KR101414229B1 - Directly patterned touch panel on window lens and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 정전용량 방식 터치패널에 있어서, 투명한 재질의 윈도우렌즈; 윈도우렌즈의 하부에 배치되는 투명한 고굴절률층; 고굴절률층의 하부에 배치되는 투명한 제1 도전성 전극패턴; 고굴절률층 및 제1 도전성 전극패턴의 하부에 제1 도전성 전극패턴과 교차 되도록 배치되는 투명한 제2 도전성 전극패턴; 및 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴이 교차하는 지점에서 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴 사이에 배치되는 투명한 절연층; 윈도우렌즈의 하부 테두리부분에 제1 도전성 전극패턴 또는 제2 도전성 전극패턴에 연결되는 도전성 회로 배선;을 포함한다.
따라서, 윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 두께가 얇은 터치패널을 제공할 수 있고, 윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 생산 공정을 간소화함으로써, 생산 수율을 높이고 생산 원가를 절감할 수 있다.
또한, 윈도우렌즈 윈도우 영역에서 투명전극 등의 패턴이 사용자에게 구별되는 현상을 최소화할 수 있으며, 터치패널의 광 투과율을 높여 디스플레이의 시인성을 높일 수 있다.According to the present invention, there is provided an electrostatic capacitive touch panel, comprising: a transparent window lens; A transparent high refractive index layer disposed under the window lens; A transparent first conductive electrode pattern disposed under the high refractive index layer; A transparent second conductive electrode pattern disposed under the high refractive index layer and the first conductive electrode pattern so as to intersect with the first conductive electrode pattern; And a transparent insulating layer disposed between the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern at a position where the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern intersect with each other; And a conductive circuit wiring connected to the first conductive electrode pattern or the second conductive electrode pattern on a lower edge portion of the window lens.
Therefore, it is possible to provide a touch panel with a thin thickness by directly forming a touch circuit on the back surface of the window lens, and by directly forming a touch circuit on the back surface of the window lens, the production process can be simplified, .
In addition, it is possible to minimize a phenomenon in which a transparent electrode or the like is distinguished from a user in a window lens window region, and the visibility of the display can be increased by increasing the light transmittance of the touch panel.

Description

윈도우렌즈 일체형 터치패널 및 그 제조방법{DIRECTLY PATTERNED TOUCH PANEL ON WINDOW LENS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the touch panel.

본 발명은 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 관한 것이다. 보다 구체적으로 설명하면 윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 두께가 얇은 윈도우렌즈 일체형 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a window lens-integrated touch panel. More specifically, the present invention relates to a touch panel with a window lens integrated type in which a touch circuit is directly formed on the back surface of a window lens, and a manufacturing method thereof.

휴대폰, 디지털 카메라, 태블릿 PC와 같은 휴대용 전자장치에 입력 장치로 터치패널이 많이 사용된다. 터치패널에는 저항막 방식과 정전용량방식 등이 알려져 있다. 정전용량방식의 터치패널은 내구성이 우수하며 멀티 터치 기능을 보유하고 있어서 최근 휴대폰 등에 널리 적용되고 있다. 현재 디스플레이 시장에서는 더욱 얇고 큰 터치패널에 대한 수요가 확대되고 있으며, 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 개발은 매우 중요한 이슈가 되었다.
Touch panels are widely used as input devices for portable electronic devices such as mobile phones, digital cameras, and tablet PCs. Resistive touch panels and capacitive touch panels are known. The capacitive touch panel has excellent durability and has multi-touch function and is widely applied to mobile phones and the like recently. In the display market, the demand for thinner and larger touch panels is expanding, and the development of touch panels with window lenses has become a very important issue.

도 1은 종래의 정전용량방식의 터치패널의 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 종래의 정전용량방식의 터치패널의 다른 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.FIG. 1 is a view schematically showing an embodiment of a conventional capacitive touch panel, and FIG. 2 is a view schematically showing another embodiment of a conventional capacitive touch panel.

도 1에 도시된 종래의 정전용량방식의 터치패널은 PET(Polyethylene Terephthalate) 필름에 증착된 인듐주석산화물(ITO) 등의 도전성막을 이용하여 제작한다. The conventional capacitive touch panel shown in FIG. 1 is manufactured using a conductive film such as indium tin oxide (ITO) deposited on a PET (polyethylene terephthalate) film.

구체적으로 윈도우렌즈(100)의 배면 테두리에 장식층(110)이 형성되며, 인듐주석산화물(ITO) 등의 투명한 도전성막이 코팅된 PET 필름(140)의 도전성막을 식각하여 터치동작을 감지하는 도전성 전극패턴(150)을 각각 형성하고, 도전성 전극패턴(150)이 형성된 PET필름 외곽에 실버페이스트로 스크린인쇄하거나 금속을 증착하고 식각하여 도전성 회로 배선(bus-line, 170)을 형성시키되 각 도전성 회로 배선(170)의 한쪽 끝은 각각의 도전성 전극패턴(150)들과 연결되도록 한다. 상기 윈도우렌즈(100)와 도전성 전극패턴(150)이 형성된 PET 필름(140), 회로보호용 hard coating막이 코팅된 PET필름(160)이 OCA(Optically Clear Adhesive, 120)로 접착하게 된다. 그리고 상기 도전성 전극패턴(150)과 한쪽 끝이 연결된 도전성 회로 배선(170)들의 다른 쪽 끝부분이 FPCB(Flexible printed circuit board180)와 연결되어 신호를 전달한다.Specifically, the decorative layer 110 is formed on the rear edge of the window lens 100, and the conductive film of the PET film 140 coated with the transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO) Electrode patterns 150 are formed on the conductive pattern 150. The conductive pattern 150 is formed on the outer surface of the PET film by screen printing with silver paste or metal deposition and etching to form a conductive circuit wiring line 170, One end of the wiring 170 is connected to each of the conductive electrode patterns 150. The PET film 140 on which the window lens 100 and the conductive electrode pattern 150 are formed and the PET film 160 on which the hard coating film for circuit protection is coated are bonded with OCA (Optically Clear Adhesive 120). The other end of the conductive circuit wiring 170 connected to the conductive electrode pattern 150 is connected to a flexible printed circuit board (FPCB) 180 to transmit a signal.

또한, 도 2에 도시된 종래의 정전용량방식의 터치패널은 애플사의 아이폰(iPhone)처럼 유리기판에 ITO를 증착하고 패터닝하여 제작한다.In addition, the conventional capacitive touch panel shown in FIG. 2 is manufactured by depositing ITO on a glass substrate and patterning it like an Apple iPhone.

구체적으로 윈도우렌즈(100)의 배면 테두리에 장식층(110)이 형성되며, 유리기판(130)의 양면에 도전성 전극패턴(150)을 각각 형성하고, 상기 윈도우렌즈(100)와 유리기판(130) 사이는 OCA(120)로 접착하게 된다. 그리고 상기 도전성 전극패턴(150)에는 도전성 회로 배선(bus-line, 170)이 연결되고, 상기 도전성 회로 배선(bus-line, 170)에는 FPCB(Flexible printed circuit board, 180)가 연결되어 신호를 전달한다.
Specifically, the decorative layer 110 is formed on the rear edge of the window lens 100, conductive electrode patterns 150 are formed on both sides of the glass substrate 130, and the window lens 100 and the glass substrate 130 Are adhered to each other by the OCA 120. A conductive circuit wiring (bus-line) 170 is connected to the conductive electrode pattern 150. A flexible printed circuit board (FPCB) 180 is connected to the conductive circuit wiring 170 to transmit a signal do.

통상적으로, 터치패널의 전면은 표시장치로 출력되는 화상이 보이는 투명한 윈도우 영역과 상기 윈도우 영역을 둘러싼 장식영역으로 구분된다. 윈도우 영역은 터치 입력을 받아들이는 부분이다. 장식영역은 휴대폰 메이커의 상표나 로고를 인쇄하는 위치가 되면서, 동시에 터치회로 가장자리의 불투명한 도전성 회로 배선을 은폐하는 기능을 한다.
Typically, the front surface of the touch panel is divided into a transparent window area in which an image output to the display device is visible and a decorative area surrounding the window area. The window area is the part that accepts touch input. The decorative area serves as a position for printing the trademark or logo of the mobile phone maker and at the same time functions to hide the opaque conductive circuit wiring of the touch circuit edge.

이러한 터치패널 제조 방식은 그 제조 설비 투자비가 저렴한 대신 공정의 단계가 길고, 제조 과정에서 이물이 유입되거나 기포가 남아있는 등의 문제점이 있었다. 패널의 크기가 클수록 이러한 문제는 더 심각해지고, 불량률 상승으로 인한 급격한 수율의 감소와 터치패널 가격의 상승으로 이어진다. 이러한 문제점을 해결하기위해 윈도우렌즈에 직접 투명한 도전성 전극패턴을 형성시키는 윈도우렌즈 일체형 터치패널을 개발하려고 시도하고 있다.Such a manufacturing method of the touch panel has a problem that the manufacturing cost is low, but the process steps are long and foreign matter is introduced or bubbles remain in the manufacturing process. The larger the panel size, the worse the problem becomes, the lower the yield due to the higher defect rate, and the higher the touch panel price. In order to solve such a problem, an attempt is made to develop a window-lens integrated type touch panel in which a transparent conductive electrode pattern is formed directly on a window lens.

또한, 윈도우렌즈는 주로 투명한 PC(Polycarbonate) 등의 플라스틱이나 강화유리를 사용하는데, 이러한 재질 위에 투명 도전막이나 절연체 등을 코팅하는 과정 또는 기타 고온처리를 요하는 공정을 거치게 되면, 강화유리의 강화가 풀리게 되거나 플라스틱의 형상이 변형 또는 손상을 입게 되는 문제점이 있다. 따라서 윈도우렌즈 일체형 터치패널을 제조하기위해 윈도우렌즈 위에 도막을 코팅하거나 기타 모든 공정을 저온에서 진행한다. 이 경우 투과율이 높은 윈도우렌즈 위에 직접 형성된 ITO 등 투명 도전막은 자체의 투과율이 상대적으로 낮고 굴절률이 높아 패턴이 감추어지지 않고 잘 식별되어 외관불량이 발생하게 되는 문제점이 있다.The window lens is mainly made of transparent plastic such as PC (Polycarbonate) or tempered glass. When a transparent conductive film or an insulator is coated on such a material or a process requiring other high temperature treatment is performed, Or the shape of the plastic is deformed or damaged. Therefore, in order to manufacture a touch panel with a window lens, a coating film is coated on a window lens or all other processes are performed at a low temperature. In this case, the transparent conductive film such as ITO formed directly on the window lens having high transmittance has a problem that the transmittance of the transparent conductive film is relatively low and the refractive index is high, so that the pattern is not hidden and the appearance is badly recognized.

또한, X축 패턴과 Y축 패턴의 전기적 절연을 위해 패터닝(Patterning)된 절연층을 사용하는 경우 절연층의 패턴식별 또한 문제가 되고 있다. 그리고 산화규소(SiO2)를 이용한 절연층의 경우 500nm이상의 두께가 되어야 절연성이 확보되는데, 저온에서 형성된 500nm이상의 산화규소(SiO2)는 투과율이 매우 낮아 그 부분이 도드라져 보이게 되는 문제점이 있다.
In addition, when a patterned insulating layer is used for electrical insulation between the X-axis pattern and the Y-axis pattern, pattern identification of the insulating layer is also problematic. And there is the case of the insulating layer using silicon oxide (SiO 2) should be a thickness of at least 500nm insulation is ensured, there is more than 500nm silicon oxide is formed at low temperature (SiO 2) it has a problem that look becomes a very low permeability stands out that part.

대한민국 등록특허 제10-0997048호는 '일체형 터치 윈도우 및 그 제조 방법'에 관하여 개시하고, 등록번호 제10-1029490호는 윈도우패널 일체형 정전용량방식 터치센서 및 그 제조방법에 관하여 개시하고 있다. 등록특허 제10-0997048호와 제10-1029490호는 종래의 터치패널보다 슬림하고 터치감도가 우수한 터치패널을 제공하나, 상술한 문제점을 해결하지는 못하였다.Korean Patent No. 10-0997048 discloses an 'integrated touch window and method of manufacturing the same', and the registration number 10-1029490 discloses a window panel integrated capacitance touch sensor and a method of manufacturing the same. Patent No. 10-0997048 and No. 10-1029490 provide a touch panel that is slimmer than conventional touch panels and has excellent touch sensitivity, but fails to solve the above-mentioned problems.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 다음과 같은 과제의 해결을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a touch panel integrated with a window lens, which aims to solve the following problems.

첫째, 윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 두께가 얇은 터치패널을 제공하고자 한다.First, a touch panel is directly formed on the back surface of a window lens to provide a thin touch panel.

둘째, 윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 생산 공정을 간소화함으로써, 생산 수율을 높이고 생산 원가를 절감하고자 한다.Second, the touch process is directly formed on the back surface of the window lens to simplify the production process, thereby increasing the production yield and reducing the production cost.

셋째, 윈도우렌즈 윈도우 영역에서 투명전극 등의 패턴이 사용자에게 구별되는 현상을 최소화하고자 한다.Third, it is aimed to minimize the distinction of the pattern of the transparent electrode and the like in the window lens window region to the user.

넷째, 터치패널의 광 투과율을 높여 디스플레이의 시인성을 높이고자 한다.Fourth, the visibility of the display is increased by increasing the light transmittance of the touch panel.

다섯째, 브릿지패턴이 우선 형성되도록 하여 터치패널의 제조가 용이하게 이루어지도록 한다.Fifth, the bridge pattern is formed first so that the touch panel can be easily manufactured.

본 발명의 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to those mentioned above, and other solutions not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 정전용량 방식 터치패널에 있어서, 투명한 재질의 윈도우렌즈; 윈도우렌즈의 하부에 배치되는 투명한 고굴절률층; 고굴절률층의 하부에 배치되는 투명한 제1 도전성 전극패턴; 고굴절률층 및 제1 도전성 전극패턴의 하부에 제1 도전성 전극패턴과 교차 되도록 배치되는 투명한 제2 도전성 전극패턴; 및 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴이 교차하는 지점에서 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴 사이에 배치되는 투명한 절연층; 윈도우렌즈의 하부 테두리부분에 제1 도전성 전극패턴 또는 제2 도전성 전극패턴에 연결되는 도전성 회로 배선;을 포함하는 것이 바람직하다.
According to the present invention, there is provided an electrostatic capacitive touch panel, comprising: a transparent window lens; A transparent high refractive index layer disposed under the window lens; A transparent first conductive electrode pattern disposed under the high refractive index layer; A transparent second conductive electrode pattern disposed under the high refractive index layer and the first conductive electrode pattern so as to intersect with the first conductive electrode pattern; And a transparent insulating layer disposed between the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern at a position where the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern intersect with each other; And a conductive circuit wiring connected to the first conductive electrode pattern or the second conductive electrode pattern on a lower edge portion of the window lens.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 고굴절률층, 제1 도전성 전극패턴, 절연층 및 제2 도전성 전극패턴의 하부에 배치되는 투명한 코팅층;을 더 포함하는 것이 바람직하다.The touch panel according to the present invention may further comprise a transparent coating layer disposed under the high refractive index layer, the first conductive electrode pattern, the insulating layer, and the second conductive electrode pattern.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 고굴절률층의 하부에 배치되는 투명한 저굴절률층;을 더 포함하는 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, it is preferable that the touch panel further includes a transparent low refractive index layer disposed under the high refractive index layer.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 저굴절률층, 제1 도전성 전극패턴, 절연층 및 제2 도전성 전극패턴의 하부에 배치되는 투명한 코팅층;을 더 포함하는 것이 바람직하다.The touch panel of the present invention may further comprise a transparent coating layer disposed under the low refractive index layer, the first conductive electrode pattern, the insulating layer, and the second conductive electrode pattern.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 고굴절률층의 굴절률은 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 큰 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, it is preferable that the refractive index of the high refractive index layer is larger than the refractive index of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴이 인듐주석산화물(ITO)로 형성되는 경우 고굴절률층은 굴절률이 2.0 초과이고, 두께가 0.1㎛ 이하의 절연체인 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, when the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide (ITO), the high refractive index layer has a refractive index of more than 2.0, It is preferable that it is an insulator.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 절연층의 굴절률은 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 작은 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, it is preferable that the refractive index of the insulating layer is smaller than the refractive indexes of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴이 인듐주석산화물(ITO)로 형성되는 경우 절연층은 굴절률이 2.0 이하의 절연체인 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, when the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide (ITO), the insulating layer is preferably an insulator having a refractive index of 2.0 or less.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 저굴절률층의 굴절률은 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 작은 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, it is preferable that the refractive index of the low refractive index layer is smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴이 인듐주석산화물(ITO)로 형성되는 경우 저굴절률층은 굴절률이 2.0 미만이고, 두께가 0.1㎛ 이하의 절연체인 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, when the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide (ITO), the low refractive index layer has a refractive index of less than 2.0, It is preferable that it is an insulator.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 코팅층의 굴절률은 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 작은 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, it is preferable that the refractive index of the coating layer is smaller than the refractive indexes of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴이 인듐주석산화물(ITO)로 형성되는 경우 코팅층은 굴절률이 2.0 이하의 절연체인 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, when the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide (ITO), the coating layer is preferably an insulator having a refractive index of 2.0 or less.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에 있어서, 윈도우렌즈의 테두리부분에 장식층이 배치되는 것이 바람직하다.In the window lens integrated type touch panel according to the present invention, it is preferable that a decorative layer is disposed at a rim portion of the window lens.

또한, 본 발명의 바람직한 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조방법에 의하면, 상기 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴이 교차하는 지점에서 상기 제1 도전성 전극패턴의 일부인 브릿지패턴을 형성하는 브릿지패턴 형성단계; 상기 브릿지패턴 하부에 상기 절연층을 형성하는 절연층 형성단계; 및 상기 브릿지패턴 이외의 상기 제1 도전성 전극패턴 부분과 상기 제2 도전성 전극패턴을 형성하는 전극 형성단계;를 포함한다.According to the method of manufacturing a touch panel with a window lens integrated type according to the present invention, a bridge pattern is formed to form a bridge pattern that is a part of the first conductive electrode pattern at a point where the first conductive electrode pattern intersects with the second conductive electrode pattern step; Forming an insulating layer on the bottom of the bridge pattern; And an electrode forming step of forming the first conductive electrode pattern part and the second conductive electrode pattern other than the bridge pattern.

여기서, 상기 브릿지패턴 형성단계에서, 상기 브릿지패턴은 포토리소그래피(photolithography)에 의해 식각하여 형성된다.Here, in the bridge pattern formation step, the bridge pattern is formed by etching by photolithography.

그리고 상기 절연층 형성단계에서, 상기 절연층은 고분자 절연체 또는 유전체를 코팅하거나 증착하여 패터닝하여 형성된다.In the insulating layer forming step, the insulating layer is formed by coating or vapor-depositing a polymer insulator or a dielectric.

또한, 상기 전극 형성단계에서, 상기 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴은 포토리소그래피(photolithography)에 의해 식각하여 형성된다.Further, in the electrode forming step, the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed by etching by photolithography.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 다음과 같은 효과를 기대할 수 있다.The following effects can be expected with the window lens integrated type touch panel according to the present invention.

윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 두께가 얇은 터치패널을 제공할 수 있다.It is possible to provide a touch panel with a thin thickness by directly forming a touch circuit on the back surface of a window lens.

그리고 윈도우렌즈 배면에 터치회로를 직접 형성하여 생산 공정을 간소화함으로써, 생산 수율을 높이고 생산 원가를 절감할 수 있다.In addition, by directly forming a touch circuit on the back surface of the window lens, the production process can be simplified, thereby increasing the production yield and reducing the production cost.

또한, 윈도우렌즈 윈도우 영역에서 투명전극 등의 패턴이 사용자에게 구별되는 현상을 최소화할 수 있으며, 터치패널의 광 투과율을 높여 디스플레이의 시인성을 높일 수 있다.In addition, it is possible to minimize a phenomenon in which a transparent electrode or the like is distinguished from a user in a window lens window region, and the visibility of the display can be increased by increasing the light transmittance of the touch panel.

또한, 브릿지패턴을 우선 형성함으로써, 절연층과 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 형성이 용이하게 이루어질 수 있고, 전체적인 제조 공정이 간소화될 수 있다.In addition, by first forming the bridge pattern, the insulating layer, the first conductive electrode pattern, and the second conductive electrode pattern can be easily formed, and the entire manufacturing process can be simplified.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 종래의 정전용량방식의 터치패널의 일 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 정전용량방식의 터치패널의 다른 실시예를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 개략적인 단면도이다.
도 4 와 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 개략적인 단면도이다.
도 6은 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 패턴을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예로서 앞의 도면보다 좀더 구체적인 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 개략적인 도면으로 (a)는 평면도, (b)는 (a)에서 A-B 절단의 단면도, (c)는 (a)에서 C-D 절단의 단면도이다.
도 8은 본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조 공정 중 주요 공정의 순서를 나타난 공정도이다.
도 9(a) 내지 도 9(d)는 도 8에 따라, 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조과정을 나타낸 도면이다.1 is a view schematically showing an embodiment of a conventional capacitive touch panel.
2 is a view schematically showing another embodiment of a conventional capacitive touch panel.
3 is a schematic cross-sectional view of a window-lens-integrated touch panel according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are schematic cross-sectional views of a window lens-integrated touch panel according to another embodiment of the present invention.
6 is a plan view schematically showing a pattern of a window lens-integrated touch panel.
(A) is a plan view, (b) is a sectional view of the AB cut in (a), and (c) is a cross- (a) is a cross-sectional view of a CD cut.
FIG. 8 is a process diagram showing the main steps of the manufacturing process of the window lens integrated type touch panel according to the present invention.
FIGS. 9A to 9D are views illustrating a manufacturing process of a window-lens-integrated touch panel according to FIG.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a touch panel according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 정전용량 방식 터치패널에 있어서, 투명한 재질의 윈도우렌즈(300); 상기 윈도우렌즈(300)의 하부에 배치되는 투명한 고굴절률층(410); 상기 고굴절률층(410)의 하부에 배치되는 투명한 제1 도전성 전극패턴(430); 상기 고굴절률층(410)의 하부에 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 교차 되도록 배치되는 투명한 제2 도전성 전극패턴(450); 및 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 교차하는 지점에서 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450) 사이에 배치되는 투명한 절연층(440);을 포함한다. The touch panel of the present invention comprises a window lens (300) of transparent material; A transparent high refractive index layer 410 disposed under the window lens 300; A transparent first conductive electrode pattern 430 disposed under the high refractive index layer 410; A transparent second conductive electrode pattern 450 disposed under the high refractive index layer 410 so as to intersect with the first conductive electrode pattern 430; And a transparent insulating layer (not shown) disposed between the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 at a position where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 cross each other 440).

또한, 상기 고굴절률층(410), 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 하부에 배치되는 투명한 코팅층(460);을 더 포함할 수 있다.The transparent conductive layer 450 may further include a transparent coating layer 460 disposed under the high refractive index layer 410, the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440, and the second conductive electrode pattern 450 .

또한, 상기 고굴절률층(410)의 하부에 배치되는 투명한 저굴절률층(420);을 더 포함할 수 있다.Further, a transparent low refractive index layer 420 disposed under the high refractive index layer 410 may be further included.

또한, 상기 저굴절률층(420), 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 하부에 배치되는 투명한 코팅층(460);을 더 포함할 수 있다.The transparent conductive layer 450 may further include a transparent coating layer 460 disposed under the low refractive index layer 420, the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440, and the second conductive electrode pattern 450 .

또한, 상기 윈도우렌즈(300)의 테두리부분에 장식층(480)이 배치될 수 있다.In addition, the decorative layer 480 may be disposed at a rim portion of the window lens 300.

또한, 상기 윈도우렌즈(300)의 테두리부분에 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 또는 제2 도전성 전극패턴(450)에 연결되는 도전성 회로 배선(470)이 배치될 수 있다.A conductive circuit wiring 470 connected to the first conductive electrode pattern 430 or the second conductive electrode pattern 450 may be disposed at an edge of the window lens 300.

상기 도전성 회로 배선(470)은 상기 장식층(480)이 있는 경우 장식층(480)의 아래쪽에 배치될 수 있다.
The conductive circuit wiring 470 may be disposed below the decorative layer 480 when the decorative layer 480 is present.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 개략적인 단면도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 윈도우렌즈(300)의 하부에 터치회로(400)가 직접 형성되고, 상기 터치회로(400)의 하부에는 LCD 등의 표시장치(미도시)가 위치한다.3 is a schematic cross-sectional view of a window-lens-integrated touch panel according to an embodiment of the present invention. 3, a touch panel 400 is directly formed on a lower portion of the window lens 300, and a display device such as an LCD is mounted on the lower portion of the touch circuit 400, (Not shown).

상기 터치회로(400)는 위쪽에서 아래쪽으로 고굴절률층(410), 저굴절률층(420), 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440), 제2 도전성 전극패턴(450) 및 코팅층(460) 이 형성되며, 상기 윈도우렌즈(300)의 테두리부분에서 상기 윈도우렌즈(300) 아래쪽에 장식층(480)이 형성되고,된다. 상기 장식층(480)은 도 3의 실시예처럼 윈도우렌즈(300)와 고굴절률층(410)사이에 형성될 수도 있으며, 도 4의 실시예처럼 고굴절률층(410) 아래에, 또는 도 5의 실시예처럼 저굴절률층(420) 아래에 형성될 수 있다. 상기 장식층(480)의 아래쪽에는 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 또는 제2 도전성 전극패턴(450)에 연결되는 도전성 회로 배선(470)이 형성된다.
The touch circuit 400 includes a high refractive index layer 410, a low refractive index layer 420, a first conductive electrode pattern 430, an insulating layer 440, a second conductive electrode pattern 450, And a decorative layer 480 is formed under the window lens 300 at the rim of the window lens 300. The decorative layer 480 may be formed between the window lens 300 and the high refractive index layer 410 as in the embodiment of FIG. 3 or may be formed under the high refractive index layer 410 as in the embodiment of FIG. 4, Refractive index layer 420 as in the embodiment of FIG. A conductive circuit wiring 470 connected to the first conductive electrode pattern 430 or the second conductive electrode pattern 450 is formed below the decorative layer 480.

구체적으로, 상기 윈도우렌즈(300)는 투명 아크릴 등의 투명 플라스틱 또는 강화유리 재질로 디스플레이 화면이 있는 휴대폰, 테블릿 PC 등 IT기기의 디스플레이 화면 보호창이다.Specifically, the window lens 300 is a display screen protection window of an IT device such as a mobile phone or a tablet PC having a display screen made of transparent plastic such as transparent acrylic or a reinforced glass material.

그리고 상기 윈도우렌즈(300)의 중앙부는 투명한 윈도우 영역에 해당하고, 상기 윈도우 영역을 둘러싸는 가장자리(테두리)는 비도전성 물질로 코팅된 불투명한 장식영역(장식층 부분)에 해당한다.
A central portion of the window lens 300 corresponds to a transparent window region, and an edge (rim) surrounding the window region corresponds to an opaque decorative region (decorative layer portion) coated with a non-conductive material.

상기 고굴절률층(410)의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 굴절률보다 크다.The refractive index of the high refractive index layer 410 is greater than the refractive index of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450.

상기 고굴절률층(410)은 굴절률 2.0 이상(빛의 파장 550), 두께 0.1㎛ 이하의 투명한 절연체로 주로 진공증착 방식으로 코팅하며, 상기 절연체는 Nb2O5(굴절률 2.3) 또는 TiO2(굴절률 2.3)를 사용해 두께 20nm로 진공증착할 수 있다.The high refractive index layer 410 is a transparent insulator having a refractive index of 2.0 or more (light wavelength 550) and a thickness of 0.1 占 퐉 or less and is mainly coated by a vacuum deposition method. The insulator is Nb 2 O 5 (refractive index: 2.3) or TiO 2 2.3) to a thickness of 20 nm.

그리고 상기 고굴절률층(410)은 상기 터치회로(400)의 중간에서 상기 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 형성하고 있는 패턴의 식별을 어렵게 한다.
The high refractive index layer 410 may be used to identify the pattern formed by the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440 and the second conductive electrode pattern 450 in the middle of the touch circuit 400 It is difficult.

상기 저굴절률층(420)의 굴절율은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 굴절률보다 작다.The refractive index of the low refractive index layer 420 is smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450.

상기 저굴절률층(420)은 굴절률 2.0 이하(빛의 파장 550), 두께 0.1㎛ 이하의 투명한 절연체로 주로 진공증착 방식으로 코팅하며, 상기 절연체는 SiO2(굴절률 1.46, 두께 50nm) 또는 MgF2(굴절률 1.38, 두께 55nm)를 사용해 진공증착할 수 있다.The low refractive index layer 420 is a transparent insulator having a refractive index of 2.0 or less (light wavelength 550) and a thickness of 0.1 占 퐉 or less and is mainly coated by a vacuum deposition method. The insulator is SiO 2 (refractive index: 1.46, thickness: 50 nm) or MgF 2 Refractive index 1.38, thickness: 55 nm).

그리고 상기 저굴절률층(420)은 상기 고굴절률층(410)과 마찬가지로 상기 터치회로(400)의 중간에서 상기 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 형성하고 있는 패턴의 식별을 어렵게 하고 광투과율을 증가시킨다.The low refractive index layer 420 may be formed of the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440 and the second conductive electrode pattern 450 in the middle of the touch circuit 400, like the high refractive index layer 410 ) Is difficult to identify and the light transmittance is increased.

또한, 상기 저굴절률층(420)의 굴절률과 두께는 상기 고굴절률층(410)의 굴절률과 두께에 따라 달라지며, 상기 저굴절률층(420)을 생략할 수도 있다.
The refractive index and thickness of the low refractive index layer 420 depend on the refractive index and thickness of the high refractive index layer 410, and the low refractive index layer 420 may be omitted.

상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)은 ITO, 탄소 나노튜브(Carbon nanotube, CNT), Metal nano-wire, 전도성 폴리머 등 투명한 전도성 물질을 진공증착 또는 코팅하고 Photo-lithography 방식으로 식각하여 형성하거나, 직접 패턴을 인쇄하여 형성한다.The first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 may be formed by vacuum deposition or coating of a transparent conductive material such as ITO, a carbon nanotube (CNT), a metal nano-wire, lithography, or by printing a direct pattern.

도 6은 도 3 내지 5에 도시된 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 패턴을 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도 6에는 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 수직으로 교차하도록 배열된 것으로 나타나 있으나, 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 패터닝(Patterning)되는 모양은 직선형, 다이아몬드형, 육각형 등 다양한 형상이 가능하다. 도 7은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 다이아몬드형의 형상인 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 개략도를 나타낸다. 여기서, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)의 방향(X축 방향과 Y축 방향)은 서로 반대로 형성될 수 있다.6 is a plan view schematically showing a pattern of the window lens-integrated touch panel shown in Figs. 3 to 5. Fig. 6, the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 are arranged so as to be perpendicular to each other. However, the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 The patterns to be patterned can be various shapes such as linear, diamond, and hexagonal. 7 is a schematic view of a window-lens-integrated touch panel in which the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 have a diamond-like shape. Here, the directions of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 (X-axis direction and Y-axis direction) may be reversed.

그리고 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)에는 도전성 회로 배선(470)이 연결되고, 상기 도전성 회로 배선(470)은 다시 FPCB(미도시) 등과 연결하여 터치스크린 컨트롤러(미도시)와 연결되도록 한다.A conductive circuit wiring 470 is connected to the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450. The conductive circuit wiring 470 is connected to an FPCB (not shown) (Not shown).

따라서 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)은 터치 위치에 대한 X좌표와 Y좌표를 분리하여 감지할 수 있다. 즉, 도 6에 도시된 것과 같이, 제2 도전성 전극패턴(450)(도 7에서는 제1 도전성 전극패턴(430))은 X축 방향(가로 방향)으로 윈도우 영역을 구획하도록 배열되어 터치 위치에 대한 Y좌표를 감지할 수 있다. 그리고 도 6의 제1 도전성 전극패턴(430)(도 7에서는 제2 도전성 전극패턴(450))은 Y축 방향(세로 방향)으로 윈도우 영역을 구획하도록 배열되어 터치 위치에 대한 X좌표를 감지할 수 있다.Accordingly, the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 can detect the X coordinate and the Y coordinate of the touch position separately. 6, the second conductive electrode pattern 450 (the first conductive electrode pattern 430 in FIG. 7) is arranged to partition the window region in the X-axis direction (horizontal direction) It is possible to detect the Y coordinate. The first conductive electrode pattern 430 of FIG. 6 (the second conductive electrode pattern 450 in FIG. 7) is arranged to partition the window region in the Y-axis direction (vertical direction) to detect the X- .

또한, 터치패널 제조시 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)은 함께 같은 평면상에서 한 개의 층으로 코팅 또는 증착되고 패터닝되며, 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 교차하는 부분의 패턴중 어느 한쪽부분만 따로 형성시키다. (도 7(b)와 도 7(c) 참조)In manufacturing the touch panel, the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 are coated or deposited on the same plane as one layer and patterned. Only one of the patterns at the intersection of the second conductive electrode patterns 450 is formed separately. (See Figs. 7 (b) and 7 (c)

여기서, 본 발명의 일 실시예는 상기 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 순으로 설명하였으나, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)의 위치는 상호 바뀔 수 있음은 자명하다. (도 3과 도 7(b) 참조)
Although the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440 and the second conductive electrode pattern 450 have been described in the order of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450, 2 conductive electrode patterns 450 may be mutually changed. (See Figs. 3 and 7 (b)).

상기 절연층(440)은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 중첩되는 부분의 절연을 목적으로 투명한 고분자 절연체나 유전체를 코팅 또는 증착하고 패터닝한다.The insulating layer 440 is formed by coating or depositing a transparent polymer insulator or a dielectric material for the purpose of insulating a portion where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 overlap.

상기 절연층(440)의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 굴절률보다 작은 것이 바람직하며, 상기 절연층(440)은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 중첩되는 부분에만 형성되는 것이 바람직하다.
The refractive index of the insulating layer 440 may be smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450. The insulating layer 440 may be formed on the first conductive electrode pattern 430 And the second conductive electrode pattern 450 are overlapped with each other.

상기 코팅층(460)은 상기 고굴절률층(410), 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 하부에 배치되며, 상기 저굴절층(420)이 포함되는 경우에는 상기 저굴절률층(420), 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 하부에 배치될 수 있다.The coating layer 460 is disposed under the high refractive index layer 410, the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440 and the second conductive electrode pattern 450, and the low refractive index layer 420, The insulating layer 440 and the second conductive electrode pattern 450 may be disposed under the low refractive index layer 420, the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440, and the second conductive electrode pattern 450.

상기 코팅층(440)의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 굴절률보다 작은 것이 바람직하다. 상기 코팅층(460)은 굴절률 2.0 이하(빛의 파장 550)의 투명한 절연체로 코팅 또는 진공 증착하여 형성하며, 상기 절연체는 SiO2 또는 MgF2를 사용해 두께 100nm로 진공증착할 수 있다.The refractive index of the coating layer 440 may be smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450. The coating layer 460 is formed by coating or vacuum depositing a transparent insulator having a refractive index of 2.0 or less (light wavelength 550), and the insulator can be vacuum deposited to a thickness of 100 nm using SiO 2 or MgF 2 .

상기 코팅층(460)은 상기 고굴절률층(410) 및 저굴절률층(420)과 조합하여 상기 터치회로(400)의 중간에서 상기 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 형성하고 있는 패턴의 식별을 어렵게 하고, 터치패널 전체의 투과율을 높일 수 있다.The coating layer 460 is formed in the middle of the touch circuit 400 in combination with the high refractive index layer 410 and the low refractive index layer 420 so that the first conductive electrode pattern 430, It is possible to make it difficult to identify the pattern formed by the conductive electrode pattern 450 and to increase the transmittance of the entire touch panel.

그리고 상기 코팅층(460) 코팅 전 투과율이 89%인 터치패널에 SiO2(굴절률 1.46) 또는 MgF2(굴절률 1.38)를 진공증착하면 투과율이 94%로 상승한다.When the SiO 2 (refractive index: 1.46) or MgF 2 (refractive index: 1.38) is vacuum deposited on the touch panel having a transmittance of 89% before coating of the coating layer 460, the transmittance increases to 94%.

또한, 상기 코팅층(460) 형성 후, 제1 도전성 전극패턴(430)이 있는 영역, 제2 도전성 전극패턴(450)이 있는 영역, 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 둘 다 없는 영역 및 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 중첩되는 영역(즉, 절연층이 있는 영역) 상호 간의 반사율 차이(△R)가 상기 코팅층(460) 형성 전보다 줄어든다. After the formation of the coating layer 460, a region where the first conductive electrode pattern 430 is present, a region where the second conductive electrode pattern 450 is present, a region where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 The difference in reflectance? R between the region where both the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 are overlapped and the region where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 overlap each other (i.e., (460).

즉 상기 고굴절률층(410), 저굴절률층(420) 및 코팅층(460)을 모두 포함하는 경우, 각 영역 상호간 △R이 0.5% 이하 범위 안에 분포, 투과율은 약 94%이다.That is, when both the high refractive index layer 410, the low refractive index layer 420 and the coating layer 460 are included, the interrelation? R is distributed within a range of 0.5% or less and the transmittance is about 94%.

그리고 상기 고굴절률층(410), 저굴절률층(420) 및 코팅층(460)을 모두 포함하지 않는 경우, △R이 2% 이상의 범위 안에 분포하고 투과율은 약 87%이다.When all of the high refractive index layer 410, the low refractive index layer 420 and the coating layer 460 are not included,? R is distributed in a range of 2% or more and the transmittance is about 87%.

그리고 상기 고굴절률층(410) 및 저굴절률층(420)은 포함하고 상기 코팅층(460)을 포함하지 않는 경우, △R이 1% 범위 안에 분포하고 투과율은 약 89%이다.
When the high refractive index layer 410 and the low refractive index layer 420 are included and the coating layer 460 is not included,? R is distributed in the range of 1% and the transmittance is about 89%.

상기 장식층(480)은 윈도우렌즈(300)의 하부 외곽쪽에 빛샘방지와 LCD 등의 표시장치 외곽부분을 가리기 위한 것으로, 비전도성 잉크를 스크린인쇄하거나 또는 패터닝 가능한 비전도성 잉크를 코팅하고 패터닝하여 형성하며, 때로는 비전도성 물질을 진공증착하고 패터닝하는 방식으로 형성시키기도 한다. The decorative layer 480 is formed to prevent light leakage on the lower outer side of the window lens 300 and to cover an outer portion of a display device such as an LCD. The decorative layer 480 may be formed by screen printing or coating a nonconductive ink, And sometimes a non-conductive material is formed by vacuum deposition and patterning.

상기 장식층(480)이 이루는 장식영역에 휴대폰 등의 스피커 홀(hole) 또는 로고 등이 형성되거나 카메라 렌즈 등이 부착되기도 한다. A speaker hole, a logo, or the like of a cellular phone is formed in the decorative area formed by the decorative layer 480, or a camera lens is attached thereto.

상기 장식층(480)에는 터치동작 감지용 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)과 FPCB를 연결하는 도전성 회로 배선이 형성될 수 있다.
The decorative layer 480 may be formed with a conductive circuit wiring connecting the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 to the FPCB.

여기서, 상기 고굴절률층(410), 저굴절률층(420) 및 코팅층(460)의 굴절률을 결정함에 있어서 기준 굴절률을 2.0으로 선정한 이유는 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)을 형성하는 투명전극 물질 중 터치패널에 가장 많이 쓰이는 대표적인 물질인 ITO의 굴절률이 약 2.0이기 때문이다.The refractive index of the high refractive index layer 410, the low refractive index layer 420 and the coating layer 460 is determined to be 2.0 because the refractive index of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 460 The ITO has a refractive index of about 2.0, which is a typical material most commonly used in a touch panel.

그리고 반사율(△R) 차이가 작을수록 윈도우렌즈(300)의 윈도우 영역(W)에서 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 형성하고 있는 패턴의 식별이 어려워진다(굴절률 정합, index matching).
As the difference in reflectance? R becomes smaller, the pattern formed by the first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440, and the second conductive electrode pattern 450 in the window region W of the window lens 300 (Refractive index matching, index matching).

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널은 윈도우렌즈(300) 배면에 터치회로(400)를 직접 형성하여 두께가 얇은 터치패널을 제조할 수 있다.As described above, the touch panel with integrated window lens according to the present invention can directly form the touch circuit 400 on the back surface of the window lens 300, thereby manufacturing a thin touch panel.

그리고 윈도우렌즈(300) 배면에 터치회로(400)를 직접 형성하여 생산 공정을 간소화함으로써, 생산 수율을 높이고 생산 원가를 절감할 수 있다.In addition, the touch circuit 400 is directly formed on the back surface of the window lens 300 to simplify the production process, thereby increasing the production yield and reducing the production cost.

또한, 고굴절률층(410), 저굴절률층(420) 및 코팅층(460)을 포함함으로써, 윈도우렌즈(300)의 윈도우 영역에서 제1 도전성 전극패턴(430), 절연층(440) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 형성하고 있는 패턴이 사용자에게 식별되는 현상을 최소화할 수 있으며, 터치패널의 광 투과율을 높여 디스플레이의 시인성을 높일 수 있다.
The first conductive electrode pattern 430, the insulating layer 440, and the second window electrode 440 are formed in the window region of the window lens 300 by including the high refractive index layer 410, the low refractive index layer 420, and the coating layer 460. [ The phenomenon that the pattern formed by the conductive electrode pattern 450 is identified by the user can be minimized and the light transmittance of the touch panel can be increased to improve the visibility of the display.

도 8에는 본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조 공정 중 주요 공정의 순서를 나타난 공정도가 나타나며, 도 9(a) 내지 도 9(d)는 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조과정을 도시한다. 도 9(a) 내지 도 9(d)에는 제조공정에 따라 터치패널의 저면도와 단면도가 각각 도시된다.FIG. 8 is a flow chart showing the main steps in the manufacturing process of the window lens integrated type touch panel according to the present invention, and FIGS. 9 (a) to 9 (d) show a manufacturing process of the window lens integrated type touch panel. 9 (a) to 9 (d) show the bottom surface and cross-sectional view of the touch panel according to the manufacturing process, respectively.

본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조방법은, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 교차하는 지점에서 상기 제1 도전성 전극패턴(430)의 일부인 브릿지패턴(431)을 형성하는 브릿지패턴 형성단계; 상기 브릿지패턴(431) 하부에 상기 절연층(440)을 형성하는 절연층(440) 형성단계; 및 상기 브릿지패턴(431) 이외의 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 부분과 상기 제2 도전성 전극패턴(450)을 형성하는 전극 형성단계;를 포함한다.The manufacturing method of a windowpane-integrated touch panel according to the present invention is characterized in that at a point where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 cross each other, (431); Forming an insulating layer (440) below the bridge pattern (431) to form the insulating layer (440); And an electrode forming step of forming a portion of the first conductive electrode pattern 430 other than the bridge pattern 431 and the second conductive electrode pattern 450.

상기 브릿지패턴 형성단계 이전에, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 윈도우렌즈(300) 하부에는 상기 고굴절률층(410)이 먼저 형성됨은 물론이며, 본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널에서 상기 저굴절률층(420)이 포함되는 경우에는 상기 고굴절률층(410) 하측에서 상기 저굴절률층(420) 또한 먼저 형성되게 된다.9, the high refractive index layer 410 may be formed on the lower portion of the window lens 300 before the bridge pattern forming step. In the window lens integrated touch panel of the present invention, When the refractive index layer 420 is included, the low refractive index layer 420 is also formed first under the high refractive index layer 410.

이하에서는, 상기 브릿지패턴 형성단계, 절연층(440) 형성단계 및 전극 형성단계에 대하여 설명한다.
Hereinafter, the bridge pattern forming step, the insulating layer forming step 440, and the electrode forming step will be described.

상기 브릿지패턴 형성단계(S100)는, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 상기 제2 도전성 전극패턴(450)이 교차하는 영역에서, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)의 일부인 상기 브릿지패턴(431)을 형성하는 단계이다.The bridge pattern forming step S100 may include forming a bridge pattern that is a part of the first conductive electrode pattern 430 in a region where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 cross each other, 431).

도 9(a)에 도시된 바와 같이, 상기 브릿지패턴(431)은 다수개로 형성되어 패턴을 이루게 되며, 상기 고굴절률층(410)의 아래쪽에 형성되고, 도 9(a)에 도시된 바와 같이 상기 저굴절률층(420)을 포함하는 경우에는 상기 저굴절률층(420) 아래쪽에 형성된다.9 (a), the bridge pattern 431 is formed in a plurality of patterns to form a pattern. The bridge pattern 431 is formed under the high refractive index layer 410, and as shown in FIG. 9 (a) And is formed under the low refractive index layer 420 when the low refractive index layer 420 is included.

상기 브릿지패턴(431)은 포토리소그래피(photolithography)에 의해 식각하여 형성되는데, ITO, 탄소 나노튜브, Metal nano-wire, 전도성 폴리머 등 투명한 전도성 물질을 상기 저굴절률층(420) 아래쪽 전체 면적에 진공증착 또는 코팅하여 포토리소그래피 방식으로 식각(에칭)하여 패턴을 형성한다. The bridge pattern 431 is formed by etching by photolithography. A transparent conductive material such as ITO, carbon nanotube, metal nano-wire, or conductive polymer is vacuum deposited on the entire area under the low refractive index layer 420 Or coated and then etched (etched) by a photolithography method to form a pattern.

상기 브릿지패턴(431)은 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 중첩되는 면적보다 약간 크게 형성될 수 있다.(S100)
The bridge pattern 431 may be formed to be slightly larger than the overlapping area of the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450. In operation S100,

도 9(b)에는 브릿지패턴(431) 하측에 절연층(440)이 형성된 형태가 도시되어 있다.9 (b) shows a state in which the insulating layer 440 is formed below the bridge pattern 431. In FIG.

상기 절연층 형성단계(S200)는 상기 브릿지패턴(431) 하부에 상기 절연층(440)을 형성하는 단계이며, 상기 제1도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴(450) 사이에 전기적인 연결을 차단하도록 한다.The insulating layer forming step S200 is a step of forming the insulating layer 440 under the bridge pattern 431 and electrically connecting the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern 450 .

상기 절연층 형성단계는 고분자 절연체 또는 유전체를 상기 저굴절률층(420) 아래쪽 전체 면적(상기 제1브릿지패턴 아래)에 코팅 또는 증착한 후 상기 절연층(440)을 이루는 패턴만이 남도록 에칭하여 형성하거나, 고분자 절연체 등을 스크린프린터 또는 잉크젯 등으로 패턴부분만 인쇄하는 방법으로 형성한다.The insulating layer may be formed by coating or vapor-depositing a polymer insulator or a dielectric material on the entire area under the low refractive index layer 420 (under the first bridge pattern), and then etching only the pattern constituting the insulating layer 440 A polymer insulator or the like is formed by a method of printing only a pattern portion with a screen printer, an inkjet or the like.

상기 절연층(440)은 상기 브릿지패턴(431) 아래쪽에서 상기 제2 도전성 전극패턴(450)이 교차하는 폭보다 약간 크게 형성되어 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)이 절연될 수 있도록 한다.(S200)
The insulating layer 440 is formed to be slightly larger than the width of the second conductive electrode pattern 450 below the bridge pattern 431 so that the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 To be insulated (S200).

도 9(c)에는 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 형성된 형태가 도시되어 있다.9 (c) shows the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 formed.

상기 전극 형성단계(S300)는 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)을 완성하는 단계이며, 포토리소그래피(photolithography)에 의해 식각하여 형성되는데, 상기 브릿지패턴(431)과 동일한 전도성 물질을 상기 저굴절률층(420) 아래쪽 전체 면적(상기 브릿지패턴(431) 및 절연층(440) 아래)에 진공증착 또는 코팅하여 포토리소그래피 방식으로 식각(에칭)하여 형성한다. The electrode forming step S300 is a step of completing the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 and is formed by photolithography to etch the bridge pattern 431, (Under the bridge pattern 431 and the insulating layer 440) by vacuum deposition or coating on the entire lower surface of the low refractive index layer 420 and etching (etching) the same by a photolithography method.

이때, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 교차하는 영역에서는, 상기 브릿지패턴(431) 및 절연층(440)이 이미 형성되어 있으므로, 상기 제1 도전성 전극패턴(430)과 제2 도전성 전극패턴(450)이 구분되는 영역만을 애칭하는 방법으로 상기 제1 도전성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)을 완성할 수 있으며, 양자의 절연 또는 패턴의 구분을 위하여 별도의 작업이 필요없게 된다.(S300)
At this time, since the bridge pattern 431 and the insulating layer 440 are already formed in the region where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 intersect, The first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 may be completed by etching only the region where the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 are separated, It is not necessary to perform a separate operation for separating the image data (S300)

도 9(d)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 도선성 전극패턴(430) 및 제2 도전성 전극패턴(450)의 형성이 완료된 후, 상기 도전성 회로 배선(470), 코팅층(460) 등을 형성하여 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조를 완료한다.
9D, after the first conductive electrode pattern 430 and the second conductive electrode pattern 450 are formed, the conductive circuit wiring 470, the coating layer 460, Thereby completing the manufacture of the window lens integrated type touch panel.

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널을 실시하기 위한 일부 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be applied to a touch panel of a window-lens integrated type according to the present invention, It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

100 : 윈도우렌즈 110 : 장식층
120 : OCA 130 : 유리기판
140 : (도전성막이 코팅된) PET 필름 150 : 도전성 전극패턴
160 : (도전성 전극패턴 보호용) PET 필름 170 : 도전성 회로 배선
180 : FPCB
300 : 윈도우렌즈 400 : 터치회로
410 : 고굴절률층 420 : 저굴절률층
430 : 제1 도전성 전극패턴 431 : 브릿지패턴
440 : 절연층
450 : 제2 도전성 전극패턴 460 : 코팅층
470 : 도전성 회로 배선 480 : 장식층100: window lens 110: decorative layer
120: OCA 130: glass substrate
140: a PET film (coated with a conductive film) 150: a conductive electrode pattern
160: (for protecting conductive electrode pattern) PET film 170: conductive circuit wiring
180: FPCB
300: window lens 400: touch circuit
410: high refractive index layer 420: low refractive index layer
430: first conductive electrode pattern 431: bridge pattern
440: Insulation layer
450: second conductive electrode pattern 460: coating layer
470: conductive circuit wiring 480: decorative layer

Claims (17)

정전용량 방식 터치패널에 있어서,
투명한 재질의 윈도우렌즈;
상기 윈도우렌즈의 하부에 배치되는 투명한 고굴절률층;
상기 고굴절률층의 하부에 배치되는 투명한 제1 도전성 전극패턴;
상기 고굴절률층 및 제1 도전성 전극패턴의 하부에 상기 제1 도전성 전극패턴과 교차 되도록 배치되는 투명한 제2 도전성 전극패턴;
상기 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴이 교차하는 지점에서 상기 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴 사이에 배치되는 투명한 절연층; 및
상기 윈도우렌즈의 하부 테두리부분에 상기 제1 도전성 전극패턴 또는 상기 제2 도전성 전극패턴에 연결되는 도전성 회로 배선;을 포함하고,
상기 고굴절률층, 제1 도전성 전극패턴, 절연층 및 제2 도전성 전극패턴의 하부에 배치되는 투명한 코팅층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
In a capacitive touch panel,
Window lens of transparent material;
A transparent high refractive index layer disposed under the window lens;
A transparent first conductive electrode pattern disposed under the high refractive index layer;
A transparent second conductive electrode pattern disposed under the high refractive index layer and the first conductive electrode pattern so as to intersect the first conductive electrode pattern;
A transparent insulating layer disposed between the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern at a position where the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern intersect; And
And a conductive circuit wiring connected to the first conductive electrode pattern or the second conductive electrode pattern on a lower edge portion of the window lens,
And a transparent coating layer disposed under the high refractive index layer, the first conductive electrode pattern, the insulating layer, and the second conductive electrode pattern.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 고굴절률층의 하부에 배치되는 투명한 저굴절률층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
The method according to claim 1,
And a transparent low refractive index layer disposed under the high refractive index layer.
제3항에 있어서,
상기 저굴절률층, 제1 도전성 전극패턴, 절연층 및 제2 도전성 전극패턴의 하부에 배치되는 투명한 코팅층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
The method of claim 3,
And a transparent coating layer disposed under the low refractive index layer, the first conductive electrode pattern, the insulating layer, and the second conductive electrode pattern.
제1항에 있어서,
상기 고굴절률층의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 큰 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
The method according to claim 1,
Wherein the refractive index of the high refractive index layer is greater than the refractive index of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.
제5항에 있어서,
상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴은 인듐주석산화물로 형성된 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
6. The method of claim 5,
Wherein the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide.
제4항에 있어서,
상기 절연층의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 작은 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
5. The method of claim 4,
Wherein the refractive index of the insulating layer is smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.
제4항에 있어서,
상기 저굴절률층의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 작은 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
5. The method of claim 4,
Wherein the refractive index of the low refractive index layer is smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.
제8항에 있어서,
상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴은 인듐주석산화물로 형성된 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
9. The method of claim 8,
Wherein the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide.
제1항 또는 제4항에 있어서,
상기 코팅층의 굴절률은 상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴의 굴절률보다 작은 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
The method according to claim 1 or 4,
Wherein the refractive index of the coating layer is smaller than the refractive index of the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern.
제10항에 있어서,
상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴은 인듐주석산화물로 형성된 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
11. The method of claim 10,
Wherein the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide.
제7항에 있어서,
상기 제1 도전성 전극패턴 및 제2 도전성 전극패턴은 인듐주석산화물로 형성된 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
8. The method of claim 7,
Wherein the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed of indium tin oxide.
제1항에 있어서,
상기 윈도우렌즈의 테두리부분에 장식층이 배치되는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널.
The method according to claim 1,
Wherein a decorative layer is disposed on a rim portion of the window lens.
제1항, 제3항, 제4항 중 어느 한 항에 따른 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조방법에 있어서,
상기 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴이 교차하는 지점에서 상기 제1 도전성 전극패턴의 일부인 브릿지패턴을 형성하는 브릿지패턴 형성단계;
상기 브릿지패턴 하부에 상기 절연층을 형성하는 절연층 형성단계; 및
상기 브릿지패턴 이외의 상기 제1 도전성 전극패턴 부분과 상기 제2 도전성 전극패턴을 형성하는 전극 형성단계;를 포함하고,
상기 브릿지패턴 형성단계에서,
상기 브릿지패턴은 포토리소그래피(photolithography)에 의해 식각하여 형성되는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조방법.
The method of manufacturing a touch panel with a window lens according to any one of claims 1, 3, and 4,
A bridge pattern forming step of forming a bridge pattern that is a part of the first conductive electrode pattern at a point where the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern intersect;
Forming an insulating layer on the bottom of the bridge pattern; And
And forming the first conductive electrode pattern portion and the second conductive electrode pattern other than the bridge pattern,
In the bridge pattern formation step,
Wherein the bridge pattern is formed by etching by photolithography. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
삭제delete 제14항에 있어서,
상기 절연층 형성단계에서,
상기 절연층은 고분자 절연체 또는 유전체를 코팅하거나 증착하여 패터닝하여 형성되는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조방법.
15. The method of claim 14,
In the insulating layer forming step,
Wherein the insulating layer is formed by coating or depositing a polymer insulator or a dielectric material and patterning the same.
제16항에 있어서,
상기 전극 형성단계에서,
상기 제1 도전성 전극패턴과 제2 도전성 전극패턴은 포토리소그래피(photolithography)에 의해 식각하여 형성되는 것을 특징으로 하는 윈도우렌즈 일체형 터치패널의 제조방법.17. The method of claim 16,
In the electrode forming step,
Wherein the first conductive electrode pattern and the second conductive electrode pattern are formed by etching by photolithography.
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