KR102028486B1 - A frontal light-shielding layer of a display device and a display device having the frontal light-shielding layer - Google Patents

A frontal light-shielding layer of a display device and a display device having the frontal light-shielding layer Download PDF

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Abstract

본 발명은 투명기판 위에 착색도막(1), 반사휘도 향상용 도막(2) 및 착색도막(3)이 순차적으로 적층되는 구조를 가지며, 상기 착색도막(1) 및 착색도막(3)은 반사휘도 향상용 도막(2)보다 큰 굴절률을 가지며, 상기 착색도막(1)은 착색도막(3)보다 굴절률이 크고 명도가 높은 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층 및 상기 전면 차광층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.The present invention has a structure in which a colored coating film 1, a reflective brightness improving coating film 2 and a colored coating film 3 are sequentially stacked on a transparent substrate, and the colored coating film 1 and the colored coating film 3 are reflected brightness. A display including a front light shielding layer and the front light shielding layer of a display device having a refractive index larger than that of the enhancement coating film (2), wherein the colored film (1) has a higher refractive index and higher brightness than the color coating film (3). Provide the device.

Description

디스플레이 장치의 전면 차광층 및 그를 포함하는 디스플레이 장치{A FRONTAL LIGHT-SHIELDING LAYER OF A DISPLAY DEVICE AND A DISPLAY DEVICE HAVING THE FRONTAL LIGHT-SHIELDING LAYER}Front light shielding layer of a display device and a display device including the same {A FRONTAL LIGHT-SHIELDING LAYER OF A DISPLAY DEVICE AND A DISPLAY DEVICE HAVING THE FRONTAL LIGHT-SHIELDING LAYER}

본 발명은 디스플레이 장치의 전면 차광층 및 상기 전면 차광층을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device including the front light blocking layer of the display device and the front light blocking layer.

일반적으로 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Light Emitting Diode), AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode) 등과 같은 디스플레이 장치의 전면 가장자리에는 디스플레이의 시인성 향상을 위하여 반사율을 감소시키고 명암비를 증가시키며, 디스플레이 내부가 보이지 않도록 광을 차폐하는 등의 기능을 수행하는 디스플레이 장치의 전면 차광층인 베젤부가 형성된다. 이러한 베젤부의 소재로는 기능적인 측면에서 블랙코팅 조성물이 많이 사용되고 있으나, 최근에는 소비자의 다양한 기호 및 디스플레이의 미감을 고려하여 다양한 칼라를 갖는 코팅 조성물이 사용되고 있다.In general, the front edges of display devices such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), organic light emitting diodes (OLEDs), and active matrix organic light emitting diodes (AMOLEDs) reduce reflectance to improve display visibility. A bezel part, which is a front shielding layer of a display device, is formed to perform a function of shielding light from the inside of the display, increasing contrast ratio, and preventing the inside of the display from being visible. As a material of the bezel part, a black coating composition is used in many functional aspects, but recently, a coating composition having various colors is used in consideration of various tastes and aesthetics of a display.

그런데, 베젤부의 코팅 소재로 광차폐율이 낮은 백색, 핑크색 등의 밝은 칼라의 코팅 조성물이 사용될 경우, 베젤부를 통하여 디스플레이의 내부가 노출되기 쉬우므로, 상기 밝은 칼라의 코팅 조성물로 형성되는 코팅층 아래에 그레이나 블랙 칼라의 코팅층을 더 형성하는 방식으로 베젤부를 형성하고 있다. By the way, when the coating material of a light color having a low light shielding rate such as white, pink, etc. is used as the coating material of the bezel part, since the inside of the display is easily exposed through the bezel part, under the coating layer formed of the coating material of the light color The bezel portion is formed by further forming a coating layer of gray or black color.

그러나, 이와 같이 베젤부를 다층의 코팅층으로 형성하는 경우, 아래층의 그레이나 블랙 칼라의 코팅층에 의해 광학밀도(O.D.)가 높아지므로 광차폐율은 개선되나, 위층 밝은 칼라의 코팅층의 투과율이 높아서, 아래층의 그레이나 블랙 칼라의 코팅층이 보이게 되는 문제가 발생한다. 따라서, 이러한 점을 개선하기 위하여 위층 밝은 칼라의 코팅층을 후막으로 형성하거나, 반사율을 높이는 방법 등이 고려되고 있다. 그러나, 코팅층을 후막으로 형성하는 것은 다량의 재료소모, 작업효율 저하 등의 단점이 있으며, 반사율을 높이는 방법으로는 뚜렷한 솔루션을 찾지 못하고 있다. However, in the case of forming the bezel part as a multilayer coating layer in this way, the optical density (OD) is increased by the coating layer of the gray or black color of the lower layer, so that the light shielding rate is improved, but the transmittance of the coating layer of the bright color of the upper layer is higher, The problem arises that the coating layer of gray or black color is seen. Therefore, in order to improve such a point, a method of forming a coating layer having a bright color on the upper layer as a thick film, increasing the reflectance, and the like have been considered. However, forming a coating layer with a thick film has disadvantages such as a large amount of material consumption and reduced work efficiency, and has not found a clear solution by increasing the reflectance.

본 발명은, 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, The present invention, to solve the problems of the prior art as described above,

투과율과 반사율을 제어하여 광학밀도(O.D.) 및 칼라의 선명도를 향상시킴으로써, 고품질의 다양한 칼라로 형성되는 디스플레이 장치의 전면 차광층을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object to provide a front light shielding layer of a display device formed of various colors of high quality by controlling the transmittance and the reflectance to improve the optical density (O.D.) and the sharpness of the color.

또한, 본 발명은 상기 전면 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a display device comprising the front light shielding layer.

본 발명은,The present invention,

투명기판 위에 착색도막(1), 반사휘도 향상용 도막(2) 및 착색도막(3)이 순차적으로 적층되는 구조를 가지며, It has a structure in which the colored coating film 1, the reflection brightness improving coating film 2 and the coloring paint film 3 are sequentially stacked on the transparent substrate,

상기 착색도막(1) 및 착색도막(3)은 반사휘도 향상용 도막(2)보다 큰 굴절률을 가지며, 상기 착색도막(1)은 착색도막(3)보다 굴절률이 크고 명도가 높은 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층을 제공한다.
The colored film 1 and the colored film 3 has a larger refractive index than the reflective film for improving the brightness 2, the colored film 1 is characterized in that the refractive index is larger than the colored film 3 and the brightness is higher A front light shielding layer of a display device is provided.

또한, 본 발명은,In addition, the present invention,

상기 전면 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치를 제공한다.It provides a display device comprising the front light shielding layer.

본 발명의 디스플레이 장치의 전면 차광층은 광의 투과율과 반사율을 제어하여 광학밀도(O.D.) 및 칼라의 선명도를 향상시킴으로써, 고품질의 다양한 칼라로 형성될 수 있다. The front light shielding layer of the display device of the present invention can be formed in various colors of high quality by controlling the light transmittance and the reflectance to improve the optical density (O.D.) and the sharpness of the color.

또한, 상기 전면 차광층을 포함하는 본 발명의 디스플레이 장치는 뛰어난 디자인 특성을 제공한다.In addition, the display device of the present invention including the front light shielding layer provides excellent design characteristics.

본 발명은,The present invention,

투명기판 위에 착색도막(1), 반사휘도 향상용 도막(2) 및 착색도막(3)이 순차적으로 적층되는 구조를 가지며, It has a structure in which the colored coating film 1, the reflection brightness improving coating film 2 and the coloring paint film 3 are sequentially stacked on the transparent substrate,

상기 착색도막(1) 및 착색도막(3)은 반사휘도 향상용 도막(2)보다 큰 굴절률을 가지며, 상기 착색도막(1)은 착색도막(3)보다 굴절률이 크고 명도가 높은 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층에 관한 것이다.
The colored film 1 and the colored film 3 has a larger refractive index than the reflective film for improving the brightness 2, the colored film 1 is characterized in that the refractive index is larger than the colored film 3 and the brightness is higher A front light blocking layer of a display device.

본 발명의 디스플레이 장치의 전면 차광층은 착색도막(1) 및 착색도막(3)의 사이에 반사휘도 향상용 도막(2)를 도입한 것을 특징으로 한다. 즉, 착색도막(1) 및 착색도막(3)의 사이에 굴절률 차이가 큰 반사휘도 향상용 도막(2)을 도입하여 투과 내지 반사율을 변화시켜서 전면 차광층의 광학밀도(O.D.) 및 칼라의 선명도(백색도(W.I.) 등)를 증가시키는 것을 특징으로 한다.The front light shielding layer of the display device of the present invention is characterized by introducing a coating film 2 for improving the reflection luminance between the colored coating film 1 and the colored coating film 3. That is, the optical film (OD) of the front light-shielding layer and the sharpness of the color are introduced by introducing a reflective film for improving the brightness of the reflective film 2 having a large refractive index difference between the colored film 1 and the colored film 3. (Whiteness (WI), etc.) is increased.

상기에서 반사휘도 향상용 도막(2)은 투명 도막인 것이 바람직하다.
In the above, it is preferable that the reflective brightness improving coating film 2 is a transparent coating film.

본 발명에 있어서, 상기 착색도막(1)과 반사휘도 향상용 도막(2)의 굴절률 차이는 0.5 ~ 2.0인 것이 전면 차광층의 광학밀도(O.D.) 및 칼라의 선명도 향상을 위하여 더욱 바람직하다. In the present invention, it is more preferable that the refractive index difference between the colored coating film 1 and the reflective brightness improving coating film 2 is 0.5 to 2.0 for improving the optical density (O.D.) and the sharpness of the color of the front light shielding layer.

본 발명의 디스플레이 장치의 전면 차광층의 구체적인 예로는 착색도막(1)이 백색도막이고, 착색도막(3)이 블랙 또는 그레이 도막인 것을 들 수 있다. 이 밖에도 착색도막(1)은 다양한 칼라의 도막으로 형성될 수 있다. As a specific example of the front light shielding layer of the display apparatus of this invention, the colored coating film 1 is a white coating film, and the coloring coating film 3 is a black or gray coating film. In addition, the coloring film 1 may be formed of a coating film of various colors.

본 발명에서 사용되는 투명기판은 유리기판, 특히 강화유리기판이거나, 투명 폴리머 기판일 수도 있다.
The transparent substrate used in the present invention may be a glass substrate, in particular a tempered glass substrate, or may be a transparent polymer substrate.

이하에서, 상기 디스플레이 장치의 전면 차광층을 구성하는 도막의 성분들에 관하여 예를 들어 설명한다. Hereinafter, the components of the coating film constituting the front light shielding layer of the display device will be described by way of example.

본 발명의 착색도막(1), 반사휘도 향상용 도막(2) 및 착색도막(3)의 형성에는 착색제의 포함여부 및 종류에 따른 차이를 제외하고는 동일 또는 유사한 조성의 코팅 조성물이 사용될 수 있다. 물론, 서로 다른 코팅 조성물을 사용하는 것도 가능하다. 이하에서 공통으로 사용 가능한 코팅 조성물의 구성 성분들을 예를 들어 설명한다.
The coating composition of the same or similar composition may be used for forming the colored film 1, the reflective brightness improving film 2 and the colored film 3 of the present invention except for the difference depending on the inclusion and type of the colorant. . Of course, it is also possible to use different coating compositions. Hereinafter, the components of the coating composition which can be commonly used will be described by way of example.

(A) 착색제(A) colorant

착색도막(1) 및 착색도막(3)의 경우, 목적하는 칼라에 따라 이 분야에 공지된 안료 또는 염료를 채용하여 착색제를 구성할 수 있다.In the case of the coloring film 1 and the coloring film 3, a pigment or dye known in the art can be employed according to the desired color to constitute the colorant.

백색 전면 차광층(베젤)의 경우, 상기 착색도막(1)도 백색으로 형성되며, 착색제로는 산화티탄, 산화아연, 황화아연, 황산아연, 황산바륨, 탄산칼슘, 산화알루미나 안료 등이 사용될 수 있다. C.I. 피그먼트 번호로는 화이트 4, 5, 6, 6:1, 7, 18, 18:1, 19, 20, 22, 25, 26, 27, 28, 32 등이 사용될 수 있다. 바람직하게는 상기 백색안료 중에서 반사효율과 백색도를 고려하여 C.I. 피그먼트 화이트 6 및 C.I. 피그먼트 화이트 22 가 사용될 수 있다. In the case of a white front light shielding layer (bezel), the colored coating film 1 is also formed in white, and as the colorant, titanium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, zinc sulfate, barium sulfate, calcium carbonate, alumina oxide pigment, etc. may be used. have. C.I. As the pigment number, white 4, 5, 6, 6: 1, 7, 18, 18: 1, 19, 20, 22, 25, 26, 27, 28, 32, and the like may be used. Preferably in consideration of the reflection efficiency and the whiteness in the white pigment C.I. Pigment White 6 and C.I. Pigment White 22 may be used.

특히, 상기 C.I.피그먼트 화이트 6에 포함되는 TiO2는 가격이 저렴하고 굴절율이 높아 반사율이 우수하므로 효과적인 백색 착색제로 사용될 수 있다. In particular, TiO 2 included in the CI Pigment White 6 may be used as an effective white colorant because the price is low and the refractive index is high and the reflectivity is excellent.

상기 TiO2는 루틸구조를 갖는 것이 바람직하다. 루틸 구조를 갖는 TiO2는 우수한 백색도를 가지므로 바람직하게 사용될 수 있다.The TiO 2 preferably has a rutile structure. TiO 2 having a rutile structure has excellent whiteness and can therefore be preferably used.

상기 백색 안료인 TiO2는, 필요에 따라 레진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 이용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그라프트 처리, 황산미립화법 등에 의한 미립화 처리 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온 교환법 등에 의한 이온성 불순물의 제거처리 등이 실시된 것일 수 있다. TiO 2, which is the white pigment, may be subjected to surface treatment using a resin treatment, a pigment derivative having an acidic group or a basic group introduced therein, a graft treatment on the surface of the pigment with a high molecular compound, an atomization treatment or an impurity by a sulfate atomization method, or the like. The cleaning treatment with an organic solvent, water, or the like for removing the ions may be performed, or the ionic impurities may be removed by an ion exchange method.

상기 TiO2는 그 표면을 SiO2, Al2O3 및 ZrO2로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나로 표면처리한 것이 바람직하게 사용될 수 있다.. The TiO 2 is a surface of SiO 2 , Al 2 O 3 And at least one selected from the group consisting of ZrO 2 may be preferably used.

또한, 더욱 바람직하게는 SiO2, Al2O3 및 ZrO2로 순차적으로 표면처리된 것이 사용될 수 있다. More preferably, SiO 2 , Al 2 O 3 And those sequentially surface treated with ZrO 2 may be used.

더 더욱 바람직하게는 상기에서 표면처리된 TiO2의 최외곽이 유기물로 표면처리된 것이 사용될 수 있다. 상기 유기물로는 예컨대, 트리메틸 프로판(TMP), 펜타 에리트리톨 등이 사용될 수 있다. 상기와 같은 성분을 사용하여 낮은 극성의 단일 분자층으로 TiO2를 코팅하여 표면처리하는 것은 TiO2 분산 시 필요한 에너지를 낮추게 하고, TiO2가 압착되어 응집되는 것을 방지한다.Even more preferably the outermost surface of TiO 2 surface-treated above Surface treated with organic material can be used. For example, trimethyl propane (TMP), pentaerythritol, or the like may be used as the organic material. Coating the surface by coating TiO 2 with a single molecule layer of low polarity using the above components lowers the energy required for TiO 2 dispersion and prevents TiO 2 from being compressed and aggregated.

상기와 같은 TiO2의 표면처리는 TiO2의 광촉매 활동성을 낮추어 주면서 반사휘도 특성을 향상시킨다. 특히 상기 TiO2에 SiO2, Al2O3, ZrO2 각각의 표면처리를 적용할 경우, 내열성 및 내화학성 등 신뢰성이 향상된다. 상기 표면처리는 캡슐레이션에 의한 처리일 수 있다.The surface treatment of TiO 2 as described above while lowering the photocatalytic activity of the TiO 2 improves the reflected luminance characteristic. In particular, when the surface treatment of each of SiO 2 , Al 2 O 3 , and ZrO 2 is applied to TiO 2 , reliability such as heat resistance and chemical resistance is improved. The surface treatment may be treatment by encapsulation.

표면 처리된 상기 TiO2는 TiO2 코어의 함량이 85 내지 95중량%인 것이 바람직하다. 상기의 범위 내로 TiO2 코어의 표면을 처리한 경우 백색도가 우수하면서 반사 휘도가 우수한 특성을 나타내게 된다.The TiO 2 surface treated is preferably 85 to 95% by weight of the TiO 2 core. When the surface of the TiO 2 core is treated within the above range, the whiteness is excellent and the reflection luminance is excellent.

상기한 TiO2는 구체적인 예로 시판 중인 듀퐁(dupont)사의 R-101, R-102, R-103, R-104, R-105, R-350, R-706, R-794, R-796, TS-6200, R-900, R-902, R-902+, R-931, R-960 등을 예시할 수 있으며, 또한 훈트먼(Huntman)사의 R-FC5, TR81, TR88 및 아이에스케이(ISK)사의 CR-57 등을 예시할 수 있다.Specific examples of the TiO 2 include R-101, R-102, R-103, R-104, R-105, R-350, R-706, R-794, R-796, which are commercially available from DuPont. TS-6200, R-900, R-902, R-902 +, R-931, R-960, and the like, and also Huntman's R-FC5, TR81, TR88 and ISK CR-57 etc. can be illustrated.

상기 착색도막(1)이 칼라를 가지는 경우, 안료는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 상기 안료는 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 각종의 안료를 사용할수 있으며, 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다. 상기 무기 안료로서는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬, 카본블랙 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다. 특히, 상기 유기 안료 및 무기 안료로는 구체적으로 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다.When the colored coating film 1 has a color, the pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment generally used in the art. The pigment may be used a variety of pigments used in printing inks, inkjet inks, and the like, specifically, water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, isoindolin Pigments, perylene pigments, perinone pigments, dioxazine pigments, anthraquinone pigments, dianthraquinoneyl pigments, anthrapyrimidine pigments, ananthronerone pigments, indanthrone pigments, pravantron pigments, pyrantrones (pyranthrone) pigments, diketopyrrolopyrrole pigments and the like. Examples of the inorganic pigment include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts. Specifically, oxides of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony and carbon black Or a composite metal oxide. In particular, the organic pigments and inorganic pigments include compounds that are specifically classified as pigments in the color index (Published by The society of Dyers and Colourists), and more specifically, the color index (CI) number of Although a pigment is mentioned, It is not necessarily limited to these.

C.I. 피그먼트 옐로우 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185C.I. Pigment Yellow 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 And 185

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76C.I. Pigment Blue 15 (15: 3, 15: 4, 15: 6, etc.), 21, 28, 60, 64, and 76

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58

C.I 피그먼트 브라운 28C.I Pigment Brown 28

C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등
CI Pigment Black 1 and 7 etc

상기 예시된 C.I. 피그먼트 안료 중에서도 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58 에서 선택되는 안료가 바람직하게 사용될 수 있다.C.I. exemplified above. Among pigment pigments, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 208, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Blue 15: 3, Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigments selected from Pigment Green 58 may be preferably used.

상기 착색도막(3)으로는 블랙도막이나 그레이도막이 주로 채용되며, 이 때 착색제로는 카본블랙 등이 바람직하게 사용될 수 있다.As the coloring film 3, a black coating film or a gray coating film is mainly employed. In this case, carbon black or the like may be preferably used as the coloring agent.

상기 착색제(A)는 본 발명의 코팅 조성물 중의 고형분에 총 중량에 대하여 10 내지 80중량% 포함되고, 30 내지 70 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 착색제가 상기 범위로 포함되면 디스플레이 장치의 전면 차광층 형성시 칼라의 선명도가 우수하고, 반사휘도가 우수한 특성을 나타내므로 바람직하다. The coloring agent (A) is contained in the solid content in the coating composition of the present invention 10 to 80% by weight based on the total weight, more preferably contained in 30 to 70% by weight. When the colorant is included in the above range, it is preferable because the color is excellent in the sharpness of the color when forming the front light shielding layer of the display device, and exhibits excellent reflection luminance.

본 발명에서 고형분이란 용제를 제외한 성분을 의미한다.
Solid content in this invention means the component except a solvent.

(B) 수지(B) resin

본 발명에서 사용되는 수지로는 이 분야에 공지된 것이 사용될 수 있으며, 구체적인 수지의 예를 들면 다음과 같다: As the resin used in the present invention, those known in the art may be used, and examples of specific resins are as follows:

상기 수지(B)는 하기 화학식1 내지 4의 구조단위를 기본으로 하여 이루어질 수 있다:
The resin (B) may be made based on the structural units of the following Chemical Formulas 1 to 4:

<화학식1><Formula 1>

Figure 112013069244014-pat00001
Figure 112013069244014-pat00001

<화학식2><Formula 2>

Figure 112013069244014-pat00002
Figure 112013069244014-pat00002

<화학식3><Formula 3>

Figure 112013069244014-pat00003
Figure 112013069244014-pat00003

<화학식4><Formula 4>

Figure 112013069244014-pat00004
Figure 112013069244014-pat00004

상기 수지에서 상기 화학식 1 내지 4의 반응물은 수지(B)의 총 몰수에 대하여 몰분율로 3 내지 80몰%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 70몰% 포함되는 것이 바람직하다. 상기 구조단위가 상기 범위 내로 포함될 경우, 코팅 조성물의 감도 및 밀착성이 우수하여 현상 공정 중에 패턴의 박리가 발생하지 않으며, 내용제성이 우수한 특성을 나타낸다.
In the resin, the reactants of Chemical Formulas 1 to 4 may be included in an amount of 3 to 80 mol%, more preferably 5 to 70 mol%, based on the mole fraction with respect to the total number of moles of the resin (B). When the structural unit is included in the above range, the coating composition is excellent in sensitivity and adhesion, so that no peeling of the pattern occurs during the developing process, and exhibits excellent solvent resistance.

상기 화학식 1 내지 4의 구조단위를 갖는 알칼리 가용성 수지는 다양한 중합 가능한 화합물의 중합에 의해 제조될 수 있다. Alkali-soluble resins having the structural units of Formulas 1 to 4 may be prepared by polymerization of various polymerizable compounds.

상기 수지(B)의 화학식 1 내지 4는, 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는다른 단량체와 공중합이 가능하며, 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체의 구체적인 예로는 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트류; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.0 2,6 ]데칸-8-일(메타)아크릴레이트, 2-디시클로펜타닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족(메타)아크릴레이트류; 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트류; 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류; N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물;(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. Formula 1 to 4 of the resin (B) is copolymerizable with another monomer having a copolymerizable unsaturated bond, specific examples of the monomer having a copolymerizable unsaturated bond are styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p Chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl ether, m-vinylbenzylmethyl ether, p-vinylbenzylmethyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl Aromatic vinyl compounds such as ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether and p-vinyl benzyl glycidyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylates such as sec-butyl (meth) acrylate and t-butyl (meth) acrylate; Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6] decane-8-yl (meth) acrylate, 2- Alicyclic (meth) acrylates such as dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; Aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate; Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, No-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, No-methylphenylmaleimide, Nm N-substituted maleimide compounds such as -methylphenylmaleimide, Np-methylphenylmaleimide, No-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, and Np-methoxyphenylmaleimide; (meth) acrylamide, Unsaturated amide compounds such as N, N-dimethyl (meth) acrylamide; 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-phenyloxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) -4-trifluoromethyloxetane, etc. And unsaturated oxetane compounds.

상기 예시한 화합물는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
The compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more thereof.

본 발명에 따른 수지(B)는 필요에 따라서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 공지된 다양한 다른 수지를 추가로 혼합하여 사용할 수 있다. Resin (B) according to the present invention may be used by further mixing a variety of other known resins generally used in the art as needed.

상기 수지는 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직하게 사용될 수 있으며, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 수지의 중량 평균 분자량이 3,000 미만이거나 100,000 초과일 경우에는 현상 시에 막 감소가 방지되지 않아 패턴 부분의 누락이 일어나거나 현상이 되지 않는 단점이 있다.It is preferable that the resin has a weight average molecular weight in terms of polystyrene in the range of 3,000 to 100,000, and preferably in the range of 5,000 to 50,000. If the weight average molecular weight of the resin is less than 3,000 or more than 100,000, there is a disadvantage in that the film reduction is not prevented during the development, so that the omission of the pattern portion occurs or the development does not occur.

상기 수지(B)의 산가는 50 내지 150 (KOH ㎎/g)이고, 바람직하게는 60 내지 140 (KOH ㎎/g)이며, 보다 바람직하게는 80 내지 135 (KOH ㎎/g)이고, 가장 바람직하게는 80 내지 130 (KOH ㎎/g)이다. 상기 수지(B)의 산가가 50 내지 150 (KOH ㎎/g)인 경우에는 현상액에 대한 용해성이 향상되고, 잔막률이 향상되기 때문에 바람직하다. The acid value of the said resin (B) is 50-150 (KOHmg / g), Preferably it is 60-140 (KOHmg / g), More preferably, it is 80-135 (KOHmg / g), Most preferably Preferably 80 to 130 (KOH mg / g). When the acid value of the said resin (B) is 50-150 (KOHmg / g), since the solubility to a developing solution improves and a residual film rate improves, it is preferable.

여기서 산가란, 아크릴계 중합체 1 g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 양 (mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and can be determined by titration using an aqueous potassium hydroxide solution.

상기 수지(B)는 본 발명의 코팅 조성물의 고형분 총 중량을 기준으로 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 10 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 수지(B)의 함유량이 상기의 범위로 포함되면 현상액의 용해성이 충분하여 패턴형성이 용이하며, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해지므로 바람직하다.
The resin (B) may be included in 10 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight based on the total weight of solids of the coating composition of the present invention. When the content of the resin (B) is included in the above range, the solubility of the developing solution is sufficient, so that pattern formation is easy, and the reduction of the film portion of the pixel portion of the exposed portion is prevented at the time of development, so that the missing property of the non-pixel portion is good. Do.

(C) (C) 중합성Polymerizable 화합물 compound

상기 중합성 화합물(C)는 후술하는 광중합개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물이면 특별하게 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 단관능 광중합성 화합물, 2관능 광중합성 화합물 또는 3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물 등을 들 수 있다.
The polymerizable compound (C) is not particularly limited as long as it is a compound that can be polymerized by the action of a photopolymerization initiator described below, but is preferably a monofunctional photopolymerizable compound, a bifunctional photopolymerizable compound, or a trifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable compound. Compounds and the like.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있으며 시판품으로는 아로닉스 M-101 (도아고세이), KAYARAD TC-110S (닛본가야꾸) 또는 비스코트 158 (오사카 유키 가가쿠 고교) 등을 들 수 있다.Specific examples of the monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and N-vinyl py. Commercially available products include Aronix M-101 (Toagosei), KAYARAD TC-110S (Nipbon Kayaku), or Biscotti 158 (Osaka Yuki Kagaku High School).

상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으며 시판품으로는 아로닉스 M-210, M-1100, 1200(도아고세이), KAYARAD HDDA (닛본가야꾸), 비스코트 260 (오사카 유키 가가쿠 고교), AH-600, AT-600 또는 UA-306H (교에이샤 가가꾸사) 등이 있다.Specific examples of the bifunctional monomers include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like; commercially available products such as Aronix M-210, M-1100, 1200 (Doagosei), KAYARAD HDDA (Nipbon Kayaku), Biscot 260 (Osaka Yuki Kagaku High School), AH-600, AT-600 or UA-306H (Kyoeisha Kagakusa).

상기 3관능 이상의 다관능 중합성 화합물의 구체적인 예로는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 티펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-309, TO-1382 (도아고세이), KAYARAD TMPTA, KAYARAD DPHA 또는 KAYARAD DPHA-40H (닛본가야꾸) 등이 있다.
Specific examples of the trifunctional or higher polyfunctional polymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxysilane Tied dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are commercially available products such as Aronix M-309, TO-1382 (Doagosei), KAYARAD TMPTA, KAYARAD DPHA, or KAYARAD. DPHA-40H (Nippon Kayaku).

상기에서 예시한 중합성 화합물(C) 중에서도 3관능 이상의 (메타)아크릴산에스테류 및 우레탄(메타)아크릴레이트가 중합성이 우수하며 강도를 향상시킬 수 있다는 점에서 특히 바람직하다.
Among the polymerizable compounds (C) exemplified above, trifunctional or higher functional (meth) acrylic acid esters and urethane (meth) acrylates are particularly preferable in terms of excellent polymerizability and improving strength.

상기에서 예시한 중합성 화합물(C)은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The polymeric compound (C) illustrated above can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

상기 중합성 화합물(C)은 본 발명의 코팅 조성물의 고형분 총 중량을 기준으로, 5 내지 45중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 7 내지 45 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 중합성 화합물(C)가 상기의 범위로 포함되는 경우에는 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되기 때문에 바람직하다.
The polymerizable compound (C) is preferably contained in 5 to 45% by weight, more preferably in the 7 to 45% by weight based on the total solids weight of the coating composition of the present invention. When the said polymeric compound (C) is contained in said range, since the intensity | strength and smoothness of a pixel part become favorable, it is preferable.

(D) (D) 중합개시제Polymerization initiator

상기 중합개시제(D)는 중합성 화합물(C)을 중합시킬 수 있는 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. The polymerization initiator (D) can be used without particular limitation as long as it can polymerize the polymerizable compound (C).

특히, 상기 중합개시제(D)는 중합특성, 개시효율, 또는 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.In particular, the polymerization initiator (D) may be an acetophenone compound, a benzophenone compound, a triazine compound, a biimidazole compound, an oxime compound, or a thioxanthone compound in view of polymerization characteristics, initiation efficiency, or price. Preference is given to using at least one compound selected from the group consisting of.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온 또는 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다.
Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxy Hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1 -One or 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, and the like.

상기 벤조페논계 화합물로는, 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 또는 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.
Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert- Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2, 4, 6-trimethyl benzophenone, etc. are mentioned.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 또는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
Specific examples of the triazine-based compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -(4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine or 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

상기 비이미다졸 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 또는 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용될 수 있다.
Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichloro Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole , 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4, The imidazole compound etc. which the phenyl group of a 4 ', 5,5'- tetraphenyl- 1,2'-biimidazole or a 4,4', 5,5 'position are substituted by the carboalkoxy group are mentioned. Among them, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4' , 5,5'-tetraphenylbiimidazole or 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferably Can be used.

상기 옥심 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있으며, 시판품으로 바스프사의 OXE01, OXE02가 대표적이다.Specific examples of the oxime compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like, and OXE01 and OXE02 manufactured by BASF Corporation are typical examples of commercially available products.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤 또는 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.
As said thioxanthone type compound, 2-isopropyl thioxanthone, 2, 4- diethyl thioxanthone, 2, 4- dichloro thioxanthone, 1-chloro-4- propoxy thioxanthone, etc. are mentioned, for example. There is this.

또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위 내에서, 상기 이외의 중합개시제를 추가로 병용할 수도 있다. 예컨대, 퍼옥사이드계 또는 설파이드계 화합물 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸 또는 티타노센 화합물 등을 광중합개시제로서 추가로 병용하여 사용할 수 있다.
Moreover, the polymerization initiator of that excepting the above can also be used together in the range which does not impair the effect of this invention. For example, a peroxide type or a sulfide type compound, etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. Other 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclioxylic acid A methyl or titanocene compound, etc. can be used together further as a photoinitiator.

또한, 상기 중합개시제(D)는 본 발명의 코팅 조성물의 반응성을 향상시키기 위해서, 중합 개시 보조제(D-1)를 더 포함할 수 있다. 상기 중합 개시 보조제(D-1)로는, 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물 및 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다. In addition, the polymerization initiator (D) may further include a polymerization initiation aid (D-1) in order to improve the reactivity of the coating composition of the present invention. As said polymerization start adjuvant (D-1), 1 or more types of compounds chosen from the group which consists of an organic sulfur compound which has an amine compound, a carboxylic acid compound, and a thiol group, for example can be used preferably.

상기 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N, N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 (통칭: 미힐러 케톤) 또는 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 사용할 수 있다.
It is preferable to use an aromatic amine compound as the amine compound, and specifically, aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyl diethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4- Dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (common name: Michler's ketone ) Or 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone can be used.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신 또는 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
The carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, specifically, phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthio Acetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine or naphthoxyacetic acid, and the like.

상기 티올기를 가지는 유기 황화합물의 구체적인 예로는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H, 3H, 5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트) 또는 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the organic sulfur compound having a thiol group include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, trimethylolpropanetris (3-mergaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercapto Butyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) or tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate) Can be mentioned.

상기 중합개시제(D)는 상기 수지(B)와 광중합성 화합물(C)의 합산 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 40 중량부, 바람직하게는 1 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 중합개시제(D)가 상술한 범위로 포함되면, 코팅 조성물이 고감도화되어 반응 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 상술한 조건의 조성물을 사용하여 형성한 도막부의 강도와 상기 도막부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다.
The polymerization initiator (D) may be included in an amount of 0.1 to 40 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the sum of the resin (B) and the photopolymerizable compound (C). When the polymerization initiator (D) is included in the above-mentioned range, the coating composition is highly sensitive, and thus the reaction time is shortened, so that productivity is improved and high resolution can be maintained. In addition, the strength of the coating film portion formed using the composition under the above-described conditions and smoothness on the surface of the coating film portion can be improved.

또한, 상기 중합 개시 보조제(D-1)를 더 사용하는 경우, 상기 중합개시제(D)와 동일한 함량 범위를 사용하는 것이 바람직하며, 상술한 함량으로 사용할 경우 코팅 조성물의 감도가 더 높아지고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 도막의 생산성이 향상되는 효과를 제공한다.
In addition, when the polymerization initiation aid (D-1) is further used, it is preferable to use the same content range as the polymerization initiator (D), and when used in the above-described content, the sensitivity of the coating composition is higher, and the composition It provides an effect that the productivity of the coating film formed by using the.

(E) 용제 (E) solvent

상기 용제(E)는 코팅 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 코팅 조성물에서 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.
If the solvent (E) is effective to dissolve the other components included in the coating composition, can be used without particular limitation to the solvent used in the usual coating composition, especially ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, esters Or amides are preferable.

상기 용제(E)는 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디프로필에테르, 디프로필렌글리콜디부틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 아밀아세테이트, 메틸락테이트, 에틸락테이트, 부틸락테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시-1-부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 또는 γ-부티로락톤 등의 에스테르류 등을 들 수 있다. Specifically, the solvent (E) is ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl Ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol di Ethers such as propyl ether and dipropylene glycol dibutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; Ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, 3-meth Methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxy-1-butyl acetate, methoxypentyl acetate, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol diacetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol Monoacetate, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene carbonate, propylene carbonate or γ-buty Rockactone, etc. And esters thereof.

상기 용제(E)는 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제가 바람직하며 좀더 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸 또는 3-메톡시프로피온산메틸 등을 이용할 수 있다.The solvent (E) is preferably an organic solvent having a boiling point of 100 ℃ to 200 ℃ in terms of applicability and drying properties, more preferably propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lac Tate, butalactate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, etc. can be used.

상기 예시한 용제(E)는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
The solvent (E) mentioned above can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기 용제(E)는 본 발명의 코팅 조성물의 총 중량을 기준으로 60 내지 90 중량%, 바람직하게는 70 내지 85 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용제(E)가 상술한 범위로 포함되면, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터 (다이 코터라고도 하는 경우가 있음) 또는 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공한다.
The solvent (E) may be included in 60 to 90% by weight, preferably 70 to 85% by weight based on the total weight of the coating composition of the present invention. When the solvent (E) is included in the above-described range, the coating property becomes good when applied with a coating device such as a roll coater, spin coater, slit and spin coater, slit coater (sometimes referred to as die coater) or inkjet. Provide effect.

본 발명의 디스플레이 장치의 전면 차광층(베젤부)은 코팅 조성물을 인쇄공정 내지 옵셋 공정을 통하여 원하는 패턴을 형성하고 경화 공정을 실시하여 형성될 수 있다. 또는 상기 전면 차광층은 하기의 방법으로 코팅 조성물을 기재 상에 도포하고, 경화 및 현상하여 패턴을 형성함으로써 제조할 수 있다. The front light blocking layer (bezel portion) of the display device of the present invention may be formed by forming a desired pattern through a printing process or an offset process and performing a curing process. Alternatively, the front light shielding layer may be prepared by applying a coating composition on a substrate, curing, and developing the substrate by the following method to form a pattern.

후자의 방법을 자세히 설명하면, 먼저 감광성 코팅 조성물을 기판(통상은 유리, 특히 강화유리 내지 플라스틱 기재) 또는 먼저 형성된 착색 도막의 층 상에 도포한 후 가열 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다.The latter method will be described in detail. First, the photosensitive coating composition is applied to a substrate (usually a glass, in particular, tempered glass or plastic substrate) or a layer of a colored coating film formed first, and then heated and dried to remove volatile components such as a solvent and smooth it. Get a coat.

도포 방법으로는, 예를 들어 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤드 스핀 코트 또는 슬릿 코트법 등에 의해 실시될 수 있다. 도포 후 가열 건조, 또는 감압 건조 후에 가열하여 용제 등의 휘발 성분을 휘발시킨다. 여기에서, 가열 온도는 통상 70∼200℃, 바람직하게는 80∼130℃ 이다. 가열건조 후의 도막 두께는 통상 0.1∼8㎛ 정도이다. 이렇게 하여 얻어진 도막에, 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사한다. 이 때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시되도록, 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 자외선을 조사하면, 자외선이 조사된 부위의 경화가 이루어진다.
As a coating method, it can carry out by a spin coat, cast coating method, the roll coating method, the slit and spin coat, the slit coat method, etc., for example. After coating, heating and drying under reduced pressure or heating under reduced pressure to volatilize volatile components such as a solvent. Here, heating temperature is 70-200 degreeC normally, Preferably it is 80-130 degreeC. The coating film thickness after heat drying is about 0.1-8 micrometers normally. The coating film thus obtained is irradiated with ultraviolet rays through a mask for forming a target pattern. At this time, it is preferable to use apparatuses, such as a mask aligner and a stepper, so that the parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and the exact alignment of a mask and a board | substrate is performed. When ultraviolet light is irradiated, the site to which ultraviolet light is irradiated is hardened.

상기 자외선으로는 g선(파장: 436㎚), h선, i선(파장: 365㎚) 등을 사용할 수 있다. 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있는 것이며, 본 발명이 이를 한정하지는 않는다. 경화가 종료된 도막을 현상액에 접촉시켜 비노광부를 용해시켜 현상하면 목적으로 하는 패턴을 형성할 수 있다. G-rays (wavelength: 436 nm), h-rays, i-rays (wavelength: 365 nm) and the like can be used as the ultraviolet rays. The irradiation dose of ultraviolet rays may be appropriately selected as necessary, and the present invention is not limited thereto. The desired pattern can be formed when the coating film after hardening is contacted with a developing solution and the non-exposed part is melted and developed.

상기 현상 방법은, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등의 어느 것이어도 된다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다. 상기 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 함유하는 수용액이다. 상기 알칼리성 화합물은, 무기 및 유기 알칼리성 화합물의 어느 것이어도 된다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 인산수소 2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소 2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산 2수소칼륨, 규산 나트륨, 규산 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소나트륨, 탄산 수소 칼륨, 붕산 나트륨, 붕산 칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록사이드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다.The developing method may be any of a liquid addition method, a dipping method, a spray method and the like. In addition, during development, the substrate may be tilted at an arbitrary angle. The developer is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant. The alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate And sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like. Specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like.

이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은, 각각 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 현상액 중의 화합물의 농도는, 바람직하게는 0.01∼10중량%이고, 보다 바람직하게는 0.03∼5중량%이다.These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. The concentration of the compound in the developing solution is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.03 to 5% by weight.

상기 현상액 중의 계면 활성제는 비 이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는적어도 하나를 사용할 수 있다.The surfactant in the developer may be at least one selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants or cationic surfactants.

상기 비이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like.

상기 음이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactants include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, Alkyl aryl sulfonates, such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned.

상기 양이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts. These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 현상액 중의 계면 활성제의 함량은, 통상 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%이다. 현상 후, 수세하고, 또한 필요에 따라 150∼230℃ 에서 10∼60 분의 포스트베이크를 실시할 수도 있다.The content of the surfactant in the developer is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. After image development, it washes with water and can also carry out post-baking for 10 to 60 minutes at 150-230 degreeC as needed.

본 발명의 코팅 조성물을 사용하고, 이상과 같은 각 공정을 거쳐 기재 상단 또는 착색도막 상단에 패턴을 가지는 도막을 형성할 수 있다. 이 패턴은 디스플레이 장치의 전면 차광층(베젤부)으로서 유용하게 사용될 수 있다.
Using the coating composition of the present invention, a coating film having a pattern can be formed on the top of the substrate or the top of the colored coating film through the above steps. This pattern can be usefully used as a front light shielding layer (bezel portion) of a display device.

또한, 본 발명은 상기 디스플레이 장치의 전면 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치를 제공한다.
In addition, the present invention provides a display device comprising a front light shielding layer of the display device.

이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention more specifically, but the scope of the present invention is not limited by the following examples. The following examples can be appropriately modified and changed by those skilled in the art within the scope of the present invention.

합성예Synthesis Example 1: 수지(B)의 합성 1: Synthesis of Resin (B)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고; 모노머 적하 로트에 3,4-에폭시트리시클로데칸-8-일(메타)아크릴레이트와 3,4-에폭시트리시클로데칸-9-일(메타)아크릴레이트의 혼합물(50:50 몰비) 40중량부, 메틸메타크릴레이트 50중량부, 아크릴산 40중량부, 비닐톨루엔 70중량부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40중량부를 투입한 후 교반 및 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고; 연쇄이동제 적하조에 n-도데칸티올 6중량부, PGMEA 24중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄이동제 적하로트를 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395중량부를 도입하고 플라스크 내의 분위기를 공기에서 질소로 바꾼 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온시켰다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하했다. 적하는 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하고, 1 시한 후에 110℃로 승온하여 5 시간동안 유지하여 고형분 산가가 75㎎KOH/g인 수지(B)를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 17,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.3이었다.
Preparing a flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping lot, and a nitrogen inlet tube; 40 parts by weight of a mixture of 50,50 molar ratio of 3,4-epoxytricyclodecane-8-yl (meth) acrylate and 3,4-epoxytricyclodecane-9-yl (meth) acrylate in a monomer dropping lot 50 parts by weight of methyl methacrylate, 40 parts by weight of acrylic acid, 70 parts by weight of vinyltoluene, 4 parts by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and 40 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) Then stirred and mixed to prepare a monomer dropping lot; 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added to the chain transfer agent dropping tank to prepare a chain transfer agent drop lot. Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed from air to nitrogen, and then the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Subsequently, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping lot. The dropwise addition was carried out for 2 hours while maintaining 90 ° C. After 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C and maintained for 5 hours to obtain a resin (B) having a solid acid value of 75 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 17,000, and molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.3.

상기 알칼리 가용성 수지의 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)의 측정은 GPC법을 이용하여 이하의 조건으로 행하였다:The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the alkali-soluble resin were measured under the following conditions using the GPC method.

장치: HLC-8120GPC(도소㈜ 제조)Equipment: HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL(직렬 접속)Column: TSK-GELG4000HXL + TSK-GELG2000HXL (Serial Connection)

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

이동상 용매: 테트라히드로퓨란Mobile phase solvent: tetrahydrofuran

유속: 1.0 ㎖/분Flow rate: 1.0 ml / min

주입량: 50 ㎕Injection volume: 50 μl

검출기: RIDetector: RI

측정 시료 농도: 0.6 중량%(용매 = 테트라히드로퓨란)Sample concentration measured: 0.6 wt% (solvent = tetrahydrofuran)

교정용 표준 물질: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조)Calibration standard: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation)

상기에서 얻어진 중량평균분자량 및 수평균분자량의 비를 분자량 분포 (Mw/Mn)로 하였다
The ratio of the weight average molecular weight and number average molecular weight obtained above was made into molecular weight distribution (Mw / Mn).

제조예Production Example 1 내지  1 to 제조예Production Example 4: 도막 형성용 코팅 조성물의 제조 4: Preparation of Coating Composition for Coating Film Formation

하기 표 1에 기재된 성분을 해당 조성비에 따라 혼합하여 코팅 조성물을 제조하였다.To prepare a coating composition by mixing the components shown in Table 1 according to the composition ratio.

안료
Pigment
수지Suzy 중합성 화합물Polymerizable compound 중합개시제Polymerization initiator 용제solvent
종류Kinds 함량content 제조예 1Preparation Example 1 산화티탄Titanium oxide 5050 2525 2323 22 200200 제조예 2Preparation Example 2 -- -- 5555 4040 55 200200 제조예 3Preparation Example 3 카본블랙Carbon black 4040 3030 2828 22 200200 제조예 4Preparation Example 4 산화티탄/카본블랙Titanium Oxide / Carbon Black 30/1030/10 3030 2828 22 200200

(단위: 중량%)(Unit: weight%)

수지: 합성예 1에서 제조된 수지 사용Resin: Use of Resin Prepared in Synthesis Example 1

중합성 화합물: KAYARAD DPHA (닛본가야꾸 제조)Polymerizable compound: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)

중합개시제: Irgacure OXE-02 (BASF사)Polymerization initiator: Irgacure OXE-02 (BASF)

용제 : 프로필렌글리콜모노메틸 에테르아세테이트
Solvent: Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate

실시예Example 1: 디스플레이 장치의 전면  1: front of the display device 차광층의Shading 제조 Produce

유리 기판(5cm X 5cm, 이글 2000; 코닝사 제조)을 중성 세제, 물 및 알코올로 순차 세정한 후 건조하였다. 유리 기판 상에 상기 제조예 1에서 제조된 코팅 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK; 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 실시하여 기판을 제조 하였다. 백색도막의 두께는 6㎛로 측정 되었다.A glass substrate (5 cm × 5 cm, Eagle 2000; manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water, and alcohol, and then dried. The coating composition prepared in Preparation Example 1 was spin coated onto a glass substrate, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask is 50 μm, and the light is irradiated with an exposure amount (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK; Topcon Co., Ltd.). It was. At this time, radiation of ultra-high pressure mercury lamp was used for light irradiation, and a photomask having a pattern having a square light-transmitting portion of 3 cm × 3 cm was used on the same plane. After light irradiation, the coating film was developed by immersing the aqueous coating solution containing 0.12% of nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 25 ° C. for 100 seconds, and then washed with water in an oven for 20 minutes at 220 ° C. to prepare a substrate. . The thickness of the white coating film was measured to be 6㎛.

상기 백색 도막이 도입된 기판을 사용하여 백색 도막 상에 상기 제조예 2에서 제조된 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐을 이용하여 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK: 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 건조를 실시하여 기판을 제작 하였다. 이 때, 형성된 반사휘도 향상용 도막의 두께는 0.5 ㎛로 측정되었다. Using the substrate to which the white coating film was introduced, spin-coated the composition prepared in Preparation Example 2 on the white coating film, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes using a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and light was emitted at an exposure dose (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK: Topcon Co., Ltd.). Investigate. At this time, the radiation of the ultra-high pressure mercury lamp was used for the irradiation of light, the photomask is a 3cm x 3cm photomask in which a pattern having a square light transmitting part is formed on the same plane. After irradiation with light, the coating film was developed by immersion for 100 seconds at 25 ° C. for 100 seconds in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide. After washing with water, the substrate was dried at 220 ° C. for 20 minutes. Made. At this time, the thickness of the formed reflective brightness improvement coating film was measured to be 0.5 micrometer.

상기 백색도막 표면에 반사휘도 향상용 도막이 도입된 기판을 상온으로 냉각한 후, 상기 제조예 3에서 제조된 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후, 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK: 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 포스트베이크를 실시하여 두께 3㎛의 블랙도막을 형성하여 디스플레이 장치의 전면 차광층을 제조 하였다.
After cooling the substrate to which the coating film for improving the reflection brightness was introduced on the surface of the white coating film was cooled to room temperature, the composition prepared in Preparation Example 3 was spin coated, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and the light was exposed at an exposure amount (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK: Topcon Co., Ltd.). Was investigated. At this time, the radiation of the ultra-high pressure mercury lamp was used for the irradiation of light, the photomask is a 3cm x 3cm photomask in which a pattern having a square light transmitting part is formed on the same plane. After light irradiation, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 25 ° C. for 100 seconds for development. After washing with water, post-baking was carried out at 220 ° C. for 20 minutes in an oven. A 3 μm black coating was formed to prepare the front light shielding layer of the display device.

실시예Example 2: 디스플레이 장치의 전면  2: front of the display device 차광층의Shading 제조 Produce

유리 기판(5cm X 5cm, 이글 2000; 코닝사 제조)을 중성 세제, 물 및 알코올로 순차 세정한 후 건조하였다. 유리 기판 상에 상기 제조예 1에서 제조된 코팅 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK; 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 실시하여 기판을 제조 하였다. 백색도막의 두께는 6㎛로 측정 되었다.A glass substrate (5 cm × 5 cm, Eagle 2000; manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water, and alcohol, and then dried. The coating composition prepared in Preparation Example 1 was spin coated onto a glass substrate, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask is 50 μm, and the light is irradiated with an exposure amount (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK; Topcon Co., Ltd.). It was. At this time, radiation of ultra-high pressure mercury lamp was used for light irradiation, and a photomask having a pattern having a square light-transmitting portion of 3 cm × 3 cm was used on the same plane. After light irradiation, the coating film was developed by immersing the aqueous coating solution containing 0.12% of nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 25 ° C. for 100 seconds, and then washed with water in an oven for 20 minutes at 220 ° C. to prepare a substrate. . The thickness of the white coating film was measured to be 6㎛.

상기 백색 도막이 도입된 기판을 사용하여 백색 도막 상에 상기 제조예 2에서 제조된 코팅 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK: 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 실시하여 기판을 제작 하였다. 이 때, 형성된 반사휘도 향상용 도막의 두께는 2 ㎛로 측정되었다. The coating composition prepared in Preparation Example 2 was spin coated on the white coating film using the substrate on which the white coating film was introduced, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and light was emitted at an exposure dose (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK: Topcon Co., Ltd.). Investigate. At this time, the radiation of the ultra-high pressure mercury lamp was used for the irradiation of light, the photomask is a 3cm x 3cm photomask in which a pattern having a square light transmitting part is formed on the same plane. After light irradiation, the coating film was developed by immersing the coating film for 25 seconds at 25 ° C. for 100 seconds in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide, followed by washing for 20 minutes at 220 ° C. in an oven after washing with water to prepare a substrate. . At this time, the thickness of the formed reflective film for improving the brightness was measured to be 2 m.

상기 백색도막 표면에 반사휘도 향상용 도막이 도입된 기판을 상온으로 냉각 후, 제조예 4에 의하여 제조된 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후, 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK: 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 포스트베이크를 실시하여 두께 3㎛의 그레이도막을 형성하여 디스플레이 장치의 전면 차광층을 제조 하였다.
After cooling the substrate into which the coating film for improving the reflection brightness was introduced on the surface of the white coating film was cooled to room temperature, the coating prepared in Preparation Example 4 was spin coated, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and the light was exposed at an exposure amount (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK: Topcon Co., Ltd.). Was investigated. At this time, the radiation of the ultra-high pressure mercury lamp was used for the irradiation of light, the photomask is a 3cm x 3cm photomask in which a pattern having a square light transmitting part is formed on the same plane. After light irradiation, the coating film was developed by immersing the coating film at 25 ° C. for 100 seconds in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide, followed by post-baking at 220 ° C. for 20 minutes in an oven after washing with water. A 3 μm gray film was formed to prepare a front light shielding layer of the display device.

비교예Comparative example 1: 디스플레이 장치의 전면  1: front of the display device 차광층의Shading 제조 Produce

유리 기판 (5cm X 5cm , 이글 2000; 코닝사 제조)을 중성 세제, 물 및 알코올로 순차 세정한 후 건조하였다. 유리 기판 상에 상기 제조예 1에서 제조된 코팅 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK: 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 실시하여 디스플레이 장치의 전면 차광층을 형성 하였다. 상기 백색도막의 두께는 6㎛로 측정 되었다.
A glass substrate (5 cm X 5 cm, Eagle 2000; manufactured by Corning) was washed sequentially with a neutral detergent, water and alcohol, and dried. The coating composition prepared in Preparation Example 1 was spin coated onto a glass substrate, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and light was emitted at an exposure dose (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK: Topcon Co., Ltd.). Investigate. At this time, the radiation of the ultra-high pressure mercury lamp was used for the irradiation of light, the photomask is a 3cm x 3cm photomask in which a pattern having a square light transmitting part is formed on the same plane. After light irradiation, the coating film was developed by immersing the coating film at 25 ° C. for 100 seconds in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide, followed by washing for 20 minutes at 220 ° C. in an oven after washing with water. A light shielding layer was formed. The thickness of the white coating film was measured to 6㎛.

비교예Comparative example 2: 디스플레이 장치의 전면  2: front of the display device 차광층의Shading 제조 Produce

상기 비교예 1에서 제조된 전면 차광층의 백색 도막 상에 제조예 3에서 제조된 코팅 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐을 사용하여 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK: 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 형성된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 실시하여 두께 3 ㎛의 블랙도막을 형성하여 디스플레이 장치의 전면 차광층을 제조 하였다.The coating composition prepared in Preparation Example 3 was spin coated on the white coating film of the front light shielding layer prepared in Comparative Example 1, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes using a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and light was emitted at an exposure dose (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK: Topcon Co., Ltd.). Investigate. At this time, the radiation of the ultra-high pressure mercury lamp was used for the irradiation of light, the photomask is a 3cm x 3cm photomask in which a pattern having a square light transmitting part is formed on the same plane. After light irradiation, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide for 100 seconds at 25 ° C for 100 seconds. The black coating layer was formed to manufacture the front light blocking layer of the display device.

비교예Comparative example 3: 디스플레이 장치의 전면  3: front of the display device 차광층의Shading 제조 Produce

상기 비교예 1에서 제조된 전면 차광층의 백색도막 상에 제조예 4에서 제조된 코팅 조성물을 스핀 코팅한 다음 클린오븐 중에서 90℃에서 3 분간 건조하였다. 상기 건조된 기판을 상온으로 냉각한 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 50㎛로 하여 노광기(TME-150RSK ; 톱콘 (주) 제조)를 사용하여 60mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이 때, 광의 조사에는 초고압 수은등의 방사광이 사용되었고, 포토마스크는 3cm X 3cm로 정사각형의 투광부를 가지는 패턴이 동일 평면 상에 도입된 포토마스크가 사용되었다. 광조사 후 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 100초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 220℃에서 20분간 실시하여 두께 3 ㎛의 그레이도막을 형성하여 디스플레이 장치의 전면 차광층을 제조하였다.
The coating composition prepared in Preparation Example 4 was spin coated on the white coating film of the front light shielding layer prepared in Comparative Example 1, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes in a clean oven. After cooling the dried substrate to room temperature, the distance from the quartz glass photomask was 50 μm, and light was emitted at an exposure amount (365 nm standard) of 60 mJ / cm 2 using an exposure machine (TME-150RSK; manufactured by Topcon Co., Ltd.). Investigate. At this time, radiation of ultra-high pressure mercury lamp was used for irradiation of light, and a photomask in which a pattern having a square light-transmitting portion was introduced on the same plane as a photomask was 3 cm × 3 cm. After light irradiation, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 25 ° C. for 100 seconds for development, and washed with water in an oven at 220 ° C. for 20 minutes to give a thickness of 3 μm. The gray coating film was formed to manufacture the front light shielding layer of the display device.

시험예Test Example : : 광학밀도Optical density 및 백색도 평가 And whiteness assessment

상기 실시예 1 내지 2, 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 디스플레이 장치의 전면 차광층의 광학밀도와 백색도를 하기와 같은 방법으로 측정하여 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Examples of the front light blocking layer of the display device manufactured in Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 3 Optical density and whiteness were measured by the following method, and the results are shown in Table 2 below.

[[ 광학밀도Optical density 측정방법] How to measure]

광학밀도 (Optical density, O.D.)는 X-rite 361T 모델을 사용하여 측정 하였으며 상기 제조된 차광층 샘플을 추가 처리 없이 측정하여 기입하였다.
Optical density (OD) was measured using an X-rite 361T model and the prepared light shielding layer samples were measured and filled in without further processing.

[백색도 평가방법][Whiteness Evaluation Method]

하기 수학식을 이용하여 MINOLTA SPECTROPHOTOMETER CM-3700d에서 측정되는 값을 사용하여 백색도를 계산하였다. 즉, 반사율은 각 샘플당 D65광원에서 5회 측정하고, 그 평균값을 사용하여 하기 수학식으로 백색도를 계산하여 하기 표 2에 나타내었다Whiteness was calculated using the value measured in MINOLTA SPECTROPHOTOMETER CM-3700d using the following equation. That is, the reflectance was measured five times in each D65 light source for each sample, and the whiteness was calculated by the following equation using the average value thereof, and is shown in Table 2 below.

Figure 112013069244014-pat00005
Figure 112013069244014-pat00005

항목Item 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 O.D.O.D. 4.874.87 1.741.74 0.750.75 4.684.68 1.481.48 W.I.W.I. 82.482.4 84.484.4 85.185.1 62.262.2 78.878.8

O.D.: Optical densityO.D .: Optical density

W.I.: White Index = Y+800(Xn-x)+1700(yn-y)W.I .: White Index = Y + 800 (Xn-x) +1700 (yn-y)

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 비교예 1에서 유리기판에 백색도막만 도입되는 경우, W.I. 가 높은 것을 알 수 있다. 그러나 O.D. 값이 매우 낮아 표시장치를 제조하면 내부 부품이 보이는 문제를 나타낸다. 따라서 비교예 2와 같이, 백색도막과 함께 블랙도막을 도입하여 O.D. 값을 높여 차폐성을 높일 수 있다. 그러나 이 경우, 백색도막의 투과도가 높아 후면의 검은색 도막이 보여 W.I.가 낮아지는 것을 알 수 있다. 또한 비교예 3과 같이, Gray(회색)도막을 도입하는 경우, W.I. 값을 많이 낮추지 않을 수 있지만 O.D. 값이 충분히 증가하지 않는 것을 알 수 있다. As shown in Table 2, when only the white coating film is introduced into the glass substrate in Comparative Example 1, W.I. It can be seen that high. But O.D. The very low value indicates the problem of seeing internal components when the display device is manufactured. Therefore, as in Comparative Example 2, the black coating film was introduced together with the white coating film to produce O.D. It is possible to increase the shielding property by increasing the value. However, in this case, it is understood that the W.I. is lowered because the black coating film on the back side is high due to the high transmittance of the white coating film. In addition, as in Comparative Example 3, when a gray (gray) coating film is introduced, W.I. You may not lower the value much, but O.D. It can be seen that the value does not increase sufficiently.

본 발명의 실시예 1 및 2와 같이, 백색도막과 착색도막(검은색 또는 회색도막) 사이에 반사휘도 향상용 도막이 존재하는 경우 O.D. 값과 W.I. 값이 증가하는 것을 알 수 있다(실시예 1와 비교예 2의 비교; 및 실시예 2와 비교예 3의 비교). As in Examples 1 and 2 of the present invention, when there is a coating film for improving the reflection brightness between the white coating film and the coloring coating film (black or gray coating film), O.D. Value and W.I. It can be seen that the value increases (comparison of Example 1 and Comparative Example 2; and comparison of Example 2 and Comparative Example 3).

Claims (8)

투명기판 위에 착색도막(1), 반사휘도 향상용 도막(2) 및 착색도막(3)이 순차적으로 적층되는 구조를 가지며,
상기 착색도막(1) 및 착색도막(3)은 반사휘도 향상용 도막(2)보다 큰 굴절률을 가지며, 상기 착색도막(1)은 착색도막(3)보다 굴절률이 크고 명도가 높은 것을 특징으로 하며,
상기 반사휘도 향상용 도막(2)은 코팅 조성물을 기재 상에 도포하고, 경화 및 현상하여 패턴을 형성함으로써 제조되는 것인, 디스플레이 장치의 전면 차광층.
It has a structure in which the colored coating film 1, the reflection brightness improving coating film 2 and the coloring paint film 3 are sequentially stacked on the transparent substrate,
The colored film (1) and the colored film (3) has a larger refractive index than the reflective film for improving the brightness 2, the colored film (1) is characterized in that the refractive index is larger than the colored film 3 and the brightness is higher ,
The reflective film for improving brightness is produced by applying a coating composition on a substrate, curing and developing to form a pattern, the front light shielding layer of the display device.
청구항 1에 있어서, 상기 반사휘도 향상용 도막(2)이 투명도막인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층.The front light shielding layer of a display device according to claim 1, wherein said reflective brightness improving film (2) is a transparent coating film. 청구항 1에 있어서, 상기 착색도막(1)과 반사휘도 향상용 도막(2)의 굴절률 차이가 0.5 ~ 2.0인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층.The front light shielding layer of a display device according to claim 1, wherein a difference in refractive index between the colored coating film (1) and the reflective brightness improving coating film (2) is 0.5 to 2.0. 청구항 1에 있어서, 상기 착색도막(1)은 백색도막이고, 착색도막(3)은 블랙도막 또는 그레이도막인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층.The front light shielding layer of a display device according to claim 1, wherein the colored coating (1) is a white coating and the colored coating (3) is a black coating or a gray coating. 청구항 1에 있어서, 상기 투명기판은 유리기판인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층.The front shielding layer of claim 1, wherein the transparent substrate is a glass substrate. 청구항 4에 있어서, 상기 착색도막(1)은 안료로서 TiO2 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층.The method according to claim 4, wherein the colored coating 1 is TiO 2 as a pigment The front light blocking layer of the display device comprising a. 청구항 6에 있어서, 상기 착색도막(3)은 안료로서 카본블랙을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 전면 차광층.The method according to claim 6, wherein the coloring film 3 is carbon black as a pigment The front light blocking layer of the display device comprising a. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항의 디스플레이 장치의 전면 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.A display device comprising a front shielding layer of a display device according to any one of claims 1 to 7.
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