KR102059117B1 - Release film for packaging epoxy molding compound - Google Patents

Release film for packaging epoxy molding compound Download PDF

Info

Publication number
KR102059117B1
KR102059117B1 KR1020170121827A KR20170121827A KR102059117B1 KR 102059117 B1 KR102059117 B1 KR 102059117B1 KR 1020170121827 A KR1020170121827 A KR 1020170121827A KR 20170121827 A KR20170121827 A KR 20170121827A KR 102059117 B1 KR102059117 B1 KR 102059117B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nylon
weight
layer
film
coating layer
Prior art date
Application number
KR1020170121827A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190033261A (en
Inventor
김인선
임성택
이성수
이지성
염은희
Original Assignee
주식회사 포리스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 포리스 filed Critical 주식회사 포리스
Priority to KR1020170121827A priority Critical patent/KR102059117B1/en
Publication of KR20190033261A publication Critical patent/KR20190033261A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102059117B1 publication Critical patent/KR102059117B1/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/16Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D127/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D127/02Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09D127/12Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/10Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/26Polymeric coating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/21Anti-static
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/748Releasability
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/14Corona, ionisation, electrical discharge, plasma treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은 나일론 필름층; 대전방지 코팅층; UV 몰딩층; 및 불소 이형 코팅층이 이 순서로 적층된 EMC 패키징용 이형필름에 관한 것이다. 본 발명의 EMC 패키징용 이형필름은 109Ω/□ 이하의 낮은 표면저항, 낮은 표면에너지, 30~60㎛ 내외의 적절한 필름 두께, 우수한 내열성, 및 우수한 표면조도를 나타내므로 EMC 패키징에 매우 유용하게 사용될 수 있다.The present invention is a nylon film layer; Antistatic coating layer; UV molding layer; And a release film for EMC packaging in which a fluorine release coating layer is laminated in this order. The release film for EMC packaging of the present invention exhibits low surface resistance of 10 9 Ω / □ or less, low surface energy, proper film thickness of about 30 to 60 μm, excellent heat resistance, and excellent surface roughness, which is very useful for EMC packaging. Can be used.

Description

EMC 패키징용 이형필름 {RELEASE FILM FOR PACKAGING EPOXY MOLDING COMPOUND}Release film for EMC packaging {RELEASE FILM FOR PACKAGING EPOXY MOLDING COMPOUND}

본 발명은 EMC(EPOXY MOLDING COMPOUND) 패키징용 이형필름에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 EMC 몰딩 공정시 몰드 금형의 오염을 보호하고, EMC 미경화물의 금형접촉을 방지하며, 정전기에 취약한 칩(CHIP)의 성능을 보호할 수 있는, EMC(EPOXY MOLDING COMPOUND) 패키징용 이형필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film for EMC (EPOXY MOLDING COMPOUND) packaging, and more particularly, to protect the mold mold during the EMC molding process, to prevent the mold contact of the EMC uncured, and to prevent the chip (CHIP) susceptible to static electricity. It relates to a release film for EMC (EPOXY MOLDING COMPOUND) packaging that can protect performance.

패키지 공정(Packaging Process,PKG)이란, 웨이퍼(Wafer) 상에서 제작된 개개의 반도체 소자를 분리시켜 전기적 접속선을 연결하고, 외부의 환경에 견딜 수 있도록 밀봉시키는 공정을 의미한다. 이러한 패키지 공정을 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.The packaging process (PKG) refers to a process of separating individual semiconductor devices fabricated on a wafer to connect electrical connection lines and sealing them to withstand the external environment. The packaging process will be described in more detail as follows.

먼저, 웨이퍼(Wafer)에 형성된 집적회로 칩의 전기적 동작 여부를 탐침(Probe) 등을 이용해 불량품을 선별하고, 웨이퍼 상의 칩들을 분리하기 위해 다이아몬드 휠을 사용해 칩을 절단한다. 이렇게 절단된 칩을 리드 프레임(Lead Frame,L/F) 표면의 칩 지지 패들 위에 올려 접착(Bonding)시킨다. 여기서 칩을 리드 프레임에 접착시키는 접착제로서 솔더 합금(Au-Si, Pb-Sn) 및 에폭시(Epoxy)수지가 사용된다.First, a defective product is sorted using a probe or the like to determine whether an integrated circuit chip formed on a wafer is electrically operated, and a chip is cut using a diamond wheel to separate chips on the wafer. The chip thus cut is bonded onto the chip support paddle on the surface of the lead frame (L / F). Solder alloys (Au-Si, Pb-Sn) and epoxy resins are used as adhesives for bonding the chip to the lead frame.

리드 프레임에 칩을 접착 고정한 후, 금선(Gold Wire)으로 칩 외부 연결단자와 리드 프레임을 연결시킨다. 금속선이 연결된 리드 프레임은 금형에 삽입되며, 에폭시 몰딩 컴파운드(Epoxy Molding Compound, EMC)를 금형 틀 내부로 주입 및 밀봉시킨다. 이러한 밀봉에 의해서 칩과 연결선을 외부의 충격과 부식 및 접촉으로부터 보호한다.After the chip is fixed to the lead frame, the chip external connection terminal is connected to the lead frame with a gold wire. The lead frame connected with the metal wire is inserted into the mold, and the epoxy molding compound (EMC) is injected and sealed into the mold mold. This seal protects the chip and lead from external impact, corrosion and contact.

메모리 반도체의 패키징 공정에서는 EMC(epoxy molding compund)를 이용한 몰딩방법이 가장 널리 사용되고 있다. 왜냐하면, EMC는 세라믹에 비해 열안정성이나 신뢰성은 떨어지지만, 가격이 저렴하고 생산성이 높다는 장점을 가지고 있기 때문이다.In the packaging process of a memory semiconductor, a molding method using an epoxy molding compound (EMC) is most widely used. This is because EMC has lower thermal stability and reliability than ceramics, but has the advantages of low cost and high productivity.

EMC에 요구되는 다양한 특성들은 서로 상반되는 것들이 많이 있는데, 특히, 접착성과 이형성이라는 상반된 특성을 동시에 만족시켜야 한다. 접착성이 필요한 이유는 실리콘 다이나 금속 리드프레임과의 접착이 양호하여야만 패키지의 안정성 즉, 기계적 안정성이나 전기적 안정성이 확보될 수 있기 때문이다. 이를 위해서 흐름성이 좋은 저분자량의 수지를 사용하거나 왁스의 양을 적게 사용해야 한다.There are many different characteristics of EMC that are in conflict with each other. In particular, it is necessary to satisfy the opposite characteristics of adhesion and release property. The reason why the adhesion is necessary is that the stability of the package, that is, mechanical stability or electrical stability can be secured only when the adhesion with the silicon die or the metal lead frame is good. For this purpose, low molecular weight resins with good flowability or low amount of wax should be used.

그러나, 상기와 같이 저분자량의 수지를 사용하거나 왁스의 양을 적게 사용하는 경우 금형몰드 표면과의 이형성이 저하되어 EMC가 금형몰드에 달라붙게(sticking) 되는 불량이 발생하거나, 잔류 EMC에 의한 금형몰드의 오염이 발생하여 주기적인 금형의 표면청소가 필요해진다.However, when using a low molecular weight resin or using a low amount of wax as described above, the mold release property of the mold mold is lowered and defects in which the EMC sticks to the mold mold may occur, or the mold may be caused by residual EMC. Contamination of the mold occurs, which requires periodic surface cleaning of the mold.

상기의 문제점을 해소하기 위해 금형의 수지 성형부(캐비티면)를 이형필름으로 피복한 상태에서 몰드 수지를 금형 내에 주입함으로써, 금형의 캐비티면에 몰드 수지를 직접 접촉시키지 않고 반도체 패키지를 형성하는 수지 몰드용 이형필름을 사용하는 기술이 개발되어 일정한 성과를 얻고 있다.In order to solve the above problem, a resin is formed to form a semiconductor package without directly contacting the mold resin with the cavity surface of the mold by injecting the mold resin into the mold while the resin molding portion (cavity surface) of the mold is covered with the release film. The technology using the release film for a mold was developed and has obtained the certain result.

상기 수지 몰드용 이형필름은 낮은 표면저항, 낮은 표면에너지, 낮은 필름 두께, 우수한 내열성, 및 우수한 표면조도와 같은 복잡한 물성이 요구된다. 그러나, 종래에 이형필름은 상기와 같은 물성을 충분히 갖추지 못하고 있는 실정이다. The release film for resin molds require complex physical properties such as low surface resistance, low surface energy, low film thickness, excellent heat resistance, and excellent surface roughness. However, conventionally, the release film does not have sufficient physical properties as described above.

대한민국 등록특허 제10-1682934호Republic of Korea Patent No. 10-1682934

본 발명은 종래기술의 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, The present invention has been made to solve the above problems of the prior art,

109Ω/□ 이하의 낮은 표면저항, 낮은 표면에너지, 30~60㎛내외의 적절한 필름 두께, 우수한 내열성, 및 우수한 표면조도를 나타내는 EMC 패키징용 이형필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a release film for EMC packaging that exhibits a low surface resistance of 10 9 Ω / □ or less, low surface energy, an appropriate film thickness of about 30 to 60 μm, excellent heat resistance, and excellent surface roughness.

상기와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명은,The present invention to solve the above problems,

나일론 필름층; Nylon film layer;

상기 나일론 필름층 위에 적층된 대전방지 코팅층; An antistatic coating layer laminated on the nylon film layer;

상기 대전방지 코팅층 위에 적층된 UV 몰딩층; 및 A UV molding layer laminated on the antistatic coating layer; And

상기 UV 몰딩층 위에 적층된 불소 이형 코팅층을 포함하는 EMC 패키징용 이형필름을 제공한다.It provides a release film for EMC packaging comprising a fluorine release coating layer laminated on the UV molding layer.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 나일론 필름층은 일면 또는 양면에 코로나 처리가 된 나일론 필름을 사용하여 형성될 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the nylon film layer may be formed using a nylon film having a corona treatment on one side or both sides.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 나일론 필름층은 나일론 6, 나일론 66, 나일론 46, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 6/66의 공중합체, 나일론 6/66/610 공중합체, 나일론 MXD6, 나일론 6T, 나일론 6/6T 공중합체, 나일론 66/PP 공중합체, 나일론66/PPS 공중합체, 6-나일론의 메톡시메틸화물, 6-610-나일론의 메톡시메틸화물 및 612-나일론의 메톡시메틸화물 중에서 선택되는 나일론 필름으로 형성될 수도 있다. 나일론 필름의 두께는 5um ~ 100um 까지 사용 될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the nylon film layer is nylon 6, nylon 66, nylon 46, nylon 11, nylon 12, nylon 610, nylon 612, nylon 6/66 copolymer, nylon 6/66/610 copolymer , Nylon MXD6, nylon 6T, nylon 6 / 6T copolymer, nylon 66 / PP copolymer, nylon 66 / PPS copolymer, methoxymethylated 6-nylon, methoxymethylated 6-610-nylon and 612- It may also be formed from a nylon film selected from methoxymethylates of nylon. Nylon film thickness can be used from 5um to 100um.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 대전방지 코팅층은 UV 경화형 아크릴레이트계 바인더 1~4 중량부, 케톤계 용제 20~80 중량부, 광중합개시제 4~8 중량부, 및 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 10~40 중량부 를 포함하는 대전방지 코팅 조성물로 형성될 수도 있다. 바람직하게는, 상기 케톤계 용제는 60-80 중량부이고, 유기 분산 PEDOT:PSS 은 알코올 용매류이고, 26 ~ 40 중량부를 포함한다.In one embodiment of the present invention, the antistatic coating layer is UV curable acrylate-based binder 1 to 4 parts by weight, ketone solvent 20 to 80 parts by weight, photopolymerization initiator 4 to 8 parts by weight, and alcohols, amides, or The mixed solvent organic dispersion may be formed of an antistatic coating composition containing 10 to 40 parts by weight of PEDOT: PSS. Preferably, the ketone solvent is 60-80 parts by weight, the organic dispersion PEDOT: PSS is an alcohol solvent, and contains 26 to 40 parts by weight.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 대전방지 코팅층은 0.01~3 중량부 실록산계 첨가제를 더 포함할 수도 있다. 바람직하게는, 상기 대전방지 코팅층은 1~3 중량부 실록산계 첨가제를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the antistatic coating layer may further comprise 0.01 to 3 parts by weight of the siloxane additive. Preferably, the antistatic coating layer may further comprise 1 to 3 parts by weight of the siloxane additive.

본 발명의 일 실시예에서는,상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS은, 유기용매, 및 분산보조제를 혼합하여 혼합용매를 제조하는 제1 혼합단계 및 상기 혼합용매에 고체분말 형태의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)를 혼합하는 제2 혼합단계에 의해서 제조될 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the alcohols, amides, or mixed solvents of the organic dispersion PEDOT: PSS, the organic solvent, and a dispersion aid are mixed in the first mixing step to prepare a mixed solvent and the mixed solvent It may also be prepared by a second mixing step of mixing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) in solid powder form.

본 발명의 일 실시예에서는,상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS은, 상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 0.1~3% 중량의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS), 상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 0.05~4% 중량의 분산을 보조하기 위한 제1 분산보조제, 상기 알코올류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 0.1~10% 중량의 전도도를 개선하기 위한 제2 분산보조제, 및 상기 알코올류, 아마이드류 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 85~95% 의 분산액 유기용매를 포함할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the alcohols, amides, or mixed solvents of the organic dispersion PEDOT: PSS is 0.1 ~ based on the total weight of the alcohols, amides, or mixed solvents of the organic dispersion PEDOT: PSS 3% by weight of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS), the alcohols, amides, or mixed solvents thereof organic dispersion PEDOT: 0.05 to 4% by weight of the total weight of the PSS First dispersion aid to assist the dispersion of the second, the organic dispersion of the alcohol PEDOT: a second dispersion aid for improving the conductivity of 0.1 to 10% by weight relative to the total weight of the PSS, and the alcohols, amides or mixed solvents thereof Organic Dispersion PEDOT: may contain 85% to 95% of a dispersion organic solvent based on the total weight of the PSS.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 UV 몰딩층은 실리콘 아크릴레이트 42~60 중량부, 고점도 올리고머 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(PETA) 18~35 중량부, 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(HDDA) 8~20 중량부, 단관능 아크릴레이트 모노머(HEMA) 3~10 중량부, 분산제 10~25 중량부, 광중합개시제 3~7 중량부, 및 실록산 첨가제 1~7 중량부를 포함하는 몰딩층 형성용 조성물로 형성될 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the UV molding layer is 42 to 60 parts by weight of silicone acrylate, polyfunctional acrylate monomer (PETA) for dilution of high viscosity oligomer 18 to 35 parts by weight, polyfunctional acrylate monomer for dilution (HDDA) A composition for forming a molding layer comprising 8 to 20 parts by weight, 3 to 10 parts by weight of a monofunctional acrylate monomer (HEMA), 10 to 25 parts by weight of a dispersant, 3 to 7 parts by weight of a photopolymerization initiator, and 1 to 7 parts by weight of a siloxane additive. It may be formed as.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 UV 몰딩층은 엠보 처리가 될 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the UV molding layer may be embossed.

본 발명의 일 실시예에서는, 상기 불소 이형 코팅층은 퍼플루오로계 폴리머 1~2 중량부 및 플루오로계 용매 98~99 중량부를 포함하는 불소 이형 코팅층 형성용 조성물로 형성될 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the fluorine release coating layer may be formed of a composition for forming a fluorine release coating layer comprising 1-2 parts by weight of a perfluoro-based polymer and 98 to 99 parts by weight of a fluoro solvent.

본 발명의 EMC 패키징용 이형필름은 109Ω/□ 이하의 낮은 표면저항, 낮은 표면에너지, 30~60㎛ 내외의 적절한 필름 두께, 우수한 내열성, 및 우수한 표면조도를 나타내므로 EMC 패키징에 매우 유용하게 사용될 수 있다.The release film for EMC packaging of the present invention exhibits low surface resistance of 10 9 Ω / □ or less, low surface energy, proper film thickness of about 30 to 60 μm, excellent heat resistance, and excellent surface roughness, which is very useful for EMC packaging. Can be used.

본 발명에 관한 다양한 실시예들 및/또는 양상들이 하기에 개시된다. 하기 설명에서는 설명을 목적으로, 하나이상의 양상들의 전반적 이해를 돕기 위해 다수의 구체적인 세부사항들이 개시된다. 그러나, 이러한 양상(들)은 이러한 구체적인 세부사항들 없이도 실행될 수 있다는 점 또한 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 인식될 수 있을 것이다. 이후의 기재 및 첨부된 도면들은 하나 이상의 양상들의 특정한 예시적인 양상들을 상세하게 기술한다. 하지만, 이러한 양상들은 예시적인 것이고 다양한 양상들의 원리들에서의 다양한 방법들 중 일부가 이용될 수 있으며, 기술되는 설명들은 그러한 양상들 및 그들의 균등물들을 모두 포함하고자 하는 의도이다.Various embodiments and / or aspects of the invention are disclosed below. In the following description, for purposes of explanation, numerous specific details are set forth in order to provide a thorough understanding of one or more aspects. However, it will also be appreciated by one of ordinary skill in the art that this aspect (s) may be practiced without these specific details. The following description and the annexed drawings set forth in detail certain illustrative aspects of the one or more aspects. However, these aspects are exemplary and some of the various methods in the principles of the various aspects may be used and the descriptions described are intended to include all such aspects and their equivalents.

본 명세서에서 사용되는 "실시예", "예", "양상", "예시" 등은 기술되는 임의의 양상 또는 설계가 다른 양상 또는 설계들보다 양호하다거나, 이점이 있는 것으로 해석되지 않을 수도 있다. As used herein, “an embodiment”, “an example”, “aspect”, “an example”, etc., may not be construed as having any aspect or design described being better or advantageous than other aspects or designs. .

더불어, 용어 "또는"은 배타적 "또는"이 아니라 내포적 "또는"을 의미하는 것으로 의도된다. 즉, 달리 특정되지 않거나 문맥상 명확하지 않은 경우에, "X는 A 또는 B를 이용한다"는 자연적인 내포적 치환 중 하나를 의미하는 것으로 의도된다. 즉, X가 A를 이용하거나; X가 B를 이용하거나; 또는 X가 A 및 B 모두를 이용하는 경우, "X는A 또는 B를 이용한다"가 이들 경우들 어느 것으로도 적용될 수 있다. 또한, 본 명세서에 사용된 "및/또는"이라는 용어는 열거된 관련 아이템들 중 하나 이상의 아이템의 가능한 모든 조합을 지칭하고 포함하는 것으로 이해되어야 한다. In addition, the term “or” is intended to mean an inclusive “or” rather than an exclusive “or”. In other words, unless specified otherwise or unambiguously in context, "X uses A or B" is intended to mean one of the natural implicit substitutions. That is, X uses A; X uses B; Or where X uses both A and B, "X uses A or B" may apply to either of these cases. Also, it is to be understood that the term "and / or" as used herein refers to and includes all possible combinations of one or more of the related items listed.

또한, "포함한다" 및/또는 "포함하는"이라는 용어는, 해당 특징 및/또는 구성요소가 존재함을 의미하지만, 하나이상의 다른 특징, 구성요소 및/또는 이들의 그룹의 존재 또는 추가를 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In addition, the terms "comprises" and / or "comprising" mean that such features and / or components are present, but exclude the presence or addition of one or more other features, components, and / or groups thereof. It should be understood that it does not.

또한, 본 명세서에서 명백하게 다른 내용을 지시하지 않는 “한”과, “상기”와 같은 단수 표현들은 복수 표현들을 포함한다는 것이 이해될 수 있을 것이다. 따라서, 일 예로, “컴포넌트 표면(component surface)”은 하나 혹은 그 이상의 컴포넌트 표면들을 포함한다.In addition, it is to be understood that the singular forms “a” and “an”, including “an”, unless the context clearly indicates otherwise, include plural expressions. Thus, as an example, a “component surface” includes one or more component surfaces.

또한, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.In addition, terms including ordinal numbers such as first and second may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component. The term and / or includes a combination of a plurality of related items or any item of a plurality of related items.

또한, 본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In addition, the terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. As used herein, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described on the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

또한, 본 발명의 실시예들에서, 별도로 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명의 실시예에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.In addition, in the embodiments of the present invention, unless otherwise defined, all terms used herein including technical or scientific terms are generally understood by those skilled in the art to which the present invention belongs. Has the same meaning as Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be interpreted as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art, and ideally or excessively formal meanings, unless explicitly defined in the embodiments of the present invention. Not interpreted as

본 발명은 나일론 필름층; 대전방지 코팅층; UV 몰딩층; 및 불소 이형 코팅층이 이 순서로 적층된 EMC 패키징용 이형필름에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따른 EMC 패키징용 이형필름은 나일론 필름층; 상기 나일론 필름층 위에 적층된 대전방지 코팅층; 상기 대전방지 코팅층 위에 적층된 UV 몰딩층; 및 상기 UV 몰딩층 위에 적층된 불소 이형 코팅층을 포함하는 EMC 패키징용 이형필름이다.The present invention is a nylon film layer; Antistatic coating layer; UV molding layer; And a release film for EMC packaging in which a fluorine release coating layer is laminated in this order. Specifically, the release film for EMC packaging according to an embodiment of the present invention is a nylon film layer; An antistatic coating layer laminated on the nylon film layer; A UV molding layer laminated on the antistatic coating layer; And a release film for EMC packaging including a fluorine release coating layer laminated on the UV molding layer.

본 발명은 내열성 및 연신율이 높은 나일론을 이형필름의 기재로 이용하면서 동시에 나일론의 단점에 해당하는 코팅작업의 어려움 및 정전기 발생문제를 해결하기 위해서, 상기 대전방지 코팅층, UV 몰딩층, 불소 이형 코팅층을 적층하여 나일론의 장점을 극대화하고 이의 단점을 보완하여 결과적으로 높은 성능의 EMC 패키징용 이형필름을 도출하였다.The present invention is to use the anti-static coating layer, UV molding layer, fluorine releasing coating layer in order to solve the difficulty of the coating work and the static electricity generation problem while using the high heat resistance and high elongation of nylon as the base material of the release film at the same time. Lamination maximizes the advantages of nylon and complements its disadvantages, resulting in a high-performance release film for EMC packaging.

구체적으로, 후술하는 구성에 따른 본 발명의 EMC 패키징용 이형필름은 108Ω/□ 이하의 낮은 표면저항, 낮은 표면에너지, 45㎛ 이하의 낮은 필름 두께, 우수한 내열성, 및 우수한 표면조도를 나타내므로 EMC 패키징에 매우 유용하게 사용될 수 있다. 이와 같은 특성을 갖는 본 발명에 따른 EMC 패키징용 이형필름은 기본적으로 EMC 몰딩 공정시 몰드 금형의 오염을 보호할 수 있고, EMC 미경화물의 금형 접촉을 방지할 수 있고, 낮은 표면저항을 가짐으로써 정전기에 취약한 칩의 성능을 보호하고, 낮은 표면에너지를 가짐으로써, 이형작업이 원할하게 수행될 수 있고, 낮은 필름 두께를 가짐으로써, EMC 몰딩 공정에서 파손되지 않고 몰드 형상을 구현할 수 있는 열점 포밍성을 구현할 수 있다.Specifically, the release film for EMC packaging of the present invention according to the configuration described below exhibits a low surface resistance of 10 8 Ω / □ or less, low surface energy, low film thickness of 45 ㎛ or less, excellent heat resistance, and excellent surface roughness It can be very useful for EMC packaging. The release film for EMC packaging according to the present invention having such characteristics can basically protect the mold mold from contamination during the EMC molding process, prevent the mold contact of the EMC uncured products, and have a low surface resistance to prevent static electricity. By protecting the performance of the chip vulnerable and having a low surface energy, the release operation can be performed smoothly, and with a low film thickness, the hot spot forming property that can realize the mold shape without damage in the EMC molding process Can be implemented.

상기 EMC 패키징용 이형필름을 구성하는 층들의 사이에는 이 분야에서 공지된 다른 층들이 추가적으로 더 적층될 수도 있다.Other layers known in the art may be further stacked between the layers constituting the release film for EMC packaging.

본 발명의 다른 실시예에서는, 상기 EMC 패키징용 이형필름은, 상기 나일론 필름층 아래에 적층된 추가 UV 몰딩층;을 더 포함할 수도 있다.In another embodiment of the present invention, the release film for EMC packaging, may further include an additional UV molding layer laminated under the nylon film layer.

본 발명의 다른 실시예에서는, 상기 EMC 패키징용 이형필름은, 상기 나일론 필름층 및 상기 추가 UV 몰딩층 사이에 배치되는 추가 대전방지 코팅층을 더 포함할 수도 있다.In another embodiment of the present invention, the release film for EMC packaging, may further comprise an additional antistatic coating layer disposed between the nylon film layer and the additional UV molding layer.

본 발명의 다른 실시예에서는, 상기 EMC 패키징용 이형필름은, 상기 추가 UV 몰딩층 아래에 적층된 추가 불소 이형 코팅층을 더 포함할 수도 있다.In another embodiment of the present invention, the release film for EMC packaging may further include an additional fluorine release coating layer laminated under the additional UV molding layer.

상기 추가 UV 몰딩층, 상기 추가 대전방지 코팅층, 및 상기 추가 불소 이형 코팅층은 후술하는 UV 몰딩층, 대전방지 코팅층, 및 불소 이형 코팅층과 실질적으로 동일한 성분을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the additional UV molding layer, the additional antistatic coating layer, and the additional fluorine release coating layer have substantially the same components as the UV molding layer, the antistatic coating layer, and the fluorine release coating layer described later.

본 발명의 다른 실시예에서는, 상기 EMC 패키징용 이형필름은, 상기 나일론 필름층 및 상기 추가 UV 몰딩층 사이에 배치되는 추가 대전방지 코팅층 대신 나일론 필름층과 UV 몰딩층의 부착력을 강화시키는 중간층을 더 포함할 수도 있다. 상기 중간층은 상기 나일론층 표면에 코팅되어 충분한 정도의 부착력을 보이고, 추가 코팅되는 UV 몰딩층과의 부착력도 확보되지만 대전방지 성능을 부여하는 부가적인 성분이 없는 코팅층에 해당하고, 성분은 후술하는 상기 대전방지 코팅층에서 대전방지 성분에 해당하는 유기 분산 PEDOT:PSS이 제외된 성분과 동일하다. 일 실시예에서는, 상기 중간층은 UV 경화형 아크릴레이트계 바인더, 케톤계 용제, 광중합개시로 형성되고, 더욱 바람직하게는, UV 경화형 아크릴레이트계 바인더 1~10 중량부, 케톤계 용제 20~90 중량부, 광중합개시제 4~8 중량부를 포함할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the release film for EMC packaging, the intermediate layer to enhance the adhesion between the nylon film layer and the UV molding layer instead of the additional antistatic coating layer disposed between the nylon film layer and the additional UV molding layer. It may also include. The intermediate layer is coated on the surface of the nylon layer to show a sufficient degree of adhesion, and the adhesion to the UV molding layer to be further coated, but also corresponds to a coating layer without additional components imparting antistatic performance, the components described above The organic dispersion PEDOT: PSS corresponding to the antistatic component in the antistatic coating layer is the same as the excluded component. In one embodiment, the intermediate layer is formed by UV curing acrylate binder, ketone solvent, photopolymerization initiation, more preferably, 1 to 10 parts by weight of UV curable acrylate binder, 20 to 90 parts by weight of ketone solvent It may include 4 to 8 parts by weight of the photopolymerization initiator.

이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 EMC 패키징용 이형필름을 구성하는 층을 차례대로 서술하기로 한다.Hereinafter, the layers constituting the release film for EMC packaging according to an embodiment of the present invention will be described in order.

1. 나일론 1.nylon 필름층Film layer

상기 나일론 필름층을 형성하는 나일론 필름은 내열성 및 연신율이 우수하나 코팅이 어려우며 정전기가 심하다는 단점을 갖는다. 그러므로, 본 발명은 상기 장점을 살리고, 단점을 극복하기 위하여 상기와 같은 특별한 층구성을 채용하고 있다. 즉, 코팅성 및 정전기 문제를 다른층 구성들을 조합하는 것에 의해 해결한다.The nylon film forming the nylon film layer is excellent in heat resistance and elongation, but has a disadvantage in that coating is difficult and static electricity is severe. Therefore, the present invention employs the above-described special layer structure in order to take advantage of the above advantages and overcome the disadvantages. That is, the coating and electrostatic problems are solved by combining different layer configurations.

상기 나일론 필름층은 일면 또는 양면에 코로나 처리가 된 나일론 필름을 사용하여 형성되는 것이 바람직하다. The nylon film layer is preferably formed using a nylon film that has been corona treated on one or both sides.

상기 나일론 필름층은 나일론 6, 나일론 66, 나일론 46, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 6/66의 공중합체, 나일론 6/66/610 공중합체, 나일론 MXD6, 나일론 6T, 나일론 6/6T 공중합체, 나일론 66/PP 공중합체, 나일론66/PPS 공중합체, 6-나일론의 메톡시메틸화물, 6-610-나일론의 메톡시메틸화물 및 612-나일론의 메톡시메틸화물 중에서 선택되는 나일론 필름으로 형성될 수 있다. 나일론 필름의 두께는 5um ~ 100um 까지 사용 될 수 있다.The nylon film layer is nylon 6, nylon 66, nylon 46, nylon 11, nylon 12, nylon 610, nylon 612, nylon 6/66 copolymer, nylon 6/66/610 copolymer, nylon MXD6, nylon 6T, nylon Choose from 6 / 6T copolymer, nylon 66 / PP copolymer, nylon 66 / PPS copolymer, methoxymethylate of 6-nylon, methoxymethylate of 6-610-nylon and methoxymethylate of 612-nylon Can be formed into a nylon film. Nylon film thickness can be used from 5um to 100um.

또한, 상기 나일론 필름층은 일측에만 대전방지 코팅층이 적층되어 있어도 충분한 충분한 대전방지 특성을 가질 수 있기 때문에, 제조과정에 있어서도 이점을 가질 수 있다.In addition, the nylon film layer may have sufficient antistatic properties even if the antistatic coating layer is laminated on only one side, it may have an advantage in the manufacturing process.

2. 대전방지 코팅층 2. Antistatic Coating Layer

대전방지 코팅층은 상기 나일론 필름층 위에 적층되어 있다.An antistatic coating layer is laminated on the nylon film layer.

바람직하게는, 상기 대전방지 코팅층은 UV 경화형 아크릴레이트계 바인더 1~4 중량부, 케톤계 용제 20~80 중량부, 광중합개시제 4~8 중량부, 및 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 10~40 중량부를 포함하는 대전방지 코팅 조성물로 형성될 수 있다. 바람직하게는, 상기 케톤계 용제는 60-80 중량부이고, 유기 분산 PEDOT:PSS 은 알코올 용매류이고, 26 ~ 40 중량부를 포함한다.Preferably, the antistatic coating layer is 1 to 4 parts by weight of a UV curable acrylate binder, 20 to 80 parts by weight of a ketone solvent, 4 to 8 parts by weight of a photoinitiator, and alcohols, amides, or mixed solvents thereof. The organic dispersion PEDOT: PSS may be formed of an antistatic coating composition containing 10 to 40 parts by weight. Preferably, the ketone solvent is 60-80 parts by weight, the organic dispersion PEDOT: PSS is an alcohol solvent, and contains 26 to 40 parts by weight.

또한, 상기 대전방지 코팅 조성물에는 실록산계 첨가제 0.01~3 중량부가 더 포함될 수 있다. 이와 같은 실록산계 첨가제는 나일론 코팅 시의 웨팅성(WETTING)을 부여할 수 있다. 바람직하게는, 상기 대전방지 코팅층은 1~3 중량부 실록산계 첨가제를 더 포함할 수 있다.In addition, the antistatic coating composition may further comprise 0.01 to 3 parts by weight of the siloxane additive. Such siloxane additives can impart wettability (WETTING) during nylon coating. Preferably, the antistatic coating layer may further comprise 1 to 3 parts by weight of the siloxane additive.

상기에서 케톤계 용제는 바인더 희석용 용제이며, 알코올류 유기 분산 PEDOT:PSS는 알코올에 PEDOT:PSS가 분산된 형태를 의미한다. 상기 알코올과 PEDOT:PSS는 20~30:1의 중량비로 혼합되는 것이 바람직하다. 혹은 알코올이 아닌 다른 용매에 PEDOT:PSS 가 분산된 형태일 수도 있다.The ketone solvent is a solvent for diluting the binder, and the alcohol organic dispersion PEDOT: PSS means a form in which PEDOT: PSS is dispersed in alcohol. The alcohol and PEDOT: PSS are preferably mixed in a weight ratio of 20 to 30: 1. Alternatively, PEDOT: PSS may be dispersed in a solvent other than alcohol.

상기 알코올로는 탄소수 1-5의 알코올이 사용될 수 있고, 바람직하게는 에탄올이 사용될 수 있다.As the alcohol, alcohols having 1 to 5 carbon atoms may be used, and preferably ethanol may be used.

상기 대전방지 코팅 조성물은 필름에서 요구하는 대전특성을 부여하기 위한 전도성 고분자 PEDOT:PSS를 유기 용매에 분산시킨 Dispersion을 이용하여 제조될 수 있다. The antistatic coating composition may be prepared using Dispersion in which a conductive polymer PEDOT: PSS is dispersed in an organic solvent to impart the required charging characteristics in the film.

상기 UV 경화형 아크릴레이트계 바인더는 나일론 필름과 접착성이 좋으며 UV Molding층과의 밀착력을 높여주므로 바람직하게 사용된다. 또한, 이후 공정에서 UV 아크릴레이트 수지가 사용되므로 UV 몰딩층과의 밀착력을 좋게 하기 위하여 사용되기도 한다. The UV curable acrylate-based binder is preferably used because it has good adhesion with the nylon film and improves adhesion to the UV Molding layer. In addition, since the UV acrylate resin is used in the subsequent process, it may be used to improve adhesion to the UV molding layer.

상기 UV 경화형 아크릴레이트계 바인더로는 이 분야에서 사용되는 것이 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들어_미원스페셜티케미칼 사 의 PU620 (Aliphatic urethane hexaacrylate ) 가 사용될 수 있다.The UV curable acrylate-based binder may be used without limitation in this field, for example, PU620 (Aliphatic urethane hexaacrylate) manufactured by Miwon Specialty Chemical Co., may be used.

상기 대전방지 코팅 조성물에 의한 코팅층의 형성은 반도체 패키징에 적용하는 필름으로 30~50㎛ 두께의 단면 또는 양면에 코로나 처리가 되어있는 나이론 필름을 베이스 필름으로 사용하여 진행한다. 상기 코팅은 WET coating 공정인 Gravure 코팅, Slot DIE 코팅 등에 의하여 수행될 수 있다. Formation of the coating layer by the antistatic coating composition is a film applied to the semiconductor packaging proceeds by using a nylon film having a corona treatment on one or both sides of 30 ~ 50㎛ thickness as a base film. The coating may be performed by Gravure coating, Slot DIE coating, etc., which is a WET coating process.

상기 대전방지 코팅 조성물은 대전방지 성능이 10^4.5 ~ 10^ 5.5을 유지한다. 표면저항이 위 범위보다 높아질 때 UV 몰딩층 작업시 원하는 대전성을 얻기 어렵다.The antistatic coating composition maintains an antistatic performance of 10 ^ 4.5 ~ 10 ^ 5.5 . When the surface resistance is higher than the above range, it is difficult to obtain the desired chargeability when working the UV molding layer.

2-1. 알코올류, 2-1. Alcohol, 아마이드류Amides , 또는 그 Or 혼합용매류Mixed Solvents 유기 분산  Organic dispersion PEDOT:PSSPEDOT: PSS

전술한 바와 같이, 대전방지 코팅 조성물은 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기분산 PEDOT:PSS를 포함한다. 바람직하게는, 대전방지 코팅 조성물은 알코올류 유기분산 PEDOT:PSS를 포함하고, 이하에서는 알코올류 유기 분산 PEDOT:PSS의 제조과정 및 구체적인 구성성분에 대하여 설명하도록 한다. 알코올류 유기 분산 PEDOT:PSS은 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS) 분산액로 지칭될 수도 있다. 본 발명의 다른 실시예에서는 알코올류가 아닌 다른 류의 유기 분산 PEDOT:PSS 가 사용될 수도 있다.As described above, the antistatic coating composition includes alcohols, amides, or mixed solvents organic dispersion PEDOT: PSS. Preferably, the antistatic coating composition includes an alcohol-based organic dispersion PEDOT: PSS, hereinafter will be described with respect to the manufacturing process and specific components of the alcohol-based organic dispersion PEDOT: PSS. Alcohol organic dispersion PEDOT: PSS may also be referred to as a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) dispersion. In other embodiments of the present invention, organic dispersed PEDOT: PSS other than alcohols may be used.

전도성 고분자인 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)는 먼저, 분산액으로 만든 다음 다른 구성성분들과 혼합하는 것이 바람직할 수도 있다. 즉, 대전방지 코팅층의 다른 조성물과 섞이기 전에, 상기 PEDOT/PSS 분산액이 제조되고, 이후 분산액 상태로 상기 대전방지 코팅층의 다른 조성물과 섞이게 됨이 바람직하다.The conductive polymer, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS), may first be made into a dispersion and then mixed with other components. That is, it is preferable that the PEDOT / PSS dispersion is prepared before mixing with other compositions of the antistatic coating layer, and then mixed with other compositions of the antistatic coating layer in a dispersion state.

이 때, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)를 유기용매에 분산시킬 수 있으며, 바람직하게는, 분산보조제를 더 첨가하여 분산시키는 것도 가능하다. At this time, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) can be dispersed in an organic solvent, and preferably, a dispersion aid can be further added to disperse.

본 발명의 일 실시예에 따른 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS) 분산액의 제조방법은, 유기용매, 및 분산보조제를 혼합하여 혼합용매를 제조하는 제1 혼합단계 및 상기 혼합용매에 고체분말 형태의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)를 혼합하는 제2 혼합단계를 포함할 수 있다.In the method for preparing a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) dispersion liquid according to an embodiment of the present invention, the organic solvent and the dispersion aid are mixed to prepare a mixed solvent. And a second mixing step of mixing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) in the form of a solid powder in the mixed solvent.

상기 유기용매로는 위에서 상술한 유기용매 중에 선택되는 용매가 사용될 수 있다. As the organic solvent, a solvent selected from the above-described organic solvents may be used.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산액은, 상기 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산액 총 중량에 대하여 0.1~3% 중량의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS), 상기 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산액 총 중량에 대하여 0.05~4% 중량의 분산을 보조하기 위한 제1 분산보조제, 상기 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산액 총 중량에 대하여 0.1~10% 중량의 전도도를 개선하기 위한 제2 분산보조제, 및 85~95% 의 분산액 유기용매를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) dispersion is poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT) 0.1-3% by weight of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS), the poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid Total dispersion of the poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS), the first dispersion aid to assist the dispersion of 0.05 to 4% by weight relative to the total weight of the dispersion of (PEDOT / PSS) A second dispersion aid for improving the conductivity of 0.1 to 10% by weight, and 85 to 95% of the dispersion organic solvent.

바람직하게는, 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS) 분산액의 제조방법은, 상기 제2 혼합단계 이후에, 상기 혼합용매 및 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 혼합액을 고전단믹서에 의한 전단력에 의한 분산 및 혼합을 수행하여 제2 혼합액을 제조하는 고전단믹서단계를 더 포함할 수 있다Preferably, the method for preparing a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) dispersion according to an embodiment of the present invention, after the second mixing step, the mixed solvent and poly It may further comprise a high shear mixer step of preparing a second mixture by dispersing and mixing the mixture of (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) by a shear force by a high shear mixer. have

고전단믹서의 일예로서 높은 회전력 등을 이용하여 높은 전단력을 발생시켜 2 이상의 회전자 및 고정자로 구성되는 장치가 될 수 있다. 이와 같은 고전단믹서는 공동화 현상을 이용하여 상기 혼합액을 보다 보다 균질하게 하여 제2 혼합액으로 제조할 수 있다. 바람직하게는, 혼합액에 대하여 상기 고전단믹서는 약 6,000rpm 이상의 회전속도로 1시간 이상 분산 및 혼합을 수행한다. 이때 혼합액의 온도가 10℃를 유지하도록 냉각을 추가적으로 수행한다.As an example of the high shear mixer, a high shear force may be generated using a high rotational force or the like, thereby forming a device including two or more rotors and stators. Such a high shear mixer can be made into a second mixture by making the mixture more homogeneous by using a cavitation phenomenon. Preferably, the high shear mixer is dispersed and mixed for 1 hour or more at a rotational speed of about 6,000 rpm or more with respect to the mixed liquid. At this time, cooling is further performed to maintain the temperature of the mixed solution at 10 ° C.

더욱 바람직하게는, 상기 고전단믹서단계 이후에, 상기 제2 혼합액을 비드밀에 추가적인 분산을 수행하는 비드밀단계;를 더 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 비드밀은 나노 분산이 가능한 비드밀의 형태이다. 이와 같은 비드밀단계에 의하여 상기 제2 혼합액은 비드에 의하여 보다 균질해지고 분산성이 개선될 수 있다.More preferably, after the high shear mixer step, the bead mill step of performing additional dispersion of the second mixed solution to the bead mill; may further include. Preferably the bead mill is in the form of a bead mill capable of nano dispersion. By the bead mill step, the second mixed liquid may be more homogeneous and improved in dispersibility by the beads.

상기 비드밀의 일예로서 습식 분산 및 습식 분쇄에 있어서 효율적인 비드, 예를들어 지르코니아 함유비드를 이용하여 대상분체에 대해 충격력을 가함으로써 분쇄 및 분산을 가하고, 따라서 이와 같은 비드밀단계에 의하여 상기 제2 혼합액은 비드에 의하여 보다 균질해지고 분산성이 개선될 수 있다.As an example of the bead mill, pulverization and dispersion are applied by applying an impact force to the target powder by using beads that are efficient in wet dispersion and wet grinding, for example, zirconia-containing beads, and thus, the second mixed liquid by the bead mill step. Silver can be more homogeneous and improved dispersibility by the beads.

또한, 상기 비드는 그 입경이 50㎛ 내지 300㎛임이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 80㎛~120㎛ 범위의 입경을 가지는 비드를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 비드밀의 회전체 회전 속도는 주파수 30 내지 60Hz정도의 범위에서 사용되는 것이 바람직하다. 이렇게 제조된 분산액은 10℃ 이하의 냉장 보관 장치에서 보관되어야 한다. 실온 20℃ 이상의 온도에서 장기간 보관 될 경우 PEDOT/PSS의 분산체가 응집현상을 보여, 전도성이 급격히 저하될 수 있다.In addition, the beads preferably have a particle diameter of 50 μm to 300 μm, more preferably, beads having a particle size in the range of 80 μm to 120 μm. The rotating speed of the rotating body of the bead mill is preferably used in the range of about 30 to 60Hz frequency. The dispersion thus prepared should be stored in a cold storage device at or below 10 ° C. If stored for a long time at room temperature 20 ℃ or more, the dispersion of PEDOT / PSS shows a cohesive phenomenon, the conductivity may be sharply reduced.

상기 분산보조제는 상기 고체분말 형태의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산을 보조하기 위한 제1 분산보조제; 및 상기 분산액이 코팅되는 경우 전도도를 향상시키기 위한 제2 분산보조제를 포함하는 것이 바람직하다.The dispersion aid comprises a first dispersion aid to assist in the dispersion of the poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) in the form of a solid powder; And it is preferable to include a second dispersion aid for improving the conductivity when the dispersion is coated.

여기서, 상기 제1 분산보조제는 아민류(Amine류), 아크릴레이트류(Acrylate류), 및 폴리올류(Polyol류) 중 1 이상을 포함하고, 상기 제2 분산보조제는 디에틸렌글리콜(Diethylene glycol), 프로필렌글리콜(propylene glycol), 테트라메틸렌글리콜(tetramethylene glycol), 소르비톨(sorbitol), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide), 에틸렌글리콜(ethylene glycol), N,N-디메틸아세트아미드(N,N-dimethylacetamide), 아세톤니트릴(acetonitrile), 디메틸술폭시드(dimethylsulfoxide), 글리세롤(glycerol), 에틸렌시안화물(ethylene cyanide), 포름산(formic acid), 프로필렌카보네이트(propylene carbonate), 에틸렌카보네이트(ethylene carbonate), 2,6-디플루오르피리딘(2,6-difluoropyridine), 포름아미드(formamide), 및 N-메틸포름아미드(N-methylformamide) 중 1 이상을 포함함이 바람직하다.Here, the first dispersion aid comprises at least one of amines (Amine), acrylates (Acrylate), and polyols (Polyols), the second dispersion aid is diethylene glycol (Diethylene glycol), Propylene glycol, tetramethylene glycol, sorbitol, N, N-dimethylformamide, ethylene glycol, N, N-dimethylacetamide ( N, N-dimethylacetamide, acetonitrile, dimethylsulfoxide, glycerol, ethylene cyanide, formic acid, propylene carbonate, ethylene ethylene carbonate), 2,6-difluoropyridine, formamide, and N-methylformamide.

상기 제1 분산보조제는 조성물 총 중량에 대하여 0.05 내지 4.0 중량%로 포함될 수 있으며, 상기 제2 분산보조제는 1 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.The first dispersion aid may be included in 0.05 to 4.0% by weight based on the total weight of the composition, the second dispersion aid may be included in 1 to 10% by weight.

바람직하게는, 상기 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산액에서의 유기용매는 PGME 이고, 상기 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)의 분산액의 용매는 N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylform amide(DMF))이다. 이와 같은 용매의 조합에서는 보다 조성물의 전도도를 높일 수 있으면서 동시에, 입자들이 고르게 분산되어 침전되지 않는 효과를 발휘할 수 있다.Preferably, the organic solvent in the dispersion of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) is PGME, and the poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid ( The solvent of the dispersion of PEDOT / PSS) is N, N-dimethylformamide (DMF). In such a combination of solvents, the conductivity of the composition can be further increased, and at the same time, the particles can be uniformly dispersed and have an effect of not being precipitated.

3. UV 3. UV 몰딩층Molding layer

상기 UV 몰딩층은 실리콘 아크릴레이트 42~60 중량부, 고점도 올리고머 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(PETA) 18~35 중량부, 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(HDDA) 8~20 중량부, 단관능 아크릴레이트 모노머(HEMA) 3~10 중량부, 분산제 10~25 중량부, 광중합개시제 3~7 중량부, 및 실록산 첨가제 1~7 중량부를 포함하는 몰딩층 형성용 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.The UV molding layer is 42 to 60 parts by weight of silicone acrylate, 18 to 35 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETA) for diluting high viscosity oligomer, 8 to 20 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (HDDA) for dilution, monofunctional It is preferably formed from a composition for forming a molding layer comprising 3 to 10 parts by weight of an acrylate monomer (HEMA), 10 to 25 parts by weight of a dispersant, 3 to 7 parts by weight of a photopolymerization initiator, and 1 to 7 parts by weight of a siloxane additive.

상기 UV 몰딩층은 엠보처리가 수행되는 것이 바람직하며, 따라서 “엠보층”이라 불리기도 한다.The UV molding layer is preferably embossed, and is therefore also referred to as an "emboss layer".

상기 실리콘 아크릴레이트는 내열특성을 향상시키는 올리고머이며, 이 분야에 공지된 것이 사용될 수 있으며, 예를 들어, 미원 스페셜티 케미칼사의 SIU-2400 ( Multifunctional Silicone Acrylate ) 등이 사용될 수 있다.The silicone acrylate is an oligomer for improving heat resistance, and those known in the art may be used. For example, SIU-2400 (Multifunctional Silicone Acrylate) manufactured by Miwon Specialty Chemical may be used.

상기 분산제로는 DMAA(N, N-dimethyl acrylamide)가 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 성분은 몰딩층의 대전특성 부여에 도움을 줄 수 있다.DMAA (N, N-dimethyl acrylamide) may be preferably used as the dispersant. The component may help to impart charging characteristics of the molding layer.

상기 단 관능 아크릴레이트 모노머(HEMA)는 PEDOT:PSS 대전성 발현에 도움을 준다.The monofunctional acrylate monomer (HEMA) aids in the expression of PEDOT: PSS chargeability.

상기 실록산계 첨가제는 이형코팅층과의 Wetting성을 좋게 하는 기능을 수행하며, 이 분야에 공지된 성분이 제한 없이 사용될 수 있다. The siloxane additive performs a function of improving the wetting property with the release coating layer, and components known in the art may be used without limitation.

반도체 패키징 시 EMC가 용융되는 온도가 160~170℃이고, 120sec 정도에서 공정이 이루어지기 때문에, EMC가 맞 닫는 UV 몰딩층의 유리전이온도(Tg) 가 상당히 중요하다. Since the temperature at which EMC is melted during the semiconductor packaging is 160-170 ° C and the process is performed at about 120 sec, the glass transition temperature (Tg) of the UV molding layer that EMC closes is very important.

따라서, 몰딩층 형성용 조성물에는 알리파틱 우레탄 아크릴레이트 올리고머(Aliphatic urethane acrylate oligomer), 아로마틱 우레탄 아크릴레이트 올리고머 등과 비교하여 고온에서 잘 견딜 수 있는 실리콘 아크릴레이트 올리고머가 바람직하게 사용될 수 있다. 구체적으로, 실리콘 아크릴레이트 올리고머는 점도가 높아 작업이 어렵기 때문에 희석용 모노머인 PETA(peta pentaerythritol triacrylate), HDDA(Hexanediol diacrylate), HEMA(2-Hydroxyethyl methacrylate), DMAA를 이용하여 가교도를 높이고, 작업성이 유리하게 점도를 낮추도록 구성한다. Therefore, a silicone acrylate oligomer that can withstand high temperatures at high temperatures may be preferably used in the composition for forming a molding layer, as compared to an aliphatic urethane acrylate oligomer, an aromatic urethane acrylate oligomer, and the like. Specifically, since the silicone acrylate oligomer is difficult to work due to its high viscosity, the degree of crosslinking is increased by using diluent monomers PETA (peta pentaerythritol triacrylate), HDDA (Hexanediol diacrylate), HEMA (2-Hydroxyethyl methacrylate), and DMAA. The sex is advantageously configured to lower the viscosity.

대전방지 특성을 구현하기 위해서 대전방지 코팅층만으로는 어려움이 발생하기 때문에 N, N-디메틸아크릴아마이드에 PEDOT: PSS 를 분산하여 원료 합성에 사용한다. In order to realize the antistatic property, since only the antistatic coating layer generates difficulty, PEDOT: PSS is dispersed in N, N-dimethylacrylamide and used for raw material synthesis.

실록산 첨가제는 후 공정에서 불소 이형 코팅층 형성용 조성물의 코팅을 좋게 하기 위하여 사용된다. The siloxane additive is used to improve the coating of the composition for forming a fluorine release coating layer in a later step.

4. 불소 이형 코팅층4. Fluorine release coating layer

상기 불소 이형 코팅층은 퍼플루오로계 폴리머 1~2 중량부 및 플루오로계 용매 98~99 중량부를 포함하는 불소 이형 코팅층 형성용 조성물로 형성되는 것이 바람직하다. The fluorine release coating layer is preferably formed of a composition for forming a fluorine release coating layer containing 1-2 parts by weight of perfluoro-based polymer and 98-99 parts by weight of a fluoro solvent.

상기 불소 이형 코팅층 형성용 조성물은 엠보(embo) 처리가 된 UV 몰딩층에 Wet Coating 방식인 Gravure, SLOT DIE, Spray 방식 등에 의해 도포되며, spray 방식으로 진행하는 것이 바람직하다. The composition for forming a fluorine release coating layer is applied to the UV molding layer subjected to the embo treatment by Gravure, SLOT DIE, Spray method, etc., which is a wet coating method.

상기 이형 코팅층은 용융되어 나오는 Epoxy molding compound와의 이형성을 좋게 해주는 역할을 하는 것을 목적으로 하기 때문에 엠보처리가 되어 있는 UV 몰딩층 표면에 0.1~0.5㎛ 정도의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 상기와 같이 Spray 방식으로 도포하는 경우, 고온 건조가 필요로 하진 않고, 상온(25℃)에서 수분 내에 건조할 수 있으므로 바람직하다.The release coating layer is preferably formed to a thickness of about 0.1 ~ 0.5㎛ on the surface of the UV molding layer is embossed for the purpose of improving the releasability with the molten epoxy molding compound. In the case of coating by the spray method as described above, high temperature drying is not required, and it is preferable because it can be dried within minutes at room temperature (25 ° C).

본 발명에서 사용되는 광중합개시제는 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는 것이 바람직하게 사용될 수 있다.The photopolymerization initiator used in the present invention can be used without particular limitation. In particular, the group consisting of acetophenone-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, biimidazole-based compounds, oxime compounds, and thioxanthone-based compounds in terms of polymerization properties, starting efficiency, absorption wavelength, availability, and price. It may be preferably used to include one or more compounds selected from.

본 발명의 EMC 패키징용 이형필름의 각 층을 구성하는 성분들 중 본 발명에서 특별히 한정하여 기재하지 않은 경우에는 이 분야에 공지된 성분들이 제한 없이 사용될 수 있다. If the components constituting each layer of the release film for EMC packaging of the present invention is not specifically described in the present invention, components known in the art may be used without limitation.

이하, 본 발명의 실시예를 예시한다.  하기의 실시예는 본 발명의 이해를 돕도록 하기 위해 예시적으로 제공되는 것일 뿐, 이에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the Example of this invention is illustrated. The following examples are provided by way of example only to assist in understanding the present invention, whereby the technical scope of the present invention is not limited.

제조예 1: 대전방지 코팅 조성물의 제조Preparation Example 1 Preparation of Antistatic Coating Composition

UV 경화형 아크릴레이트계 바인더 1~4 중량부, 케톤계 용제 60~80 중량부, 광중합개시제 4~8 중량부, 알코올류 유기 분산 PEDOT:PSS 26~40 중량부를 넣고, 자석교반기를 이용하여 바인더와 PEDOT:PSS가 잘 섞이도록 믹싱한 후, 2차로 Homogenizer를 이용하여 강제적으로 PEDOT를 분산시켜서 실시제조예의 대전방지 코팅 조성물을 제조하고, 제조된 조성물에 대한 물성을 평가하였다. 1 to 4 parts by weight of a UV curable acrylate binder, 60 to 80 parts by weight of a ketone solvent, 4 to 8 parts by weight of a photopolymerization initiator, and an alcohol-based organic dispersion PEDOT: 26 to 40 parts by weight of an alcohol, and a binder and a magnetic stirrer. After mixing PEDOT: PSS to mix well, the PEDOT was forcibly dispersed using a Homogenizer for the second time to prepare an antistatic coating composition of the preparation, and to evaluate the physical properties of the prepared composition.

비교제조예의 대전방지 코팅 조성물은 상기 실시제조예의 범위를 벗어난 조성으로 제조되었다. The antistatic coating composition of Comparative Preparation Example was prepared in a composition outside the range of Preparation Example.

구체적인 혼합 성분과 함량 및 제조된 대전방지 코팅 조성물의 물성 평가 결과는 하기 표 1에 나타내었다.Specific mixed components and contents and the results of evaluation of physical properties of the prepared antistatic coating composition are shown in Table 1 below.

실시제조예 1-1Example 1-1 실시제조예 1-2Preparation Example 1-2 비교제조예 1-1Comparative Production Example 1-1 비교제조예 1-2Comparative Production Example 1-2 비교제조예 1-3Comparative Production Example 1-3 PU620PU620 1One 33 55 77 88 2-Butanone2-Butanone 6565 6565 6565 6565 6565 igacure500igacure500 55 55 55 55 55 EtOHEtOH 2828 2626 2424 2222 2121 PEDOT:PSSPEDOT: PSS 1One 1One 1One 1One 1One 합계(중량%)Total (% by weight) 100100 100100 100100 100100 100100 경화성Curable goodgood goodgood goodgood goodgood goodgood Wetting성Wetting goodgood goodgood goodgood goodgood goodgood 부착성Adhesion goodgood goodgood BADBAD BADBAD BADBAD 대전특성Charging characteristics 10^4.5~5.5 10 ^ 4.5 ~ 5.5 10^5.8 10 ^ 5.8 10^6.2 10 ^ 6.2 10^10.3 10 ^ 10.3 10^11.8 10 ^ 11.8

제조예 2: UV 몰딩층 형성용 조성물의 제조Preparation Example 2 Preparation of UV Molding Layer Composition

실리콘 아크릴레이트 42~60 중량부, 고점도 올리고머 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(PETA) 18~35 중량부, 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(HDDA) 8~20 중량부, 단관능 아크릴레이트 모노머(HEMA) 3~10 중량부, 분산제 10~25 중량부 에 광중합개시제 3~7 중량부 및 실록산 첨가제 1~7 중량부를 넣고 overhead stirrer를 이용하여 3 시간 이상 교반하여 원재료들이 잘 섞이게 혼합하여 실시제조예의 UV 몰딩층 형성용 조성물을 제조하였다. Silicone acrylate 42 to 60 parts by weight, high viscosity oligomer dilution polyfunctional acrylate monomer (PETA) 18 to 35 parts by weight, dilution polyfunctional acrylate monomer (HDDA) 8 to 20 parts by weight, monofunctional acrylate monomer (HEMA ) 3 to 10 parts by weight, 10 to 25 parts by weight of dispersant, 3 to 7 parts by weight of the photopolymerization initiator and 1 to 7 parts by weight of the siloxane additive were added and stirred for at least 3 hours using an overhead stirrer to mix the raw materials well and mix the UV of the preparation example. A composition for forming a molding layer was prepared.

비교제조예의 UV 몰딩층 형성용 조성물은 상기 실시제조예의 범위를 벗어난 조성으로 제조되었다. The UV molding layer-forming composition of Comparative Preparation Example was prepared in a composition outside the range of Example Preparation Example.

구체적인 혼합 성분과 함량은 하기 표 2 및 3에 나타내었다.Specific mixed ingredients and contents are shown in Tables 2 and 3 below.

이렇게 교반한 재료를 이용하여 표면 조도 값이 1.6~2.0um이고, Rz 값이 6.5~10.5um인 패턴의 Hard roll을 이용하여 Roll to Roll 방식의 라인에서 평가를 진행 하였다. 1차 경화는 Black light Lamp를 이용하여 30~50mJ/㎠의 광을 조사하였고, 2차로는 고압 Hg 및 고압 Metal Lamp를 이용하여 300~400mJ/㎠의 광을 조사하여 경화를 진행 하였다. 이렇게 만들어진 필름의 특성을 평가하였다. 상기 평가는 UV 몰딩 형성용 조성물이 AS 코팅 처리가 된 Nylon 원단에 대하여 부착성이 좋은지, 표면 저항 특성이 좋은지를 측정 하고, 그 결과를 하기 표 2 및 3에 나타내었다.Using the agitated material, the surface roughness value was 1.6 ~ 2.0um and Rz value was 6.5 ~ 10.5um. The first curing was irradiated with light of 30 ~ 50mJ / ㎠ using a black light lamp, the second curing was carried out by irradiating with 300 ~ 400mJ / ㎠ light using high pressure Hg and high pressure metal lamp. The properties of the film thus produced were evaluated. The evaluation was performed to determine whether the UV molding composition is good adhesion to the nylon fabric subjected to the AS coating treatment, the surface resistance characteristics are good, and the results are shown in Tables 2 and 3.

비교
제조

2-1
compare
Produce
Yes
2-1
비교
제조

2-2
compare
Produce
Yes
2-2
비교
제조

2-3
compare
Produce
Yes
2-3
비교
제조

2-4
compare
Produce
Yes
2-4
비교
제조

2-5
compare
Produce
Yes
2-5
비교
제조

2-6
compare
Produce
Yes
2-6
ETFEETFE 100100 올리
고머
Olly
Gomer
Silicone Acrylate
Oligomer
Silicone acrylate
Oligomer
SIU-
2400
SIU-
2400
5050 3030 3535
Epoxy Acrylate
Oligomer
Epoxy Acrylate
Oligomer
SC6400SC6400 5050
Urethane acrylate
Oligomer
Urethane acrylate
Oligomer
MU9500MU9500 5050
모노머Monomer Multifunctional
Monomer(PETA)
Multifunctional
Monomer (PETA)
M340M340 2020 2020 2020 3030 3030
Multifunctional
Monomer(HDDA)
Multifunctional
Monomer (HDDA)
M200M200 1010 1010 1010 2020 1515
Monofunctional
Monomer(HEMA)
Monofunctional
Monomer (HEMA)
HEMAHEMA 55 55 55 55 55
N, N-dimethyl
acrylamide
N, N-dimethyl
acrylamide
DMAADMAA 2020 2020 2020 2020 2020
Disper
sion
Disper
sion
DMAA
dispersion
DMAA
dispersion
DMAADMAA
PEDOTPEDOT 광중합
개시제
Photopolymerization
Initiator
1-droxy-cyclohexyl-phenyl-
1-tone
1-droxy-cyclohexyl-phenyl-
1-tone
Igacure 184Igacure 184 55 55 55 55 55
2,4,6-TriMethylbenzoyl-
diphenyl-phosphineoxide
2,4,6-TriMethylbenzoyl-
diphenyl-phosphineoxide
Igacure TPOIgacure TPO
첨가제additive PolysiloxanePolysiloxane Rad2200NRad2200N 55 55 Nylon AS film과의
부착성
With Nylon AS film
Adhesion
N.G N.G GoodGood N.GN.G N.GN.G N.GN.G N.GN.G
표면저항Surface resistance 10^10.5 10 ^ 10.5 10^10.1 10 ^ 10.1 10^9.8 10 ^ 9.8 10^9.9 10 ^ 9.9 10^9.5 10 ^ 9.5 10^9.8 10 ^ 9.8 Good(◎) // ○ // △ // X ( Bad)Good (◎) // ○ // △ // X (Bad) 내열특성Heat resistance XX XX XX 이형
코팅성
Variant
Coating
BadBad BadBad BadBad GoodGood GoodGood

(단위: 중량부)(Unit: parts by weight)

비교
제조

2-6
compare
Produce
Yes
2-6
실시
제조

2-1
practice
Produce
Yes
2-1
실시
제조

2-2
practice
Produce
Yes
2-2
실시
제조

2-3
practice
Produce
Yes
2-3
실시
제조

2-4
practice
Produce
Yes
2-4
실시
제조

2-5
practice
Produce
Yes
2-5
ETFEETFE 올리
고머
Olly
Gomer
Silicone Acrylate
Oligomer
Silicone acrylate
Oligomer
SIU-
2400
SIU-
2400
4040 4545 5050 5050 5050 5050
Epoxy Acrylate
Oligomer
Epoxy Acrylate
Oligomer
SC6400SC6400
Urethane acrylate
Oligomer
Urethane acrylate
Oligomer
MU9500MU9500
모노머Monomer Multifunctional
Monomer(PETA)
Multifunctional
Monomer (PETA)
M340M340 3030 2525 2020 2020 2020 2020
Multifunctional
Monomer(HDDA)
Multifunctional
Monomer (HDDA)
M200M200 1010 1010 1010 1010 1010 1010
Monofunctional
Monomer(HEMA)
Monofunctional
Monomer (HEMA)
HEMAHEMA 55 55 55 55 55 55
N, N-dimethyl
acrylamide
N, N-dimethyl
acrylamide
DMAADMAA 2020 2020
Disper
sion
Disper
sion
DMAA
dispersion
DMAA
dispersion
DMAADMAA 1919 1919 1919 1919
PEDOTPEDOT 1One 1One 1One 1One 광중합
개시제
Photopolymerization
Initiator
1-droxy-cyclohexyl-phenyl-
1-tone
1-droxy-cyclohexyl-phenyl-
1-tone
Igacure 184Igacure 184 55 55 33 44 55 55
2,4,6-TriMethylbenzoyl-
diphenyl-phosphineoxide
2,4,6-TriMethylbenzoyl-
diphenyl-phosphineoxide
Igacure TPOIgacure TPO 22 1One 0.50.5
첨가제additive PolysiloxanePolysiloxane Rad2200NRad2200N 55 55 55 55 55 55 Nylon AS film과의
부착성
With Nylon AS film
Adhesion
GoodGood GoodGood GoodGood GoodGood GoodGood GoodGood
표면저항(Ω/□)Surface resistance (Ω / □) 10^10.2 10 ^ 10.2 10^10.1 10 ^ 10.1 10^11.5 10 ^ 11.5 10^10.8 10 ^ 10.8 10^9.5 10 ^ 9.5 10^8.5 10 ^ 8.5 Good(◎) // ○ // △ // X (Bad)Good (◎) // ○ // △ // X (Bad) 내열특성Heat resistance 이형
코팅성
Variant
Coating
GoodGood GoodGood GoodGood GoodGood GoodGood GoodGood

(단위: 중량부)(Unit: parts by weight)

제조예 3: 불소 이형 코팅층 형성용 조성물의 제조Preparation Example 3 Preparation of Composition for Forming Fluorine Release Coating Layer

퍼플루오로계 폴리머 1~2 중량부, 플루오로계 용매 98~99 중량부를 교반 chamber에 넣고 overhead stirrer로 29~31 시간(바람직하게는 30 시간) 교반시켜서 실시제조예의 불소 이형 코팅층 형성용 조성물을 제조하였다. 1 to 2 parts by weight of the perfluoro polymer and 98 to 99 parts by weight of the fluoro solvent were placed in a stirring chamber and stirred with an overhead stirrer for 29 to 31 hours (preferably 30 hours) to prepare a composition for forming a fluorine release coating layer according to the Preparation Example. Prepared.

비교제조예의 불소 이형 코팅층 형성용 조성물은 상기 실시제조예의 범위를 벗어난 조성으로 제조되었다. The composition for forming a fluorine release coating layer of Comparative Preparation Example was prepared in a composition outside the range of Example Preparation Example.

너무 오랜 시간을 교반 할 경우 용매의 증발이 일어나 고형분 함량이 변화하기 때문에 시간을 엄수하였다. 구체적인 혼합 성분과 함량은 하기 표 4에 나타내었다.If the stirring time is too long, evaporation of the solvent occurs, the solid content is changed, the time is strictly adhered to. Specific mixed ingredients and contents are shown in Table 4 below.

상기와 같이 제조된 불소 이형 코팅층 형성용 조성물을 spray gun으로 상기 2.에서 형성된 UV 몰딩 형성층 위에 뿌려 코팅하였다. 코팅 후 표면 특성을 관찰하기 위하여 DI water 를 niddle로 한 방울 떨어트려 물방울의 형상을 관찰하였다. 더 정확히 관찰하기 위해서는 Contant angle 측정 장비를 이용하여 표면에너지 변화를 관찰한다. Contact angle 측정시 각도가 85도 이상으로 측정되면 코팅이 잘 된 것으로 판단한다. 상기 평가 결과를 하기 표 4에 나타내었다.The composition for forming a fluorine release coating layer prepared as described above was sprayed onto the UV molding layer formed in 2. using a spray gun. In order to observe the surface characteristics after coating, the droplets were observed by dropping DI water into niddle. To observe more accurately, the surface energy change is observed by using the Contant angle measuring device. When the contact angle is measured at 85 degrees or more, it is judged that the coating is good. The evaluation results are shown in Table 4 below.

실시제조예
3-1
Example of manufacture
3-1
실시제조예
3-2
Example of manufacture
3-2
비교제조예 3-1Comparative Production Example 3-1 비교제조예
3-2
Comparative Production Example
3-2
비교제조예
3-3
Comparative Production Example
3-3
비교제조예
3-4
Comparative Production Example
3-4
ETFEETFE 100100 perfluoro polymerperfluoro polymer 1One 22 33 44 55 fluoro solventfluoro solvent 9999 9898 9797 9696 9595 표면에너지Surface energy 80°80 ° 85°85 ° 95°이상95 ° or more 78°78 ° 80°80 ° 82°82 ° EMC 이형성EMC release GoodGood GoodGood GoodGood BadBad BadBad BadBad

실시예 1~2 및 비교예 1~3: EMC 패키징용 이형필름의 제조Examples 1-2 and Comparative Examples 1-3: Preparation of Release Film for EMC Packaging

30~50um 두께의 단면 코로나 처리가 된 나이론 필름에 상에 상기 실시제조예 1-1에서 제조된 대전방지 코팅 조성물을 mayer bar #12~16번을 이용하여 wetting 이 잘 되도록 코팅을 진행한 후, 90℃ 오븐에서 2 분간 건조시켰다. 상기 건조 후, 컨베이어 벨트 상에서 Fusion Lamp를 이용하여 400~500mJ/㎠의 광을 조사하여 경화시켜서 대전방지 코팅층을 형성하였다. After coating the antistatic coating composition prepared in Preparation Example 1-1 on mayer bar # 12 ~ 16 on the nylon film treated with a cross-sectional corona treatment having a thickness of 30 to 50 μm, so that the wetting is easy, It was dried for 2 minutes in a 90 ℃ oven. After the drying, by using a Fusion Lamp on the conveyor belt irradiated with light of 400 ~ 500mJ / ㎠ to form an antistatic coating layer.

상기 대전방지 코팅층 상에 실시제조예 2-5에서 제조된 UV 몰딩층 형성용 조성물을 사용하여 표면 조도 값이 1.6~2.0um이고, Rz 값이 6.5~10.5um인 패턴의 Hard roll을 이용하여 Roll to Roll 방식의 라인에서 UV 몰딩층을 형성하였다. 구체적으로, 1차 경화는 Black light Lamp를 이용하여 30~50mJ/㎠ 를 조사하여 실시하였고, 2차로는 고압 Hg 및 고압 Metal Lamp를 이용하여 300~400mJ/㎠의 광을 조사하여 경화시켰다.Roll using a hard roll of a pattern having a surface roughness value of 1.6 ~ 2.0um, Rz value of 6.5 ~ 10.5um using the UV molding layer forming composition prepared in Preparation Example 2-5 on the antistatic coating layer. The UV molding layer was formed in a to roll line. Specifically, the first curing was carried out by irradiating 30 ~ 50mJ / ㎠ using a black light lamp, the second was cured by irradiating light of 300 ~ 400mJ / ㎠ using a high pressure Hg and a high pressure metal lamp.

상기 UV 몰딩층 상에 상기 실시제조예 3-2에서 제조된 불소 이형 코팅층 형성용 조성물을 사용하여 이형 코팅층을 형성하였다. 구체적으로 상기 불소 이형 코팅층 형성용 조성물을 spray gun으로 UV 몰딩층 상에 분사하여 이형 코팅층을 형성하여 실시예 1의 EMC 패키징용 이형필름을 제조하였다. A release coating layer was formed on the UV molding layer using the composition for forming a fluorine release coating layer prepared in Preparation Example 3-2. Specifically, the release film for EMC packaging of Example 1 was prepared by spraying the composition for forming a fluorine release coating layer on a UV molding layer with a spray gun to form a release coating layer.

상기와 동일한 방법으로 EMC 패키징용 이형필름을 제조하되, 구성성분들은 하기 표 5에 기재된 성분들을 사용하여, 실시예 2 및 비교예 1~3의 EMC 패키징용 이형필름을 제조하였다.To prepare a release film for EMC packaging in the same manner as described above, the components using the components described in Table 5 below, to prepare a release film for EMC packaging of Example 2 and Comparative Examples 1 to 3.

베이스 필름Base film 대전방지 코팅층Antistatic coating layer UV 몰딩층UV molding layer 불소 이형 코팅층Fluorine Release Coating Layer 실시예 1Example 1 나일론 필름Nylon film 실시제조예 1-1Example 1-1 실시제조예 2-5Example of Production Example 2-5 실시제조예 3-2Example 3-2 실시예 2Example 2 나일론 필름Nylon film 실시제조예 1-2Preparation Example 1-2 실시제조예 2-1Example of Production Example 2-1 실시제조예 3-1Example 3-1 비교예 1Comparative Example 1 나일론 필름Nylon film 비교제조예 1-1Comparative Production Example 1-1 실시제조예 2-1Example of Production Example 2-1 비교제조예 3-1Comparative Production Example 3-1 비교예 2Comparative Example 2 나일론 필름Nylon film 실시제조예 1-2Preparation Example 1-2 비교제조예 2-6Comparative Production Example 2-6 비교제조예 3-2Comparative Production Example 3-2 비교예 3Comparative Example 3 PET 필름   PET film 실시제조예 1-1Example 1-1 실시제조예 2-5Example of Production Example 2-5 실시제조예 3-2Example 3-2

시험예 1: EMC 패키징용 이형필름의 물성 평가Test Example 1 Evaluation of Physical Properties of Release Film for EMC Packaging

하기와 같이 EMC 패키징용 이형필름의 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 5에 나타내었다.The physical properties of the release film for EMC packaging as described below and the results are shown in Table 5 below.

(1) 표면저항 측정(1) Surface resistance measurement

상기에서 제조된 EMC 패키징용 이형필름의 표면저항을 표면저항 측정기(ST-4, SIMCO 사)를 이용하여 측정하였다. The surface resistance of the release film for EMC packaging prepared above was measured using a surface resistance measuring instrument (ST-4, manufactured by SIMCO).

(2) 표면에너지 측정(2) Surface energy measurement

상기에서 제조된 EMC 패키징용 이형필름의 표면 특성을 관찰하기 위하여 DI water를 niddle로 한 방울 떨어트리고, Contant angle 측정 장비를 이용하여 표면에너지 변화를 관찰하였다. Contact angle 측정시 각도가 85도 이상 측정되면 표면에너지가 낮은 것으로 판단하였다.In order to observe the surface characteristics of the prepared release film for EMC packaging, DI water was dropped one drop into niddle, and the surface energy change was observed using a contant angle measuring device. When the angle was measured more than 85 degrees in the contact angle measurement, it was determined that the surface energy is low.

(3) 필름두께 측정(3) film thickness measurement

통상의 방법으로 상기에서 제조된 EMC 패키징용 이형필름의 두께를 측정하였다.The thickness of the release film for EMC packaging prepared above was measured by a conventional method.

(4) 내열성 측정(4) heat resistance measurement

상기에서 제조된 EMC 패키징용 이형필름의 내열성을 평가하기 위하여 EMC 몰딩 공정과 동일한 온도 즉, 170~180℃에서 10~20초간 유지시킨 후, 필름표면상의 변형 및 기포생성 여부를 다음과 같은 기준으로 평가하였다. In order to evaluate the heat resistance of the release film for EMC packaging manufactured above for 10 to 20 seconds at the same temperature as the EMC molding process, that is, 170 ~ 180 ℃, the deformation and bubble generation on the film surface based on the following criteria Evaluated.

◎: 기포생성 또는 표면변형이 전혀 없음(양호)◎: No bubble generation or surface deformation (good)

△: 기포생성은 없으나 표면 변형이 관찰됨△: no bubble generation but surface deformation is observed

ⅹ: 기포생성 및 표면변형 모두 관찰됨(불량)Ⅹ: Both bubble formation and surface deformation are observed (defect)

(5) 표면조도 측정(5) Surface roughness measurement

3D Profiler로 10배율의 렌즈를 사용하여 상기에서 제조된 EMC 패키징용 이형필름의 1mm x 1mm 면적의 표면 조도를 측정하여 Ra(Roughness)을 측정하였다.Ra (Roughness) was measured by measuring the surface roughness of the 1mm x 1mm area of the release film for EMC packaging using a lens of 10x magnification with a 3D Profiler.

측정값Measures 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 표면저항(Ω/□)Surface resistance (Ω / □) 10^8.510 ^ 8.5 10^8.810 ^ 8.8 10^13.510 ^ 13.5 10^10.310 ^ 10.3 10^10.010 ^ 10.0 표면에너지Surface energy 85°85 ° 90°90 ° 79°79 ° 75°75 ° 81°81 ° 필름두께(㎛)Film thickness (㎛) 48um48um 51um51um 66um66um 58um58um 55um55um 내열성Heat resistance GoodGood GoodGood BadBad BadBad BadBad 표면조도Surface roughness GoodGood GoodGood BadBad BadBad BadBad

상기 표 6에서 확인되는 바와 같이, 본 발명의 실시예 1 및 2의 EMC 패키징용 이형필름은 표면저항, 표면에너지, 필름두께, 내열성 및 표면조도의 모든 면에서 우수한 물성을 나타내었다. 그러나, 비교예 1 내지 3의 EMC 패키징용 이형필름은 상기 물성들이 불충분한 것으로 확인되었다.As confirmed in Table 6, the release film for EMC packaging of Examples 1 and 2 of the present invention showed excellent physical properties in all aspects of surface resistance, surface energy, film thickness, heat resistance and surface roughness. However, the release films for EMC packaging of Comparative Examples 1 to 3 were found to have insufficient properties.

Claims (14)

나일론 필름층;
상기 나일론 필름층 위에 적층된 대전방지 코팅층;
상기 대전방지 코팅층 위에 적층된 UV 몰딩층; 및
상기 UV 몰딩층 위에 적층된 불소 이형 코팅층을 포함하고,
상기 대전방지 코팅층은 UV 경화형 아크릴레이트계 바인더 1~4 중량부, 케톤계 용제 20~80 중량부, 광중합개시제 4~8 중량부, 및 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 10~40 중량부를 포함하는 대전방지 코팅 조성물로 형성되는, EMC 패키징용 이형필름.
Nylon film layer;
An antistatic coating layer laminated on the nylon film layer;
A UV molding layer laminated on the antistatic coating layer; And
It comprises a fluorine release coating layer laminated on the UV molding layer,
The antistatic coating layer is UV curable acrylate-based binder 1 to 4 parts by weight, ketone solvent 20 to 80 parts by weight, photopolymerization initiator 4 to 8 parts by weight, and alcohols, amides, or mixed solvents organic dispersion PEDOT: Formed with an antistatic coating composition containing 10 to 40 parts by weight of PSS, release film for EMC packaging.
청구항 1에 있어서,
상기 나일론 필름층은 일면 또는 양면에 코로나 처리가 된 나일론 필름을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 1,
The release film for EMC packaging, characterized in that the nylon film layer is formed using a nylon film that has been corona treated on one or both sides.
청구항 2에 있어서,
상기 나일론 필름층은 나일론 6, 나일론 66, 나일론 46, 나일론 11, 나일론 12, 나일론 610, 나일론 612, 나일론 6/66의 공중합체, 나일론 6/66/610 공중합체, 나일론 MXD6, 나일론 6T, 나일론 6/6T 공중합체, 나일론 66/PP 공중합체, 나일론66/PPS 공중합체, 6-나일론의 메톡시메틸화물, 6-610-나일론의 메톡시메틸화물 및 612-나일론의 메톡시메틸화물 _중에서 선택되는 나일론 필름으로 형성되는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 2,
The nylon film layer is nylon 6, nylon 66, nylon 46, nylon 11, nylon 12, nylon 610, nylon 612, copolymer of nylon 6/66, nylon 6/66/610 copolymer, nylon MXD6, nylon 6T, nylon 6 / 6T copolymer, nylon 66 / PP copolymer, nylon 66 / PPS copolymer, methoxymethylate of 6-nylon, methoxymethylate of 6-610-nylon and methoxymethylate of 612-nylon Release film for EMC packaging, characterized in that formed of a selected nylon film.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 대전방지 코팅층은 0.01~3 중량부 실록산계 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 1,
The antistatic coating layer is an EMC packaging release film, characterized in that it further comprises 0.01 to 3 parts by weight of siloxane-based additives.
청구항 1에 있어서,
상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류유기 분산 PEDOT:PSS은,
유기용매, 및 분산보조제를 혼합하여 혼합용매를 제조하는 제1 혼합단계 및 상기 혼합용매에 고체분말 형태의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS)를 혼합하는 제2 혼합단계에 의해서 제조되는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 1,
The alcohols, amides, or mixed solvents of organic dispersion PEDOT: PSS,
A first mixing step of preparing a mixed solvent by mixing an organic solvent and a dispersion aid, and a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) of a solid powder in the mixed solvent Release film for EMC packaging, characterized in that prepared by 2 mixing steps.
청구항 1에 있어서,
상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS은,
상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 0.1~3% 중량의 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리스티렌술폰산(PEDOT/PSS), 상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 0.05~4% 중량의 분산을 보조하기 위한 제1 분산보조제, 상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 0.1~10% 중량의 전도도를 개선하기 위한 제2 분산보조제, 및 상기 알코올류, 아마이드류, 또는 그 혼합용매류 유기 분산 PEDOT:PSS 총 중량에 대하여 85~95% 의 분산액 유기용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 1,
The alcohols, amides, or mixed solvents organic dispersed PEDOT: PSS,
The alcohols, amides, or mixed solvents thereof Organic dispersion PEDOT: Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS), 0.1 to 3% by weight, based on the total weight of the PSS , Amides, or mixed solvents of the organic dispersion PEDOT: a first dispersion aid to assist the dispersion of 0.05 to 4% by weight based on the total weight of the PSS, the alcohols, amides, or a mixed solvent of the organic dispersions PEDOT: A second dispersion aid for improving the conductivity of 0.1 to 10% by weight relative to the total weight of the PSS, and the organic dispersions of the alcohols, amides, or mixed solvents thereof. PEDOT: 85 to 95% of the dispersion organic to the total weight of the PSS. Release film for EMC packaging, characterized in that it comprises a solvent.
나일론 필름층;
상기 나일론 필름층 위에 적층된 대전방지 코팅층;
상기 대전방지 코팅층 위에 적층된 UV 몰딩층; 및
상기 UV 몰딩층 위에 적층된 불소 이형 코팅층을 포함하고,
상기 UV 몰딩층은 실리콘 아크릴레이트 42~60 중량부, 고점도 올리고머 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(PETA) 18~35 중량부, 희석용 다관능 아크릴레이트 모노머(HDDA) 8~20 중량부, 단관능 아크릴레이트 모노머(HEMA) 3~10 중량부, 분산제 10~25 중량부, 광중합개시제 3~7 중량부, 및 실록산 첨가제 1~7 중량부를 포함하는 몰딩층 형성용 조성물로 형성되는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
Nylon film layer;
An antistatic coating layer laminated on the nylon film layer;
A UV molding layer laminated on the antistatic coating layer; And
It comprises a fluorine release coating layer laminated on the UV molding layer,
The UV molding layer is 42 to 60 parts by weight of silicone acrylate, 18 to 35 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (PETA) for diluting high viscosity oligomer, 8 to 20 parts by weight of polyfunctional acrylate monomer (HDDA) for dilution, monofunctional EMC formed of a composition for forming a molding layer comprising 3 to 10 parts by weight of an acrylate monomer (HEMA), 10 to 25 parts by weight of a dispersant, 3 to 7 parts by weight of a photopolymerization initiator, and 1 to 7 parts by weight of a siloxane additive. Release film for packaging.
청구항 8에 있어서,
상기 UV 몰딩층은 엠보 처리가 된 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 8,
The release film for EMC packaging, characterized in that the UV molding layer is embossed.
나일론 필름층;
상기 나일론 필름층 위에 적층된 대전방지 코팅층;
상기 대전방지 코팅층 위에 적층된 UV 몰딩층; 및
상기 UV 몰딩층 위에 적층된 불소 이형 코팅층을 포함하고,
상기 불소 이형 코팅층은 퍼플루오로계 폴리머 1~2 중량부 및 플루오로계 용매 98~99 중량부를 포함하는 불소 이형 코팅층 형성용 조성물로 형성되는 것을 특징으로 하는 EMC 패키징용 이형필름.
Nylon film layer;
An antistatic coating layer laminated on the nylon film layer;
A UV molding layer laminated on the antistatic coating layer; And
It comprises a fluorine release coating layer laminated on the UV molding layer,
The release film for EMC packaging, characterized in that the fluorine release coating layer is formed of a composition for forming a fluorine release coating layer containing 1 to 2 parts by weight of perfluoro-based polymer and 98 to 99 parts by weight of a fluoro solvent.
나일론 필름층;
상기 나일론 필름층 위에 적층된 대전방지 코팅층;
상기 대전방지 코팅층 위에 적층된 UV 몰딩층; 및
상기 UV 몰딩층 위에 적층된 불소 이형 코팅층을 포함하는 EMC 패키징용 이형필름으로서,
상기 EMC 패키징용 이형필름은,
상기 나일론 필름층 아래에 적층된 추가 UV 몰딩층;을 더 포함하는, EMC 패키징용 이형필름.
Nylon film layer;
An antistatic coating layer laminated on the nylon film layer;
A UV molding layer laminated on the antistatic coating layer; And
As a release film for EMC packaging comprising a fluorine release coating layer laminated on the UV molding layer,
The release film for EMC packaging,
The release film for EMC packaging further comprising; further UV molding layer laminated under the nylon film layer.
청구항 11에 있어서,
상기 EMC 패키징용 이형필름은,
상기 나일론 필름층 및 상기 추가 UV 몰딩층 사이에 배치되는 추가 대전방지 코팅층을 더 포함하는, EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 11,
The release film for EMC packaging,
The release film for EMC packaging further comprising an additional antistatic coating layer disposed between the nylon film layer and the additional UV molding layer.
청구항 12에 있어서,
상기 EMC 패키징용 이형필름은,
상기 추가 UV 몰딩층 아래에 적층된 추가 불소 이형 코팅층을 더 포함하는, EMC 패키징용 이형필름.
The method according to claim 12,
The release film for EMC packaging,
The release film for EMC packaging further comprises an additional fluorine release coating layer laminated under the additional UV molding layer.
청구항 11에 있어서,
상기 EMC 패키징용 이형필름은,
상기 나일론 필름층 및 상기 추가 UV 몰딩층 사이에 배치되는 중간층을 더 포함하고,
상기 중간층은, UV 경화형 아크릴레이트계 바인더, 케톤계 용제, 광중합개시제를 포함하는, EMC 패키징용 이형필름.

The method according to claim 11,
The release film for EMC packaging,
Further comprising an intermediate layer disposed between the nylon film layer and the additional UV molding layer,
The intermediate layer, a UV curable acrylate binder, a ketone solvent, a release film for EMC packaging containing a photopolymerization initiator.

KR1020170121827A 2017-09-21 2017-09-21 Release film for packaging epoxy molding compound KR102059117B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170121827A KR102059117B1 (en) 2017-09-21 2017-09-21 Release film for packaging epoxy molding compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170121827A KR102059117B1 (en) 2017-09-21 2017-09-21 Release film for packaging epoxy molding compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190033261A KR20190033261A (en) 2019-03-29
KR102059117B1 true KR102059117B1 (en) 2019-12-24

Family

ID=65898749

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170121827A KR102059117B1 (en) 2017-09-21 2017-09-21 Release film for packaging epoxy molding compound

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102059117B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102559027B1 (en) * 2021-07-02 2023-07-24 (주)제론텍 Heatproof separator film for epoxy mold compound process of semiconductor

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005166904A (en) * 2003-12-02 2005-06-23 Hitachi Chem Co Ltd Mold releasing sheet for semiconductor mold

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200483919Y1 (en) * 2015-03-25 2017-07-10 (주)알킨스 Embossed releasing film
KR101682934B1 (en) 2016-03-17 2016-12-06 김광원 Release film for memory semiconductor package mold

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005166904A (en) * 2003-12-02 2005-06-23 Hitachi Chem Co Ltd Mold releasing sheet for semiconductor mold

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190033261A (en) 2019-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11193031B2 (en) Dielectric ink composition
CN103525322B (en) Sealing resin piece, the manufacture method of electronic component package and electronic component package
CN107000268B (en) The manufacturing method of mold release film and semiconductor package body
TWI605100B (en) Adhesive tape for manufacturing electronic components
CN102373022B (en) Thermally releasable sheet-integrated film for semiconductor back surface, method of collecting semiconductor element, and method of producing semiconductor device
JP6083233B2 (en) Transfer film for in-mold molding, method for producing in-mold molded body, and molded body
KR101191111B1 (en) Adhesive composition, adhesive film, dicing die bonding film, semiconductor wafer and semiconductor device
KR101209552B1 (en) Adhesive composition for masking tape for mold underfill process and masking tape using the same
US8541289B2 (en) Dicing die bonding film and dicing method
CN105666976A (en) Dicing tape-integrated film for semiconductor back surface and method for producing the film, and method for producing semiconductor device
US20190267273A1 (en) Method for manufacturing semiconductor device
US11710645B2 (en) Manufacturing method of mounting structure, and sheet therefor
CN103525338B (en) Semiconductor device adhesive compound, semiconductor device adhesive foil, the adhesive foil with cutting film, the manufacture method and semiconductor device of semiconductor device
KR101696268B1 (en) Resin composition, electrical conductive adhesive and EMI shielding film
TW201941954A (en) Functional multilayer body and functional lens using functional multilayer body
KR20170096881A (en) Anti-static silicone tight-release coating film
KR102059117B1 (en) Release film for packaging epoxy molding compound
JP7392925B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
CN103348268B (en) Self-healing clear coat containing mineral conduction colloid
TWI743361B (en) Resin layer forming film and resin layer forming composite sheet
JP2012144727A (en) Adhesive tape for manufacturing electronic component
CN101921540A (en) Antistatic polyester film with acetylenediol surfactant and preparing method thereof
CN102013402A (en) Lamination method of adhesive tape and lead frame
EP3439025B1 (en) Semiconductor device manufacturing method
KR20170084016A (en) Sealing sheet and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant