KR101704175B1 - Conductive laminate - Google Patents

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Abstract

본 출원은 도전성 적층체에 관한 것이다. 본 출원의 도전성 적층체는 슬로팅 공정, 운반 또는 보관 과정에서 발생 될 수 있는 찐 발생을 방지하여 이로 인한 상기 도전성 적층체가 적용된 터치 패널 등의 제품에 대한 불량을 방지하여 생산성을 극대화시킬 수 있다.The present application relates to a conductive laminate. The conductive laminate of the present application can prevent steam generation that may occur during the slotting process, transportation or storage process, thereby preventing defects in products such as a touch panel to which the conductive laminate is applied, thereby maximizing productivity.

Description

도전성 적층체 {CONDUCTIVE LAMINATE}Conductive laminate {CONDUCTIVE LAMINATE}

본 출원은 도전성 적층체 및 그 용도에 관한 것이다. The present application relates to a conductive laminate and its use.

터치 패널 또는 터치 스크린은 이동 통신 단말기 또는 ATM 등과 같은 각종 정보 처리용 단말기나, TV 및 모니터 등의 표시 장치에 다양하게 적용되고 있다. 또한, 소형 휴대용 전자 기기로의 적용이 증가하면서 보다 소형이고 경량화된 터치 패널 또는 스크린에 대한 요구가 증가하는 추세이다.BACKGROUND ART [0002] A touch panel or a touch screen is variously applied to various information processing terminals such as a mobile communication terminal or an ATM, or a display device such as a TV and a monitor. In addition, as the application to small portable electronic devices increases, there is an increasing tendency for a smaller and lighter touch panel or screen.

상기 터치 패널 또는 스크린의 구성 시에는 예를 들면 특허문헌 1 또는 2에 개시된 것과 같은 도전성 적층체가 사용된다. 이러한 도전성 적층체는 점착제층을 포함하고 있을 수 있다.In constructing the touch panel or the screen, for example, a conductive laminate as disclosed in Patent Document 1 or 2 is used. Such a conductive laminate may include a pressure-sensitive adhesive layer.

상기 도전성 적층체에 포함되는 점착제층은 두꺼울수록 슬로팅(slotting) 공정이나 운반 또는 보관 과정 중에 찐이 발생하기 쉽고, 이러한 찐 발생으로 인하여 상기 도전성 적층체가 적용되는 제품의 불량을 초래하는 문제점이 있다.The thicker the pressure sensitive adhesive layer in the conductive laminate is, the more likely it is to generate steam during the slotting process, the transportation or storage process, and the defective product to which the conductive laminate is applied due to the generation of steam .

특허 문헌 1: 대한민국 공개특허 제2002-0036837호Patent Document 1: Korean Patent Publication No. 2002-0036837 특허 문헌 2: 대한민국 공개특허 제2001-0042939호Patent Document 2: Korean Patent Publication No. 2001-0042939

본 출원은 도전성 적층체 및 그 용도를 제공한다. The present application provides a conductive laminate and its use.

본 출원은 도전성 적층체에 관한 것이다.The present application relates to a conductive laminate.

도 1은 상기 본 출원의 도전성 적층체의 구조를 예시적으로 나타낸 것이다.Fig. 1 is a schematic view showing the structure of the conductive laminate of the present application.

도 1에서 보는 바와 같이, 하나의 예시에서, 상기 도전성 적층체는 기재층(30); 상기 기재층(30) 일면에 형성된 도전성층(40); 및 상기 도전성층(40)이 형성된 반대면에 부착되어 있는 점착제층(20)을 포함할 수 있다.As shown in Figure 1, in one example, the conductive laminate comprises a substrate layer 30; A conductive layer 40 formed on one surface of the base layer 30; And a pressure-sensitive adhesive layer 20 adhered to the opposite surface of the conductive layer 40.

상기 도전성 적층체에 포함되는 기재층의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 유리 기재 또는 플라스틱 기재 등을 사용할 수 있다. 플라스틱 기재로는 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리스티렌 필름 또는 폴리올레핀 필름 등을 사용할 수 있고, 통상적으로 폴리에틸렌테레프탈레이트 등과 같은 폴리에스테르 필름, 아크릴 수지 필름 또는 폴리카보네이트 필름 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The type of the base layer included in the conductive laminate is not particularly limited, and for example, a glass base material or a plastic base material can be used. As the plastic substrate, a polyester film, a polyamide film, a polyvinyl chloride film, a polystyrene film, or a polyolefin film can be used, and a polyester film such as polyethylene terephthalate, an acrylic resin film or a polycarbonate film can be used But is not limited thereto.

본 출원에서 상기 기재층의 두께는 특별히 제한되지 않고, 도전성 적층체로서 기능을 할 수 있는 한 적절히 설정할 수 있다. 예를 들면, 상기 기재층의 두께는 약 1 내지 500㎛, 약 3 내지 300㎛, 약 5 내지 250㎛ 또는 10 내지 200㎛ 정도의 범위 내일 수 있다.In the present application, the thickness of the base layer is not particularly limited and may be suitably set as long as it can function as a conductive laminate. For example, the thickness of the substrate layer may be in the range of about 1 to 500 microns, about 3 to 300 microns, about 5 to 250 microns, or about 10 to 200 microns.

상기 기재층에는 특별히 제한되는 것은 아니나, 코로나 방전 처리, 자외선 조사 처리, 플라즈마 처리 또는 스퍼터 에칭 처리 등의 적절한 접착 처리가 수행되어 있을 수 있다.The base layer is not particularly limited, but may be subjected to appropriate bonding treatment such as corona discharge treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, plasma treatment, or sputter etching treatment.

본 출원의 상기 도전성 적층체의 기재층 일면에는 도전성층이 형성되어 있을 수 있다.A conductive layer may be formed on one surface of the base layer of the conductive laminate of the present application.

상기 도전성층의 형성법은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들면 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 스프레이 열분해법, 화학 도금법, 전기 도금법 또는 상기 중 2종 이상의 방법을 조합한 통상의 박막 형성법으로 형성할 수 있고, 통상적으로 진공 증착법 또는 스퍼터링법으로 형성할 수 있다.The method of forming the conductive layer is not particularly limited, and may be formed by a conventional thin film forming method combining a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a spray pyrolysis method, a chemical plating method, an electroplating method, And can usually be formed by a vacuum evaporation method or a sputtering method.

상기 도전성층을 구성하는 소재로는, 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트, 주석 또는 상기 중 2종 이상의 합금 등과 같은 금속, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 티탄, 산화 카드뮴 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물로 구성되는 금속 산화물, 요오드화 구리 등이 사용될 수 있고, 상기 도전성층은 결정층 또는 비결정층 일 수 있다. Examples of the material constituting the conductive layer include metal such as gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt, tin or two or more alloys of the above metals, indium oxide, tin oxide, Titanium oxide, cadmium oxide, or a mixture of two or more of them may be used, and the conductive layer may be a crystalline layer or an amorphous layer.

하나의 예시에서, 도전성층을 구성하는 소재는 인듐 주석 산화물(ITO; Indium Tin Oxide)을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In one example, indium tin oxide (ITO) may be used as a material for forming the conductive layer, but the present invention is not limited thereto.

또한, 상기와 같은 도전성층의 두께는 연속 피막의 형성 가능성, 도전성 및 투명성 등을 고려하여, 약 10nm 내지 300nm, 약 10nm 내지 200nm 또는 약 10nm 내지 100nm의 범위로 조절할 수 있다.The thickness of the conductive layer may be adjusted to a range of about 10 nm to 300 nm, about 10 nm to 200 nm, or about 10 nm to 100 nm in consideration of the possibility of forming a continuous coating, conductivity, transparency, and the like.

본 출원의 상기 도전성층은 필요한 경우 앵커층 또는 유전체층을 매개로 기재층 일면에 형성되어 있을 수도 있다. 상기 앵커층 또는 유전체층은 도전성층과 기재층 사이의 밀착성을 향상시키고, 내찰상성 또는 내굴곡성을 개선할 수 있다. The conductive layer of the present application may be formed on one surface of the base layer via an anchor layer or a dielectric layer, if necessary. The anchor layer or the dielectric layer improves the adhesion between the conductive layer and the base layer, and improves scratch resistance or flex resistance.

또한, 상기와 같은 앵커층 또는 유전체층은, 예를 들면, SiO2, MgF2 또는 Al2O3 등과 같은 무기물; 아크릴 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지 또는 실록산계 폴리머 등의 유기물 또는 상기 중 2종 이상의 혼합물을 사용한 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 또는 도공법을 사용하여 형성할 수 있다. 상기 앵커층 또는 유전체층은 통상적으로 약 100nm 이하, 구체적으로는 15nm 내지 100nm 또는 20nm 내지 60nm의 두께로 형성할 수 있다.The anchor layer or the dielectric layer may be formed of an inorganic material such as SiO 2 , MgF 2 or Al 2 O 3 ; A sputtering method, an ion plating method, or a coating method using an organic material such as an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an alkyd resin or a siloxane-based polymer, or a mixture of two or more of them. The anchor layer or the dielectric layer may typically be formed to a thickness of about 100 nm or less, specifically, 15 nm to 100 nm or 20 nm to 60 nm.

본 출원의 도전성 적층체는 상기 도전성층이 형성된 기재층의 반대 면에 부착되어 있는 점착제층을 포함할 수 있다. 상기 점착제층은, 예를 들면 가교된 점착성 중합체를 포함할 수 있다. 슬로팅이나 재단 공정 중에 필름의 사이로 점착제가 유출되거나, 운송 또는 보관 과정에서 주변 온도에 따라서 점착제가 흘러 나오는 문제를 방지하기 위하여 상기 점착성 중합체의 조성은 조절될 수 있다.The conductive laminate of the present application may include a pressure-sensitive adhesive layer adhered to the opposite surface of the base layer on which the conductive layer is formed. The pressure-sensitive adhesive layer may comprise, for example, a crosslinked pressure-sensitive adhesive polymer. The composition of the adhesive polymer can be adjusted to prevent the problem that the adhesive tends to flow out of the film during the slotting or cutting process, or the adhesive tends to flow out depending on the ambient temperature during transport or storage.

예를 들면, 상기 점착성 중합체는 유리전이온도가 0℃ 미만인 제 1 단량체 중합 단위와 유리전이온도가 0℃ 이상인 제 2 단량체 중합 단위를 포함할 수 있다.For example, the tacky polymer may include a first monomer polymerization unit having a glass transition temperature of less than 0 ° C and a second monomer polymerization unit having a glass transition temperature of 0 ° C or more.

본 명세서에서 단량체의 유리전이온도를 규정하는 경우에 그 유리전이온도는 그 단량체가 중합되어 단독 중합체(homopolymer)를 형성한 경우에 그 단독 중합체의 유리전이온도를 지칭할 수 있다. 따라서, 예를 들어 용어 「유리전이온도가 0℃ 미만인 제 1 단량체」는, 제 1 단량체들만을 중합시켜 형성된 단독 중합체(homopolymer)의 유리전이온도가 0℃ 미만인 것을 의미할 수 있고, 용어 「유리전이온도가 0℃ 이상인 제 2 단량체」는, 제 2 단량체들만을 중합시켜 형성된 단독 중합체(homopolymer)의 유리전이온도가 0℃ 이상인 것을 의미할 수 있다. 또한 본 명세서에서 용어 「단량체 중합 단위」는 그 단량체가 중합 반응을 거쳐서 그 중합체의 골격, 예를 들면, 주쇄 또는 측쇄를 형성하고 있는 형태를 의미할 수 있다.When the glass transition temperature of a monomer is defined in this specification, its glass transition temperature can refer to the glass transition temperature of the homopolymer when the monomer is polymerized to form a homopolymer. Thus, for example, the term "a first monomer having a glass transition temperature of less than 0 ° C" may mean that the glass transition temperature of a homopolymer formed by polymerizing only the first monomers is less than 0 ° C, The second monomer having a transition temperature of 0 ° C or higher "may mean that the glass transition temperature of a homopolymer formed by polymerizing only the second monomers is 0 ° C or higher. In the present specification, the term " monomeric polymerization unit " may mean a form in which the monomer undergoes a polymerization reaction to form a skeleton of the polymer, for example, a main chain or a side chain.

점착성 중합체에 중합 단위로 포함되는 상기 제 1 단량체의 유리전이온도는, 다른 예시에서 0℃ 미만, -10℃ 미만, -20℃ 미만, -30℃ 미만 또는 -40℃ 미만일 수 있다. 제 1 단량체의 유리전이온도 하한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 -100℃, -90℃, -80℃ 또는 -70℃ 정도일 수 있다. 이러한 범위의 유리전이온도를 가지는 단량체를 사용하면 찐 현상을 보다 효율적으로 방지할 수 있는 점착제층을 형성할 수 있다.The glass transition temperature of the first monomer contained as a polymerization unit in the tacky polymer may be less than 0 占 폚, less than -10 占 폚, less than -20 占 폚, less than -30 占 폚, or less than -40 占 폚 in other examples. The lower limit of the glass transition temperature of the first monomer is not particularly limited and may be, for example, about -100 ° C, -90 ° C, -80 ° C, or -70 ° C. Use of a monomer having a glass transition temperature within this range can form a pressure-sensitive adhesive layer that can more effectively prevent steam generation.

제 1 단량체로는, 예를 들면 상기 범위의 유리전이온도를 가지는 것으로서, 탄소수 1 내지 6 이하 또는 탄소수 1 내지 5 이하의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다. 상기 알킬기는 탄소수 1 내지 6 이하인 경우 특별히 제한되는 것은 아니나, 예를 들어 분지쇄 또는 직쇄 알킬기일 수 있고, 보다 바람직하게는 직쇄 알킬기를 사용할 수 있다. 이러한 단량체로는, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트 또는 n-헥실 (메타)아크릴레이트 등이 예시될 수 있고, 상기 중 일종 또는 이종 이상을 사용할 수 있다.As the first monomer, for example, alkyl (meth) acrylates having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or 1 to 5 carbon atoms having a glass transition temperature within the above range can be used. The alkyl group is not particularly limited when it has 1 to 6 carbon atoms, but may be, for example, a branched chain or straight chain alkyl group, more preferably a straight chain alkyl group. Examples of such monomers include ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec- (Meth) acrylate, and the like, and one or more of the above can be used.

제 2 단량체의 유리전이온도는, 다른 예시에서 0℃ 이상, 10℃ 이상, 20℃ 이상, 30℃ 이상, 40℃ 이상, 50℃ 이상, 60℃ 이상, 70℃ 이상 또는 80℃ 이상일 수 있다. 제 2 단량체의 유리전이온도 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 300℃, 250℃, 200℃, 150℃, 또는 120℃ 정도일 수 있다. In another example, the glass transition temperature of the second monomer may be at least 0 ° C, at least 10 ° C, at least 20 ° C, at least 30 ° C, at least 40 ° C, at least 50 ° C, at least 60 ° C, at least 70 ° C, The upper limit of the glass transition temperature of the second monomer is not particularly limited and may be, for example, about 300 ° C, 250 ° C, 200 ° C, 150 ° C, or 120 ° C.

제 2 단량체로는 전술한 유리전이온도를 가지는 것이라면 특별한 제한 없이 다양한 종류를 사용할 수 있다.As the second monomer, various types can be used without particular limitation, provided that the second monomer has the above-mentioned glass transition temperature.

제 2 단량체로는, 예를 들면 tert-부틸 아크릴레이트(tertiary butyl acrylate), tert-부틸 메타크릴레이트(tertiarybutyl methacrylate), 이소부틸 메타크릴레이트(isobutyl methacrylate), 1-헥사데실 (메타)아크릴레이트(1-hexadecyl (meth)acrylate) 또는 메틸 메타크릴레이트(methyl methacrylate) 등과 같은 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트; N-비닐포름아미드(N-vinylformamid) 등과 같이 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기를 가질 수 있는 N-알케닐포름아미드; 아크릴아미드(acrylamide), N,N-디페닐 (메타)아크릴아미드(N,N-diphenyl (meth)acrylamide), N-(n-도데실)(메타)아크릴아미드(N-(n-dodecyl)(meth)acrylamide), N,N-디메틸 (메타)아크릴아미드(N,N-dimethyl acrylamide) 또는 N-하이드록시에틸 아크릴아미드(N-hydroxyethyl acrylamide) 등과 같은 (메타)아크릴아미드; N-알킬 (메타)아크릴아미드, N,N-디알킬 (메타)아크릴아미드 또는 N,N-디아릴 (메타)아크릴아미드; 2-메톡시에틸 (메타)아크릴레이트(2-methoxyethyl (meth)acrylate) 등과 같은 알콕시알킬 (메타)아크릴레이트; 디하이드로디사이클로펜타다이에닐 아크릴레이트(dihydrodicyclopentadienyl acrylate), 사이클로헥실 (메타)아크릴레이트(cyclohexyl (meth)acrylate), 벤질 (메타)아크릴레이트(benzyl (meth)acrylate), 사이클로프로필 아크릴레이트(cyclopropyl acrylate), N-나프틸 아크릴레이트(N-naphtyl acrylate), 2-페녹시에틸 (메타)아크릴레이트(2-phenoxyethyl (meth)acrylate), 페닐 (메타)아크릴레이트(phenyl (meth)acrylate), 2-페닐에틸 (메타)아크릴레이트(2-phenylethyl (meth)acrylate), 이소보닐 (메타)아크릴레이트(isobornyl (meth)acrylate), 디사이클로펜타닐 (메타)아크릴레이트(dicyclopentanyl (meth)acrylate) 또는 사이클로헥실 (메타)아크릴레이트(cyclohexyl (meth)acrylate) 등과 같은 포화 또는 불포화 고리형 탄화수소기를 가지는 (메타)아크릴레이트((meth)acrylate); 또는 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트((meth)acrylate); 또는 스티렌(styrene) 등이 예시될 수 있다.The second monomer includes, for example, tertiary butyl acrylate, tertiarybutyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 1-hexadecyl (meth) acrylate (Meth) acrylate having a straight-chain or branched-chain alkyl group such as 1-hexadecyl (meth) acrylate or methyl methacrylate; N-alkenylformamide having 2 to 20 carbon atoms, 2 to 16 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms, 2 to 8 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, such as N-vinylformamide; Acrylamide, N, N-diphenyl (meth) acrylamide, N- (n-dodecyl) (meth) acrylamide, N- (meth) acrylamide such as N, N-dimethyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide and the like; N-alkyl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide or N, N-diaryl (meth) acrylamide; Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as 2-methoxyethyl (meth) acrylate and the like; Dihydrodicyclopentadienyl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclopropyl (meth) acrylate, acrylate, N-naphthyl acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, Acrylate, 2-phenylethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate or dicyclopentanyl (Meth) acrylate having a saturated or unsaturated cyclic hydrocarbon group such as cyclohexyl (meth) acrylate and the like; (Meth) acrylate having an aromatic group; Or styrene may be exemplified.

상기와 같은 제 1 및 제 2 단량체를 중합시켜 형성된 점착성 중합체를 사용하여 점착제층을 구현할 경우에 점착제층은 고주파 영역 및 고온에서 적정한 저장 탄성률을 나타낼 수 있고, 고온에서의 점도도 적정 범위로 유지되어 슬로팅이나 재단 공정 또는 운반이나 보관 과정에서 발생할 수 있는 찐 현상이 방지될 수 있다.When the pressure-sensitive adhesive layer is formed using the pressure-sensitive adhesive polymer formed by polymerizing the first and second monomers as described above, the pressure-sensitive adhesive layer can exhibit an appropriate storage modulus at a high frequency range and at a high temperature, and maintains a viscosity at a high temperature in an appropriate range Steaming that can occur during slotting, cutting, or transporting or storing can be prevented.

점착성 중합체는 예를 들면, 제 1 단량체 중합 단위 30 중량부 내지 80 중량부 및 제 2 단량체 중합 단위 10 중량부 내지 50 중량부를 포함할 수 있다. 본 명세서에서 단위 「중량부」는 각 성분간의 중량의 비율을 의미할 수 있다. 점착성 중합체는 다른 예시에서, 제 1 단량체 중합 단위 40 중량부 내지 70 중량부 및 제 2 단량체 중합 단위 20 중량부 내지 50 중량부 또는 제 1 단량체 중합 단위 40 중량부 내지 60 중량부 및 제 2 단량체 중합 단위 20 중량부 내지 40 중량부를 포함할 수 있다. 이러한 범위에서 점착성 중합체는 보다 적절한 목적 물성을 가지는 점착제층을 형성할 수 있다.The adhesive polymer may include, for example, 30 to 80 parts by weight of the first monomer polymerization unit and 10 to 50 parts by weight of the second monomer polymerization unit. In the present specification, the unit " weight part " may mean a ratio of the weight between the respective components. In another example, the tacky polymer may comprise from 40 to 70 parts by weight of the first monomeric polymerization unit and from 20 to 50 parts by weight of the second monomeric polymeric unit or from 40 to 60 parts by weight of the first monomeric polymeric unit, And 20 to 40 parts by weight of the unit. In this range, the pressure-sensitive adhesive polymer can form a pressure-sensitive adhesive layer having more appropriate target physical properties.

하나의 예시에서, 점착성 중합체는 상기 제 1 및 제 2 단량체 중합 단위 외에도 질소를 고리 구성 원자로 포함하는 고리 구조를 포함하는 제 3 단량체 중합 단위를 추가로 포함할 수 있다.In one example, the tacky polymer may further comprise a third monomeric polymerization unit comprising a ring structure comprising nitrogen as a ring constituent atom, in addition to the first and second monomeric polymerization units.

제 3 단량체로는, 질소를 구성 원자로 포함하는 고리 구조를 가지는 것이라면 특별한 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면 하기 화학식 1로 표시되는 단량체를 사용할 수 있다.The third monomer is not particularly limited as long as it has a cyclic structure containing nitrogen as a constituent atom. For example, a monomer represented by the following formula (1) can be used.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112015027334818-pat00001
Figure 112015027334818-pat00001

화학식 1에서 R은 수소 원자 또는 중합성 관능기이거나, L과 N이 이중 결합으로 연결되는 경우에는 존재하지 않고, L은 하나 이상의 산소 원자 또는 질소 원자를 포함할 수 있으며, 하나 이상의 중합성 관능기로 치환되어 있을 수 있는 알킬렌기 또는 알케닐렌기이고, 상기 알킬렌기 또는 알케닐렌기의 탄소 원자 중 하나 이상은 카보닐 그룹을 형성할 수 있으며, 상기 알킬렌기 또는 알케닐렌기는 각각 독립적으로 알킬 또는 알케닐로 치환될 수 있고, 화학식 1의 화합물은 하나 이상의 중합성 관능기를 포함한다.In formula (1), R is not a hydrogen atom or a polymerizable functional group, or when L and N are connected by a double bond, L may contain at least one oxygen atom or a nitrogen atom and may be substituted with at least one polymerizable functional group And at least one of the carbon atoms of the alkylene group or the alkenylene group may form a carbonyl group, and the alkylene group or the alkenylene group may each independently be alkyl or alkenyl group, And the compound of formula (1) comprises at least one polymerizable functional group.

상기 질소를 고리 구성 원자로 포함하는 고리 구조는 모르폴린, 피롤리돈, 옥사졸린, 카프로락탐 또는 이미다졸일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 중합성 관능기로는, 예를 들면, 아크릴기, 메타크릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 또는 비닐기, 알릴기 또는 이소프로페닐기 등과 같은 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기일 수 있다.The ring structure containing the nitrogen as the ring constituting atom may be morpholine, pyrrolidone, oxazoline, caprolactam or imidazole, but is not limited thereto. Examples of the polymerizable functional group include groups having 2 to 12 carbon atoms, 2 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms such as an acrylic group, a methacrylic group, an acryloyl group, a methacryloyl group or a vinyl group, Or an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms.

본 명세서에서 용어 「알킬렌기」는, 포화 탄화수소 사슬로부터 유도되는 2가의 잔기이고, 상기 알킬렌기는 예를 들면, 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16, 탄소수 3 내지 12 또는 탄소수 3 내지 8의 알킬렌기 일 수 있다. 상기 알킬렌기는 하나 이상의 중합성 관능기 또는 다른 치환기로 치환되어 있을 수 있으며, 상기 포화 탄화수소 사슬은 사슬 내의 질소(N) 또는 산소(O)와 같은 헤테로 원자를 포함할 수 있다.The term " alkylene group " as used herein is a divalent residue derived from a saturated hydrocarbon chain, and examples of the alkylene group include alkyl groups having 3 to 20 carbon atoms, 3 to 16 carbon atoms, 3 to 12 carbon atoms, It can be a stove. The alkylene group may be substituted with one or more polymerizable functional groups or other substituents and the saturated hydrocarbon chain may contain a heteroatom such as nitrogen (N) or oxygen (O) in the chain.

본 명세서에서 용어 「알케닐렌기」는, 적어도 하나의 탄소 탄소 이중 결합을 포함하는 탄화수소 사슬로부터 유도되는 2가의 잔기이고, 상기 알케닐렌기는 예를 들면, 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16, 탄소수 3 내지 12 또는 탄소수 3 내지 8의 알킬렌기일 수 있다. 상기 알킬렌기는 하나 이상의 중합성 관능기 또는 다른 치환기로 치환되어 있을 수 있으며, 상기 탄화수소 사슬은 사슬 내에 질소(N) 또는 산소(O)와 같은 헤테로 원자를 포함할 수 있다.As used herein, the term " alkenylene group " is a divalent residue derived from a hydrocarbon chain containing at least one carbon-carbon double bond, and the alkenylene group includes, for example, an alkylene group having 3 to 20 carbon atoms, 3 to 16 carbon atoms, 3 to 12, or an alkylene group having 3 to 8 carbon atoms. The alkylene group may be substituted with one or more polymerizable functional groups or other substituents and the hydrocarbon chain may contain a heteroatom such as nitrogen (N) or oxygen (O) in the chain.

화학식 1로 표시되는 단량체의 구체적인 예로는, 4-아크릴로일모르폴린(4-acryloylmorpholine), 1-비닐-2-피롤리돈(1-vinyl-2-pyrrolidone), 2-이소프로페닐-2-옥사졸린(2-isopropenyl-2-oxazoline), N-비닐카프로락탐(N-vinylcaprolactam) 또는 1-비닐이미다졸(1-vinylimidazole) 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Specific examples of the monomer represented by the formula (1) include 4-acryloylmorpholine, 1-vinyl-2-pyrrolidone, 2-isopropenyl- But are not limited to, 2-isopropenyl-2-oxazoline, N-vinylcaprolactam or 1-vinylimidazole.

제 3 단량체가 포함되는 경우, 상기 점착성 중합체는 제 3 단량체 중합 단위를 다른 단량체의 중량 대비 1 중량부 내지 20 중량부, 1 중량부 내지 15 중량부 또는 1 중량부 내지 10 중량부의 비율로 포함할 수 있다. 이러한 범위에서 점착성 중합체는 보다 적절한 목적 물성을 가지는 점착제층을 형성할 수 있다.When a third monomer is included, the tacky polymer may comprise a third monomeric polymerization unit in a proportion of from 1 part by weight to 20 parts by weight, from 1 part by weight to 15 parts by weight, or from 1 part by weight to 10 parts by weight relative to the weight of the other monomer . In this range, the pressure-sensitive adhesive polymer can form a pressure-sensitive adhesive layer having more appropriate target physical properties.

점착성 중합체는 가교성 단량체 중합 단위를 추가로 포함할 수 있다. 본 명세서에서 용어 「가교성 단량체」는 가교성 관능기와 점착성 중합체를 형성할 수 있는 다른 관능기를 가져서 중합 단위로 중합체에 포함되면, 중합체에 가교성 관능기를 제공할 수 있는 단량체를 의미할 수 있다.The tacky polymer may further comprise a crosslinkable monomer polymerized unit. As used herein, the term " crosslinkable monomer " may mean a monomer capable of providing a crosslinkable functional group to a polymer when the polymer contains a crosslinkable functional group and another functional group capable of forming a tacky polymer.

점착제의 제조 분야에서는 가교성 단량체로 사용될 수 있는 단량체가 다양하게 공지되어 있으며, 이러한 단량체는 모두 상기 점착성 중합체에 사용될 수 있다. 예를 들어, 가교성 단량체로는 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트 또는 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트; 폴리(에틸렌글리콜) (메타)아크릴레이트 또는 폴리(프로필렌글리콜) (메타)아크릴레이트 등의 폴리(알킬렌글리콜) (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시 아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시 프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시 부틸산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산 또는 말레산 무수물 등의 카복실기 함유 공중합성 단량체 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the production of pressure-sensitive adhesives, various monomers which can be used as crosslinking monomers are known, and all of these monomers can be used in the adhesive polymer. Examples of the crosslinkable monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate or 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate; (Meth) acrylates such as poly (alkylene glycol) (meth) acrylates such as poly (ethylene glycol) (meth) acrylate or poly (propylene glycol) , Carboxyl group-containing copolymerizable monomers such as 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl acid, acrylic acid doublet, itaconic acid, maleic acid or maleic anhydride But is not limited thereto.

상기 점착성 중합체에 가교성 단량체 중합 단위가 포함되는 경우, 예를 들면 상기 가교성 단량체 중합 단위는 다른 단량체 대비 1 중량부 내지 30 중량부, 5 중량부 내지 30 중량부, 10 중량부 내지 30 중량부 또는 12 중량부 내지 30 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 상기 점착성 중합체가 상기 가교성 단량체 중합 단위를 전술한 범위 내에서 포함하도록 조절하여 후술하는 특정 범위 이상의 저장 탄성률 및/또는 점도를 가지는 점착제 조성물을 제공하는 것에 유리할 수 있다. When the crosslinkable monomer polymerization unit is contained in the tacky polymer, for example, the crosslinkable monomer polymerization unit may be used in an amount of 1 part by weight to 30 parts by weight, 5 parts by weight to 30 parts by weight, 10 parts by weight to 30 parts by weight Or 12 parts by weight to 30 parts by weight. It may be advantageous to provide a pressure-sensitive adhesive composition having a storage elastic modulus and / or viscosity of a specific range or more, which will be described later, by adjusting the pressure-sensitive adhesive polymer to include the above-mentioned crosslinkable monomer unit within the above-mentioned range.

하나의 예시에서, 상기 점착성 중합체는 중량평균분자량이 30만 내지 250만, 30만 내지 200만 또는 30만 내지 150만일 수 있다. 본 출원에서 용어 중량평균분자량은 GPC(Gel Permeation Chromatography)로 측정한 표준 폴리스티렌에 대한 환산 수치를 의미한다. 이러한 범위의 중량평균분자량을 가지는 점착성 중합체를 사용하면 목적하는 특성의 점착제의 형성에 유리할 수 있다.In one example, the tacky polymer may have a weight average molecular weight of from 300,000 to 250,000, from 300,000 to 2,000,000, or from 300,000 to 150. The term "weight average molecular weight" as used in the present application means a value converted to standard polystyrene measured by GPC (Gel Permeation Chromatography). Use of a pressure-sensitive adhesive polymer having a weight average molecular weight within this range may be advantageous for the formation of a pressure-sensitive adhesive having desired properties.

상기 점착성 중합체는 예를 들면, 유리전이온도가 -80℃ 내지 30℃, -70℃ 내지 30℃ 또는 -60℃ 내지 30℃ 일 수 있다. 이러한 범위의 유리전이온도를 가지면 상기 점착성 중합체의 첨가 효과가 상승할 수 있고, 이에 따라 후술하는 상기 점착성 중합체를 포함하는 점착제층의 저장 탄성률 및/또는 점도를 특정 범위 이상으로 조절할 수 있다.The tacky polymer may have, for example, a glass transition temperature of -80 캜 to 30 캜, -70 캜 to 30 캜, or -60 캜 to 30 캜. If the glass transition temperature is within this range, the effect of adding the pressure-sensitive adhesive polymer can be increased, and thus the storage elastic modulus and / or viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer containing the pressure-sensitive adhesive polymer described later can be adjusted to a specific range or more.

점착성 중합체를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않고, 전술한 단량체를 적정 비율로 혼합하고, 이를 용액 중합(solution polymerization), 광 중합(photo polymerization), 괴상 중합(bulk polymerization), 현탁 중합(suspension polymerization) 또는 유화 중합(emulsion polymerization)과 같은 중합 방식에 적용하여 제조할 수 있다. 이 과정에서 필요할 경우, 적합한 중합 개시제 또는 분자량 조절제나 사슬 이동제 등이 함께 사용될 수도 있다.The method for producing the adhesive polymer is not particularly limited and may be a method in which the monomer is mixed at an appropriate ratio and solution polymerization, photo polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, Or by emulsion polymerization. [0033] The term " polymer " If necessary in this process, suitable polymerization initiators or molecular weight regulators, chain transfer agents and the like may be used together.

상기 점착제층은 상기 점착성 중합체를 가교시킬 수 있는 가교제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 가교제로는 상기 점착성 중합체에 포함되는 가교성 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 적어도 2개 이상, 2개 내지 10개, 2개 내지 8개, 2개 내지 6개 또는 2개 내지 4개를 가지는 가교제를 사용할 수 있다. 이러한 가교제로는, 이소시아네이트 가교제, 에폭시 가교제, 아지리딘 가교제 또는 금속 킬레이트 가교제 등의 통상적인 가교제들 중에서 점착성 중합체가 가지는 가교성 관능기의 종류를 고려하여 적절한 종류가 선택되어 사용될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may further comprise a crosslinking agent capable of crosslinking the pressure-sensitive adhesive polymer. The crosslinking agent may be a crosslinking agent having at least two or more functional groups capable of reacting with the crosslinkable functional group contained in the adhesive polymer, 2 to 10, 2 to 8, 2 to 6, or 2 to 4 Crosslinking agents may be used. As such a cross-linking agent, an appropriate type may be selected and used from among conventional cross-linking agents such as an isocyanate cross-linking agent, an epoxy cross-linking agent, an aziridine cross-linking agent or a metal chelate cross-linking agent considering the kind of the cross-linkable functional group of the adhesive polymer.

상기 이소시아네이트 가교제로는, 톨리렌 디이소시아네이트, 크실렌 디이소시아네이트, 디페닐메탄 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 이소보론 디이소시아네이트, 테트라메틸크실렌 디이소시아네이트 또는 나프탈렌 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트 화합물이나 상기 디이소시아네이트 화합물과 폴리올, 예를 들면 트리메틸롤프로판 등의 반응물 또는 상기 디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트 부가체 등이 예시될 수 있으나, 바람직하게는 크실렌 디이소시아네이트 또는 헥사메틸렌 디이소시아네이트를 사용할 수 있고, 에폭시 가교제로는, 에틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르, N,N,N'N'테트라글리시딜 에틸렌디아민 및 글리세린 디글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 예시될 수 있다.Examples of the isocyanate crosslinking agent include diisocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isoboron diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, and naphthalene diisocyanate; And a reaction product of a polyol such as trimethylolpropane or an isocyanurate adduct of the above diisocyanate compound. Of these, xylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate can be preferably used. As the epoxy crosslinking agent Is composed of ethylene glycol diglycidyl ether, triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, N, N, N'N 'tetraglycidyl ethylenediamine and glycerin diglycidyl ether And one or more selected from the group consisting of amino acids.

또한 상기 아지리딘 가교제로는 N,N'톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), N,N'디페닐메탄-4,4'비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌 멜라민, 비스이소프로탈로일-1-(2-메틸아지리딘) 또는 트리-1-아지리디닐포스핀옥시드 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 상기 금속 킬레이트 가교제로는, 알루미늄, 철, 아연, 주석, 티탄, 안티몬, 마그네슘 및/또는 바나듐과 같은 다가 금속이 아세틸 아세톤 또는 아세토초산 에틸 등에 배위하고 있는 화합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the aziridine crosslinking agent include N, N 'toluene-2,4-bis (1-aziridine carboxamide), N, N' diphenylmethane-4,4'bis (1-aziridine carboxamide) , Triethylene melamine, bisisoproparyl-1- (2-methyl aziridine), or tri-1-aziridinyl phosphine oxide, but the present invention is not limited thereto. Examples of the metal chelate crosslinking agent include And compounds in which a polyvalent metal such as aluminum, iron, zinc, tin, titanium, antimony, magnesium and / or vanadium is coordinated to acetyl acetone or ethyl acetonate, and the like.

상기 가교제는, 예를 들면, 점착성 중합체 100 중량부 대비 0.01 중량부 내지 10 중량부, 0.015 중량부 내지 5 중량부, 0.02 중량부 내지 2.5 중량부 또는 0.025 중량부 내지 1 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 상기 가교제를 전술한 범위에서 상기 점착성 중합체에 포함되도록 조절하여 상기 점착제층이 후술하는 저장 탄성률 및/또는 점도를 원하는 범위 내에서 형성되도록 할 수 있다.The crosslinking agent may be contained in an amount of, for example, 0.01 to 10 parts by weight, 0.015 to 5 parts by weight, 0.02 to 2.5 parts by weight or 0.025 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the adhesive polymer . The cross-linking agent may be regulated to be included in the adhesive polymer within the above-mentioned range so that the pressure-sensitive adhesive layer has a storage elastic modulus and / or viscosity, which will be described later, within a desired range.

점착제층은, 필요한 경우 커플링제, 점착 부여제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 및 가소제 중 선택되는 어느 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may further include at least one selected from a coupling agent, a tackifier, a UV stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, a defoamer, a surfactant and a plasticizer, if necessary.

본 출원의 도전성 적층체의 상기 점착제층은 점착성 중합체가 가교되어 있는 상태에서 30℃ 온도 및 500rad/sec의 주파수에서 측정한 저장 탄성률이 0.5MPa 이상, 0.55MPa 이상 또는 0.6MPa 이상일 수 있다. 상기 30℃ 온도 및 500rad/sec의 주파수에서 측정된 저장 탄성률의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 1.2MPa 이하, 1.1MPa 이하 또는 1.0MPa 이하 일 수 있다. The pressure-sensitive adhesive layer of the conductive laminate of the present application may have a storage modulus of 0.5 MPa or more, 0.55 MPa or more, or 0.6 MPa or more as measured at a temperature of 30 DEG C and a frequency of 500 rad / sec in a state where the adhesive polymer is crosslinked. The upper limit of the storage elastic modulus measured at the temperature of 30 DEG C and the frequency of 500 rad / sec is not particularly limited and may be, for example, 1.2 MPa or less, 1.1 MPa or less or 1.0 MPa or less.

상기 점착제층은 가교 구조를 구현한 상태에서 80℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 저장 탄성률이 0.05MPa 이상, 0.055MPa 이상, 0.06MPa 이상, 0.065MPa 이상 또는 0.07MPa 이상일 수 있다. 상기 점착제층을 80℃ 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 측정된 저장 탄성률의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 0.12MPa 이하, 0.11MPa 이하, 0.1MPa 이하 또는 0.095MPa 이하 일 수 있다. The pressure-sensitive adhesive layer may have a storage elastic modulus of 0.05 MPa or more, 0.055 MPa or more, 0.06 MPa or more, 0.065 MPa or more, or 0.07 MPa or more at a temperature of 80 캜 and a frequency of 1 rad / sec in a state of implementing a crosslinked structure. The upper limit of the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer measured at a temperature of 80 DEG C and a frequency of 1 rad / sec is not particularly limited and may be, for example, 0.12 MPa or less, 0.11 MPa or less, 0.1 MPa or less or 0.095 MPa or less.

상기 점착제층의 저장 탄성률을 전술한 범위 내에서 조절하여 상기 점착제층을 포함하는 도전성 적층체를 적용한 제품에 슬로팅 공정, 운반 이나 보관 과정에 발생할 수 있는 찐 발생을 방지하여 이로 인한 불량률을 최소화함으로써 제품에 대한 생산성을 극대화시킬 수 있다.By controlling the storage modulus of the pressure-sensitive adhesive layer within the above-mentioned range, it is possible to prevent the occurrence of steam that may occur during the slotting process, the transportation or the storage process of the product in which the conductive laminate including the pressure-sensitive adhesive layer is applied, Thereby maximizing the productivity of the product.

하나의 예시에서, 상기 점착제층은 가교 구조를 구현한 상태에서 80℃ 온도 및 1rad/sec 주파수에서의 복합 점도가 5 × 104Pa·s 이상, 5.5 × 104Pa·s 이상, 6.0 × 104Pa·s 이상, 6.5 × 104Pa·s 이상 또는 7.0 × 104Pa·s 일 수 있다. 상기 점착제층은 80℃ 온도 및 1rad/sec 주파수에서 측정한 복합 점도의 상한은 특별히 제한되지 않으나, 3 × 106Pa·s 이하, 2.5 × 106Pa·s 이하, 2.0 × 106Pa·s 이하 또는 1.5 × 106Pa·s 이하 정도일 수 있다.In one example, the pressure-sensitive adhesive layer is temperature 80 ℃ In one embodiment, a cross-linking structure state and 1rad / sec the complex viscosity at a frequency of 5 × 10 4 Pa · s or more, 5.5 × 10 4 Pa · s or more, 6.0 × 10 4 Pa s or more, 6.5 x 10 4 Pa s or more, or 7.0 x 10 4 Pa s. The pressure-sensitive adhesive layer has an upper limit of the complex viscosity measured at a temperature of 80 ℃ and 1rad / sec frequency is not particularly limited, 3 × 10 6 Pa · s or less, 2.5 × 10 6 Pa · s or less, 2.0 × 10 6 Pa · s Or 1.5 x 10 < 6 > Pa s or less.

상기 점착제층의 복합 점도를 전술한 범위 내에서 조절하여, 상기 점착제층을 포함하는 도전성 적층체를 적용한 제품에 슬로팅 공정, 운반 이나 보관 과정에 발생할 수 있는 찐 발생을 방지하여 이로 인한 불량률을 최소화함으로써 제품에 대한 생산성을 극대화시킬 수 있다.By controlling the complex viscosity of the pressure-sensitive adhesive layer within the above-mentioned range, it is possible to prevent the occurrence of steam that may occur during the slotting process, the transportation or the storage in the product using the conductive laminate including the pressure-sensitive adhesive layer, Thereby maximizing the productivity of the product.

도전성 적층체는 전술한 기재층, 도전성층 및 점착제층을 기본 단위로 포함하고, 필요한 경우 도전성 적층체의 형성에 통상 적용되는 다른 요소, 예를 들면, 투명 시트층, 이형 필름층 또는 하드 코팅층 등을 추가로 포함할 수 있다.본 출원은, 또한 터치 패널에 대한 것이다. 예시적인 터치 패널은 상기 도전성 적층체를 예를 들면, 터치 패널용 전극판으로 포함할 수 있다.The conductive laminate includes the above-described base layer, conductive layer and pressure-sensitive adhesive layer as basic units, and if necessary, other elements usually used for forming the conductive laminate, such as a transparent sheet layer, a release film layer or a hard coating layer The present application is also directed to a touch panel. The exemplary touch panel may include the conductive laminate as an electrode plate for a touch panel, for example.

상기 터치 패널은 상기 도전성 적층체를 포함하는 한, 정전용량 방식 또는 저항막 방식 등을 포함한 공지의 구조로 형성될 수 있다. 상기 도전성 적층체는, 터치 패널 또는 액정 디스플레이 등의 다양한 장치의 형성 등에 사용할 수 있다.The touch panel may have a known structure including an electrostatic capacity type or a resistance film type as long as the touch panel includes the conductive laminated body. The conductive laminate can be used for forming various devices such as a touch panel or a liquid crystal display.

본 출원의 도전성 적층체는 슬로팅 공정, 운반 또는 보관 과정에서 발생될 수 있는 찐 현상을 방지하여 이로 인한 상기 도전성 적층체가 적용된 제품의 불량을 방지하여 생산성을 극대화시킬 수 있다.The conductive laminate of the present application can prevent the steam phenomenon that may occur during the slotting process, transportation or storage process, thereby preventing the defective product from being applied to the conductive laminate, thereby maximizing the productivity.

도 1은, 본 출원의 하나의 예시에 따른 도전성 적층체의 구조를 모식적으로 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically showing the structure of a conductive laminate according to one example of the present application.

이하 본 출원에 따르는 실시예 및 본 출원에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 출원을 보다 상세히 설명하나, 본 출원의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in more detail by way of examples according to the present application and comparative examples not complying with the present application, but the scope of the present application is not limited by the following embodiments.

이하 실시예 및 비교예에서의 물성은 하기의 방식으로 평가하였다.
The physical properties in the following examples and comparative examples were evaluated in the following manner.

1. 유리전이온도의 측정1. Measurement of glass transition temperature

각 제조예에서 사용된 원료인 단량체 각각에 대한 단독 중합체를 형성한 후의 유리전이온도는 공지된 자료(thermal transitions of homopolymers)를 근거로 참조하였으며, 각 제조예에서 제조된 점착성 중합체들의 유리전이온도는 각각 샘플 5mg을 시차주사형 열량계(differential scanning calorimetry(DSC), TA사)를 사용하여 승온 속도 10℃/분으로 설정하여 -100℃ 내지 50℃의 범위에서 측정하였다.
The glass transition temperature after forming the homopolymer for each of the monomers as raw materials used in each production example was referred to based on the known data (thermal transitions of homopolymers), and the glass transition temperature of the sticking polymers prepared in each production example was 5 mg of each sample was measured at a temperature raising rate of 10 캜 / min using differential scanning calorimetry (DSC, TA corporation) at a temperature ranging from -100 캜 to 50 캜.

2. 분자량 측정2. Molecular weight measurement

중량평균분자량(Mw)은 GPC를 사용하여 이하의 조건으로 측정하였으며, 검량선의 제작에는 Agilent system의 표준 폴리스티렌을 사용하여 측정 결과를 환산하였다.The weight average molecular weight (Mw) was measured using GPC under the following conditions, and the measurement results were converted using standard polystyrene of Agilent system for the calibration curve.

<측정 조건><Measurement Conditions>

측정기: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)Measuring instrument: Agilent GPC (Agilent 1200 series, U.S.)

컬럼: PL Mixed B 2개 연결Column: Two PL Mixed B connections

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ° C

용리액: THF(Tetrahydrofuran)Eluent: THF (Tetrahydrofuran)

유속: 1.0 mL/minFlow rate: 1.0 mL / min

농도: ~ 1 mg/mL (100μL injection)
Concentration: ~ 1 mg / mL (100 μL injection)

3. 저장 탄성률 평가(A)3. Evaluation of storage modulus (A)

실시예 및 비교예에서 제조된 도전성 적층체에 포함된 점착제층의 저장 탄성률은 유변 물성 측정기(Advanced Rheometric Expansion System, TA사)를 이용하여 측정하였다. 상기 점착제층을 두께가 1mm이고 가로 50mm × 세로 50mm인 시편으로 재단한 후, 직경이 8mm인 패러랠 프레이트 픽스처 (parallel plate fixture)를 이용하여, 변형율을 10% 조건으로 하여 주파수 스윕(frequency sweep)을 통한 30℃의 온도 및 500rad/sec의 주파수에서 저장 탄성률을 측정하였다.
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer contained in the conductive laminate prepared in Examples and Comparative Examples was measured using a Rheometric Expansion System (TA). The pressure-sensitive adhesive layer was cut into a specimen having a thickness of 1 mm and a width of 50 mm and a length of 50 mm. Then, a frequency sweep was performed using a Parallel Plate Fixture having a diameter of 8 mm under a strain of 10% Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 30 C &lt; / RTI &gt; and a frequency of 500 rad / sec.

4. 저장 탄성률 평가(B)4. Evaluation of storage modulus (B)

실시예 및 비교예에서 제조된 도전성 적층체에 포함된 점착제층의 저장 탄성률은 유변 물성 측정기(Advanced Rheometric Expansion System, TA사)를 이용하여 측정하였다. 상기 점착제층을 두께가 1mm이고 가로 50mm × 세로 50mm인 시편으로 재단한 후, 직경이 8mm인 패러랠 프레이트 픽스처 (parallel plate fixture)를 이용하여, 변형율을 10% 조건으로 하여 주파수 스윕(frequency sweep)을 통한 80℃의 온도 및 1rad/sec의 주파수에서 저장 탄성률을 측정하였다.
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer contained in the conductive laminate prepared in Examples and Comparative Examples was measured using a Rheometric Expansion System (TA). The pressure-sensitive adhesive layer was cut into a specimen having a thickness of 1 mm and a width of 50 mm and a length of 50 mm. Then, a frequency sweep was performed using a Parallel Plate Fixture having a diameter of 8 mm under a strain of 10% Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 80 C &lt; / RTI &gt; and a frequency of 1 rad / sec.

5. 점도의 평가5. Evaluation of Viscosity

실시예 및 비교예에서 제조된 도전성 적층체에 포함된 점착제층의 저장 탄성률은 유변 물성 측정기(Advanced Rheometric Expansion System, TA사)를 이용하여 측정하였다. 상기 점착제층을 두께가 1mm이고 가로 50mm × 세로 50mm인 시편으로 재단한 후, 직경이 8mm인 패러랠 프레이트 픽스처 (parallel plate fixture)를 이용하여, 변형율을 10% 조건으로 하여 주파수 스윕(frequency sweep)을 통한 30℃ 내지 100℃의 온도에서 점도를 측정하였다.
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer contained in the conductive laminate prepared in Examples and Comparative Examples was measured using a Rheometric Expansion System (TA). The pressure-sensitive adhesive layer was cut into a specimen having a thickness of 1 mm and a width of 50 mm and a length of 50 mm. Then, a frequency sweep was performed using a Parallel Plate Fixture having a diameter of 8 mm under a strain of 10% Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 30 C &lt; / RTI &gt;

6. 찐 현상 평가(1)6. Evaluation of Steaming Phenomena (1)

실시예 및 비교예에서 제조된 PET 필름을 포함하는 도전성 적층체를 100mm × 100mm(폭×길이)의 크기로 두 시편이 되도록 재단한 후, 상기 두 시편의 모서리를 위 아래로 겹치도록 하여 손으로 약 10회 정도 문지른 다음 박리하면서 점착제층으로부터 점착제가 PET 필름 표면에 묻어나오는 정도를 육안으로 관찰하여 하기와 같은 기준으로 평가하였다.The conductive laminate including the PET film prepared in Examples and Comparative Examples was cut into two specimens having a size of 100 mm x 100 mm (width x length), and then the two specimens were overlapped with each other by the upper and lower edges, After rubbing about 10 times, the extent to which the pressure-sensitive adhesive was applied to the surface of the PET film from the pressure-sensitive adhesive layer while peeling off was visually observed and evaluated according to the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

○: 필름 표면에 묻은 점착제가 육안에 의해 확인되지 않음.○: The adhesive on the surface of the film was not visually confirmed.

×: 필름 표면에 묻은 점착제가 육안으로 현저하게 관찰됨.
X: The adhesive on the surface of the film was observed visually.

7. 찐 현상 평가(2)7. Evaluation of steam phenomena (2)

실시예 및 비교예에서 제조된 PET 필름을 포함하는 도전성 적층체에 60℃에서 24시간 동안 10kgf의 추를 사용하여 힘을 가한 후, PET 필름에서 빠져 나오는 점착제층에 포함된 점착제의 양을 육안으로 관찰하여 하기와 같은 기준으로 평가였다.After applying a force of 10 kgf for 24 hours at 60 DEG C to the conductive laminate including the PET film prepared in Examples and Comparative Examples, the amount of the adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer exiting from the PET film was visually observed Observations were made based on the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

○: 필름 사이에 점착제가 빠져나오는 것이 육안에 의해 확인되지 않음.○: It is not visually confirmed that the adhesive is released between the films.

×: 필름 사이에 점착제가 빠져나오는 것이 육안으로 현저하게 관찰됨.
X: The viscous agent was observed to be evacuated from the film to the naked eye.

제조예Manufacturing example 1. 점착성 중합체(A1)의 제조 1. Preparation of adhesive polymer (A1)

내부에 질소가스가 환류되고, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 설치한 1L 반응기에 n-부틸 아크릴레이트(BA) 50 중량부, 이소보닐 아크릴레이트(IBOA) 30 중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA) 15 중량부 및 1-비닐-2-피롤리돈(VP) 5 중량부를 투입하였다. 이어서, 에틸아세테이트(EAc) 100 중량부를 용제로 투입하고, 산소 제거를 위하여 질소 가스를 60분 동안 퍼지(purging)한 후, 온도를 60℃로 유지한 상태에서 반응 개시제인 아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.06 중량부를 투입하여 반응을 개시시켰다. 이 후, 약 5시간 반응을 시킨 반응물을 에틸아세테이트(EAc)로 희석하여 점착성 중합체(A1)를 제조하였다.
50 parts by weight of n-butyl acrylate (BA), 30 parts by weight of isobornyl acrylate (IBOA), 2 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) and 5 parts by weight of 1-vinyl-2-pyrrolidone (VP). Subsequently, 100 parts by weight of ethyl acetate (EAc) was poured into a solvent, and nitrogen gas was purged for 60 minutes to remove oxygen. Then, while maintaining the temperature at 60 占 폚, azobisisobutyronitrile (AIBN) were added to initiate the reaction. Thereafter, the reaction product which had been reacted for about 5 hours was diluted with ethyl acetate (EAc) to prepare a sticky polymer (A1).

제조예Manufacturing example 2 내지  2 to 제조예Manufacturing example 7. 점착성 중합체(A2 내지 A5 및 B1 내지 B2)의 제조 7. Preparation of sticky polymers (A2 to A5 and B1 to B2)

점착성 중합체 중합 시에 사용된 원료 및 첨가제 등의 종류 및/또는 비율을 하기 표 1과 같이 조절한 것을 제외하고는 제조예 1의 경우와 동일하게 점착성 중합체(A2 내지 A5 및 B1 내지 B2)를 제조하였다.(A2 to A5 and B1 to B2) were prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the types and / or ratios of raw materials and additives used in the polymerizing the adhesive polymer were controlled as shown in Table 1 below. Respectively.

원료Raw material EAEA V-65V-65 BABA IBOAIBOA MAMA MMAMMA HEAHEA VPVP ACMOACMO EHAEHA 점착성
중합체
Stickiness
polymer
A1A1 5050 3030 -- 1515 55 -- -- 100100 0.060.06
A2A2 5050 3030 -- 1515 -- 55 -- 100100 0.060.06 A3A3 5555 3030 -- -- 1515 -- -- -- 100100 0.060.06 A4A4 5555 -- 3030 -- 1515 -- -- -- 100100 0.060.06 A5A5 5555 -- -- 3030 1515 -- -- -- 100100 0.060.06 B1B1 -- 3030 -- -- 1515 -- -- 5555 100100 0.060.06 B2B2 -- -- 4040 -- 1010 -- -- 5050 100100 0.060.06 함량 단위: g
BA: n-butyl acrylate (단독 중합체 Tg: 약 -54℃)
IBOA: isobornyl acrylate (단독 중합체 Tg: 약 94℃)
MA: Methyl acrylate (단독 중합체 Tg: 약 10℃)
MMA: methyl (meth)acrylate (단독 중합체 Tg: 약 110℃)
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate (단독 중합체 Tg: 약 -15℃)
VP: 1-vinyl-2-pyrrolidone (단독 중합체 Tg: 약 54℃)
ACMO: 4-acryloylmorpholine (단독 중합체 Tg: 약 145℃)
EHA: 2-ethylhexyl acrylate (단독 중합체 Tg: 약 -50℃)
EA: ethyl acetate (단독 중합체 Tg: 약 -24℃)
V-65: 2,2'-azobis(2,4-dimethyl valeronitrile)
Tg: 유리전이온도
Content Unit: g
BA: n-butyl acrylate (homopolymer Tg: about -54 ° C)
IBOA: isobornyl acrylate (homopolymer Tg: about 94 ° C)
MA: Methyl acrylate (homopolymer Tg: about 10 ° C)
MMA: methyl (meth) acrylate (homopolymer Tg: about 110 ° C)
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate (homopolymer Tg: about -15 ° C)
VP: 1-vinyl-2-pyrrolidone (homopolymer Tg: about 54 ° C)
ACMO: 4-acryloylmorpholine (homopolymer Tg: about 145 ° C)
EHA: 2-ethylhexyl acrylate (homopolymer Tg: about -50 ° C)
EA: ethyl acetate (homopolymer Tg: about -24 ° C)
V-65: 2,2'-azobis (2,4-dimethyl valeronitrile)
Tg: glass transition temperature

실시예Example 1 One

점착제 조성물의 제조Preparation of pressure-sensitive adhesive composition

제조예 1에서 제조된 점착성 중합체(A1) 100 중량부에 대하여 가교제로서 크실렌 디이소시아네이트(Takenate D110N, (주)미쯔이 화학) 0.5 중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조하였다.
0.5 part by weight of xylene diisocyanate (Takenate D110N, Mitsui Chemicals, Inc.) as a crosslinking agent was uniformly mixed with 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer (A1) prepared in Preparation Example 1 to prepare a pressure-sensitive adhesive composition.

도전성 Conductivity 적층체의Of the laminate 제조 Produce

PET 필름의 일면에 실리콘으로 이형 처리한 후, 그 위에 상기 제조된 점착제 조성물을 두께가 약 50㎛ 정도가 되도록 코팅 및 건조하여 점착제층을 형성하였다. 그 후, 상기 점착제층을 통상적인 방식으로 일면에 ITO층을 형성한 PET 필름(두께: 약 25㎛)의 반대면에 전사하고, 상기 이형 처리된 PET 필름을 박리하여 도전성 적층체를 제조하였다.
On one surface of the PET film, the pressure-sensitive adhesive composition was releasably treated with silicone, and the pressure-sensitive adhesive composition thus prepared was coated thereon to a thickness of about 50 mu m and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, the pressure-sensitive adhesive layer was transferred to the opposite surface of a PET film (thickness: about 25 mu m) having an ITO layer formed on one surface thereof in a usual manner, and the PET film thus treated was peeled off to produce a conductive laminate.

실시예Example 2 2

점착성 중합체를 A1 대신 A2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that A2 was used instead of A1 as the adhesive polymer.

실시예Example 3 3

점착성 중합체를 A1 대신 A3을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that A3 was used instead of A1 as the tacky polymer.

실시예Example 4 4

점착성 중합체를 A1 대신 A4를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that A4 was used instead of A1 as the tacky polymer.

실시예Example 5 5

점착성 중합체를 A1 대신 A5를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that A5 was used instead of A1 as the tacky polymer.

비교예Comparative Example 1 One

점착성 중합체를 A1 대신 B1을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1 except that B1 was used instead of A1 as the adhesive polymer.

비교예Comparative Example 2 2

점착성 중합체를 A1 대신 B2를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점착제 조성물 및 도전성 적층체를 제조하였다.
A pressure-sensitive adhesive composition and a conductive laminate were prepared in the same manner as in Example 1, except that B2 was used instead of A1 as the adhesive polymer.

상기 각 실시예 및 비교예에 대하여 측정한 물성 및 평가 결과는 하기 표 2에 나타난 바와 같다.
The physical properties and evaluation results of the above-mentioned Examples and Comparative Examples are shown in Table 2 below.

구분division 실시예Example 비교예Comparative Example 1One 22 33 44 55 1One 22 점착성 중합체
(Tg, ℃)
Sticky polymer
(Tg, ° C)
A1
(-1)
A1
(-One)
A2
(-1)
A2
(-One)
A3
(-17)
A3
(-17)
A4
(-33)
A4
(-33)
A5
(-16)
A5
(-16)
B1
(-41)
B1
(-41)
B2
(-49)
B2
(-49)
분자량(단위: 만)Molecular weight (unit: million) 7474 9090 148148 149149 4040 130130 140140 저장 탄성률(1)
(×105)
(단위: pa)
Storage elasticity (1)
(× 10 5 )
(Unit: pa)
7.97.9 6.26.2 6.46.4 6.96.9 9.19.1 4.14.1 2.82.8
저장 탄성률(2)
(×104)
(단위: pa)
Storage elasticity (2)
(× 10 4 )
(Unit: pa)
8.28.2 6.96.9 7.47.4 7.27.2 9.49.4 3.63.6 4.44.4
점도(×104)
(단위: pa·s)
Viscosity (× 10 4 )
(Unit: pa · s)
8.68.6 7.37.3 7.87.8 6.76.7 9.59.5 3.83.8 4.64.6
찐 평가(1)Steam Evaluation (1) ×× ×× 찐 평가(2)Steam Assessment (2) ×× ××

상기 표 2로부터 확인되는 바와 같이, 본 출원의 도전성 적층체의 경우, 특정 범위 이상의 저장 탄성률 및/또는 점도를 가져 슬로팅 공정, 운반이나 보관 공정에서 발생될 수 있는 찐 발생을 방지함으로써 불량을 최소화하여 생산성을 극대화할 수 있다.As can be seen from the above Table 2, in the case of the conductive laminate of the present application, the storage elastic modulus and / or viscosity exceeding a specific range are prevented, thereby preventing generation of steam which may occur in the slotting process, Thereby maximizing productivity.

20: 점착제층
30: 기재층
40: 도전성층
20: pressure-sensitive adhesive layer
30: substrate layer
40: conductive layer

Claims (20)

기재층;
상기 기재층 일면에 형성된 도전성층; 및
상기 도전성층이 형성된 반대 면에 부착되어 있는 점착제층을 포함하고,
상기 점착제층은 점착성 중합체를 포함하고, 가교 구조를 구현한 상태에서 30℃ 및 500rad/sec에서의 저장 탄성률이 0.5MPa 내지 1.2MPa이며,
상기 점착성 중합체는 유리전이온도가 0℃ 미만인 단독 중합체를 형성할 수 있는 제 1 단량체 중합 단위 40 중량부 내지 60 중량부 및 유리전이온도가 0℃ 이상인 단독 중합체를 형성할 수 있는 제 2 단량체 중합 단위 20 중량부 내지 40 중량부를 포함하는 도전성 적층체.
A base layer;
A conductive layer formed on one surface of the base layer; And
And a pressure-sensitive adhesive layer adhered to an opposite surface on which the conductive layer is formed,
Wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises a pressure-sensitive adhesive polymer and has a storage elastic modulus at 30 DEG C and 500 rad / sec in a state of realizing a crosslinked structure of 0.5 MPa to 1.2 MPa,
The pressure-sensitive adhesive polymer is prepared by mixing 40 to 60 parts by weight of a first monomer polymerization unit capable of forming a homopolymer having a glass transition temperature of less than 0 DEG C and a second monomer polymerization unit capable of forming a homopolymer having a glass transition temperature of 0 DEG C or higher And 20 parts by weight to 40 parts by weight of the conductive polymer.
제 1 항에 있어서, 기재층은 유리 기판, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리염화비닐 필름, 폴리스티렌 필름 및 폴리올레핀 필름으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the base layer is at least one selected from the group consisting of a glass substrate, a polyester film, a polyamide film, a polyvinyl chloride film, a polystyrene film and a polyolefin film. 제 1 항에 있어서, 도전성층은 금, 은, 백금, 팔라듐, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬, 티탄, 철, 코발트, 주석, 산화 인듐, 산화 주석, 산화 티탄, 산화 카드뮴 또는 요오드화 구리를 포함하는 도전성 적층체.The method of claim 1, wherein the conductive layer comprises at least one of gold, silver, platinum, palladium, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, iron, cobalt, tin, indium oxide, tin oxide, titanium oxide, cadmium oxide or copper iodide Conductive laminate. 제 1항에 있어서, 도전성층은 앵커층 또는 유전체층을 매개로 기재층의 일면에 형성되어 있는 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the conductive layer is formed on one surface of the substrate layer via an anchor layer or a dielectric layer. 제 1 항에 있어서, 점착제층은 가교 구조를 구현한 상태에서 30℃ 및 500rad/sec에서의 저장 탄성률이 0.5MPa 내지 1.1MPa인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a storage elastic modulus at 30 占 폚 and 500 rad / sec of 0.5 MPa to 1.1 MPa in a state of realizing a crosslinked structure. 제 1 항에 있어서, 점착제층은 가교 구조를 구현한 상태에서 80℃ 및 1rad/sec에서의 저장 탄성률이 0.05MPa 이상인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a storage elastic modulus at 80 占 폚 and 1 rad / sec of 0.05 MPa or more in a state of realizing a crosslinked structure. 제 1 항에 있어서, 점착제층은 가교 구조를 구현한 상태에서 80℃ 및 1rad/sec에서의 복합 점도가 5 × 104 Pa·s 이상인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a composite viscosity of 5 x 10 &lt; 4 &gt; Pa s or more at 80 DEG C and 1 rad / sec in a state where a crosslinked structure is implemented. 제 1 항에 있어서, 점착성 중합체는 중량평균분자량이 30만 내지 250만인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the tacky polymer has a weight average molecular weight of 300,000 to 2,500,000. 제 1 항에 있어서, 점착성 중합체는 유리전이온도가 -80℃ 내지 30℃의 범위 내에 있는 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the tacky polymer has a glass transition temperature in the range of -80 占 폚 to 30 占 폚. 제 1 항에 있어서, 제 1 단량체는 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트 및 n-헥실 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 도전성 적층체.The positive resist composition according to claim 1, wherein the first monomer is at least one selected from the group consisting of ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec- And n-hexyl (meth) acrylate. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 제 2 단량체는 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기를 가지는 알킬 (메타)아크릴레이트, N-알케닐포름아미드, (메타)아크릴아미드, N-알킬 (메타)아크릴아미드, N,N-디알킬 (메타)아크릴아미드, N,N-디아릴 (메타)아크릴아미드, 알콕시알킬 (메타)아크릴레이트, 포화 또는 불포화 고리형 탄화수소기 또는 방향족기를 가지는 (메타)아크릴레이트; 또는 스티렌인 도전성 적층체.(Meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N, N &lt; RTI ID = 0.0 &gt; (Meth) acrylate having a dialkyl (meth) acrylamide, N, N-diaryl (meth) acrylamide, alkoxyalkyl (meth) acrylate, a saturated or unsaturated cyclic hydrocarbon group or an aromatic group; Or styrene. 제 1 항에 있어서, 제 2 단량체는 유리전이온도가 80℃ 내지 300℃의 범위 내에 있는 단독 중합체를 형성할 수 있는 것인 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the second monomer is capable of forming a homopolymer having a glass transition temperature in the range of 80 占 폚 to 300 占 폚. 제 1 항에 있어서, 점착성 중합체는 질소를 고리 구성 원자로 포함하는 고리 구조를 포함하는 제 3 단량체 중합 단위 1 중량부 내지 20 중량부를 추가로 포함하는 도전성 적층체.The conductive laminate of claim 1, wherein the tacky polymer further comprises 1 to 20 parts by weight of a third monomeric polymerized unit comprising a cyclic structure containing nitrogen as a ring constituent atom. 제 14 항에 있어서, 제 3 단량체는 하기 화학식 1로 표시되는 도전성 적층체:
[화학식 1]
Figure 112015027334818-pat00002

화학식 1에서 R은 수소 원자 또는 중합성 관능기이거나, L과 N이 이중 결합으로 연결되는 경우에는 존재하지 않고, L은 하나 이상의 산소 원자 또는 질소 원자를 포함할 수 있으며, 하나 이상의 중합성 관능기로 치환되어 있을 수 있는 알킬렌기 또는 알케닐렌기이고, 상기 알킬렌기 또는 알케닐렌기의 탄소 원자 중 하나 이상은 카보닐 그룹을 형성할 수 있으며, 상기 알킬렌기 또는 알케닐렌기는 각각 독립적으로 알킬기 또는 알케닐기로 치환될 수 있고, 화학식 1의 화합물은 하나 이상의 중합성 관능기를 포함한다.
15. The conductive laminate according to claim 14, wherein the third monomer is represented by the following formula (1)
[Chemical Formula 1]
Figure 112015027334818-pat00002

In formula (1), R is not a hydrogen atom or a polymerizable functional group, or when L and N are connected by a double bond, L may contain at least one oxygen atom or a nitrogen atom and may be substituted with at least one polymerizable functional group And at least one of the carbon atoms of the alkylene group or the alkenylene group may form a carbonyl group, and the alkylene group or the alkenylene group is independently an alkyl group or an alkenyl group, And the compound of formula (1) comprises at least one polymerizable functional group.
제 14 항에 있어서, 제 3 단량체는 4-아크릴로일모르폴린, 1-비닐-2-피롤리돈, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, N-비닐카프로락탐 및 1-비닐 이미다졸로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 도전성 적층체.15. The method of claim 14, wherein the third monomer is selected from the group consisting of 4-acryloylmorpholine, 1-vinyl-2-pyrrolidone, 2-isopropenyl- 2- oxazoline, N- vinylcaprolactam, And at least one selected from the group consisting of a metal oxide and a sol. 제 1 항에 있어서, 점착성 중합체는 가교성 단량체 중합 단위 1 중량부 내지 30 중량부를 추가로 포함하는 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the tacky polymer further comprises 1 to 30 parts by weight of a crosslinkable monomer. 제 1 항에 있어서, 점착제층은 점착성 중합체를 가교시키고 있는 가교제를 추가로 포함하는 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer further comprises a crosslinking agent which crosslinks the tacky polymer. 제 1 항에 있어서, 점착제층은 커플링제, 점착 부여제, 자외선 안정제, 산화 방지제, 조색제, 보강제, 충진제, 소포제, 계면 활성제 및 가소제 중 선택된 하나 이상의 첨가제를 포함하는 도전성 적층체.The conductive laminate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises at least one selected from the group consisting of a coupling agent, a tackifier, a UV stabilizer, an antioxidant, a colorant, a reinforcing agent, a filler, a defoamer, a surfactant and a plasticizer. 제 1 항 내지 제 10 및 제 12항 내지 제 19항 중 어느 한 항의 도전성 적층체를 포함하는 터치 패널.
A touch panel comprising the conductive laminate according to any one of claims 1 to 10 and 12 to 19.
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