KR101412507B1 - Supplier of Gas Phase Organometal Compound - Google Patents

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KR101412507B1
KR101412507B1 KR1020130013366A KR20130013366A KR101412507B1 KR 101412507 B1 KR101412507 B1 KR 101412507B1 KR 1020130013366 A KR1020130013366 A KR 1020130013366A KR 20130013366 A KR20130013366 A KR 20130013366A KR 101412507 B1 KR101412507 B1 KR 101412507B1
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carrier gas
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organometallic compound
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김진권
김진동
임진묵
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공주대학교 산학협력단
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Abstract

The present invention relates to a device to supply organometallic compound gas. More specifically, the present invention includes: a case having an inner receiving space; a raw material container located in the inner receiving space of the case, receives a solid-phase organometallic compound, and has creases; a carrier gas supply line which supplies carrier gas to the raw material container; and a carrier gas discharge line which discharges gas containing organometallic compound generated in the raw material container.

Description

유기금속화합물 가스 공급 장치{Supplier of Gas Phase Organometal Compound}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 유기금속화합물 가스 공급 장치에 관한 것으로, 상세하게, 고상의 유기금속화합물에 캐리어 가스를 불어넣어, 장기간 안정적이며 신뢰성 있게 유기금속화합물 가스를 생성할 수 있는 유기금속화합물 가스 공급 장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organometallic compound gas supply apparatus, and more particularly, to an organometallic compound gas supply apparatus capable of producing a stable and reliable organometallic compound gas for a long period of time by blowing a carrier gas into a solid organometallic compound will be.

유기금속 화합물은 양산성 및 제어성이 우수한 유기금속 기상 성장법(MOCVD법) 및 화합물 반도체의 에피택셜 성장과 같은 다양한 분야에 원료로 사용되고 있다. Organometallic compounds are used as raw materials in various fields such as metal organic vapor phase epitaxy (MOCVD) and epitaxial growth of compound semiconductors, which are excellent in mass productivity and controllability.

이러한 기상의 유기금속 화합물을 공급하는 유기금속 화합물 공급 장치는 유기금속화합물이 충전되는 충전 용기를 구비하고, 유기금속 화합물이 담긴 충전 용기로 캐리어 가스를 공급하여 승화된 유기금속 화합물을 함유하는 캐리어 가스를 생성하여 기상 성장 장치 등 외부 장치에 공급한다. 즉 유기금속 화합물은 충전 용기에 충전하고, 그것에 캐리어 가스를 흘림으로써, 캐리어 가스와 접촉한 유기금속 화합물이 캐리어 가스 중에 증기로서 도입되고, 캐리어 가스에 동반하여 충전 용기 밖으로 꺼내어져 외부 장치에 공급된다.An apparatus for supplying an organometallic compound which supplies such a gaseous organometallic compound is provided with a filling container filled with an organometallic compound, and a carrier gas is supplied to a filling container containing the organometallic compound to form a carrier gas And supplies it to an external apparatus such as a vapor growth apparatus. That is, the organometallic compound is filled in a filling container, and a carrier gas is flowed into the filling container. The organometallic compound in contact with the carrier gas is introduced into the carrier gas as a vapor, is taken out of the filling container together with the carrier gas, .

유기금속 화합물 공급 장치의 충전 용기로는 통상적으로 스테인리스제로 원통형인 것이 사용되고, 열효율, 유기금속 화합물의 캐리어 가스 중의 농도의 제어성, 사용률 등을 향상시키기 위해서 대한민국 공개특허 제2007-0089785호와 같이 충전 용기의 캐리어 가스가 흐르는 유로 구조등을 변형시키는 연구가 이루진 바 있다. 또한 충전 용기로는 생산성 향상의 관점에서 보다 대형의 충전 용기가 사용되고 있다.As a charging container of the organometallic compound supply device, a stainless steel cylindrical type is generally used. In order to improve the thermal efficiency, the controllability of the concentration of the organometallic compound in the carrier gas, the utilization rate, etc., A structure in which a carrier gas of a container flows, and the like have been studied. In addition, as a charging container, a larger charging container is used from the viewpoint of productivity improvement.

그러나, 고상의 유기금속화합물을 용기에 충전한 후, 캐리어 가스를 불어 넣는 경우, 캐리어 가스의 유입구와 인접한 영역에서는 유기금속화합물의 승화(고상 유기금속화합물의 소모)가 우선적으로 이루어지고, 특정 영역에서 지속적으로 유기금속화합물의 승화가 보다 활발히 일어나는 경우, 캐리어 가스가 용이하게 흐르는 유로가 형성되게 된다. However, when the solid organometallic compound is charged into the container and then the carrier gas is blown, the sublimation (consumption of the solid organometallic compound) of the organic metal compound is preferentially performed in the region adjacent to the inlet of the carrier gas, When the sublimation of the organometallic compound occurs more actively, a flow path through which the carrier gas flows easily is formed.

그러한 유로가 형성되면, 캐리어 가스가 용기 내 충진된 유기금속화합물에 균질하게 흐르지 못하고, 유기금속화합물과의 접촉 면적 또한 떨어져, 배출되는 캐리어 가스 내의 유기금속화합물 농도가 사용 시간에 따라 변화하며 감소하게 된다.  When such a flow path is formed, the carrier gas does not uniformly flow to the filled organic metal compound in the container, the contact area with the organic metal compound is also reduced, and the concentration of the organic metal compound in the discharged carrier gas changes do.

이렇게 유기금속화합물의 농도 제어가 안정적으로 이루어지지 않게 되면, 비록 다량의 유기금속화합물이 용기에 잔류한다 하더라도, 용기가 교체될 수 밖에 없는 한계가 있다.
If the concentration control of the organometallic compound is not stably performed, even if a large amount of the organometallic compound remains in the container, there is a limit in which the container can not be replaced.

대한민국 공개특허 제2007-0089785호Korean Patent Publication No. 2007-0089785

본 발명의 목적은 고상의 유기금속화합물에 캐리어 가스를 공급하여, 유기금속화합물 가스를 함유하는 혼합 가스를 생성하는 장치에 있어, 유기금속화합물 가스의 농도가 장기간 안정적으로 유지되며, 원료로 사용되는 고상의 유기금속화합물의 사용률을 향상시킬 수 있는 유기금속 화합물 가스 공급 장치를 제공하는데 있다.
It is an object of the present invention to provide an apparatus for producing a mixed gas containing an organometallic compound gas by supplying a carrier gas to a solid organometallic compound in which the concentration of the organometallic compound gas is stably maintained for a long period of time, And it is an object of the present invention to provide an apparatus for supplying an organometallic compound gas capable of improving the utilization ratio of solid organometallic compounds.

본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 내부 수용 공간을 갖는 케이스; 상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기; 상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관, 상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;을 포함한다.An apparatus for supplying an organometallic compound gas according to the present invention comprises: a case having an internal accommodation space; A raw material container having a wrinkle, which is located in an inner accommodation space of the case and accommodates a solid organometallic compound; A carrier gas supply pipe for supplying the carrier gas to the raw material container, and a carrier gas discharge pipe for discharging the organic metal compound-containing gas generated in the raw material container.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 상기 케이스와 상기 원료용기 사이 공간인 열매체공간이 더 구비되고, 상기 열매체공간에는 상기 원료용기의 온도를 조절하는 열전달매체가 수용되며, 상기 열전달매체를 상기 열매체공간에 각각 공급 및 배출하는 열매체 공급관 및 열매체 배출관을 더 포함할 수 있다.The apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention further includes a heating medium space which is a space between the case and the raw material container, a heat transfer medium for controlling the temperature of the raw material container is accommodated in the heating medium space, And a heat medium supply pipe and a heat medium discharge pipe for supplying and discharging the heat transfer medium to and from the heat medium space, respectively.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료용기는 공급되는 상기 캐리어 가스에 의해 상기 주름이 펼쳐짐으로써 팽창되고, 상기 캐리어 가스가 공급되지 않을 때 상기 주름이 접힘으로써 수축될 수 있다.In the apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention, the raw material container is inflated by expanding the wrinkles by the supplied carrier gas, and when the carrier gas is not supplied, .

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 주름은 상기 원료 용기의 하부에서 상부로의 높이 방향을 따라 형성될 수 있다.In the apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention, the wrinkles may be formed along the height direction from the lower part to the upper part of the raw material container.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료 용기는 일 단이 상기 캐리어 가스 공급관과 연결되고, 다른 일 단이 상기 캐리어 가스 배출관과 연결된 밀폐형 주름관일 수 있다.In the apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention, the raw material container may be a sealed corrugated pipe having one end connected to the carrier gas supply pipe and the other end connected to the carrier gas discharge pipe.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 캐리어 가스 배출관은 주름관일 수 있다. In the organometallic compound gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention, the carrier gas discharge pipe may be a corrugated pipe.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 캐리어 가스 및 열전달매체의 각각의 공급여부 및 공급 유속을 제어하는 제어부를 더 포함하며, 상기 제어부는 상기 캐리어 가스의 공급이 중단될 때, 상기 열매체공간의 압력이 상기 원료용기 내부 압력보다 높도록 제어할 수 있다.The apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention further includes a control unit for controlling whether or not each of the carrier gas and the heat transfer medium is supplied and the supply flow rate, It is possible to control the pressure of the heating medium space to be higher than the pressure inside the raw material container.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료 용기는 금속 또는 고분자일 수 있다.
In the apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention, the raw material container may be a metal or a polymer.

본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 원료용기 내 수용된 고상의 유기금속화합물에, 캐리어 가스가 상대적으로 흐르기 쉬운 유로가 형성되는 것을 원천적으로 방지하여, 일정한 농도의 유기금속화합물을 가스상으로 제공할 수 있으며, 원료용기 내 잔존하는 고상의 유기금속화합물의 사용률을 향상시킬 수 있으며, 엄밀한 공정 제어가 불필요하고, 신뢰성 있게 유기금속화합물의 가스상을 공급함에 따라 생산성을 향상시킬 수 있다.
The apparatus for supplying an organometallic compound gas according to the present invention can prevent a flow path in which a carrier gas flows relatively to a solid phase organometallic compound accommodated in a raw material container from a source to thereby provide an organometallic compound with a constant concentration in a gaseous phase And the utilization rate of the solid phase organic metal compound remaining in the raw material container can be improved. Therefore, it is possible to improve the productivity as the gaseous phase of the organometallic compound is reliably supplied without strict process control.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치의 일 구성도를 도시한 것이며,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급장치에 있어, 내부 수용 공간에 위치하는 원료용기만을 도시한 도면이며,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치의 다른 일 구성도를 도시한 것이다.
<부호의 상세한 설명>
100 : 케이스 1: 유기금속화합물
200 : 원료용기 211 : 주름
300 :캐리어 가스 공급관 400 : 캐리어 가스 배출관
210 : 주름부 220 : 제1주름부
230 : 제2주름부 I : 가스 유입구
O : 가스 배출구 2 : 열전달매체
510 : 열매체 공급관 520 : 열매체 배출관
600 : 제어부
1 is a block diagram of an organometallic compound gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a view showing only a raw material container disposed in an internal accommodation space in the organometallic compound gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention,
3 shows another configuration of the gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
Detailed Description of the Invention [
100: Case 1: Organometallic compound
200: Raw material container 211: Crease
300: Carrier gas supply pipe 400: Carrier gas discharge pipe
210: wrinkle portion 220: first wrinkle portion
230: 2nd corrugation part I: gas inlet
O: gas outlet 2: heat transfer medium
510: heat medium supply pipe 520: heat medium discharge pipe
600:

이하 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 유기금속화합물 가스 공급 장치는을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있으며, 이하 제시되는 도면들은 본 발명의 사상을 명확히 하기 위해 과장되어 도시될 수 있다. 이때, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. The following drawings are provided by way of example so that those skilled in the art can fully understand the spirit of the present invention. Therefore, the present invention is not limited to the following drawings, but may be embodied in other forms, and the following drawings may be exaggerated in order to clarify the spirit of the present invention. Hereinafter, the technical and scientific terms used herein will be understood by those skilled in the art without departing from the scope of the present invention. Descriptions of known functions and configurations that may be unnecessarily blurred are omitted.

본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 내부 수용 공간을 갖는 케이스; 상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기; 상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관, 상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;을 포함한다.An apparatus for supplying an organometallic compound gas according to the present invention comprises: a case having an internal accommodation space; A raw material container having a wrinkle, which is located in an inner accommodation space of the case and accommodates a solid organometallic compound; A carrier gas supply pipe for supplying the carrier gas to the raw material container, and a carrier gas discharge pipe for discharging the organic metal compound-containing gas generated in the raw material container.

본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 물질의 합성 및/또는 전자소자, 광소자등을 포함한 디바이스의 제조시, 기상의 전구체(유기금속화합물)를 공급하는 전구체 가스 공급 장치일 수 있다. 구체적인 일 예로, 상기 캐리어 가스 배출관은 통상의 화학 증착(CVD) 장비, 플라즈마 도움 화학 증착(PECVD) 장비 또는 원자층 증착(ALD) 장비와 연결되어, 장비에 전구체 물질을 제공할 수 있다. The organometallic compound gas supplying apparatus according to the present invention may be a precursor gas supplying apparatus for supplying a precursor (organic metal compound) in a gaseous phase in the synthesis of a substance and / or in the manufacture of a device including an electronic device, an optical device and the like. As a specific example, the carrier gas discharge pipe may be connected to conventional chemical vapor deposition (CVD) equipment, plasma assisted chemical vapor deposition (PECVD) equipment, or atomic layer deposition (ALD) equipment to provide precursor materials to the equipment.

물질의 합성 및/또는 디바이스의 제조시, 유기금속화합물의 전구체를 기상상태로, 제어된 농도로 장시간동안 안정적으로 공급할 필요가 있다. 이때, 트리메틸인듐(trimethly indum; TMI)과 같은 상온에서 고상을 갖는 유기금속화합물의 경우, 고상의 유기금속화합물을 용기에 충진하고, 충진된 용기에 캐리어 가스를 불어넣어, 유기금속화합물을 함유하는 가스를 형성하는 방법을 사용여 전구체 가스를 생성할 수 있다. 그러나, 고상의 유기금속화합물이 충진된 용기에 캐리어 가스를 유입시키는 경우, 캐리어 가스와 직접 접촉하는 부분의 유기금속화합물이 다른 부분의 유기금속 화합물보다 우선적으로 소비, 즉 캐리어 가스 중에 도입된다. 고상의 유기금속 화합물은 유동성이 매우 떨어지기 때문에, 이러한 부분적 우선 소비가 일단 시작되면, 계속하여 그 부분의 소비가 촉진되어 캐리어 가스가 흐르기 쉬운 유로가 형성될 수 있다. 그러한 유로가 형성되면, 캐리어 가스와 유기금속 화합물의 접촉 면적이 저하되고, 충전 용기로부터 도출되는 캐리어 가스 중의 유기금속 화합물 농도가 서서히 저하되고 증기압 또한 떨어진다. 그 결과 전구체(유기금속 화합물)의 농도가 안정적으로 유지되지 않아 다량의 소비되지 않은 고체 유기금속 화합물이 잔류하고 있음에도 유기금속화합물이 충진된 용기는 사용을 중지할 수 밖에 없다.It is necessary to stably supply the precursor of the organometallic compound in a gaseous state at a controlled concentration for a long period of time in the synthesis of the material and / or the production of the device. At this time, in the case of an organometallic compound having a solid phase at normal temperature such as trimethly indium (TMI), a solid organometallic compound is filled in a container, a carrier gas is blown into the filled container, The precursor gas can be produced using the method of forming the gas. However, when a carrier gas is introduced into a container filled with a solid organometallic compound, the organometallic compound in a portion in direct contact with the carrier gas is preferentially consumed, that is, introduced into the carrier gas, over the other portion of the organometallic compound. Since the solid organometallic compound has a very low fluidity, once this partial preferential consumption is started, the consumption of the portion is continuously promoted, so that a flow path through which the carrier gas flows can be formed. When such a flow path is formed, the contact area between the carrier gas and the organometallic compound decreases, the concentration of the organic metal compound in the carrier gas derived from the filling container gradually decreases, and the vapor pressure also drops. As a result, although the concentration of the precursor (organometallic compound) is not stably maintained and a large amount of solid organic metal compound not consumed remains, the container filled with the organometallic compound can not be used.

본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 원료용기 내 수용된 고상의 유기금속화합물에, 캐리어 가스가 상대적으로 흐르기 쉬운 유로가 형성되는 것을 원천적으로 방지하여, 일정한 농도의 유기금속화합물을 가스상으로 제공할 수 있으며, 원료용기 내 잔존하는 고상의 유기금속화합물의 사용률을 향상시킬 수 있으며, 엄밀한 공정 제어가 필요없고 신뢰성 있게 유기금속화합물의 가스상을 공급함에 따라 생산성을 향상시킬 수 있다.The apparatus for supplying an organometallic compound gas according to the present invention can prevent a flow path in which a carrier gas flows relatively to a solid phase organometallic compound accommodated in a raw material container to prevent the flow of the organometallic compound in a gas phase The utilization rate of the solid phase organic metal compound remaining in the raw material vessel can be improved and the productivity can be improved by supplying the gaseous phase of the organometallic compound reliably without the need of strict process control.

상세하게, 본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 고상의 유기금속화합물이 충진되는 원료용기에 주름이 형성되어 있어, 상기 캐리어 가스에 의해 상기 주름이 펼쳐짐으로써 팽창되고, 상기 캐리어 가스가 공급되지 않을 때 상기 주름이 접힘으로써 수축될 수 있다. 즉, 캐리어 가스의 공급시 주름의 펼쳐짐 및 캐리어 가스 공급 중단시 주름의 접힘에 의해 원료용기 자체에 물리적 변형이 발생할 수 있다. 이러한 물리적 변형은 원료용기 내에 수용된 고상의 유기금속화합물에 물리적 충격을 야기할 수 있다. In detail, in the apparatus for supplying an organometallic compound gas according to the present invention, wrinkles are formed in a raw material container filled with a solid organometallic compound, the wrinkles are expanded by the carrier gas, The wrinkles can be contracted by folding. That is, physical deformation may occur in the raw material container itself due to expansion of the wrinkles at the time of supply of the carrier gas and folding of the wrinkles at the time of stopping supply of the carrier gas. Such physical deformation may cause physical impact on the solid organometallic compound contained in the raw material container.

보다 상세하게, 본 발명에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치는 케이스 내부 수용 공간에 고상의 유기금속화합물이 수용되는 원료용기가 위치하되, 원료용기에 주름이 형성되어 있어, 상기 캐리어 가스의 공급 및 중단에 의해 원료용기가 팽창 및 수축되어, 원료용기에 수용된 고상의 유기금속화합물에 지속적으로 물리적 충격을 가할 수 있다. More specifically, the apparatus for supplying an organometallic compound gas according to the present invention is characterized in that a raw material container in which a solid organometallic compound is contained is placed in a case receiving space, and a wrinkle is formed in the raw material container, The raw material container is inflated and contracted, and a physical impact can be continuously applied to the solid organometallic compound contained in the raw material container.

원료용기의 물리적 변형에 의해 야기되는 물리적 충격은 고상의 유기금속화합물을 물리적으로 유동되게 하여, 캐리어 가스가 우선적으로 흐르는 기공 채널의 형성을 원천적으로 방지하게 된다.The physical impact caused by the physical deformation of the material vessel causes the solid phase organometallic compound to physically flow, thereby preventing the formation of pore channels through which the carrier gas preferentially flows.

이때, 상술한 고상의 유기금속화합물은 물질 합성 또는 디바이스 제조를 위한 전구체로 사용될 수 있는 유기금속화합물 중, 고상의 유기금속화합물이라면 어떠한 물질이든 사용 가능하다. 비 한정적인 일 예로, 유기금속 화합물로는 인듐 화합물, 아연 화합물, 알루미늄 화합물, 갈륨 화합물 또는 마그네슘 화합물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 인듐 화합물로는 트리메틸인듐, 디메틸클로로인듐, 시클로펜타디에닐인듐, 트리메틸인듐·트리메틸아르신 부가물, 트리메틸인듐·트리메틸포스핀 부가물 등을 들 수 있으며, 아연 화합물은 에틸아연 요오다이드, 에틸시클로펜타디에닐아연, 시클로펜타디에닐아연 등을 들 수 있으며, 알루미늄 화합물은 메틸디클로로알루미늄등을 들 수 있으며, 갈륨 화합물은 메틸디클로로갈륨, 디메틸클로로갈륨, 디메틸브로모갈륨 등을 들 수 있으며, 마그네슘 화합물로는 비스시클로펜타디에닐마그네슘 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않음은 물론이다. At this time, among the organometallic compounds that can be used as precursors for material synthesis or device manufacture, the solid-state organometallic compounds can be any solid organometallic compound. As a non-limiting example, the organometallic compound may include an indium compound, a zinc compound, an aluminum compound, a gallium compound, or a magnesium compound. Specifically, examples of the indium compound include trimethyl indium, dimethyl chloro indium, cyclopentadienyl indium, trimethyl indium trimethyl arsine adduct, trimethyl indium trimethyl phosphine adduct, etc. The zinc compound is ethyl zinc yoda Ethylcyclopentadienyl zinc, cyclopentadienyl zinc, and the like. Examples of the aluminum compound include methyldichloroaluminum and the gallium compound may include methyldichlorogallium, dimethylchlorogallium, dimethylbromogallium, and the like. And as the magnesium compound, biscyclopentadienyl magnesium and the like can be mentioned, but it is not limited thereto.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치의 일 구성도를 도시한 것으로, 내부 수용 공간을 갖는 케이스(100), 케이스(100)의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물(1)이 수용되며, 주름(211)을 갖는 원료용기(200), 원료용기(200)로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관(300), 원료용기(200)에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관(400)을 포함할 수 있다.FIG. 1 is a structural view of an apparatus for supplying an organometallic compound gas according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a case 100 having an internal accommodation space, A raw material container 200 in which the metal compound 1 is accommodated and has a wrinkle 211, a carrier gas supply pipe 300 for supplying a carrier gas to the raw material container 200, And a carrier gas discharge pipe 400 through which the gas containing the carrier gas is discharged.

상기 케이스(100)는 캐리어 가스의 공급 및 유기금속화합물 함유 가스의 배출, 선택적으로 후술하는 열전달 매체의 공급 및 배출을 위한 관통공을 가질 수 있으며, 내부 수용 공간을 밀폐시키는 밀폐형 케이스일 수 있다. 구체적으로, 상기 케이스(100)는 내부 수용 공간을 갖는 하부 케이스 및 관통공이 형성된 상부 케이스를 포함할 수 있으며, 하부 케이스와 상부 케이스의 결합에 의해, 내부 수용 공간을 밀폐시킬 수 있다. 이때, 캐리어 가스 공급관(300) 및 캐리어 가스 배출관(400)은 상부 케이스에 형성된 각 관통공을 통해 케이스(100)를 관통하여 내부 수용 공간에 위치하는 원료용기(200)와 각각 결합될 수 있다. 물론, 관통공에 위치하는 관과 관통공 사이는 오링과 같은 적절한 실링 부재에 의해 실링될 수 있음은 물론이다.The case 100 may have a through hole for supplying a carrier gas and for discharging an organometallic compound-containing gas, and for selectively supplying and discharging a heat transfer medium, which will be described later, and may be a closed case for sealing the internal accommodating space. Specifically, the case 100 may include a lower case having an inner housing space and an upper case having a through-hole, and the inner housing space may be sealed by coupling the lower case and the upper case. At this time, the carrier gas supply pipe 300 and the carrier gas discharge pipe 400 may be respectively coupled to the raw material container 200 located in the internal accommodation space through the case 100 through the through holes formed in the upper case. It goes without saying that the space between the tube and the through-hole located in the through-hole can be sealed by an appropriate sealing member such as an O-ring.

상기 원료용기(200)의 용기 내에는 유기금속화합물 입자를 포함하는 고상의 유기금속화합물(1)이 충진될 수 있으며, 원료용기(200) 자체는 골과 산을 갖는 주름(211)이 형성된 용기로, 용기의 일정 영역에 상기 주름(211)이 규칙적 또는 불규칙적으로 형성되어 있을 수 있다. The container of the raw material container 200 may be filled with a solid organometallic compound 1 containing organic metal compound particles and the raw material container 200 itself may be filled with a container 211 in which corrugations 211 having a bone and an acid are formed. , And the wrinkles 211 may be regularly or irregularly formed in a certain region of the container.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급장치에 있어, 내부 수용 공간에 위치하는 원료용기(200)만을 도시한 도면이다. 도 2(a)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)는 적어도 그 측면에 골과 산을 갖는 주름(211)이 규칙적으로 형성되어 있을 수 있다. 즉, 원료용기는 적어도 그 측면에 다수개의 주름(211)이 규칙적으로 배열된 주름부(210)가 형성되어 있을 수 있다. 이러한 주름부(210)는 골(및 산)이 서로 평행한 다수개의 주름(211)이 연속적으로 형성된 것이거나, 도 2(a)의 일 예와 같이, 골(및 산)이 서로 평행한 다수개의 주름(211)이 일정 거리 서로 이격되어 형성된 것일 수 있다. FIG. 2 is a view showing only a raw material container 200 located in an internal accommodation space in the organometallic compound gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown in Fig. 2 (a), the raw material container 200 may be formed with wrinkles 211 regularly formed on at least a side surface thereof with bones and an acid. That is, the raw material container may have a wrinkle portion 210 having a plurality of wrinkles 211 regularly arranged on at least a side thereof. The corrugated portion 210 may be formed by continuously forming a plurality of corrugations 211 parallel to each other in the cores (and mountains), or by forming a plurality of corrugated cores 211 The wrinkles 211 may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

상세하게, 원료용기(200)에 고상의 유기금속화합물을 투입하면, 중력에 의해 원료용기(200) 하부부터 고상의 유기금속화합물이 충진되게 되는데, 이러한 원료용기(200)의 하부에서 상부로의 높이 방향을 따라 주름(211)이 형성될 수 있으며, 다수개의 주름(211)이 도 2(a)에 도시한 바와 같이, 측면의 일정 영역에 연속적으로 또는 측면의 일정 영역에 일정거리 서로 이격되어 규칙적으로 형성되어 있을 수 있다. In detail, when a solid organometallic compound is injected into the raw material container 200, a solid organic metal compound is filled from the bottom of the raw material container 200 by gravity. A plurality of wrinkles 211 may be formed along the height direction and a plurality of wrinkles 211 may be continuously or periodically spaced from each other in a predetermined region of the side surface as shown in FIG. And may be formed regularly.

도 2(b) 및 도 2(c) 원료용기(200)의 다른 일 예를 도시한 것으로, 도 2(b) 및 도 2(c)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)는 그 측면에 불규칙적으로 주름(211)이 형성되어 있을 수 있다. 2 (b) and 2 (c) show another example of the raw material container 200. As shown in Figs. 2 (b) and 2 (c) The wrinkles 211 may be irregularly formed on the wrinkles.

구체적으로, 도 2(b)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)에 고상의 유기금속화합물(1)이 충진되어 있음에 따라, 원료용기(200)의 상부에는 유기금속화합물(1)이 미 충진된 빈 공간이 형성될 수 있다. 이러한 빈 공간에 해당하는 원료용기의 측면에 다수개의 주름이 배열된 제1주름부(220)가 형성될 수 있으며, 유기금속화합물이 충진된 공간에 해당하는 원료용기의 측면에 제1주름부(220)의 주름과 상이한 크기를 갖는 제2주름부(230)가 형성되어 있을 수 있다.Specifically, as shown in Fig. 2 (b), since the raw material container 200 is filled with the solid organometallic compound 1, the organometallic compound 1 is introduced into the upper part of the raw material container 200 An unfilled empty space can be formed. A first wrinkle portion 220 having a plurality of wrinkles may be formed on a side surface of the raw material container corresponding to the empty space, and a first wrinkle portion 220 may be formed on a side surface of the raw material container corresponding to the space filled with the organic metal compound The second corrugated part 230 may have a size different from the corrugation of the second corrugated part 220.

즉, 원료용기(200)는 그 측면에 서로 상이한 크기를 갖는 제1주름부(220)와 제2주름부(230)가 형성될 수 있으며, 제1주름부(220)는 원료용기(200)에서 유기금속화합물(1)이 충진되지 않은 미 충진 영역에, 제2주름부(230)는 원료용기(200)에서 유기금속화합물(1)이 충진된 충진 영역에 형성될 수 있다.The first wrinkles 220 and the second wrinkles 230 may be formed on the sides of the raw material container 200. The first wrinkles 220 may be formed in the raw material container 200, And the second wrinkles 230 may be formed in the filling region filled with the organometallic compound 1 in the raw material container 200. In this case,

이러한 제1주름부(220)와 제2주름부(230)는 캐리어 가스에 의해 원료용기(200) 내 압력이 높아졌을 때, 제1주름부(220)를 통해 원료용기(200)의 물리적 변형을 보다 용이하고 보다 극대화 시키며, 제2주름부(230)를 통해 고상의 유기금속화합물(1)에 제2주름부(220)에 의해 야기되는 물리적 충격 보다, 직접적인 물리적 충격을 야기할 수 있다. 즉, 제1주름부(220)는 고상의 유기금속화합물(1) 미 충진 영역에 형성되어 있음에 따라, 캐리어 가스의 유입에 의해 주름이 보다 용이하게 펴지고 캐리어 가스의 공급 중단에 의해 유연하게 주름이 접힐 수 있다. 이에 따라, 제1주름부(220)는 캐리어 가스에 의해 야기되는 원료용기(200) 내 압력 변화에 의한 용기의 물리적 변형량을 증대시킬 수 있다. 제1주름부(220)가 용기 자체의 변형을 야기하여, 유기금속화합물에 간접적인 충격을 준다면, 제2주름부(230)는 유기금속화합물이 충진된 충진 영역에 주름이 형성되어 있어, 보다 직접적으로 유기금속화합물에 물리적 충격을 가할 수 있게 한다. 보다 구체적인 일 예로, 제1주름부(220)에 형성된 주름의 크기는 제2주름부(230)에 형성된 주름 크기보다 상대적으로 크거나 작을 수 있으며, 나아가, 제1주름부(220)에 형성된 주름의 밀도와 제2주름부(230)에 형성된 주름의 밀도는 서로 상이할 수 있다.The first wrinkling part 220 and the second wrinkling part 230 may be deformed by the carrier gas to increase the physical strain of the raw material container 200 through the first wrinkling part 220 when the pressure in the raw material container 200 is increased. And may cause a direct physical impact on the solid organometallic compound 1 via the second corrugations 230 rather than the physical impact caused by the second corrugations 220. [ That is, since the first corrugated part 220 is formed in the region where the solid phase organic metal compound 1 is not filled, the corrugation is more easily spread by the inflow of the carrier gas, Can be folded. Accordingly, the first wrinkle part 220 can increase the amount of physical deformation of the container caused by the pressure change in the raw material container 200 caused by the carrier gas. If the first wrinkling portion 220 causes the deformation of the container itself and indirectly impacts the organometallic compound, the second wrinkling portion 230 has a wrinkle in the filling region filled with the organometallic compound, So that a physical impact can be applied to the organometallic compound. The size of the wrinkles formed on the first wrinkles 220 may be relatively larger or smaller than the size of the wrinkles formed on the second wrinkles 230. Further, And the density of the wrinkles formed on the second wrinkles 230 may be different from each other.

도 2(c)의 일 예는 원료용기(200)의 측면을 따라 주름이 형성되되, 형성되는 주름의 크기가 원료용기(200)의 상부에서 원료용기(200) 하부 방향으로 점차적으로 달라지는 경우를 도시한 일 예이다. 도 2(c)에 도시한 바와 같이, 원료용기(200)의 물리적 변형을 증진시키며, 원료용기(200)에 충진된 유기금속화합물에 직접적인 충격이 효과적으로 가해질 수 있도록 주름은 원료용기의 상부에서 하부 방향으로 갈수록 점차적으로 커질 수 있다. 도 2(c)의 일 예에서는 원료용기(200)의 측면에 점차적으로 크기가 달라지는 주름이 서로 이격 배열된 경우를 도시하였으나, 이러한 주름들이 용기에 연속적으로 형성될 수 있음은 물론이다. One example of Fig. 2 (c) is a case where the wrinkles are formed along the side surface of the raw material container 200 and the size of the formed wrinkles gradually varies from the upper portion of the raw material container 200 to the lower portion of the raw material container 200 An example is shown. As shown in FIG. 2 (c), the physical deformation of the raw material container 200 is promoted, and the wrinkles are formed on the upper portion of the raw material container 200 from the upper portion of the raw material container 200 so that the direct impact on the organic metal compound packed in the raw material container 200 can be effectively applied. It can be gradually increased in the direction. In the example of FIG. 2 (c), wrinkles gradually varying in size are arranged on the side surface of the raw material container 200, but it is needless to say that such wrinkles may be continuously formed in the container.

도 2를 기반으로 원료용기(200)를 상술한 일 예에 있어, 주름의 크기는 주름의 골을 기준한 산까지의 길이를 의미할 수 있다. 원료용기(200)의 크기는 공급하고자 하는 유기금속화합물(전구체)의 농도 및 유속을 고려하여 적절히 설계될 수 있으며, 주름의 실질적인 크기는 원료용기(200)의 크기를 고려하여 설계될 수 있다. 2, the size of the wrinkles may mean the length up to the mountain based on the wrinkles. The size of the raw material container 200 can be suitably designed in consideration of the concentration and the flow rate of the organometallic compound (precursor) to be supplied, and the substantial size of the wrinkle can be designed in consideration of the size of the raw material container 200.

본 발명의 일 실시예에 따른 공급 장치의 원료용기(200)는 캐리어 가스가 누출되지 않도록, 캐리어 가스 공급관(300)의 일 단 및 캐리어 가스 배출관(400)의 일 단과 각각 연결되는 가스 유입구(I)와 가스 배출구(O)를 제외하고 고상의 유기금속화합물이 위치하는 내부 공간이 밀폐되는 밀폐형 용기일 수 있다. 또한, 도 2에 도시한 바와 같이, 캐리어 가스가 원료용기(200)에 담지된 고상의 유기금속화합물을 가능한 긴 이동거리로 균일하고 균질하게 통과할 수 있도록 캐리어 가스의 가스 유입구(1)과 가스 배출구(O)는 서로 대향하는 위치에 형성되어 있을 수 있다. 구체적인 일 예로, 도 2에 도시한 바와 같이, 캐리어 가스 유입구(1)는 원료용기(200)의 상부면에 형성되어 있을 수 있으며, 캐리어 가스 배출구(O)는 원료용기(200)의 하부면에 형성되어 있을 수 있다. 이때, 도면에 도시하지 않았으나, 캐리어 가스 배출구(O)에는 원료용기(200)에 충진된 고상의 유기금속화합물 캐리어 가스 배출구(O)를 통해 캐리어 가스 배출관(400)으로 빠져나가지 않도록, 적절한 크기의 메쉬형 막이 구비될 수 있음은 물론이다. The raw material container 200 of the supply device according to the embodiment of the present invention is provided with a gas inlet I (I) connected to one end of the carrier gas supply pipe 300 and one end of the carrier gas discharge pipe 400, ) And the gas outlet (O), the inner space in which the solid organometallic compound is located is sealed. Further, as shown in FIG. 2, the gas inlet 1 of the carrier gas and the gas inlet 2 of the carrier gas are arranged so that the carrier gas can uniformly and uniformly pass through the solid organometallic compound supported on the raw material container 200, The discharge ports O may be formed at positions facing each other. 2, the carrier gas inlet 1 may be formed on the upper surface of the raw material container 200, and the carrier gas outlet O may be formed on the lower surface of the raw material container 200, for example, . Although not shown in the figure, the carrier gas outlet O is provided with an appropriate size (not shown) so as not to escape into the carrier gas outlet tube 400 through the solid organometallic compound carrier gas outlet O filled in the raw material container 200 It is needless to say that a mesh-type membrane may be provided.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치에 있어, 원료용기(200)는 일 단이 상기 캐리어 가스 공급관(300)과 연결되고, 다른 일 단이 상기 캐리어 가스 배출관(400)과 연결된 밀폐형 원통관일 수 있으며, 구체적으로, 원통관의 측면에 주름이 형성된 주름관일 수 있다. 이때, 캐리어 가스 공급관(300)은 주름관의 양 단 중, 상부에 위치하는 일 단과 연결될 수 있으며, 캐리어 가스 배출관(400)은 주름관의 양 단 중, 하부에 위치하는 일 단과 연결될 수 있다. In the gas supply apparatus according to the embodiment of the present invention, the raw material container 200 is connected to the carrier gas supply pipe 300 at one end, and the other end is connected to the closed- Specifically, it may be a corrugated pipe formed with corrugations on the side of the circular tube. At this time, the carrier gas supply pipe 300 may be connected to one of the upper and lower ends of the corrugated pipe, and the carrier gas discharge pipe 400 may be connected to one of the lower and the lower ends of the corrugated pipe.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치에 있어, 케이스()의 내부 수용 공간보다 원료용기(200)의 크기가 작을 수 있으며, 상부면이 캐리어 가스 공급관(300)과 연결되고, 원료용기(200)의 하부면이 캐리어 가스 배출관(400)과 연결되는 구조를 가질 수 있다.In the gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention, the size of the raw material container 200 may be smaller than the internal space of the case, and the upper surface may be connected to the carrier gas supply pipe 300, 200 may be connected to the carrier gas discharge pipe 400.

이에 따라, 케이스(100)의 내벽과 원료용기(200) 사이에는 빈 공간이 형성될 수 있는데, 원료용기(200)는 도 1에 도시한 일 예와 같이, 캐리어 가스 공급관(300) 및 캐리어 가스 배출관(400)이 원료용기(200)를 지지하고 고정하는 역할을 수행할 수 있다. 1, an empty space may be formed between the inner wall of the case 100 and the raw material container 200. The raw material container 200 may include a carrier gas supply pipe 300 and a carrier gas The discharge pipe 400 can support and secure the raw material container 200. [

즉, 원료용기(200)의 하부면은 케이스(100)의 바닥면과 닿지 않고 이격되어 있을 수 있으며, 원료용기(200)가 물리적으로 안정하게 고정되어 있지 않음에 따라, 원료용기(200)의 팽창 및 수축이 보다 용이하게 이루어질 수 있으며, 원료용기의 변형에 의한 물리적 충격이 보다 효과적으로 고상의 유기금속화합물에 전달될 수 있다. That is, the lower surface of the raw material container 200 may be spaced apart from the bottom surface of the case 100, and the raw material container 200 may not be physically and stably fixed, The expansion and contraction can be made easier, and the physical impact due to the deformation of the raw material container can be more effectively transferred to the organometallic compound in the solid phase.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급 장치에 있어, 상기 원료용기(200)는 연성 금속 또는 고분자일 수 있다. 보다 구체적으로, 원료용기(200)의 재질은 유기금속화합물과 화학적으로 반응하지 않는 안전한 물질이며, 주름의 펼쳐짐 및 접힘에 따른 변형에 의한 용기의 파손이 발생하지 않는 금속 또는 고분자일 수 있다. 비한정적인 일 예로, 금속은 면심입방구조(FCC)구조의 금속, 보다 더 구체적으로 알루미늄, 구리, 니켈 및 이들의 합금등을 들 수 있으며, 고분자는 테프론, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌등을 들 수 있다.In the organometallic compound gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention, the raw material container 200 may be a soft metal or a polymer. More specifically, the material of the raw material container 200 is a safe material that does not chemically react with the organic metal compound, and may be a metal or a polymer that does not cause breakage of the container due to expansion and folding of the wrinkles. As a non-limiting example, the metal may be a metal of a face-centered cubic structure (FCC) structure, more specifically aluminum, copper, nickel and alloys thereof, and the polymer may include Teflon, polyethylene, polypropylene .

도 1에 도시한 바와 같이, 상기 캐리어 가스 배출관(400)은 주름관을 포함할 수 있다. 즉, 상기 캐리어 가스 배출관(400)은 적어도 상기 원료용기(200)와 접하는 일단 영역이 주름관일 수 있다. 상세하게, 캐리어 가스 배출관은 리지드 관과 주름관을 포함할 수 있으며, 리지드 관이 케이스(100)를 관통하여, 주름관과 결합하고, 주름관이 상기 원료용기(200)와 결합할 수 있다. 상술한 바와 같이, 캐리어 가스 배출관(400)은 리지드 관인 캐리어 가스 공급관(300)과 함게, 원료용기(200)가 케이스 바닥면에서 이격되어 위치하도록 원료용기(200)를 지지하는 역할을 동시에 수행할 수 있다. 이러한 캐리어 가스 배출관(400)이 도 1의 일 실시예와 같이 주름관을 포함하는 경우, 원료용기(200)의 용이한 변형 뿐만 아니라, 장치의 구동(캐리어 가스의 공급등)에 의해 케이스 내부 및/또는 외부에서 발생하는 진동을 원료용기(200)에 전달하여, 고상의 유기금속화합물에 물리적 충격을 줄 수 있다. 즉, 고상의 유기금속화합물에는 원료용기(200)의 주름에 의한 물리적 충격과 함께 캐리어 가스 배출관(400)으로부터 원료용기(200)로 전달된 진동에 의한 물리적 충격이 가해지게 된다.As shown in FIG. 1, the carrier gas discharge pipe 400 may include a corrugated pipe. That is, the carrier gas discharge pipe 400 may have at least one end portion contacting with the raw material container 200 as a corrugated pipe. In detail, the carrier gas discharge pipe may include a rigid pipe and a corrugated pipe, and the rigid pipe may penetrate the case 100 to be coupled with the corrugated pipe, and the corrugated pipe may be engaged with the raw material container 200. As described above, the carrier gas discharge pipe 400 performs the role of supporting the raw material container 200 so that the raw material container 200 is spaced apart from the bottom of the case together with the carrier gas supply pipe 300, which is a rigid pipe . When the carrier gas discharge pipe 400 includes a corrugated pipe as in the embodiment of FIG. 1, not only the easy deformation of the raw material container 200 but also the inside and / or outside of the case can be prevented by drive of the apparatus (supply of carrier gas, Or external vibrations may be transferred to the raw material container 200 to give a physical impact to the solid organometallic compound. That is, a physical impact due to the vibration transmitted to the raw material container 200 from the carrier gas discharge pipe 400 is applied to the solid organometallic compound along with the physical impact caused by the wrinkles of the raw material container 200.

상술한 바와 같이, 가스 공급 장치의 구동 및 정지가 반복됨에 따라, 원료용기(200)에 의해, 고상의 유기금속화합물에 반복적으로 물리적인 힘이 인가되고, 선택적으로, 주름관인 캐리어 가스 배출관에 의해 외부 진동이 고상의 유기금속화합물에 인가될 경우, 캐리어 가스가 우선적으로 흐르는 유로가 형성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 의해 캐리어 가스가 충진된 유기금속화합물에 균일하고 균질하게 흐를 수 있으며, 안정적이고, 균일하며, 장기간의 사용에도 높은 유기금속화합물의 증기압이 유지될 수 있다. As described above, as the driving and stopping of the gas supply device is repeated, a physical force is repeatedly applied to the solid organometallic compound by the raw material container 200, and by the carrier gas discharge pipe which is a corrugated pipe When an external vibration is applied to the solid organometallic compound, it is possible to prevent a flow path through which the carrier gas flows preferentially. As a result, the carrier gas can flow homogeneously and homogeneously to the filled organic metal compound, and the vapor pressure of the organometallic compound can be kept stable, uniform, and long-term use.

캐리어 가스 배출관(400)에서 배출되는 가스는 기상의 유기금속화합물과 캐리어 가스가 혼합된 혼합 가스인데, 이러한 혼합 가스 내에서의 유기금속화합물의 농도는 캐리어 가스의 유속 및/또는 공급량에 의해 조절될 수 있다. 또한, 유기금속화합물의 온도를 변화시켜 유기금속화합물의 증기압이 조절될 수 있다. The gas discharged from the carrier gas discharge pipe 400 is a mixed gas in which a gaseous organometallic compound and a carrier gas are mixed. The concentration of the organometallic compound in the mixed gas is controlled by the flow rate and / or the supply amount of the carrier gas . Further, the vapor pressure of the organometallic compound can be controlled by changing the temperature of the organometallic compound.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 장치에 있어, 열전달매체에 의해 원료용기(200)가 가온되는 구성을 도시한 일 예로, 도 3에 도시한 바와 같이, 가스 공급 장치는 케이스(100) 내벽와 원료용기(200) 사이 공간인 열매체공간에, 상기 원료용기(200)의 온도를 조절하는 열전달매체(2)가 수용되며, 상기 열전달매체(2)를 상기 열매체공간에 각각 공급 및 배출하는 열매체 공급관(510) 및 열매체 배출관(520)을 더 포함할 수 있다.3, the gas supply device according to the embodiment of the present invention is configured to heat the raw material container 200 by the heat transfer medium. As shown in FIG. 3, the gas supply device includes a case A heat transfer medium 2 for regulating the temperature of the raw material container 200 is accommodated in a heat medium space which is a space between the inner wall and the raw material container 200 so that the heat transfer medium 2 is supplied to and discharged from the heat medium space The heating medium supply pipe 510 and the heating medium discharge pipe 520, respectively.

이러한 열전달매체는 케이스(100) 내벽과 원료용기(200)사이의 빈 공간을 채우며 원료용기(200)에 충진된 유기금속화합물의 온도를 원하는 온도로 가온 또는 감온 시킬 수 있다. 열전달매체는 일정 온도로 조절된 기체 또는 액체일 수 있으며, 열매체 공급관(510) 또는 열전달매체 보관 수단(미도시)과 열매체 공급관(510) 사이에는 열매체 공급관(510)을 통해 열매체공간으로 흐르는 열전달매체의 온도를 조절하기 위한 가열부재 및/또는 냉각부재가 구비될 수 있음은 물론이다. 이때, 열전달매체에 의해 원료용기(200)의 유기금속화합물은 상온 내지 300℃로 가온 및/또는 유지될 수 있다.The heat transfer medium fills the empty space between the inner wall of the case 100 and the raw material container 200 and the temperature of the organic metal compound filled in the raw material container 200 can be warmed or reduced to a desired temperature. The heat transfer medium may be a gas or a liquid that is adjusted to a predetermined temperature. A heat transfer medium (not shown) flowing into the heat medium space through the heat medium supply pipe 510 or the heat medium supply pipe 510 It is needless to say that a heating member and / or a cooling member may be provided for adjusting the temperature of the cooling medium. At this time, the organometallic compound in the raw material container 200 can be heated and / or maintained at a temperature ranging from room temperature to 300 ° C by the heat transfer medium.

또한, 도 3에 도시한 일 실시예와 같이, 유기금속화합물 공급장치는 캐리어 가스 및 열전달매체의 각각의 공급여부 및 공급 유속을 제어하는 제어부(600)를 더 포함할 수 있다. 제어부(600)는 캐리어 가스의 공급 시작 및 중단을 제어하며, 캐리어 가스의 공급 유속을 제어할 수 있으며, 열전달매체의 온도, 열전달매체의 공급 여부, 열전달매체의 공급 시작 및 중단, 열전달매체의 공급 유속 및 배출 유속을 제어할 수 있다. 이러한 제어를 위해, 캐리어 가스 공급관, 열매체 공급관 및 배출관 각각에는 통상의 유량 제어수단(일 예로, MFC(Mass Flow Controller))이 구비될 수 있으며, 관의 개폐를 제어하는 밸브가 구비될 수 있다. 3, the organometallic compound supply apparatus may further include a control unit 600 for controlling the supply and supply flow rates of the carrier gas and the heat transfer medium, respectively. The control unit 600 controls the start and stop of the supply of the carrier gas, controls the supply flow rate of the carrier gas, and controls the temperature of the heat transfer medium, the supply of the heat transfer medium, the start and stop of the supply of the heat transfer medium, The flow rate and the discharge flow rate can be controlled. For this control, each of the carrier gas supply pipe, the heating medium supply pipe, and the discharge pipe may be provided with a conventional flow control means (for example, MFC (Mass Flow Controller)) and a valve for controlling the opening and closing of the pipe.

구체적으로, 제어부(600)는 캐리어 가스 공급관을 통해 캐리어 가스를 원료용기에 공급하여 원료용기의 팽창이 이루어진 후, 선택적으로, 열매체 공급관을 통해 열전달매체가 유입되도록 할 수 있다. 이때, 제어부(600)는 열매체 공급관을 통해 공급되는 열전달매체의 온도를 제어하여, 원료용기 내 유기금속화합물의 온도를 조절할 수 있음은 물론이다. Specifically, the control unit 600 may supply the carrier gas to the raw material container through the carrier gas supply pipe to selectively inflow the heat transfer medium through the heat medium supply pipe after the raw material container is expanded. In this case, the controller 600 may control the temperature of the heat transfer medium supplied through the heat medium supply pipe to control the temperature of the organometallic compound in the raw material container.

또한, 가온이나 감온을 목적하지 않는다 하더라도, 항온 상태로 원료용기를 유지하는 것이 보다 정밀한 유기금속화합물의 증기압 유지에 바람직하다. 이에 따라, 장치가 위치하는 주변 온도(일 예로, 상온)과 동일한 온도의 열전달매체가 공급될 수 있음은 물론이다.In addition, even if it is not intended to raise or lower the temperature, it is preferable to keep the raw material container at a constant temperature to maintain a more accurate vapor pressure of the organic metal compound. Accordingly, it goes without saying that the heat transfer medium having the same temperature as the ambient temperature (for example, room temperature) at which the device is located can be supplied.

장치의 구동이 멈출 때, 상기 제어부(600)는 상기 캐리어 가스의 공급을 중단하여, 유기금속화합물 함유 가스의 생성을 중지한 후, 상기 열매체공간의 압력이 상기 원료용기 내부 압력보다 높도록 제어할 수 있다. When the driving of the apparatus is stopped, the control unit 600 stops the supply of the carrier gas to stop the generation of the organic metal compound-containing gas, and controls the pressure of the heating medium space to be higher than the pressure inside the raw material container .

구체적으로, 캐리어 가스의 공급 중단은 캐리어 가스 배출관이 열려 있거나, 닫혀있는 상태에서 수행될 수 있는데, 캐리어 가스 배출관이 증착장비등과 연결되어, 배출되는 혼합가스를 증착 장비등에 공급함에 따라, 증착 장비등 본 장비와 연동되어 작동하는 장비에 원하지 않는 영향을 미치는 것을 방지하기 위해, 캐리어 가스 배출관을 먼저 닫은 후, 캐리어 가스 공급관을 통한 캐리어 가스의 공급을 중단하거나, 캐리어 가스 공급관과 배출관을 동시에 닫음으로써, 캐리어 가스의 공급을 중단할 수 있다.Specifically, the supply of the carrier gas can be stopped in a state in which the carrier gas discharge pipe is open or closed. The carrier gas discharge pipe is connected to the deposition equipment or the like, and the discharged mixed gas is supplied to the deposition equipment, To prevent unwanted effects on equipment operating in conjunction with this equipment, the carrier gas outlet can be closed first, then the carrier gas supply through the carrier gas supply line can be stopped, or both the carrier gas supply line and the discharge line can be closed at the same time , The supply of the carrier gas can be stopped.

캐리어 가스 공급이 중단되면, 원료용기(200) 내부는 일정한 압력 상태가 되는데, 이러한 압력은 원료용기(200)의 크기, 원료용기(200)에 잔류하는 고상의 유기금속화합물의 양, 원료용기(200)의 온도, 목적하는 혼합 가스 내 유기금속화합물의 농도 및 혼합가스의 유속등에 의해 달라질 수 있다.When the supply of the carrier gas is stopped, the inside of the raw material container 200 is in a constant pressure state. This pressure is controlled by the size of the raw material container 200, the amount of the solid organic metal compound remaining in the raw material container 200, 200, the concentration of the organometallic compound in the desired mixed gas, the flow rate of the mixed gas, and the like.

제어부(600)는 캐리어 가스 공급이 중단된 후, 원료용기(200)에 형성된 주름이 보다 원활하고 빠르게 접힐 수 있도록, 열매체공간에 담겨진 열전달매체에 의한 압력을 원료용기(200) 내부 압력보다 크도록 상승시킬 수 있다. 상세하게, 열매체 배출관의 배출 유속을 감소시키거나, 열매체 배출관을 닫은 후, 열매체 공급관을 통해 열매체를 공급함으로써 원료용기(200)에 압력을 가할 수 있다. 다른 방법으로, 제어부(600)는 열매체 배출관을 통해 배출되는 열전달 매체의 유속은 작동상태와 동일하게 유지하되, 열매체 공급관을 통해 공급되는 열전달 매체의 유속을 상승시킴으로써, 원료용기(200)에 압력을 가할 수 있다. The control unit 600 controls the pressure of the heat transfer medium contained in the heat medium space to be larger than the pressure inside the raw material container 200 so that the wrinkles formed in the raw material container 200 can be folded more smoothly and quickly after the supply of the carrier gas is stopped. . In detail, after the discharge flow rate of the heating medium discharge pipe is reduced or the heating medium discharge pipe is closed, the raw material container 200 can be pressurized by supplying the heating medium through the heating medium supply pipe. Alternatively, the control unit 600 may control the flow rate of the heat transfer medium discharged through the heating medium discharge pipe to be the same as the operating state, and increase the flow rate of the heat transfer medium supplied through the heat medium supply pipe, Can be added.

구체적으로, 열전달매체에 의한 열매체공간의 압력 상승에 의해, 캐리어 가스 공급이 중단된 후, 주름 접힘에 의한 원료용기의 수축이 보다 빠르고 효과적으로 이루어질 수 있다. 이러한 압력 상승은 캐리어 가스 공급이 중단된 직후 일정 시간 동안만 유지되면 무방하며, 구체적인 일 예로, 1 내지 5초의 극히 짧은 순간동안 압력 상승이 이루어져도 무방하다. Concretely, after the supply of the carrier gas is stopped by the pressure rise of the heating medium space by the heat transfer medium, shrinkage of the raw material container due to wrinkle folding can be performed more quickly and effectively. The pressure increase may be maintained for a certain period of time immediately after the supply of the carrier gas is stopped. For example, a pressure increase may be performed for an extremely short time of 1 to 5 seconds.

제어부(600)는 상술한 압력 상승이 이루어진 후, 열매체 공급관을 통한 열전달매체의 공급을 중단하고, 열매체 배출관을 통해 열매체공간에 잔류하는 열전달매체를 장치 외부로 배출할 수 있다. After the above-described pressure rise, the control unit 600 stops the supply of the heat transfer medium through the heat medium supply pipe, and discharges the heat transfer medium remaining in the heat medium space through the heat medium discharge pipe to the outside of the apparatus.

장치가 구동 중일 때, 즉, 캐리어 가스 배출관(400)을 통해 기상의 유기금속화합물을 함유하는 가스가 배출될 때, 제어부(600)는 열전달매체로 채워진 열매체 공간이 상압 상태를 유지하도록 제어할 수 있음은 물론이다.When the apparatus is in operation, that is, when the gas containing the gaseous organometallic compound is discharged through the carrier gas discharge pipe 400, the control unit 600 controls the heating medium space filled with the heat transfer medium to maintain the normal pressure state Of course it is.

또한, 장치의 구동이 장시간 동안 진행되는 경우, 원료 용기(200)에 장시간 동안 캐리어 가스가 공급됨에 따라, 미세 유로가 형성될 수 있는 위험이 있다. 이러한 미세 유로는 장치의 구동이 멈출 때 원료 용기의 변형에 의해 발생하는 물리적 충격에 의해 제거될 수 있으나, 이를 보다 효과적으로 제거하기 위해, 제어부(600)는 장치의 구동 중, 일정 시간 간격으로, 열전달매체 공급 유속 및/또는 열전달매체 배출 유속을 조절하여, 열전달매체로 채워진 열매체 공간의 압력이 원료용기 내부의 압력보다 순간적으로 높아지도록 제어할 수 있음은 물론이다. 선택적으로, 이러한 압력 제어를 보다 정밀하게 수행하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기금속화합물 가스 공급장치는 원료용기 내부의 압력을 측정하여 제어부에 측정값을 제공하는 제1압력측정수단 및 열매체공간의 압력을 측정하여 제어부에 측정값을 제공하는 제2압력측정수단을 더 포함할 수 있음은 물론이다.Further, when the apparatus is driven for a long time, there is a risk that a fine flow path may be formed as the carrier gas is supplied to the raw material container 200 for a long time. In order to more effectively remove the fine flow path, the control unit 600 controls the flow rate of the heat transfer fluid at a predetermined time interval during the operation of the apparatus, It is of course possible to control the medium supply flow rate and / or the heat transfer medium discharge flow rate so that the pressure of the heat medium space filled with the heat transfer medium is instantaneously higher than the pressure inside the raw material container. Alternatively, in order to perform such pressure control more precisely, the organometallic compound gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention may include first pressure measurement means for measuring the pressure inside the raw material container and providing a measurement value to the control unit, It is of course possible to further include second pressure measuring means for measuring the pressure of the heating medium space and providing the measured value to the control portion.

이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Those skilled in the art will recognize that many modifications and variations are possible in light of the above teachings.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
Accordingly, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the following claims, belong to the scope of the present invention .

Claims (8)

내부 수용 공간을 갖는 케이스;
상기 케이스의 내부 수용 공간에 위치하고, 고상의 유기금속화합물이 수용되며, 주름을 갖는 원료용기;
상기 원료용기로 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급관;
상기 원료용기에서 발생된 유기금속화합물 함유 가스가 배출되는 캐리어 가스 배출관;
상기 케이스와 상기 원료용기 사이 공간이며, 상기 원료용기의 온도를 조절하는 열전달매체가 수용되는 열매체공간;
기상 또는 액상인 상기 열전달매체를 상기 열매체공간에 각각 공급 및 배출하는 열매체 공급관과 열매체 배출관;
상기 캐리어 가스 및 상기 열전달매체의 각각의 공급여부 및 공급 유속을 제어하는 제어부; 및
상기 원료용기 내부의 압력을 측정하여 상기 제어부에 측정값을 제공하는 제1압력측정수단과 상기 열매체공간의 압력을 측정하여 제어부에 측정값을 제공하는 제2압력측정수단;
을 포함하며,
상기 제어부는 상기 캐리어 가스의 공급이 중단될 때, 상기 열매체공간의 압력이 상기 원료용기 내부 압력보다 높도록 제어하는 유기금속화합물 가스 공급장치.
A case having an internal accommodation space;
A raw material container having a wrinkle, which is located in an inner accommodation space of the case and accommodates a solid organometallic compound;
A carrier gas supply pipe for supplying a carrier gas to the raw material container;
A carrier gas discharge pipe through which the organometallic compound-containing gas generated in the raw material container is discharged;
A heating medium space in a space between the case and the raw material container in which a heat transfer medium for controlling the temperature of the raw material container is accommodated;
A heating medium supply pipe and a heating medium discharge pipe for supplying and discharging the vapor-phase or liquid-phase heat transfer medium to and from the heating medium space, respectively;
A control unit for controlling supply of each of the carrier gas and the heat transfer medium and supply flow rate thereof; And
A first pressure measurement means for measuring a pressure inside the raw material container and providing a measurement value to the control unit, a second pressure measurement means for measuring a pressure of the heating medium space and providing a measurement value to the control unit;
/ RTI &gt;
Wherein the control unit controls the pressure of the heating medium space to be higher than the pressure inside the raw material container when the supply of the carrier gas is stopped.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 원료용기는 공급되는 상기 캐리어 가스에 의해 상기 주름이 펼쳐짐으로써 팽창되고, 상기 캐리어 가스가 공급되지 않을 때 상기 열전달매체에 의해 수축되는 유기금속화합물 가스 공급장치.
The method according to claim 1,
Wherein the raw material container is expanded by expanding the wrinkle by the supplied carrier gas and is contracted by the heat transfer medium when the carrier gas is not supplied.
제 1항에 있어서,
상기 주름은 상기 원료 용기의 하부에서 상부로의 높이 방향을 따라 형성된 유기금속화합물 가스 공급장치.
The method according to claim 1,
Wherein the wrinkles are formed along the height direction from the lower part to the upper part of the raw material container.
제 1항에 있어서,
상기 원료 용기는 일 단이 상기 캐리어 가스 공급관과 연결되고, 다른 일 단이 상기 캐리어 가스 배출관과 연결된 밀폐형 주름관인 유기금속화합물 가스 공급장치.
The method according to claim 1,
Wherein the raw material container is an enclosed corrugated pipe having one end connected to the carrier gas supply pipe and the other end connected to the carrier gas discharge pipe.
제 1항에 있어서,
상기 캐리어 가스 배출관은 주름관인 유기금속화합물 가스 공급장치.
The method according to claim 1,
Wherein the carrier gas discharge pipe is a corrugated pipe.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 원료 용기는 금속 또는 고분자인 유기금속화합물 가스 공급장치.
The method according to claim 1,
Wherein the raw material container is a metal or a polymer.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021044385A (en) * 2019-09-11 2021-03-18 東京エレクトロン株式会社 Heat medium circulation system and substrate processing device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05117861A (en) * 1991-10-28 1993-05-14 Tokyo Electron Sagami Ltd Gas flow joint and heat treating device
JP2004111621A (en) * 2002-09-18 2004-04-08 Fujitsu Ltd Mocvd system
KR20100063694A (en) * 2007-09-28 2010-06-11 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Raw gas supply system, and filming apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05117861A (en) * 1991-10-28 1993-05-14 Tokyo Electron Sagami Ltd Gas flow joint and heat treating device
JP2004111621A (en) * 2002-09-18 2004-04-08 Fujitsu Ltd Mocvd system
KR20100063694A (en) * 2007-09-28 2010-06-11 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Raw gas supply system, and filming apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021044385A (en) * 2019-09-11 2021-03-18 東京エレクトロン株式会社 Heat medium circulation system and substrate processing device
JP7273665B2 (en) 2019-09-11 2023-05-15 東京エレクトロン株式会社 Heat medium circulation system and substrate processing equipment

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