KR102009115B1 - Reflective-transmissive type film for preventing counterfeit - Google Patents

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KR102009115B1 KR1020180090880A KR20180090880A KR102009115B1 KR 102009115 B1 KR102009115 B1 KR 102009115B1 KR 1020180090880 A KR1020180090880 A KR 1020180090880A KR 20180090880 A KR20180090880 A KR 20180090880A KR 102009115 B1 KR102009115 B1 KR 102009115B1
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최진영
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Abstract

A semipermeable anti-counterfeiting film comprises: a base; a diffracted optical element layer disposed on the base and having a diffracted pattern for realizing images for authenticity determination; and a light penetrance adjustment thin film formed on the diffracted optical element layer along a profile of the diffracted pattern and capable of partially reflecting and penetrating incident light. Accordingly, the semipermeable anti-counterfeiting film can reflect and penetrate the incident light to realize diffracted images on both sides of the film.

Description

반투과형 위조 방지용 필름{REFLECTIVE-TRANSMISSIVE TYPE FILM FOR PREVENTING COUNTERFEIT}Transflective anti-counterfeiting film {REFLECTIVE-TRANSMISSIVE TYPE FILM FOR PREVENTING COUNTERFEIT}

본 발명은 반투과형 위조 방지용 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 진위 판정용 패턴을 이용하여 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 반투과형 위조 방지용 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a transflective anti-counterfeiting film. More specifically, the present invention relates to a transflective anti-counterfeiting film capable of realizing an image for authenticity determination using a pattern for authenticity determination.

소프트웨어, CD, DVD, 유가증권, 양주, 약품 등과 같은 고가 물품의 위조 행위가 큰 사회적 문제로 대두되고 있다. 위조되어 생산된 물품은 대부분 낮은 품질을 가지기 때문에 위와 같은 위조 행위에 의해서 해당 기업은 많은 노력을 기울여 얻게 된 신뢰를 실추 당하는 등 막대한 피해를 입고 있다. 이러한 위조 문제를 해결하기 위해서 기업들은 위조를 곤란하게 하는 기술 또는 진품과 위조품을 판정하는 기술 등을 제품에 부여함으로써 위조품의 유통방지에 노력을 기울이고 있다.Counterfeiting of expensive items such as software, CDs, DVDs, securities, liquor, medicines, etc. is a big social problem. Since most of the counterfeit goods are of low quality, the company is suffering from the damage caused by the forgery of the company. In order to solve the counterfeit problem, companies are making efforts to prevent the distribution of counterfeit goods by giving them a technology that makes forgery difficult or a technology for judging genuine and counterfeit goods.

위조 방지를 위해 제품에 부여되는 대표적인 것으로서는 홀로그램(hologram)을 들 수 있다. 홀로그램을 설계하기 위하여, 빔스플리터를 이용하여 대상물에 조사하는 물체광 및 기준광으로 상기 대상물로부터 반사되는 물체광 및 상기 기준광 사이의 간섭 형상을 이용하여 홀로그램을 설계한다. A hologram is a typical example given to a product to prevent forgery. In order to design the hologram, a hologram is designed using an interference shape between the object light and the reference light reflected from the object with the object light and the reference light irradiated to the object using a beam splitter.

상기 홀로그램은 입체상을 재현하는 간섭 줄무늬를 기록한 매체로서 홀로그래피의 원리를 이용하여 만들어진다. 이로써, 상기 홀로그램은 기준광과 동일한 진동수, 파장 및 위상을 갖는 재현광을 특정 각도로 간섭 무늬에 조사하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 또한, 보는 각도에 따라 반사되는 빛의 색깔 또는 형태가 변화할 수 있다.The hologram is a medium recording interference fringes that reproduce a three-dimensional image, and is made using the principle of holography. As a result, the hologram may implement a specific image by irradiating the interference fringes with the same frequency, wavelength, and phase as the reference light to the interference fringe at a specific angle. In addition, the color or shape of the reflected light may change according to the viewing angle.

그러나, 홀로그램으로 기록될 수 있는 정보에는 한계가 있기 때문에 정교한 홀로그램을 제작하기가 어려운 문제점이 있었다. 나아가, 상기 재현광은 반드시 기준광과 동일한 위상, 파장 및 진동수를 가져야 하는 한계가 있다. 이러한 문제점은 디지털 스캐너와 같은 홀로그램 복제 기구 등에 의해 홀로그램이 복제되기 시작하면서 복제가 용이하다는 문제가 심각하게 되었다. 또한, 상기 홀로그램을 이루는 홀로그램 패턴은 일정한 형상을 가짐에 따라 규칙적이다.However, since the information that can be recorded as a hologram has a limit, it is difficult to produce a sophisticated hologram. Furthermore, there is a limit that the reproduced light must have the same phase, wavelength and frequency as the reference light. This problem has been serious because the hologram is started to be replicated by a hologram duplication mechanism such as a digital scanner and the duplication is easy. In addition, the hologram pattern constituting the hologram is regular as it has a certain shape.

이에 따라 근래에는 나노 임프린팅 방법으로 위조 방지용 필름에 정보를 기록하는 기술이 소개되었다. 나노 임프린팅 방법은 나노 패턴을 가지는 몰드를 이용하여 위조 방지용 필름 상에 회절 패턴을 형성하는 방법으로서 저비용으로도 많은 정보를 기록할 수 있기 때문에 근래에 들어 널리 이용되고 있다.Accordingly, recently, a technique of recording information on an anti-counterfeiting film by a nano imprinting method was introduced. The nanoimprinting method is a method of forming a diffraction pattern on an anti-counterfeiting film using a mold having a nanopattern, and thus has been widely used in recent years because a large amount of information can be recorded at low cost.

일반적으로 위조 방지 필름은 직진 방향으로 조사되어 내부를 투과된 레이저가 일정한 방향으로 회절 되도록 한다. 이에 따라, 위조 방지용 필름에 직진 방향으로 조사된 레이저가 위조 방지용 필름을 투과한 후 회절 패턴에 의하여 회절된 광에 의하여 위조 방지 패턴이 구현된다. Generally, the anti-counterfeiting film is irradiated in a straight direction so that the laser beam transmitted through the inside is diffracted in a constant direction. Accordingly, the anti-counterfeiting pattern is realized by the light diffracted by the diffraction pattern after the laser irradiated in the straight direction to the anti-counterfeiting film passes through the anti-counterfeiting film.

하지만, 상기 투과형 위조 방지 필름은 3차원 벌크를 포함하는 다양한 형상의 제품에 적용이 어려운 문제가 있다. 또한, 투과형 위조 방지 필름 자체가 전체적으로 광투과성을 확보하여야 하므로, 상기 투과형 위조 방지 필름을 이루는 소재에 제한이 있다.However, the transmissive anti-counterfeiting film has a problem that is difficult to apply to products of various shapes including the three-dimensional bulk. In addition, since the transmissive anti-counterfeiting film itself must ensure light transmittance as a whole, there is a limitation in the material forming the transmissive anti-counterfeiting film.

이에 본 발명의 일 목적은 투과형 위조 방지 필름이 갖는 광투과성의 제한을 극복한 반투과형 위조 방지용 필름을 제공하는 것이다.Accordingly, one object of the present invention is to provide a semi-transmissive anti-counterfeiting film which overcomes the limitation of light transmittance of the transmissive anti-counterfeiting film.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름은 베이스, 상기 베이스 상에 구비되며, 진위 판정용 이미지를 구현하기 위한 회절 패턴을 갖는 회절성 광학 소자층 및 상기 회절성 광학 소자층 상에 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성되며, 입사되는 입사광을 부분적으로 반사 및 투과시킬 수 있는 광투과도 조절 박막을 포함한다.In order to achieve the above object, the anti-transmission anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention is provided on the base, the base, the diffractive optical element layer having a diffraction pattern for realizing the image for authenticity determination and the It is formed along the profile of the diffraction pattern on the diffractive optical element layer, and includes a light transmittance adjusting thin film capable of partially reflecting and transmitting the incident incident light.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은 가시광선 영역의 파장을 갖는 광에 대하여 40 내지 60% 범위 내의 광투과도를 갖고, 상기 베이스의 상부 및 하부 모두를 향하여 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다,In one embodiment of the present invention, the light transmittance adjusting thin film has a light transmittance in the range of 40 to 60% of the light having a wavelength in the visible light region, the image for authenticity determination toward both the top and bottom of the base. Can be implemented,

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은, 금, 은 및 알루미늄이 이루는 광반사성 금속군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the light transmittance adjusting thin film may include at least one selected from the group of light reflective metals made of gold, silver and aluminum.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 베이스의 상부 또는 하부에 정보를 저장하는 적어도 하나의 정보 패턴부가 더 구비될 수 있다.In one embodiment of the present invention, at least one information pattern unit for storing information on the upper or lower portion of the base may be further provided.

여기서, 상기 광투과도 조절 박막은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 최대 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다.Here, the light transmittance adjusting thin film may have a thickness adjusted to have a maximum transmittance with respect to incident light having a wavelength of 500 to 600 nm.

여기서, 상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 하면에 구비되고, QR 정보를 포함하는 QR 패턴층을 포함할 수 있다.Here, the information pattern portion may be provided on the bottom surface of the base, and may include a QR pattern layer including QR information.

한편, 상기 광투과도 조절 박막은 상기 광투과도 조절 박막은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 50% 미만의 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다.On the other hand, the light transmittance adjusting thin film may have a thickness adjusted so that the light transmittance adjusting thin film has a transmittance of less than 50% with respect to incident light having a wavelength of 500 to 600 nm.

이 경우, 상기 정보 패턴부는 상기 광투과도 조절 박막 상에 구비되어 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광을 재현광으로 이용하는 홀로그램 패턴층을 포할 수 있다. 또한, 상기 광투과 조절 박막 및 상기 홀로그램 패턴층 사이에 개재되며, 상기 상기 광투과 조절 박막 및 상기 홀로그램 패턴층을 상호 본딩하는 투명 본딩층이 더 구비될 수 있다.In this case, the information pattern part may include a hologram pattern layer provided on the light transmittance adjusting thin film and using incident light having a wavelength of 500 to 600 nm as reproduction light. In addition, a transparent bonding layer interposed between the light transmission control thin film and the hologram pattern layer may be further provided to bond the light transmission control thin film and the hologram pattern layer to each other.

한편, 상기 광투과도 조절 박막은 가시광선 영역의 파장을 갖는 광에 대하여 40 내지 60% 범위 내의 광투과도를 갖고, 상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 상부에 형성된 홀로그램 패턴층 및 상기 베이스의 하부에 형성된 QR 패턴층을 포함할 수 있다.Meanwhile, the light transmittance adjusting thin film has a light transmittance within a range of 40 to 60% with respect to light having a wavelength in the visible light region, and the information pattern portion has a hologram pattern layer formed on an upper portion of the base and a QR formed on the lower portion of the base. It may include a pattern layer.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 광투과 조절 박막의 상부에 구비된 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막 및 상기 평탄화층 사이에 개재되어 상기 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막을 상호 본딩하는 본딩층이 추가적으로 구비될 수 있다.In one embodiment of the present invention, a bonding layer for bonding the planarization layer and the light transmission control thin film interposed between the planarization layer and the light transmission control thin film and the planarization layer provided on the light transmission control thin film. This may be additionally provided.

본 발명의 실시예들에 따른 반투과형 위조방지용 필름에 따르면, 홀로그램을 대체할 수 있는 회절성 광학 소자를 구비함으로써, 나노 사이즈의 미세 패턴을 구현할 수 있다. 이로써, 복잡한 이미지를 용이하게 구현할 수 있으며, 불규칙적으로 랜덤한 형상 또는 크기를 갖는 회절 패턴이 구현될 수 있다. 또한, 다양한 파장 및 위상을 갖는 광을 이용하여 복수의 색을 갖는 이미지가 용이하게 구현될 수 있다.According to the transflective anti-counterfeiting film according to embodiments of the present invention, by providing a diffractive optical element that can replace the hologram, it is possible to implement a nano-sized fine pattern. As a result, a complex image can be easily implemented, and a diffraction pattern having an irregularly random shape or size can be implemented. In addition, an image having a plurality of colors may be easily implemented using light having various wavelengths and phases.

한편, 기존의 투과형 위조 방지용 필름과 다르게 베이스의 상면 및 하면 모두를 향하여 위조 판정용 이미지를 구현할 수 있다. 따라서, 대상체가 갖는 광투과성의 정도에 무관하게 대상체의 진위가 용이하게 판정될 수 있다.On the other hand, unlike the conventional transmissive anti-counterfeiting film, it is possible to implement the image for forgery determination toward both the upper and lower surfaces of the base. Therefore, the authenticity of the subject can be easily determined regardless of the degree of light transmittance of the subject.

나아가, 별도의 홀로그램 패턴층 또는 QR 패턴층이 추가적으로 구비됨에 따라, 위조 판정이 보다 정확하게 수행되거나, 제품의 추적 및 관리를 위한 추가 정보가 저장될 수 있다.Furthermore, as the additional hologram pattern layer or the QR pattern layer is additionally provided, the forgery determination may be performed more accurately, or additional information for tracking and managing the product may be stored.

한편, 평탄화층 및 본딩층이 추가적으로 구비됨에 따라 본딩층의 두께 변화에 따라, 반투과형 위조 방지용 필름의 두께가 효과적으로 조절될 수 있다.Meanwhile, as the planarization layer and the bonding layer are additionally provided, the thickness of the transflective anti-counterfeiting film may be effectively adjusted as the thickness of the bonding layer changes.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 2는 도 1의 광투과도 조절 박막의 두께에 따른 광투과도를 도시한 그래프이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름의 제조 방법을 설명하는 순서도이다.
도 7a는 비교예로서 홀로그램을 촬상한 사진이다.
도 7b는 본 발명의 회절성 광학 소자를 갖는 반투과형 위조 방지용 필름을 촬상한 사진이다.
도 8은 투과형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.
도 9는 반사형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a transflective anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph illustrating light transmittance according to the thickness of the light transmittance adjusting thin film of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view illustrating a transflective anti-counterfeiting film according to another embodiment of the present invention.
Figure 4 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmission anti-counterfeiting film according to another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating a semi-permeable anti-counterfeiting film according to another embodiment of the present invention.
6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semi-permeable anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.
7A is a photograph photographing a hologram as a comparative example.
It is a photograph which image | photographed the semi-transmissive anti-counterfeiting film which has the diffractive optical element of this invention.
8 is a cross-sectional view for explaining a phase difference of light transmitted through a diffraction pattern included in a transmissive anti-counterfeiting film.
9 is a cross-sectional view for explaining a phase difference of light transmitted through a diffraction pattern included in a reflective anti-counterfeiting film.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 첨부된 도면에 있어서, 대상물들의 크기와 양은 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대 또는 축소하여 도시한 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the accompanying drawings, the size and amount of the objects are shown to be enlarged or reduced than actual for clarity of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 다른 특징들이나 단계, 기능, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "include" are intended to indicate that there is a feature, step, function, component, or combination thereof described on the specification, and other features, steps, functions, components Or it does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of them in combination.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.On the other hand, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view illustrating a transflective anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130) 및 광투과도 조절 박막(150)을 포함한다. 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 외부로부터 입사되는 엘이디 광 또는 레이저 광이 상기 광투과도 조절 박막(150)으로부터 일부는 반사되고 일부는 투과된다. 이로써, 상기 베이스(110)의 상부 및 하부 모두를 향하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 이때, 특정 이미지는 진위 판정용 이미지에 해당할 수 있다. 예를 들면, 상기 특정 이미지는 진위 판정이 필요한 대상체의 제조 회사의 상표 또는 로그 등을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the anti-transmission anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a base 110, a diffractive optical element layer 130, and a light transmittance adjusting thin film 150. The transflective anti-counterfeiting film 100 has a part of the LED light or laser light incident from the outside is reflected from the light transmittance adjusting thin film 150 and part is transmitted. As a result, a specific image may be embodied toward both the upper and lower portions of the base 110. In this case, the specific image may correspond to an image for authenticity determination. For example, the specific image may include a trademark or a log of a manufacturing company of an object requiring authenticity determination.

상기 베이스(110)는 고분자 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스(110)는 PET 재질로 이루어질 수 있다. 또한 상기 베이스(110)의 하면 상에는 양면 접착 테이프(미도시)가 형성됨으로써, 상기 베이스(110)를 특정 제품에 부착시킬 수 있도록 구비될 수 있다. The base 110 may be made of a polymer material. For example, the base 110 may be made of a PET material. In addition, since the double-sided adhesive tape (not shown) is formed on the lower surface of the base 110, it may be provided to attach the base 110 to a specific product.

상기 베이스(110)의 상면에는 회절성 광학 소자층(130)이 구비된다.The diffractive optical element layer 130 is provided on the top surface of the base 110.

상기 회절성 광학 소자층(130)의 상면에는 회절 패턴이 형성된다. 상기 회절 패턴은 다양한 크기 및 형상을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 회절 패턴의 형상은 스트라이프 형상, 모자이크 형상, 피라미드 형상 등을 포함할 수 있다. 상기 회절 패턴은 푸리에 변환 및 푸리에 역변환 과정을 포함하는 설계 알고리즘을 거쳐 특정 이미지를 구현하기 위한 회절 특성을 이용하기 위한 패턴으로 정의될 수 있다.A diffraction pattern is formed on the upper surface of the diffractive optical element layer 130. The diffraction pattern may have various sizes and shapes. For example, the shape of the diffraction pattern may include a stripe shape, a mosaic shape, a pyramid shape, and the like. The diffraction pattern may be defined as a pattern for using diffraction characteristics for realizing a specific image through a design algorithm including a Fourier transform and a Fourier inverse transform.

상기 회절 패턴은 핫 엠보싱 공정, 나노 임프린팅 공정 또는 트랜스퍼 프린팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. The diffraction pattern may be formed through a hot embossing process, a nano imprinting process, or a transfer printing process.

상기 광투과도 조절 박막(150)은 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성된다. 이로써, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 균일한 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 상기 광투과도 조절 박막(150)은 상기 외부로 입사되는 광을 일부는 반사시켜 그 상부로 특정 이미지를 구현할 수 있는 한편, 상기 외부 광의 일부는 투과시켜, 그 하부로 특정 이미지를 구현할 수 있다. 따라서, 상기 광투과도 조절 박막(150)을 포함하는 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 진위 판정용 대상체의 광투과도에 관계없이 사용될 수 있다.The light transmittance adjusting thin film 150 is formed along the profile of the diffraction pattern. As a result, the light transmittance adjusting thin film 150 may be formed to have a uniform thickness. The light transmittance adjusting thin film 150 may reflect a part of the light incident to the outside to implement a specific image thereon, while transmitting a portion of the external light to implement a specific image thereunder. Therefore, the anti-transmission anti-counterfeiting film 100 including the light transmittance adjusting thin film 150 may be used regardless of the light transmittance of the object for authenticity determination.

상기 광투과도 조절 박막(150)은 금, 은 및 알루미늄과 같은 광반사성 금속 물질을 포함할 수 있다. The light transmittance adjusting thin film 150 may include a light reflective metal material such as gold, silver, and aluminum.

상기 광투과도 조절 박막(150)의 광투과도는 그 두께에 따라 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 1 nm 내지 4 nm 의 두께를 가질 수 있다.The light transmittance of the light transmittance adjusting thin film 150 may be adjusted according to its thickness. For example, the light transmittance adjusting thin film 150 may have a thickness of 1 nm to 4 nm.

상기 광투과도 조절 박막(150)이 상기 회절 패턴에 형성된 단차로 인하여 상기 광투과도 조절 박막(150)의 표면에서 반사된 빛이 위상이 달라지게 된다. 이로써 상기 반사광들이 상호 간섭됨으로써 특정 회절 이미지를 구현할 수 있다. Due to the step formed in the diffraction pattern of the light transmittance adjusting thin film 150, the light reflected from the surface of the light transmittance adjusting thin film 150 is changed in phase. As a result, the reflected light may interfere with each other to implement a specific diffraction image.

도 2는 도 1의 광투과도 조절 박막의 두께에 따른 광투과도를 도시한 그래프이다.FIG. 2 is a graph illustrating light transmittance according to the thickness of the light transmittance adjusting thin film of FIG. 1.

도 2를 참조하면, 광투과도 조절 박막(150)이 금으로 이루어질 경우, 그 두께별 파장에 따른 광투과도가 도시된다.Referring to FIG. 2, when the light transmittance adjusting thin film 150 is made of gold, light transmittance according to the wavelength of each thickness is shown.

상기 광투과도 조절 박막(150)이 금으로 이루어 질 경우, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 2 내지 4 nm 의 두께를 가질 수 있다. 이로써, 가시광선 영역에서 상기 광투과도 조절 박막이 40 내지 60 %의 광투과도를 가질 수 있다.When the light transmittance adjusting thin film 150 is made of gold, the light transmittance adjusting thin film 150 may have a thickness of 2 to 4 nm. As a result, the light transmittance adjusting thin film may have a light transmittance of 40 to 60% in the visible light region.

특히, 550 nm 의 외부광에서, 3nm 의 두께를 갖는 상기 광투과도 조절 박막이 50% 정도의 광투과도를 가질 것으로 추정된다.In particular, at 550 nm of external light, the light transmittance adjusting thin film having a thickness of 3 nm is estimated to have a light transmittance of about 50%.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 기존의 투과형 위조 방지용 필름과 다르게 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 3차원 벌크를 포함하는 다양한 형상을 갖는 대상체에 부착될 수 있다. 즉, 기존의 투과형 위조 방지용 필름의 경우 광이 상기 제품을 투과하는 투과광을 이용하여 진위 판정용 이미지를 구현함으로써, 상기 대상체가 불투명할 경우 상기 투과형 위조 방지용 필름이 이용되는 데 어려움이 있다.According to an embodiment of the present invention, unlike the conventional transmissive anti-counterfeiting film, the transflective anti-counterfeiting film 100 may be attached to an object having various shapes including a three-dimensional bulk. That is, in the case of the conventional transmissive anti-counterfeiting film by implementing the image for authenticity determination using the transmitted light transmitted through the product, it is difficult to use the transmissive anti-counterfeiting film when the object is opaque.

반면에, 본 발명의 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 부착되는 대상체의 다양한 형상 또는 재질에 무관하게 이용될 수 있는 장점을 가질 수 있다.On the other hand, the semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention may have an advantage that can be used regardless of the various shapes or materials of the object to be attached.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은, 평탄화층(190) 및 본딩층(170)을 더 포함한다.In one embodiment of the present invention, the transflective anti-counterfeiting film 100 further includes a planarization layer 190 and a bonding layer 170.

상기 평탄화층(190)은 상기 광투과 조절 박막(150)의 상부에 구비된다. 상기 평탄화층(190)은 회절 패턴에 형성된 단차를 제거하여 그 상면을 전체적으로 평탄화한다. The planarization layer 190 is provided on the light transmission control thin film 150. The planarization layer 190 removes the step formed in the diffraction pattern to planarize the entire upper surface thereof.

상기 평탄화층(190)은 상기 광투과도 조절 박막(150)을 덮도록 구비된다. 이로써, 상기 평탄화층(190)은 상기 광투과도 조절 박막(150) 나아가, 회절 광학 소자층(130)을 외부 충격으로부터 보호할 수 있다. 나아가, 상기 평탄화층(190)이 회절 광학 소자층(130)을 전체적으로 덮음으로써, 반투과형 위조 방지용 필름(100)의 복제를 억제할 수 있다. The planarization layer 190 is provided to cover the light transmittance adjusting thin film 150. As a result, the planarization layer 190 may protect the light transmittance adjusting thin film 150 and the diffractive optical element layer 130 from external impact. In addition, since the planarization layer 190 covers the diffractive optical element layer 130 as a whole, replication of the anti-transmission anti-counterfeiting film 100 may be suppressed.

상기 평탄화층(190)은 PVC, PMMA, PET, PT, 아크릴 및 에폭시가 이루는 광투과성 수지 중에서 어는 하나로 형성될 수 있다.The planarization layer 190 may be formed of any one of light transmitting resins formed of PVC, PMMA, PET, PT, acrylic, and epoxy.

상기 본딩층(170)은 상기 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막 사이에 개재된다. 상기 본딩층(170)은 상기 평탄화층(190) 및 상기 광투과 조절 박막(150)을 상호 본딩한다. 상기 본딩층(170)은 라미네이팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. 상기 본딩층(170)은, 예를 들면 냉각됨으로써 상기 평탄화층(190) 및 상기 광투과 조절 박막(150)을 상호 본딩할 수 있다.The bonding layer 170 is interposed between the planarization layer and the light transmission control thin film. The bonding layer 170 bonds the planarization layer 190 and the light transmission control thin film 150 to each other. The bonding layer 170 may be formed through a laminating process. For example, the bonding layer 170 may be cooled to bond the planarization layer 190 and the light transmission control thin film 150 to each other.

상기 본딩층(170)을 이루는 물질의 예로는, Examples of the material forming the bonding layer 170,

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.Figure 3 is a cross-sectional view illustrating a semi-permeable anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130), 광투과도 조절 박막(150) 및 정보 패턴부를 포함한다. 상기 정보 패턴부는 예를 들면, 홀로그램 패턴층(180)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 3, the anti-transmission anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a base 110, a diffractive optical element layer 130, a light transmittance adjusting thin film 150, and an information pattern portion. . The information pattern portion may include, for example, a hologram pattern layer 180.

상기 홀로그램 패턴층(180)은 상기 광투과도 조절 박막(150)의 상부에 구비된다. 상기 홀로그램 패턴층(180)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)으로부터 반사되는 반사광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 그 상부에 홀로그램을 구현할 있다. The hologram pattern layer 180 is provided on the light transmittance adjusting thin film 150. The hologram pattern layer 180 uses reflected light in which a part of incident light incident to the outside is reflected from the light transmittance adjusting thin film 150. As a result, the transflective anti-counterfeiting film 100 may implement a hologram thereon.

한편, 상기 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)을 투과하는 투과광은 상기 회절 광학 소자층(130)에 형성된 회절 패턴 및 상기 광투과도 조절 박막(150) 및 상기 회절 광학 소자층(130) 간의 굴절율 차이에 의하여 특정 이미지를 구현할 수 있다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 상기 특정 이미지를 이용하여 위조 여부를 판정할 수 있다.On the other hand, the transmitted light through which part of the incident light incident to the outside is transmitted through the light transmittance adjusting thin film 150 is a diffraction pattern formed on the diffractive optical element layer 130 and the light transmittance adjusting thin film 150 and the diffractive optical element. The difference in refractive index between the layers 130 may produce a specific image. As a result, the transflective anti-counterfeiting film 100 may determine whether the forgery is performed using the specific image.

결과적으로 상기 반사투과형 위조 방지용 필름(100)은, 그 상부에 홀로그램을 구현하는 한편, 그 하부에 특정 이미지를 동시에 구현할 수 있다.As a result, the anti-reflective anti-counterfeiting film 100 may implement a hologram on the top thereof and simultaneously implement a specific image on the bottom thereof.

여기서, 상기 광투과도 조절 박막(150)은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 50% 미만의 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다. 이로써, 상기 입사광에 대하여 상기 광투과도 조절 박막(150)이 상대적으로 높은 광반사도를 가짐에 따라, 홀로그램의 구현에 필요한 광이 상기 홀로그램 패턴층(180)에 보다 많은 양으로 도달할 수 있다.Here, the light transmittance adjusting thin film 150 may have a thickness adjusted to have a transmittance of less than 50% with respect to incident light having a wavelength of 500 to 600 nm. As a result, as the light transmittance adjusting thin film 150 has a relatively high light reflectivity with respect to the incident light, light required for realizing the hologram may reach the hologram pattern layer 180 in a greater amount.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a semi-transmission anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130), 광투과도 조절 박막(150) 및 정보 패턴부를 포함한다. 상기 정보 패턴부는 예를 들면, QR 패턴층(120)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 4, the anti-transmission anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a base 110, a diffractive optical element layer 130, a light transmittance adjusting thin film 150, and an information pattern portion. . The information pattern unit may include, for example, a QR pattern layer 120.

상기 QR 패턴층(120)은, 상기 베이스(110)의 하부에 위치한다. 상기 QR 패턴층(120)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)을 투과한 투과광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 본딩층(170)의 하부에 위치한 QR 패턴층(120)에 저장된 정보를 인식할 수 있도록 한다. 즉, QR 스캐너(미도시)는 상기 QR 패턴층(120)을 스캐닝함으로써, 상기 정보, 예를 들면, 생산 로트 등을 이용하여 대상체를 추적 및 관리를 용이하게 할 수 있다.The QR pattern layer 120 is located below the base 110. The QR pattern layer 120 uses transmitted light through which some of the incident light incident to the outside has passed through the light transmittance adjusting thin film 150. As a result, the transflective anti-counterfeiting film 100 may recognize the information stored in the QR pattern layer 120 located below the bonding layer 170. That is, a QR scanner (not shown) may facilitate tracking and managing an object by using the information, for example, a production lot, by scanning the QR pattern layer 120.

결과적으로 상기 반사투과형 위조 방지용 필름(100)은, 그 하부에 특정 이미지를을 구현하는 한편, 그 하부에 형성된 QR 정보를 읽을 수 있다.As a result, the anti-reflective anti-counterfeiting film 100 implements a specific image at the bottom thereof, and can read QR information formed at the bottom thereof.

여기서, 상기 광투과도 조절 박막(150)은500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 최대 투과도를 갖도록 조절된 두께를 가질 수 있다. 이로써, 상기 입사광에 대하여 상기 광투과도 조절 박막(150)이 상대적으로 높은 광투과도를 가짐에 따라, QR 패턴층(120)에 보다 많은 양으로 도달할 수 있다. 따라서, QR 패턴층(120)에 저장된 정보를 QR 스캐너가 효과적으로 인식할 수 있다.Here, the light transmittance adjusting thin film 150 may have a thickness adjusted to have a maximum transmittance with respect to incident light having a wavelength of 500 to 600 nm. Thus, as the light transmittance adjusting thin film 150 has a relatively high light transmittance with respect to the incident light, it may reach the QR pattern layer 120 in a greater amount. Therefore, the QR scanner can effectively recognize the information stored in the QR pattern layer 120.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름을 설명하는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a semi-permeable anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110), 회절성 광학 소자층(130), 광투과도 조절 박막(150) 및 정보 패턴부를 포함한다. 상기 정보 패턴부는 예를 들면, 홀로그램 패턴층(180) 및 QR 패턴층(120)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5, the anti-transmission anti-counterfeiting film 100 according to an embodiment of the present invention includes a base 110, a diffractive optical element layer 130, a light transmittance adjusting thin film 150, and an information pattern portion. . The information pattern unit may include, for example, a hologram pattern layer 180 and a QR pattern layer 120.

상기 홀로그램 패턴층(180)은 상기 광투과도 조절 박막(150)의 상부에 구비된다. 상기 홀로그램 패턴층(180)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)으로부터 반사되는 반사광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 그 상부에 홀로그램을 구현할 있다. The hologram pattern layer 180 is provided on the light transmittance adjusting thin film 150. The hologram pattern layer 180 uses reflected light in which a part of incident light incident to the outside is reflected from the light transmittance adjusting thin film 150. As a result, the transflective anti-counterfeiting film 100 may implement a hologram thereon.

한편, 상기 QR 패턴층(120)은, 상기 베이스(110)의 하부에 위치한다. 상기 QR 패턴층(120)은, 외부로 입사되는 입사광 중 일부가 상기 광투과도 조절 박막(150)을 투과한 투과광을 이용한다. 이로써, 상기 반투과형 위조 방지용 필름(100)은 베이스(110)의 하부에 위치한 QR 패턴층(120)에 저장된 정보를 인식할 수 있도록 한다. 즉, QR 스캐너는 상기 QR 패턴층(120)을 스캐닝함으로써, 상기 정보, 예를 들면, 생산 로트 등을 이용하여 대상체를 추적 및 관리를 용이하게 할 수 있다.The QR pattern layer 120 is positioned below the base 110. The QR pattern layer 120 uses transmitted light through which some of the incident light incident to the outside has passed through the light transmittance adjusting thin film 150. As a result, the transflective anti-counterfeiting film 100 may recognize the information stored in the QR pattern layer 120 located below the base 110. That is, the QR scanner scans the QR pattern layer 120 to facilitate tracking and management of an object using the information, for example, a production lot.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름의 제조 방법을 설명하는 순서도이다.6 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semi-transmission anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반투과형 위조 방지용 필름의 제조 방법에 있어서, 먼저, 베이스(110) 의 일면 상에 회절 광학 소자층(130)을 형성한다(S110). 상기 회절 패턴을 갖는 회절 광학 소자층(130)은 핫 엠보싱 공정, 나노 임프린팅 공정 또는 트랜스퍼 프린팅 공정을 통하여 형성될 수 있다. 1 and 6, in the method for manufacturing a transflective anti-counterfeiting film according to an embodiment of the present invention, first, a diffractive optical element layer 130 is formed on one surface of the base 110 (S110). ). The diffractive optical element layer 130 having the diffraction pattern may be formed through a hot embossing process, a nano imprinting process, or a transfer printing process.

이어서, 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라, 상기 외부로 입사되는 광을 반사 및 투과시키는 광투과도 조절 박막(150)을 형성한다(S130). 상기 광투과도 조절 박막(150)은, 원자층 증착 공정, 스퍼터링 공정 또는 이온 빔 공정을 통하여 형성될 수 있다.Subsequently, along the profile of the diffraction pattern, a light transmittance adjusting thin film 150 for reflecting and transmitting the light incident to the outside is formed (S130). The light transmittance adjusting thin film 150 may be formed through an atomic layer deposition process, a sputtering process, or an ion beam process.

상기 광투과도 조절 박막(150)은 금, 은, 알루미늄과 같은 광반사성 금속 물질을 이용하여 형성될 수 있다. 상기 광투과도 조절 박막(150)은 1 nm 내지 4 nm 의 두께를 갖도록 형성될 수 있다. The light transmittance adjusting thin film 150 may be formed using a light reflective metal material such as gold, silver, and aluminum. The light transmittance adjusting thin film 150 may be formed to have a thickness of 1 nm to 4 nm.

한편, 베이스(110)의 타면 상에 QR 패턴층(120)과 같은 정보 패턴층을 형성한다. 이와 다르게, 별도의 베이스 상에 홀로그팸 패턴층(180; 도 5 참조)과 같은 정보 패턴층을 형성한다. Meanwhile, an information pattern layer such as the QR pattern layer 120 is formed on the other surface of the base 110. Alternatively, an information pattern layer such as the hololog spam pattern layer 180 (see FIG. 5) is formed on a separate base.

이후, 정보 패턴층을 광투과도 조절 박막(150) 상에 본딩한다. 이로써, 정보 패턴층 및 상기 광투과도 조절 박막(150)을 포함하는 반투과성 위조 방지용 필름(100)이 제조된다. Thereafter, the information pattern layer is bonded onto the light transmittance adjusting thin film 150. As a result, a semi-transmissive anti-counterfeiting film 100 including an information pattern layer and the light transmittance adjusting thin film 150 is manufactured.

도 7a는 비교예로서 홀로그램을 촬상한 사진이다. 도 7b는 본 발명의 회절성 광학 소자를 갖는 반투과형 위조 방지용 필름을 촬상한 사진이다.7A is a photograph photographing a hologram as a comparative example. It is a photograph which image | photographed the semi-transmissive anti-counterfeiting film which has the diffractive optical element of this invention.

도 7a 및 도 7b를 참조하면, 홀로그램은 간섭 무늬가 주기성을 반복적으로 형성되어 있는 반면에, 본 발명의 회절성 광학 소자를 갖는 반투과형 위조 방지용 필름은 불규칙한 무늬가 복층으로 형성되어 있는 구조를 가짐을 확인할 수 있다.Referring to FIGS. 7A and 7B, the hologram has a structure in which an interference fringe is formed repeatedly, while the anti-transmission anti-counterfeiting film having the diffractive optical element of the present invention has a structure in which an irregular fringe is formed in multiple layers. can confirm.

도 8은 투과형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.8 is a cross-sectional view for explaining a phase difference of light transmitted through a diffraction pattern included in a transmissive anti-counterfeiting film.

도 8을 참조하면, 회절 패턴들 사이의 높이차(h)가 존재하고, 회절 패턴이 np(=1+p)를 가질 경우, Referring to FIG. 8, when there is a height difference h between diffraction patterns, and the diffraction pattern has n p (= 1 + p),

서로 다른 위치에서의 위상차(φ12)는 아래 수학식1과 같습니다.The phase difference (φ 12 ) at different positions is shown in Equation 1 below.

Figure 112018077045433-pat00001
Figure 112018077045433-pat00001

여기서, k0(=2π/λ)이며, p는 공기의 굴절율인 1보다 큰 차이값이며, h는 회절 패턴의 높이차이다. Here, k 0 (= 2π / λ), p is a difference value larger than 1, which is the refractive index of air, and h is the height difference of the diffraction pattern.

상기 위상차를 이용하여 회절패턴으로부터 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.The phase difference may be used to implement an image for authenticity determination from a diffraction pattern.

도 9는 반사형 위조 방지용 필름에 포함된 회절 패턴을 투과한 광의 위상차를 설명하기 위한 단면도이다.9 is a cross-sectional view for explaining a phase difference of light transmitted through a diffraction pattern included in a reflective anti-counterfeiting film.

도 9를 참조하면, 회절 패턴들 사이의 높이차(h)가 존재하고, 회절 패턴이 np(=1+p)를 가질 경우, Referring to FIG. 9, when there is a height difference h between diffraction patterns and the diffraction pattern has n p (= 1 + p),

서로 다른 위치에서의 위상차(φ12)는 아래 수학식1과 같습니다.The phase difference (φ 12 ) at different positions is shown in Equation 1 below.

Figure 112018077045433-pat00002
Figure 112018077045433-pat00002

여기서, k0(=2π/λ)이며, p는 공기의 굴절율인 1보다 큰 차이값이며, h는 회절 패턴의 높이차이다. Here, k 0 (= 2π / λ), p is a difference value larger than 1, which is the refractive index of air, and h is the height difference of the diffraction pattern.

상기 위상차를 이용하여 회절패턴으로부터 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있다.The phase difference may be used to implement an image for authenticity determination from a diffraction pattern.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with reference to preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments and various modifications made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Modifications and variations are possible. Such modifications and variations are intended to be within the scope of the invention and the appended claims.

100 : 반투과형 위조 방지용 필름 110 : 베이스
130 : 회절성 광학 소자층 150 : 광투과도 조절 박막
170 : 본딩층 190 : 평탄화층
100: transflective anti-counterfeiting film 110: base
130: diffractive optical element layer 150: light transmittance adjusting thin film
170: bonding layer 190: planarization layer

Claims (11)

베이스;
상기 베이스 상에 구비되며, 진위 판정용 이미지를 구현하기 위한 회절 패턴을 갖는 회절성 광학 소자층;
상기 회절성 광학 소자층 상에 상기 회절 패턴의 프로파일을 따라 형성되며, 입사되는 입사광을 부분적으로 반사 및 투과시킬 수 있는 광투과도 조절 박막;
상기 베이스의 상부 또는 하부에 정보를 저장하는 적어도 하나의 정보 패턴부를 포함하고,
상기 광투과도 조절 박막은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 최대 투과도를 갖도록 조절된 두께를 갖고,
상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 하면에 구비되고, QR 정보를 포함하는 QR 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.
Base;
A diffractive optical element layer provided on the base and having a diffraction pattern for realizing an image for authenticity determination;
A light transmittance adjusting thin film formed on the diffractive optical element layer along a profile of the diffraction pattern and partially reflecting and transmitting incident incident light;
At least one information pattern unit for storing information on the upper or lower portion of the base,
The light transmittance adjusting thin film has a thickness adjusted to have a maximum transmittance with respect to incident light having a wavelength of 500 to 600 nm,
The information pattern portion is provided on the lower surface of the base, semi-transmissive anti-counterfeiting film, characterized in that it comprises a QR pattern layer containing QR information.
제1항에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은 가시광선 영역의 파장을 갖는 광에 대하여 40 내지 60% 범위 내의 광투과도를 갖고, 상기 베이스의 상부 및 하부 모두를 향하여 진위 판정용 이미지를 구현할 수 있는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.According to claim 1, The light transmittance adjusting thin film has a light transmittance in the range of 40 to 60% of the light having a wavelength in the visible light region, and can implement the image for authenticity determination toward both the top and bottom of the base Semi-transmissive anti-counterfeiting film, characterized in that. 제1항에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은, 금, 은 및 알루미늄이 이루는 광반사성 금속군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.The anti-transmission anti-counterfeiting film of claim 1, wherein the light transmittance adjusting thin film includes at least one selected from a group of light reflective metals formed of gold, silver, and aluminum. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광에 대하여 50% 미만의 투과도를 갖도록 조절된 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.The anti-transmission anti-counterfeiting film of claim 1, wherein the light transmittance adjusting thin film has a thickness adjusted to have a transmittance of less than 50% with respect to incident light having a wavelength of 500 to 600 nm. 제7항에 있어서, 상기 정보 패턴부는 상기 광투과도 조절 박막 상에 구비되어 500 내지 600 nm 파장을 갖는 입사광을 재현광으로 이용하는 홀로그램 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.The anti-transmission anti-counterfeiting film according to claim 7, wherein the information pattern part comprises a hologram pattern layer provided on the light transmittance adjusting thin film and using incident light having a wavelength of 500 to 600 nm as reproduction light. 제8항에 있어서, 상기 광투과 조절 박막 및 상기 홀로그램 패턴층 사이에 개재되며, 상기 광투과 조절 박막 및 상기 홀로그램 패턴층을 상호 본딩하는 투명 본딩층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.The anti-transmission anti-counterfeiting agent of claim 8, further comprising a transparent bonding layer interposed between the light transmission control thin film and the hologram pattern layer and mutually bonding the light transmission control thin film and the hologram pattern layer. film. 제1항에 있어서, 상기 광투과도 조절 박막은 가시광선 영역의 파장을 갖는 광에 대하여 40 내지 60% 범위 내의 광투과도를 갖고,
상기 정보 패턴부는 상기 베이스의 상부에 형성된 홀로그램 패턴층 및 상기 베이스의 하부에 형성된 QR 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.
According to claim 1, The light transmittance adjusting thin film has a light transmittance in the range of 40 to 60% with respect to light having a wavelength in the visible light region,
The information pattern portion is a semi-transmission anti-counterfeiting film, characterized in that it comprises a holographic pattern layer formed on the upper portion and the QR pattern layer formed on the lower portion of the base.
제1항에 있어서, 상기 광투과 조절 박막의 상부에 구비된 평탄화 층; 및
상기 광투과 조절 박막 및 상기 평탄화층 사이에 개재되어 상기 평탄화층 및 상기 광투과 조절 박막을 상호 본딩하는 본딩층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반투과형 위조 방지용 필름.
According to claim 1, Flattening layer provided on top of the light transmission control thin film; And
The anti-transmission anti-counterfeiting film further comprises a bonding layer interposed between the light transmission control thin film and the planarization layer to bond the planarization layer and the light transmission control thin film to each other.
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