KR102019414B1 - Laser apparatus for skin treatment - Google Patents

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KR102019414B1
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KR1020190052168A
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이원주
김민영
조주희
구명욱
고병진
곽윤석
박종국
김성준
강동환
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(주)제이시스메디칼
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Abstract

The present invention relates to a laser device for skin treatment, which comprises: a laser generating unit capable of adjusting the width of pulses generated from a diode laser and generating single pulse or multiple pulses; and a laser amplifying unit amplifying the pulses supplied from the laser generating unit. Therefore, the width of the pulses generated by the laser generating unit is simply adjusted and the amplification of the pulses can be facilitated in the laser amplifying unit.

Description

피부 치료용 레이저 장치{Laser apparatus for skin treatment}Laser apparatus for skin treatment

본 발명은 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 펄스 폭이 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 피부 치료용 레이저 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser treatment laser apparatus, and more particularly, to a laser treatment laser apparatus including a laser generating unit that is easy to adjust the pulse width.

최근 산업 및 연구현장에서 레이저를 이용한 분야에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 특히, 이러한 레이저는 최근 들어 분광학, 나노 이미징, 입자가속, 핵융합 등의 연구분야를 비롯하여, 3D 프린팅, 조면, 통신 공연등의 생활현장과 용접, 절단, 표면 개질 등의 산업현장에서 활발하게 개발되고 있다.Recently, researches on the field using lasers are being actively conducted in industrial and research fields. In particular, these lasers have recently been actively developed in the research fields such as spectroscopy, nano-imaging, particle acceleration, and fusion, as well as in industrial fields such as welding, cutting, and surface modification, as well as in the field of 3D printing, roughening, and communication performances. have.

따라서 다양한 형태의 레이저 생성 장치 및 레이저 증폭 장치들이 개발되고 있다. 하지만 기존의 레이저 생성 장치 및 레이저 증폭 장치들은 다양한 형태의 펄스 파를 얻기 위해서는 구조가 복잡해지고, 구조를 단순하게 할 경우 출력이 줄어드는 문제가 있다.Accordingly, various types of laser generating devices and laser amplifying devices have been developed. However, conventional laser generating devices and laser amplifying devices have a complicated structure in order to obtain various types of pulse waves, and there is a problem in that output is reduced when the structure is simplified.

대한민국등록특허 제10-1898632호Korea Patent Registration No. 10-1898632

본 발명은 펄스 폭이 조절이 용이한 레이저 생성부를 포함하는 피부 치료용 레이저를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a laser for treating the skin including a laser generating unit whose pulse width is easily adjusted.

본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명은 다이오드 레이저로부터 생성된 펄스의 폭을 조절 가능하고, 단일 또는 복수의 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 상기 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, the present invention is a laser generator for controlling the width of the pulse generated from the diode laser, and generates a single or a plurality of pulses and laser amplification for amplifying the pulse supplied from the laser generator It provides a laser treatment device for skin, comprising a portion.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명은 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질, 상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러, 상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터, 통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트, 상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 상기 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러, 상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프, 상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제2미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 제3증폭매질 방향으로 보내는 제4미러, 상기 제4미러에서 공급 받은 펄스를 제4증폭하는 제3증폭매질, 상기 제3증폭매질을 사이에 두고 상기 제4미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3증폭매질을 통과하면서 제4증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제5미러, 상기 제5미러에서 경로가 조절된 펄스를 제4증폭매질 방향으로 보내는 제6미러, 상기 제6미러에서 공급 받은 펄스를 제5증폭하는 제4증폭매질, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질에 빛을 비추는 제2펌핑 램프 및 상기 제4증폭매질을 사이에 두고 상기 제6미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제4증폭매질을 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제7미러를 포함하며, 상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리트를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to another aspect of the invention, the present invention includes a laser generator for generating a pulse width-controlled pulse and a laser amplifier for amplifying a pulse supplied from the laser generator, the laser amplifier, the laser generator A first amplifying medium for firstly amplifying a pulse supplied from the first amplifying medium, a first mirror disposed to reflect the first amplified pulse while passing through the first amplifying medium and returning toward the first amplifying medium, the first amplifying medium A first beamsplitter arranged to face the first mirror with a gap between the first mirror splitter and a second beam splitter for adjusting a path of a second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying medium, A first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter, and a path controlled pulse in the first beam splitter A second mirror, spaced apart from the first amplifying medium, which is sent in a direction of the medium, and the third amplifying medium, the first amplifying medium, and the second amplifying medium which thirdly amplify pulses supplied from the second mirror; A first pumping lamp for illuminating the first amplifying medium and the second amplifying medium, the second amplifying medium and disposed to face the second mirror, the second amplifying medium being spaced apart from each other; A third mirror that adjusts a path by reflecting a third amplified pulse while passing, a fourth mirror that sends a pulse whose path is adjusted in the third mirror in a direction of a third amplification medium, and a pulse supplied from the fourth mirror A fourth amplifying medium, a fourth amplifying medium facing the fourth mirror with the third amplifying medium interposed therebetween, and a fifth mirror for adjusting a path by reflecting a fourth amplified pulse while passing through the third amplifying medium , In the fifth mirror A sixth mirror which sends the adjusted pulse in the fourth amplifying medium direction, and is spaced apart from the fourth amplifying medium, the third amplifying medium and the fourth amplifying medium which fifth amplify the pulses supplied from the sixth mirror. And a second pumping lamp that illuminates the third and fourth amplifying media and the fourth amplifying medium so as to face the sixth mirror, and to pass a pulse passing through the fourth amplifying medium. And a seventh mirror that reflects and adjusts a path, and the pulses supplied from the laser generator are transmitted through the first beam split and directed toward the first amplification medium.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명은 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질, 상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러, 상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터, 통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트, 상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 상기 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러, 상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스가 반사되어 상기 제2증폭매질 방향으로 되돌아 가도록 배치되는 제3미러, 상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제3미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제4증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제2빔스플리터, 통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되는 제3웨이브플레이트 및 상기 제2미러에서 반사된 펄스는 상기 제2빔스플리터를 통하여 상기 제2증폭매질로 공급되고, 상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2미러에서 반사되어 상기 제2빔스플리터로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제2웨이브플레이트를 포함하며, 상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리트를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, the present invention includes a laser generator for generating a pulse width-controlled pulse and a laser amplifier for amplifying a pulse supplied from the laser generator, the laser amplifier, the laser generation A first amplifying medium for firstly amplifying a pulse supplied from a negative portion, a first mirror arranged to return a first amplified pulse to the first amplifying medium while passing through the first amplifying medium and returning to the first amplifying medium A first beamsplitter arranged to face the first mirror with a medium in between, and adapted to control the path of the second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying medium, altering the polarization or phase of the passing pulse The first wave plate disposed between the first mirror and the first beam splitter, and the path-controlled pulse from the first beam splitter to the second wave plate. The second mirror, the first amplification medium and the second amplification medium are arranged to be spaced apart from the second mirror, the first amplification medium, and to amplify a pulse received from the second mirror. A first pumping lamp that emits light in the first and second amplifying media, and a third amplified pulse is reflected through the second amplifying medium and is returned to the second amplifying medium. A second beam splitter arranged to face the second mirror with the second amplifying medium interposed therebetween, the second beam splitter adjusting a path of a fourth amplified pulse by returning to and passing through the second amplifying medium The third wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter and the pulses reflected from the second mirror are used to change the polarization or phase of the pulse passing through the second beam splitter. A second wave plate which is supplied to the second amplification medium and is disposed between the second mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of a pulse reflected from the second mirror and directed to the second beam splitter. Includes, wherein the pulse is supplied from the laser generating unit is transmitted through the first beam split toward the first amplification medium, provides a laser device for treating the skin.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명은 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부 및 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고, 상기 레이저 증폭부는, 상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질, 상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스의 경로를 조절하는 제1미러, 상기 제1미러에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러, 상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러에서 공급 받은 펄스를 제2증폭하는 제2증폭매질, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프, 상기 제2증폭매질에서 제2증폭된 펄스를 통과시키는 제2빔스플리터, 상기 제2빔스플리터를 사이에 두고 상기 제2증폭매질과 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제2증폭되어 상기 제2빔스플리터를 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2빔스플리터를 통과하여 상기 제3미러로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제1웨이브플레이트, 상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제1빔스플리터, 상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스는 제1증폭물질을 통과하여 제3증폭되고, 상기 제3증폭된 펄스는 상기 제1미러에서 경로가 조절되어 상기 제2미러 방향으로 향하며, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스는 상기 제2증폭물질 방향으로 향하고, 상기 제2증폭물질을 통과하여 제4증폭된 펄스는 상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절되어 송출되며, 상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리트를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는, 피부 치료용 레이저 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, the present invention includes a laser generator for generating a pulse width-controlled pulse and a laser amplifier for amplifying a pulse supplied from the laser generator, the laser amplifier, the laser generation A first amplifying medium for firstly amplifying a pulse supplied from a negative portion, a first mirror for adjusting a path of a first amplified pulse while passing through the first amplifying medium, and a second pulse in which the path is adjusted in the first mirror A second amplifying medium, which is spaced apart from the first amplifying medium, a second amplifying medium which amplifies a pulse supplied from the second mirror, the first amplifying medium, and the second amplifying medium; A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying medium and the second amplifying medium, a second beam splitter for passing a second amplified pulse from the second amplifying medium, and a second beam splitter A third mirror disposed to face the second amplification medium with a gap between the second amplification medium and the second amplification medium reflecting a second amplified pulse passing through the second beam splitter to adjust a path; A first wave plate disposed between a mirror and the second beam splitter to change polarization or phase of a pulse passing through the second beam splitter toward the third mirror, the first amplifying medium being interposed therebetween A first beam splitter disposed to face the mirror and adjusting a path by reflecting a pulse whose path is adjusted in the third mirror, and a pulse whose path is adjusted in the first beam splitter passes through a first amplifying material The third amplified pulse is a path controlled in the first mirror toward the second mirror, the pulse is a path controlled in the second mirror toward the second amplifying material The pulses amplified by the fourth amplifier through the second amplified material are controlled by a path of the second beam splitter and are transmitted. The pulses supplied from the laser generator are transmitted through the first beam split to transmit the first amplified signal. Provided is a laser treatment device for skin treatment facing the medium.

본 발명에 따른 피부 치료용 레이저 장치는 다음과 같은 효과가 있다.Laser treatment device for skin according to the present invention has the following effects.

첫째, 레이저 생성부에서 생성되는 펄스의 폭을 간편하게 조절할 뿐만 아니라, 레이저 증폭부에서 펄스의 증폭을 용이하게 할 수 있다.First, not only can easily adjust the width of the pulse generated in the laser generator, it can also facilitate the amplification of the pulse in the laser amplifier.

둘째, 펄스의 폭의 조절이 용이하여 다양한 펄스 파를 쉽게 생성할 수 있다.Second, the pulse width can be easily adjusted to easily generate various pulse waves.

셋째, 다이오드 레이저를 이용한 On/Off 제어를 이용하기 ??문에 조작이 쉽다.Third, it is easy to operate because it uses On / Off control using a diode laser.

넷째, 레이저 증폭부에서 펄스를 증폭하여 출력할 수 있기 때문에, 피부 치료 대상자에게 다양한 펄스 파장, 펄스 폭 및 에너지를 가지는 펄스를 연속적 또는 비연속적으로 출력할 수 있다. 특히 레이저 증폭부의 구조가 매우 단순하여 펄스의 증폭이 용이하다.Fourth, since the laser amplification unit can amplify and output pulses, pulses having various pulse wavelengths, pulse widths and energies can be continuously or discontinuously output to the skin treatment subject. In particular, the structure of the laser amplifier is very simple, so it is easy to amplify the pulse.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 2는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 레이저 생성부의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치의 모식도이다.1 is a schematic diagram of a laser treatment device for skin according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram illustrating a configuration of a laser generating unit of the laser device for treating skin according to FIG. 1.
3 is a schematic diagram of a laser apparatus for treating skin in another embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic diagram of a laser treatment device for skin according to another embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110), 레이저 증폭부(120) 및 제어부(130)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(110)는 레이저 소스 생성부(111) 및 펄스폭 조절부(112)를 포함한다.1 and 2, the laser apparatus 100 for treating skin according to an embodiment of the present invention includes a laser generator 110, a laser amplifier 120, and a controller 130. The laser generator 110 includes a laser source generator 111 and a pulse width controller 112.

상기 레이저 소스 생성부(111)는 시드 레이저(Seed Laser)를 방출한다. 상기 레이저 소스 생성부(111)는 1064nm 파장의 레이저 다이오드로 형성된다. 상기 레이저 소스 생성부(111)는 On/Off 제어를 통해 레이저 펄스를 생성한다. 그리고 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 펄스는 100피코초(ps) 내지 수십밀리세컨초(ms)의 펄스폭으로 가변될 수 있다. 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성되는 레이저 펄스는 상기 제어부(130)의 입력 신호에 따라 상기 펄스폭 조절부(112)에서 실시간으로 상기 레이저 펄스의 폭을 가변할 수 있다. 또한 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 펄스는 P파로 형성된다. 상기 레이저 소스 생성부(111)는 단일 또는 복수의 레이저 펄스를 생성할 수 있다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 레이저 소스 생성부(111)를 다른 종류로 변경 가능하다.The laser source generator 111 emits a seed laser. The laser source generator 111 is formed of a laser diode having a wavelength of 1064 nm. The laser source generator 111 generates a laser pulse through On / Off control. The pulse generated by the laser source generator 111 may vary with a pulse width of 100 picoseconds (ps) to several tens of milliseconds (ms). The laser pulse generated by the laser source generator 111 may vary the width of the laser pulse in real time by the pulse width controller 112 according to an input signal of the controller 130. In addition, the pulse generated by the laser source generator 111 is formed as a P wave. The laser source generator 111 may generate a single or a plurality of laser pulses. However, the present invention is not limited thereto, and the laser source generator 111 may be changed to another type.

상기 펄스폭 조절부(112)는 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성되는 레이저 소스의 에너지, 펄스 폭, 펄스 개수를 조절하여 복수의 서로 다른 에너지, 펄스 폭 및 펄스 개수를 갖는 변조된 레이저 소스를 생성한다. 상기 펄스폭 조절부(112)의 상기 조절은 상기 제어부(130)의 신호에 따라서 수행된다. 상기 펄스 폭 조절부(112)는 전용 드라이버를 포함한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버는 100ps 이하의 짧은 라이징 타임(Rising Time)을 가지고 있어서, 수백 ps의 펄스 폭 제어가 가능한 것을 이용한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버의 경우, ps의 짧은 펄스용 드라이버 또는 ms 이상의 펄스를 제어하는 드라이버 중 선택하여 이용할 수 있다.The pulse width adjusting unit 112 modulates a laser source having a plurality of different energies, pulse widths, and pulse numbers by adjusting energy, pulse width, and number of pulses of the laser source generated by the laser source generator 111. Create The adjustment of the pulse width control unit 112 is performed according to the signal of the control unit 130. The pulse width adjusting unit 112 includes a dedicated driver. The dedicated driver of the diode laser has a short rising time of 100 ps or less, and uses a pulse width control of several hundred ps. In the case of the dedicated driver of the diode laser, a driver may be selected from a driver for short pulses of ps or a driver for controlling pulses of ms or more.

상기 펄스폭 조절부(112)는 상기 복수의 변조된 레이저 소스 중 어느 하나 또는 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 레이저 소스 중 어느 하나를 상기 레이저 증폭부(120)로 송출한다. 물론 상기 펄스폭 조절부(112)는 상기 복수의 변조된 레이저 소스 중 어느 하나와 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부(120)로 송출할 수도 있다. 또한 상기 복수의 변조된 레이저 소스와 상기 레이저 소스 생성부(111)에서 생성된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부(120)로 송출할 수도 있고, 상기 복수의 변조된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부로 송출할 수도 있다. 상기 레이저 생성부(120)는 상기 제어부(130)의 입력 신호에 따라 실시간으로 펄스 폭을 가변하는 것이 가능하다. 따라서 간편하게 다양한 펄스 폭을 가진 레이저 펄스를 생성하는 것이 가능한 장점이 있다.The pulse width adjusting unit 112 transmits any one of the plurality of modulated laser sources or any one of the laser sources generated by the laser source generator 111 to the laser amplifier 120. Of course, the pulse width adjusting unit 112 may alternately transmit any one of the plurality of modulated laser sources and the laser source generated by the laser source generating unit 111 to the laser amplifying unit 120. In addition, the plurality of modulated laser sources and the laser sources generated by the laser source generator 111 may be alternately transmitted to the laser amplifier 120, and the plurality of modulated laser sources may be alternately transmitted to the laser. It can also be sent to the amplifier. The laser generator 120 may change the pulse width in real time according to the input signal of the controller 130. Therefore, there is an advantage in that it is possible to simply generate laser pulses having various pulse widths.

상기 레이저 증폭부(120)는 제1빔스플리터(123), 제1증폭매질(121a), 제1미러(122a), 제1웨이브플레이트(124), 제2미러(122b), 제2증폭매질(121b), 제3미러(122c), 제4미러(122d), 제3증폭매질(121c), 제5미러(122e), 제6미러(122f), 제4증폭매질(121d), 제7미러(122g), 제8미러(122h), 제1렌즈(125a), 제2렌즈(125b), 제1펌핑 램프(126a), 제2펌핑 램프(126b) 및 2차 조화파 발생장치(127)를 포함한다. 상기 제1빔스플리터(123)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 펄스는 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(123)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(123)는 상기 레이저 생성부(110)에서 공급 받은 레이저 소스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(123)의 배치는 변경될 수 있다. 제1빔스플리터(123)의 다른 역할은 후술한다.The laser amplifier 120 includes a first beam splitter 123, a first amplification medium 121a, a first mirror 122a, a first wave plate 124, a second mirror 122b, and a second amplification medium. 121b, third mirror 122c, fourth mirror 122d, third amplifying medium 121c, fifth mirror 122e, sixth mirror 122f, fourth amplifying medium 121d, and seventh Mirror 122g, eighth mirror 122h, first lens 125a, second lens 125b, first pumping lamp 126a, second pumping lamp 126b, and second harmonic generator 127 ). The first beam splitter 123 transmits P-polarized light and reflects S-polarized light. Therefore, since the laser pulse supplied from the laser generating unit 110 is a P wave, the laser beam passes through the first beam splitter 123 as it is. In addition, the first beam splitter 123 is disposed on the same axis as the traveling direction of the laser source supplied from the laser generator 110. Of course, the arrangement of the first beam splitter 123 may be changed. Other roles of the first beam splitter 123 will be described later.

상기 제1증폭매질(121a)은 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급되는 레이저 소스가 단일 또는 복수 회 통과하면서 증폭되도록 하는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(121a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(126a)는 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(121a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(121a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The first amplification medium 121a serves to amplify the laser source supplied from the laser generation unit 110 while passing through a single or multiple times. The first pumping lamp 126a shines light on the first amplifying medium 121a to excite the ions in the first amplifying medium 121a. The first pumping lamp 126a is spaced apart from the first amplifying medium 121a. The first amplification medium 121a is formed in a rod structure. The first amplification medium 121a is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the first amplification medium 121a.

그리고 상기 제1증폭매질(121a)은 상기 제1빔스플리터(123)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭 된다.The first amplification medium 121a is disposed on the same axis as the first beam splitter 123. Therefore, the laser pulse transmitted through the first beam splitter 123 is first amplified while passing through the first amplifying medium 121a.

상기 제1미러(122a)는 상기 제1빔스플리터(123) 및 상기 제1증폭매질(121a)과 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(122a)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다. The first mirror 122a is disposed on the same axis as the first beam splitter 123 and the first amplifier medium 121a. Therefore, the first reflection medium is a reflection mirror that passes through the first amplification medium 121a and reflects the first amplified laser pulse toward the first amplification medium 121a. The first mirror 122a serves to return the first amplified laser pulse to be amplified by the first amplifying medium 121a while passing through the first amplifying medium 121a.

이 때 상기 제1증폭매질(121a)과 상기 제1미러(122a) 사이에는 제1웨이브플레이트(124)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(122c)는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하여 상기 제1미러(122a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(122a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(110)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(123)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a first wave plate 124 is disposed between the first amplification medium 121a and the first mirror 122a. The first wave plate 124 is formed of a quarter wave plate (QWP, Quarter-Wave-Plate) for changing the phase of the wave passing through the first wave plate 124 by a quarter wavelength. That is, the first wave plate 122c changes the phase of the laser pulse 1/4 wavelength through the first amplification medium 121a and toward the first mirror 122a, and the first mirror 122a. The wavelength of the laser pulse reflected back to the first amplification medium 121a is changed to 1/4 wavelength again. Therefore, the P wave supplied from the laser generator 110 changes into an S wave while passing through the first wave plate 124 twice. This is for reflecting the light beam instead of transmitting the light beam when it returns to the first beam splitter 123 so as to change the path of the laser pulse.

상기 제1웨이브플레이트(124)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(121a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(121a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(123)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.The laser pulse that passes through the first wave plate 124 twice and then returns to the first amplification medium 121a is second amplified while passing through the first amplification medium 121a. The path of the second amplified laser pulse is adjusted in the first beam splitter 123. That is, the second amplified laser pulse is reflected by the first beam splitter 123 so that the path is changed by 90 degrees.

상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123) 상측에 형성된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(123)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(122b)에서 반사된다. 상기 제2미러(122b)는 상기 제1빔스플리터(123)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(121b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The second mirror 122b is formed above the first beam splitter 123. Therefore, the laser pulse reflected by the first beam splitter 123 is reflected by the second mirror 122b. The second mirror 122b is disposed to reflect the laser pulse supplied from the first beam splitter 123 toward the second amplification medium 121b.

상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(121b) 내의 이온들은 상기 제1펌핑 램프(126a)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제2증폭매질(121b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(121a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭매질(121b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The second amplification medium 121b serves to third amplify the laser pulse reflected from the second mirror 122b. The second amplification medium 121b is spaced apart from the first amplification medium 121a. Ions in the second amplification medium 121b may be excited by the first pumping lamp 126a. The second amplification medium 121b is formed in a rod structure. The second amplification medium 121a is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the second amplification medium 121b.

그리고 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제1증폭매질(121a)의 상측에 배치된다. 또한 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)와 동일 축 상에 배치된다. 즉, 상기 제2증폭매질(121b)은 상기 제2미러(122b)의 배치 위치에 따라 상기 제1증폭매질(121a)의 하측에 배치될 수도 있다.The second amplification medium 121b is disposed above the first amplification medium 121a. In addition, the second amplification medium 121b is disposed on the same axis as the second mirror 122b. That is, the second amplification medium 121b may be disposed below the first amplification medium 121a according to the arrangement position of the second mirror 122b.

상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 사이에 두고 상기 제2미러(122b)와 대향되도록 배치된다. 그리고 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과하면서 상기 제3증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제3미러(122c)는 상기 제2증폭매질(121b)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제3미러(122c)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제3미러(122c) 또한 상기 제2미러(122b) 및 상기 제2증폭매질(121b)과 동일 축 상에 배치된다.The third mirror 122c is disposed to face the second mirror 122b with the second amplifying medium 121b interposed therebetween. The third mirror 122c adjusts a path by reflecting the third amplified laser pulse while passing through the second amplification medium 121b. That is, the third mirror 122c serves to change the path by 90 degrees by reflecting the laser pulse passing through the second amplifying medium 121b. Of course, the reflection angle of the laser pulse reflected from the third mirror 122c may be changed. The third mirror 122c is also disposed on the same axis as the second mirror 122b and the second amplifying medium 121b.

상기 제4미러(122d)는 상기 제3미러(122c)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제3증폭매질(121c) 방향으로 반사시킨다. 이 때 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d)로 향하는 레이저 펄스의 진행 경로에는 상기 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절하기 위한 렌즈부(125a, 125b)를 더 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 제1렌즈(125a) 및 제2렌즈(125b)를 포함할 수 있다. 상기 렌즈부(125a, 125b)는 상기 제1렌즈(125a)와 상기 제2렌즈(125b) 사이의 거리를 조절하여 상기 제3미러(122c)에서 상기 제4미러(122d) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 공간 크기를 조절한다.The fourth mirror 122d reflects the laser pulse supplied from the third mirror 122c in the direction of the third amplification medium 121c. In this case, the path of the laser pulse from the third mirror 122c to the fourth mirror 122d may further include lens units 125a and 125b for controlling the spatial size of the laser pulse. The lens units 125a and 125b may include a first lens 125a and a second lens 125b. The lens units 125a and 125b adjust the distance between the first lens 125a and the second lens 125b to direct the laser pulse toward the fourth mirror 122d from the third mirror 122c. To resize the space.

상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4미러(122b)에서 반사된 레이저 펄스를 제4증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제3증폭매질(121c)은 상기 제4증폭매질(121d)과 이격되어 배치된다. 상기 제3증폭매질(121c) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제3증폭매질(121c)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제3증폭매질(121c)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제3증폭매질(121c)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The third amplification medium 121c serves to fourth amplify the laser pulse reflected from the fourth mirror 122b. The third amplification medium 121c is spaced apart from the fourth amplification medium 121d. Ions in the third amplification medium 121c may be excited by the second pumping lamp 126b. The third amplification medium 121c is formed in a rod structure. The third amplification medium 121c is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the third amplification medium 121c.

상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 사이에 두고 상기 제4미러(125b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과하면서 제4증폭된 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 즉, 상기 제5미러(122e)는 상기 제3증폭매질(121c)을 통과한 상기 레이저 펄스를 반사하여 경로를 90도 변경하는 역할을 한다. 물론 상기 제5미러(122e)에서 반사되는 레이저 펄스의 반사각도는 변경이 가능하다. 상기 제5미러(122e)는 상기 제4미러(122d) 및 상기 제3증폭매질(121c)과 동일 축 상에 배치된다.The fifth mirror 122e is disposed to face the fourth mirror 125b with the third amplifying medium 121c interposed therebetween. The fifth mirror 122e adjusts a path by reflecting a fourth amplified laser pulse while passing through the third amplification medium 121c. That is, the fifth mirror 122e changes the path by 90 degrees by reflecting the laser pulse passing through the third amplification medium 121c. Of course, the reflection angle of the laser pulse reflected from the fifth mirror 122e may be changed. The fifth mirror 122e is disposed on the same axis as the fourth mirror 122d and the third amplifying medium 121c.

상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)에서 공급 받은 레이저 펄스를 상기 제4증폭매질(121d) 방향으로 반사시킨다. 본 실시예에서 상기 제6미러(122f)는 상기 제5미러(122e)와 별개로 형성되어 있지만, 상기 제5미러(122e)와 상기 제6미러(122f)는 하나의 미러로 형성될 수도 있다.The sixth mirror 122f reflects the laser pulse supplied from the fifth mirror 122e in the direction of the fourth amplification medium 121d. In the present exemplary embodiment, the sixth mirror 122f is formed separately from the fifth mirror 122e, but the fifth mirror 122e and the sixth mirror 122f may be formed as one mirror. .

상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제6미러(122f)에서 반사된 레이저 펄스를 제5증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제4증폭매질(121d)은 상기 제3증폭매질(121c)과 이격되어 배치된다. 상기 제4증폭매질(121d) 내의 이온들은 상기 제2펌핑 램프(126b)에 의해 여기될 수 있다. 상기 제4증폭매질(121d)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제4증폭매질(121d)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제4증폭매질(121d)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The fourth amplifying medium 121d serves to fifth amplify the laser pulse reflected from the sixth mirror 122f. The fourth amplification medium 121d is spaced apart from the third amplification medium 121c. Ions in the fourth amplification medium 121d may be excited by the second pumping lamp 126b. The fourth amplification medium 121d is formed in a rod structure. The fourth amplification medium 121d is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the fourth amplification medium (121d) any number.

상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 사이에 두고 상기 제6미러(122f)와 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제7미러(122g)는 상기 제4증폭매질(121d)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 상기 제8미러(122h) 방향으로 경로를 조절한다.The seventh mirror 122g is disposed to face the sixth mirror 122f with the fourth amplifying medium 121d therebetween. The seventh mirror 122g reflects the laser pulse passing through the fourth amplification medium 121d to adjust the path in the eighth mirror 122h direction.

상기 제8미러(122h)는 상기 제7미러(122g)의 일측에 배치되고, 상기 제7미러(122g)로부터 공급 받은 레이저 펄스의 경로를 조절한다. 상기 제8미러(122h)에서 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 레이저 증폭부(120)로 출력된다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 제7미러(122g)에서 직접 상기 레이저 증폭부(120)로 레이저 펄스를 출력할 수도 있다.The eighth mirror 122h is disposed at one side of the seventh mirror 122g and adjusts the path of the laser pulse supplied from the seventh mirror 122g. The laser pulse whose path is adjusted in the eighth mirror 122h is output to the laser amplifier 120. However, the present invention is not limited thereto and may output a laser pulse directly from the seventh mirror 122g to the laser amplifier 120.

상기 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 상기 제7미러(122g) 또는 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 레이저 펄스가 진행하는 경로에 배치된다. 상기 2차 조화파 발생장치(127)는 공지의 파장 변화 방식과 유사하게 상기 제8미러(122h)에서 출력되는 상기 레이저 펄스의 파장을 변화시킨다.The second harmonic generator (SHG) 127 changes the wavelength of the laser pulse output from the seventh mirror 122g or the eighth mirror 122h. The second harmonic generator 127 is disposed in a path through which a laser pulse output from the seventh mirror 122g or the eighth mirror 122h travels. The second harmonic generator 127 changes the wavelength of the laser pulse output from the eighth mirror 122h similarly to the known wavelength changing method.

상기 제어부(130)는 상기 레이저 생성부(110) 및 상기 레이저 증폭부(120)를 제어하는 역할을 한다. 즉, 상기 제어부(130)는 상기 레이저 소스 생성부(111) 및 상기 펄스폭 조절부(112)에 신호를 가하여 생성되는 레이저 소스의 에너지 및 펄스 폭 등을 조절한다. 이 때 상기 제어부(130)는 상기 레이저 생성부(110)에 포함되어 있는 다이오드 레이저의 전용 드라이버를 이용하여 펄스 폭이 가변되도록 한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버는 100ps 이하의 짧은 라이징 타임(Rising Time)을 가지고 있어서, 수백 ps의 펄스 폭 제어가 가능한 것을 이용한다. 상기 다이오드 레이저의 전용 드라이버의 경우, ps의 짧은 펄스용 드라이버 또는 ms 이상의 펄스를 제어하는 드라이버 중 선택하여 이용할 수 있다.The controller 130 controls the laser generator 110 and the laser amplifier 120. That is, the controller 130 adjusts energy and pulse width of the laser source generated by applying signals to the laser source generator 111 and the pulse width controller 112. At this time, the control unit 130 uses a dedicated driver for the diode laser included in the laser generation unit 110 to change the pulse width. The dedicated driver of the diode laser has a short rising time of 100 ps or less, and uses a pulse width control of several hundred ps. In the case of the dedicated driver of the diode laser, a driver may be selected from a driver for short pulses of ps or a driver controlling pulses of ms or more.

또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)의 제1펌핑 램프(126a) 및 제2펌핑 램프(126b)에 신호를 가하여 상기 제1증폭매질(121a), 상기 제2증폭매질(121b), 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)의 상태를 조절할 수도 있다. 또한 상기 제어부(130)는 상기 레이저 증폭부(120)에서 출력되는 레이저 펄스가 요구되는 에너지 수준을 갖지 못한 경우 상기 레이저 생성부(110)에 신호를 전달하여 생성되는 레이저 펄스를 조절할 수도 있다.In addition, the control unit 130 applies a signal to the first pumping lamp 126a and the second pumping lamp 126b of the laser amplifier 120 to the first amplifying medium 121a and the second amplifying medium 121b. ), The states of the third amplification medium 121c and the fourth amplification medium 121d may be adjusted. In addition, the controller 130 may adjust the laser pulse generated by transmitting a signal to the laser generator 110 when the laser pulse output from the laser amplifier 120 does not have the required energy level.

본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)는 레이저 생성부(110)에서 간편하게 펄스 폭을 가변할 수 있고, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 레이저 펄스를 여러 번 반복적으로 증폭할 수 있는 구조를 가짐으로써, 상기 레이저 생성부(110)에서 생성된 작은 에너지의 레이저 펄스를 큰 에너지의 레이저 펄스로 증폭할 수 있는 장점이 있다.The laser treatment apparatus 100 for skin according to the present embodiment may simply change the pulse width in the laser generator 110, and may repeatedly amplify the laser pulse generated by the laser generator 110 repeatedly. By having a structure that is, there is an advantage that can amplify the laser pulse of the small energy generated by the laser generation unit 110 with a laser pulse of large energy.

도 1에서는, 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)가 각각 1개 배치되어 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 상기 제1펌핑 램프(126a) 및 상기 제2펌핑 램프(126b)는 각각 2개의 램프를 포함하는 구조를 가져서, 상기 제1펌핑 램프(126a)의 각 램프가 상기 제1증폭매질(121a) 및 상기 제2증폭매질(121b)에 빛을 조사하고, 상기 제2펌핑 램프(126b)의 각 램프가 상기 제3증폭매질(121c) 및 상기 제4증폭매질(121d)에 빛을 조사하게 할 수도 있다. 이 경우, 상기 레이저 증폭부(120)의 제어가 용이해지는 효과가 있다.In FIG. 1, one first pumping lamp 126a and one second pumping lamp 126b are disposed, but the present invention is not limited thereto. The first pumping lamp 126a and the second pumping lamp 126b each have a structure including two lamps, so that each lamp of the first pumping lamp 126a is the first amplifying medium 121a and The second amplifying medium 121b may be irradiated with light, and each lamp of the second pumping lamp 126b may cause the third amplifying medium 121c and the fourth amplifying medium 121d to be irradiated with light. have. In this case, there is an effect that the control of the laser amplifier 120 becomes easy.

도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)는 레이저 생성부(210), 레이저 증폭부(220) 및 제어부(230)를 포함한다. 또한 상기 레이저 생성부(210)는 도 1에 따른 레이저 생성부(110)와 같이 레이저 소스 생성부(미도시)와 펄스폭 조절부(미도시)를 포함할 수 있다. 본 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(200)에서 상기 레이저 생성부(210) 및 상기 제어부(230)는 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사한바 설명을 생략한다.Referring to FIG. 3, the laser apparatus 200 for treating skin according to another embodiment of the present invention includes a laser generator 210, a laser amplifier 220, and a controller 230. In addition, the laser generator 210 may include a laser source generator (not shown) and a pulse width adjuster (not shown), like the laser generator 110 shown in FIG. 1. In the laser treatment apparatus 200 according to the present embodiment, the laser generator 210 and the controller 230 are similar to those of the laser treatment apparatus 100 for skin treatment according to FIG. 1, and thus descriptions thereof will be omitted.

상기 레이저 증폭부(220)는 제1빔스플리터(223a), 제1증폭매질(221a), 제1미러(222a), 제1웨이브플레이트(224a), 제2미러(222b), 제2웨이브플레이트(224b), 제2증폭매질(221b), 제1펌핑 램프(226), 제3미러(222c), 제2빔스플리터(223b), 제3웨이브플레이트(224c), 제1렌즈(225a), 제2렌즈(225b) 및 제4미러(222d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(223a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 1에 따른 레이저 생성부(110) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(223a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(223a)는 상기 레이저 생성부(210)에서 공급 받은 레이저 소스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(223a)의 배치는 변경될 수 있다.The laser amplifier 220 includes a first beam splitter 223a, a first amplification medium 221a, a first mirror 222a, a first wave plate 224a, a second mirror 222b, and a second wave plate. 224b, second amplifying medium 221b, first pumping lamp 226, third mirror 222c, second beam splitter 223b, third wave plate 224c, first lens 225a, A second lens 225b and a fourth mirror 222d are included. Although not shown in the drawings, a second harmonic generator (not shown) as shown in FIG. 1 may be further included. The first beam splitter 223a transmits P-polarized light and reflects S-polarized light. Therefore, since the laser pulse supplied from the laser generator 210 is a P wave as in the laser generator 110 shown in FIG. 1, the laser pulse passes through the first beam splitter 223a as it is. In addition, the first beam splitter 223a is disposed on the same axis as the traveling direction of the laser source supplied from the laser generator 210. Of course, the arrangement of the first beam splitter 223a may be changed.

상기 제1증폭매질(221a)은 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급되는 레이저 소스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제1증폭매질(221a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(221a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226a)는 상기 제1증폭매질(221a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(221a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(221a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The first amplification medium 221a serves to amplify the laser source supplied from the laser generator 210. The first pumping lamp 226 shines light on the first amplifying medium 221a to excite ions in the first amplifying medium 221a. The first pumping lamp 226a is spaced apart from the first amplifying medium 221a. The first amplification medium 221a is formed in a rod structure. The first amplification medium 221a is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the first amplification medium (221a) any number of times.

그리고 상기 제1증폭매질(221a)은 상기 제1빔스플리터(223a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭 된다.The first amplifying medium 221a is disposed on the same axis as the first beam splitter 223a. Therefore, the laser pulse transmitted through the first beam splitter 223a is first amplified while passing through the first amplifying medium 221a.

상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a) 및 상기 제1증폭매질(221a)과 동일 축 상에 배치된다. 또한 상기 제1미러(222a)는 상기 제1빔스플리터(223a)와 상기 제1증폭매질(221a)을 사이에 두고 대향하도록 배치된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(221a) 방향으로 반사하는 전부 반사 거울이다. 상기 제1미러(222a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제1증폭된 상기 레이저 펄스를 상기 제1증폭매질(121a)에 의해 다시 한번 증폭 시키기 위해 되돌려 보내는 역할을 한다.The first mirror 222a is disposed on the same axis as the first beam splitter 223a and the first amplifying medium 221a. In addition, the first mirror 222a is disposed to face the first beam splitter 223a and the first amplifying medium 221a therebetween. The first and second amplification mirrors 221a pass through the first amplified laser pulses to reflect the first mirror 221a. The first mirror 222a serves to send back the first amplified laser pulse to be amplified by the first amplifying medium 121a while passing through the first amplifying medium 221a.

이 때 상기 제1증폭매질(221a)과 상기 제1미러(222a) 사이에는 제1웨이브플레이트(224a)가 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(124)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하는 파의 위상을 1/4파장 변경시키는 쿼터 웨이브플레이트(QWP, Quarter-Wave-Plate)로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(221a)을 통과한 후, 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1웨이브플레이트(224a)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제1웨이브플레이트(224a)는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하여 상기 제1미러(222a)로 향하는 상기 레이저 펄스의 위상을 1/4파장 변경시키고, 상기 제1미러(222a)에 반사되어 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 레이저 펄스의 위상을 다시 1/4파장 변경 시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(210)로부터 공급 받은 P파는 상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과하면서 S파로 변경된다. 이는 상기 제1빔스플리터(223a)로 다시 되돌아 갈 때 투과하지 않고 반사되어 상기 레이저 펄스의 진행 경로가 변경되도록 하기 위함이다.At this time, a first wave plate 224a is disposed between the first amplification medium 221a and the first mirror 222a. The first wave plate 124 is formed of a quarter wave plate (QWP, Quarter-Wave-Plate) for changing the phase of the wave passing through the first wave plate 224a by a quarter wavelength. After passing through the first amplifying medium 221a, the laser beam and the first mirror 222a are passed through the first wave plate 224a and are reflected to the first mirror 222a. The laser pulse directed to the wave plate 224a proceeds circularly polarized. That is, the first wave plate 224a changes the phase of the laser pulse that passes through the first amplifying medium 221a toward the first mirror 222a by a quarter wavelength and the first mirror 222a. The wavelength of the laser pulse reflected back to the first amplification medium 221a is changed to 1/4 wavelength again. Therefore, the P wave supplied from the laser generation unit 210 is changed into an S wave while passing through the first wave plate 224a twice. This is for reflecting the light beam instead of transmitting the light beam when it returns to the first beam splitter 223a so as to change the path of the laser pulse.

상기 제1웨이브플레이트(224a)를 두 번 통과한 후 다시 상기 제1증폭매질(221a)로 되돌아 가는 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(221a)을 통과하면서 제2증폭 된다. 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 경로가 조절된다. 즉, 상기 제2증폭된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사되어 경로가 90도 변경된다.The laser pulse that passes through the first wave plate 224a twice and then returns to the first amplification medium 221a is second amplified while passing through the first amplification medium 221a. The path of the second amplified laser pulse is controlled in the first beam splitter 223a. That is, the second amplified laser pulse is reflected by the first beam splitter 223a so that the path is changed by 90 degrees.

상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)의 경로가 90도 변경된 일측에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(223a)에 반사된 레이저 펄스는 상기 제2미러(222b)에서 반사된다. 상기 제2미러(222b)는 상기 제1빔스플리터(223a)에서 공급 받은 레이저 펄스가 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 반사되도록 배치된다.The second mirror 222b is disposed at one side of which the path of the first beam splitter 223a is changed by 90 degrees. Accordingly, the laser pulse reflected by the first beam splitter 223a is reflected by the second mirror 222b. The second mirror 222b is disposed to reflect the laser pulse supplied from the first beam splitter 223a in the direction of the second amplifying medium 221b.

상기 제2웨이브플레이트(224b) 상기 제2미러(222b)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 향하는 레이저 펄스의 위상을 변경한다. 이 때 상기 제2웨이브플레이트(224b)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와는 달리 하프 웨이브플레이트(HWP, Half Wave Plate)로 형성된다. 즉 상기 제2웨이브플레이트(224b)로 공급 되는 레이저 펄스는 S파 이고, 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스는 파의 위상이 1/2파장 변경되어 P파가 된다. 이는 상기 제2미러(224b)에서 반사된 레이저 펄스가 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 사이에 두고 상기 제2미러(224b)와 대향하도록 배치되는 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하도록 하기 위함이다.The phase of the laser pulse reflected from the second wave plate 224b and the second mirror 222b toward the second amplification medium 221b is changed. In this case, unlike the first wave plate 224a, the second wave plate 224b is formed of a half wave plate (HWP). That is, the laser pulse supplied to the second wave plate 224b is an S wave, and the laser pulse passing through the second wave plate 224b is changed into a half wavelength of the wave to become a P wave. This allows the laser pulse reflected from the second mirror 224b to pass through the second beam splitter 223b disposed to face the second mirror 224b with the second wave plate 224b therebetween. For sake.

상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)와 상기 제2증폭매질(221b) 사이에 배치된다. 상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제2웨이브플레이트(224b)를 통과한 레이저 펄스가 P파이므로 반사하지 않고 투과시킨다.The second beam splitter 223b is disposed between the second wave plate 224b and the second amplifying medium 221b. The second beam splitter 223b transmits the laser pulse after passing through the second wave plate 224b without being reflected by the P wave.

상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2빔스플리터(223b)와 상기 제2웨이브플레이트(224b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(225a) 및 상기 제2렌즈(225b)는 상기 제2미러(222b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The first lens 225a and the second lens 225b are disposed between the second beam splitter 223b and the second wave plate 224b. The first lens 225a and the second lens 225b adjust the spatial size of the laser pulse reflected from the second mirror 222b.

상기 제2증폭매질(221b)은 상기 제2빔스플리터(223b)를 투과하여 공급되는 레이저 소스를 제3증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(221b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(226)는 상기 제2증폭매질(221b)과 이격되어 배치된다. 상기 제2증폭매질(221b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제2증폭매질(221b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The second amplifying medium 221b serves to third amplify the laser source supplied through the second beam splitter 223b. The first pumping lamp 226 illuminates the second amplifying medium 221b to excite ions in the second amplifying medium 221b. The first pumping lamp 226 is disposed spaced apart from the second amplifying medium 221b. The second amplification medium 221b is formed in a rod structure. The second amplification medium 221b is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the second amplification medium 221b.

상기 제3미러(222c)는 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하면서 제3등폭된 레이저 펄스를 반사하여 상기 제2증폭매질(221b) 방향으로 되돌아 가도록 하는 역할을 한다. 이 때 상기 제3미러(222c)와 상기 제2증폭물질(221b) 사이에는 제3웨이브플레이트(224c)가 배치된다. 상기 제3웨이브플레이트(224c)는 상기 제1웨이브플레이트(224a)와 같이 쿼터 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제2증폭매질(221b)로부터 상기 제3미러(222c)로 진행하면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경되고, 상기 제3미러(222c)에서 상기 제2증폭매질(221b)로 되돌아 오면서 상기 레이저 펄스는 1/4파장 위상이 변경된다. 그리고 상기 제2증폭매질(221b)을 통과한 후, 상기 제3웨이브플레이트(224c)를 통과하여 상기 제3미러(222c)로 향하는 레이저 펄스 및 상기 제3미러(222c)에 반사되어 상기 제3웨이브플레이트(224c)로 향하는 레이저 펄스는 원형편광되어 진행한다. 즉, 상기 제2증폭매질(221b)로 돌아오는 상기 레이저 펄스는 P파에서 S파로 파형이 변경된다.The third mirror 222c serves to return to the second amplifying medium 221b by reflecting a third equalized laser pulse while passing through the second amplifying medium 221b. In this case, a third wave plate 224c is disposed between the third mirror 222c and the second amplifying material 221b. The third wave plate 224c is formed of a quarter wave plate like the first wave plate 224a. Therefore, the laser pulse is shifted from the second amplification medium 221b to the third mirror 222c by a quarter wavelength phase, and is shifted from the third mirror 222c to the second amplification medium 221b. Returning, the laser pulse is changed in quarter wavelength phase. After passing through the second amplifying medium 221b, the laser beam and the third mirror 222c are passed through the third wave plate 224c and reflected to the third mirror 222c. The laser pulse directed to the wave plate 224c proceeds circularly polarized. That is, the waveform of the laser pulse returned to the second amplifying medium 221b is changed from P wave to S wave.

상기 제2빔스플리터(223b)는 상기 제3미러(222c)에서 반사되어 상기 제2증폭매질(221b)을 통과하여 제4증폭되는 레이저 펄스를 반사하여 경로를 조절한다. 상기 제2빔스플리터(223b)에서 반사되어 경로가 조절된 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(223b)의 일측에 배치되는 제4미러(222d)에 반사되어 출력된다.The second beam splitter 223b reflects the fourth laser amplified laser beam reflected from the third mirror 222c and passes through the second amplifying medium 221b to adjust the path. The laser pulse reflected by the second beam splitter 223b and whose path is adjusted is reflected and output to the fourth mirror 222d disposed on one side of the second beam splitter 223b.

본 실시예에 따른 장치(200)는 도 1에 따른 장치(100)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 한 번이 적지만 도 1에 따른 장치(100) 보다 구조가 간단한 장점이 있다. 또한 4회의 증폭이 있으므로 상기 레이저 생성부(210)에서 생성된 낮은 에너지의 레이저 펄스를 충분히 큰 에너지를 갖는 레이저 펄스로 증폭이 가능하다.Compared to the apparatus 100 according to FIG. 1, the apparatus 200 according to the present exemplary embodiment has an advantage that the number of amplifications is one time less than four times, but the structure is simpler than the apparatus 100 according to FIG. 1. In addition, since there are four amplifications, it is possible to amplify a low energy laser pulse generated by the laser generator 210 into a laser pulse having a sufficiently large energy.

도 4를 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 피부 치료용 레이저 장치(300)는 레이저 생성부(310), 레이저 증폭부(320) 및 제어부(330)를 포함한다. 상기 레이저 생성부(310)는 도면에는 도시하지 않았지만, 레이저 소스 생성부(미도시) 및 펄스폭 조절부를 포함할 수 있다. 상기 레이저 생성부(310) 및 상기 제어부(330)는 상기 도 1에 따른 피부 치료용 레이저 장치(100)와 유사하므로 설명을 생략한다.Referring to FIG. 4, the laser apparatus 300 for treating skin according to another embodiment of the present invention includes a laser generator 310, a laser amplifier 320, and a controller 330. Although not shown in the figure, the laser generator 310 may include a laser source generator (not shown) and a pulse width controller. Since the laser generation unit 310 and the control unit 330 are similar to the laser treatment apparatus 100 for skin treatment according to FIG. 1, description thereof will be omitted.

상기 레이저 증폭부(320)는 제1빔스플리터(323a), 제1증폭매질(321a), 제1미러(322a), 제2미러(322b), 제1렌즈(325a), 제2렌즈(325b), 제2증폭매질(321b), 제1펌핑 램프(326), 제2빔스플리터(323b), 제1웨이브플레이트(324), 제3미러(322c) 및 제4미러(322d)를 포함한다. 도면에 도시되지는 않았지만 도 1에서와 같은 2차 조화파 발생장치(미도시)가 더 포함될 수도 있다. 상기 제1빔스플리터(323a)는 P편광은 투과하고 S편광은 반사시킨다. 따라서 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 펄스는 도 1에 따른 레이저 생성부(310) 에서와 같이 P파 이므로 상기 제1빔스플리터(323a)를 그대로 투과한다. 또한 상기 제1빔스플리터(323a)는 상기 레이저 생성부(310)에서 공급 받은 레이저 소스의 진행 방향과 동일축 상에 배치된다. 물론 상기 제1빔스플리터(323a)의 배치는 변경될 수 있다.The laser amplifier 320 includes a first beam splitter 323a, a first amplifying medium 321a, a first mirror 322a, a second mirror 322b, a first lens 325a, and a second lens 325b. ), A second amplifying medium 321b, a first pumping lamp 326, a second beam splitter 323b, a first wave plate 324, a third mirror 322c, and a fourth mirror 322d. . Although not shown in the drawings, a second harmonic generator (not shown) as shown in FIG. 1 may be further included. The first beam splitter 323a transmits P-polarized light and reflects S-polarized light. Accordingly, since the laser pulse supplied from the laser generator 310 is a P wave as in the laser generator 310 of FIG. 1, the laser pulse 310 transmits the first beam splitter 323a as it is. In addition, the first beam splitter 323a is disposed on the same axis as the traveling direction of the laser source supplied from the laser generator 310. Of course, the arrangement of the first beam splitter 323a may be changed.

상기 제1증폭매질(321a)은 상기 레이저 생성부(310)로부터 공급되는 레이저 소스를 증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제1증폭매질(321a)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321a)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321a)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The first amplification medium 321a serves to amplify the laser source supplied from the laser generator 310. The first pumping lamp 326 illuminates the first amplifying medium 321a to excite ions in the first amplifying medium 321a. The first pumping lamp 326 is disposed spaced apart from the first amplifying medium 321a. The first amplification medium 321a is formed in a rod structure. The first amplification medium 321a is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the first amplification medium 321a.

그리고 상기 제1증폭매질(321a)은 상기 제1빔스플리터(323a)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제1빔스플리터(323a)를 투과한 상기 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제1증폭 된다.The first amplifying medium 321a is disposed on the same axis as the first beam splitter 323a. Therefore, the laser pulse transmitted through the first beam splitter 323a is first amplified while passing through the first amplifying medium 321a.

상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 사이에 두고 상기 제1빔스플리터(323a)와 대향하도록 배치된다. 상기 제1미러(322a)는 상기 제1증폭매질(321a)을 통과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다.The first mirror 322a is disposed to face the first beam splitter 323a with the first amplifying medium 321a interposed therebetween. The first mirror 322a changes a path by reflecting a laser pulse passing through the first amplifying medium 321a.

상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)에 의해 경로가 변경된 레이저 펄스를 반사하여 다시 경로를 변경시킨다. 상기 제2미러(322b)는 상기 제1미러(322a)의 일측에 배치된다.The second mirror 322b changes the path again by reflecting a laser pulse whose path is changed by the first mirror 322a. The second mirror 322b is disposed at one side of the first mirror 322a.

상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스를 제2증폭시키는 역할을 수행한다. 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제1증폭매질(321a)과 이격되어 배치된다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b) 내의 이온들을 여기시키기 위하여 상기 제2증폭매질(321b)에 빛을 비춘다. 상기 제1펌핑 램프(326)는 상기 제2증폭매질(321b)과 이격되어 배치된다. 상기 제1증폭매질(321b)은 로드(rod) 구조로 형성된다. 그리고 상기 제1증폭매질(321b)은 Nd:YAG로 형성된다. 하지만 본 발명은 상기 제1증폭매질(321b)의 구조 및 형태를 얼마든지 변경 가능하다.The second amplifying medium 321b serves to second amplify the laser pulse reflected from the second mirror 322b. The second amplifying medium 321b is spaced apart from the first amplifying medium 321a. The first pumping lamp 326 illuminates the second amplifying medium 321b to excite the ions in the second amplifying medium 321b. The first pumping lamp 326 is disposed spaced apart from the second amplifying medium 321b. The first amplification medium 321b is formed in a rod structure. The first amplification medium 321b is formed of Nd: YAG. However, the present invention can change the structure and shape of the first amplification medium 321b.

그리고 상기 제2증폭매질(321b)은 상기 제2미러(322b)와 동일 축 상에 배치된다. 따라서 상기 제2미러(322b)에서 반사된 상기 레이저 펄스는 상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제2증폭 된다.The second amplification medium 321b is disposed on the same axis as the second mirror 322b. Therefore, the laser pulse reflected from the second mirror 322b is second amplified while passing through the second amplification medium 321b.

상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)와 상기 제2증폭매질(321b) 사이에 배치된다. 상기 제1렌즈(325a) 및 상기 제2렌즈(325b)는 상기 제2미러(322b)에서 반사된 레이저 펄스의 공간적 크기를 조절한다.The first lens 325a and the second lens 325b are disposed between the second mirror 322b and the second amplifying medium 321b. The first lens 325a and the second lens 325b adjust the spatial size of the laser pulse reflected from the second mirror 322b.

상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭매질(321b)을 사이에 두고 상기 제2미러(322b)와 대향하도록 배치된다. 상기 제2빔스플리터(323b)는 상기 제2증폭된 레이저 펄스가 P파 이므로 투과시킨다.The second beam splitter 323b is disposed to face the second mirror 322b with the second amplifying medium 321b interposed therebetween. The second beam splitter 323b transmits the second amplified laser pulse because it is a P wave.

상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과한 레이저 펄스를 반사하여 경로를 변경시킨다. 상기 제3미러(322c)는 상기 제2빔스플리터(323b)를 사이에 두고 상기 제2증폭매질(321b)과 대향하도록 배치된다.The third mirror 322c changes a path by reflecting a laser pulse transmitted through the second beam splitter 323b. The third mirror 322c is disposed to face the second amplifying medium 321b with the second beam splitter 323b interposed therebetween.

상기 제1웨이브플레이트(324)는 상기 제2빔스플리터(323b)와 상기 제3미러(322c) 사이에 배치된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)는 하프 웨이브플레이트로 형성된다. 따라서 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하는 레이저 펄스는 파형이 P파에서 S파로 변경된다.The first wave plate 324 is disposed between the second beam splitter 323b and the third mirror 322c. The first wave plate 324 is formed of a half wave plate. Therefore, the waveform of the laser pulse passing through the first wave plate 324 is changed from P wave to S wave.

상기 제3미러(322c)는 상기 제1웨이브플레이트(324)를 사이에 두고 상기 제2빔스플리터(323b)와 대향하도록 배치된다. 또한 상기 제3미러(322c)는 상기 제1빔스플리터(323a)의 일측에 배치된다. 상기 제3미러(322c)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제1빔스플리터(323a)로 되돌아가서 반사된다. 상기 제1빔스플리터(323a)에서 반사된 레이저 펄스는 상기 제1증폭매질(321a)로 향한다.The third mirror 322c is disposed to face the second beam splitter 323b with the first wave plate 324 interposed therebetween. In addition, the third mirror 322c is disposed at one side of the first beam splitter 323a. The laser pulse reflected by the third mirror 322c and whose path is changed is returned to the first beam splitter 323a and reflected. The laser pulse reflected by the first beam splitter 323a is directed to the first amplification medium 321a.

상기 제1증폭매질(321a)을 통과하면서 제3증폭 되는 레이저 펄스는 상기 제1미러(322a)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1미러(322a)에 반사되어 경로가 변경된 레이저 펄스는 상기 제2미러(322b)에 반사되어 경로가 바뀌면서 상기 제2증폭매질(321b)로 향한다.The third laser amplified laser beam passing through the first amplification medium 321a is reflected by the first mirror 322a to change a path. The laser pulse reflected by the first mirror 322a and whose path is changed is reflected by the second mirror 322b and is changed to the second amplification medium 321b by changing the path.

상기 제2증폭매질(321b)을 통과하면서 제4증폭되는 레이저 펄스는 제2빔스플리터(323b)에서 반사되어 경로가 변경된다. 상기 제1웨이브플레이트(324)를 통과하면서 파형이 S파로 변경되었기 때문에 상기 레이저 펄스는 상기 제2빔스플리터(323b)를 투과하지 못하고 반사되어 경로가 변경된다.The fourth laser amplified laser beam passing through the second amplifying medium 321b is reflected by the second beam splitter 323b to change its path. Since the waveform is changed to the S wave while passing through the first wave plate 324, the laser pulse does not pass through the second beam splitter 323b and is reflected to change the path.

상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)의 일측에 배치된다. 상기 제4미러(322d)는 상기 제2빔스플리터(323b)에서 반사되는 레이저 펄서의 경로 변경하여 출력한다.The fourth mirror 322d is disposed at one side of the second beam splitter 323b. The fourth mirror 322d changes the path of the laser pulser reflected by the second beam splitter 323b and outputs the changed path.

본 실시예에 따른 장치(300)는 도 3에 따른 장치(200)와 비교할 때 증폭 횟수는 4회로 동일하면서도 웨이브플레이트의 수가 도 2에 따른 장치(200) 보다 작아 구조가 간단하면서도 증폭 효율이 좋은 장점이 있다.Compared to the apparatus 200 according to FIG. 3, the apparatus 300 according to the present embodiment has the same amplification frequency as four times, but the number of wave plates is smaller than that of the apparatus 200 according to FIG. There is an advantage.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

100, 200, 300,: 피부 치료용 레이저 장치
110, 210, 310: 레이저 생성부
111: 레이저 소스 생성부
112: 펄스폭 조절부
120, 220, 320: 레이저 증폭부
121a, 221a, 321a: 제1증폭매질
121b, 221b, 321b: 제2증폭매질
121c: 제3증폭매질
121d: 제4증폭매질
122a, 222a, 322a: 제1미러
122b, 222b, 322b: 제2미러
122c, 222c, 322c: 제3미러
122d, 222d, 322d: 제4미러
122e: 제5미러
122f: 제6미러
122g: 제7미러
122h: 제8미러
123a, 223a, 323a: 제1빔스플리터
223b, 323b: 제2빔스플리터
124a, 224a, 324a: 제1웨이브플레이트
224b: 제2웨이브플레이트
224c: 제3웨이브플레이트
125a, 225a, 325a: 제1렌즈
125b, 225b, 325b: 제2렌즈
126a, 226, 326: 제1펌핑 램프
126b: 제2펌핑 램프
127: 2차 조화파 발생장치
130, 230, 330: 제어부100, 200, 300 ,: laser device for skin treatment
110, 210, 310: laser generator
111: laser source generation unit
112: pulse width adjusting unit
120, 220, 320: laser amplifier
121a, 221a, 321a: first amplification medium
121b, 221b, 321b: second amplification medium
121c: third amplification medium
121d: fourth amplification medium
122a, 222a, 322a: first mirror
122b, 222b, 322b: second mirror
122c, 222c, 322c: third mirror
122d, 222d, and 322d: fourth mirror
122e: fifth mirror
122f: 6th mirror
122g: 7th mirror
122h: 8th mirror
123a, 223a, and 323a: first beam splitter
223b and 323b: second beam splitter
124a, 224a, 324a: first wave plate
224b: second wave plate
224c: third wave plate
125a, 225a, 325a: first lens
125b, 225b, and 325b: second lens
126a, 226, 326: first pumping lamp
126b: second pumping lamp
127: second harmonic generator
130, 230, 330: control unit

Claims (14)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부; 및
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질;
상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제2미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 제3증폭매질 방향으로 보내는 제4미러;
상기 제4미러에서 공급 받은 펄스를 제4증폭하는 제3증폭매질;
상기 제3증폭매질을 사이에 두고 상기 제4미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3증폭매질을 통과하면서 제4증폭된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제5미러;
상기 제5미러에서 경로가 조절된 펄스를 제4증폭매질 방향으로 보내는 제6미러;
상기 제6미러에서 공급 받은 펄스를 제5증폭하는 제4증폭매질;
상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제3증폭매질 및 상기 제4증폭매질에 빛을 비추는 제2펌핑 램프; 및
상기 제4증폭매질을 사이에 두고 상기 제6미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제4증폭매질을 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제7미러를 포함하며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.A laser generator for generating a pulse whose pulse width is adjusted; And
It includes a laser amplifier for amplifying the pulse supplied from the laser generation unit,
The laser amplifier,
A first amplification medium for first amplifying a pulse supplied from the laser generation unit;
A first mirror disposed to reflect the first amplified pulse while passing through the first amplification medium and return to the first amplification medium;
A first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplifying medium interposed therebetween and controlling a path of a second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying medium;
A first wave plate disposed between the first mirror and the first beamsplitter to change the polarization or phase of a passing pulse;
A second mirror for sending a path-controlled pulse in a direction of a second amplification medium in the first beam splitter;
The second amplification medium disposed to be spaced apart from the first amplification medium and configured to amplify a third pulse received from the second mirror;
A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying medium and the second amplifying medium and illuminating the first amplifying medium and the second amplifying medium;
A third mirror disposed to face the second mirror with the second amplifying medium interposed therebetween and reflecting a third amplified pulse while passing through the second amplifying medium to adjust a path;
A fourth mirror which transmits a pulse whose path is controlled in the third mirror in a direction of a third amplification medium;
A third amplifying medium for fourth amplifying the pulses supplied from the fourth mirror;
A fifth mirror disposed to face the fourth mirror with the third amplification medium interposed therebetween and reflecting a fourth amplified pulse while passing through the third amplification medium to adjust a path;
A sixth mirror configured to transmit a pulse whose path is controlled in the fifth mirror in a direction of a fourth amplification medium;
A fourth amplifying medium for fifth amplifying a pulse supplied from the sixth mirror;
A second pumping lamp disposed to be spaced apart from the third amplification medium and the fourth amplification medium, the second pumping lamp illuminating the third amplification medium and the fourth amplification medium; And
A seventh mirror disposed to face the sixth mirror with the fourth amplifying medium therebetween, the seventh mirror adjusting a path by reflecting a pulse passing through the fourth amplifying medium,
The pulse supplied from the laser generation unit passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification medium.
Laser device for skin treatment. 청구항 4에 있어서,
상기 레이저 생성부는,
레이저 소스 생성부; 및
상기 레이저 소스 생성부에서 생성되는 레이저 소스의 에너지 및 펄스 폭을 조절하여, 설정된 에너지 및 펄스 폭을 갖는 변조된 레이저 소스를 생성하는 펄스폭 조절부를 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 4,
The laser generation unit,
A laser source generator; And
And a pulse width controller configured to generate a modulated laser source having a set energy and pulse width by adjusting energy and pulse width of the laser source generated by the laser source generator.
Laser device for skin treatment. 청구항 5에 있어서,
상기 펄스폭 조절부는,
상기 변조된 레이저 소스 중 어느 하나 또는 상기 레이저 소스 생성부에서 생성된 레이저 소스를 상기 레이저 증폭부로 송출하거나,
상기 변조된 레이저 소스 중 어느 하나와 상기 레이저 소스 생성부에서 생성된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부로 송출하거나,
상기 변조된 레이저 소스와 상기 레이저 소스 생성부에서 생성된 레이저 소스를 교번하여 상기 레이저 증폭부로 송출하거나,
상기 변조된 레이저 소스를 상기 레이저 증폭부로 송출하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 5,
The pulse width adjusting unit,
One of the modulated laser sources or the laser source generated by the laser source generator is sent to the laser amplifier,
One of the modulated laser sources and the laser source generated by the laser source generator are alternately sent to the laser amplifier,
The modulated laser source and the laser source generated by the laser source generator are alternately sent to the laser amplifier,
Sending the modulated laser source to the laser amplifier,
Laser device for skin treatment. 청구항 4에 있어서,
상기 제3미러와 상기 제4미러 사이에 배치되고, 상기 제3미러에서 반사된 펄스의 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 4,
A lens unit disposed between the third mirror and the fourth mirror, and further comprising a lens for adjusting the size of the pulse of the pulse reflected from the third mirror,
Laser device for skin treatment. 청구항 4에 있어서,
상기 제7미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하여 출력하는 제8미러, 및
상기 제8미러에 의해 출력되는 펄스의 파장을 변경시키는 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 4,
An eighth mirror reflecting a pulse whose path is adjusted in the seventh mirror to adjust and output a path; and
Further comprising a second harmonic generator (SHG, Second Harmonic Generator) for changing the wavelength of the pulse output by the eighth mirror,
Laser device for skin treatment. 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부; 및
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스가 반사되어 상기 제1증폭매질 방향으로 되돌아가도록 배치되는 제1미러;
상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제1증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제2증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제1미러와 상기 제1빔스플리터 사이에 배치되는 제1웨이브플레이트;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러로부터 공급 받은 펄스를 제3증폭하는 상기 제2증폭매질;
상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭매질을 통과하면서 제3증폭된 펄스가 반사되어 상기 제2증폭매질 방향으로 되돌아 가도록 배치되는 제3미러;
상기 제2증폭매질을 사이에 두고 상기 제3미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질로 되돌아와 통과함으로써 제4증폭되는 펄스의 경로를 조절하는 제2빔스플리터;
통과하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키기 위해서, 상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되는 제3웨이브플레이트; 및
상기 제2미러에서 반사된 펄스는 상기 제2빔스플리터를 통하여 상기 제2증폭매질로 공급되고, 상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2미러에서 반사되어 상기 제2빔스플리터로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제2웨이브플레이트를 포함하며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.A laser generator for generating a pulse whose pulse width is adjusted; And
It includes a laser amplifier for amplifying the pulse supplied from the laser generation unit,
The laser amplifier,
A first amplification medium for first amplifying a pulse supplied from the laser generation unit;
A first mirror disposed to reflect the first amplified pulse while passing through the first amplification medium and return to the first amplification medium;
A first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplifying medium interposed therebetween and controlling a path of a second amplified pulse by returning to and passing through the first amplifying medium;
A first wave plate disposed between the first mirror and the first beamsplitter to change the polarization or phase of a passing pulse;
A second mirror for sending a path-controlled pulse in a direction of a second amplification medium in the first beam splitter;
The second amplification medium disposed to be spaced apart from the first amplification medium and configured to amplify a third pulse received from the second mirror;
A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying medium and the second amplifying medium and illuminating the first amplifying medium and the second amplifying medium;
A third mirror disposed to pass through the second amplification medium and reflect a third amplified pulse to return to the second amplification medium;
A second beam splitter disposed to face the third mirror with the second amplifying medium interposed therebetween and controlling a path of a fourth amplified pulse by returning to and passing through the second amplifying medium;
A third wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter to change the polarization or phase of a passing pulse; And
The pulse reflected from the second mirror is supplied to the second amplification medium through the second beam splitter, is disposed between the second mirror and the second beam splitter, and is reflected from the second mirror to reflect the second beam. A second waveplate for changing the polarization or phase of the pulse directed to the splitter,
The pulse supplied from the laser generation unit passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification medium.
Laser device for skin treatment. 청구항 9에 있어서,
상기 제2빔스플리터와 상기 제2웨이브플레이트 사이에 배치되고, 상기 제2웨이브플레이트에서 편광 또는 위상이 변경된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 9,
A lens unit is disposed between the second beam splitter and the second wave plate, and further comprises a lens unit configured to adjust a magnitude of a pulse whose polarization or phase is changed in the second wave plate.
Laser device for skin treatment. 청구항 9에 있어서,
상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 상기 레이저 증폭부 방향으로 출력하는 제4미러, 및
상기 제4미러에 의해 출력되는 펄스의 파장을 변경시키는 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 9,
A fourth mirror for reflecting the pulse whose path is adjusted by the second beam splitter and outputting the pulse to the laser amplifier;
Further comprising a second harmonic generator (SHG, Second Harmonic Generator) for changing the wavelength of the pulse output by the fourth mirror,
Laser device for skin treatment. 펄스 폭이 조절된 펄스를 생성하는 레이저 생성부; 및
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 증폭하는 레이저 증폭부를 포함하고,
상기 레이저 증폭부는,
상기 레이저 생성부로부터 공급 받은 펄스를 제1증폭하는 제1증폭매질;
상기 제1증폭매질을 통과하면서 제1증폭된 펄스의 경로를 조절하는 제1미러;
상기 제1미러에서 경로가 조절된 펄스를 제2증폭매질 방향으로 보내는 제2미러;
상기 제1증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제2미러에서 공급 받은 펄스를 제2증폭하는 제2증폭매질;
상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질과 이격되어 배치되고, 상기 제1증폭매질 및 상기 제2증폭매질에 빛을 비추는 제1펌핑 램프;
상기 제2증폭매질에서 제2증폭된 펄스를 통과시키는 제2빔스플리터;
상기 제2빔스플리터를 사이에 두고 상기 제2증폭매질과 대향하도록 배치되고, 상기 제2증폭매질을 통과하면서 제2증폭되어 상기 제2빔스플리터를 통과한 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제3미러;
상기 제3미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되어 상기 제2빔스플리터를 통과하여 상기 제3미러로 향하는 펄스의 편광 또는 위상을 변경시키는 제1웨이브플레이트;
상기 제1증폭매질을 사이에 두고 상기 제1미러와 대향하도록 배치되고, 상기 제3미러에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 경로를 조절하는 제1빔스플리터;
상기 제1빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스는 제1증폭매질을 통과하여 제3증폭되고, 상기 제3증폭된 펄스는 상기 제1미러에서 경로가 조절되어 상기 제2미러 방향으로 향하며, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스는 상기 제2증폭매질 방향으로 향하고, 상기 제2증폭매질을 통과하여 제4증폭된 펄스는 상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절되어 송출되며,
상기 레이저 생성부에서 공급 되는 상기 펄스는 상기 제1빔스플리터를 투과하여 상기 제1증폭매질 방향으로 향하는,
피부 치료용 레이저 장치.A laser generator for generating a pulse whose pulse width is adjusted; And
It includes a laser amplifier for amplifying the pulse supplied from the laser generation unit,
The laser amplifier,
A first amplification medium for first amplifying a pulse supplied from the laser generation unit;
A first mirror configured to control a path of the first amplified pulse while passing through the first amplification medium;
A second mirror configured to transmit a pulse whose path is controlled in the first mirror in a direction of a second amplification medium;
A second amplification medium spaced apart from the first amplification medium and configured to amplify a second pulse supplied from the second mirror;
A first pumping lamp disposed to be spaced apart from the first amplifying medium and the second amplifying medium and illuminating the first amplifying medium and the second amplifying medium;
A second beam splitter for passing a second amplified pulse in the second amplification medium;
A third beam disposed to face the second amplification medium with the second beam splitter interposed therebetween, and adjusting a path by reflecting a second amplified while passing through the second amplification medium and passing through the second beam splitter; mirror;
A first wave plate disposed between the third mirror and the second beam splitter to change polarization or phase of a pulse passing through the second beam splitter toward the third mirror;
A first beam splitter disposed to face the first mirror with the first amplifying medium interposed therebetween, the first beam splitter adjusting a path by reflecting a pulse whose path is adjusted in the third mirror;
The pulse whose path is controlled in the first beamsplitter is passed through a first amplification medium to be a third amplified, and the third amplified pulse is controlled by the path in the first mirror and directed toward the second mirror. A pulse whose path is controlled in the second mirror is directed toward the second amplifying medium, and a fourth amplified pulse passing through the second amplifying medium is controlled by the second beam splitter and sent out.
The pulse supplied from the laser generation unit passes through the first beam splitter and is directed toward the first amplification medium.
Laser device for skin treatment. 청구항 12에 있어서,
상기 제2미러와 상기 제2빔스플리터 사이에 배치되고, 상기 제2미러에서 경로가 조절된 펄스의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 12,
A lens unit disposed between the second mirror and the second beam splitter, the lens unit for adjusting the size of the pulse path is adjusted in the second mirror,
Laser device for skin treatment. 청구항 12에 있어서,
상기 제2빔스플리터에서 경로가 조절된 펄스를 반사하여 상기 레이저 증폭부 방향으로 출력하는 제4미러, 및
상기 제4미러에 의해 출력되는 펄스의 파장을 변경시키는 2차 조화파 발생장치(SHG, Second Harmonic Generator)를 더 포함하는,
피부 치료용 레이저 장치.The method according to claim 12,
A fourth mirror for reflecting the pulse whose path is adjusted by the second beam splitter and outputting the pulse to the laser amplifier;
Further comprising a second harmonic generator (SHG, Second Harmonic Generator) for changing the wavelength of the pulse output by the fourth mirror,
Laser device for skin treatment.
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