KR101555080B1 - Touch sensor intergrated with a polarizer and display device comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 편광판; 및 상기 편광판의 일면 측에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름을 포함하며, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 터치형 디스플레이 장치를 제공한다.The present invention relates to a polarizing plate, And at least one conductive film disposed on one side of the polarizer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate, wherein the conductive layer has a capacitance type A polarizing plate integrated type touch sensor and a touch type display device including the same are provided.

Description

편광판 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 디스플레이 장치{TOUCH SENSOR INTERGRATED WITH A POLARIZER AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch sensor integrated with a polarizer, and a display device including the touch sensor.

본 발명은 편광판 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 디스플레이 장치에 사용되는 편광판과 터치 센서를 일체화하여, 박형의 터치 기능을 갖는 디스플레이 장치를 구현할 수 있도록 하는 정전용량 방식의 터치 센서 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a polarizing plate integrated type touch sensor and a display device including the same, and more particularly, to a polarizing plate integrated type touch sensor including a polarizing plate used in a display device and a touch sensor, And a display device.

종래의 정전용량 방식의 터치 패널(30)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 일반적으로 유리 기판(커버 글래스)(31) 상에 ITO 박막층(전도성층)(32)을 형성하고, 상기 ITO 박막층을 식각하여 전기가 흐르는 채널 영역과, 전기가 흐르지 않는 비채널 영역을 형성한 다음, 그 상부에 점착제(34)를 이용하여 보호 필름(35)을 부착하는 방식으로 제조되었다.
1, an ITO thin film layer (conductive layer) 32 is generally formed on a glass substrate (cover glass) 31, and the ITO thin film layer A channel region through which electrons flow and a non-channel region through which no electricity flows are formed, and then a protective film 35 is attached to the top of the channel region by using an adhesive 34. [

이러한 터치 패널은 일반적으로 LCD 패널, OLED 패널과 같은 디스플레이 장치의 외부에 장착되어, 터치에 의해 작동되는 터치형 디스플레이 장치를 구현할 수 있도록 한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 터치형 디스플레이 장치는 액정 패널(10)의 상부 기판(11)의 테두리 부분에 가스켓 (Gasket) 점착제(20)를 도포한 후, 그 위에 터치 패널(30)을 부착하는 방식으로 제조된다.
Such a touch panel is generally mounted on the outside of a display device such as an LCD panel or an OLED panel so as to realize a touch-type display device operated by a touch. 1, a conventional touch-type display device includes a touch panel 30 on which a gasket adhesive 20 is applied to an edge of an upper substrate 11 of a liquid crystal panel 10, As shown in Fig.

그러나 이와 같은 종래의 터치 패널은 유리 기판을 사용하기 때문에 그 두께가 두껍고, 디스플레이 장치 외부에 가스켓 점착체를 이용하여 부착되기 때문에, 디스플레이 장치와 터치 패널 사이에 가스켓 점착체 두께만큼의 에어 갭(25)이 발생하게 된다. 그 결과, 전체 제품의 두께가 두꺼워질 뿐만 아니라, 에어 갭으로 인해 투과율이나 콘트라스트 비 등의 광학 특성이 저하된다는 문제점이 있었다. However, since such a conventional touch panel uses a glass substrate, its thickness is thick and it is attached to the outside of the display device by using a gasket adhesive. Therefore, an air gap 25 ). As a result, not only the thickness of the entire product is increased but also the optical characteristics such as the transmittance and the contrast ratio are deteriorated due to the air gap.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 박형의 터치형 디스플레이 장치를 구현할 수 있으며, 에어 갭이 없어 우수한 광학 특성을 갖는 터치 센서 및 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a touch sensor which can realize a thin type touch display device and does not have an air gap and has excellent optical characteristics and a display device including the touch sensor.

이를 위해 본 발명은 편광판; 및 상기 편광판의 일면 측에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름을 포함하며, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서를 제공한다.
To this end, the present invention provides a polarizing plate comprising: a polarizer; And at least one conductive film disposed on one side of the polarizer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate, wherein the conductive layer has a capacitance type And a polarizing plate integrated type touch sensor.

이때, 상기 전도성 필름 상부 및/또는 하부에 점착층이 추가로 구비될 수 있다.
At this time, an adhesive layer may be further provided on the upper portion and / or the lower portion of the conductive film.

한편, 상기 전도성층은 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연 (Zinc Oxide) 등으로 이루어진 금속 산화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으며, 이때 상기 전도성층은 증착에 의해 형성될 수 있다.
On the other hand, the conductive layer may be formed of at least one selected from the group consisting of titanium dioxide, cadmium oxide, indium tin oxide (ITO) containing tin, antimony tin oxide (ATO) containing antimony, (FTO), zinc oxide (Zinc Oxide), and the like, and the conductive layer may be formed by vapor deposition .

또한, 상기 전도성층은 금속 나노 와이어, 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자; 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자, 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으며, 이때 상기 전도성층은 습식 코팅에 의해 형성될 수 있다.
In addition, the conductive layer may be formed of a conductive material such as a polythiophene-based and a polyselenium-based conductive polymer including metal nanowires and polystyrene sulfonate (Poly (styrenesulfonate)); A conductive polymer such as a polyaniline polymer, a carbon nanotube, and a graphene. The conductive layer may be formed by wet coating.

또한, 상기 전도성층은 금, 은, 백금, 구리, 주석, 알루미늄 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료로 형성될 수도 있다.
The conductive layer may be formed of an opaque metallic material having a low specific resistance of at least one selected from the group consisting of gold, silver, platinum, copper, tin, aluminum and the like.

한편, 상기 채널은 상기 전도성층에서 비채널 영역을 식각하여 형성되거나, 상기 전도성층에서 더미 패턴용 라인을 식각하여 형성될 수도 있다. 이때, 상기 더미 패턴용 라인은 선폭이 10 내지 100㎛정도인 것이 바람직하다.
The channel may be formed by etching a non-channel region in the conductive layer, or may be formed by etching a line for a dummy pattern in the conductive layer. At this time, the line for the dummy pattern preferably has a line width of about 10 to 100 mu m.

또한, 상기 전도성층 및 채널은, 상기 채널 영역에 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료를 인쇄법 또는 포토리소그라피법을 이용하여 미세한 선폭을 갖는 그물망 구조로 형성함으로써 제조될 수 있다. 이 경우, 그물망 구조는 선폭이 1㎛ 내지 50㎛이고, 선고가 0.02㎛ 내지 30㎛인 것이 바람직하고, 상기 불투명 금속 재료의 존재 영역이 상기 전도성층 전체 면적에 대하여 0.001 내지 10% 정도인 것이 바람직하다.
The conductive layer and the channel may be fabricated by forming an opaque metallic material having a low specific resistance value in the channel region into a net structure having a fine line width using a printing method or a photolithography method. In this case, it is preferable that the mesh structure has a line width of 1 탆 to 50 탆 and a haze value of 0.02 탆 to 30 탆, and the existence area of the opaque metal material is preferably about 0.001 to 10% with respect to the total area of the conductive layer Do.

한편, 본 발명은 다른 측면에서, 상기한 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서를 포함하는 터치형 디스플레이 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch-type display device including the capacitive-type polarizer-integrated touch sensor.

본 발명의 터치 센서는 유리 기판을 사용하지 않기 때문에, 터치 센서 자체의 두께가 종래에 비해 얇을 뿐 아니라, 편광판과 터치 센서를 일체로 형성하기 때문에, 디스플레이 장치에 장착하였을 때, 에어 갭이 발생하지 않아 최종 디스플레이 제품의 두께도 얇게 형성할 수 있다는 장점이 있다.
Since the touch sensor of the present invention does not use a glass substrate, the thickness of the touch sensor itself is thinner than the conventional one, and the polarizer and the touch sensor are integrally formed. Therefore, when the touch sensor is mounted on a display device, The thickness of the final display product can be made thin.

또한, 본 발명의 터치 센서를 장착한 디스플레이 장치의 경우, 에어 갭에 의해 발생하는 빛의 굴절 및 산란 등이 없기 때문에, 종래에 비해 우수한 광학 특성을 나타낸다.Further, in the case of the display device equipped with the touch sensor of the present invention, since there is no refraction and scattering of light generated by the air gap, the display device exhibits excellent optical characteristics as compared with the conventional one.

도 1은 종래의 터치 패널을 장착한 디스플레이 장치의 구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 터치 센서의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 터치 센서의 다른 실시예를 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 채널 형성의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 5는 본 발명의 채널 형성의 다른 실시예를 보여주는 도면이다.
도 6은 본 발명의 터치형 LCD 디스플레이 장치의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 7은 본 발명의 터치형 LCD 디스플레이 장치의 다른 실시예를 보여주는 도면이다.
도 8은 본 발명의 터치형 OLED 디스플레이 장치의 일 실시예를 보여주는 도면이다.
도 9는 본 발명의 터치형 OLED 디스플레이 장치의 다른 실시예를 보여주는 도면이다.1 is a view for explaining a configuration of a conventional display device equipped with a touch panel.
2 is a view showing an embodiment of the touch sensor of the present invention.
3 is a view showing another embodiment of the touch sensor of the present invention.
4 is a view showing an embodiment of channel formation of the present invention.
5 is a view showing another embodiment of the channel formation of the present invention.
6 is a diagram illustrating an embodiment of a touch-type LCD display device of the present invention.
7 is a view showing another embodiment of the touch-type LCD display device of the present invention.
8 is a view showing an embodiment of a touch-type OLED display device of the present invention.
9 is a view showing another embodiment of the touch-type OLED display device of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 설명하기로 한다. 다만, 하기 도면은 본 발명을 보다 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것으로, 도면의 각 구성요소들의 크기, 비율, 치수 등은 발명의 원활한 설명을 위해 과장될 수 있다. 또한, 본 발명이 하기 도면에 기재된 범위로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. It is to be understood, however, that the following drawings are for the purpose of facilitating understanding of the present invention, and the sizes, ratios, dimensions, and the like of the respective components in the drawings may be exaggerated for clarity of description. Further, the present invention is not limited to the range described in the following drawings.

먼저, 본 발명의 터치 센서에 대해 설명한다. 도 2 및 도 3에는 본 발명의 터치 센서(300)가 도시되어 있다. 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 터치 센서(300)는 터치 구동을 위한 채널이 형성된 전도성층(320)을 갖는 전도성 필름(330)과 편광판(350)을 포함하여 이루어진다.
First, the touch sensor of the present invention will be described. 2 and 3 show the touch sensor 300 of the present invention. 2 and 3, the touch sensor 300 of the present invention includes a conductive film 330 having a conductive layer 320 formed with a channel for touch driving and a polarizer 350.

보다 구체적으로는, 상기 전도성 필름(330)은 투명 기재(310) 및 상기 투명 기재(310)의 일면에 형성되는 전도성층(320)을 포함하여 이루어지며, 상기 전도성층(320)에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되어 있다.
More specifically, the conductive film 330 includes a transparent substrate 310 and a conductive layer 320 formed on one surface of the transparent substrate 310, and the conductive layer 320 is provided with a touch- A channel is formed.

상기 투명 기재(310)로는 광 투과율이 우수한 투명한 플라스틱 기재가 사용될 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 발명에서는 상기 투명 기재 (310)는 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 가지는 각종의 플라스틱 필름이 사용된다. 예를 들면 폴리아크릴계, 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리에폭시계, 폴리카보네이트계, 폴리올레핀계 및 셀룰로오스계 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 플라스틱 필름이 바람직하다.
As the transparent substrate 310, a transparent plastic substrate having excellent light transmittance may be used, and is not particularly limited. For example, in the present invention, the transparent substrate 310 is not particularly limited, but various plastic films having transparency are used. For example, a plastic film selected from the group consisting of polyacrylic, polyurethane, polyester, polyepoxy, polycarbonate, polyolefin, and cellulose is preferable.

한편, 상기 전도성층(320)은 터치 구동을 위한 채널을 형성하기 위한 것으로, 전도성 재료로 이루어지며, 투명 기재(310)의 일면에 전도성 재료를 증착하거나, 습식 코팅하거나, 또는 인쇄하는 방법 등의 다양한 방법에 의해 형성될 수 있다.
The conductive layer 320 is formed of a conductive material and may be formed by depositing a conductive material on one side of the transparent substrate 310 or by wet coating or printing May be formed by various methods.

이때 상기 전도성 재료로는 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide), 산화아연 (Zinc Oxide) 등으로 이루어진 금속 산화물 등이 사용될 수 있다.
The conductive material may include titanium oxide, cadmium oxide, indium tin oxide (ITO) containing tin, antimony tin oxide (ATO) containing antimony, fluorine (FTO), zinc oxide (Zinc Oxide), or the like may be used.

한편, 상기 금속 산화물 이외에, 상기 전도성 재료로 금속 나노 와이어, 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자, 탄소 나노튜브 및/또는 그라핀 등을 사용할 수도 있다.
On the other hand, in addition to the above-mentioned metal oxide, a conductive material such as a polythiophene-based and polyselenium-based conductive polymer including a metal nanowire and poly (styrenesulfonate) as the conductive material, a polyaniline- , Carbon nanotubes, and / or graphenes may be used.

또한, 상기 전도성층은 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료로 형성될 수도 있다. 이때, 상기 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료는 금, 은, 백금, 구리, 주석, 알루미늄 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
Further, the conductive layer may be formed of an opaque metallic material having a low resistivity value. At this time, the opaque metallic material having a low specific resistance value may be at least one selected from the group consisting of gold, silver, platinum, copper, tin, and aluminum.

상기 전도성 층은 사용되는 전도성 재료에 따라 적절한 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 전도성 재료로 금속 및 금속 산화물을 이용할 경우에는 투명 기재 상에 상기 금속 또는 금속 산화물을 증착시키는 등의 방법으로 전도성층을 형성할 수 있으며, 전도성 재료로 나노 와이어 또는 전도성 고분자를 사용하는 경우에는 상기 전도성 재료를 포함하는 코팅액을 제조한 다음, 습식 코팅 방식으로 투명 기재 상에 그 코팅액을 도포하는 습식 코팅 방식으로 전도성층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 전도성 재료로 비저항값이 낮은 금속을 사용할 경우에는, 인쇄법 또는 포토리소그라피법을 이용하여 전도성층의 채널 영역에 금속 재료를 미세한 선폭을 갖는 그물망 구조로 형성하는 방식으로 전도성층을 형성할 수 있다.
The conductive layer may be formed in any suitable manner depending on the conductive material used. For example, when a metal and a metal oxide are used as a conductive material, a conductive layer can be formed by vapor-depositing the metal or a metal oxide on a transparent substrate, and the conductive layer can be formed using a nanowire or a conductive polymer The conductive layer may be formed by a wet coating method in which a coating liquid containing the conductive material is prepared and then the coating liquid is applied on the transparent substrate by a wet coating method. When a metal having a low specific resistance value is used as the conductive material, a conductive layer is formed by a printing method or a photolithography method to form a metal material in a channel region of the conductive layer into a net structure having a fine line width .

한편, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위해 전기가 흐르는 채널 영역과 전기가 흐르지 않도록 단선된 비채널 영역이 형성되어야 한다.
Meanwhile, in the conductive layer, a channel region through which electric current flows for the touch driving and a non-channel region which is disconnected from the electric channel should be formed.

도 4 및 도 5에는 전도성 층에 형성되는 채널의 다양한 실시예들이 도시되어 있다. 4 and 5 show various embodiments of channels formed in the conductive layer.

이때, 상기 채널(322)은 전도성 층에서 비채널 영역(324)을 식각 등을 통해 제거하는 방식으로 형성될 수 있다. 이때 상기 채널(322)은 터치 구동을 위해 전기적으로 연결되어 있으면 되고, 그 형태나 배열, 크기 등은 특별히 제한되지 않는다. 즉, 상기 채널(322)은 다이아몬드, 직사각형, 삼각형, 원형, 다각형 등과 같은 다양한 형태로 형성될 수 있으며, 규칙적 또는 불규칙적으로 배열될 수 있다. 한편, 상기 채널(322)은 배선(326) 등을 통해 외부 전원과 전기적으로 연결된다.
At this time, the channel 322 may be formed by removing the non-channel region 324 from the conductive layer by etching or the like. At this time, the channel 322 may be electrically connected for touch driving, and its shape, arrangement, size, and the like are not particularly limited. That is, the channel 322 may be formed in various shapes such as diamond, rectangle, triangle, circle, polygon, etc., and may be regularly or irregularly arranged. Meanwhile, the channel 322 is electrically connected to an external power source through a wiring 326 or the like.

한편, 상기와 같이, 채널 형성을 위해 비채널 영역 전부를 식각할 경우, 식각해야 할 면적이 넓어져 식각 공정이 번거롭다는 문제점이 있다. 이에 본 발명자들은 도 5에 도시된 바와 같이, 비채널 영역을 전부 식각하는 대신, 더미 패턴용 라인(328)을 형성하여 비채널 영역(324)을 전기적으로 단선시키고, 채널 영역(322)에만 전기가 흐르도록 하는 방법을 개발하였다. 도 5에 도시된 바와 같이, 비채널 영역(324) 전부를 식각하지 않고, 더미 패턴용 라인(328)만을 식각하더라도, 배선(326)에 의해 외부 전원과 연결되는 채널 영역(322)과 비채널 영역(324)이 더미 패턴용 라인(328)에 의해 분리되어 있기 때문에, 비채널 영역(324)에는 전기가 흐르지 않고, 채널 영역(322)에만 전기가 흐르게 된다. 이 방법에 의하면, 더미 패턴용 라인(328)만 식각하면 되기 때문에 공정이 간단하다는 장점이 있다.
On the other hand, if the entire non-channel region is etched to form a channel as described above, the area to be etched is widened, and the etching process is troublesome. 5, the dummy pattern line 328 is formed so as to electrically disconnect the non-channel region 324 and to electrically connect only the channel region 322, And a method of allowing the flow of water to flow. Channel region 322 connected to the external power source by the wiring 326 and the non-channel region 322 connected to the external power source, even if only the dummy pattern line 328 is etched without etching all of the non-channel region 324, Since the region 324 is separated by the dummy pattern line 328, electricity does not flow through the non-channel region 324 and electricity flows only through the channel region 322. [ According to this method, since only the dummy pattern line 328 needs to be etched, there is an advantage that the process is simple.

또한, 상기 채널이 형성된 전도성층은, 상기 식각 공정을 이용하는 대신, 채널이 형성되는 영역 또는 더미 패턴이 형성되는 영역에 전도성 물질을 인쇄하는 방법으로 형성될 수도 있다. 예를 들면, 본 발명의 채널이 형성된 전도성층은 금속 나노 와이어, 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 등과 같은 도전성 고분자, 탄소 나노튜브 및/또는 그라핀 등을 포함하는 코팅 용액을 채널 영역 형상 또는 더미 패턴 형상으로 인쇄하는 방법으로 수행될 수 있다. 이 방법을 이용할 경우 전도성 층을 투명 기재에 코팅한 후에, 다시 식각하는 2단계 공정을 거치지 않고, 한번에 채널을 형성할 수 있어 공정이 단순해지고, 식각 등을 통해 제거되는 전도성 물질이 없기 때문에, 경제적이라는 장점이 있다.
The conductive layer having the channel may be formed by printing a conductive material on a region where a channel is formed or a region where a dummy pattern is formed instead of using the etching process. For example, the conductive layer on which the channel of the present invention is formed may be a polythiophene-based or polyselenium-based conductive polymer including metal nanowires, poly (styrenesulfonate), a polyaniline- A conductive polymer such as a polymer, a carbon nanotube and / or a graphene, etc., in a channel region shape or a dummy pattern shape. When this method is used, a channel can be formed at once without performing a two-step process of coating a conductive layer on a transparent substrate and then etching again, thereby simplifying the process and eliminating the conductive material to be removed through etching or the like. .

또한, 본 발명의 전도성층은, 상기 방법 이외에 불투명한 소재이면서 비저항값이 낮은 재료(예를 들면 금, 은, 백금, 구리, 알루미늄, 몰리브덴 등의 금속 소재 또는 이들의 복합체 중 1종 이상)를 이용하여 사람의 육안으로 구분되지 않는 수준의 미세한 선폭을 갖는 그물망 구조를 형성하는 방법으로 형성될 수도 있다. 이때, 상기 그물망 구조의 전도성층은 불투명 소재이면서 비저항값이 낮은 재료를 채널 영역에 인쇄하는 방법 또는 포토리소그라피법을 통해 형성될 수 있다. 이 경우, 재료 자체는 불투명한 소재이나, 그 선폭이 매우 미세하고, 개구율이 높기 때문에 빛이 전도성층을 통과할 수 있어 투명 전도성 필름의 역할을 수행할 수 있다.
In addition, the conductive layer of the present invention may be formed by using a material having a low specific resistance value (for example, a metal material such as gold, silver, platinum, copper, aluminum, molybdenum, or a composite material thereof) To form a mesh structure having a fine line width at a level not discriminated by the naked eye of a person. At this time, the conductive layer of the network structure may be formed by printing a material having a low specific resistance value on the channel region or a photolithography method. In this case, the material itself is an opaque material, but since the line width is very small and the aperture ratio is high, the light can pass through the conductive layer, and can serve as a transparent conductive film.

이때, 상기 그물망 구조는 그 선폭이 1㎛ 내지 50㎛정도, 바람직하게는 2 내지 40 ㎛정도, 가장 바람직하게는 3 내지 30㎛ 정도인 것이 좋다. 선폭이 1㎛ 미만인 경우에는 제조가 어렵고, 50㎛를 초과할 경우에는 사람의 육안으로 쉽게 구분이 되기 때문에 적용에 한계가 있기 때문이다.
At this time, it is preferable that the mesh structure has a line width of about 1 탆 to 50 탆, preferably about 2 to 40 탆, and most preferably about 3 to 30 탆. When the line width is less than 1 탆, the production is difficult. When the line width is more than 50 탆, application is limited because the line width is easily distinguished by human eyes.

또한, 그 선고(선의 높이)는 0.02㎛ 내지 30㎛, 바람직하게는 0.04㎛ 내지 20㎛, 가장 바람직하게는 0.06㎛ 내지 10㎛ 정도인 것이 좋다. 선고가 0.02㎛ 미만이거나, 30㎛를 초과하는 경우에는 패턴 형성이나 유지가 어렵고, 요구되는 저항값을 만족을 할 수가 없다는 문제점이 있다.
The height (line height) is preferably 0.02 to 30 탆, more preferably 0.04 to 20 탆, and most preferably 0.06 to 10 탆. If the thickness is less than 0.02 占 퐉 or exceeds 30 占 퐉, it is difficult to form and maintain a pattern, and a desired resistance value can not be satisfied.

또한, 상기 불투명성 소재가 인쇄되는 면적은 전체 기재 면적에 대하여 0.001% 내지 10% 정도, 바람직하게는 0.002 내지 5% 정도, 가장 바람직하게는 0.03 내지 1% 정도인 것이 바람직하다. 상기 불투명성 소재가 인쇄되는 면적이 0.001% 미만인 경우에는 전도성 필름에 요구되는 저항값을 만족시킬 수 없고, 10%를 초과하면, 투명도가 저하되기 때문이다.
The area of the opaque material to be printed is preferably about 0.001% to about 10%, preferably about 0.002% to about 5%, and most preferably about 0.03% to about 1% of the entire substrate area. If the area of the opaque material to be printed is less than 0.001%, the resistance value required for the conductive film can not be satisfied. If it exceeds 10%, the transparency decreases.

한편, 본 발명의 터치 센서는 상기와 같이 채널이 형성된 전도성층을 갖는 전도성 필름과 편광판이 일체로 형성되는 것을 그 특징으로 한다.
Meanwhile, the touch sensor of the present invention is characterized in that a conductive film having a conductive layer on which a channel is formed and a polarizing plate are integrally formed.

본 발명에서 사용되는 편광판은 특별히 제한되지 않으며, 디스플레이 장치에서 일반적으로 사용되는 편광판들이 제한없이 사용될 수 있다. 즉, 본 발명의 편광판은 특정 편광만을 투과시키는 편광 소자와, 상기 편광 소자의 일면 또는 양면에 부착되는 보호 필름으로 구성될 수 있다.
The polarizing plate used in the present invention is not particularly limited, and polarizing plates commonly used in display devices can be used without limitation. That is, the polarizing plate of the present invention may be composed of a polarizing element which transmits only a specific polarized light and a protective film which is attached to one or both surfaces of the polarizing element.

한편, 편광판과 전도성 필름을 일체화하기 위해, 도 2에 도시된 바와 같이, 편광판(350) 하부에 전도성 필름(330)을 바로 형성할 수도 있다. 이 경우, 상기 전도성 필름의 투명 기재는 편광도의 영향을 미치지 않는 광 등방성 필름으로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들면, 상기 광등방 필름으로는 면내 위상차값이 -30 ~ 30nm, 더 바람직하게는 -10 내지 10nm 정도이고, 두께 방향의 위상차 값이 -50 ~ 50nm 인 것이 적당하다. 이러한 상기 광등방 투명 기재의 재료로는, 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 노르보르넨 유도체 등의 사이클로올레핀 폴리머, 폴리비닐 알코올, 디아세틸셀룰로오스 기판 등을 들 수 있다.
Meanwhile, in order to integrate the polarizing plate and the conductive film, a conductive film 330 may be directly formed under the polarizing plate 350 as shown in FIG. In this case, it is preferable that the transparent base material of the conductive film is made of an optically isotropic film which does not affect the degree of polarization. For example, it is appropriate that the light-incandescent film has an in-plane retardation value of about -30 to 30 nm, more preferably about -10 to 10 nm, and a retardation value in the thickness direction of -50 to 50 nm. Examples of the material of the light-transmissive transparent substrate include triacetylcellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polymethylmethacrylate, polycarbonate, polyethylene, norbornene And cycloolefin polymers such as derivatives, polyvinyl alcohol, and diacetylcellulose substrates.

상기 방법 이외에 도 3에 도시된 바와 같이, 점착층(340)을 이용하여 편광판(350) 상부에 전도성 필름(330)을 부착시킴으로써, 편광판과 전도성 필름을 일체화할 수도 있다. 이 경우에는 전도성 필름의 투명 기재가 편광도에 영향을 미치지 않기 때문에, 광 등방성 필름 또는 광 이방성 필름을 제한없이 사용할 수 있다.
3, the polarizing plate and the conductive film may be integrated by attaching the conductive film 330 on the polarizing plate 350 using the adhesive layer 340 as shown in FIG. In this case, the optically isotropic film or optically anisotropic film can be used without limitation because the transparent base material of the conductive film does not affect the degree of polarization.

한편, 도 2 및 도 3에는 전도성 필름이 1장 사용된 경우가 도시되어 있으나, 필용한 경우 2장 이상의 전도성 필름을 사용할 수도 있다. 또한, 본 발명의 터치 센서는, 필요에 따라 상기 전도성 필름의 상부 및/또는 하부에 점착층을 추가로 구비할 수도 있다.
2 and 3 illustrate the case where one conductive film is used, however, two or more conductive films may be used for filling. In addition, the touch sensor of the present invention may further include an adhesive layer on the upper and / or lower portions of the conductive film, if necessary.

다음으로, 본 발명의 터치형 디스플레이 장치에 대해 설명한다. Next, a touch-type display device of the present invention will be described.

도 6 내지 도 9에는 본 발명의 터치형 디스플레이 장치의 다양한 실시예가 도시되어 있다. 이하, 도면을 참조하여 본 발명의 터치형 디스플레이 장치를 설명하기로 한다. 다만 상기 도 6 내지 도 9는 본 발명의 디스플레이 장치의 일 구현예에 불과하며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
6 to 9 show various embodiments of the touch-type display device of the present invention. Hereinafter, a touch-type display device of the present invention will be described with reference to the drawings. 6 to 9 are merely examples of the display device of the present invention, but the present invention is not limited thereto.

도 6 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 터치형 디스플레이 장치는 디스플레이 패널(100)과 상기한 본 발명의 터치 센서(300)를 포함하는 것을 그 특징으로 한다.
6 to 9, the touch-type display device of the present invention includes the display panel 100 and the touch sensor 300 of the present invention.

이때 상기 디스플레이 패널(100)로는 당해 기술 분야에서 영상을 디스플레이 하기 위해 사용되는 다양한 장치들, 예를 들면, LCD 패널, PDP 패널, LED 패널 OLED 패널, e-paper 및 Flexible display 등에 제한 없이 사용될 수 있다. 한편, 상기 터치 센서(300)는 상기에서 설명한 바와 동일하므로, 구체적인 설명은 생략한다.
Here, the display panel 100 may be used without limitation in various devices used in the art to display an image, such as an LCD panel, a PDP panel, an LED panel OLED panel, an e-paper, and a flexible display . Meanwhile, since the touch sensor 300 is the same as that described above, a detailed description thereof will be omitted.

보다 구체적으로는, 본 발명의 디스플레이 장치는, 예를 들면 도 6에 도시된 바와 같이, 상부 기판(110); 상기 상부 기판(110)과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판(130); 상기 상부 기판(110)과 하부 기판(130) 사이에 개재되는 액정 셀(120); 상기 상부 기판(110)의 상면에 형성되는 점착층(340); 상기 점착층(340) 상부에 배치되며, 투명 기재(310) 및 상기 투명 기재(310)의 일면에 형성되는 전도성 층(320)을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름(330); 상기 전도성 필름(330)의 상부에 배치되는 제1편광판(350); 및 상기 하부 기판(130)의 하부에 배치되는 제2편광판(150)을 포함하여 이루어질 수 있으며, 이때, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성된다.
More specifically, as shown in FIG. 6, for example, the display device of the present invention includes an upper substrate 110; A lower substrate 130 spaced apart from the upper substrate 110 by a predetermined distance; A liquid crystal cell 120 interposed between the upper substrate 110 and the lower substrate 130; An adhesive layer 340 formed on the upper surface of the upper substrate 110; At least one conductive film (330) disposed on the adhesive layer (340) and including a transparent substrate (310) and a conductive layer (320) formed on one surface of the transparent substrate (310); A first polarizer 350 disposed on the conductive film 330; And a second polarizer 150 disposed below the lower substrate 130. A channel for touch driving is formed on the conductive layer.

또는, 본 발명의 디스플레이 장치는 예를 들면, 도 7에 도시된 바와 같이, 상부 기판(110); 상기 상부 기판(110)과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판(130); 상기 상부 기판(110)과 하부 기판(130) 사이에 개재되는 액정 셀(120); 상기 상부 기판(120)의 상부에 배치되는 제1편광판(350); 상기 하부 기판(130)의 하부에 배치되는 제2편광판(150); 상기 제1편광판의 상부에 형성되는 점착층(340); 및 상기 점착층(340)의 상부에 배치되며, 투명 기재(310) 및 상기 투명 기재(310)의 일면에 형성되는 전도성 층(320)을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름을 포함하여 이루어질 수 있다. 이때, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성된다.
Alternatively, the display device of the present invention may include, for example, an upper substrate 110; A lower substrate 130 spaced apart from the upper substrate 110 by a predetermined distance; A liquid crystal cell 120 interposed between the upper substrate 110 and the lower substrate 130; A first polarizer 350 disposed on the upper substrate 120; A second polarizer 150 disposed below the lower substrate 130; An adhesive layer 340 formed on the first polarizer; And at least one conductive film disposed on the adhesive layer 340 and including a transparent substrate 310 and a conductive layer 320 formed on one surface of the transparent substrate 310. At this time, a channel for touch driving is formed on the conductive layer.

또는, 본 발명의 디스플레이 장치는 예를 들면, 도 8에 도시된 바와 같이, 상부 기판(410); 상기 상부 기판과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판(430); 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 개재되는 OLED 셀(420); 상기 상부 기판의 상면에 형성되는 점착층(340); 상기 점착층 상부에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름(310); 및 상기 전도성 필름의 상부에 배치되는 원편광판(450)을 포함할 수 있다. 이때, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성된다.
Alternatively, the display device of the present invention may include, for example, an upper substrate 410; A lower substrate 430 spaced apart from the upper substrate by a predetermined distance; An OLED cell 420 interposed between the upper substrate and the lower substrate; An adhesive layer 340 formed on the upper surface of the upper substrate; At least one conductive film (310) disposed on the adhesive layer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate; And a circular polarizer 450 disposed on the conductive film. At this time, a channel for touch driving is formed on the conductive layer.

또는, 본 발명의 디스플레이 장치는 예를 들면, 도 9에 도시된 바와 같이, 상부 기판(410); 상기 상부 기판과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판(430); 상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 개재되는 OLED 셀(420); 상기 상부 기판의 상부에 배치되는 원편광판(450); 상기 원편광판의 상부에 형성되는 점착층(340); 및 상기 점착층의 상부에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름(330)을 포함하며, 이때, 상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성된다.
Alternatively, the display device of the present invention may include, for example, an upper substrate 410; A lower substrate 430 spaced apart from the upper substrate by a predetermined distance; An OLED cell 420 interposed between the upper substrate and the lower substrate; A circularly polarizing plate 450 disposed on the upper substrate; An adhesive layer 340 formed on the circular polarizer; And at least one conductive film (330) disposed on the adhesive layer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate, wherein a channel for touch driving is formed on the conductive layer .

이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 자세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to specific examples.

실시예Example 1 One

투명 기재인 PET 필름 위에 은 나노 와이어를 습식 코팅하여 약 100nm 두께의 전도성 층을 형성하였다. 그런 다음, 상기 전도성 층을 레이저 식각하여 채널을 형성하였다. 채널이 형성된 전도성 필름 2장을 합지하고, 이를 다시 편광판 일면에 합지하여 편광판 일체형 터치 센서를 제조하였다.Silver nanowires were wet-coated on a PET film as a transparent substrate to form a conductive layer having a thickness of about 100 nm. Then, the conductive layer was laser etched to form a channel. Two channels of conductive films were laminated together and then joined together on one side of the polarizing plate to manufacture a polarizing plate integrated type touch sensor.

전도성층의 패턴은 도 5에 도시된 바와 같이, 다이아몬드 패턴의 더미 패턴(Dummy pattern)을 식각하여 제조하였으며, 배선은 은 페이스트(Toyobo사 DW-250H-5)를 이용하여 스크린 프린팅으로 제조하였다. 전도성 층의 한 장은 장변축으로 채널이 형성이 되며, 22개 채널로 형성을 하였으며, 다른 한 장의 전도성 층은 단변 축으로 채널이 형성이 되며, 채널 수는 38개로 형성을 하였다. The pattern of the conductive layer was prepared by etching a dummy pattern of a diamond pattern as shown in FIG. 5, and the wiring was manufactured by screen printing using a silver paste (Toyobo DW-250H-5). One channel of the conductive layer is formed as a channel along the long axis, and 22 channels are formed. The other conductive layer has a channel formed by the short axis, and the number of channels is 38.

터치 구동 평가는 EETI사 프로그램을 이용하여 평가를 하였다. 그 결과, 상기와 같이 제조된 터치 센서는 동시 더블 터치까지 우수하게 구동되는 것을 확인하였다. The touch-driven evaluation was evaluated using an EETI program. As a result, it was confirmed that the touch sensor manufactured as described above was driven well to the simultaneous double touch.

10, 100 : 액정 패널 11, 110, 410 : 상부 기판
12, 120 : 액정셀 13, 130, 420 : 하부 기판
14, 350 : 제1편광판 15, 150 : 제2편광판
20 : 가스켓 점착층 25 : 에어 갭
30, 300 : 터치 센서 31 : 커버 글래스
32, 320 : 전도성층 34, 340 : 점착층
35: 보호 필름 322 : 채널 영역
324 : 비채널 영역 326 : 배선
328 : 더미 패턴용 라인 330 : 전도성 필름
430 : OLED 셀 450 : 원편광판10, 100: liquid crystal panel 11, 110, 410: upper substrate
12, 120: liquid crystal cell 13, 130, 420:
14, 350: first polarizing plate 15, 150: second polarizing plate
20: gasket adhesive layer 25: air gap
30, 300: touch sensor 31: cover glass
32, 320: conductive layer 34, 340: adhesive layer
35: protective film 322: channel region
324: Non-channel region 326: Wiring
328: Line for dummy pattern 330: Conductive film
430: OLED cell 450: circularly polarizing plate

Claims (21)

편광판; 및 상기 편광판의 일면 측에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름; 및 상기 전도성 필름 상부 및 하부 중 적어도 하나에 형성되는 점착층을 포함하며,
상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되고,
상기 전도성층은 금속 나노 와이어, 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자 도전성 고분자, 탄소 나노튜브, 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
Polarizer; And at least one conductive film disposed on one side of the polarizing plate and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one surface of the transparent substrate; And an adhesive layer formed on at least one of an upper portion and a lower portion of the conductive film,
A channel for touch driving is formed on the conductive layer,
The conductive layer may be formed of at least one selected from the group consisting of Polythiophene series and Polyselenium series conductive polymers including metal nanowires and poly (styrenesulfonate), polyaniline series polymer conductive polymers, carbon nanotubes, An opaque metallic material having a low resistivity, and a graphene.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 전도성층은 증착에 의해 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer is formed by vapor deposition.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 전도성층은 습식 코팅에 의해 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer is formed by wet coating.
제1항에 있어서,
상기 전도성층은 상기 채널에 해당되는 영역에 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료를 인쇄하여 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer is formed by printing an opaque metallic material having a low specific resistance value in a region corresponding to the channel.
제7항에 있어서,
상기 비저항값이 낮은 불투명 금속성 재료는 금, 은, 백금, 구리, 알루미늄, 몰리브덴 및 이들의 복합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
8. The method of claim 7,
Wherein the opaque metallic material having a low specific resistance value is at least one selected from the group consisting of gold, silver, platinum, copper, aluminum, molybdenum and a complex thereof.
제7항에 있어서,
상기 전도성층은 미세 선폭을 갖는 그물망 구조로 이루어지는 정전 용량식 편광판 일체형 터치 센서.
8. The method of claim 7,
Wherein the conductive layer comprises a mesh structure having a fine line width.
제7항에 있어서,
불투명 금속성 재료는 상기 투명 기재 전체 면적에 대하여 0.001 내지 10%의 면적에 인쇄되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
8. The method of claim 7,
Wherein the opaque metallic material is printed in an area of 0.001 to 10% with respect to the total area of the transparent material.
제9항에 있어서,
상기 그물망 구조는 선폭이 1㎛ 내지 50㎛이고, 선고가 0.02㎛ 내지 30㎛인 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
10. The method of claim 9,
Wherein the network structure has a line width of 1 占 퐉 to 50 占 퐉 and a line width of 0.02 占 퐉 to 30 占 퐉.
제1항에 있어서,
상기 채널은 상기 전도성층에서 비채널 영역을 식각하여 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the channel is formed by etching a non-channel region in the conductive layer.
제1항에 있어서,
상기 채널은 상기 전도성층에서 더미 패턴용 라인을 식각하여 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the channel is formed by etching a line for a dummy pattern in the conductive layer.
제13항에 있어서,
상기 더미 패턴용 라인은 선폭이 10 내지 100㎛인 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
14. The method of claim 13,
Wherein the line for the dummy pattern has a line width of 10 to 100 占 퐉.
제1항에 있어서,
상기 전도성층은 채널 영역에 전도성 물질을 인쇄하여 형성되는 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer is formed by printing a conductive material on a channel region.
청구항 1, 4 및 6 내지 15 중 어느 한 항의 정전용량식 편광판 일체형 터치 센서를 포함하는 디스플레이 장치.
A display device comprising the capacitive polarizing plate integrated type touch sensor according to any one of claims 1, 4, and 6 to 15.
제 16항에 있어서,
상기 디스플레이 장치는 액정표시장치 또는 유기전계발광 장치인 디스플레이 장치.
17. The method of claim 16,
Wherein the display device is a liquid crystal display device or an organic electroluminescence device.
상부 기판;
상기 상부 기판과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판;
상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 개재되는 액정 셀;
상기 상부 기판의 상면에 형성되는 점착층;
상기 점착층 상부에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름;
상기 전도성 필름의 상부에 배치되는 제1편광판; 및
상기 하부 기판의 하부에 배치되는 제2편광판을 포함하며,
상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되는 터치형 디스플레이 장치.
An upper substrate;
A lower substrate spaced apart from the upper substrate by a predetermined distance;
A liquid crystal cell interposed between the upper substrate and the lower substrate;
An adhesive layer formed on an upper surface of the upper substrate;
At least one conductive film disposed on the adhesive layer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate;
A first polarizer disposed on the conductive film; And
And a second polarizer disposed below the lower substrate,
And a channel for touch driving is formed in the conductive layer.
상부 기판;
상기 상부 기판과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판;
상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 개재되는 액정 셀;
상기 상부 기판의 상부에 배치되는 제1편광판;
상기 하부 기판의 하부에 배치되는 제2편광판;
상기 제1편광판의 상부에 형성되는 점착층; 및
상기 점착층의 상부에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름을 포함하며,
상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되는 터치형 디스플레이 장치.
An upper substrate;
A lower substrate spaced apart from the upper substrate by a predetermined distance;
A liquid crystal cell interposed between the upper substrate and the lower substrate;
A first polarizer disposed on the upper substrate;
A second polarizer disposed below the lower substrate;
An adhesive layer formed on the first polarizer; And
And at least one conductive film disposed on the adhesive layer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate,
And a channel for touch driving is formed in the conductive layer.
상부 기판;
상기 상부 기판과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판;
상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 개재되는 OLED 셀;
상기 상부 기판의 상면에 형성되는 점착층;
상기 점착층 상부에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름; 및
상기 전도성 필름의 상부에 배치되는 원편광판을 포함하며,
상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되는 터치형 디스플레이 장치.
An upper substrate;
A lower substrate spaced apart from the upper substrate by a predetermined distance;
An OLED cell interposed between the upper substrate and the lower substrate;
An adhesive layer formed on an upper surface of the upper substrate;
At least one conductive film disposed on the adhesive layer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate; And
And a circular polarizer disposed on the conductive film,
And a channel for touch driving is formed in the conductive layer.
상부 기판;
상기 상부 기판과 일정한 거리를 두고 이격되어 배치되는 하부 기판;
상기 상부 기판과 하부 기판 사이에 개재되는 액정 셀;
상기 상부 기판의 상부에 배치되는 원편광판;
상기 원편광판의 상부에 형성되는 점착층; 및
상기 점착층의 상부에 배치되며, 투명 기재 및 상기 투명 기재의 일면에 형성되는 전도성 층을 포함하는 적어도 하나의 전도성 필름을 포함하며,
상기 전도성 층에는 터치 구동을 위한 채널이 형성되는 터치형 디스플레이 장치An upper substrate;
A lower substrate spaced apart from the upper substrate by a predetermined distance;
A liquid crystal cell interposed between the upper substrate and the lower substrate;
A circular polarizer disposed on the upper substrate;
An adhesive layer formed on the circular polarizer; And
And at least one conductive film disposed on the adhesive layer and including a transparent substrate and a conductive layer formed on one side of the transparent substrate,
A touch-type display device in which a channel for touch driving is formed in the conductive layer
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