표면에 2차원 평면으로 배열된 복수개의 마이크로 패턴을 형성하는 마이크로 패턴층 형성 단계; 및
상기 마이크로 패턴층의 표면에 2차원 평면으로 배열된 복수개의 나노 패턴을 형성하는 나노 패턴층 형성 단계;를 포함하고,
상기 나노 패턴층 형성 단계는, 나노 패턴층의 일측 표면에 소정 간격으로 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 메탈을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름 제조 방법. As a method for producing a three-dimensional film,
A micro lens array forming step of forming a plurality of micro lenses arranged in a two-dimensional plane on the first surface of the transparent or translucent base substrate 10;
Forming a micro pattern layer on a second surface facing the first surface of the base substrate to form a plurality of micro patterns arranged in a two-dimensional plane; And
Including a nano-pattern layer forming step of forming a plurality of nano-patterns arranged in a two-dimensional plane on the surface of the micro-pattern layer;
The nano pattern layer forming step, the three-dimensional film manufacturing method characterized in that it further comprises the step of forming a metal having a size of each of the nano-sized and arranged at a predetermined interval on one surface of the nano-pattern layer. 제 9 항에 있어서, 상기 나노 사이즈의 메탈을 형성하는 단계가,
상기 마이크로 패턴층 위에 소정 두께의 수지층을 형성하는 단계;
상기 수지층의 표면(41a)에 소정 간격으로 이격되어 배열되고 각각이 나노 사이즈의 크기를 갖는 복수개의 음각의 나노 패턴(41b)을 형성하는 단계;
상기 수지층의 표면과 나노 패턴 내에 메탈을 형성하는 단계;
상기 수지층에 점착성 필름을 부착하는 단계; 및
상기 수지층에서 점착성 필름을 제거함으로써 상기 나노 패턴층 표면의 메탈을 제거하고 상기 나노 패턴 내의 메탈을 남기는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름 제조 방법. The method of claim 9, wherein the step of forming the nano-sized metal,
Forming a resin layer having a predetermined thickness on the micro pattern layer;
Forming a plurality of engraved nano-patterns (41b) spaced apart at predetermined intervals on the surface (41a) of the resin layer, each having a nano-sized size;
Forming a metal within the surface of the resin layer and the nano pattern;
Attaching an adhesive film to the resin layer; And
And removing the metal on the surface of the nano pattern layer by removing the adhesive film from the resin layer and leaving the metal in the nano pattern; a three-dimensional film manufacturing method comprising a. 제 9 항에 있어서, 상기 나노 사이즈의 메탈을 형성하는 단계가,
전사용 기판의 제1 표면에 나노 패턴을 형성하고 그 위에 메탈을 형성하는 단계;
상기 마이크로 패턴층 위에 점착층을 형성하는 단계; 및
상기 전사용 기판의 제1 표면이 상기 점착층에 밀착되도록 전사용 기판을 점착층에 부착한 후 제거함으로써, 상기 전사용 기판의 나노 패턴 위에 형성된 메탈을 상기 점착층으로 전사하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름 제조 방법. The method of claim 9, wherein the step of forming the nano-sized metal,
Forming a nano pattern on a first surface of the transfer substrate and forming a metal thereon;
Forming an adhesive layer on the micro pattern layer; And
Including the step of transferring the metal formed on the nano-pattern of the transfer substrate to the adhesive layer by attaching and removing the transfer substrate to the adhesive layer so that the first surface of the transfer substrate adheres to the adhesive layer. A three-dimensional film production method, characterized in that. 제 11 항에 있어서,
상기 전사된 메탈을 커버하는 보호층을 상기 점착층 위에 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입체 필름 제조 방법. The method of claim 11,
And forming a protective layer covering the transferred metal on the adhesive layer.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060121216A (en) * 2003-11-21 2006-11-28 나노벤션스 인코포레이션 Micro-optic security and image presentation system
JP2011137846A (en) * 2009-12-25 2011-07-14 Dainippon Printing Co Ltd Hologram label
KR20130085310A (en) 2012-01-19 2013-07-29 한국조폐공사 Stereoscopic security film and injection-molded products with thereof and the producing method thereof
KR20150027644A (en) * 2013-09-04 2015-03-12 주식회사 렌텍코리아 Stereoscopic lens sheet comprising multiple nano structure for expressing three dimensional color image
KR101630632B1 (en) * 2015-07-30 2016-06-16 한국조폐공사 Dual 3d image security feature and security goods comprising the same
KR20180022269A (en) 2016-08-24 2018-03-06 (주)쓰리에스엠케이 Stereoscopic film and method for the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060121216A (en) * 2003-11-21 2006-11-28 나노벤션스 인코포레이션 Micro-optic security and image presentation system
JP2011137846A (en) * 2009-12-25 2011-07-14 Dainippon Printing Co Ltd Hologram label
KR20130085310A (en) 2012-01-19 2013-07-29 한국조폐공사 Stereoscopic security film and injection-molded products with thereof and the producing method thereof
KR20150027644A (en) * 2013-09-04 2015-03-12 주식회사 렌텍코리아 Stereoscopic lens sheet comprising multiple nano structure for expressing three dimensional color image
KR101630632B1 (en) * 2015-07-30 2016-06-16 한국조폐공사 Dual 3d image security feature and security goods comprising the same
KR20180022269A (en) 2016-08-24 2018-03-06 (주)쓰리에스엠케이 Stereoscopic film and method for the same

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