KR102013535B1 - Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same - Google Patents

Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same Download PDF

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Abstract

Provided is a method for preparing a polyimide precursor composition comprising the following steps: (a) preparing a polyamic acid solution by polymerizing a diamine monomer and a dianhydride monomer at a mole ratio of 1 : 0.98 to 0.99 in an organic solvent; and (b) raising the temperature of the polyamic acid solution at 55 to 85 °C, stirring the same for 1 to 4 hours and aging the same.

Description

저장 안정성 및 점도 안정성이 향상된 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법, 이를 이용하여 제조된 폴리이미드 전구체 조성물 {Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same}Method for Preparing Polyimide Precursor Composition Improved Storage Stability and Viscosity Stability, Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same}

본 발명은 저장 안정성 및 점도 안정성이 향상된 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법, 이를 이용하여 제조된 폴리이미드 전구체 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing a polyimide precursor composition having improved storage stability and viscosity stability, and a polyimide precursor composition prepared using the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는 강직한 방향족 주쇄를 기본으로 하는 열적 안정성을 가진 고분자 물질로 이미드 고리의 화학적 안정성을 기초로 하여 우수한 강도, 내화학성, 내후성, 내열성 등의 기계적 특성을 가진다. Polyimide (PI) is a polymer material having thermal stability based on a rigid aromatic backbone, and has mechanical properties such as excellent strength, chemical resistance, weather resistance, and heat resistance based on the chemical stability of an imide ring.

뿐만 아니라 폴리이미드는 절연 특성, 낮은 유전율과 같은 뛰어난 전기적 특성으로 전자, 통신, 광학 등 광범위한 산업 분야에 적용 가능한 고기능성 고분자 재료로 각광받고 있다.In addition, polyimide has been spotlighted as a high-performance polymer material applicable to a wide range of industrial fields such as electronics, communication, and optics due to its excellent electrical properties such as insulation and low dielectric constant.

최근에는 각종 전자기기가 박형화, 경량화 및 소형화됨에 따라 가볍고 유연성이 우수한 박형의 폴리이미드 필름을 회로기판의 절연소재 또는 디스플레이용 유리기판을 대체할 수 있는 디스플레이 기판으로 사용하고자 하는 연구가 많이 진행되고 있다.Recently, as various electronic devices become thinner, lighter and smaller, many studies have been conducted to use a thin and flexible polyimide film as a display substrate that can replace an insulating material of a circuit board or a glass substrate for a display. .

일반적으로 폴리이미드 필름은 디안하이드라이드와 디아민의 중합 반응으로 제조되는 폴리아믹산을 지지체 상에 도포하고 이미드화하여 필름의 형태로 제조하고, 이를 지지체로부터 박리하는 방법으로 제조된다.In general, a polyimide film is prepared by applying a polyamic acid produced by a polymerization reaction of dianhydride and diamine on a support and imidizing it to prepare a film, and peeling it from the support.

이때, 폴리아믹산은 아민기와 카르복실산기를 모두 포함하고 있으며 특히 카르복실산기 중의 히드록시기가 인접한 아민기와 반응함에 따라 가수분해될 수 있어, 이를 포함하는 폴리이미드 전구체 조성물의 저장 안정성 및 점도 안정성이 불량한 것으로 알려져 있다. 또한, 이러한 현상은 저온일 때보다 상온 또는 그 이상의 조건에서 두드러지는 것으로 알려져 있다.In this case, the polyamic acid includes both an amine group and a carboxylic acid group, and in particular, the hydroxy group in the carboxylic acid group may be hydrolyzed as it reacts with an adjacent amine group, resulting in poor storage stability and viscosity stability of the polyimide precursor composition including the same. Known. In addition, this phenomenon is known to stand out at room temperature or more than the low temperature.

폴리이미드 전구체 조성물의 저장 안정성 및 점도 안정성이 불량할 경우, 공정 중 혹은 장시간 해동 과정에서 점도가 크게 변화할 수 있고, 이에 따라 폴리이미드 전구체 조성물의 도포 및 이미드화가 불안정하게 진행될 수 있다. 또한, 폴리아믹산의 점도가 변화하는 경우에는 폴리이미드 필름의 기계적, 열적 특성의 저하를 야기할 수 있다.When the storage stability and the viscosity stability of the polyimide precursor composition are poor, the viscosity may change greatly during the process or during the long-term thawing process, and thus the application and imidization of the polyimide precursor composition may proceed unstable. In addition, when the viscosity of the polyamic acid changes, it may cause a decrease in the mechanical and thermal properties of the polyimide film.

이중 폴리이미드 필름의 열적 특성의 저하는 고온 공정을 수반하는 디스플레이 기판의 제조에 특히 부정적일 수 있다.The degradation of the thermal properties of the double polyimide film can be particularly negative for the manufacture of display substrates involving high temperature processes.

예를 들어 LTPS(low temperature polysilane) 공정을 사용하는 OLED(organic light emitting diode)의 경우 400℃ 이상의 공정온도가 조성될 수 있으며, 이러한 고온에서는 내열성이 우수한 폴리이미드라 하더라도 열분해될 수 있는 바, 폴리이미드 필름의 열적 특성은 디스플레이 기판을 구현하는데 매우 중요한 인자라 할 수 있다.For example, in the case of an organic light emitting diode (OLED) using a low temperature polysilane (LTPS) process, a process temperature of 400 ° C. or higher may be formed, and even at this high temperature, even a polyimide having excellent heat resistance may be thermally decomposed. The thermal properties of the mid film may be a very important factor for implementing the display substrate.

또한, 상기와 같은 폴리이미드 필름의 제조방법의 경우, 폴리아믹산을 지지체 상에 도포하는 공정, 이후 이미드화하여 필름의 형태로 제조하는 공정 및 이를 지지체로부터 박리하는 공정을 순차적으로 수행하여 다수의 폴리이미드 필름을 생산하는 것이 일반적이며, 특히 폴리아믹산을 지지체 상에 도포하는 공정 중에 방치된 상태에서 폴리아믹산의 점도가 변화하는 경우, 목표로 한 폴리이미드 필름의 두께가 변화하는 문제가 발생할 수 있다.In addition, in the method of manufacturing a polyimide film as described above, a process of applying a polyamic acid on a support, followed by imidization to prepare a film in the form of a film, and a process of peeling it from the support are sequentially performed. It is common to produce a mid film, and in particular, when the viscosity of the polyamic acid changes in the state of being left in the process of applying the polyamic acid on the support, a problem may occur in which the thickness of the target polyimide film changes.

따라서, 상온에서의 저장 안정성 및 공정 중의 점도 안정성이 우수한 폴리아믹산과 기계적, 열적 특성이 우수한 폴리이미드 필름의 필요성이 높은 실정이다.Therefore, there is a high need for a polyamic acid having excellent storage stability at room temperature and viscosity stability during processing, and a polyimide film having excellent mechanical and thermal properties.

본 발명의 목적은, 상온에서의 저장 안정성 및 폴리아믹산을 지지체 상에 도포하는 공정 중의 점도 안정성이 우수한 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법, 이를 이용하여 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a method for producing a polyimide precursor composition having excellent storage stability at room temperature and viscosity stability during a process of applying a polyamic acid on a support, and a polyimide precursor composition prepared using the same.

이와 동시에, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물로부터 제조된 폴리이미드 필름은 1 중량%의 열분해온도(Td)가 560℃ 이상이고, 열팽창계수가 5 ppm/℃ 이하이며, 신율이 15 % 이상이고, 인장강도가 350 MPa 이상이고, 두께가 10 내지 20 ㎛ 일 수 있다. 이러한 폴리이미드 필름은 연성회로기판 또는 디스플레이기 기판에 요구되는 기계적, 열적 특성을 만족하는 이점이 있다.At the same time, the polyimide film prepared from the polyimide precursor composition of the present invention has a thermal decomposition temperature (Td) of 1% by weight of 560 ° C or higher, a thermal expansion coefficient of 5 ppm / ° C or lower, an elongation of 15% or higher, and a tensile strength. The strength may be at least 350 MPa and the thickness may be 10 to 20 μm. Such a polyimide film has an advantage of satisfying mechanical and thermal characteristics required for a flexible printed circuit board or a display substrate.

이에 본 발명은 이의 구체적 실시예를 제공하는데 실질적인 목적이 있다.Therefore, the present invention has a substantial object to provide a specific embodiment thereof.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,The present invention to achieve the above object,

(a) 유기용매 중에서 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 1 : 0.98 내지 0.99의 몰비로 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계; 및(a) polymerizing a diamine monomer and a dianhydride monomer in an organic solvent in a molar ratio of 1: 0.98 to 0.99 to prepare a polyamic acid solution; And

(b) 상기 폴리아믹산 용액을 55 내지 85℃로 승온하고, 1 내지 4 시간 동안 교반하여 에이징(aging)하는 단계를 포함하는, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법을 제공한다.(b) heating the polyamic acid solution to 55 to 85 ° C., and stirring the mixture for 1 to 4 hours to provide a method of preparing a polyimide precursor composition.

본 발명은 또한, 상기 제조방법으로부터 제조된 폴리이미드 전구체 조성물, 상기 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 건조하여 겔 필름을 제조하고, 상기 겔 필름을 경화하는 폴리이미드 필름의 제조방법 및 이로부터 제조되는 폴리이미드 필름을 제공할 수 있다.The present invention also provides a polyimide precursor composition prepared from the production method, the polyimide precursor composition is formed on a support and dried to prepare a gel film, and a method for producing a polyimide film to cure the gel film and the preparation therefrom It can provide the polyimide film which becomes.

본 발명은 또한, 상기 폴리이미드 필름을 포함하는 전자 장치를 제공할 수 있다.The present invention can also provide an electronic device including the polyimide film.

이하에서는, 이의 구현을 위한 구체적인 내용을 본 명세서에서 설명한다.Hereinafter, specific contents for the implementation thereof will be described herein.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to the common or dictionary meanings, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configuration of the embodiments described herein is only one of the most preferred embodiments of the present invention and does not represent all of the technical idea of the present invention, various equivalents and modifications that may be substituted for them at the time of the present application It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" include plural forms unless the context clearly indicates otherwise. As used herein, the terms "comprise", "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, component, or combination thereof, that is, one or more other features, It should be understood that it does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of numbers, steps, components, or combinations thereof.

본 명세서에서 "디안하이드라이드(이무수물; dianhydride)"는 그 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디안하이드라이드가 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디아민과 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "dianhydrides" are intended to include precursors or derivatives thereof, which may technically not be dianhydrides, but nevertheless will react with diamines to form polyamic acids. This polyamic acid can be converted back to polyimide.

본 명세서에서 "디아민"은 그의 전구체 또는 유도체를 포함하는 것으로 의도되는데, 이들은 기술적으로는 디아민이 아닐 수 있지만, 그럼에도 불구하고 디안하이드라이드와 반응하여 폴리아믹산을 형성할 것이며, 이 폴리아믹산은 다시 폴리이미드로 변환될 수 있다.As used herein, "diamine" is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be diamines, but will nevertheless react with dianhydrides to form polyamic acids, which in turn Can be converted to mid.

본 명세서에서 양, 농도, 또는 다른 값 또는 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는 지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성된 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다.Where an amount, concentration, or other value or parameter is given herein as an enumeration of ranges, preferred ranges, or preferred upper and preferred lower values, any pair of any upper range thresholds, whether or not a range is disclosed separately, or It is to be understood that this disclosure specifically discloses all ranges formed with a desired value and any lower range limit or desired value.

수치 값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다.When a range of numerical values is mentioned herein, unless stated otherwise, the range is intended to include the endpoint and all integers and fractions within that range.

본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.It is intended that the scope of the invention not be limited to the particular values mentioned when defining the range.

<폴리이미드 전구체 조성물 및 그 제조방법><Polyimide precursor composition and its manufacturing method>

본 발명에 따른 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법은, Method for producing a polyimide precursor composition according to the present invention,

(a) 유기용매 중에서 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 1 : 0.98 내지 0.99의 몰비로 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계; 및(a) polymerizing a diamine monomer and a dianhydride monomer in an organic solvent in a molar ratio of 1: 0.98 to 0.99 to prepare a polyamic acid solution; And

(b) 상기 폴리아믹산 용액을 55 내지 85℃로 승온하고, 1 내지 4 시간 동안 교반하여 에이징(aging)하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.(b) heating the polyamic acid solution to 55 to 85 ° C., and stirring for 1 to 4 hours for aging.

하나의 구체적인 예에서, 상기 (a) 단계에서의 중합 반응은 10 내지 50℃, 상세하게는 20 내지 40℃에서 이루어질 수 있다.In one specific example, the polymerization reaction in the step (a) may be carried out at 10 to 50 ℃, specifically 20 to 40 ℃.

하나의 구체적인 예에서, 상기 (b) 단계의 에이징은 아래에서 후술하는 바와 같이, 폴리이미드 전구체 조성물의 상온 저장 안정성을 향상시키는 효과를 발휘할 수 있다.In one specific example, the aging of step (b) may exert an effect of improving the room temperature storage stability of the polyimide precursor composition, as described below.

구체적으로, 상기 (b) 단계의 에이징은 폴리아믹산 용액을 55 내지 85℃, 더욱 상세하게는 60 내지 80℃로 승온하고, 1 내지 4 시간, 상세하게는 2 내지 3 시간 동안 교반하는 단계를 포함할 수 있으며, 승온 온도 및 교반 시간이 본 발명에서 한정하는 범위를 벗어나는 경우, 제조되는 폴리이미드 전구체 조성물의 저장 안정성이 저하될 수 있으며, 특히 상기 승온 온도가 지나치게 높은 경우, 용매 증발로 인하여 고형분 함량이 달라질 수 있으며, 이는 제조되는 폴리이미드 필름의 기계적, 열적 특성의 저하를 야기할 수 있는 바 바람직하지 못하다.Specifically, the aging of step (b) includes the step of raising the polyamic acid solution to 55 to 85 ℃, more specifically 60 to 80 ℃, and stirring for 1 to 4 hours, specifically 2 to 3 hours When the temperature rising temperature and the stirring time are outside the range defined in the present invention, the storage stability of the polyimide precursor composition to be produced may be lowered. In particular, when the temperature rising temperature is too high, the solid content may be due to solvent evaporation. This may vary, which is undesirable as it may cause degradation of the mechanical and thermal properties of the polyimide film produced.

하나의 구체적인 예에서, 본 발명에 따른 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법은 (c) 상기 (b) 단계에서 에이징된 폴리아믹산 용액을 10 내지 30℃, 상세하게는 15 내지 25℃로 냉각하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 냉각 방법은 특별히 제한되지 않고, 하나의 예로서 자연 냉각할 수 있다.In one specific example, the method for preparing a polyimide precursor composition according to the present invention comprises the steps of (c) cooling the polyamic acid solution aged in step (b) to 10 to 30 ° C, specifically 15 to 25 ° C. It may further include, the cooling method is not particularly limited, it may be natural cooling as an example.

본 발명의 폴리아믹산 용액의 제조에 사용될 수 있는 디안하이드라이드 단량체는 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드일 수 있으며, 상기 방향족 테트라카르복실릭 디안하이드라이드는 피로멜리틱 디안하이드라이드(또는 PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BPDA), 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 a-BPDA), 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(또는 ODPA), 디페닐설폰-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 DSDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)설파이드 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 디안하이드라이드, 2,3,3',4'- 벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실릭 디안하이드라이드(또는 BTDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메테인 디안하이드라이드, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로페인 디안하이드라이드, p-페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), p-바이페닐렌비스(트라이멜리틱 모노에스터 애시드 안하이드라이드), m-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, p-터페닐-3,4,3',4'-테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 1,3-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)벤젠 디안하이드라이드, 1,4-비스(3,4-디카르복시페녹시)바이페닐 디안하이드라이드, 2,2-비스〔(3,4-디카르복시 페녹시)페닐〕프로페인 디안하이드라이드(BPADA), 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 디안하이드라이드, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭 디안하이드라이드, 4,4'-(2,2-헥사플루오로아이소프로필리덴)디프탈산 디안하이드라이드 등을 예로 들 수 있다. The dianhydride monomer that may be used in the preparation of the polyamic acid solution of the present invention may be an aromatic tetracarboxylic dianhydride, wherein the aromatic tetracarboxylic dianhydride is a pyromellitic dianhydride (or PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or BPDA), 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (or a-BPDA), Oxydiphthalic dianhydride (or ODPA), diphenylsulfone-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride (or DSDA), bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride Lide, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3 ', 4'-benzophenone Tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (or BTDA), bis (3,4-dicarboxy Nil) methane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, p-phenylenebis (trimelitic monoester acid anhydride), p-biphenylene Bis (trimelitic monoester acid anhydride), m-terphenyl-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,4,3', 4 ' Tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1 , 4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) biphenyl dianhydride, 2,2-bis [(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride (BPADA), 2,3 , 6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-(2,2-hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride Ride The are exemplified.

이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있지만, 본 발명에서 특히 바람직하게 이용될 수 있는 디안하이드라이드 단량체는 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.These may be used alone or in combination of two or more as desired, but dianhydride monomers which may be particularly preferably used in the present invention are pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4 At least one selected from the group consisting of '-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) Can be.

또한, 본 발명의 폴리아믹산 용액 제조에 사용될 수 있는 디아민 단량체는 방향족 디아민으로서, 이하와 같이 분류하여 예를 들 수 있다.In addition, the diamine monomer which can be used for manufacture of the polyamic-acid solution of this invention is an aromatic diamine, classified as follows, For example.

1) 1,4-디아미노벤젠(또는 파라페닐렌디아민, PDA), 1,3-디아미노벤젠, 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노벤조익 애시드(또는 DABA) 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 1개를 갖는 디아민으로서, 상대적으로 강직한 구조의 디아민;1) 1,4-diaminobenzene (or paraphenylenediamine, PDA), 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene, 3,5-diaminobenzo Diamines having one benzene nucleus in structure, such as Ik acid (or DABA) and the like, diamines having a relatively rigid structure;

2) 4,4'-디아미노디페닐에테르(또는 옥시디아닐린, ODA), 3,4'-디아미노디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메테인(메틸렌디아민), 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노바이페닐, 2,2'-비스(트라이플루오로메틸)-4,4'-디아미노바이페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3'-디카복시-4,4'-디아미노디페닐메테인, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메테인, 비스(4-아미노페닐)설파이드, 4,4'-디아미노벤즈아닐라이드, 3,3'-디클로로벤지딘, 3,3'-디메틸벤지딘(또는 o-톨리딘), 2,2'-디메틸벤지딘(또는 m-톨리딘), 3,3'-디메톡시벤지딘, 2,2'-디메톡시벤지딘, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디메톡시벤조페논, 3,3'-디아미노디페닐메테인, 3,4'-디아미노디페닐메테인, 4,4'-디아미노디페닐메테인, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로페인, 2,2-비스(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 3,3'-디아미노디페닐설폭사이드, 3,4'-디아미노디페닐설폭사이드, 4,4'-디아미노디페닐설폭사이드 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 2개를 갖는 디아민;2) diaminodiphenyl ethers such as 4,4'-diaminodiphenyl ether (or oxydianiline, ODA), 3,4'-diaminodiphenyl ether, and 4,4'-diaminodiphenylmethane (Methylenediamine), 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (trifluoromethyl ) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane , 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, bis (4-aminophenyl) sulfide, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3' -Dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine (or o-tolidine), 2,2'-dimethylbenzidine (or m-tolidine), 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxy Benzidine, 3,3'-diaminodiphenylether, 3,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4 ' -Diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diamino Phenylsulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4 ' -Diaminobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dimethoxybenzophenone, 3,3'-diaminodiphenyl Methane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-amino Phenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1 , 1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3'-diaminodiphenylsulfoxide, 3,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide Diamines having two benzene nuclei in structure, and the like;

3) 1,3-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노 페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(또는 TPE-Q), 1,3-비스(3-아미노페녹시)-4-트라이플루오로메틸벤젠, 3,3'-디아미노-4-(4-페닐)페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디(4-페닐페녹시)벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설파이 드)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설파이드)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페닐설폰)벤젠, 1,3-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(3-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠, 1,4-비스〔2-(4-아미노페닐)아이소프로필〕벤젠 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 3개를 갖는 디아민;3) 1,3-bis (3-aminophenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenyl) benzene, 1,4-bis (3-aminophenyl) benzene, 1,4-bis (4-amino Phenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene (or TPE-Q), 1,4-bis (4-aminophenoxy) Benzene (or TPE-Q), 1,3-bis (3-aminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzene, 3,3'-diamino-4- (4-phenyl) phenoxybenzophenone, 3 , 3'-diamino-4,4'-di (4-phenylphenoxy) benzophenone, 1,3-bis (3-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (4-aminophenylsulfide) Benzene, 1,4-bis (4-aminophenylsulfide) benzene, 1,3-bis (3-aminophenylsulfone) benzene, 1,3-bis (4-aminophenylsulfone) benzene, 1,4-bis ( 4-aminophenylsulfone) benzene, 1,3-bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4-bis [2- (3-aminophenyl) isopropyl] benzene, 1,4- Having three benzene nuclei in structure, such as bis [2- (4-aminophenyl) isopropyl] benzene Amine;

4) 3,3'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 3,3'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)바이페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)바이페닐, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕에테르, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕케톤, 비스〔4-(4-아미노 페녹시)페닐〕케톤, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스 〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설파이드, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕메테인, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕메테인, 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕프로페인(BAPP), 2,2-비스〔3-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔3-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인, 2,2-비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로페인 등과 같이, 구조 상 벤젠 핵 4개를 갖는 디아민.4) 3,3'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 3,3'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (4-aminophenoxy C) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-amino phenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide , Bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-ami) Phenoxy) phenyl] sulfone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (3-aminophenoxy) Phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- ( 4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [3- (4 -Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1, Such as 3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, and the like, Diamine with four benzene nuclei in structure.

이들은 소망하는 바에 따라 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 이용할 수 있지만, 본 발명에서 특히 바람직하게 이용될 수 있는 디아민 단량체는, 4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익에시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.These may be used alone or in combination of two or more as desired, but the diamine monomers which may be particularly preferably used in the present invention include 4-diaminobenzene (PPD) and 1,3-diaminobenzene (MPD). , 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene and 3,5-diaminobenzoic acid (DABA) may be one or more selected from the group consisting of.

본 발명에서 사용되는 상기 유기 용매는 폴리아믹산이 용해될 수 있는 유기 용매라면 특별히 한정되지는 않으나, 하나의 예로서 비양성자성 극성 용매(aprotic polar solvent)일 수 있다.The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it is an organic solvent in which polyamic acid can be dissolved, but may be an aprotic polar solvent as one example.

상기 비양성자성 극성 용매의 비제한적인 예로서, N,N'-디메틸포름아미드(DMF), N,N'-디메틸아세트아미드(DMAc) 등의 아미드계 용매, p-클로로페놀, o-클로로페놀 등의 페놀계 용매, N-메틸-피롤리돈(NMP), 감마 브티로 락톤(GBL) 및 디그림(Diglyme) 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 사용될 수 있다.Non-limiting examples of the aprotic polar solvent include amide solvents such as N, N'-dimethylformamide (DMF) and N, N'-dimethylacetamide (DMAc), p-chlorophenol, o-chloro Phenol solvents such as phenol, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma butyrolactone (GBL), and Diglyme (Diglyme), and the like. These may be used alone or in combination of two or more thereof.

경우에 따라서는 톨루엔, 테트라히드로푸란, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메탄올, 에탄올, 물 등의 보조적 용매를 사용하여, 폴리아믹산의 용해도를 조절할 수도 있다.In some cases, the solubility of the polyamic acid may be adjusted by using auxiliary solvents such as toluene, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol and water.

하나의 예에서, 상기 유기 용매에 특히 바람직하게 사용될 수 있는 유기 용매는 N-메틸-피롤리돈(NMP) 일 수 있다.In one example, the organic solvent which may be particularly preferably used for the organic solvent may be N-methyl-pyrrolidone (NMP).

한편, 상기 "폴리이미드 전구체 조성물 제조 공정"에는 접동성, 열전도성, 도전성, 코로나 내성, 루프 경도 등의 필름의 여러 가지 특성을 개선할 목적으로 충전재가 첨가될 수 있다. 첨가되는 충전재는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직한 예로는 실리카, 산화티탄, 알루미나, 질화규소, 질화붕소, 인산수소칼슘, 인산칼슘, 운모 등을 들 수 있다.Meanwhile, a filler may be added to the “process of preparing a polyimide precursor composition” for the purpose of improving various properties of a film such as sliding, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop hardness. The filler to be added is not particularly limited, but preferred examples thereof include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.

충전재의 입경은 특별히 한정되는 것은 아니며, 개질하여야 할 필름 특성과 첨가하는 충전재의 종류에 따라서 결정할 수 있다. 일반적으로는, 평균 입경이 0.05 내지 20 ㎛, 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 ㎛, 특히 바람직하게는 0.1 내지 3 ㎛이다.The particle size of the filler is not particularly limited and can be determined according to the film properties to be modified and the type of filler to be added. In general, the average particle diameter is 0.05 to 20 µm, preferably 0.1 to 10 µm, more preferably 0.1 to 5 µm, particularly preferably 0.1 to 3 µm.

입경이 이 범위를 하회하면 개질 효과가 나타나기 어려워지고, 이 범위를 상회하면 표면성을 크게 손상시키거나, 기계적 특성이 크게 저하되는 경우가 있다.If the particle size is less than this range, the modifying effect is less likely to appear. If the particle size is larger than this range, the surface properties may be largely impaired, or the mechanical properties may be greatly reduced.

또한, 충전재의 첨가량에 대해서도 특별히 한정되는 것은 아니고, 개질하여야 할 필름 특성이나 충전재 입경 등에 의해 결정하면 된다. 일반적으로, 충전재의 첨가량은 폴리이미드 수지 100 중량부에 대하여 0.01 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량부, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 1 중량부이다.The addition amount of the filler is not particularly limited, but may be determined by the film characteristics to be modified, the particle size of the filler, and the like. Generally, the addition amount of a filler is 0.01-10 weight part, Preferably it is 0.01-5 weight part, More preferably, it is 0.02-1 weight part with respect to 100 weight part of polyimide resins.

충전재 첨가량이 이 범위를 하회하면, 충전재에 의한 개질 효과가 나타나기 어렵고, 이 범위를 상회하면 필름의 기계적 특성이 크게 손상될 가능성이 있다. 충전재의 첨가 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지된 어떠한 방법을 이용할 수도 있다.If the amount of filler added is less than this range, the effect of modification by the filler is less likely to appear, and if it exceeds this range, mechanical properties of the film may be largely impaired. The addition method of a filler is not specifically limited, Any known method can also be used.

한편, 본 발명은 상기 에이징 단계를 포함하는 제조방법으로 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 제공하며, 하나의 구체적인 예에서, 상기 폴리이미드 전구체 조성물은 하기 수식 1로 정의되는 점도 변화가 -300 cP 내지 +300 cP, 상세하게는 -200 cP 내지 +200 cP의 범위일 수 있다.On the other hand, the present invention provides a polyimide precursor composition prepared by a manufacturing method comprising the aging step, in one specific example, the polyimide precursor composition has a viscosity change of -300 cP to + 300 cP, specifically -200 cP to +200 cP.

점도 변화 = 제1 점도 - 제2 점도 (1)Viscosity change = first viscosity-second viscosity (1)

여기서, 제1 점도는 25℃에서의 폴리이미드 전구체 조성물의 초기 점도이고, 제2 점도는 25℃에서 7 일이 경과한 후의 점도이다.Here, a 1st viscosity is an initial viscosity of a polyimide precursor composition at 25 degreeC, and a 2nd viscosity is a viscosity after 7 days passed at 25 degreeC.

이러한 폴리이미드 전구체 조성물의 점도 변화는 곧 폴리이미드 전구체 조성물에 변성이 일어났음을 의미하므로, 이는 폴리이미드 전구체 조성물의 변성 정도롤 나타내는 하나의 지표로서 이해될 수 있다.Since the change in viscosity of the polyimide precursor composition means that the polyimide precursor composition has undergone denaturation, it can be understood as an index indicating the degree of modification of the polyimide precursor composition.

통상적인 폴리이믹산은 상온에서 약 7 일간 저장하는 경우, ㅁ300 cP를 초과하는 점도 변화를 나타내는바, 이는 폴리아믹산에 상당한 정도의 변성이 발생하였음을 의미하고, 저장 안정성이 불량하여 우수한 물성의 폴리이미드 필름이 구현되기 어려울 수 있다.Conventional polyimic acid shows a viscosity change exceeding wh 300 cP when stored at room temperature for about 7 days, which means that a significant degree of denaturation has occurred in the polyamic acid. Mid film can be difficult to implement.

반면에, 본 발명에 따른 폴리이미드 전구체 조성물은 상기 에이징 단계를 포함하는 제조방법을 통해 폴리이미드 전구체 조성물 자체의 상온 저장 안정성을 향상시키는 바, 상기 수식에 따른 점도 변화가 ㅁ300 cP, 상세하게는 ㅁ200 cP 수준으로서 상온에서의 저장 안정성이 매우 우수하다는 것을 알 수 있다.On the other hand, the polyimide precursor composition according to the present invention improves the room temperature storage stability of the polyimide precursor composition itself through the manufacturing method including the aging step, the viscosity change according to the formula is ㅁ 300 cP, in detail It can be seen that the storage stability at room temperature is very excellent as Wh 200 cP level.

이는, 상기 특정한 온도 범위에서 에이징시킴으로써 폴리이미드 전구체 조성물에 포함되는 폴리아믹산의 수 평균 분자량에 대한 중량 평균 분자량의 비(poly dispersity index)가 1,3 내지 2,2, 상세하게는 1.5 내지 2.0으로 조절된 결과인 것으로 이해할 수 있다.The polydispersity index of the weight average molecular weight relative to the number average molecular weight of the polyamic acid included in the polyimide precursor composition by aging in the specific temperature range is 1,3 to 2,2, specifically 1.5 to 2.0. It can be understood that this is a controlled result.

구체적으로, 상기 폴리아믹산의 수 평균 분자량에 대한 중량 평균 분자량의 비가 상기와 같이 조절된 것은, 분자량의 분포도가 좁게 형성된 것을 의미하며, 이는 곧 폴리이미드 전구체 조성물 내에 존재하는 저분자량의 올리고머가 상대적으로 적게 생성된 것으로 이해할 수 있다. 즉, 상온에서 추가적인 중합 반응을 통해 점도 변화를 유발할 수 있는 저분자량의 올리고머의 수가 적은 것을 의미하므로, 본 발명에 따른 폴리이미드 전구체는 상온에서의 저장 안정성이 향상되는 효과를 발휘할 수 있다.Specifically, the adjustment of the ratio of the weight average molecular weight to the number average molecular weight of the polyamic acid as described above means that the distribution of the molecular weight is narrow, which means that the low molecular weight oligomers present in the polyimide precursor composition are relatively It can be understood that less is generated. That is, since it means that the number of low molecular weight oligomers that can cause a viscosity change through an additional polymerization reaction at room temperature, the polyimide precursor according to the present invention can exhibit the effect of improving the storage stability at room temperature.

본 발명에서 상기 제1 점도는 1,000 내지 10,000 cP, 상세하게는 2,000 내지 9,000 cP, 보다 상세하게는 3,000 내지 8,000 cP일 수 있으며, 하나의 구체적인 예에서, 상기 제1 점도가 3,000 내지 8,000 cP일 때 상기 제2 점도는 3,200 내지 8,200 cP일 수 있다. 상기 범위의 제1 점도를 가지는 본 발명의 전구체 조성물은 유동성 측면에서 취급이 용이한 이점이 있고, 제막에도 유리할 수 있다.In the present invention, the first viscosity may be 1,000 to 10,000 cP, specifically 2,000 to 9,000 cP, more specifically 3,000 to 8,000 cP, in one specific example, when the first viscosity is 3,000 to 8,000 cP The second viscosity may be 3,200 to 8,200 cP. The precursor composition of the present invention having the first viscosity in the above range has the advantage of easy handling in terms of fluidity, and may also be advantageous for film formation.

상세하게는, 상기 폴리이미드 전구체 조성물의 점도가 상기 범위를 상회하는 경우에는, 폴리이미드 제조 공정 중에 폴리이미드 전구체 조성물을 파이프를 통해 이동시킬 때 파이프와의 마찰에 의해 더 높은 압력을 인가해야만 하므로, 공정 비용이 증가되고 취급성이 저하될 수 있다. 또한, 점도가 높을수록 혼합 공정에 더 많은 시간과 비용이 소요될 수 있다.Specifically, when the viscosity of the polyimide precursor composition exceeds the above range, a higher pressure must be applied by friction with the pipe when the polyimide precursor composition is moved through the pipe during the polyimide manufacturing process. Process costs may be increased and handling may be degraded. In addition, the higher the viscosity, the more time and cost the mixing process can take.

반면에, 상기 폴리이미드 전구체 조성물의 점도가 상기 범위를 하회하는 경우에는, 경화 과정에서 다량의 용매를 제거해야 함에 따라 제조 비용과 공정 시간이 증가하는 문제가 발생할 수 있다.On the other hand, when the viscosity of the polyimide precursor composition is less than the above range, the problem of increasing the manufacturing cost and processing time may occur as a large amount of solvent must be removed during the curing process.

하나의 구체적인 예에서, 상기 폴리이미드 전구체 조성물은 전체 중량을 기준으로 고형분을 10 내지 15 중량% 포함할 수 있다.In one specific example, the polyimide precursor composition may include 10 to 15% by weight solids based on the total weight.

상기 폴리이미드 전구체 조성물의 고형분 함량이 상기 범위를 상회하는 경우에는, 폴리이미드 전구체 조성물의 점도가 상승하는 것이 불가피하므로 바람직하지 않고, 이와 반대로, 상기 폴리이미드 전구체 조성물의 고형분 함량이 상기 범위를 하회하는 경우에는, 경화 과정에서 다량의 용매를 제거해야 함에 따라 제조 비용과 공정 시간이 증가하는 문제가 발생할 수 있으므로 바람직하지 않다.When the solid content of the polyimide precursor composition exceeds the above range, it is unavoidable to increase the viscosity of the polyimide precursor composition, and on the contrary, the solid content of the polyimide precursor composition is less than the above range. In this case, since a large amount of solvent must be removed during the curing process, the manufacturing cost and processing time may increase, which is not preferable.

한편, 통상의 폴리아믹산 용액의 제조는 예를 들어, 디아민 단량체 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디안하이드라이드 단량체를 디아민 단량체와 실질적으로 등몰 또는 과량이 되도록 첨가하여 중합하는 방법 또는 디안하이드라이드 단량체 전량을 용매 중에 넣고, 그 후 디아민 단량체를 디안하이드라이드 단량체와 실질적으로 등몰 또는 과량이 되도록 첨가하여 중합하는 방법 등을 사용한다.On the other hand, the production of a conventional polyamic acid solution, for example, by putting the whole amount of the diamine monomer in the solvent, and then adding the dianhydride monomer to substantially equal or molar excess of the diamine monomer and polymerization of the total amount of dianhydride monomer Is added to a solvent, and then a diamine monomer is added to be substantially equimolar or excess with the dianhydride monomer and polymerized.

상기와 같이, 디아민 단량체 또는 디안하이드라이드 단량체가 실질적으로 등몰 또는 과량이 되도록 중합된 폴리아믹산 용액은 앞서 설명한 폴리아믹산을 지지체 상에 도포하는 공정 중에 방치된 상태 혹은 사용하기 전 상온에서 장시간 해동, 방치하는 과정에서 폴리아믹산의 점도가 변화하는 경우, 목표로 한 폴리이미드 필름의 두께가 변화하는 문제가 발생할 수 있다.As described above, the polyamic acid solution polymerized such that the diamine monomer or the dianhydride monomer is substantially equimolar or excessively defrosted and left for a long time at room temperature before use or left in the process of applying the polyamic acid described above on a support. When the viscosity of the polyamic acid changes in the process, a problem may occur that the thickness of the target polyimide film changes.

반면에, 본 발명은 이하에서 상세하게 입증할 것이나, 유기 용매 중에서 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 1 : 0.98 내지 0.99의 몰비로 중합하여 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하며, 상기와 같은 특정한 몰비로 중합된 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은 본 발명의 범위를 벗어나는 몰비로 중합된 경우와 달리 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체 상에 도포하는 공정 중에 방치된 상태, 혹은 사용하기 전 상온에서 장시간 해동, 방치하는 과정에서도 그 점도 변화를 억제하는 효과를 나타낼 수 있다.On the other hand, the present invention will be demonstrated in detail below, but to prepare a polyimide precursor composition by polymerizing the diamine monomer and dianhydride monomer in an organic solvent in a molar ratio of 1: 0.98 to 0.99, the polymerization in a specific molar ratio as described above Unlike the case where the polyimide precursor composition of the present invention is polymerized in a molar ratio outside the scope of the present invention, the polyimide precursor composition is thawed or left for a long time at room temperature before being used or left in the process of applying the polyimide precursor composition on a support. Also, the effect of suppressing the viscosity change can be exhibited.

하나의 구체적인 예에서, 본 발명에 따른 폴리이미드 전구체 조성물은 하기 수식 2로 정의되는 점도 변화율이 -20 내지 +20 %, 상세하게는 -15 내지 +15 %, 보다 상세하게는 -10 내지 +10 %의 범위일 수 있다.In one specific example, the polyimide precursor composition according to the present invention has a viscosity change rate of -20 to + 20%, specifically -15 to + 15%, more specifically -10 to +10, as defined by Equation 2 below. It may be in the range of%.

점도 변화율(%) = [(제3 점도 - 제4 점도)/(제3 점도)] X 100 (2)% Viscosity change = [(3rd viscosity-4th viscosity) / (3rd viscosity)] X 100 (2)

여기서, 제3 점도는 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막한 직후의 점도이며, 제4 점도는 제막 후 25℃에서 1 시간이 경과한 후의 점도이다.Here, 3rd viscosity is a viscosity immediately after forming a polyimide precursor composition into a support body, and 4th viscosity is a viscosity after 1 hour passed at 25 degreeC after film forming.

통상적인 폴리이미드 전구체 조성물의 경우, 지지체에 제막한 직후의 점도와 제막 후 25℃에서 1 시간이 경과한 후 점도에 따른 변화율이 상기 범위를 초과하므로, 이로 인해 공정 중에 방치된 상태로 폴리이미드 전구체 조성물의 점도가 변화하여 목표로 한 폴리이미드 필름의 두께가 구현되지 못하는 문제가 발생할 수 있다.In the case of the conventional polyimide precursor composition, since the change rate according to the viscosity immediately after film formation on the support and after 1 hour at 25 ° C. after film formation exceeds the above range, the polyimide precursor is left in the process because of this. The viscosity of the composition may change, which may cause a problem that the thickness of the target polyimide film is not realized.

반면에, 본 발명의 폴리이미드 전구체 조성물은 상기 수식에 따른 점도 변화가 상기 범위와 같이 크지 않은 바, 공정 중의 제막 점도 안정성이 매우 우수하다는 것을 알 수 있다.On the other hand, the polyimide precursor composition of the present invention can be seen that the viscosity change according to the above formula is not as large as the above range, the film forming viscosity stability during the process is very excellent.

<폴리이미드 필름 및 그 제조방법><Polyimide film and its manufacturing method>

본 발명은 상기 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 건조하여 겔 필름을 제조하는 단계; 및The present invention comprises the steps of forming a gel film by forming a film of the polyimide precursor composition on a support and dried; And

상기 겔 필름을 경화하는 단계를 포함하는, 폴리이미드 필름의 제조방법을 제공할 수 있다.It can provide a method for producing a polyimide film, comprising the step of curing the gel film.

구체적으로, 상기한 폴리이미드 전구체 조성물을 이미드화하여 폴리이미드 필름을 제조하는 방법에 대해서는, 종래 공지된 방법을 사용할 수 있다.Specifically, the conventionally known method can be used about the method of imidating the said polyimide precursor composition and manufacturing a polyimide film.

이러한 이미드화의 구체적인 방법으로는 열 이미드화법, 화학 이미드화법 또는 상기 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병용하는 복합 이미드화법을 예로 들수 있으며, 이들에 대해서는 이하의 비제한적인 예를 통해 보다 구체적으로 설명한다.Specific examples of such imidization include a thermal imidization method, a chemical imidization method, or a complex imidation method using the thermal imidization method and the chemical imidization method in combination. Examples thereof include the following non-limiting examples. It will be described in more detail through.

<열 이미드화법><Thermal imidation method>

상기 열 이미드화 법은, 화학적 촉매를 배제하고, 열풍이나 적외선 건조기 등의 열원으로 이미드화 반응을 유도하는 방법으로서,The said thermal imidation method removes a chemical catalyst and induces an imidation reaction with heat sources, such as a hot air and an infrared dryer,

상기 전구체 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하는 과정; 및Drying the precursor composition to form a gel film; And

상기 겔 필름을 열처리하여 폴리이미드 필름을 수득하는 과정을 포함할 수 있다.The gel film may be heat-treated to obtain a polyimide film.

여기서, 겔 필름이란, 폴리아믹산으로부터 폴리이미드로의 변환에 대해 중간 단계에서 자기 지지성을 가지는 필름 중간체라 이해할 수 있다.Here, a gel film can be understood as a film intermediate which has self-support at an intermediate stage with respect to the conversion from polyamic acid to polyimide.

상기 겔 필름을 형성하는 과정은, 전구체 조성물을 유리판, 알루미늄 박, 무단(endless) 스테인레스 벨트, 또는 스테인레스 드럼 등의 지지체상에 필름형으로 캐스팅하고, 이후 지지체 상의 전구체 조성물을 50 내지 200℃, 상세하게는 80 내지 150℃ 범위의 가변적인 온도에서 건조하는 것일 수 있다.The process of forming the gel film, the precursor composition is cast in the form of a film on a support such as glass plate, aluminum foil, endless stainless belt, or stainless drum, and then the precursor composition on the support is 50 to 200 ℃, details For example, it may be drying at a variable temperature ranging from 80 to 150 ° C.

이에 따라 전구체 조성물에 부분적인 경화 및/또는 건조가 일어남으로써 겔 필름이 형성될 수 있고, 형성된 겔 필름을 지지체로부터 박리하여 겔 필름을 얻을 수 있다.Accordingly, the gel film may be formed by partial curing and / or drying of the precursor composition, and the formed gel film may be peeled off from the support to obtain a gel film.

경우에 따라서는 이후 열처리 과정에서 수득되는 폴리이미드 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 겔 필름을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, a process of stretching the gel film may be performed to adjust the thickness and size of the polyimide film obtained in the subsequent heat treatment process and to improve orientation, and the stretching may be performed in the machine transport direction (MD) and the machine transport direction. It may be performed in at least one direction of the transverse direction (TD) with respect to.

이와 같이 수득한 겔 필름을, 텐터에 고정한 다음 30 내지 500℃의 온도 범위에서 경화시키는 단계를 거칠 수 있으며, 구체적으로, 30 내지 50℃에서 5 내지 10 분 동안 제1 열처리하는 단계;The gel film thus obtained may be subjected to a step of fixing to a tenter and then curing at a temperature range of 30 to 500 ° C., specifically, the first heat treatment at 30 to 50 ° C. for 5 to 10 minutes;

180 내지 220℃에서 25 내지 35 분 동안 제2 열처리하는 단계; 및A second heat treatment at 180 to 220 ° C. for 25 to 35 minutes; And

440 내지 480℃에서 35 내지 45 분 동안 제3 열처리하는 단계를 포함하여 가변적인 온도에서 순차적으로 열처리하여 겔 필름에 잔존하는 물, 잔류 용매 등을 제거하고, 남아 있는 거의 모든 아믹산기를 이미드화하여, 본 발명의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다.Third heat treatment at 440 to 480 ° C. for 35 to 45 minutes to sequentially heat at variable temperature to remove water, residual solvent, etc. remaining in the gel film, and to imidize almost all remaining amic acid groups. , The polyimide film of the present invention can be obtained.

이때, 상기 제1 열처리 내지 제3 열처리는 1 ℃/min 내지 10 ℃/min의 범위에서 선택되는 어느 하나 이상의 승온 속도로 가열될 수 있다.In this case, the first to third heat treatment may be heated at any one or more temperature increase rate selected from the range of 1 ℃ / min to 10 ℃ / min.

경우에 따라서는, 상기와 같이 수득한 폴리이미드 필름을 300 내지 600℃의 온도로 5 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide film obtained as described above may be heated to a temperature of 300 to 600 ° C. for 5 to 400 seconds to further cure the polyimide film, and the internal stress may remain in the obtained polyimide film. This may be done under a predetermined tension to relieve the pressure.

<화학 이미드화법><Chemical imidization method>

상기 화학 이미드화법은 전구체 조성물에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하여 아믹산기의 이미드화를 촉진하는 방법이다.The chemical imidization method is a method of promoting imidization of an amic acid group by adding a dehydrating agent and / or an imidizing agent to the precursor composition.

여기서 "탈수제"란, 폴리아믹산에 대한 탈수 작용을 통해 폐환 반응을 촉진하는 물질을 의미하고, 이에 대한 비제한적인 예로서, 지방족의 애시드 안하이드라이드, 방향족의 애시드 안하이드라이드, N,N'-디알킬카르보디이미드, 할로겐화 저급 지방족, 할로겐화 저급 패티 애시드 안하이드라이드, 아릴 포스포닉 디할라이드, 및 티오닐 할라이드 등을 들 수 있다. 이중에서도 입수의 용이성, 및 비용의 관점에서 지방족 애시드 안하이드라이드가 바람직할 수 있고, 이의 비제한적인 예로서, 아세틱 안하이드라이드(AA), 프로피온 애시드 안하이드라이드, 및 락틱 애시드 안하이드라이드 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As used herein, the term "dehydrating agent" means a substance that promotes a ring-closure reaction through dehydration to polyamic acid, and includes, but is not limited to, aliphatic acid anhydride, aromatic acid anhydride, N, N ' -Dialkylcarbodiimide, halogenated lower aliphatic, halogenated lower patty acid anhydride, aryl phosphonic dihalide, thionyl halide and the like. Of these, aliphatic acid anhydrides may be preferred in view of ease of availability and cost, and non-limiting examples thereof include acetic anhydride (AA), propion acid anhydride, and lactic acid anhydride. These etc. can be mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, "이미드화제"란 폴리아믹산에 대한 폐환 반응을 촉진하는 효과를 갖는 물질을 의미하고, 예를 들어 지방족 3급 아민, 방향족 3급 아민, 및 복소환식 3급 아민 등의 이민계 성분일 수 있다. 이중에서도 촉매로서의 반응성의 관점에서 복소환식 3급 아민이 바람직할 수 있다. 복소환식 3급 아민의 비제한적인 예로서, 퀴놀린, 이소퀴놀린, β-피콜린(BP), 피리딘 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In addition, "imidizing agent" means a substance having an effect of promoting a ring-closure reaction with respect to polyamic acid, and may be an imine-based component such as aliphatic tertiary amine, aromatic tertiary amine, and heterocyclic tertiary amine. Can be. Of these, heterocyclic tertiary amines may be preferable in view of reactivity as a catalyst. Non-limiting examples of heterocyclic tertiary amines include quinoline, isoquinoline, β-picolin (BP), pyridine, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

탈수제의 첨가량은 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.5 내지 5 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 1.0 몰 내지 4 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직하다. 또한, 이미드화제의 첨가량은 폴리아믹산 중 아믹산기 1 몰에 대하여 0.05 몰 내지 2 몰의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.2 몰 내지 1 몰의 범위 내인 것이 특히 바람직할 수 있다.It is preferable that the addition amount of a dehydrating agent exists in the range of 0.5-5 mol with respect to 1 mol of amic acid groups in polyamic acid, and it is especially preferable to exist in the range of 1.0 mol-4 mol. In addition, the addition amount of the imidating agent is preferably in the range of 0.05 mol to 2 mol, and particularly preferably in the range of 0.2 mol to 1 mol with respect to 1 mol of the amic acid group in the polyamic acid.

상기 탈수제 및 이미드화제가 상기 범위를 하회하면 화학적 이미드화가 불충분하고, 제조되는 폴리이미드 필름에 크랙이 형성될 수 있고, 필름의 기계적 강도도 저하될 수 있다. 또한, 이들 첨가량이 상기 범위를 상회하면 이미드화가 과도하게 빠르게 진행될 수 있으며, 이 경우, 필름 형태로 캐스팅하기 어렵거나 제조된 폴리이미드 필름이 브리틀(brittle)한 특성을 보일 수 있어, 바람직하지 않다.When the dehydrating agent and the imidating agent are less than the above range, chemical imidization is insufficient, cracks may be formed in the polyimide film to be produced, and the mechanical strength of the film may be lowered. In addition, when these addition amounts exceed the above range, imidization may proceed excessively rapidly, in which case it is difficult to cast in the form of a film or the produced polyimide film may exhibit brittle characteristics, which is not preferable. not.

<복합 이미드화법><Complex imidation method>

이상의 화학 이미드화법에 연계하여, 열 이미드화법을 추가로 수행하는 복합 이미드화법이 폴리이미드 필름의 제조에 이용될 수 있다.In connection with the above-mentioned chemical imidation method, the composite imidation method which further performs a thermal imidation method can be used for manufacture of a polyimide film.

구체적으로 복합 이미드화법은, 저온에서 전구체 조성물에 탈수제 및/또는 이미드화제를 첨가하는 화학 이미드화법 과정; 및 상기 전구체 조성물을 건조하여 겔 필름을 형성하고, 상기 겔 필름을 열처리하는 열 이미드화법 과정을 포함할 수 있다.Specifically, the complex imidation method includes a chemical imidization process of adding a dehydrating agent and / or an imidizing agent to the precursor composition at a low temperature; And a thermal imidization process of drying the precursor composition to form a gel film and heat treating the gel film.

상기 화학 이미드화법 과정의 수행 시, 탈수제와 이미드화제의 종류 및 첨가량은 앞선 화학 이미드화법에 설명한 바에 따라 적절하게 선택될 수 있다.In performing the chemical imidization process, the type and amount of the dehydrating agent and the imidizing agent may be appropriately selected according to the above-described chemical imidization method.

상기 겔 필름을 형성하는 과정에서는 탈수제 및/또는 이미드화제를 함유하는 전구체 조성물을 유리판, 알루미늄 박, 무단(endless) 스테인레스 벨트, 또는 스테인레스 드럼 등의 지지체상에 필름형으로 캐스팅하고, 이후 지지체 상의 전구체 조성물을 50 내지 180℃, 상세하게는 80 내지 180℃ 범위의 가변적인 온도에서 건조한다. 이러한 과정에서, 화학 전환제 및/또는 이미드화제가 촉매로 작용하여 아믹산기가 이미드기로 빠르게 변환될 수 있다.In the process of forming the gel film, the precursor composition containing the dehydrating agent and / or imidating agent is cast in a film form on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless belt, or a stainless drum, and then The precursor composition is dried at a variable temperature in the range of 50 to 180 ° C., specifically 80 to 180 ° C. In this process, chemical converting agents and / or imidating agents can act as catalysts so that amic acid groups can be rapidly converted to imide groups.

경우에 따라서는 이후 열처리 과정에서 수득되는 폴리이미드 필름의 두께 및 크기를 조절하고 배향성을 향상시키기 위하여 상기 겔 필름을 연신시키는 공정이 수행될 수 있으며, 연신은 기계반송방향(MD) 및 기계반송방향에 대한 횡방향(TD) 중 적어도 하나의 방향으로 수행될 수 있다.In some cases, a process of stretching the gel film may be performed to adjust the thickness and size of the polyimide film obtained in the subsequent heat treatment process and to improve orientation, and the stretching may be performed in the machine transport direction (MD) and the machine transport direction. It may be performed in at least one direction of the transverse direction (TD) with respect to.

이와 같이 수득한 겔 필름을, 텐터에 고정한 다음 앞서 설명한 가변적인 온도에서 열처리하여 겔 필름에 잔존하는 물, 촉매, 잔류 용매 등을 제거하고, 남아 있는 대부분의 아믹산기를 이미드화시킴으로써, 본 발명의 폴리이미드 필름을 수득할 수 있다. 이와 같은 열처리 과정에서도 탈수제 및/또는 이미드화제가 촉매로서 작용하여 아믹산기가 이미드기로 빠르게 전환될 수 있어 높은 이미드화율의 구현이 가능할 수 있다.The gel film thus obtained is fixed in a tenter and then heat treated at the variable temperature described above to remove water, catalyst, residual solvent, etc. remaining in the gel film and to imidize most of the remaining amic acid groups. Polyimide films can be obtained. In such a heat treatment process, the dehydrating agent and / or the imidizing agent may act as a catalyst so that the amic acid group may be rapidly converted to the imide group, thereby enabling high imidation ratio.

경우에 따라서는 상기와 같이 수득한 폴리이미드 필름을 400 내지 500℃의 온도로 5 내지 400 초간 가열 마감하여 폴리이미드 필름을 더욱 경화시킬 수도 있으며, 수득한 폴리이미드 필름에 잔류할 수도 있는 내부 응력을 완화시키기 위해서 소정의 장력 하에서 이를 수행할 수도 있다.In some cases, the polyimide film obtained as described above may be heat-finished at a temperature of 400 to 500 ° C. for 5 to 400 seconds to further cure the polyimide film, and internal stresses may remain in the obtained polyimide film. This may be done under some tension to relieve it.

본 발명은 또한, 상기 폴리이미드 필름의 제조방법으로 제조되는 폴리이미드 필름을 제공할 수 있다.The present invention can also provide a polyimide film produced by the method for producing a polyimide film.

이상과 같은 제조방법에 따라 제조된 본 발명의 폴리이미드 필름은 1 중량%의 열분해온도(Td)가 560℃ 이상이고, 열팽창계수가 5 ppm/℃ 이하이며, 신율이 15 % 이상이고, 인장강도가 350 MPa 이상이며, 두께가 10 내지 20 ㎛일 수 있다.The polyimide film of the present invention prepared according to the above production method has a thermal decomposition temperature (Td) of 1% by weight of 560 ℃ or more, a thermal expansion coefficient of 5 ppm / ℃ or less, elongation is 15% or more, tensile strength Is 350 MPa or more, and may have a thickness of 10 to 20 μm.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법은 유기용매 중에서 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 1 : 0.98 내지 0.99의 몰비로 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계를 포함함으로써 폴리이미드 전구체 조성물의 지지체 상에 도포하는 공정 중의 점도 안정성을 향상하는 효과를 발휘할 수 있다. As described above, the method for preparing a polyimide precursor composition according to the present invention comprises preparing a polyamic acid solution by polymerizing a diamine monomer and a dianhydride monomer in an organic solvent in a molar ratio of 1: 0.98 to 0.99. The effect of improving the viscosity stability in the process of apply | coating on the support body of a mid precursor composition can be exhibited.

이와 동시에, 본 발명에 따른 제조방법은 상기 폴리아믹산 용액을 55 내지 85℃로 승온하고, 1 내지 4 시간 동안 교반하여 에이징(aging)하는 단계를 포함함으로써, 폴리이미드 전구체 조성물 자체의 상온에서의 저장 안정성을 향상시키는 효과를 발휘할 수 있다.At the same time, the preparation method according to the present invention comprises the step of heating the polyamic acid solution to 55 to 85 ℃, aging by stirring for 1 to 4 hours, thereby storing at room temperature of the polyimide precursor composition itself The effect of improving stability can be exhibited.

또한, 이와 같이 제조된 폴리이미드 필름은 기계적, 열적 특성이 우수한 바, 연성회로기판 또는 디스플레이 기판 등에 바람직하게 적용될 수 있다.In addition, the polyimide film prepared as described above is excellent in mechanical and thermal properties, and thus may be preferably applied to a flexible circuit board or a display substrate.

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.Hereinafter, the operation and effects of the invention will be described in more detail with reference to specific examples of the invention. However, these embodiments are only presented as an example of the invention, whereby the scope of the invention is not determined.

<실시예 1><Example 1>

교반기 및 질소 주입·배출관을 구비한 500 ㎖ 반응기에 질소를 주입시키면서 NMP을 투입하고 반응기의 온도를 30℃로 설정한 후 디아민 단량체로서 PPD, 디안하이드라이드 단량체로서 BPDA 및 PMDA를 투입하여 완전히 용해된 것을 확인한다. 질소 분위기하에 40℃로 온도를 올려 가열하면서 120 분간 교반을 계속한 후, 23℃에서의 점도가 7,000 cP를 나타내는 폴리아믹산 용액을 제조하였다.NMP was introduced into a 500 ml reactor equipped with a stirrer and a nitrogen inlet / outlet tube, and the temperature of the reactor was set at 30 ° C., followed by PPD as a diamine monomer and BPDA and PMDA as a dianhydride monomer. Check it. After stirring was continued for 120 minutes while heating up to 40 degreeC under nitrogen atmosphere, the polyamic-acid solution which the viscosity in 23 degreeC shows 7,000 cP was prepared.

이이서, 질소 분위기하에 80℃로 온도를 올려 가열하면서 2 시간 동안 추가적으로 교반을 계속한 후, 23℃까지 냉각하여 제1 점도가 4,500 cP를 나타내고, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 하기 표 1과 같이 포함하는 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하였다.Then, stirring was continued for 2 hours while heating up to 80 ° C. under a nitrogen atmosphere, and then cooled to 23 ° C. to show a first viscosity of 4,500 cP, and the diamine monomers and dianhydride monomers were shown in Table 1 below. To prepare a polyimide precursor composition comprising together.

<실시예 2 내지 7 및 비교예 1 내지 10><Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 10>

실시예 1에서, 단량체 및 이의 함량, 에이징 여부, 에이징 온도 및 에이징 시간을 각각 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하였다.In Example 1, a polyimide precursor composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the monomer and its content, aging status, aging temperature, and aging time were changed as shown in Table 1 below.

디아민 단량체
(몰%)
Diamine monomer
(mole%)
디안하이드라이드
단량체
(몰%)
Dianhydride
Monomer
(mole%)
단량체
몰비
Monomer
Molar ratio
에이징 여부Aging or not 에이징 온도
(℃)
Aging temperature
(℃)
에이징 시간
(분)
Aging time
(minute)
PPD
(몰%)
PPD
(mole%)
PMDA
(몰%)
PMDA
(mole%)
BPDA
(몰%)
BPDA
(mole%)
실시예 1Example 1 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 8080 120120 실시예 2Example 2 100100 69.369.3 29.729.7 1 : 0.991: 0.99 OO 8080 120120 실시예 3Example 3 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 8585 120120 실시예 4Example 4 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 7070 120120 실시예 5Example 5 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 6060 120120 실시예 6Example 6 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 8080 240240 실시예 7Example 7 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 8080 6060 비교예 1Comparative Example 1 100100 67.267.2 28.828.8 1 : 0.961: 0.96 OO 8080 120120 비교예 2Comparative Example 2 100100 67.967.9 29.129.1 1 : 0.971: 0.97 OO 8080 120120 비교예 3Comparative Example 3 100100 7070 3030 1 : 11: 1 OO 8080 120120 비교예 4Comparative Example 4 100100 70.770.7 30.330.3 1 : 1.011: 1.01 OO 8080 120120 비교예 5Comparative Example 5 100100 71.471.4 30.630.6 1 : 1.021: 1.02 OO 8080 120120 비교예 6Comparative Example 6 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 5050 120120 비교예 7Comparative Example 7 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 9090 120120 비교예 8Comparative Example 8 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 XX -- -- 비교예 9Comparative Example 9 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 8080 300300 비교예 10Comparative Example 10 100100 68.668.6 29.429.4 1 : 0.981: 0.98 OO 8080 3030

<실험예 1: 저장 안정성 평가>Experimental Example 1: Evaluation of Storage Stability

실시예 1 내지 실시예 7, 비교예 1 내지 비교예 10에서 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 상온에서 7 일간 방치하였다. 이후, 제2 점도를 측정하고, 하기 수식 1에 따라 점도 변화를 산출하여 하기 표 2에 나타내었다.The polyimide precursor composition prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 10 was left at room temperature for 7 days. Thereafter, the second viscosity was measured, and a viscosity change was calculated according to Equation 1 below, and is shown in Table 2 below.

점도 변화 = 제1 점도 - 제2 점도 (1)Viscosity change = first viscosity-second viscosity (1)

점도 측정은 Brookfield 점도계(RVDV-II+P)를 25℃에서 7 번 scandal을 사용하여 50 rpm에서 2 회 측정하여 평균값을 측정하였다.Viscosity was measured by measuring Brookfield viscometer (RVDV-II + P) twice at 50 rpm using 7 scandals at 25 ° C.

제1 점도
(cP)
First viscosity
(cP)
제2 점도
(cP)
Second viscosity
(cP)
점도 변화
(cP)
Viscosity change
(cP)
실시예 1Example 1 4,5004,500 4,6704,670 +170+170 실시예 2Example 2 4,5004,500 4,6604,660 +160+160 실시예 3Example 3 4,5004,500 46504650 +150+150 실시예 4Example 4 4,5004,500 46704670 +170+170 실시예 5Example 5 4,5004,500 46804680 +180+180 실시예 6Example 6 4,5004,500 46354635 +135+135 실시예 7Example 7 4,5004,500 46754675 +175+175 비교예 1Comparative Example 1 4,5004,500 23002300 -2200-2200 비교예 2Comparative Example 2 4,5004,500 26602660 -1840-1840 비교예 3Comparative Example 3 4,5004,500 4,6804,680 +180+180 비교예 4Comparative Example 4 4,5004,500 5,6905,690 +1,190+1,190 비교예 5Comparative Example 5 4,5004,500 8,2008,200 +4,700+4,700 비교예 6Comparative Example 6 4,5004,500 50205020 +520+520 비교예 7Comparative Example 7 4,5004,500 46504650 +150+150 비교예 8Comparative Example 8 4,5004,500 73007300 +2800+2800 비교예 9Comparative Example 9 4,5004,500 46704670 +170+170 비교예 10Comparative Example 10 4,5004,500 52805280 +780+780

<실험예 2: 점도 안정성 평가>Experimental Example 2: Viscosity Stability Evaluation

실시예 1 내지 실시예 7, 비교예 1 내지 비교예 10에서 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 1,500 rpm 이상의 고속 회전을 통해 기포를 제거하였다. 이후 스핀 코터를 이용하여 유리 기판에 탈포된 폴리이미드 전구체 조성물을 도포하였다.Bubbles were removed from the polyimide precursor compositions prepared in Examples 1 to 7, 7, and Comparative Examples 10 through a high speed rotation of 1,500 rpm or more. Thereafter, the degassed polyimide precursor composition was applied to the glass substrate using a spin coater.

도포된 직후 폴리이미드 전구체 조성물의 제3 점도를 측정하였다. 이후, 25℃에서 1 시간이 경과한 상태에서 폴리이미드 전구체 조성물의 제4 점도를 측정하고, 하기 수식 2에 따라 점도 변화율을 산출하여 하기 표 3에 나타내었다.Immediately after application, the third viscosity of the polyimide precursor composition was measured. Thereafter, the fourth viscosity of the polyimide precursor composition was measured in a state where 1 hour had elapsed at 25 ° C., and a viscosity change rate was calculated according to Equation 2 below, and is shown in Table 3 below.

점도 변화율(%) = [(제3 점도 - 제4 점도)/(제3 점도)] X 100 (2)% Viscosity change = [(3rd viscosity-4th viscosity) / (3rd viscosity)] X 100 (2)

제3 점도
(cP)
Third viscosity
(cP)
제4 점도
(cP)
Fourth viscosity
(cP)
점도 변화율
(%)
Viscosity change rate
(%)
실시예 1Example 1 4,5004,500 5,1355,135 +14.1+14.1 실시예 2Example 2 4,5004,500 5,1205,120 +13.8+13.8 실시예 3Example 3 4,5004,500 5,1105,110 +13.5+13.5 실시예 4Example 4 4,5004,500 5,1355,135 +14.1+14.1 실시예 5Example 5 4,5004,500 5,1605,160 +14.7+14.7 실시예 6Example 6 4,5004,500 5,1055,105 +13.4+13.4 실시예 7Example 7 4,5004,500 5,1555,155 +14.5+14.5 비교예 1Comparative Example 1 4,5004,500 4,8354,835 +7.4+7.4 비교예 2Comparative Example 2 4,5004,500 5,0205,020 +11.6+11.6 비교예 3Comparative Example 3 4,5004,500 5,9105,910 +31.3+31.3 비교예 4Comparative Example 4 4,5004,500 5,5105,510 +22.4+22.4 비교예 5Comparative Example 5 4,5004,500 5,3905,390 +19.7+19.7 비교예 6Comparative Example 6 4,5004,500 5,3005,300 +17.8+17.8 비교예 7Comparative Example 7 4,5004,500 5,1305,130 +14.0+14.0 비교예 8Comparative Example 8 4,5004,500 4,7604,760 +5.8+5.8 비교예 9Comparative Example 9 4,5004,500 5,1155,115 +13.7+13.7 비교예 10Comparative Example 10 4,5004,500 5,2755,275 +17.2+17.2

표 2 및 3을 참조하면, 본 발명의 제조방법으로 제조된 실시예들의 경우 상온에서의 저장 안정성 및 공정 중의 점도 안정성이 모두 우수함을 확인할 수 있다. 반면에, 비교예들의 경우 저장 안정성 또는 점도 안정성 중 적어도 어느 하나를 만족하지 못함을 확인할 수 있다.Referring to Tables 2 and 3, it can be confirmed that the storage stability at room temperature and the viscosity stability in the process are excellent in the examples prepared by the production method of the present invention. On the other hand, it can be seen that the comparative examples do not satisfy at least one of storage stability or viscosity stability.

한편, 에이징 온도를 본 발명의 범위보다 높게 설정하여 제조된 비교예 7의 경우, 상온에서의 저장 안정성 및 공정 중의 점도 안정성이 우수한 것을 확인할 수 있으나, 이하에서 후술하는 바와 같이, 이를 통해 제조된 폴리이미드 필름의 물성이 저하된 것을 확인할 수 있다.On the other hand, in Comparative Example 7 prepared by setting the aging temperature higher than the range of the present invention, it can be confirmed that the storage stability at room temperature and the viscosity stability in the process is excellent, as described below, the poly produced through this It can be confirmed that the physical properties of the mid film are reduced.

<실험예 3: 물성평가>Experimental Example 3: Physical Property Evaluation

실시예 1 내지 실시예 7, 비교예 1 내지 비교예 10에서 제조된 폴리이미드 전구체 조성물을 1,500 rpm 이상의 고속 회전을 통해 기포를 제거하였다. 이후 스핀 코터를 이용하여 유리 기판에 탈포된 폴리이미드 전구체 조성물을 도포하였다. 이후 질소 분위기하 및 120℃의 온도에서 30 분 동안 건조하여 겔 필름을 제조하고, 상기 겔 필름을 450℃까지 2 ℃/분의 속도로 승온하고, 450℃에서 60 분 동안 열처리하고, 30℃까지 2 ℃/분의 속도로 냉각하여 폴리이미드 필름을 수득하였다.Bubbles were removed from the polyimide precursor compositions prepared in Examples 1 to 7, 7, and Comparative Examples 10 through a high speed rotation of 1,500 rpm or more. Thereafter, the degassed polyimide precursor composition was applied to the glass substrate using a spin coater. After drying in a nitrogen atmosphere at a temperature of 120 ℃ for 30 minutes to prepare a gel film, the gel film is heated to a rate of 2 ℃ / min to 450 ℃, heat treatment at 450 ℃ 60 minutes, up to 30 ℃ Cooling at a rate of 2 ° C./min afforded a polyimide film.

이후 증류수에 디핑(dipping)하여 유리 기판에서 폴리이미드 필름을 박리시켰다. 제조된 폴리이미드 필름의 두께는 10 ㎛였다. 제조된 폴리이미드 필름의 물성을 하기 방식을 이용하여 측정하고, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.Thereafter, the polyimide film was peeled off from the glass substrate by dipping in distilled water. The thickness of the produced polyimide film was 10 μm. Physical properties of the prepared polyimide film were measured using the following method, and the results are shown in Table 4 below.

(1) 열팽창 계수(CTE)(1) thermal expansion coefficient (CTE)

TA사 열기계 분석기(thermomechanical analyzer) Q400 모델을 사용하였으며, 폴리이미드 필름을 폭 2 mm, 길이 10 mm로 자른 후 질소 분위기하에서 0.05 N의 장력을 가하면서, 10 ℃/min의 속도로 상온에서 500℃까지 승온 후 다시 10 ℃/min의 속도로 냉각하면서 100℃에서 350℃ 구간의 기울기를 측정하였다.A TA thermomechanical analyzer Q400 was used, and the polyimide film was cut into a width of 2 mm and a length of 10 mm, and then subjected to a tension of 0.05 N in a nitrogen atmosphere at 500 ° C. at a rate of 10 ° C./min. After the temperature was raised to ℃ and cooled again at a rate of 10 ℃ / min was measured the slope of the 350 ℃ section from 100 ℃.

(2) 신율(2) elongation

폴리이미드 필름을 폭 10 mm, 길이 40 mm로 자른 후 인스트론(Instron)사의 Instron5564 UTM 장비를 사용하여 ASTM D-882 방법으로 신율을 측정하였다.The polyimide film was cut to 10 mm in width and 40 mm in length, and then elongation was measured by the ASTM D-882 method using an Instron 5564 UTM instrument from Instron.

(3) 1 중량%의 열분해온도(TD)(3) pyrolysis temperature (TD) of 1% by weight

TA사 열무게 분석(thermogravimetric analysis) Q50 모델을 사용하였으며, 폴리이미드 필름을 질소 분위기하에서 10 min/℃의 속도로 150℃까지 승온시킨 후 30 분간 등온을 유지하여 수분을 제거했다. 이후 10 min/℃의 속도로 600℃까지 승온하여 1 %의 중량 감소가 발생하는 온도를 측정하였다.Thermogravimetric analysis (TA) Q50 model was used, and the polyimide film was heated to 150 ° C. at a rate of 10 min / ° C. under nitrogen atmosphere, and then kept isothermal for 30 minutes to remove moisture. Then, the temperature was raised to 600 ° C. at a rate of 10 min / ° C. to measure the temperature at which 1% weight loss occurred.

(4) 인장강도(4) tensile strength

폴리이미드 필름을 폭 10 mm, 길이 40 mm로 자른 후 인스트론(Instron)사의 Instron5564 UTM 장비를 사용하여 ASTM D-882 방법으로 인장강도를 측정하였다. 이때의 Cross Head Speed는 5 mm/min의 조건으로 측정하였다.The polyimide film was cut to 10 mm in width and 40 mm in length, and then tensile strength was measured by ASTM D-882 method using an Instron 5564 UTM instrument of Instron. The cross head speed at this time was measured under the condition of 5 mm / min.

CTE
(ppm/℃)
CTE
(ppm / ℃)
신율
(%)
Elongation
(%)
TD
(℃)
TD
(℃)
인장강도
(MPa)
The tensile strength
(MPa)
실시예 1Example 1 2.42.4 18.818.8 567567 365365 실시예 2Example 2 2.42.4 18.118.1 568568 362362 실시예 3Example 3 2.42.4 18.218.2 567567 363363 실시예 4Example 4 2.52.5 18.518.5 565565 362362 실시예 5Example 5 2.42.4 18.318.3 566566 365365 실시예 6Example 6 2.42.4 18.118.1 564564 362362 실시예 7Example 7 2.72.7 18.218.2 561561 370370 비교예 1Comparative Example 1 5.25.2 9.89.8 518518 312312 비교예 2Comparative Example 2 4.04.0 11.511.5 524524 325325 비교예 3Comparative Example 3 2.02.0 19.719.7 572572 375375 비교예 4Comparative Example 4 2.12.1 12.512.5 560560 344344 비교예 5Comparative Example 5 6.96.9 7.57.5 558558 292292 비교예 6Comparative Example 6 2.12.1 17.317.3 566566 368368 비교예 7Comparative Example 7 5.55.5 14.814.8 525525 314314 비교예 8Comparative Example 8 2.52.5 17.117.1 556556 341341 비교예 9Comparative Example 9 5.15.1 16.516.5 541541 337337 비교예 10Comparative Example 10 2.52.5 17.817.8 559559 345345

표 4를 참조하면, 본 발명의 제조방법으로 제조된 실시예들의 경우 기계적 및 열적 특성이 모두 우수함을 확인할 수 있다. 반면에, 비교예들의 경우 기계적 또는 열적 특성 중 적어도 어느 하나를 만족하지 못함을 확인할 수 있다.Referring to Table 4, in the case of the examples prepared by the manufacturing method of the present invention it can be seen that both excellent mechanical and thermal properties. On the other hand, it can be seen that the comparative examples do not satisfy at least one of mechanical or thermal properties.

한편, 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 1 : 1 몰비로 중합한 폴리이미드 전구체 조성물로부터 제조된 비교예 3의 경우, 물성이 우수한 것을 확인할 수 있으나, 상기에서 설명한 바와 같이, 폴리이미드 전구체 조성물의 점도 안정성이 우수하지 못함을 확인할 수 있다.On the other hand, in Comparative Example 3 prepared from a polyimide precursor composition obtained by polymerizing a diamine monomer and a dianhydride monomer in a 1: 1 molar ratio, it can be confirmed that the physical properties are excellent, but as described above, the viscosity of the polyimide precursor composition It can be confirmed that the stability is not excellent.

이상 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 상기 내용을 바탕을 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although described above with reference to embodiments of the present invention, those skilled in the art to which the present invention pertains, it will be possible to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

Claims (18)

(a) 유기용매 중에서 디아민 단량체 및 디안하이드라이드 단량체를 1 : 0.98 내지 0.99의 몰비로 중합하여 폴리아믹산 용액을 제조하는 단계; 및
(b) 상기 폴리아믹산 용액을 55 내지 85℃로 승온하고, 1 내지 4 시간 동안 교반하여 에이징(aging)하는 단계를 포함하고,
하기 수식 1로 정의되는 점도 변화가 -200 cP 내지 +200 cP의 범위인, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법:
점도 변화 = 제1 점도 - 제2 점도 (1)
여기서, 제1 점도는 25℃에서의 폴리이미드 전구체 조성물의 초기 점도이고, 제2 점도는 25℃에서 7 일이 경과한 후의 점도이다.
(a) polymerizing a diamine monomer and a dianhydride monomer in an organic solvent in a molar ratio of 1: 0.98 to 0.99 to prepare a polyamic acid solution; And
(b) warming the polyamic acid solution to 55 to 85 ° C. and stirring for 1 to 4 hours, aging;
Method for producing a polyimide precursor composition, the viscosity change defined by the following formula 1 is in the range of -200 cP to +200 cP:
Viscosity change = first viscosity-second viscosity (1)
Here, a 1st viscosity is an initial viscosity of a polyimide precursor composition at 25 degreeC, and a 2nd viscosity is a viscosity after 7 days passed at 25 degreeC.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계에서 중합 반응은 20 내지 40℃에서 이루어지는, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법.
The method of claim 1,
In the step (a), the polymerization reaction is carried out at 20 to 40 ℃, method of producing a polyimide precursor composition.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서 폴리아믹산 용액을 60 내지 80℃로 승온하고, 2 내지 3 시간 동안 교반하는, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법.
The method of claim 1,
In the step (b), the polyamic acid solution is heated to 60 to 80 ℃, and stirred for 2 to 3 hours, a method for producing a polyimide precursor composition.
제1항에 있어서,
(c) 상기 (b) 단계에서 에이징된 폴리아믹산 용액을 10 내지 30℃로 냉각하는 단계를 더 포함하는, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법.
The method of claim 1,
(C) further comprising the step of cooling the polyamic acid solution aged in step (b) to 10 to 30 ℃, manufacturing method of a polyimide precursor composition.
제1항에 있어서,
상기 디아민 단량체는 1,4-디아미노벤젠(PPD), 1,3-디아미노벤젠(MPD), 2,4-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔 및 3,5-디아미노벤조익에시드(DABA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하고,
상기 디안하이드라이드 단량체가 피로멜리틱 디안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(s-BPDA) 및 2,3,3',4'-바이페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(a-BPDA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법.
The method of claim 1,
The diamine monomers are 1,4-diaminobenzene (PPD), 1,3-diaminobenzene (MPD), 2,4-diaminotoluene, 2,6-diaminotoluene and 3,5-diaminobenzoic acid At least one selected from the group consisting of acid (DABA),
The dianhydride monomers are pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) and 2,3,3', 4 ' -Biphenyl tetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) comprising at least one member selected from the group consisting of, a method for producing a polyimide precursor composition.
제1항에 따른 제조방법으로 제조되는, 폴리이미드 전구체 조성물.A polyimide precursor composition prepared by the method according to claim 1. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 점도가 3,000 내지 8,000 cP인, 폴리이미드 전구체 조성물의 제조방법.
The method of claim 1,
The first viscosity is 3,000 to 8,000 cP, the method for producing a polyimide precursor composition.
제6항에 있어서,
상기 폴리이미드 전구체 조성물은 전체 중량을 기준으로 고형분을 10 내지 15 중량% 포함하는, 폴리이미드 전구체 조성물.
The method of claim 6,
The polyimide precursor composition comprises 10 to 15% by weight solids based on the total weight, polyimide precursor composition.
제6항에 있어서,
상기 폴리이미드 전구체 조성물에 포함되는 폴리아믹산은 수 평균 분자량에 대한 중량 평균 분자량의 비(poly dispersity index)가 1.5 내지 2.0인, 폴리이미드 전구체 조성물.
The method of claim 6,
The polyamic acid included in the polyimide precursor composition has a poly dispersity index of 1.5 to 2.0 of a weight average molecular weight to a number average molecular weight.
제6항에 따른 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막하고 건조하여 겔 필름을 제조하는 단계; 및
상기 겔 필름을 경화하는 단계를 포함하는, 폴리이미드 필름의 제조방법.
Preparing a gel film by forming a polyimide precursor composition according to claim 6 on a support and drying the composition; And
Comprising curing the gel film.
제11항에 있어서,
하기 수식 2로 정의되는 폴리이미드 전구체 조성물의 점도 변화율이 -15 내지 +15 %의 범위인, 폴리이미드 필름의 제조방법:
점도 변화율(%) = [(제3 점도 - 제4 점도)/(제3 점도)] X 100 (2)
여기서, 제3 점도는 폴리이미드 전구체 조성물을 지지체에 제막한 직후의 점도이며, 제4 점도는 제막 후 25℃에서 1 시간이 경과한 후의 점도이다.
The method of claim 11,
Method for producing a polyimide film, the viscosity change rate of the polyimide precursor composition defined by the following formula 2 is in the range of -15 to + 15%:
% Viscosity change = [(3rd viscosity-4th viscosity) / (3rd viscosity)] X 100 (2)
Here, 3rd viscosity is a viscosity immediately after forming a polyimide precursor composition into a support body, and 4th viscosity is a viscosity after 1 hour passed at 25 degreeC after film forming.
제11항에 있어서,
상기 경화는, 순차적으로
30 내지 50℃에서 5 내지 10 분 동안 제1 열처리하는 단계;
180 내지 220℃에서 25 내지 35 분 동안 제2 열처리하는 단계; 및
440 내지 480℃에서 35 내지 45 분 동안 제3 열처리하는 단계를 포함하는, 폴리이미드 필름의 제조방법.
The method of claim 11,
The curing is sequentially
First heat treatment at 30 to 50 ° C. for 5 to 10 minutes;
A second heat treatment at 180 to 220 ° C. for 25 to 35 minutes; And
And a third heat treatment at 440 to 480 ° C. for 35 to 45 minutes.
제13항에 있어서,
상기 제1 열처리 내지 제3 열처리는 1 ℃/min 내지 10 ℃/min의 범위에서 선택되는 어느 하나 이상의 승온 속도로 가열되는, 폴리이미드 필름의 제조방법.
The method of claim 13,
The first heat treatment to the third heat treatment is a method of producing a polyimide film is heated at any one or more temperature increase rate selected from the range of 1 ℃ / min to 10 ℃ / min.
제11항에 따른 제조방법으로 제조되는, 폴리이미드 필름.A polyimide film prepared by the manufacturing method according to claim 11. 제15항에 있어서,
1 중량%의 열분해온도(Td)가 560℃ 이상이고,
열팽창계수가 5 ppm/℃ 이하이며,
신율이 15 % 이상이고,
인장강도가 350 MPa 이상이며,
두께가 10 내지 20 ㎛인, 폴리이미드 필름.
The method of claim 15,
Pyrolysis temperature (Td) of 1% by weight is 560 ℃ or more,
The coefficient of thermal expansion is 5 ppm / ° C or less,
Elongation is more than 15%,
Tensile strength is over 350 MPa,
The polyimide film having a thickness of 10 to 20 μm.
제15항에 따른 폴리이미드 필름을 포함하는, 전자 장치.An electronic device comprising the polyimide film of claim 15. 제17항에 있어서, 상기 전자 장치는 연성회로기판 또는 디스플레이 기판을 포함하는, 전자 장치.The electronic device of claim 17, wherein the electronic device comprises a flexible printed circuit board or a display substrate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020141708A1 (en) * 2018-12-31 2020-07-09 피아이첨단소재 주식회사 Polyamic acid composition and preparation method thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234916A (en) * 1993-02-09 1994-08-23 Central Glass Co Ltd Low-stress polyimide composition and precursor composition solution
KR20060037963A (en) * 2004-10-29 2006-05-03 주식회사 코오롱 Manufacturing method of polyimide precursor powder
KR20080058650A (en) * 2006-12-22 2008-06-26 주식회사 코오롱 Polyimide film containing polyimide powder
KR20130075423A (en) * 2011-12-27 2013-07-05 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamic acid solution

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6610534B2 (en) * 2014-03-31 2019-11-27 日産化学株式会社 Release layer forming composition
KR101907320B1 (en) * 2017-09-04 2018-10-11 주식회사 엘지화학 Polyimide film for flexible display device substrate
KR101949316B1 (en) * 2018-02-19 2019-02-18 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Polyamic Acid Composition with Improved Storage Stability, Method for Preparing Polyimide Film by Using the Same and Polyimide Film Prepared by the Same
KR102013535B1 (en) * 2018-12-31 2019-08-22 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Method for Preparing Polyimide Precursor Composition With Improved Storage Stability and Viscosity Stability, and Polyimide Precursor Composition Prepared by Using the Same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234916A (en) * 1993-02-09 1994-08-23 Central Glass Co Ltd Low-stress polyimide composition and precursor composition solution
KR20060037963A (en) * 2004-10-29 2006-05-03 주식회사 코오롱 Manufacturing method of polyimide precursor powder
KR20080058650A (en) * 2006-12-22 2008-06-26 주식회사 코오롱 Polyimide film containing polyimide powder
KR20130075423A (en) * 2011-12-27 2013-07-05 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamic acid solution

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020141708A1 (en) * 2018-12-31 2020-07-09 피아이첨단소재 주식회사 Polyamic acid composition and preparation method thereof

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