KR101543434B1 - Manufacturing method of semiconductor memory system - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 메모리 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 메모리 시스템의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory system, and more particularly, to a method of manufacturing a semiconductor memory system.

본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 제조 방법은 제 1 불휘발성 메모리에 시스템 코드를 저장하는 단계; 상기 제 1 불휘발성 메모리와 제 2 불휘발성 메모리를 조립하는 단계; 및 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 불휘발성 메모리가 데이터를 유지할 수 있는 온도는 상기 제 2 불휘발성 메모리가 데이터를 유지할 수 있는 온도보다 높은 것을 특징으로 한다. A method of manufacturing a semiconductor memory system according to the present invention includes: storing a system code in a first nonvolatile memory; Assembling the first nonvolatile memory and the second nonvolatile memory; And copying the system code stored in the first nonvolatile memory to the second nonvolatile memory, wherein the temperature at which the first nonvolatile memory is capable of holding data is determined by the second non- Is higher than the temperature that can be maintained.

본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템에 있어서, 반도체 메모리 시스템의 조립 후에 가변 저항 메모리 장치에 데이터가 저장된다. 본 발명에 의하면, 반도체 메모리 시스템의 신뢰성이 향상된다.In a semiconductor memory system according to the present invention, data is stored in a variable resistance memory device after assembly of a semiconductor memory system. According to the present invention, the reliability of the semiconductor memory system is improved.

Description

반도체 메모리 시스템의 제조 방법{MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR MEMORY SYSTEM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a manufacturing method of a semiconductor memory system,

본 발명은 반도체 메모리 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 메모리 시스템의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory system, and more particularly, to a method of manufacturing a semiconductor memory system.

반도체 메모리 장치는 데이터를 저장하기 위해 사용된다. 반도체 메모리 장치는 크게 휘발성(volatile) 메모리 장치와 불휘발성(nonvolatile) 메모리 장치로 구분된다. 휘발성 메모리 장치에 저장된 데이터는 전원 공급이 중단되면 소멸된다. 반면에, 불휘발성 메모리 장치에 저장된 데이터는 전원 공급이 중단되더라도 소멸되지 않는다. Semiconductor memory devices are used to store data. Semiconductor memory devices are classified into volatile memory devices and nonvolatile memory devices. The data stored in the volatile memory device is consumed when the power supply is interrupted. On the other hand, the data stored in the nonvolatile memory device does not disappear even if the power supply is interrupted.

불휘발성 메모리 장치는 저전력으로 데이터를 저장할 수 있기 때문에, 휴대용 기기의 저장 매체로서 각광받고 있다. 불휘발성 메모리 장치의 일종으로 플래시 메모리 장치 및 가변 저항 메모리 장치가 있다. 이하에서는, 플래시 메모리 장치 및 가변 저항 메모리 장치가 예로서 설명된다. 단, 본 발명의 범위는 이에 제한되지 않고 다른 메모리 장치들(예를 들면, FRAM, MRAM, DRAM 등)에 적용될 수 있다. Since the nonvolatile memory device can store data at a low power, it is attracting attention as a storage medium for portable devices. One type of non-volatile memory device is a flash memory device and a variable resistance memory device. In the following, a flash memory device and a variable resistance memory device are described as examples. However, the scope of the present invention is not limited thereto and can be applied to other memory devices (for example, FRAM, MRAM, DRAM, etc.).

가변 저항 메모리 장치들에는 강유전체 커패시터를 이용한 강유전체 램(ferroelectric RAM; FRAM), 티엠알(TMR; tunneling magneto-resistive) 막을 이용한 마그네틱 램(magnetic RAM; MRAM), 그리고 칼코겐 화합물(chalcogenide alloys)을 이용한 상 변화 메모리 장치(phase change memory device) 등이 있다. 특히, 상 변화 메모리 장치는 그 제조 과정이 비교적 간단하고, 저가로 대용량의 메모리를 구현할 수 있다. Variable resistance memory devices include ferroelectric RAM (FRAM) using a ferroelectric capacitor, magnetic RAM (MRAM) using a tunneling magneto-resistive (TMR) film, and chalcogenide alloys A phase change memory device, and the like. Particularly, the phase change memory device is relatively simple to manufacture and can realize a large-capacity memory at a low cost.

일반적인 가변 저항 메모리 장치는 열에 약한 특성을 가진다. 즉, 가변 저항 메모리 장치가 높은 온도에 일정 시간 이상 노출된 경우, 가변 저항 메모리 장치에 저장된 데이터는 소실될 수 있다. 이는 반도체 메모리 시스템의 신뢰성을 저하시킨다. A typical variable resistance memory device has characteristics that are weak to heat. That is, when the variable resistance memory device is exposed to a high temperature for a certain period of time, the data stored in the variable resistance memory device may be lost. This degrades the reliability of the semiconductor memory system.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 가변 저항 메모리 장치에 저장된 데이터를 안전하게 유지함으로써 향상된 신뢰성을 가지는 반도체 메모리 시스템을 제공하는 데 있다. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory system having improved reliability by safely holding data stored in a variable resistance memory device.

본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 제조 방법은 제 1 불휘발성 메모리에 시스템 코드를 저장하는 단계; 상기 제 1 불휘발성 메모리와 제 2 불휘발성 메모리를 조립하는 단계; 및 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제하는 단계를 포함하고, 상기 제 1 불휘발성 메모리가 데이터를 유지할 수 있는 온도는 상기 제 2 불휘발성 메모리가 데이터를 유지할 수 있는 온도보다 높은 것을 특징으로 한다. A method of manufacturing a semiconductor memory system according to the present invention includes: storing a system code in a first nonvolatile memory; Assembling the first nonvolatile memory and the second nonvolatile memory; And copying the system code stored in the first nonvolatile memory to the second nonvolatile memory, wherein the temperature at which the first nonvolatile memory is capable of holding data is determined by the second non- Is higher than the temperature that can be maintained.

실시 예로서, 상기 제 1 불휘발성 메모리는 낸드 플래시 메모리이고, 상기 제 2 불휘발성 메모리는 가변 저항 메모리인 것을 특징으로 한다. 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제한 후, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 삭제하는 단계를 더 포함한다. 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제하는 단계는 상기 제 2 불휘발성 메모리에 상기 시스템 코드가 저장되어 있지 않은 경우에만 수행된다.In an embodiment, the first nonvolatile memory is a NAND flash memory, and the second nonvolatile memory is a variable resistance memory. And copying the system code stored in the first nonvolatile memory to the second nonvolatile memory, and deleting the system code stored in the first nonvolatile memory. The step of copying the system code stored in the first nonvolatile memory into the second nonvolatile memory is performed only when the system code is not stored in the second nonvolatile memory.

다른 실시 예로서, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드가 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제되었음을 나타내는 복제 플래그를 갱신하는 단계를 더 포함한다. 상기 복제 플래그가 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드가 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제되었음을 나타내는 경우, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드가 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제되는 단계는 생략된다. 상기 시스템 코드는 반도체 메모리 시스템의 초기화를 위한 데이터인 것을 특징으로 한다. As another embodiment, the method further includes updating a replication flag indicating that the system code stored in the first nonvolatile memory has been copied to the second nonvolatile memory. Volatile memory, and when the replication flag indicates that the system code stored in the first nonvolatile memory has been copied to the second nonvolatile memory, the system code stored in the first nonvolatile memory is copied to the second nonvolatile memory Is omitted. And the system code is data for initialization of the semiconductor memory system.

본 발명에 따른 메모리 카드는 반도체 메모리 시스템; 및 상기 반도체 메모리 시스템을 제어하도록 구성된 메모리 컨트롤러를 포함하며, 상기 반도체 메모리 시스템은 상기 청구항 1에 기재된 방법으로 제조된다.A memory card according to the present invention includes a semiconductor memory system; And a memory controller configured to control the semiconductor memory system, wherein the semiconductor memory system is manufactured by the method according to claim 1.

본 발명에 따른 솔리드 스테이트 드라이브는 반도체 메모리 시스템; 및 상기 반도체 메모리 시스템을 제어하도록 구성된 메모리 컨트롤러를 포함하며, 상기 반 도체 메모리 시스템은 상기 청구항 1에 기재된 방법으로 제조된다.A solid state drive according to the present invention includes: a semiconductor memory system; And a memory controller configured to control the semiconductor memory system, wherein the semiconducting memory system is fabricated by the method of claim 1.

본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템에 있어서, 반도체 메모리 시스템의 조립 후에 가변 저항 메모리 장치에 데이터가 저장된다. 본 발명에 의하면, 반도체 메모리 시스템의 신뢰성이 향상된다.In a semiconductor memory system according to the present invention, data is stored in a variable resistance memory device after assembly of a semiconductor memory system. According to the present invention, the reliability of the semiconductor memory system is improved.

앞의 일반적인 설명 및 다음의 상세한 설명 모두 예시적이라는 것이 이해되어야 하며, 청구된 발명의 부가적인 설명이 제공되는 것으로 여겨져야 한다. 참조 부호들이 본 발명의 바람직한 실시 예들에 상세히 표시되어 있으며, 그것의 예들이 참조 도면들에 표시되어 있다. 가능한 어떤 경우에도, 동일한 참조 번호들이 동일한 또는 유사한 부분을 참조하기 위해서 설명 및 도면들에 사용된다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and should provide a further description of the claimed invention. Reference numerals are shown in detail in the preferred embodiments of the present invention, examples of which are shown in the drawings. Wherever possible, the same reference numbers are used in the description and drawings to refer to the same or like parts.

아래에서, 낸드 플래시 메모리 장치 및 가변 저항 메모리 장치가 본 발명의 특징 및 기능을 설명하기 위한 한 예로서 사용된다. 하지만, 이 기술 분야에 정통한 사람은 여기에 기재된 내용에 따라 본 발명의 다른 이점들 및 성능을 쉽게 이해할 수 있을 것이다. 본 발명은 다른 실시 예들을 통해 또한, 구현되거나 적용될 수 있을 것이다. 게다가, 상세한 설명은 본 발명의 범위, 기술적 사상 그리고 다른 목적으로부터 상당히 벗어나지 않고 관점 및 용도에 따라 수정되거나 변경될 수 있다.In the following, a NAND flash memory device and a variable resistance memory device are used as an example for explaining the features and functions of the present invention. However, those skilled in the art will readily appreciate other advantages and capabilities of the present invention in accordance with the teachings herein. The invention may also be embodied or applied in other embodiments. In addition, the detailed description may be modified or changed in accordance with the viewpoint and use without departing from the scope, technical thought and other objects of the present invention.

도 1은 플래시 메모리 장치의 메모리 셀을 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 소오스(S) 및 드레인(D)은 채널 영역을 사이에 두고 반도체 기판(substrate)에 형성된다. 플로팅 게이트(floating gate)는 얇은 절연막을 사이에 두고 채널(channel) 영역 위에 형성된다. 컨트롤 게이트(control gate)는 절연막을 사이에 두고 플로팅 게이트 위에 형성된다. 상기 소오스(S), 드레인(D), 플로팅 게이트, 컨트롤 게이트, 그리고 반도체 기판에는 프로그램(program), 소거(erase) 및 읽기(read) 동작에 필요한 전압들을 인가하기 위한 단자들이 연결된다.1 is a cross-sectional view showing a memory cell of a flash memory device. Referring to FIG. 1, a source S and a drain D are formed on a semiconductor substrate with a channel region interposed therebetween. A floating gate is formed over a channel region with a thin insulating film interposed therebetween. A control gate is formed on the floating gate with an insulating film therebetween. Terminals for applying voltages necessary for program, erase, and read operations are connected to the source S, the drain D, the floating gate, the control gate, and the semiconductor substrate.

상술한 플래시 메모리 장치에서는 메모리 셀의 문턱 전압(threshold voltage)의 구별에 의해 데이터가 독출된다. 메모리 셀의 문턱 전압은 플로팅 게이트 또는 전하 트랩 막에 저장된 전자(electron)의 양에 따라 결정된다. 플로팅 게이트 또는 전하 트랩 막에 저장된 전자가 많을수록 문턱 전압이 높아진다. In the above-described flash memory device, data is read out by distinguishing a threshold voltage of a memory cell. The threshold voltage of the memory cell is determined by the amount of electrons stored in the floating gate or the charge trap film. The more electrons stored in the floating gate or the charge trap film, the higher the threshold voltage.

도 2는 플래시 메모리 셀의 문턱 전압 분포를 보여주는 그래프이다. 도 2를 참조하면, 가로축은 문턱 전압(threshold voltage: Vth)을 나타내고, 세로축은 플래시 메모리 셀의 수를 나타낸다. 싱글 레벨 셀(Single Level Cell; SLC)의 경우, 플래시 메모리 셀의 문턱 전압은 두 개의 상태들('S0', 'S1') 중 하나를 갖는다. 2 is a graph showing the threshold voltage distribution of a flash memory cell. Referring to FIG. 2, the horizontal axis represents a threshold voltage (Vth), and the vertical axis represents the number of flash memory cells. In the case of a single level cell (SLC), the threshold voltage of the flash memory cell has one of two states ('S0', 'S1').

읽기 전압(Vr)이 플래시 메모리 셀의 컨트롤 게이트(도 1 참조)에 인가될 때, 'S0' 상태의 플래시 메모리 셀은 턴-온(turn-on) 된다. 반면에, 'S1' 상태의 플래시 메모리 셀은 턴-오프(turn-off) 된다. 플래시 메모리 셀이 턴-온 되면 플래시 메모리 셀을 통해 전류가 흐르고, 플래시 메모리 셀이 턴-오프 되면 플래시 메모리 셀을 통해 전류가 흐르지 않는다. 따라서, 플래시 메모리 셀의 턴-온 여부에 따라 데이터가 구별될 수 있다. When the read voltage Vr is applied to the control gate of the flash memory cell (see FIG. 1), the flash memory cell in the 'S0' state is turned on. On the other hand, the flash memory cell in the 'S1' state is turned off. When the flash memory cell is turned on, current flows through the flash memory cell, and when the flash memory cell is turned off, no current flows through the flash memory cell. Therefore, the data can be distinguished according to whether the flash memory cell is turned on or off.

MP3 Player, 핸드폰과 같은 모바일 장치에 사용되는 저장 장치로서 지금까지 낸드 플래시 메모리 장치가 주로 사용되고 있다. 낸드 플래시 메모리 장치는 집적도, 쓰기 성능, 수명, 충격, 전원 사용 측면에서 다른 불휘발성 메모리보다 우수한 특성을 가진다. 그런데, 최근 가변 저항 메모리 장치 등 다른 종류의 불휘발성 메모리의 특성이 향상되어 대량 생산이 이루어지고 있다.MP3 players, mobile phones, etc. As a storage device, NAND flash memory devices have been mainly used so far. NAND flash memory devices are superior to other nonvolatile memories in terms of density, write performance, lifetime, impact, and power consumption. However, in recent years, characteristics of other types of nonvolatile memories such as variable resistance memory devices have been improved and mass production has been achieved.

도 3 및 도 4는 가변 저항 메모리 장치의 메모리 셀을 보여준다. 도 3을 참조하면, 메모리 셀(10)은 기억 소자(memory element, 11)와 선택 소자(select element, 12)를 포함한다. 기억 소자(11)는 비트 라인(BL)과 선택 소자(12) 사이에 연결되며, 선택 소자(12)는 기억 소자(11)와 접지 사이에 연결된다. Figures 3 and 4 show memory cells of the variable resistive memory device. Referring to FIG. 3, a memory cell 10 includes a memory element 11 and a select element 12. The storage element 11 is connected between the bit line BL and the selection element 12 and the selection element 12 is connected between the storage element 11 and ground.

기억 소자(11)는 가변 저항 물질(GST)을 포함한다. 가변 저항 물질(GST)은 Ge-Sb-Te와 같이 온도에 따라 저항이 변하는 소자이다. 가변 저항 물질(GST)은 온도에 따라 2개의 안정된 상태, 즉 결정 상태(crystal state) 및 비정질 상태(amorphous state) 중 어느 하나를 갖는다. 가변 저항 물질(GST)은 비트 라인(BL)을 통해 공급되는 전류에 따라 결정 상태(crystal state) 또는 비정질 상태(amorphous state)로 변한다. 가변 저항 메모리 장치는 가변 저항 물질(GST)의 이러한 특성을 이용하여 데이터를 프로그램한다.The memory element 11 includes a variable resistance material GST. The variable resistance material (GST) is an element whose resistance varies with temperature such as Ge-Sb-Te. The variable resistance material GST has one of two stable states depending on the temperature, that is, a crystal state and an amorphous state. The variable resistance material GST changes into a crystal state or an amorphous state according to a current supplied through the bit line BL. Variable resistance memory devices use this characteristic of the variable resistance material (GST) to program data.

선택 소자(12)는 NMOS 트랜지스터(NT)로 구성된다. NMOS 트랜지스터(NT)의 게이트에는 워드 라인(WL)이 연결된다. 워드 라인(WL)에 소정의 전압이 인가되면, NMOS 트랜지스터(NT)는 턴 온(turn on) 된다. NMOS 트랜지스터(NT)가 턴 온(turn on) 되면, 기억 소자(11)는 비트 라인(BL)을 통해 전류를 공급받는다. 도 1에서는 기억 소자(11)가 비트 라인(BL)과 선택 소자(12) 사이에 연결되어 있다. 그러나 선택 소자(12)가 비트 라인(BL)과 기억 소자(11) 사이에 연결될 수도 있다.The selection element 12 is composed of an NMOS transistor NT. A word line (WL) is connected to the gate of the NMOS transistor NT. When a predetermined voltage is applied to the word line WL, the NMOS transistor NT is turned on. When the NMOS transistor NT is turned on, the memory element 11 is supplied with current through the bit line BL. In Fig. 1, the memory element 11 is connected between the bit line BL and the selection element 12. Fig. However, the selection element 12 may be connected between the bit line BL and the storage element 11. [

도 4를 참조하면, 메모리 셀(20)은 기억 소자(21)와 선택 소자(22)를 포함한다. 기억 소자(21)는 비트 라인(BL)과 선택 소자(22) 사이에 연결되며, 선택 소자(22)는 기억 소자(21)와 접지 사이에 연결된다. 기억 소자(21)는 도 3의 기억 소자(11)와 동일하다.4, the memory cell 20 includes a memory element 21 and a selection element 22. [ The storage element 21 is connected between the bit line BL and the selection element 22 and the selection element 22 is connected between the storage element 21 and ground. The memory element 21 is the same as the memory element 11 of Fig.

선택 소자(22)는 다이오드(D)로 구성된다. 다이오드(D)의 애노드(Anode)에는 기억 소자(21)가 연결되며, 캐소드(Cathode)에는 워드 라인(WL)이 연결된다. 다이오드(D)의 애노드와 캐소드 사이의 전압 차가 다이오드(D)의 문턱 전압보다 높아지면, 다이오드(D)는 턴 온(turn on) 된다. 다이오드(D)가 턴 온 되면, 기억 소자(21)는 비트 라인(BL)을 통해 전류를 공급받는다. The selection element 22 is composed of a diode D. A storage element 21 is connected to the anode of the diode D and a word line WL is connected to the cathode. When the voltage difference between the anode and the cathode of the diode D becomes higher than the threshold voltage of the diode D, the diode D is turned on. When the diode D is turned on, the memory element 21 is supplied with current through the bit line BL.

도 5는 도 3 및 도 4에 도시된 가변 저항 물질(GST)의 특성을 설명하기 위한 그래프이다. 도 5에서, 참조 번호 1은 가변 저항 물질(GST)이 비정질 상태(amorphous state)로 되기 위한 조건을 나타내며, 참조 번호 2는 결정 상태(crystal state)로 되기 위한 조건을 나타낸다.5 is a graph for explaining characteristics of the variable resistance material GST shown in FIGS. 3 and 4. FIG. In FIG. 5, reference numeral 1 denotes a condition for causing the variable resistance material GST to become an amorphous state, and reference numeral 2 denotes a condition for becoming a crystal state.

가변 저항 물질(GST)은 T1 시간 동안 용융 온도(melting temperature; Tm)보다 높은 온도로 가열한 뒤 급속히 냉각(quenching)하면 비정질 상태(amorphous state)로 된다. 비정질 상태는 보통 리셋 상태(reset state)라고 부르며, 데이터 '1'을 저장한다. 가변 저항 메모리 장치는 리셋 상태로 프로그램하기 위해 리셋 전류(reset current)를 가변 저항 물질(GST)로 제공한다.The variable resistance material (GST) is heated to a temperature higher than the melting temperature (Tm) for T1 hours and then rapidly quenched to an amorphous state. The amorphous state is commonly referred to as a reset state and stores data '1'. The variable resistance memory device provides a reset current to the variable resistance material (GST) for programming into a reset state.

가변 저항 물질(GST)은 결정화 온도(crystallization temperature; Tc)보다 높고 용융 온도(Tm)보다는 낮은 온도에서 T1 보다 긴 T2 동안 가열한 뒤 서서히 냉각하면 결정 상태(crystal state)로 된다. 결정 상태는 보통 셋 상태(set state)라고도 부르며, 데이터 '0'을 저장한다. 가변 저항 메모리 장치는 셋 상태로 프로그램하기 위해 셋 전류(set current)를 가변 저항 물질(GST)로 제공한다.The variable resistance material GST is heated at a temperature higher than the crystallization temperature Tc and lower than the melting temperature Tm for T2 longer than T1 and gradually cooled to a crystal state. The decision state is also referred to as a set state, and stores data '0'. The variable resistance memory device provides a set current as a variable resistance material (GST) for programming into a set state.

그런데, 집적도가 높은 가변 저항 메모리 중 일부는 열에 취약하여 고온의 상태에 어느 정도 노출되면 저장된 데이터가 손실되는 문제가 본 발명자에 의해 발견되었다. 일반적인 사용 환경에서는 이와 같은 데이터 손실이 발생하지 않으나, 가변 저항 메모리를 조립할 때는 고온의 상태에 장시간 노출될 수 있다. 예를 들어, 가변 저항 메모리를 기판에 부착시킬 때, 가변 저항 메모리는 고온에 장시간 노출될 수 있다. 이는 가변 저항 메모리에 저장된 부트로더, 운영 체제, 시스템 파일 등의 시스템 코드의 손실을 유발하고, 결국 반도체 메모리 시스템의 불량률을 증가시킨다. However, the inventors of the present invention have found that some of the variable resistive memories having a high degree of integration are vulnerable to heat, and stored data is lost when exposed to a high temperature state to some extent. Such a data loss does not occur in a normal use environment, but when a variable resistance memory is assembled, it can be exposed to a high temperature for a long time. For example, when a variable resistance memory is attached to a substrate, the variable resistance memory can be exposed to a high temperature for a long time. This causes loss of the system code such as the boot loader, the operating system, and the system file stored in the variable resistor memory, thereby increasing the defect rate of the semiconductor memory system.

이러한 문제를 해결하기 위해 조립 후에 전용 설비를 이용하여 가변 저항 메모리에 시스템 코드를 저장하는 방법이 제안되었다. 열에 의한 영향을 피하기 위하여 조립 후 전용 설비를 이용하여 시스템 코드를 가변 저항 메모리에 저장한다. 그러나 이 방법은 시스템 코드를 저장하기 위한 전용 설비와 반도체 메모리 시스템 사이에 데이터를 전송하기 위한 추가의 인터페이스가 요구되는 단점이 있다. To solve this problem, a method of storing the system code in a variable resistor memory using a dedicated facility after assembly has been proposed. In order to avoid the effect of heat, the system code is stored in the variable resistor memory using the dedicated equipment after assembly. However, this method has a disadvantage that an additional interface for transferring data between a dedicated facility for storing the system code and the semiconductor memory system is required.

본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템에 있어서, 가변 저항 메모리가 조립된 후에 가변 저항 메모리에 시스템 코드가 저장된다. 가변 저항 메모리에 저장될 시 스템 코드는 우선 낸드 플래시 메모리에 저장된다. 낸드 플래시 메모리는 상대적으로 열에 강하기 때문에 조립 중의 열에 노출되어도 데이터를 유지한다. 즉, 가변 저항 메모리에 열이 가해진 이후에 데이터가 저장되기 때문에 열에 의한 데이터 소실이 방지될 수 있다. In the semiconductor memory system according to the present invention, the system code is stored in the variable resistor memory after the variable resistor memory is assembled. The system code to be stored in the variable resistor memory is first stored in the NAND flash memory. NAND flash memory is relatively heat resistant, so it retains data even when exposed to heat during assembly. That is, since data is stored after the variable resistance memory is applied with heat, data loss due to heat can be prevented.

도 6은 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다. 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템(100)은 프로세서(110), 낸드 플래시 메모리(120), 가변 저항 메모리(130), 부트 롬(140), 그리고 램(150)을 포함한다. 6 is a block diagram showing a semiconductor memory system according to the present invention. 6, a semiconductor memory system 100 according to the present invention includes a processor 110, a NAND flash memory 120, a variable resistor memory 130, a boot ROM 140, and a RAM 150 .

프로세서(110)는 반도체 메모리 시스템(100)의 전반적인 동작을 제어한다. 예를 들어, 프로세서(110)는 램(150)에 저장된 프로그램을 처리할 수 있다. 낸드 플래시 메모리(120)는 시스템 코드를 저장할 수 있다. 또한, 낸드 플래시 메모리(120)는 음악, 동영상, 문서 등의 사용자 데이터를 저장할 수 있다. 가변 저항 메모리(130)에는 낸드 플래시 메모리(120)에 저장된 시스템 코드가 복제될 것이다. The processor 110 controls the overall operation of the semiconductor memory system 100. For example, the processor 110 may process programs stored in the RAM 150. The NAND flash memory 120 may store the system code. In addition, the NAND flash memory 120 may store user data such as music, moving images, and documents. The system code stored in the NAND flash memory 120 will be copied to the variable resistance memory 130. [

부트 롬(140)은 반도체 메모리 시스템(100)의 부팅에 필요한 동작을 제어한다. 예를 들어, 부트 롬(140)은 부트로더를 램(150)에 로드시킬 수 있다. 부트로더(Bootloader)는 운영 체제(operating system)가 구동되기 전에 미리 실행된다. 운영체제는 커널(kernel)이 올바르게 시동되기 위해 필요한 작업을 마무리하고 최종적으로 운영 체제를 시동시키기 위한 프로그램이다. 램(150)은 주기억 장치로 사용된다. 램(150)에 로드된 프로그램은 프로세서에 의해 수행될 수 있다. The boot ROM 140 controls operations required for booting the semiconductor memory system 100. For example, the boot ROM 140 may load the boot loader into the RAM 150. The bootloader runs before the operating system is started. The operating system is a program for finishing the tasks required for the kernel to start up properly and finally starting the operating system. The RAM 150 is used as a main memory. The program loaded into the RAM 150 can be executed by the processor.

낸드 플래시 메모리(120)는 메모리 카드(memory card) 또는 솔리드 스테이트 드라이브(solid state drive)를 구성할 수 있다. 그리고, 프로세서(110)와 RAM(150)은 호스트(host)를 구성할 수 있다. 예를 들어, 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템(100)은 MP3 플레이어, PMP, 노트북 등의 휴대용 미디어 플레이어로 사용될 수 있다. 프로세서(110)에 의한 처리 결과는 낸드 플래시 메모리(120), 가변 저항 메모리(130), 또는 RAM(150)에 저장될 수 있다. The NAND flash memory 120 may constitute a memory card or a solid state drive. The processor 110 and the RAM 150 may constitute a host. For example, the semiconductor memory system 100 according to the present invention can be used as a portable media player such as an MP3 player, a PMP, or a notebook computer. The processing result by the processor 110 may be stored in the NAND flash memory 120, the variable resistor memory 130, or the RAM 150. [

비록 도면에는 도시되지 않았지만 반도체 메모리 시스템(100)의 동작에 필요한 전원을 공급하기 위한 전원 공급부(Power supply)가 요구됨은 이 분야의 통상적인 지식을 습득한 자들에게 자명하다. 그리고, 반도체 메모리 시스템(100)이 휴대용 기기(mobile device)인 경우, 반도체 메모리 시스템(100)의 동작 전원을 공급하기 위한 배터리(battery)가 추가로 요구될 것이다. It is apparent to those skilled in the art that a power supply is required to supply the power necessary for operation of the semiconductor memory system 100 although not shown in the drawings. When the semiconductor memory system 100 is a mobile device, a battery for supplying operating power to the semiconductor memory system 100 may be further required.

도 7은 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 제조 방법을 보여주는 순서도이다. 도 7을 참조하면, S110 단계에서, 낸드 플래시 메모리에 시스템 코드가 저장된다. 시스템 코드는 반도체 메모리 시스템을 초기화하기 위해 사용된다. 예를 들어, 시스템 코드는 파일 시스템, 장치 드라이버, 운영 체제 등이 될 수 있다. 7 is a flowchart showing a method of manufacturing a semiconductor memory system according to the present invention. Referring to FIG. 7, in step S110, the system code is stored in the NAND flash memory. The system code is used to initialize the semiconductor memory system. For example, the system code may be a file system, a device driver, an operating system, or the like.

개인용 컴퓨터(personal computer) 또는 휴대용 단말기(mobile device)가 솔리드 스테이트 드라이브 또는 하드 디스크와 같은 저장 장치를 사용하기 위해서는 파일 시스템이 요구된다. 파일 시스템(file system)은 솔리드 스테이트 드라이브 또는 하드 디스크와 같은 저장 장치에 데이터를 저장하기 위해 사용되는 구조(structure) 또는 소프트웨어(software)를 의미한다.A file system is required for a personal computer or a mobile device to use a storage device such as a solid state drive or a hard disk. A file system is a structure or software used to store data in a storage device such as a solid state drive or a hard disk.

장치 드라이버는 디바이스 드라이버, 장치 제어기 또는 소프트웨어 드라이버 라고 한다. 장치 드라이버는 컴퓨터 프로그램들이 컴퓨터 하드웨어 장치와 상호 작용하기 위해 만들어진 하나의 컴퓨터 프로그램이다. 장치 드라이버는 하드웨어를 제어하며 하드웨어와 주변 기기를 사용하는 프로그램의 중간 다리 역할을 한다.A device driver is referred to as a device driver, a device controller, or a software driver. A device driver is a computer program created for computer programs to interact with a computer hardware device. Device drivers control the hardware and serve as a bridge between programs that use hardware and peripherals.

다시 도 7을 참조하면, S120 단계에서, 낸드 플래시 메모리와 가변 저항 메모리 장치가 기판상에 조립된다. 조립 과정 중에 낸드 플래시 메모리와 가변 저항 메모리 장치에 열이 가해질 수 있다. 그런데, 낸드 플래시 메모리는 상대적으로 열에 강하기 때문에 낸드 플래시 메모리에 저장된 데이터는 소실되지 않는다. Referring again to FIG. 7, in step S120, the NAND flash memory and the variable resistance memory device are assembled on the substrate. During the assembly process, heat may be applied to the NAND flash memory and the variable resistor memory device. However, since the NAND flash memory is relatively heat resistant, the data stored in the NAND flash memory is not lost.

조립이 끝난 후, S130 단계에서 낸드 플래시 메모리에 저장된 시스템 코드가 가변 저항 메모리에 저장된다. 낸드 플래시 메모리에 저장된 시스템 코드가 가변 저항 메모리에 저장되는 방법은 후술될 도 8을 참조하여 자세히 설명될 것이다. After the assembly, the system code stored in the NAND flash memory is stored in the variable resistor memory in step S130. The manner in which the system code stored in the NAND flash memory is stored in the variable resistor memory will be described in detail with reference to FIG. 8 to be described later.

상술한 바와 같이, 조립 후에 가변 저항 메모리에 시스템 코드가 저장되기 때문에 조립 중의 열로 인한 가변 저항 메모리 내의 데이터 소실이 방지될 수 있다. As described above, since the system code is stored in the variable resistor memory after assembly, data loss in the variable resistor memory due to heat during assembly can be prevented.

도 8은 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 시스템 코드 저장 방법을 보여주는 순서도이다. 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 시스템 코드 저장 방법은 S210 내지 S280 단계를 포함한다. FIG. 8 is a flowchart illustrating a system code storing method of a semiconductor memory system according to the present invention. Referring to FIG. 8, a system code storage method of a semiconductor memory system according to the present invention includes steps S210 to S280.

S210 단계에서, 반도체 메모리 시스템이 턴-온 된다. S220 단계에서, 부트 롬은 낸드 플래시 메모리에 저장된 부트로더를 램에 로드시킨다. 그 이전에 부트 롬에 저장된 초기화 코드는 낸드 플래시 메모리 및 램을 초기화시킬 것이다. S230 단계에서, 램에 저장된 부트로더가 실행된다. In step S210, the semiconductor memory system is turned on. In step S220, the boot ROM loads the boot loader stored in the NAND flash memory into the RAM. The initialization code previously stored in the boot ROM will initialize the NAND flash memory and RAM. In step S230, the boot loader stored in the RAM is executed.

S240 단계에서, 부트로더는 가변 저항 메모리에 시스템 코드가 저장되었는지 여부를 검출한다. 만약, 가변 저항 메모리에 시스템 코드가 저장된 경우, S280 단계에서, 프로세서는 가변 저항 메모리 내의 시스템 코드를 실행시킨다. 반면에, 가변 저항 메모리에 시스템 코드가 저장되지 않은 경우, S250 단계가 수행된다.In step S240, the boot loader detects whether the system code is stored in the variable resistor memory. If the system code is stored in the variable resistor memory, in step S280, the processor executes the system code in the variable resistor memory. On the other hand, if the system code is not stored in the variable resistor memory, step S250 is performed.

S250 단계에서, 낸드 플래시 메모리 내의 시스템 코드가 가변 저항 메모리에 복제된다. S260 단계에서, 낸드 플래시 메모리에 저장된 시스템 코드가 삭제된다. 시스템 코드가 삭제됨에 따라 낸드 플래시 메모리의 저장 용량이 증가한다. In step S250, the system code in the NAND flash memory is copied to the variable resistor memory. In step S260, the system code stored in the NAND flash memory is erased. As the system code is deleted, the storage capacity of the NAND flash memory increases.

그러나, S260 단계는 필요에 따라 생략될 수 있다. 이 경우, 가변 저항 메모리에 저장된 시스템 코드가 소실되는 경우, 낸드 플래시 메모리에 저장된 시스템 코드를 다시 가변 저항 메모리에 복제할 수 있다는 장점이 있다. However, step S260 may be omitted as needed. In this case, when the system code stored in the variable resistor memory is lost, the system code stored in the NAND flash memory can be replicated in the variable resistor memory again.

S270 단계에서, 복제 플래그가 업데이트된다. 복제 플래그는 가변 저항 메모리가 시스템 코드를 저장하고 있는지 여부를 나타낸다. 프로세서는 복제 플래그를 참조함으로써 낸드 플래시 메모리 내의 시스템 코드를 가변 저항 메모리에 복제할지 여부를 결정한다. S280 단계에서, 가변 저항 메모리에 저장된 시스템 코드가 실행됨으로써 반도체 메모리 시스템이 제어된다. In step S270, the replication flag is updated. The duplication flag indicates whether or not the variable resistance memory stores the system code. The processor determines whether to replicate the system code in the NAND flash memory to the variable resistor memory by referring to the replication flag. In step S280, the system code stored in the variable resistor memory is executed to control the semiconductor memory system.

상술한 바와 같이, 시스템의 조립 후에 낸드 플래시 메모리로부터 가변 저항 메모리로 시스템 코드가 복제됨으로써 열에 의한 데이터 소실이 방지될 수 있다. As described above, since the system code is copied from the NAND flash memory to the variable resistance memory after assembling the system, data loss due to heat can be prevented.

또한, 기존의 노어 플래시 메모리를 가변 저항 메모리로 대체하는 것이 가능해지고, 많은 전력을 소모하는 DRAM 대신 가변 저항 메모리를 부트 이미지 저장 공간으로 활용하는 것이 가능해진다. 즉, 본 발명에 따른 가변 저항 메모리는 DRAM 대용으로 사용될 수 있다.In addition, it becomes possible to replace the conventional NOR flash memory with a variable resistance memory, and it becomes possible to utilize the variable resistance memory as a boot image storage space instead of a DRAM consuming a lot of power. That is, the variable resistor memory according to the present invention can be used as a substitute for DRAM.

본 발명에 있어서, 낸드 플래시 메모리와 가변 저항 메모리가 예로서 설명되었지만, 본 발명의 범위는 이에 한정되지 않는다. 본 발명은 조립 과정에서 가해지는 열에 상대적으로 강한 메모리와 상대적으로 약한 메모리의 조합에 적용될 수 있다. 즉, 상대적으로 열에 강한 제 1 메모리에 시스템 코드를 저장한 후, 제 1 메모리와 상대적으로 열에 약한 제 2 메모리를 조립하고, 조립 후에 제 1 메모리에 저장된 시스템 코드를 제 2 메모리에 저장할 수 있다. 여기서, 제 1 및 제 2 메모리는 임의의 메모리들로 구성될 수 있다. In the present invention, although the NAND flash memory and the variable resistance memory are described as examples, the scope of the present invention is not limited thereto. The present invention can be applied to a combination of a relatively strong memory and a relatively weak memory relative to the heat applied in the assembly process. That is, the system code may be stored in a first memory relatively strong in terms of the column, then a second memory relatively weak in the column may be assembled with the first memory, and the system code stored in the first memory may be stored in the second memory after the assembly. Here, the first and second memories may be composed of arbitrary memories.

본 발명에 따른 낸드 플래시 메모리(350) 또는 가변 저항 메모리는 다양한 형태들의 패키지를 이용하여 실장될 수 있다. 예를 들면, 낸드 플래시 메모리 또는 가변 저항 메모리는 PoP(Package on Package), Ball grid arrays(BGAs), Chip scale packages(CSPs), Plastic Leaded Chip Carrier(PLCC), Plastic Dual In-Line Package(PDIP), Die in Waffle Pack, Die in Wafer Form, Chip On Board(COB), Ceramic Dual In-Line Package(CERDIP), Plastic Metric Quad Flat Pack(MQFP), Thin Quad Flatpack(TQFP), Small Outline(SOIC), Shrink Small Outline Package(SSOP), Thin Small Outline(TSOP), Thin Quad Flatpack(TQFP), System In Package(SIP), Multi Chip Package(MCP), Wafer-level Fabricated Package(WFP), Wafer-Level Processed Stack Package(WSP) 등과 같은 패키지들을 이용하여 실장될 수 있다. The NAND flash memory 350 or the variable resistor memory according to the present invention may be implemented using various types of packages. For example, the NAND flash memory or variable resistor memory may be implemented as a package on package (PoP), ball grid arrays (BGAs), chip scale packages (CSPs), plastic leaded chip carriers (PLCC) , Die in Waffle Pack, Die in Wafer Form, Chip On Board (COB), Ceramic Dual In-Line Package (CERDIP), Plastic Metric Quad Flat Pack (MQFP), Thin Quad Flatpack (TQFP) (SSOP), Thin Small Outline (TSOP), Thin Quad Flatpack (TQFP), System In Package (SIP), Multi Chip Package (MCP), Wafer-Level Fabricated Package Package (WSP) or the like.

본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템은 SSD(Solid State Drive)에도 적용될 수 있다. 최근 하드디스크 드라이브(HDD)를 교체해 나갈 것으로 예상되는 SSD 제품이 차세대 메모리 시장에서 각광을 받고 있다. SSD는 일반적인 하드 디스크 드라이브에서 사용되는 회전 접시 대신에 데이터를 저장하는데 플래시 메모리와 같은 메모리 칩들을 사용한 데이터 저장 장치이다. The semiconductor memory system according to the present invention can also be applied to a solid state drive (SSD). SSD products, which are expected to replace hard disk drives (HDDs) in recent years, are getting attention in the next generation memory market. An SSD is a data storage device that uses memory chips, such as flash memory, to store data instead of a rotating disk used in a typical hard disk drive.

SSD는 기계적으로 움직이는 하드디스크 드라이브에 비해 속도가 빠르고 외부 충격에 강하며, 소비전력도 낮다는 장점을 가진다. SSD는 ATA 인터페이스를 통해 호스트와 데이터를 교환할 수 있다. ATA 인터페이스(212)는 S-ATA(serial ATA) 규격 및 P-ATA(parallel ATA) 규격을 포함한다. SSDs are faster than mechanical moving hard disk drives, are more resistant to external shocks, and have lower power consumption. The SSD can exchange data with the host via the ATA interface. The ATA interface 212 includes a serial ATA (S-ATA) standard and a parallel ATA (P-ATA) standard.

본 발명의 범위 또는 기술적 사상을 벗어나지 않고 본 발명의 구조가 다양하게 수정되거나 변경될 수 있음은 이 분야에 숙련된 자들에게 자명하다. 상술한 내용을 고려하여 볼 때, 만약 본 발명의 수정 및 변경이 아래의 청구항들 및 동등물의 범주 내에 속한다면, 본 발명이 이 발명의 변경 및 수정을 포함하는 것으로 여겨진다.It will be apparent to those skilled in the art that the structure of the present invention can be variously modified or changed without departing from the scope or spirit of the present invention. In view of the foregoing, it is intended that the present invention cover the modifications and variations of this invention provided they fall within the scope of the following claims and equivalents.

도 1은 플래시 메모리 장치의 메모리 셀을 보여주는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a memory cell of a flash memory device.

도 2는 플래시 메모리 셀의 문턱 전압 분포를 보여주는 그래프이다.2 is a graph showing the threshold voltage distribution of a flash memory cell.

도 3 및 도 4는 가변 저항 메모리 장치의 메모리 셀을 보여준다. Figures 3 and 4 show memory cells of the variable resistive memory device.

도 5는 도 3 및 도 4에 도시된 가변 저항 물질(GST)의 특성을 설명하기 위한 그래프이다. 5 is a graph for explaining characteristics of the variable resistance material GST shown in FIGS. 3 and 4. FIG.

도 6은 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다. 6 is a block diagram showing a semiconductor memory system according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 제조 방법을 보여주는 순서도이다.7 is a flowchart showing a method of manufacturing a semiconductor memory system according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 반도체 메모리 시스템의 시스템 코드 저장 방법을 보여주는 순서도이다.FIG. 8 is a flowchart illustrating a system code storing method of a semiconductor memory system according to the present invention.

Claims (9)

제 1 불휘발성 메모리에 시스템 코드를 저장하는 단계;Storing the system code in a first non-volatile memory; 상기 제 1 불휘발성 메모리와 제 2 불휘발성 메모리를 조립하는 단계; 및Assembling the first nonvolatile memory and the second nonvolatile memory; And 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제하는 단계를 포함하고,And replicating the system code stored in the first nonvolatile memory to the second nonvolatile memory, 상기 제 1 불휘발성 메모리가 데이터를 유지할 수 있는 온도는 상기 제 2 불휘발성 메모리가 데이터를 유지할 수 있는 온도보다 높고,Wherein a temperature at which said first nonvolatile memory can hold data is higher than a temperature at which said second nonvolatile memory is capable of holding data, 상기 시스템 코드는 반도체 메모리 시스템의 초기화를 위한 데이터인 반도체 메모리 시스템의 제조 방법. Wherein the system code is data for initialization of a semiconductor memory system. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 불휘발성 메모리는 낸드 플래시 메모리이고, 상기 제 2 불휘발성 메모리는 가변 저항 메모리인 반도체 메모리 시스템의 제조 방법.Wherein the first nonvolatile memory is a NAND flash memory and the second nonvolatile memory is a variable resistance memory. 제 1 항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제한 후, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 삭제하는 단계를 더 포함하는 반도체 메모리 시스템의 제조 방법.Further comprising: copying the system code stored in the first nonvolatile memory to the second nonvolatile memory, and then deleting the system code stored in the first nonvolatile memory. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드를 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제하는 단계는 상기 제 2 불휘발성 메모리에 상기 시스템 코드가 저장되어 있지 않은 경우에만 수행되는 반도체 메모리 시스템의 제조 방법.The step of copying the system code stored in the first nonvolatile memory into the second nonvolatile memory is performed only when the system code is not stored in the second nonvolatile memory. 제 1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드가 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제되었음을 나타내는 복제 플래그를 갱신하는 단계를 더 포함하는 반도체 메모리 시스템의 제조 방법.And updating the replication flag indicating that the system code stored in the first nonvolatile memory has been copied to the second nonvolatile memory. 제 5 항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 복제 플래그가 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드가 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제되었음을 나타내는 경우, 상기 제 1 불휘발성 메모리에 저장된 상기 시스템 코드가 상기 제 2 불휘발성 메모리에 복제되는 단계는 생략되는 반도체 메모리 시스템의 제조 방법. Volatile memory, and when the replication flag indicates that the system code stored in the first nonvolatile memory has been copied to the second nonvolatile memory, the system code stored in the first nonvolatile memory is copied to the second nonvolatile memory Is omitted. 삭제delete 반도체 메모리 시스템; 및Semiconductor memory system; And 상기 반도체 메모리 시스템을 제어하도록 구성된 메모리 컨트롤러를 포함하며,And a memory controller configured to control the semiconductor memory system, 상기 반도체 메모리 시스템은 상기 청구항 1에 기재된 방법으로 제조되는 메모리 카드.The semiconductor memory system is manufactured by the method according to claim 1. 반도체 메모리 시스템; 및Semiconductor memory system; And 상기 반도체 메모리 시스템을 제어하도록 구성된 메모리 컨트롤러를 포함하며,And a memory controller configured to control the semiconductor memory system, 상기 반도체 메모리 시스템은 상기 청구항 1에 기재된 방법으로 제조되는 솔리드 스테이트 드라이브.The semiconductor memory system is manufactured by the method according to claim 1.
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