KR102119901B1 - Photocurable adhesive composition, method for the same and adhesive film - Google Patents

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Abstract

유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분이 중합된 (메트)아크릴계 중합체; (메트)아크릴계 모노머; 및 광개시제를 포함하는 광경화성 점착 조성물, 이의 제조방법 및 점착 필름을 제공한다.(Meth)acrylic polymer in which a (meth)acrylic monomer component including a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C is polymerized; (Meth)acrylic monomers; And it provides a photo-curable pressure-sensitive adhesive composition comprising a photoinitiator, a method of manufacturing the same, and an adhesive film.

Description

광경화성 점착 조성물, 이의 제조방법 및 점착 필름{PHOTOCURABLE ADHESIVE COMPOSITION, METHOD FOR THE SAME AND ADHESIVE FILM}Photocurable adhesive composition, manufacturing method thereof, and adhesive film {PHOTOCURABLE ADHESIVE COMPOSITION, METHOD FOR THE SAME AND ADHESIVE FILM}

광경화성 점착 조성물, 이의 제조방법 및 점착 필름에 관한 것이다.
It relates to a photocurable adhesive composition, a method for manufacturing the same, and an adhesive film.

텔레비젼, 컴퓨터, 이동통신 단말기, 차량용 네비게이션, 현금 인출기 등과 같이 터치스크린으로 정보를 입력, 조작, 표시하는 화상 표시 장치의 수요가 증가하고 있다.Demand for an image display device that inputs, manipulates, and displays information on a touch screen, such as a television, computer, mobile communication terminal, car navigation system, and cash machine, is increasing.

이러한 화상 표시 장치는 예를 들어, 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD)와 같은 화상 표시부 상에 유리기판 또는 투명 플라스틱 기판과 같은 보호부를 포함하고, 이들을 고정시키기 위해 점착 필름 또는 점착 테이프를 더 포함하고 있다.Such an image display device includes a protective part such as a glass substrate or a transparent plastic substrate on an image display part such as, for example, a liquid crystal display (LCD), and further includes an adhesive film or an adhesive tape to fix them. Doing.

또한, 화상 표시 장치의 테두리 영역은 광이 투과되지 않아 이미지, 화상 등의 표시가 나타나지 않는 부분에서부터 화상 표시 장치의 본체의 말단 부분까지의 영역을 의미할 수 있고, 이러한 화상 표시 장치의 테두리 영역은 베젤(bazel) 영역이라고도 할 수 있는데 베젤 영역에서도 화상 표시 장치의 화상 표시부와 보호부는 점착 필름 또는 점착 테이프를 매개로 점착될 수 있다.In addition, the edge area of the image display device may refer to an area from a portion where the display of an image, an image, etc. does not appear because light is not transmitted, to an end portion of the main body of the image display device. It may also be referred to as a bezel area, and in the bezel area, the image display unit and the protection unit of the image display device may be adhered via an adhesive film or adhesive tape.

일반적으로 전술한 점착 필름 또는 점착 테이프는 아크릴계 조성물에 의해 형성할 수 있다.
In general, the above-described adhesive film or adhesive tape may be formed of an acrylic composition.

본 발명의 일 구현예에서, 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력을 우수한 수준으로 구현할 수 있는 광경화성 점착 조성물을 제공한다.In one embodiment of the present invention, there is provided a photocurable adhesive composition capable of realizing a high level of impact resistance, repulsion resistance and high temperature retention.

본 발명의 다른 구현예에서, 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력을 우수한 수준으로 구현할 수 있는 점착 필름을 제공한다.In another embodiment of the present invention, it provides an adhesive film capable of realizing a high level of impact resistance, repulsion resistance and high temperature retention.

본 발명의 또 다른 구현예에서, 상기 광경화성 점차 조성물의 제조방법을 제공한다.In another embodiment of the present invention, a method for gradually preparing the photocurable composition is provided.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
However, the technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by a person skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 구현예에서, 유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분이 중합된 (메트)아크릴계 중합체; (메트)아크릴계 모노머; 및 광개시제를 포함하는 광경화성 점착 조성물을 제공한다.In one embodiment of the present invention, a (meth)acrylic monomer component comprising a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C is polymerized ( Meth)acrylic polymers; (Meth)acrylic monomers; And it provides a photocurable adhesive composition comprising a photoinitiator.

상기 광경화성 점착 조성물은 상기 제1 모노머 및 상기 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물에 대하여 광의 조사에 의해 벌크 중합을 진행하여 형성된 (메트)아크릴계 시럽일 수 있다.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may be a (meth)acrylic syrup formed by performing bulk polymerization by irradiation of light with respect to a polymerization composition comprising a (meth)acrylic monomer component comprising the first monomer and the second monomer. .

이와 같이, 상기 광경화성 점착 조성물은 광의 조사에 의해 중합 반응이 개시되는 벌크 광중합 반응에 의해 형성됨으로써 더욱 우수한 고온 물성을 구현할 수 있다. 또한, 유기 용제를 포함하지 않으므로 용제를 포함하는 용액 중합이나, 다량의 첨가제가 요구되는 에멀젼 중합 등에 비해 우수한 친환경성, 높은 수율을 도모할 수 있다. 또한, 상기 광경화성 점착 조성물은 광을 차단함으로써 상온에서 중합 반응을 완전히 중단시킬 수 있고 온도 변화에 따라 중합 반응이 진행되지 않으므로 열의 처리에 의해 중합 반응이 개시되는 벌크 열 중합 반응과 비교하여 온도에 대한 저장 안정성이 우수하다.As described above, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition may be formed by a bulk photopolymerization reaction in which a polymerization reaction is initiated by irradiation of light, thereby realizing superior high temperature properties. In addition, since it does not contain an organic solvent, it is possible to achieve excellent eco-friendliness and high yield compared to solution polymerization containing a solvent or emulsion polymerization requiring a large amount of additives. In addition, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition can completely stop the polymerization reaction at room temperature by blocking light, and since the polymerization reaction does not proceed according to the temperature change, compared to the bulk thermal polymerization reaction in which the polymerization reaction is initiated by heat treatment. Excellent storage stability.

일 구현예에서, 상기 제1 모노머로서, n-부틸 아크릴레이트를 포함하지 않을 수 있고, 그에 따라 작업시 발생하는 냄새를 제거할 수 있어 더욱 우수한 작업성을 구현할 수 있다.In one embodiment, as the first monomer, n-butyl acrylate may not be included, and accordingly, odor generated during operation may be removed, thereby providing superior workability.

상기 (메트)아크릴계 중합체를 형성하는 전체 모노머 성분 중 상기 제1 모노머 대 상기 제2 모노머의 중량비가 약 1:0.3 내지 약 1:1일 수 있다. 상기 범위 내의 중량비를 가짐으로써 상기 (메트)아크릴계 중합체의 유리전이온도 등의 물성을 적절히 조절하여 고온 물성을 효과적으로 향상시킬 수 있다. The weight ratio of the first monomer to the second monomer among all monomer components forming the (meth)acrylic polymer may be about 1:0.3 to about 1:1. By having a weight ratio within the above range, physical properties such as the glass transition temperature of the (meth)acrylic polymer can be appropriately adjusted to effectively improve high temperature properties.

본 발명의 다른 구현예에서, 상기 광경화성 점착 조성물의 광경화물을 포함하는 점착 필름을 제공한다.In another embodiment of the present invention, an adhesive film including a photocured product of the photocurable adhesive composition is provided.

상기 점착 필릉은 충격 강도가 약 500mJ 내지 약 1,000mJ일 수 있다. 상기 범위 내의 충격 강도를 가짐으로써 외부의 충격을 효과적으로 흡수하여 우수한 내충격성을 구현할 수 있고, 예를 들어, 휴대폰 등의 모바일 기기의 윈도우 패널을 고정하기 위한 용도로 이용되어, 파손 또는 탈락 등의 모바일 기기의 손상 또는 성능 저하를 효과적으로 방지할 수 있다. The adhesive pilung may have an impact strength of about 500 mJ to about 1,000 mJ. By having an impact strength within the above range, it is possible to effectively absorb external shocks to realize excellent impact resistance, and is used for fixing a window panel of a mobile device, such as a mobile phone, for example, such as damage or dropout. It is possible to effectively prevent damage to the device or performance degradation.

본 발명의 또 다른 구현예에서, 유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물을 준비하는 단계; 및 상기 중합용 조성물에 대하여 약 100 mJ/cm2 내지 약 1,000 mJ/cm2의 광량으로 약 1분 내지 약 10분 동안 광을 조사하여 벌크 중합을 수행하여 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계;를 포함하는 광경화성 점착 조성물의 제조방법을 제공한다.
In another embodiment of the present invention, a (meth)acrylic monomer component comprising a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C is included. Preparing a composition for polymerization; And preparing a photocurable adhesive composition by performing bulk polymerization by irradiating light with a light amount of about 100 mJ/cm 2 to about 1,000 mJ/cm 2 for about 1 minute to about 10 minutes with respect to the polymerization composition. It provides a method for producing a photocurable adhesive composition containing.

상기 광경화성 점착 조성물 및 상기 점착 필름은 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력을 우수한 수준으로 구현할 수 있다.
The photo-curable pressure-sensitive adhesive composition and the pressure-sensitive adhesive film may be implemented with excellent levels of impact resistance, rebound resistance, and high temperature retention.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is provided as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of claims to be described later.

본 발명의 일 구현예에서, 유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분이 중합된 (메트)아크릴계 중합체; (메트)아크릴계 모노머; 및 광개시제를 포함하는 광경화성 점착 조성물을 제공한다. 일반적으로, 모바일 등의 화상표시 장치에 적용되는 점착 테이프의 경우 외부 충격에 대한 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력 등의 고온 물성이 중요시되고 있다.In one embodiment of the present invention, a (meth)acrylic monomer component comprising a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C is polymerized ( Meth)acrylic polymers; (Meth)acrylic monomers; And it provides a photocurable adhesive composition comprising a photoinitiator. In general, in the case of an adhesive tape applied to an image display device such as a mobile device, high temperature properties such as impact resistance to external impact, repulsion resistance, and high temperature holding power are considered important.

이에, 상기 광경화성 점착 조성물은 후술하는 바와 같이, 유리전이온도가 상이한 이종의 모노머를 적절히 포함하는 중합용 조성물에 대하여 광의 조사에 의한 벌크 중합을 수행하여 형성됨으로써 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력이 효과적으로 향상될 수 있다. Thus, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition is formed by performing bulk polymerization by irradiation of light with respect to a polymerization composition containing a heterogeneous monomer having a different glass transition temperature, as will be described later, thereby providing impact resistance, rebound resistance, and high temperature retention. This can be effectively improved.

상기 광경화성 점착 조성물은 상기 제1 모노머 및 상기 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물에 대하여 광의 조사에 의해 벌크 중합을 진행하여 형성된 (메트)아크릴계 시럽일 수 있다.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may be a (meth)acrylic syrup formed by performing bulk polymerization by irradiation of light with respect to a polymerization composition comprising a (meth)acrylic monomer component comprising the first monomer and the second monomer. .

그에 따라 상기 광경화성 점착 조성물은 유기 용제를 포함하지 않을 수 있다. 이러한 유기 용제는 예를 들어, 디에틸에테르, 테트라하이드로퓨란, 디클로로메탄, 클로로메탄, 자일렌(xylene), 디메틸포름아미드, 시클로헥산, 헥산, 클로로포름 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 아니하고 이 기술분야에서 공지된 종류를 모두 포함하는 의미이다. Accordingly, the photocurable adhesive composition may not include an organic solvent. Such organic solvents include, for example, at least one selected from the group consisting of diethyl ether, tetrahydrofuran, dichloromethane, chloromethane, xylene, dimethylformamide, cyclohexane, hexane, chloroform, and combinations thereof. It may include, but is not limited to, it is meant to include all kinds known in the art.

이와 같이, 상기 광경화성 점착 조성물은 광의 조사에 의해 중합 반응이 개시되는 벌크 광중합 반응에 의해 형성됨으로써 더욱 우수한 고온 물성을 구현할 수 있다. As described above, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition may be formed by a bulk photopolymerization reaction in which a polymerization reaction is initiated by irradiation of light, thereby realizing superior high temperature properties.

또한, 유기 용제를 포함하지 않으므로 용제를 포함하는 용액 중합이나, 다량의 첨가제가 요구되는 에멀젼 중합 등에 비해 우수한 친환경성, 높은 수율을 도모할 수 있다.In addition, since it does not contain an organic solvent, it is possible to achieve excellent eco-friendliness and high yield compared to solution polymerization containing a solvent or emulsion polymerization requiring a large amount of additives.

또한, 상기 광경화성 점착 조성물은 광을 차단함으로써 상온에서 중합 반응을 완전히 중단시킬 수 있고 온도 변화에 따라 중합 반응이 진행되지 않으므로 열의 처리에 의해 중합 반응이 개시되는 벌크 열 중합 반응과 비교하여 온도에 대한 저장 안정성이 우수하다.In addition, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition can completely stop the polymerization reaction at room temperature by blocking light, and since the polymerization reaction does not proceed according to the temperature change, compared to the bulk thermal polymerization reaction in which the polymerization reaction is initiated by heat treatment. Excellent storage stability.

상기 중합용 조성물은 상기 (메트)아크릴계 모노머 성분의 총합을 약 90 중량% 내지 약 99.5 중량%로 포함할 수 있다. The composition for polymerization may include the total of the (meth)acrylic monomer component at about 90% by weight to about 99.5% by weight.

상기 중합용 조성물은 중합 개시제를 더 포함할 수 있고, 상기 중합 개시제로서 광개시제를 더 포함할 수 있다. The polymerization composition may further include a polymerization initiator, and may further include a photoinitiator as the polymerization initiator.

상기 광개시제는 예를 들어, 벤조인 에테르(Benzoin Ethers), 벤질디알킬케탈(Benzyl Dialkyl Ketals), 벤조페논(Benzophenone), 아세토페논 (Acetophenone), TPO(2,4,6-Trimethylbenzoyl diphenylphosphineoxide) 및 이들의 조합을 포함하는 군에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The photoinitiators include, for example, Benzoin Ethers, Benzyl Dialkyl Ketals, Benzophenone, Acetophenone, TPO (2,4,6-Trimethylbenzoyl diphenylphosphineoxide) and these It may include at least one selected from the group containing a combination of, but is not limited thereto.

상기 중합용 조성물은 히드록시기를 갖는 모노머, 카르복실기를 갖는 모노머, 질소 함유 관능기를 갖는 모노머 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나를 포함할 수 있다. The composition for polymerization may include one selected from the group consisting of a monomer having a hydroxy group, a monomer having a carboxyl group, a monomer having a nitrogen-containing functional group, and combinations thereof.

상기 히드록시기를 갖는 모노머는 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 5-히드록시펜틸(메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메트)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메트)아크릴레이트 등이 있고, 상기 카르복실기를 갖는 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 말레산, 무수말레산, 이타콘산, 푸마르산, 글리콜산, 계피산, 아크릴산 다이머, 메타아크릴산 다이머, 아크릴산 트라이머, 아크릴산 테트라머, 메타크릴산 테트라머 등이 있으며, 상기 질소 함유 관능기를 갖는 모노머는 N-비닐피닐리돈, N-비닐카프로락탐, 아크릴로일모르폴린, 아크릴로니트릴, 아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드 등이 있으나, 이에 한정되지 아니한다.The monomer having the hydroxy group is hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 5-hydroxypentyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 10- Hydroxydecyl (meth)acrylate and the like, and the monomer having the carboxyl group is acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, fumaric acid, glycolic acid, cinnamic acid, acrylic acid dimer, methacrylic acid dimer , Acrylic acid trimer, acrylic acid tetramer, methacrylic acid tetramer, and the like, and the monomer having a nitrogen-containing functional group is N-vinylpinidylone, N-vinyl caprolactam, acryloyl morpholine, acrylonitrile, acrylic Amide, N,N-dimethylacrylamide, and the like, but is not limited thereto.

상기 광경화성 점착 조성물은 전술한 바와 같이, 상기 벌크 중합에 의해 형성된 상기 (메트)아크릴계 시럽일 수 있고, 그에 따라 유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분이 중합된 (메트)아크릴계 중합체를 포함할 수 있다.The photocurable adhesive composition may be the (meth)acrylic syrup formed by the bulk polymerization as described above, and accordingly, the first monomer and glass transition temperature of glass transition temperature of -70°C to -20°C are 10 It may include a (meth) acrylic polymer polymerized with a (meth) acrylic monomer component containing a second monomer of ℃ to 110 ℃.

상기 광경화성 점착 조성물은 상기 (메트)아크릴계 중합체를 약 10 중량% 내지 약 40 중량%로 포함할 수 있다. The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may include the (meth)acrylic polymer at about 10% by weight to about 40% by weight.

상기 제1 모노머는 예를 들어, n-프로필 아크릴레이트, n-테트라데실 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 펜틸 아크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 헵틸 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 라우릴 메타아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 제1 모노머는 2-에틸헥실 아크릴레이트(EHA)일 수 있고 그에 따라 초기 점착력을 더욱 향상시킬 수 있으면서 우수한 경제성을 구현할 수 있다.The first monomer is, for example, n-propyl acrylate, n-tetradecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, ethyl acrylate, iso It may include at least one selected from the group consisting of propyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate and combinations thereof. Specifically, the first monomer may be 2-ethylhexyl acrylate (EHA), and accordingly, the initial adhesion may be further improved, and excellent economic efficiency may be realized.

일 구현예에서, 상기 제1 모노머로서, n-부틸 아크릴레이트를 포함하지 않을 수 있고, 그에 따라 작업시 발생하는 냄새를 제거할 수 있어 더욱 우수한 작업성을 구현할 수 있다. In one embodiment, as the first monomer, n-butyl acrylate may not be included, and accordingly, odor generated during operation may be removed, thereby providing superior workability.

상기 제2 모노머는 예를 들어, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트(IBOA), 아크릴산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다. The second monomer may include, for example, at least one selected from the group consisting of methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isobornyl acrylate (IBOA), acrylic acid, and combinations thereof.

상기 (메트)아크릴계 중합체를 형성하는 전체 모노머 성분 중 상기 제1 모노머 대 상기 제2 모노머의 중량비가 약 1:0.3 내지 약 1:1일 수 있다. 상기 범위 내의 중량비를 가짐으로써 상기 (메트)아크릴계 중합체의 유리전이온도 등의 물성을 적절히 조절하여 고온 물성을 효과적으로 향상시킬 수 있다. The weight ratio of the first monomer to the second monomer among all monomer components forming the (meth)acrylic polymer may be about 1:0.3 to about 1:1. By having a weight ratio within the above range, physical properties such as the glass transition temperature of the (meth)acrylic polymer can be appropriately adjusted to effectively improve high temperature properties.

상기 (메트)아크릴계 중합체의 유리전이온도가 약 -60℃ 내지 약 -10℃일 수 있다. 상기 범위 내의 유리전이온도를 가짐으로써 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력이 효과적으로 향상될 수 있다. 구체적으로, 상기 유리전이온도가 약 -60℃ 미만인 경우 고온 유지력이 저하되고 약 -10℃ 초과인 경우 기재에 대한 젖음성이 떨어져 내반발성이 저하되는 문제가 있다.The (meth)acrylic polymer may have a glass transition temperature of about -60°C to about -10°C. By having a glass transition temperature within the above range, impact resistance, rebound resistance, and high temperature holding power can be effectively improved. Specifically, when the glass transition temperature is less than about -60°C, the high-temperature holding power is lowered, and when it is greater than about -10°C, there is a problem that the wettability to the substrate is lowered and the repellency is lowered.

상기 (메트)아크릴계 중합체의 중량평균분자량이 약 500,000g/mol 내지 약 3,000,000g/mol일 수 있다. 상기 범위 내의 중량평균분자량을 가짐으로써 고온 조건 하에서도 외부로부터의 충격에 대한 저항성이 향상될 수 있다. The (meth) acrylic polymer may have a weight average molecular weight of about 500,000 g/mol to about 3,000,000 g/mol. By having a weight average molecular weight within the above range, resistance to impact from the outside can be improved even under high temperature conditions.

상기 광경화성 점차 조성물은 상기 (메트)아크릴계 중합체와 별개의 성분으로서, 상기 (메트)아크릴계 모노머를 포함할 수 있고, 상기 (메트)아크릴계 모노머는 상기 중합용 조성물이 벌크 중합을 수행하여 형성된 상기 (메트)아크릴계 시럽 내에 존재하는 미반응 모노머일 수 있다. 그에 따라 상기 (메트)아크릴계 모노머는 상기 제1 모노머 및 상기 제2 모노머를 포함할 수 있다.The photocurable composition is a component separate from the (meth)acrylic polymer, and may include the (meth)acrylic monomer, wherein the (meth)acrylic monomer is formed by performing the bulk polymerization of the polymerization composition. It may be an unreacted monomer present in the methacrylic syrup. Accordingly, the (meth)acrylic monomer may include the first monomer and the second monomer.

상기 광경화성 점착 조성물은 상기 (메트)아크릴계 모노머의 총합을 약 55 중량% 내지 약 89 중량%로 포함할 수 있다.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may include the total of the (meth)acrylic monomers from about 55% to about 89% by weight.

상기 (메트)아크릴계 시럽은 약 5% 내지 약 30%의 중합 전환율을 가질 수 있다. 상기 중합 전환율은 상기 중합용 조성물 내에 포함된 모노머 성분의 (메트)아크릴계 중합체로의 중합 전환율을 의미할 수 있다.The (meth)acrylic syrup may have a polymerization conversion rate of about 5% to about 30%. The polymerization conversion rate may mean a polymerization conversion rate of a monomer component included in the polymerization composition to a (meth)acrylic polymer.

상기 범위 내의 중합 전환율을 가짐으로써 상기 (메트)아크릴계 중합체를 적절히 형성하여 상기 점착 조성물의 경화시 우수한 점착성 및 고온 물성을 구현할 수 있으면서도 상기 점착 조성물을 경화시키기 위한 경화 공정의 조건을 발명의 목적 및 용도에 따라 넓은 범위에서 조절할 수 있어 더욱 다양한 물성을 부여할 수 있다.Objects and uses of the curing process for curing the adhesive composition while having excellent polymerization and high temperature properties when curing the adhesive composition by appropriately forming the (meth)acrylic polymer by having a polymerization conversion rate within the above range Depending on the range, it can be adjusted in a wide range to give more various properties.

상기 광경화성 점착 조성물은 상기 광개시제를 포함할 수 있고, 상기 광개시제의 종류는 상기 중합용 조성물에 포함되는 광개시제에서 전술한 바와 같다.The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may include the photoinitiator, and the type of the photoinitiator is as described above in the photoinitiator included in the polymerization composition.

상기 광개시제는 상기 (메트)아크릴계 중합체 100 중량부에 대하여 약 0.1 중량부 내지 약 0.5 중량부로 포함할 수 있다. 상기 범위 내의 함량으로 포함함으로써 광경화 반응을 충분히 진행시키면서도 상기 점착 조성물 내에 잔류하는 미반응 광개시제를 제거하거나 최소화하여 전이 현상(migration)에 의한 물성 저하를 효과적으로 방지할 수 있다. The photoinitiator may include from about 0.1 parts by weight to about 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer. By including the content within the above range, while sufficiently progressing the photocuring reaction, the unreacted photoinitiator remaining in the adhesive composition can be removed or minimized to effectively prevent physical property degradation due to migration.

상기 광경화성 점착 조성물은 예를 들어, 가교제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다. The photo-curable adhesive composition may further include, for example, one or more additives selected from the group consisting of a crosslinking agent, an ultraviolet stabilizer, an antioxidant, and combinations thereof, but is not limited thereto.

상기 광경화성 점착 조성물은 점도가 약 20℃에서 약 2,000cps 내지 약 10,000cps일 수 있다. 상기 범위 내의 점도를 가짐으로써 각 성분들이 더욱 균일하게 혼합될 수 있으면서도 예를 들어, 필름, 테이프, 코팅 등으로 더욱 용이하게 가공될 수 있다.The photo-curable adhesive composition may have a viscosity of about 2,000 cps to about 10,000 cps at about 20°C. By having a viscosity within the above range, each component can be more uniformly mixed, but can be more easily processed into, for example, a film, tape, coating, or the like.

상기 광경화성 점착 조성물로부터 제조된 점착 필름 또는 양면 점착 테이프를 표시소자 패널 상부로 터치 스크린 패널을 고정하거나, 광학 부재 등의 상부로 표시소자 패널을 고정하기 위해 사용할 수 있어, 예를 들어, 광학용, 구체적으로는 터치스크린 패널용 점착 조성물의 용도로 적합할 수 있다.
The adhesive film or double-sided adhesive tape made from the photocurable adhesive composition can be used to fix the touch screen panel to the top of the display element panel, or to fix the display element panel to the top of the optical member, for example, for optical , Specifically, it may be suitable for the use of the adhesive composition for a touch screen panel.

본 발명의 다른 구현예에서, 상기 광경화성 점착 조성물의 광경화물을 포함하는 점착 필름을 제공한다. 상기 광경화성 점착 조성물은 일 구현예에서 전술한 바와 같다.In another embodiment of the present invention, an adhesive film including a photocured product of the photocurable adhesive composition is provided. The photo-curable adhesive composition is as described above in one embodiment.

상기 광경화물은 상기 점착 조성물에 대하여 광경화 반응을 수행하여 형성될 수 있다. 상기 광경화는 예를 들어, 약 100mJ/cm2 내지 약 1,000 mJ/cm2 광량으로 약 1분 내지 약 10분 동안 광을 조사하여 수행할 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다. The photocured product may be formed by performing a photocuring reaction on the adhesive composition. The photocuring may be performed by irradiating light for about 1 minute to about 10 minutes at a light amount of about 100 mJ/cm 2 to about 1,000 mJ/cm 2 , for example, but is not limited thereto.

상기 점착 필름의 두께는 약 10㎛ 내지 약 200㎛일 수 있다. The thickness of the adhesive film may be about 10㎛ to about 200㎛.

상기 광경화물은 하기 계산식 1에 따른 경화도가 예를 들어, 약 50% 내지 약 80%일 수 있다: The photocured product may have a curing degree according to the following Equation 1, for example, about 50% to about 80%:

[계산식 1][Calculation formula 1]

경화도 (%) = Wf/Wi ⅹ 100Curing degree (%) = W f /W i ⅹ 100

상기 계산식 1에서, 상기 Wi는 경화시킨 샘플을 일정 크기로 잘라 얻은 시편의 용제에 담그기 전 무게를 의미하고, 상기 Wf는 상기 시편을 용제에 담가 일정 기간 방치하고, 이어서 거름 장치를 이용하여 거른 후 남겨진 시편의 무게를 의미한다.In the calculation formula 1, W i means the weight before dipping the cured sample to a predetermined size and dipping it in the solvent of the obtained specimen, and W f is immersing the specimen in the solvent and allowed to stand for a period of time, and then using a strainer. It means the weight of the specimen left after filtering.

상기 용제의 종류 및 상기 시편을 용제에 담가 방치하는 기간은 경화도를 측정하고자 하는 경화물에 따라 달라질 수 있다. The type of the solvent and the period during which the specimen is immersed in the solvent may be changed depending on the cured product to be measured.

상기 용제는 적절한 기준 용제를 정하여 측정할 수 있고 예를 들어, 톨루엔을 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 시편을 용제에 담가 방치하는 시간은 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 약 24시간 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. The solvent may be measured by determining an appropriate reference solvent, and for example, toluene may be used, but is not limited thereto. The time to soak the specimen in a solvent can be appropriately selected, for example, about 24 hours, but is not limited thereto.

상기 범위 내의 경화도를 가짐으로써 우수한 점착성 및 우수한 고온 물성을 구현할 수 있다. By having a degree of curing within the above range, it is possible to realize excellent adhesion and excellent high temperature properties.

상기 점착 필릉은 충격 강도가 약 500mJ 내지 약 1,000mJ일 수 있다. 상기 범위 내의 충격 강도를 가짐으로써 외부의 충격을 효과적으로 흡수하여 우수한 내충격성을 구현할 수 있고, 예를 들어, 휴대폰 등의 모바일 기기의 윈도우 패널을 고정하기 위한 용도로 이용되어, 파손 또는 탈락 등의 모바일 기기의 손상 또는 성능 저하를 효과적으로 방지할 수 있다. The adhesive pilung may have an impact strength of about 500 mJ to about 1,000 mJ. By having an impact strength within the above range, it is possible to effectively absorb external shocks to realize excellent impact resistance, and is used for fixing a window panel of a mobile device, such as a mobile phone, for example, such as damage or dropout. It is possible to effectively prevent damage to the device or performance degradation.

상기 점착 필름은 점착력이 약 2,000 g/in 내지 약 3,000 g/in일 수 있다. 상기 범위 내의 점착력을 가짐으로써 이를 매개로 부착되는 소정의 부품들을 더욱 안정적으로 고정시킬 수 있다. The adhesive film may have an adhesive strength of about 2,000 g/in to about 3,000 g/in. By having an adhesive force within the above range, it is possible to more stably fix certain parts attached through this.

전술한 바와 같이, 상기 점착 필름은 내충격성, 내반발성, 고온 유지력 등의 고온 물성을 우수한 수준으로 구현할 수 있으므로 표시소자 패널 상부로 터치 스크린 패널을 고정하거나, 광학 부재 등의 상부로 표시소자 패널을 고정하기 위해 용이하게 사용할 수 있어, 예를 들어, 광학용, 구체적으로는 터치스크린 패널용 점착 필름의 용도로 적합할 수 있다.
As described above, the adhesive film can realize high temperature properties such as impact resistance, repulsion resistance, and high temperature retention, so that the touch screen panel is fixed to the top of the display element panel, or the display element panel is mounted to the top of the optical member, etc. It can be easily used to fix the, for example, it may be suitable for use in optical, specifically, the use of an adhesive film for a touch screen panel.

본 발명의 또 다른 구현예에서, 유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물을 준비하는 단계; 및 상기 중합용 조성물에 대하여 약 100 mJ/cm2 내지 약 1,000 mJ/cm2의 광량으로 약 1분 내지 약 10분 동안 광을 조사하여 벌크 중합을 수행하여 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계;를 포함하는 광경화성 점착 조성물의 제조방법을 제공한다. 상기 제조방법에 의해 일 구현예에서 전술한 광경화성 점착 조성물을 제조할 수 있다. In another embodiment of the present invention, a (meth)acrylic monomer component comprising a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C is included. Preparing a composition for polymerization; And preparing a photocurable adhesive composition by performing bulk polymerization by irradiating light with a light amount of about 100 mJ/cm 2 to about 1,000 mJ/cm 2 for about 1 minute to about 10 minutes with respect to the polymerization composition. It provides a method for producing a photocurable adhesive composition containing. The photocurable adhesive composition described above in one embodiment may be prepared by the above manufacturing method.

상기 제조방법에서, 유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물을 준비할 수 있다. In the above manufacturing method, a composition for polymerization comprising a (meth)acrylic monomer component comprising a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C You can prepare.

상기 제1 모노머로서 예를 들어, n-프로필 아크릴레이트, n-테트라데실 아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 4-히드록시부틸 아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 이소프로필 아크릴레이트, 펜틸 아크릴레이트, 헥실 아크릴레이트, 헵틸 아크릴레이트, 옥틸 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 라우릴 메타아크릴레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하도록 상기 중합용 조성물을 준비할 수 있고, 구체적으로는 2-에틸헥실 아크릴레이트(EHA)를 포함하도록 준비할 수 있다. As the first monomer, for example, n-propyl acrylate, n-tetradecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, ethyl acrylate, iso The composition for polymerization to include at least one selected from the group consisting of propyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate and combinations thereof It may be prepared, and specifically, may be prepared to include 2-ethylhexyl acrylate (EHA).

상기 중합용 조성물은 상기 제1 모노머로서, n-부틸 아크릴레이트를 포함하지 않도록 준비할 수 있고, 그에 따라 작업시 발생하는 냄새를 제거할 수 있어 더욱 우수한 작업성을 구현할 수 있다. The composition for polymerization may be prepared so as not to include n-butyl acrylate as the first monomer, and accordingly, the odor generated during the operation may be removed, thereby realizing superior workability.

상기 제2 모노머(경질 모노머)로서 예를 들어, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 아크릴레이트(IBOA), 아크릴산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하도록 상기 중합용 조성물을 준비할 수 있다. As the second monomer (light monomer), for example, at least one selected from the group consisting of methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isobornyl acrylate (IBOA), acrylic acid and combinations thereof So that the composition for polymerization can be prepared.

상기 중합용 조성물은 상기 (메트)아크릴계 모노머 성분의 총합을 약 90 중량% 내지 약 99.5 중량%로 포함하도록 준비할 수 있다.The composition for polymerization may be prepared to include the sum of the (meth)acrylic monomer components at about 90% by weight to about 99.5% by weight.

상기 중합용 조성물은 중합 개시제를 더 포함하도록 준비할 수 있고, 상기 중합 개시제로서 광개시제를 더 포함할 수 있으며, 상기 광개시제는 일 구현예에서 전술한 바와 같다. The composition for polymerization may be prepared to further include a polymerization initiator, and may further include a photoinitiator as the polymerization initiator, and the photoinitiator is as described above in one embodiment.

상기 중합용 조성물은 유기 용제를 포함하지 않도록 준비할 수 있다. 후술하는 바와 같이, 상기 중합용 조성물은 광의 조사에 의해 개시되는 벌크 광중합 반응에 의해 중합 반응이 진행되므로 용제를 포함하지 않고, 그에 따라, 용제를 포함하는 용액 중합이나, 다량의 첨가제가 요구되는 에멀젼 중합 등에 비해 우수한 친환경성, 높은 수율을 도모할 수 있다.The polymerization composition may be prepared not to contain an organic solvent. As described later, the polymerization composition does not contain a solvent because the polymerization reaction proceeds by a bulk photopolymerization reaction initiated by irradiation of light, and accordingly, solution polymerization containing a solvent or an emulsion requiring a large amount of additive is required Excellent eco-friendliness and high yield can be achieved compared to polymerization.

또한, 상기 광경화성 점착 조성물은 광을 차단함으로써 상온에서 중합 반응을 완전히 중단시킬 수 있고 온도 변화에 따라 중합 반응이 진행되지 않으므로 열의 처리에 의해 중합 반응이 개시되는 벌크 열 중합 반응과 비교하여 온도에 대한 저장 안정성이 우수하다.In addition, the photocurable pressure-sensitive adhesive composition can completely stop the polymerization reaction at room temperature by blocking light, and since the polymerization reaction does not proceed according to the temperature change, compared to the bulk thermal polymerization reaction in which the polymerization reaction is initiated by heat treatment. Excellent storage stability.

상기 제조방법에서, 상기 중합용 조성물에 대하여 약 100 mJ/cm2 내지 약 1,000 mJ/cm2의 광량으로 약 1분 내지 약 10분 동안 광을 조사하여 벌크 중합을 수행하여 광경화성 점착 조성물을 제조할 수 있다.In the above production method, the photopolymerizable composition is prepared by performing bulk polymerization by irradiating light with a light amount of about 100 mJ/cm 2 to about 1,000 mJ/cm 2 for about 1 minute to about 10 minutes with respect to the polymerization composition. can do.

상기 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계에서, (메트)아크릴계 중합체가 형성되고, 상기 (메트)아크릴계 중합체를 형성하는 전체 모노머 성분 중 상기 제1 모노머 대 상기 제2 모노머의 중량비가 약 1:0.3 내지 약 1:1가 되도록 상기 (메트)아크릴계 중합체가 형성될 수 있다. 상기 범위 내의 중량비를 가지도록 형성됨으로써 상기 (메트)아크릴계 중합체의 유리전이온도 등의 물성을 적절히 조절하여 고온 물성을 효과적으로 향상시킬 수 있다.In the step of preparing the photocurable pressure-sensitive adhesive composition, a (meth)acrylic polymer is formed, and the weight ratio of the first monomer to the second monomer among all monomer components forming the (meth)acrylic polymer is about 1:0.3 to The (meth)acrylic polymer may be formed to be about 1:1. By being formed to have a weight ratio within the above range, the physical properties such as the glass transition temperature of the (meth)acrylic polymer can be appropriately adjusted to effectively improve high temperature properties.

상기 광경화성 점착 조성물은 상기 (메트)아크릴계 중합체를 약 10 중량% 내지 약 40 중량%로 포함하도록 제조될 수 있다. The photocurable pressure-sensitive adhesive composition may be prepared to include the (meth)acrylic polymer in an amount of about 10% to about 40% by weight.

상기 (메트)아크릴계 중합체는 약 -60℃ 내지 약 -10℃의 유리전이온도를 가지도록 형성될 수 있다. 상기 범위 내의 유리전이온도를 가지도록 형성됨으로써 내충격성, 내반발성 및 고온 유지력이 효과적으로 향상될 수 있다. 구체적으로, 상기 유리전이온도가 약 -60℃ 미만인 경우 고온 유지력이 저하되고 약 -10℃ 초과인 경우 기재에 대한 젖음성이 떨어져 내반발성이 저하되는 문제가 있다.The (meth)acrylic polymer may be formed to have a glass transition temperature of about -60°C to about -10°C. By being formed to have a glass transition temperature within the above range, impact resistance, rebound resistance, and high temperature holding power can be effectively improved. Specifically, when the glass transition temperature is less than about -60°C, the high-temperature holding power is lowered, and when it is greater than about -10°C, there is a problem that the wettability to the substrate is lowered and the repellency is lowered.

상기 (메트)아크릴계 중합체는 약 500,000g/mol 내지 약 3,000,000g/mol의 중량평균분자량을 가지도록 형성될 수 있다. 상기 범위 내의 중량평균분자량을 가지도록 형성됨으로써 고온 조건 하에서도 외부로부터의 충격에 대한 저항성이 향상될 수 있다.The (meth)acrylic polymer may be formed to have a weight average molecular weight of about 500,000 g/mol to about 3,000,000 g/mol. It is formed to have a weight average molecular weight within the above range can improve the resistance to impact from the outside even under high temperature conditions.

상기 광경화성 점착 조성물은 전술한 바와 같이, 상기 벌크 중합에 의해 형성된 상기 (메트)아크릴계 시럽으로서 제조될 수 있고, 상기 (메트)아크릴계 시럽은 약 5% 내지 약 30%의 중합 전환율로 형성될 수 있다. The photocurable adhesive composition may be prepared as the (meth)acrylic syrup formed by the bulk polymerization as described above, and the (meth)acrylic syrup may be formed at a polymerization conversion rate of about 5% to about 30%. have.

상기 범위 내의 중합 전환율로 형성됨으로써 상기 (메트)아크릴계 중합체를 적절히 형성하여 상기 점착 조성물의 경화시 우수한 점착성 및 고온 물성을 구현할 수 있으면서도 상기 점착 조성물을 경화시키기 위한 경화 공정의 조건을 발명의 목적 및 용도에 따라 넓은 범위에서 조절할 수 있어 더욱 다양한 물성을 부여할 수 있다.The purpose and use of the curing process for curing the pressure-sensitive adhesive composition while forming the (meth)acrylic polymer appropriately by forming at a polymerization conversion rate within the above range to achieve excellent adhesion and high temperature properties when curing the pressure-sensitive adhesive composition Depending on the range, it can be adjusted in a wide range to give more various properties.

상기 광경화성 점차 조성물에는 상기 (메트)아크릴계 중합체와 별개의 성분으로서, (메트)아크릴계 모노머가 포함될 수 있고, 상기 (메트)아크릴계 모노머는 상기 중합용 조성물이 벌크 중합을 수행하여 형성된 상기 (메트)아크릴계 시럽 내에 존재하게 되는 미반응 모노머일 수 있다. 그에 따라 상기 (메트)아크릴계 모노머는 상기 제1 모노머 및 상기 제2 모노머를 포함할 수 있다.The photocurable composition gradually comprises a (meth)acrylic monomer as a separate component from the (meth)acrylic polymer, and the (meth)acrylic monomer is the (meth) formed by bulk polymerization of the composition for polymerization. It may be an unreacted monomer that is present in the acrylic syrup. Accordingly, the (meth)acrylic monomer may include the first monomer and the second monomer.

상기 광경화성 점착 조성물에는 상기 (메트)아크릴계 모노머의 총합이 약 55 중량% 내지 약 89 중량%로 포함될 수 있다. The total amount of the (meth)acrylic monomer may be included in the photocurable adhesive composition in an amount of about 55% to about 89% by weight.

상기 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 벌크 중합이 완료된 후 상기 광경화성 점착 조성물에 광개시제를 더 혼합할 수 있고, 상기 광개시제의 종류는 일 구현예에서 전술한 바와 같다.In the step of preparing the photocurable adhesive composition, after the bulk polymerization is completed, a photoinitiator may be further mixed with the photocurable adhesive composition, and the type of the photoinitiator is as described above in one embodiment.

상기 광개시제는 상기 (메트)아크릴계 중합체 100 중량부에 대하여 약 0.1 중량부 내지 약 0.5 중량부로 혼합할 수 있다. 상기 범위 내의 함량으로 혼합함으로써 광경화 반응을 충분히 진행시키면서도 상기 점착 조성물 내에 잔류하는 미반응 광개시제를 제거하거나 최소화하여 전이 현상(migration)에 의한 물성 저하를 효과적으로 방지할 수 있다. The photoinitiator may be mixed with about 0.1 parts by weight to about 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer. By mixing in a content within the above range, while sufficiently progressing the photocuring reaction, the unreacted photoinitiator remaining in the adhesive composition may be removed or minimized to effectively prevent physical property degradation due to migration.

또한, 상기 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 벌크 중합이 완료된 후 상기 광경화성 점착 조성물에 예를 들어, 가교제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 더 혼합할 수 있으나, 이에 한정되지 아니한다. In addition, in the step of preparing the photocurable adhesive composition, after the bulk polymerization is completed, one or more additives selected from the group consisting of, for example, a crosslinking agent, a UV stabilizer, an antioxidant, and combinations thereof are added to the photocurable adhesive composition. It can be further mixed, but is not limited thereto.

상기 광경화성 점착 조성물은 점도가 약 20℃에서 약 2,000cps 내지 약 10,000cps가 되도록 제조될 수 있다. 상기 범위 내의 점도를 가지도록 제조됨으로써 각 성분들이 더욱 균일하게 혼합될 수 있으면서도 예를 들어, 필름, 테이프, 코팅 등으로 더욱 용이하게 가공될 수 있다.
The photo-curable pressure-sensitive adhesive composition may be prepared to have a viscosity of about 2,000 cps to about 10,000 cps at about 20°C. By being prepared to have a viscosity within the above range, each component can be more uniformly mixed, but can be more easily processed into, for example, a film, tape, coating, or the like.

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 제시한다. 다만, 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하고, 이로써 본 발명이 제한되어서는 아니된다.
Hereinafter, specific embodiments of the present invention are presented. However, the examples described below are only for specifically illustrating or describing the present invention, and the present invention should not be limited thereby.

실시예Example

실시예Example 1 One

에틸헥실아크릴레이트(EHA, 유리전이온도: -65℃), 메틸아크릴레이트(MA, 유리전이온도: 10℃), 아크릴산(AA, 유리전이온도: 106℃)을 75:20:5의 중량비로 포함하는 모노머 성분의 총합 99 중량% 및 광개시제(IRG184)를 혼합 및 교반하여 중합용 조성물을 준비하였다.Ethyl hexyl acrylate (EHA, glass transition temperature: -65°C), methyl acrylate (MA, glass transition temperature: 10°C), acrylic acid (AA, glass transition temperature: 106°C) at a weight ratio of 75:20:5 A composition for polymerization was prepared by mixing and stirring 99% by weight of the total monomer component and photoinitiator (IRG184).

이어서, 상기 중합용 조성물에 대하여 100mJ/cm2 내지 1,000mJ/cm2의 광량으로 10분 동안 조사하여 벌크 중합 반응을 수행하여 (메트)아크릴계 시럽을 형성하고 상기 (메트)아크릴계 시럽 내 형성된 (메트)아크릴계 중합체 100 중량부에 대하여 광개시제(IRG184) 0.3 중량부를 더 혼합함으로써 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
Subsequently, a bulk polymerization reaction was performed by irradiating the composition for polymerization with a light amount of 100 mJ/cm 2 to 1,000 mJ/cm 2 for 10 minutes to form a (meth)acrylic syrup, and (meth) formed in the (meth)acrylic syrup. ) By adding 0.3 parts by weight of photoinitiator (IRG184) to 100 parts by weight of the acrylic polymer, a photocurable pressure-sensitive adhesive composition was prepared.

실시예Example 2 2

에틸헥실아크릴레이트(EHA, 유리전이온도: -65℃), 메틸아크릴레이트(MA, 유리전이온도: 10℃), 아크릴산(AA, 유리전이온도: 106℃)를 75:20:5의 중량비로 포함하는 모노머 성분의 총합 99 중량% 및 광개시제(IRG184)를 혼합 및 교반하여 중합용 조성물을 준비한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
Ethyl hexyl acrylate (EHA, glass transition temperature: -65°C), methyl acrylate (MA, glass transition temperature: 10°C), acrylic acid (AA, glass transition temperature: 106°C) at a weight ratio of 75:20:5 A photocurable pressure-sensitive adhesive composition was prepared in the same conditions and method as in Example 1, except that a composition for polymerization was prepared by mixing and stirring a total of 99% by weight of the monomer components and a photoinitiator (IRG184).

실시예Example 3 3

에틸헥실아크릴레이트(EHA, 유리전이온도: -65℃), 메틸아크릴레이트(MA, 유리전이온도: 10℃), 아크릴산(AA, 유리전이온도: 106℃)를 70:25:5의 중량비로 포함하는 모노머 성분의 총합 99 중량% 및 광개시제(IRG184)를 혼합 및 교반하여 중합용 조성물을 준비한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
Ethyl hexyl acrylate (EHA, glass transition temperature: -65°C), methyl acrylate (MA, glass transition temperature: 10°C), acrylic acid (AA, glass transition temperature: 106°C) in a weight ratio of 70:25:5 A photocurable pressure-sensitive adhesive composition was prepared in the same conditions and method as in Example 1, except that a composition for polymerization was prepared by mixing and stirring a total of 99% by weight of the monomer components and a photoinitiator (IRG184).

실시예Example 4 4

에틸헥실아크릴레이트(EHA, 유리전이온도: -65℃), 부틸아크릴레이트(BA, 유리전이온도: -55℃), 메틸아크릴레이트(MA, 유리전이온도: 10℃), 아크릴산(AA, 유리전이온도: 106℃)를 60:20:15:5의 중량비로 포함하는 모노머 성분의 총합 99 중량% 및 광개시제(IRG184)를 혼합 및 교반하여 중합용 조성물을 준비한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
Ethyl hexyl acrylate (EHA, glass transition temperature: -65°C), butyl acrylate (BA, glass transition temperature: -55°C), methyl acrylate (MA, glass transition temperature: 10°C), acrylic acid (AA, glass Same as Example 1, except that the composition for polymerization was prepared by mixing and stirring the total temperature of 99% by weight of the monomer component and the photoinitiator (IRG184), including a transition temperature of 106°C in a weight ratio of 60:20:15:5. A photocurable adhesive composition was prepared under conditions and methods.

비교예Comparative example 1 One

에틸헥실아크릴레이트(EHA, 유리전이온도: -65℃), 부틸아크릴레이트(BA, 유리전이온도: -55℃)를 60:40의 중량비로 포함하는 모노머 성분의 총합 99 중량% 및 광개시제(IRG184)를 혼합 및 교반하여 중합용 조성물을 준비한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
99% by weight of the total monomer component containing ethylhexyl acrylate (EHA, glass transition temperature: -65°C) and butyl acrylate (BA, glass transition temperature: -55°C) in a weight ratio of 60:40 and photoinitiator (IRG184 ) Was prepared by mixing and stirring to prepare a photocurable pressure-sensitive adhesive composition in the same conditions and method as in Example 1, except that the composition for polymerization was prepared.

비교예Comparative example 2 2

메틸아크릴레이트(MA, 유리전이온도: 10℃), 아크릴산(AA, 유리전이온도: 106℃)를 95:5의 중량비로 포함하는 모노머 성분의 총합 99 중량% 및 광개시제(IRG184)를 혼합 및 교반하여 중합용 조성물을 준비한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건 및 방법으로 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
Mix and stir 99% by weight of the total amount of the monomer component and photoinitiator (IRG184) containing methyl acrylate (MA, glass transition temperature: 10°C), acrylic acid (AA, glass transition temperature: 106°C) in a weight ratio of 95:5 By preparing a composition for polymerization, a photocurable pressure-sensitive adhesive composition was prepared under the same conditions and methods as in Example 1.

비교예Comparative example 3 3

비교예 1에서 준비한 중합용 조성물에 유기 용제를 더 혼합하고, 50℃ 내지 80℃의 온도로 7시간 동안 열 처리함으로써 용액 중합 반응을 수행하여 (메트)아크릴계 시럽을 형성하고 상기 (메트)아크릴계 시럽 내 형성된 (메트)아크릴계 중합체 100 중량부에 대하여 광개시제(IRG184) 0.3 중량부를 더 혼합함으로써 광경화성 점착 조성물을 제조하였다.
An organic solvent was further mixed with the composition for polymerization prepared in Comparative Example 1, and heat-treated at a temperature of 50°C to 80°C for 7 hours to perform a solution polymerization reaction to form a (meth)acrylic syrup and the (meth)acrylic syrup. A photo-curable pressure-sensitive adhesive composition was prepared by further mixing 0.3 parts by weight of a photoinitiator (IRG184) with respect to 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer formed therein.

실험예Experimental Example

상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 광경화성 점착 조성물에 대하여 150 mJ/cm2의 광량으로 3분간 UV를 조사하여 75㎛ 두께의 점착 필름을 각각 형성하였다. The photocurable adhesive compositions according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 were irradiated with UV at a light amount of 150 mJ/cm 2 for 3 minutes to form adhesive films having a thickness of 75 μm, respectively.

이어서, 상기 각각의 점착 필름에 대한 여러 가지 물성을 평가하여 하기 표 1에 나타내었다.
Subsequently, various physical properties for each of the adhesive films were evaluated and are shown in Table 1 below.

평가 방법Assessment Methods

실험예Experimental Example 1: 경화도 1: Curing degree

측정방법: 상기 각각의 점착 필름을 5mmⅹ5mmⅹ5mm의 크기로 잘라 시편을 준비한 후 이를 용제에 담그기 전 무게를 측정하여 처음 질량을 얻었다.Measurement method: Each adhesive film was cut to a size of 5 mm ⅹ 5 mm ⅹ 5 mm to prepare a specimen, and then weighed before dipping it in a solvent to obtain the first mass.

이어서, 상기 시편을 에틸 아세테이트 용제에 담가 상온에서 24 시간 동안 방치한 뒤, 200 메쉬 철망을 이용하여 거른 후 남겨진 시편을 110℃에서 2 시간 동안 건조시켜 얻은 시편의 질량 (건조 질량)을 측정하여 나중 질량을 얻었다. Subsequently, the specimen was dipped in an ethyl acetate solvent, left at room temperature for 24 hours, filtered using a 200 mesh wire mesh, and then the remaining specimen was dried at 110° C. for 2 hours to measure the mass (dry mass) of the specimen obtained later Mass was obtained.

상기 처음 질량을 Wi로 하고, 상기 나중 질량을 Wf로 하여 하기 계산식 1에 의해 경화도를 계산하였다:With the initial mass as W i and the latter mass as W f , the curing degree was calculated by the following Equation 1:

[계산식 1][Calculation formula 1]

경화도 (%) = Wf/Wi ⅹ 100
Curing degree (%) = W f /W i ⅹ 100

실험예Experimental Example 2: 충격 강도(내충격성) 2: Impact strength (impact resistance)

측정방법: 상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 점착 필름에 대하여 낙구충격시험기(Dupont type impact tester)을 사용하여 측정하였다.Measurement method: The adhesive films according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 were measured using a Dupont type impact tester.

구체적으로, 중앙에 10㎜ 지름의 홀(hole)이 형성된 50㎜x50㎜x2㎜ 크기의 폴리카보네이트(PC) 기재에, 상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 각각의 점착 필름을 매개로 20㎜x20㎜x3㎜의 유리를 부착하되, 홀이 중앙에 오도록 부착하고 이어서 3kg force로 1분 동안 압착한 후 RT 23℃ 및 RH 50% 조건 하에서 24시간 방치하여 적층체 시편을 준비하였다.Specifically, each of the adhesive films according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 on a polycarbonate (PC) substrate having a size of 50 mm×50 mm×2 mm with a hole having a diameter of 10 mm in the center. After attaching a glass of 20㎜x20㎜x3㎜ through a medium, the hole is attached to the center, and then compressed for 1 minute with 3kg force, and then left for 24 hours under conditions of RT 23°C and RH 50% to prepare a laminated specimen. Did.

상기 적층체 시편의 유리면에 대하여 100g의 추를 높이 50mm에서부터 500mm까지 순차적으로 50mm씩 올린 위치에서 낙하시키면서 유리와 점착 필름이 탈락되는지 여부를 관찰하여 낙구충격 시험을 실시하였다.A drop impact test was performed by observing whether the glass and the adhesive film fell off while dropping a weight of 100 g with respect to the glass surface of the laminate specimen from 50 mm to 500 mm in height by 50 mm sequentially.

이 때, 상기 유리와 상기 점착 필름이 탈락되지 않은 경우에는 이들이 탈락될 때까지 추의 무게를 150g, 200g, 300g 및 400g으로 증가시키면서 낙구충격 시험을 실시하였고, 추의 무게가 150g인 경우 350~500mm, 200g인 경우 400~500mm, 300g 및 400g인 경우에는 350~500mm 높이 내에서 순차적으로 50mm씩 올린 위치에서 낙하시켰다.At this time, when the glass and the adhesive film were not removed, a drop impact test was performed while increasing the weight of the weights to 150 g, 200 g, 300 g, and 400 g until they were removed, and when the weight was 150 g, 350 ~ For 500 mm and 200 g, 400 to 500 mm, and for 300 g and 400 g, they were dropped at positions sequentially raised by 50 mm within a height of 350 to 500 mm.

그에 따라 상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 각각의 디스플레이용 점착 필름에 대하여 상기 유리와 상기 점착 필름이 탈락된 경우의 추의 무게 및 높이를 측정하여 이들로부터 이 기술분야에서 공지된 물리적 법칙에 따라 충격 강도를 계산하였다.
Accordingly, for each of the adhesive films for displays according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3, the weight and height of the weight when the glass and the adhesive film are removed are measured, and from these, in this technical field. Impact strength was calculated according to known physical laws.

실험예Experimental Example 3: 3: 유지력retention

측정방법: 상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 점착 필름을 25mmx25mm 크기로 잘라 각각의 시편을 준비하였다. Measurement method: The adhesive films according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 were cut to a size of 25 mm×25 mm to prepare each specimen.

25mmX50mm의 SUS 304 1/2H 블록을 두 개 준비하고, 이를 IPA로 1회, 그리고 헵테인으로 3회 세척하였다.Two 25 mm×50 mm SUS 304 1/2H blocks were prepared, which were washed once with IPA and three times with heptane.

이어서, 상기 각각의 시편의 일면에 상기 블록 중 하나를 부착하고, 상기 각각의 시편의 다른 일면에 상기 블록 중 다른 하나를 부착하되, 상기 블록이 서로 반대방향으로 약간씩 돌출되도록 부착한 후 7kg 롤러를 이용하여 25mm/sec 속도로 2회 왕복하여 눌러 주고, 이어서, RT 23℃ 및 RH 50%의 조건 하에서 1시간 동안 방치하여 각각의 샘플을 제작하였다. Subsequently, one of the blocks is attached to one surface of each specimen, and the other of the blocks is attached to the other surface of each specimen, and the 7 kg rollers are attached to the blocks so that they protrude slightly in opposite directions. Each press was reciprocated at a speed of 25 mm/sec, and then pressed, and then left at RT 23° C. and RH 50% for 1 hour to prepare each sample.

또한, 이어서, 상기 샘플의 양 끝에서 돌출되어 있는 각각의 블록 중 하나를 소정의 상부면(윗면)에 고정시키고 다른 하나에는 500g 추를 매달아 중력 방향으로 힘이 가해지도록 한 상태에서 85℃의 온도 및 RH 85%의 습도 조건의 고온고습 챔버에 넣고 24시간 동안 지속적으로 관찰하여 탈락되는 시점의 시간을 측정하였고, 탈락이 일어나지 않은 경우는 유지력이 우수한 것으로 평가하였다.
In addition, one of each of the blocks protruding from both ends of the sample is fixed to a predetermined upper surface (upper surface), and a 500 g weight is suspended from the other, and a temperature of 85° C. is applied to force in the direction of gravity. And it was put into a high-temperature and high-humidity chamber with a humidity condition of 85% RH and continuously observed for 24 hours to measure the time at the time of dropping, and when dropping did not occur, it was evaluated as having excellent holding power.

실험예Experimental Example 4: 4: 내반발성Repulsion resistance

측정방법: 상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 상기 점착 필름을 150mmX25mm 크기로 잘라 각각의 시편을 준비하였다. Measurement method: The adhesive films according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 were cut to a size of 150 mmX25 mm to prepare each specimen.

155mmX30mmX0.5mm 크기의 알루미늄 기재와 170mmX35mmX2mm 크기의 폴리카보네이트 기재를 준비하여 IPA로 1회, 헵테인으로 3회 세척하였다.An aluminum substrate having a size of 155mmX30mmX0.5mm and a polycarbonate substrate having a size of 170mmX35mmX2mm were prepared and washed once with IPA and three times with heptane.

이어서, 상기 알루미늄 기재의 일 테두리부와 상기 시편의 일 테두리부가 일치하도록 상기 시편을 상기 알루미늄 기재에 부착시키고, 7kg 롤러로 2회 왕복하여 눌러준 후 상기 시편의 알루미늄 기재가 부착된 면의 반대 면에 상기 폴리카보네이트 기재를 부착하되, 상기 폴리카보네이트 기재의 일 테두리부가 상기 알루미늄 기재의 일 테두리부가 일치하면서 상기 알루미늄 기재가 상기 폴리카보네이트 기재의 중앙에 오도록 부착한 후 7kg 롤러로 2회 왕복하여 눌러 주고, 이어서, RT 23℃ 및 RH 50%의 조건 하에서 24시간 동안 방치하여 각각의 샘플을 제작하였다. Subsequently, the specimen is attached to the aluminum substrate so that one edge portion of the aluminum substrate coincides with one edge portion of the specimen, and is pressed and pressed twice with a 7 kg roller, and then the opposite side of the surface to which the aluminum substrate of the specimen is attached. Attach the polycarbonate substrate to, but attach the aluminum substrate to the center of the polycarbonate substrate while one edge portion of the polycarbonate substrate coincides with one edge portion of the aluminum substrate, and press and reciprocate twice with a 7 kg roller. Subsequently, each sample was prepared by standing at RT 23° C. and RH 50% for 24 hours.

또한, 이어서, 상기 각각의 샘플을 만능시험기의 테스트 지그(Al재질, 210mmX165mmX5mm)의 양 끝단에 맞춰 끼운 후 85℃의 온도 및 RH 85%의 습도 조건의 고온고습 챔버에 넣고 2시간 동안 지속적으로 관찰하여 탈락되는 시점의 시간을 측정하였고, 탈락이 일어나지 않은 경우는 내반발성이 우수한 것으로 평가하였다.
In addition, each sample was then fitted to both ends of the test jig (Al material, 210mmX165mmX5mm) of the universal tester, placed in a high temperature and high humidity chamber at a temperature of 85°C and a humidity of 85% RH, and continuously observed for 2 hours. The time at the time of dropping was measured, and when dropping did not occur, it was evaluated as having excellent rebound resistance.

실험예Experimental Example 5: 온도에 대한 저장 안정성 5: Storage stability against temperature

측정방법: 상기 실시예 1-4 및 상기 비교예 1-3에 따른 (메트)아크릴계 시럽을 각각 고온 챔버(제이오텍, ON-22)에서 60℃로 24시간 동안 유지시킨 후 상기 전환율의 변화 여부를 측정하여 전환율의 변화가 없는 경우를 온도에 대한 저장 안정성이 우수한 것으로 평가하여 "○"로 표시하고, 전환율이 증가한 경우를 온도에 대한 저장 안정성이 열등한 것으로 평가하여 "Ⅹ"로 표시하였다.
Measurement method: The (meth)acrylic syrup according to Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3 was maintained in a high temperature chamber (Geotech, ON-22) at 60° C. for 24 hours, and then whether the conversion rate was changed or not. By measuring, the case where the conversion rate was not changed was evaluated as having excellent storage stability with respect to temperature, and marked as “○”, and when the conversion rate was increased, the storage stability with respect to temperature was evaluated as being inferior and was marked with “Ⅹ”.

경화도(%)Curing degree (%) 충격강도(mJ)Impact strength (mJ) 고온 유지력High temperature holding power 내반발성Repulsion resistance 온도에 대한 저장안정성Storage stability against temperature 실시예1Example 1 6565 10001000 24hr(우수)24hr (excellent) 24hr(우수)24hr (excellent) ΟΟ 실시예2Example 2 6262 900900 24hr(우수)24hr (excellent) 24hr(우수)24hr (excellent) ΟΟ 실시예3Example 3 6868 920920 24hr(우수)24hr (excellent) 24hr(우수)24hr (excellent) ΟΟ 실시예4Example 4 6060 500500 24hr(우수)24hr (excellent) 2hr2hr ΟΟ 비교예1Comparative Example 1 7272 420420 24hr(우수)24hr (excellent) 1hr1hr ΟΟ 비교예2Comparative Example 2 6969 250250 24hr(우수)24hr (excellent) 10min10min ΟΟ 비교예3Comparative Example 3 7070 300300 3hr3hr 1hr1hr

표 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 4에 따른 광경화성 점착 조성물로부터 제조된 점착 필름의 경우 충격 강도, 고온 유지력 및 내반발성의 물성이 모두 우수한 수준으로 구현되었음을 명확히 확인하였다. 특히, 실시예 1 내지 3에 따른 광경화성 점착 조성물로부터 제조된 점착 필름의 경우 충격 강도, 고온 유지력을 우수한 수준으로 구현함과 동시에 내반발성이 더욱 효과적으로 향상되었고, 작업 과정에서 냄새도 발생하지 않아 우수한 작업성을 구현하였다.
As shown in Table 1, in the case of the pressure-sensitive adhesive films prepared from the photocurable pressure-sensitive adhesive compositions according to Examples 1 to 4, it was clearly confirmed that both the impact strength, high-temperature retention, and rebound resistance properties were implemented at excellent levels. Particularly, in the case of the adhesive films prepared from the photocurable adhesive compositions according to Examples 1 to 3, the impact strength and the high temperature retention force are realized at an excellent level, and the repellency is improved more effectively, and no odor is generated in the working process. Excellent workability was realized.

반면, 비교예 1 내지 4에 따른 광경화성 점착 조성물로부터 제조된 점착 필름의 경우 충격 강도가 현저히 열등하고, 특히, 내반발성이 모두 1시간 이하로 현저히 열등하였음을 명확히 확인하였다. 게다가, 비교예 1, 3의 경우 냄새가 발생하여 작업성이 낮았고, 또한 비교예 3의 경우에는 온도에 대한 저장 안정성도 열등하였다.On the other hand, in the case of the adhesive films prepared from the photocurable adhesive compositions according to Comparative Examples 1 to 4, it was clearly confirmed that the impact strength was significantly inferior, and in particular, the repulsion resistance was significantly inferior to less than 1 hour. In addition, in Comparative Examples 1 and 3, the odor was generated and the workability was low, and in the case of Comparative Example 3, the storage stability against temperature was also inferior.

Claims (18)

유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분이 중합된 (메트)아크릴계 중합체; (메트)아크릴계 모노머; 및 광개시제를 포함하며,
상기 (메트)아크릴계 중합체를 10 중량% 내지 40 중량%로 포함하는
광경화성 점착 조성물.
(Meth)acrylic polymer in which a (meth)acrylic monomer component including a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C is polymerized; (Meth)acrylic monomers; And a photoinitiator,
The (meth) acrylic polymer containing 10% by weight to 40% by weight
Photocurable adhesive composition.
제1항에 있어서,
유기 용제를 포함하지 않는
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
Free of organic solvents
Photocurable adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 중합체를 형성하는 전체 모노머 성분 중 상기 제1 모노머 대 상기 제2 모노머의 중량비가 1:0.3 내지 1:1인
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
The weight ratio of the first monomer to the second monomer among all the monomer components forming the (meth)acrylic polymer is 1:0.3 to 1:1
Photocurable adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 중합체의 유리전이온도가 -60℃ 내지 -10℃인
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
The glass transition temperature of the (meth)acrylic polymer is -60°C to -10°C.
Photocurable adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 중합체의 중량평균분자량이 500,000g/mol 내지 3,000,000g/mol인
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
The (meth) acrylic polymer has a weight average molecular weight of 500,000 g/mol to 3,000,000 g/mol
Photocurable adhesive composition.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 모노머로서, n-부틸 아크릴레이트를 포함하지 않는
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
As the first monomer, does not contain n-butyl acrylate
Photocurable adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 모노머의 총합을 55 중량% 내지 89 중량%로 광경화성 포함하는
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
The total amount of the (meth) acrylic monomer containing 55% to 89% by weight of photocurable
Photocurable adhesive composition.
제1항에 있어서,
상기 제1 모노머 및 상기 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물에 대하여 광의 조사에 의해 벌크 중합을 진행하여 형성된 (메트)아크릴계 시럽인
광경화성 점착 조성물.
According to claim 1,
A (meth)acrylic syrup formed by performing bulk polymerization by irradiation of light with respect to a polymerization composition comprising a (meth)acrylic monomer component comprising the first monomer and the second monomer.
Photocurable adhesive composition.
제9항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 시럽은 5% 내지 30%의 중합 전환율을 갖는
광경화성 점착 조성물.
The method of claim 9,
The (meth) acrylic syrup has a polymerization conversion rate of 5% to 30%
Photocurable adhesive composition.
제1항 내지 제5항 또는 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 광경화성 점착 조성물의 경화물을 포함하는 점착 필름.
An adhesive film comprising a cured product of the photocurable adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 or 7 to 10.
제11항에 있어서,
상기 경화물은 하기 계산식 1에 따른 경화도가 50% 내지 80%인
점착 필름:
[계산식 1]
경화도 (%) = Wf/Wi ⅹ 100
상기 계산식 1에서, 상기 Wi는 경화시킨 샘플을 일정 크기로 잘라 얻은 시편의 용제에 담그기 전 무게를 의미하고, 상기 Wf는 상기 시편을 용제에 담가 일정 기간 방치하고, 이어서 거름 장치를 이용하여 거른 후 남겨진 시편의 무게를 의미한다.
The method of claim 11,
The cured product has a curing degree of 50% to 80% according to the following Equation 1
Adhesive film:
[Calculation formula 1]
Curing degree (%) = W f /W i ⅹ 100
In the calculation formula 1, W i means the weight before dipping the cured sample to a predetermined size and dipping it in the solvent of the obtained specimen, and W f is immersing the specimen in the solvent and allowed to stand for a period of time, and then using a strainer. It means the weight of the specimen left after filtering.
제11항에 있어서,
충격 강도가 500mJ 내지 1,000mJ인
점착 필름.
The method of claim 11,
Impact strength of 500mJ to 1,000mJ
Adhesive film.
제13항에 있어서,
점착력이 2,000 g/in 내지 3,000 g/in인
점착 필름.
The method of claim 13,
Adhesion of 2,000 g/in to 3,000 g/in
Adhesive film.
유리전이온도가 -70℃ 내지 -20℃인 제1 모노머 및 유리전이온도가 10℃ 내지 110℃인 제2 모노머를 포함하는 (메트)아크릴계 모노머 성분을 포함하는 중합용 조성물을 준비하는 단계; 및
상기 중합용 조성물에 대하여 100 mJ/cm2 내지 1,000 mJ/cm2의 광량으로 1분 내지 10분 동안 광을 조사하여 벌크 중합을 수행하여 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계;를 포함하며,
상기 광경화성 점착 조성물을 제조하는 단계에서, (메트)아크릴계 중합체가 형성되고,
상기 광경화성 점착 조성물은 상기 (메트)아크릴계 중합체를 10 중량% 내지 40 중량%로 포함하는
광경화성 점착 조성물의 제조방법.
Preparing a polymerization composition comprising a (meth)acrylic monomer component comprising a first monomer having a glass transition temperature of -70°C to -20°C and a second monomer having a glass transition temperature of 10°C to 110°C; And
Including the step of preparing a photocurable adhesive composition by performing bulk polymerization by irradiating light for 1 minute to 10 minutes with a light amount of 100 mJ/cm 2 to 1,000 mJ/cm 2 with respect to the polymerization composition.
In the step of preparing the photo-curable adhesive composition, (meth) acrylic polymer is formed,
The photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprises the (meth)acrylic polymer in an amount of 10% to 40% by weight
Method of manufacturing a photocurable adhesive composition.
제15항에 있어서,
상기 중합용 조성물은 유기 용제를 포함하지 않도록 준비하는
광경화성 점착 조성물의 제조방법.
The method of claim 15,
The composition for polymerization is prepared so as not to contain an organic solvent
Method of manufacturing a photocurable adhesive composition.
제15항에 있어서,
상기 중합용 조성물은 상기 제1 모노머로서, n-부틸 아크릴레이트를 포함하지 않도록 준비하는
광경화성 점착 조성물의 제조방법.
The method of claim 15,
The composition for polymerization is prepared as the first monomer so as not to contain n-butyl acrylate.
Method of manufacturing a photocurable adhesive composition.
제15항에 있어서,
상기 (메트)아크릴계 중합체를 형성하는 전체 모노머 성분 중 상기 제1 모노머 대 상기 제2 모노머의 중량비가 1:0.3 내지 1:1가 되도록 상기 (메트)아크릴계 중합체가 형성되는
광경화성 점착 조성물의 제조방법.
The method of claim 15,
The (meth)acrylic polymer is formed so that the weight ratio of the first monomer to the second monomer among all the monomer components forming the (meth)acrylic polymer is 1:0.3 to 1:1.
Method of manufacturing a photocurable adhesive composition.
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