KR101252847B1 - Fabricating Method Of Flexible Display - Google Patents

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KR101252847B1 KR1020060030565A KR20060030565A KR101252847B1 KR 101252847 B1 KR101252847 B1 KR 101252847B1 KR 1020060030565 A KR1020060030565 A KR 1020060030565A KR 20060030565 A KR20060030565 A KR 20060030565A KR 101252847 B1 KR101252847 B1 KR 101252847B1
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Abstract

본 발명은 가요성 표시장치(flexible display)에 관한 것으로, 특히 가요성 표시장치의 제조 공정 진행하는 동안 가요성 기판에 지지력을 부가할 수 있는 방법을 제공함과 아울러 가요성 표시장치 제조 공정의 안정성을 확보할 수 있는 가요성 표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible display. In particular, the present invention provides a method for adding a supporting force to a flexible substrate during the manufacturing process of the flexible display, and also provides stability of the manufacturing process of the flexible display. The present invention relates to a method for manufacturing a flexible display device that can be secured.

본 발명에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 지지막의 제1 면에 형성되는 제1 점착물, 상기 지지막의 제2 면에 형성되고 상기 제1 점착물보다 점성이 약한 제2 점착물, 상기 제2 점착물보다 점성이 강하고 상기 지지막의 제2 면 상에서 상기 제2 점착물의 가장자리를 감싸는 제3 점착물을 포함하는 점착층과, 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 점착물과 상기 제3 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함하는 점착제를 마련하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제1 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제1 점착물 상에 비가요성 기판을 부착하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제2 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제2 및 제3 점착물 상에 가요성 기판을 부착하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a flexible display device according to an embodiment of the present invention includes a first adhesive formed on a first surface of a support film, a second adhesive formed on a second surface of the support film, and having a weaker viscosity than the first adhesive material. 2 is more viscous than the adhesive and adhered to the first surface of the support film with an adhesive layer comprising a third adhesive that surrounds the edge of the second adhesive on the second surface of the support film, and the first adhesive therebetween. Providing an adhesive comprising a first protective film, and a second protective film attached on the second surface of the support film with the second adhesive material and the third adhesive material interposed therebetween; Removing the first protective film from the adhesive layer; Attaching a non-flexible substrate on the first adhesive; Removing the second protective film from the adhesive layer; Attaching a flexible substrate on the second and third adhesives.

Description

가요성 표시장치의 제조방법{Fabricating Method Of Flexible Display}Fabrication Method Of Flexible Display

도 1은 가요성 표시장치의 제조공정을 간략하게 나타내는 도면.1 is a diagram briefly illustrating a manufacturing process of a flexible display device;

도 2a 내지 도 2c는 부착공정을 설명하기 위한 도면.2A to 2C are views for explaining an attaching step.

도 3a 내지 도 3e는 상부 어레이 기판의 제조공정을 설명하기 위한 도면.3A to 3E are views for explaining a manufacturing process of the upper array substrate.

도 4a 내지 도 4d는 하부 어레이 기판의 제조공정을 설명하기 위한 도면.4A to 4D are views for explaining a manufacturing process of a lower array substrate.

도 5a 및 도 5b는 박리 공정을 설명하기 위한 도면.5A and 5B are views for explaining the peeling process.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 점착제의 단면 구조 및 평면구조를 나타내는 도면.6a and 6b are views showing a cross-sectional structure and a planar structure of the pressure-sensitive adhesive according to a first embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 점착제의 단면 구조를 나타내는 도면.7 is a view showing a cross-sectional structure of the pressure-sensitive adhesive according to a second embodiment of the present invention.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제3 실시예에 따른 가요성 표시장치의 부착공정을 보여주는 도면.8A and 8B illustrate a process of attaching a flexible display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.

도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 제4 실시예에 따른 가요성 표시장치의 부착공정을 보여주는 도면.9A to 9C illustrate a process of attaching a flexible display device according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.

도 10은 가요성 표시장치의 제조공정의 일부를 나타내는 도면.10 is a view showing a part of a manufacturing process of a flexible display device;

도 11a 및 도 11b는 본 발명의 제4 실시예에 따른 가요성 표시장치의 박리공정을 보여주는 도면.11A and 11B illustrate a peeling process of a flexible display device according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.

도 12a 내지 도 12f는 기판 부착공정의 문제점을 설명하기 위한 도면.12A to 12F are views for explaining problems of the substrate attaching process.

도 13은 본 발명의 제5 실시예에 따라 표면 처리된 가요성 기판 및 비가요성 기판을 보여주는 도면.13 illustrates a flexible substrate and a non-flexible substrate that have been surface treated according to a fifth embodiment of the present invention.

도 14a 내지 도 14e는 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 부착공정을 보여주는 도면.14A to 14E illustrate a substrate attaching process according to a fifth embodiment of the present invention.

도 15는 유기전계발광 표시장치의 단면구조를 개략적으로 보여주는 도면.15 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device;

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

11a, 11b, 111a, 111b, 211a, 211b : 보호막 11a, 11b, 111a, 111b, 211a, 211b: protective film

1, 5, 6, 101, 201 : 점착층1, 5, 6, 101, 201: adhesive layer

82, 45, 45a, 45b, 103, 103a, 103b, 145, 245 : 가요성 기판 82, 45, 45a, 45b, 103, 103a, 103b, 145, 245: flexible substrate

47, 47a, 47b, 147, 247 : 비가요성 기판47, 47a, 47b, 147, 247: inflexible substrate

100, 100a, 100b : 지그 기판 107 : 점착제100, 100a, 100b: jig substrate 107: adhesive

113 : 제1 홈 117 : 제2 홈113: first groove 117: second groove

본 발명은 가요성 표시장치(flexible display)에 관한 것으로, 특히 가요성 표시장치의 제조 공정 진행하는 동안 가요성 기판에 지지력을 부가할 수 있는 방법 을 제공함과 아울러 가요성 표시장치 제조 공정의 안정성을 확보할 수 있는 가요성 표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible display, and in particular, to provide a method for adding support to a flexible substrate during the manufacturing process of the flexible display and to improve the stability of the manufacturing process of the flexible display. The present invention relates to a method for manufacturing a flexible display device that can be secured.

최근 표시장치 시장은 대면적이 용이하고 박형이고 경량화가 가능한 평판 디스플레이(Flat Panel Display:이하 "FPD"라 함) 위주로 급속히 변화하고 있다.Recently, the display device market is rapidly changing with a flat panel display (hereinafter, referred to as "FPD"), which has a large area, and is thin and lightweight.

이러한 FPD에는 액정표시장치(LCD:Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP:Plasma Display Panel), 유기 발광 표시장치(OLED:Organic Electro Luminescence Display)등이 있다. 그러나 기존의 액정표시장치, 플라즈마 디스플레이 패널, 유기발광 표시장치 등은 유리 기판을 사용하기 때문에 유연성이 없으므로 응용과 용도에 한계가 있다. Such FPDs include liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), organic electroluminescent displays (OLEDs), and the like. However, the conventional liquid crystal display device, plasma display panel, organic light emitting display device, etc., because there is no flexibility because it uses a glass substrate, there is a limit in the application and use.

따라서 최근 기존의 유연성이 없는 유리기판 대신에 플라스틱, 호일 등과 같이 유연성 있는 재료의 기판을 사용하여 구부러질 수 있게 제조된 가요성 표시장치가 차세대 표시장치로 급부상중이다. Therefore, a flexible display device manufactured to bend using a substrate made of a flexible material such as plastic or foil is emerging as a next-generation display device instead of a glass substrate having no conventional flexibility.

한편, 가요성 표시장치는 가요성 표시장치의 표시부에 유연성을 부여하기 위해 가요성 기판(flexible substrate)을 사용해야 한다. 이러한 가요성 기판은 주로 플라스틱 기판을 사용하므로 기존 표시장치에 사용되는 유리기판에 비해 신호배선등을 형성하는 어레이 공정을 지탱하는 지지력이 떨어진다. 따라서 가요성 기판상에서 어레이 공정을 진행하는 지지력을 부가하는 방법에 대한 개발과 지지력을 부가함과 아울러 가요성 표시장치 제조 공정의 안정성을 확보하는 것이 중요한 과제이다.On the other hand, the flexible display device must use a flexible substrate to give flexibility to the display portion of the flexible display device. Since the flexible substrate mainly uses a plastic substrate, support capacity for supporting an array process for forming signal wirings is inferior to that of glass substrates used in existing display devices. Therefore, it is an important task to develop a method for adding a supporting force for an array process on a flexible substrate and to add a supporting force and to secure stability of a flexible display device manufacturing process.

따라서, 본 발명의 목적은 가요성 표시장치의 제조 공정 진행하는 동안 가요성 기판에 지지력을 부가할 수 있는 방법을 제공함과 아울러 가요성 표시장치 제조 공정의 안정성을 확보할 수 있는 가요성 표시장치의 제조 방법을 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for adding a supporting force to a flexible substrate during the manufacturing process of a flexible display device and to ensure the stability of the flexible display device manufacturing process. It is to provide a manufacturing method.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 지지막의 제1 면에 형성되는 제1 점착물, 상기 지지막의 제2 면에 형성되고 상기 제1 점착물보다 점성이 약한 제2 점착물, 상기 제2 점착물보다 점성이 강하고 상기 지지막의 제2 면 상에서 상기 제2 점착물의 가장자리를 감싸는 제3 점착물을 포함하는 점착층과, 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 점착물과 상기 제3 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함하는 점착제를 마련하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제1 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제1 점착물 상에 비가요성 기판을 부착하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제2 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제2 및 제3 점착물 상에 가요성 기판을 부착하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a flexible display device according to a first exemplary embodiment of the present invention includes a first adhesive formed on a first surface of a support film and a second adhesive formed on a second surface of the support film. A second pressure-sensitive adhesive, a pressure-sensitive adhesive layer including a third pressure-sensitive adhesive stronger than the second pressure-sensitive adhesive and surrounding the edge of the second pressure-sensitive adhesive on the second surface of the support film, and the first pressure-sensitive adhesive; A pressure-sensitive adhesive comprising a first protective film attached on the first surface of the support film and a second protective film attached on the second surface of the support film with the second adhesive material and the third adhesive material interposed therebetween. Making a step; Removing the first protective film from the adhesive layer; Attaching a non-flexible substrate on the first adhesive; Removing the second protective film from the adhesive layer; Attaching a flexible substrate on the second and third adhesives.

상기 제1 및 제3 점착물은 동일한 점착물질로 이루어진다.The first and third adhesives are made of the same adhesive material.

상기 제3 점착물의 너비는 2mm 내지 8mm 사이인 것을 특징으로 한다.The width of the third adhesive is characterized in that between 2mm to 8mm.

그리고 본 발명의 제2 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 지지막의 제1 면에 형성되는 제1 점착물, 상기 지지막의 제2 면에 형성되고 상기 제1 점착물보다 점성이 약한 제2 점착물, 상기 제2 점착물보다 점성이 강하고 상기 제2 점착물 상에 형성되는 제3 점착물을 포함하는 점착층과, 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 점착물과 상기 제3 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함한 점착제를 마련하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제1 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제1 점착물 상에 비가요성 기판을 부착하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제2 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제2 및 제3 점착물 상에 가요성 기판을 부착하는 단계를 포함한다.In addition, a method of manufacturing a flexible display device according to a second exemplary embodiment of the present invention may include a first adhesive formed on a first surface of a support film, a second adhesive formed on a second surface of the support film, and having a weaker viscosity than the first adhesive. 2 a pressure-sensitive adhesive, a pressure-sensitive adhesive layer containing a third pressure-sensitive adhesive is stronger than the second pressure-sensitive adhesive and formed on the second pressure-sensitive adhesive, and adhered on the first surface of the support film with the first adhesive therebetween Providing an adhesive comprising a first protective film, and a second protective film attached on the second surface of the support film with the second adhesive material and the third adhesive material interposed therebetween; Removing the first protective film from the adhesive layer; Attaching a non-flexible substrate on the first adhesive; Removing the second protective film from the adhesive layer; Attaching a flexible substrate on the second and third adhesives.

상기 제1 및 제3 점착물은 동일한 점착물질로 이루어진다.The first and third adhesives are made of the same adhesive material.

상기 제3 점착물은 상기 제2 점착물의 가장자리 상에서 띠 형태로 형성된다.The third adhesive is formed in the form of a band on the edge of the second adhesive.

상기 제3 점착물의 너비는 2mm 내지 8mm 사이인 것을 특징으로 한다.The width of the third adhesive is characterized in that between 2mm to 8mm.

또한 본 발명의 제3 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 지지막의 제1 면에 형성되는 제1 점착물, 상기 지지막의 제2 면에 형성되고 상기 제1 점착물보다 점성이 약한 제2 점착물을 포함하는 점착층과, 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함한 점착제를 마련하는 단계와; 상기 점착층에서 제1 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제1 점착물 상에 비가요성 기판을 부착하는 단계와; 상기 점착층에서 상기 제2 보호막을 떼어내는 단계와; 상기 제2 점착물 상에 상기 제2 점착물보다 점성이 강한 제3 점착물을 형성하는 단계와; 상기 제2 및 제3 점착물 상에 가요성 기판을 부착하는 단계를 포함한다.In addition, a method of manufacturing a flexible display device according to a third exemplary embodiment of the present invention may include a first adhesive formed on a first surface of a support film, a second adhesive formed on a second surface of the support film, and having a weaker viscosity than the first adhesive. 2 a pressure-sensitive adhesive layer comprising an adhesive, a first protective film attached on the first surface of the support film with the first adhesive material interposed therebetween, and a second adhesive material on the second surface of the support film with the second adhesive material interposed therebetween. Providing an adhesive including the second protective film; Removing the first passivation layer from the adhesive layer; Attaching a non-flexible substrate on the first adhesive; Removing the second protective film from the adhesive layer; Forming a third adhesive material having a higher viscosity than the second adhesive material on the second adhesive material; Attaching a flexible substrate on the second and third adhesives.

상기 제1 및 제3 점착물은 동일한 점착물질로 이루어진다.The first and third adhesives are made of the same adhesive material.

상기 제3 점착물은 상기 제2 점착물의 가장자리 상에서 띠 형태로 형성된다.The third adhesive is formed in the form of a band on the edge of the second adhesive.

상기 제3 점착물의 너비는 2mm 내지 8mm 사이인 것을 특징으로 한다.The width of the third adhesive is characterized in that between 2mm to 8mm.

또한 본 발명의 제4 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 제1 홈 및 상기 제1 홈의 테두리 하부에 형성되는 제2 홈을 포함하는 제1 및 제2 지그 기판을 형성하는 단계와; 상기 제1 및 제2 지그 기판 각각의 상기 제2 홈에 점착제를 도포하는 단계와; 상기 제1 및 제2 지그 기판 각각의 상기 점착제 및 상기 제1 홈에 제1 및 제2 가요성 기판을 각각 고정시키는 단계와; 상기 제1 가요성 기판 상에서 상부 어레이 기판을 제조하는 단계 및 상기 제2 가요성 기판 상에서 하부 어레이 기판을 제조하는 단계와; 상기 상부 어레이 기판 및 상기 하부 어레이 기판을 합착하고 액정을 주입하는 단계와; 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 지그 기판에서 박리시키는 단계를 포함한다.In addition, a method of manufacturing a flexible display device according to a fourth exemplary embodiment of the present invention may include forming first and second jig substrates including a first groove and a second groove formed under an edge of the first groove; ; Applying an adhesive to the second groove of each of the first and second jig substrates; Fixing first and second flexible substrates to the pressure-sensitive adhesive and the first groove of each of the first and second jig substrates, respectively; Fabricating an upper array substrate on the first flexible substrate and fabricating a lower array substrate on the second flexible substrate; Bonding the upper array substrate and the lower array substrate and injecting liquid crystal; Peeling the first and second flexible substrates from the first and second jig substrates.

상기 제2 홈의 너비는 5mm 내지 100mm로 형성하고, 상기 제2 홈의 두께는 상기 점착제와 동일한 두께로 형성한다.The width of the second groove is formed from 5mm to 100mm, the thickness of the second groove is formed to the same thickness as the pressure-sensitive adhesive.

상기 제1 홈의 너비 및 두께는 상기 가요성 기판의 너비 및 두께와 동일하게 형성한다.The width and thickness of the first groove are formed to be the same as the width and thickness of the flexible substrate.

상기 제2 홈에 도포되는 점착제는 폴리이미드 테잎을 포함하고, 상기 제1 및 제2 지그 기판을 박리시키는 단계는, 레이저를 이용하여 상기 폴리 이미드 테잎이 점착된 상기 제1 및 제2 가요성 기판의 테두리를 컷팅하여 진행한다.The adhesive applied to the second groove may include a polyimide tape, and the peeling of the first and second jig substrates may include the first and second flexible sheets to which the polyimide tape is adhered using a laser. Proceed by cutting the edge of the substrate.

상기 제2 홈에 도포되는 점착제는 자외선에 반응하여 점착력을 잃는 특성의 점착제를 포함하고, 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 지그 기판에서 박리시키는 단계는, 상기 점착제에 자외선을 조사하여 진행하는 것을 특징으로 한다.The pressure-sensitive adhesive applied to the second grooves includes a pressure-sensitive adhesive that loses adhesion in response to ultraviolet rays, and the peeling of the first and second flexible substrates from the first and second jig substrates may be performed on the pressure-sensitive adhesive. It is characterized by proceeding by irradiation with ultraviolet rays.

상기 제2 홈에 도포되는 점착제는 온도에 반응하여 점착력을 잃는 특성의 점착제를 포함하고, 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 지그 기판에서 박리시키는 단계는, 상기 점착제에 온도를 가하여 진행하는 것을 특징으로 한다.The adhesive applied to the second groove may include an adhesive having a property of losing adhesive force in response to temperature, and the peeling of the first and second flexible substrates from the first and second jig substrates may include: It is characterized by advancing by applying temperature.

본 발명의 제5 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 표면이 친수 처리된 가요성 기판 및 비가요성 기판을 마련하는 단계와; 상기 비가요성 기판의 친수 처리면에 점착층의 제1 면을 부착하는 단계와; 상기 점착층의 제2 면에 상기 가요성 기판의 친수 처리면을 부착하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a flexible display device according to a fifth embodiment of the present invention includes the steps of: providing a flexible substrate and a non-flexible substrate having a hydrophilic surface; Attaching a first surface of an adhesive layer to a hydrophilic surface of the non-flexible substrate; Attaching a hydrophilic treatment surface of the flexible substrate to a second surface of the adhesive layer.

상기 친수 처리는 아세톤, PGMEA, IPA 중 어느 하나를 포함한 용매를 통해 이루어지는 것을 특징으로 한다.The hydrophilic treatment is characterized in that it is made through a solvent containing any one of acetone, PGMEA, IPA.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위해 두께를 확대하여 나타내었다.In the drawings, the thickness of layers, films, panels, regions, etc., are exaggerated for clarity.

이하 도 1 내지 도 15를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 15.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 가요성 액정 표시장치의 제조공정은 크게 기판 부착공정(S1), 상부 어레이 기판 제조공정(S2), 하부 어레이 기판 제조공 정(S3), 액정공정(S4), 박리공정(S5), 모듈공정(S6)으로 구분할 수 있다. Referring to FIG. 1, the manufacturing process of the flexible liquid crystal display according to the present invention is largely based on a substrate attaching process (S1), an upper array substrate manufacturing process (S2), a lower array substrate manufacturing process (S3) and a liquid crystal process (S4). , The separation step (S5), and the module step (S6).

기판 부착공정(S1)은 전극형성이 정밀하게 진행되도록 지지역할을 하기위한 비가요성 기판과 표시장치에 유연성을 제공해 줄 가요성 기판을 부착하는 공정이다. 여기서 비가요성 기판으로는 유리기판이 사용되고, 가요성 기판으로는 내열성이 강한 플라스틱기판을 사용한다.The substrate attaching process (S1) is a process of attaching a flexible substrate to provide flexibility to a non-flexible substrate and a display device so as to support the electrode formation precisely. Here, a glass substrate is used as the non-flexible substrate, and a plastic substrate having high heat resistance is used as the flexible substrate.

기판 부착공정(S1)에 대해 상세히 살펴보기 위해 도 2a 내지 도 2c를 결부하여 설명하기로 한다.2A to 2C will be described in detail with reference to the substrate attaching process S1.

도 2a 내지 도 2c를 참조하여 기판 부착공정(S1)을 상세히 하면 다음과 같다. 2A to 2C, the substrate attaching process S1 will be described in detail as follows.

기판 부착공정(S1)에는 점착제가 이용된다. 점착제는 도 2a에 도시된 바와같이 점착층(1)과, 제1 및 제2 보호막(11a, 11b)을 구비한다.An adhesive is used for the board | substrate adhesion process S1. The adhesive includes an adhesive layer 1 and first and second protective films 11a and 11b as shown in FIG. 2A.

제1 및 제2 보호막(11a, 11b)은 점착층(1)이 외부에 노출되어 오염되는 것을 방지하기 위한 것이다. The first and second passivation layers 11a and 11b are for preventing the adhesive layer 1 from being exposed to the outside and being contaminated.

도 2a에 도시된 점착층(1)에는 전극형성이 정밀하게 진행되도록 지지역할을 해줄 비가요성 기판(47)과 표시장치에 유연성을 제공해 줄 가요성 기판(45)이 부착된다.The adhesive layer 1 shown in FIG. 2A is attached with a non-flexible substrate 47 to support the electrode formation precisely and a flexible substrate 45 to provide flexibility to the display device.

이러한 점착층(1)은 도 2a에 도시된 바와 같이 지지막(1b), 제1 점착물 및 제2 점착물(1a, 1c)을 구비한다.This adhesive layer 1 includes a supporting film 1b, a first adhesive and a second adhesive 1a, 1c as shown in FIG. 2A.

지지막(1b)은 점착층(1) 가운데에 위치하여 점착물들(1a, 1c)을 지지하는 역할을 한다. 이러한 지지막(1b)의 재료로는 내열성이 우수한 폴리머들을 사용하며 주로 폴리이미드(PI)가 쓰인다. The supporting film 1b is positioned in the center of the adhesive layer 1 to support the adhesives 1a and 1c. As the material of the support film 1b, polymers having excellent heat resistance are used, and polyimide (PI) is mainly used.

점착물들(1a, 1c)은 지지막(1b)을 사이에 두고 대향되게 위치한다. 이러한 점착물들(1a, 1c)은 내열성이 우수한 재료로 형성되며 주로 아크릴계 수지나 실리콘계열로 형성된다. 비가요성 기판(47)이 부착되는 부분인 제1 점착물(1a)과 가요성 기판(45)이 부착되는 부분인 제2 점착물(1c)의 점착력은 그 조성에 따라 강하거나 약하게 형성시킬 수 있다. 도 2a에서 제2 점착물(1c)은 제1 점착물(1a)에 비해 상대적으로 점성이 약하게 형성된 것이다.The adhesives 1a and 1c are opposed to each other with the supporting film 1b interposed therebetween. These adhesives 1a and 1c are formed of a material having excellent heat resistance, and are mainly formed of an acrylic resin or a silicone series. The adhesion of the first adhesive 1a, which is a portion to which the non-flexible substrate 47 is attached, and the second adhesive 1c, which is a portion to which the flexible substrate 45 is attached, can be strongly or weakly formed depending on its composition. have. In FIG. 2A, the second adhesive 1c is relatively weak in viscosity than the first adhesive 1a.

도 2b를 참조하면 기판 부착공정(S1)은 먼저 상기의 제1 보호막(11a)을 떼어내고 제1 점착물(1a)에 비가요성 기판(47)을 부착한다. Referring to FIG. 2B, the substrate attaching process S1 may first remove the first protective film 11a and attach the non-flexible substrate 47 to the first adhesive 1a.

이 후, 도 2c를 참조하면 상기 비가요성 기판(47)이 부착된 점착층(1)의 제2 보호막(11b)을 떼어내고 가요성 기판(45)을 부착한다.(S1)Subsequently, referring to FIG. 2C, the second protective film 11b of the adhesive layer 1 to which the non-flexible substrate 47 is attached is detached and the flexible substrate 45 is attached (S1).

상기와 같이 점착층(1)이 제1 점착물(1a)과 제2 점착물(1c)의 이중의 점착력을 이루는 이유는 후술할 박리공정(S5) 진행시 가요성 기판(45)과 비가요성 기판을(47) 단계적으로 떼어내기 위함이다.The reason why the adhesive layer 1 forms a double adhesive force between the first adhesive material 1a and the second adhesive material 1c as described above is due to the flexible substrate 45 and the inflexibility during the peeling process S5 to be described later. This is to remove the substrate 47 step by step.

상술한 바와 같은 기판 부착공정(S1)은 상부 어레이 기판을 형성할 제1 가요성 기판(45a) 및 제1 가요성 기판(45a)을 지지하는 제1 비가요성 기판(47a)과 하부 어레이 기판을 형성할 제2 가요성 기판(45b) 및 제2 가요성 기판(45b)을 지지하는 제2 비가요성 기판(47b)을 대상으로 이루어진다.The substrate attaching process S1 as described above may be performed by using the first flexible substrate 45a and the first flexible substrate 47a and the lower array substrate to support the first flexible substrate 45a to form the upper array substrate. A second flexible substrate 45b to be formed and a second non-flexible substrate 47b supporting the second flexible substrate 45b are formed.

상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3)은 R, G, B 화소 픽셀 및 기본적인 전극을 형성하는 공정이다. 하부 어레이 기판은 다수의 신호 배선들 및 박막 트랜지 스터와, 그들 위에 액정 배향을 위해 도포된 배향막으로 구성된다. 상부 어레이 기판은 컬러 구현을 위한 컬러 필터 및 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스와, 그들 위에 액정 배향을 위해 도포된 배향막으로 구성된다.The upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3 are processes for forming R, G and B pixel pixels and basic electrodes. The lower array substrate is composed of a plurality of signal wires and a thin film transistor, and an alignment film coated thereon for liquid crystal alignment. The upper array substrate is composed of a color filter for color realization and a black matrix for light leakage prevention, and an alignment film coated thereon for liquid crystal alignment.

상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3)에 대해 상세히 살펴보기 위해 도 3a 내지 도 4d를 결부하여 설명하기로 한다.The upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3 will be described in detail with reference to FIGS. 3A to 4D.

도 3a내지 도 3e는 상부 어레이 기판 제조공정(S2)의 일례를 단계적으로 나타낸다.3A to 3E show step by step an example of an upper array substrate manufacturing process S2.

먼저, 상기의 비가요성 기판(47a)에 점착된 가요성 기판(45a)상에 불투명 금속 또는 불투명 수지 등의 불투명 물질이 증착된 후 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 유기물질이 패터닝됨으로써 도 3a에 도시된 바와 같이 블랙 매트릭스(3)가 형성된다. 불투명 금속으로는 일반적으로 크롬(Cr)이 이용되고, 불투명 수지로는 유기물질이 이용된다.First, an opaque material such as an opaque metal or an opaque resin is deposited on the flexible substrate 45a adhered to the non-flexible substrate 47a, and then an organic material is patterned by a photolithography process and an etching process. Black matrix 3 is formed as shown in FIG. As the opaque metal, chromium (Cr) is generally used, and an organic material is used as the opaque resin.

블랙 매트릭스(3)가 형성된 가요성 기판(45a) 상에 적색수지가 증착된 후 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 적색수지가 패터닝됨으로써 도 3b에 도시된 바와 같이 적색 컬러필터(R)가 형성된다. After the red resin is deposited on the flexible substrate 45a on which the black matrix 3 is formed, the red resin is patterned by a photolithography process and an etching process to form a red color filter R as shown in FIG. 3B. do.

적색 컬러필터(R)가 형성된 가요성 기판(45a)상에 녹색수지가 증착된 후 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 녹색수지가 패터닝됨으로써 도 3c에 도시된 바와 같이 녹색컬러필터(G)가 형성된다. 녹색 컬러필터(G)가 형성된 가요성 기판(45)상에 청색수지가 증착된 후 포토리쏘그래피 공정과 식각공정에 의해 청색수지가 패터닝됨으로써 도 3d에 도시된 바와 같이 청색 컬러필터(B)가 형성된다. After the green resin is deposited on the flexible substrate 45a on which the red color filter R is formed, the green resin is patterned by a photolithography process and an etching process, thereby as shown in FIG. 3C. Is formed. After the blue resin is deposited on the flexible substrate 45 on which the green color filter G is formed, the blue resin is patterned by a photolithography process and an etching process, thereby providing a blue color filter B as shown in FIG. 3D. Is formed.

적, 녹, 청색 컬러필터가 형성된 가요성 기판(45a)상에 투명도전성 물질이 전면 증착된 후 패터닝됨으로써 도 3e에 도시된 바와 같이 공통전극(35)이 형성된다.(S2)A transparent conductive material is entirely deposited on the flexible substrate 45a on which the red, green, and blue color filters are formed, and then patterned, thereby forming a common electrode 35 as shown in FIG. 3E.

도 4a내지 도 4d는 하부 어레이 기판 제조공정(S3)의 일례를 단계적으로 나타낸다.4A to 4D show an example of the lower array substrate manufacturing process S3 step by step.

먼저, 제1 마스크 공정을 이용하여 상기의 비가요성 기판(47b)에 점착된 가요성 기판(45b)상에 도 4a에 도시된 바와 같이 게이트 라인(2), 게이트 전극(8) 및 게이트 패드 하부 전극(26)을 포함하는 제1 도전 패턴군이 형성된다.First, the gate line 2, the gate electrode 8, and the gate pad lower portion of the flexible substrate 45b adhered to the non-flexible substrate 47b using the first mask process as shown in FIG. 4A. The first conductive pattern group including the electrode 26 is formed.

이를 상세히 설명하면, 가요성 기판(45b) 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 게이트금속층이 형성된다. 이어서, 제1 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각 공정으로 게이트 금속층이 패터닝됨으로써 게이트 라인(2), 게이트 전극(8) 및 게이트 패드 하부 전극(26)을 포함하는 제1 도전 패턴군이 형성된다. 여기서, 게이트금속층으로는 알루미늄계 금속 등이 이용된다.In detail, the gate metal layer is formed on the flexible substrate 45b through a deposition method such as a sputtering method. Subsequently, the gate metal layer is patterned by a photolithography process and an etching process using a first mask to form a first conductive pattern group including the gate line 2, the gate electrode 8, and the gate pad lower electrode 26. . Here, an aluminum metal or the like is used as the gate metal layer.

도 4b를 참조하면, 제1 도전 패턴군이 형성된 가요성 기판(45b) 상에 게이트 절연막(46)이 도포된다. 그리고 제2 마스크 공정을 이용하여 게이트 절연막(46) 위에 활성층(48) 및 오믹 접촉층(50)을 포함하는 반도체 패턴과; 데이터 라인(4), 소스 전극(10), 드레인 전극(12), 데이터 패드 하부 전극(32), 스토리지 전극(22)을 포함하는 제2 도전 패턴군이 형성된다.Referring to FIG. 4B, a gate insulating layer 46 is coated on the flexible substrate 45b on which the first conductive pattern group is formed. A semiconductor pattern including an active layer 48 and an ohmic contact layer 50 on the gate insulating layer 46 using a second mask process; A second conductive pattern group including the data line 4, the source electrode 10, the drain electrode 12, the data pad lower electrode 32, and the storage electrode 22 is formed.

이를 상세히 설명하면, 제1 도전 패턴군이 형성된 가요성 기판(45b) 상에 PECVD, 스퍼터링 등의 증착 방법을 통해 게이트 절연막(46), 비정질 실리콘층, n+ 비정질 실리콘층, 그리고 소스/드레인 금속층이 순차적으로 형성된다. 여기서, 게이트 절연막(46)의 재료로는 산화 실리콘(SiOx) 또는 질화 실리콘(SiNx) 등의 무기 절연물질이 이용된다. 소스/드레인 금속으로는 몰리브덴(Mo), 티타늄, 탄탈륨, 몰리브덴 합금(Mo alloy) 등이 이용된다.In detail, the gate insulating layer 46, the amorphous silicon layer, the n + amorphous silicon layer, and the source / drain metal layer may be formed on the flexible substrate 45b on which the first conductive pattern group is formed by a deposition method such as PECVD or sputtering. Are formed sequentially. Here, an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx) is used as the material of the gate insulating film 46. As the source / drain metal, molybdenum (Mo), titanium, tantalum, molybdenum alloy (Mo alloy) and the like are used.

이어서, 소스/드레인 금속층 위에 제2 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정으로 포토레지스트 패턴을 형성하게 된다. 이 경우 제2 마스크로는 박막 트랜지스터의 채널부에 회절 노광부를 갖는 회절 노광 마스크를 이용함으로써 채널부의 포토레지스트 패턴이 다른 소스/드레인 패턴부 보다 낮은 높이를 갖게 한다.Subsequently, a photoresist pattern is formed on the source / drain metal layer by a photolithography process using a second mask. In this case, by using a diffraction exposure mask having a diffraction exposure portion in the channel portion of the thin film transistor, the photoresist pattern of the channel portion has a lower height than other source / drain pattern portions.

이어서, 포토레지스트 패턴을 이용한 습식 식각 공정으로 소스/드레인 금속층이 패터닝됨으로써 데이터 라인(4), 소스 전극(10), 그 소스 전극(10)과 일체화된 드레인 전극(12), 스토리지 전극(22)을 포함하는 제2 도전 패턴군이 형성된다.Subsequently, the source / drain metal layer is patterned by a wet etching process using a photoresist pattern, so that the data line 4, the source electrode 10, the drain electrode 12 integrated with the source electrode 10, and the storage electrode 22 are formed. A second conductive pattern group including a is formed.

그 다음, 동일한 포토레지스트 패턴을 이용한 건식 식각공정으로 n+ 비정질 실리콘층과 비정질 실리콘층이 동시에 패터닝됨으로써 오믹 접촉층(50)과 활성층(48)이 형성된다.Then, the ohmic contact layer 50 and the active layer 48 are formed by simultaneously patterning the n + amorphous silicon layer and the amorphous silicon layer by a dry etching process using the same photoresist pattern.

그리고, 애싱(Ashing) 공정으로 채널부에서 상대적으로 낮은 높이를 갖는 포토레지스트 패턴이 제거된 후 건식 식각 공정으로 채널부의 소스/드레인 금속 패턴 및 오믹 접촉층(50)이 식각된다. 이에 따라, 채널부의 활성층(48)이 노출되어 소스 전극(10)과 드레인 전극(12)이 분리된다.In addition, after the photoresist pattern having a relatively low height is removed from the channel part by an ashing process, the source / drain metal pattern and the ohmic contact layer 50 of the channel part are etched by a dry etching process. Accordingly, the active layer 48 of the channel portion is exposed to separate the source electrode 10 and the drain electrode 12.

이어서, 스트립 공정으로 제2 도전 패턴군 위에 남아 있던 포토레지스트 패턴이 제거된다.Subsequently, the photoresist pattern remaining on the second conductive pattern group is removed by a stripping process.

도 4c를 참조하면, 제2 도전 패턴군이 형성된 게이트 절연막(46) 상에 제3 마스크 공정을 이용하여 제1 내지 제4 접촉홀들(13, 21, 27, 33)을 포함하는 보호막(52)이 형성된다.Referring to FIG. 4C, a passivation layer 52 including first to fourth contact holes 13, 21, 27, and 33 on the gate insulating layer 46 on which the second conductive pattern group is formed by using a third mask process. ) Is formed.

상세히 하면, 제2 도전 패턴군이 형성된 게이트 절연막(46) 상에 PECVD 등의 증착 방법으로 보호막(52)이 전면 형성된다. 이어서, 보호막(52)이 제3 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각 공정으로 패터닝됨으로써 제1 내지 제4 접촉홀들(13, 21, 27, 33)이 형성된다. 제1 접촉홀(13)은 보호막(52)을 관통하여 드레인 전극(12)을 노출시키고, 제2 접촉홀(21)은 보호막(52)을 관통하여 스토리지 전극(22)을 노출시킨다. 제3 접촉홀(27)은 보호막(52) 및 게이트 절연막(46)을 관통하여 게이트 패드 하부 전극(26)을 노출시키고, 제4 접촉홀(33)은 보호막(52)을 관통하여 데이터 패드 하부 전극(32)을 노출시킨다. 여기서, 소스/드레인 금속으로 몰리브덴(Mo)과 같이 건식 식각비 큰 금속이 이용되는 경우 제1, 제2, 제4 접촉홀(12, 21, 33) 각각은 드레인 전극(12), 스토리지 전극(22), 데이터 패드 하부 전극(32)까지 관통하여 그들의 측면을 노출시키게 된다. In detail, the protective film 52 is entirely formed on the gate insulating film 46 on which the second conductive pattern group is formed by a deposition method such as PECVD. Subsequently, the passivation layer 52 is patterned by a photolithography process and an etching process using a third mask to form first to fourth contact holes 13, 21, 27, and 33. The first contact hole 13 penetrates through the passivation layer 52 to expose the drain electrode 12, and the second contact hole 21 penetrates through the passivation layer 52 to expose the storage electrode 22. The third contact hole 27 penetrates the passivation layer 52 and the gate insulating layer 46 to expose the gate pad lower electrode 26, and the fourth contact hole 33 penetrates the passivation layer 52 to lower the data pad. The electrode 32 is exposed. Here, when a dry etch ratio metal such as molybdenum (Mo) is used as the source / drain metal, each of the first, second, and fourth contact holes 12, 21, and 33 may have a drain electrode 12 and a storage electrode ( 22) through the data pad lower electrode 32 to expose their sides.

보호막(52)의 재료로는 게이트 절연막(46)과 같은 무기 절연 물질이나 유전상수가 작은 아크릴(acryl)계 유기 화합물, BCB 또는 PFCB 등과 같은 유기 절연 물질이 이용된다.As the material of the protective film 52, an inorganic insulating material such as the gate insulating film 46, an acryl based organic compound having a small dielectric constant, or an organic insulating material such as BCB or PFCB is used.

도 4d를 참조하면, 제4 마스크 공정을 이용하여 보호막(52) 상에 화소 전극(14), 게이트 패드 상부 전극(28), 데이터 패드 상부 전극(34)을 포함하는 제3 도전 패턴군이 형성된다.Referring to FIG. 4D, a third conductive pattern group including the pixel electrode 14, the gate pad upper electrode 28, and the data pad upper electrode 34 is formed on the passivation layer 52 using a fourth mask process. do.

상세히 하면, 보호막(52) 상에 스퍼터링 등의 증착 방법으로 투명 도전막이 도포된다. 이어서 제4 마스크를 이용한 포토리쏘그래피 공정과 식각 공정을 통해 투명 도전막이 패텅님됨으로써 화소 전극(14), 게이트 패드 상부 전극(28), 데이터 패드 상부 전극(34)을 포함하는 제3 도전 패턴군이 형성된다. 화소 전극(14)은 제1 접촉홀(13)을 통해 드레인 전극(12)과 전기적으로 접속되고, 제2 접촉홀(21)을 통해 스토리지 전극(22)과 전기적으로 접속된다. 게이트 패드 상부 전극(28)는 제3 접촉홀(37)을 통해 게이트 패드 하부 전극(26)과 전기적으로 접속된다. 데이터 패드 상부 전극(34)은 제4 접촉홀(33)을 통해 데이터 하부 전극(32)과 전기적으로 접속된다. In detail, the transparent conductive film is apply | coated on the protective film 52 by the vapor deposition method, such as sputtering. Subsequently, the transparent conductive layer is etched through a photolithography process and an etching process using a fourth mask, thereby forming a third conductive pattern group including the pixel electrode 14, the gate pad upper electrode 28, and the data pad upper electrode 34. Is formed. The pixel electrode 14 is electrically connected to the drain electrode 12 through the first contact hole 13 and electrically connected to the storage electrode 22 through the second contact hole 21. The gate pad upper electrode 28 is electrically connected to the gate pad lower electrode 26 through the third contact hole 37. The data pad upper electrode 34 is electrically connected to the data lower electrode 32 through the fourth contact hole 33.

여기서, 투명 도전막의 재료로는 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zinc Oxide : IZO) 및 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO) 중 어느 하나가 이용된다.(S3) Herein, materials of the transparent conductive film include indium tin oxide (ITO), tin oxide (TO), indium tin zinc oxide (IZO), and indium zinc oxide (IZO). Is used. (S3)

액정공정(S4)은 상기의 상부 어레이 기판 제조공정(S2)과 하부 어레이 기판 제조공정(S3)에서 제작된 두개의 기판을 하나로 합착하고 그 내부의 액정층 공간(49)에 액정을 주입하는 공정을 포함한다.In the liquid crystal process S4, the two substrates manufactured in the upper array substrate manufacturing process S2 and the lower array substrate manufacturing process S3 are bonded together and a liquid crystal is injected into the liquid crystal layer space 49 therein. It includes.

박리공정(S5)은 액정공정(S4)을 마친 상/하부의 가요성 기판(45)과 비가요성 기판(47)을 점착층에서 박리시키는 공정이다. Peeling process S5 is a process of peeling the upper and lower flexible substrate 45 and the non-flexible board | substrate 47 which completed liquid crystal process S4 from the adhesion layer.

도 5a 및 도 5b를 참조하여 박리공정(S5)을 설명하기로 한다.The peeling process S5 will be described with reference to FIGS. 5A and 5B.

도 5a에 도시된 바와 같이 점성이 약한 점착면에 부착된 가요성 기판(45a, 45b)이 떼어진다. 그 후 도 5b에 도시된 바와 같이 점성이 강한 점착면에 부착된 비가요성 기판(47a, 47b)이 떼어진다. 도 5a 및 도 5b의 도면에서 가요성 기판(45a, 45b)상에 상/하부 어레이 기판 공정후 형성된 각 전극 및 컬러필터는 도시하지 않았다.As shown in FIG. 5A, the flexible substrates 45a and 45b attached to the viscous adhesive surface are weak. Thereafter, as shown in Fig. 5B, the inflexible substrates 47a and 47b attached to the viscous adhesive surface are removed. 5A and 5B, the electrodes and the color filters formed after the upper and lower array substrate processes on the flexible substrates 45a and 45b are not shown.

모듈공정(S6)은 S1 내지 S5공정을 거쳐 완성된 패널에 편광판을 부착하고 구동회로를 실장하는 등의 공정을 진행하여 최종적으로 모듈을 완성하는 공정이다. The module step (S6) is a step of finally completing the module by attaching a polarizing plate to the panel completed through the steps S1 to S5 and mounting a driving circuit.

한편, 상술한 상/하부 어레이 기판 제조 공정(S2, S3)에서 살펴본 바와 같이 각 전극등을 형성하기 위한 증착방법에는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)방식, 스퍼터링(Sputtering)방식등이 있다. 이러한 방식들에는 진공상태, 기판온도, 반응가스, 반응압력등의 조건이 필요하다.On the other hand, as described in the upper and lower array substrate manufacturing process (S2, S3) described above, there are a deposition method for forming each electrode, PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method, sputtering method and the like. These methods require conditions such as vacuum state, substrate temperature, reaction gas, reaction pressure, and the like.

또한 기판 부착공정(S1) 진행 후 제2 점착물(1c)에 부착된 가요성 기판(45a, 45b)면과 제1 점착물(1a)에 부착된 비가요성 기판(47a, 47b)면에 작은 기포들이 발생할 가능성이 있다. 이러한 작은 기포들은 상기의 진공상태를 요하는 상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3)을 진행할때 진공상태 형성시 뭉쳐져 기포의 크기가 커질수 있다. 기포가 뭉쳐서 커지는 현상은 제2 점착물(1c)로 부착된 가요성 기판(45a, 45b)면의 점성이 제1 점착물(1a)로 부착된 비가요성 기판(47a, 47b)면의 점성에 비해 상대적으로 떨어지기 때문에 제2 점착물(1c)과 가요성 기판(45a, 45b)의 부착면에서 발생한다. 상기와 같은 원인으로 커진 기포들로 인해 제조공정 도중에 가요성 기판(45a, 45b)이 점착층(1)에서 박리될 수 있다.In addition, after the substrate attaching step S1 is performed, the surfaces of the flexible substrates 45a and 45b attached to the second adhesive 1c and the surfaces of the non-flexible substrates 47a and 47b attached to the first adhesive 1a are small. Bubbles are likely to occur. These small bubbles may be agglomerated during formation of the vacuum state when the upper / lower array substrate manufacturing processes S2 and S3 require the above vacuum state, thereby increasing the size of the bubbles. The phenomenon that bubbles are agglomerated and large is caused by the viscosity of the surfaces of the flexible substrates 45a and 45b attached by the second adhesive 1c to the viscosity of the surfaces of the flexible substrates 47a and 47b attached by the first adhesive 1a. Compared with each other, it is relatively inferior, and therefore occurs at the attachment surface of the second adhesive 1c and the flexible substrates 45a and 45b. Due to the bubbles expanded due to the above, the flexible substrates 45a and 45b may be peeled off from the adhesive layer 1 during the manufacturing process.

그리고 상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3)이 기존의 액정 표시장치의 유 리기판보다 상대적으로 약한 가요성 기판(45a, 45b) 위에서 진행되므로 상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3) 진행시 발생하는 온도, 압력 등에 의한 스트레스에 상대적으로 취약한 제2 점착물(1c)에 부착된 가요성 기판(45a, 45b)이 축소될 수 있다. In addition, the upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3 are performed on the flexible substrates 45a and 45b which are relatively weaker than the glass substrates of the conventional liquid crystal display, and thus the upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3. The flexible substrates 45a and 45b attached to the second adhesive 1c, which are relatively vulnerable to stress due to temperature, pressure, and the like, may be reduced.

또한 상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3) 진행시 이루어지는 습식 식각이나 세정공정 중에 제2 점착물(1c)의 약한 점성으로 인해 제2 점착물(1c)에 부착된 가요성 기판(45a, 45b)면이 점착층(1)에서 박리될 수 있다.In addition, due to the weak viscosity of the second adhesive 1c during the wet etching or the cleaning process during the upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3, the flexible substrate 45a and the second adhesive 1c are attached. 45b) may be peeled off from the adhesive layer 1.

도 6a 내지 도 15는 위와 같이 가요성 표시장치의 제조공정 진행중에 가요성 기판이 박리되는 현상을 방지하기 위한 가요성 표시장치의 제조방법을 보여주는 도면이다.6A through 15 illustrate a method of manufacturing a flexible display device to prevent the flexible substrate from being peeled off during the manufacturing process of the flexible display device.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 가요성 기판의 제조방법에 사용되는 점착제의 구조를 보여주는 도면이다. 도 6a 및 도 6b를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 점착제는 제1 점착물(5a), 지지막(5b), 제2 점착물(5c) 및 제3 점착물(55)을 포함하는 점착층(5)과 점착층(5)을 외부로부터 보호하기 위한 제1 및 제2 보호막(11a, 11b)을 구비한다.6A and 6B are views illustrating a structure of an adhesive used in a method of manufacturing a flexible substrate according to a first embodiment of the present invention. 6A and 6B, the pressure-sensitive adhesive according to the first embodiment of the present invention may include a first adhesive 5a, a support film 5b, a second adhesive 5c, and a third adhesive 55. The adhesive layer 5 and the adhesive layer 5 which are included are provided with the 1st and 2nd protective films 11a and 11b for protecting from the exterior.

제2 점착물(5c)은 제1 점착물(5a)에 비해 상대적으로 약한 점성으로 형성되고, 제3 점착물(55)은 제2 점착물(5c)에 비해 상대적으로 강한 점성으로 형성된다. 제3 점착물(55)의 점성은 제1 점착물(5a)의 점성과 동일하게 형성될 수 도 있다. The second adhesive 5c is formed at a relatively weaker viscosity than the first adhesive 5a, and the third adhesive 55 is formed at a relatively strong viscosity compared to the second adhesive 5c. The viscosity of the third adhesive 55 may be formed to be the same as the viscosity of the first adhesive 5a.

지지막(5b)은 제1 내지 제3 점착물(5a, 5c, 55)에 지지력을 제공한다.The supporting film 5b provides a supporting force to the first to third adhesives 5a, 5c, and 55.

도 2a에서 상술한 바와 같이 제2 점착물(1c)층은 약한 점성으로 인해 가요성 표시장치의 제조공정 진행중에 박리현상을 발생시킬 수 있다. 이를 방지하기 위해 본 발명의 제1 실시예에서는 제2 점착물(5c)층 테두리 및 지지막(5b) 상부에 적정한 너비로 제3 점착물(55)을 형성한다. 도 6b는 제2 점착물(5c)층 테두리에 형성된 제3 점착물(55)의 구조를 평면에서 보여주는 도면이다.As described above with reference to FIG. 2A, the second adhesive 1c layer may generate a peeling phenomenon during the manufacturing process of the flexible display due to the weak viscosity. In order to prevent this, in the first embodiment of the present invention, the third adhesive 55 is formed to have an appropriate width on the edge of the second adhesive 5c layer and the upper portion of the supporting film 5b. FIG. 6B is a plan view showing the structure of the third adhesive material 55 formed on the edge of the second adhesive material 5c layer.

본 발명의 제1 실시예에 따른 점착제를 사용하여 비가요성 기판(47a, 47b)과 표시장치에 유연성을 제공해 줄 가요성 기판(45a, 45b)을 부착하는 공정은 도 2b 및 도 2c에서 설명한 바와 같다.The process of attaching the flexible substrates 47a and 47b and the flexible substrates 45a and 45b to provide flexibility to the display device using the adhesive according to the first embodiment of the present invention is as described with reference to FIGS. 2B and 2C. same.

도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법에서 점착제의 구조를 보여준다.7 illustrates a structure of an adhesive in a method of manufacturing a flexible display device according to a second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2 실시예에서의 점착제는 제1 점착물(6a), 지지막(6b), 제2 점착물(6c) 및 제3 점착물(66)을 포함하는 점착층(6)과 점착층(6)을 외부로부터 보호하기 위한 제1 및 제2 보호막(11a, 11b)을 구비한다.In the second embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive is attached to the pressure-sensitive adhesive layer 6 including the first adhesive 6a, the supporting film 6b, the second adhesive 6c, and the third adhesive 66. First and second protective films 11a and 11b are provided for protecting the layer 6 from the outside.

제2 점착물(6c)은 제1 점착물(6a)에 비해 상대적으로 약한 점성으로 형성되고, 제3 점착물(66)은 제2 점착물(6c)에 비해 상대적으로 강한 점성으로 형성된다. 제3 점착물(66)의 점성은 제1 점착물(6a)의 점성과 동일하게 형성될 수 도 있다. 그리고 본 발명의 제2 실시예에 따른 제3 점착물(66)은 제2 점착물(6c) 상면의 테두리에 형성된다. The second adhesive 6c is formed with a relatively weaker viscosity than the first adhesive 6a, and the third adhesive 66 is formed with a relatively strong viscosity compared to the second adhesive 6c. The viscosity of the third adhesive 66 may be formed to be the same as the viscosity of the first adhesive 6a. And the third adhesive 66 according to the second embodiment of the present invention is formed on the edge of the upper surface of the second adhesive (6c).

지지막(6b)은 제1 및 제2 점착물(6a, 6c)에 지지력을 제공한다. The supporting film 6b provides the supporting force to the first and second adhesives 6a and 6c.

상기의 제3 점착물(66)은 본 발명의 제1 실시예에 따른 제3 점착물(55)과 마찬가지로 가요성 표시장치 제조 공정 진행도중 발생하는 가요성 기판의 박리 현상 을 방지하기 위해 형성된다. Like the third adhesive 55 according to the first exemplary embodiment of the present invention, the third adhesive 66 is formed to prevent peeling of the flexible substrate generated during the process of manufacturing the flexible display device. .

본 발명의 제2 실시예에 따른 점착제를 사용하여 비가요성 기판(47a, 47b)과 표시장치에 유연성을 제공해 줄 가요성 기판(45a, 45b)을 부착하는 공정은 도 2b 및 도 2c에서 설명한 바와 같다.The process of attaching the flexible substrates 47a and 47b and the flexible substrates 45a and 45b to provide flexibility to the display device using the adhesive according to the second embodiment of the present invention is as described with reference to FIGS. 2B and 2C. same.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제3 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법을 보여주는 도면이다.8A and 8B illustrate a method of manufacturing a flexible display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 부착공정(S1)은 도 2a 및 도 2b에서 상술한 점착제에서 제1 보호막(11a)을 떼어내고 비가요성 기판(47a, 47b)을 부착하는 단계와, 상기 비가요성 기판(47a, 47b)이 부착된 점착제에서 제2 보호막(11b)을 떼어내는 단계까지는 도 2a 및 도 2b에서 설명한 바와 동일하다. 그러나 본 발명의 제3 실시예에서는 상기 제2 보호막(11b)이 떼어진 제2 점착물(1c)의 상부 테두리에 적정 너비로 제3 점착물(77)을 프린팅하는 단계를 더 포함한다. 제3 점착물(77)을 형성하는 방법은 프린팅하는 방법 외에 실(seal)재 처리하듯이 형성하는 방법이 있다. 제3 점착물(77)이 형성된 후 상기 제2 점착물(1c) 및 프린팅 된 제3 점착물(77)상에 가요성 기판(45a, 45b)을 부착한다. 여기서 제3 점착물(77)은 제2 점착물(1c)에 비해 상대적으로 강한 점성으로 형성된다. 제3 점착물(77)의 점성은 제1 점착물(1a)의 점성과 동일하게 형성될 수 있다.Substrate attaching process (S1) according to a third embodiment of the present invention is the step of removing the first protective film (11a) from the pressure-sensitive adhesive described above in Figures 2a and 2b and attaching the non-flexible substrate (47a, 47b), Up to the step of removing the second protective film 11b from the pressure-sensitive adhesive with the non-flexible substrates 47a and 47b is the same as described with reference to FIGS. 2A and 2B. However, the third embodiment of the present invention further includes the step of printing the third adhesive 77 with an appropriate width on the upper edge of the second adhesive 1c from which the second protective film 11b is removed. The method of forming the third adhesive 77 includes a method of forming the seal material in addition to the printing method. After the third adhesive 77 is formed, the flexible substrates 45a and 45b are attached onto the second adhesive 1c and the printed third adhesive 77. Here, the third adhesive 77 is formed with a relatively strong viscosity compared to the second adhesive 1c. The viscosity of the third adhesive 77 may be formed to be the same as the viscosity of the first adhesive 1a.

상기의 제3 점착물(77)은 본 발명의 제1 실시예에 따른 제3 점착물(55)과 마찬가지로 가요성 표시장치 제조 공정 진행도중 발생하는 가요성 기판의 박리 현상을 방지하기 위해 형성된다. Like the third adhesive 55 according to the first exemplary embodiment of the present invention, the third adhesive 77 is formed to prevent peeling of the flexible substrate generated during the manufacturing process of the flexible display device. .

상기 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에서 제2 점착물(6c, 1c)의 테두리 및 제2 점착물(6c, 1c)의 상부에 형성된 제3 점착물(55, 66, 77)의 너비는 2 ~ 8mm가 바람직하다. 2mm 미만으로 형성하면 본 발명의 목적인 가요성 표시장치의 제조공정 진행중에 생기는 박리 현상을 방지하지 못하게 되고, 8mm를 초과하면 박리공정(S5)진행시 가요성 기판(45a, 45b)과 비가요성 기판(47a, 47b)의 단계적인 박리진행에 어려움이 있다.Widths of the third adhesives 55, 66, and 77 formed on the edges of the second adhesives 6c and 1c and the upper portions of the second adhesives 6c and 1c in the first to third embodiments of the present invention. 2-8 mm is preferable. If the thickness is less than 2 mm, the peeling phenomenon occurring during the manufacturing process of the flexible display device, which is an object of the present invention, may not be prevented. If the thickness exceeds 8 mm, the flexible substrates 45a and 45b and the flexible substrate during the peeling process S5 may be prevented. There is a difficulty in the stepwise peeling of (47a, 47b).

도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 제4 실시예에 따른 가요성 표시장치의 부착공정(S1)을 나타낸다. 먼저 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이 식각 공정을 통해 제1 홈(113) 및 제2 홈(117)을 포함하는 지그(jig) 기판(100)을 마련한다. 그 후 지그 기판(100)의 제2 홈(117)에 점착제(101)를 도포하고 나서, 도 8c와 같이 지그 기판(100)의 제1 홈(113)에 가요성 기판(103)을 고정시키고 제2 홈(117)에 도포된 점착제(107)에 가요성 기판(103)을 부착한다.9A to 9C illustrate an attaching process S1 of a flexible display device according to a fourth exemplary embodiment of the present invention. First, as shown in FIGS. 9A and 9B, a jig substrate 100 including a first groove 113 and a second groove 117 is prepared through an etching process. Thereafter, the adhesive 101 is applied to the second groove 117 of the jig substrate 100, and then the flexible substrate 103 is fixed to the first groove 113 of the jig substrate 100 as shown in FIG. 8C. The flexible substrate 103 is attached to the pressure-sensitive adhesive 107 applied to the second groove 117.

가요성 기판(103)의 고정 및 부착을 상세히 하기 위해 먼저 지그 기판(100)에 대해 알아보기로 한다. 지그 기판(100)은 비가요성 기판에 홈을 형성시킨 것이다. 본 발명의 제4 실시예에서 지그 기판(100)은 가요성 기판이 고정될 제1 홈(113) 및 점착제(107)가 채워질 제2 홈(117)을 구비한다. 제1 홈(113) 및 제2 홈(117)은 유리기판에 식각공정을 진행하여 형성된다. 이와 같이 비가요성 기판으로 유리기판을 사용하는 것은 금속 기판을 사용할 경우에는 화학적인 손상을 방지하기 위해 별도의 코팅처리가 필요하므로 지그 기판(100)의 제작이 용이하지 못하기 때문이다. 또한 지그 기판(100)을 비가요성 기판으로 형성하는 것은 비가요성 기판이 가요성 기판(103) 상에 형성되는 배선 형성공정이 정밀하게 진행될 수 있도록 지지력을 제공해 줄 수 있기 때문이다.In order to fix and attach the flexible substrate 103 in detail, first, the jig substrate 100 will be described. The jig substrate 100 is a groove formed in the non-flexible substrate. In the fourth embodiment of the present invention, the jig substrate 100 includes a first groove 113 on which the flexible substrate is to be fixed and a second groove 117 on which the adhesive 107 is to be filled. The first groove 113 and the second groove 117 are formed by performing an etching process on the glass substrate. The use of the glass substrate as the non-flexible substrate is because it is not easy to manufacture the jig substrate 100 because a separate coating treatment is required to prevent chemical damage when using a metal substrate. In addition, the jig substrate 100 may be formed as a non-flexible substrate because the support substrate may be provided to precisely proceed the wiring forming process in which the non-flexible substrate is formed on the flexible substrate 103.

한편, 제1 홈(113)의 너비 및 두께는 가요성 기판(103)의 너비 및 두께와 동일하게 형성하여 가요성 기판(103)이 고정되도록 한다. 이러한 제1 홈(113)은 가요성 표시장치의 제조과정에서 가요성 기판(103)을 고정하여 가요성 표시장치의 제조공정 진행중에 가요성 기판(103)이 움직이는 것을 방지해 줄 수 있게 된다. 그리고 제2 홈(117)은 제1 홈(113)의 테두리 하부에 형성되어 가요성 기판(103)을 지그 기판(100)에 부착될 수 있게 하는 점착제(107)가 도포될 수 있는 공간을 제공한다. 이러한 제2 홈(117)의 너비(x)는 5mm ~ 100mm로 형성한다. 제2 홈(117)의 너비(x)가 5mm 미만일 경우는 점착력이 충분히 제공되지 않아 가요성 표시장치 제조공정 중에 가요성 기판이 박리되므로 5mm 이상이 적절하다. 또한 제2 홈(117)의 너비(x)가 100mm를 초과하면 향 후 박리공정(S5)을 진행하기 힘들기 때문에 100mm이내가 적절하다. 그리고 제2 홈(117)의 두께(y)는 도포되는 점착제(101)의 두께와 동일한 두께를 가진다. 점착제(101)와 동일한 두께를 가지는 제2 홈(117)은 제2 홈(117)에 도포된 점착제(101)에 가요성 기판(103)을 부착시킨 후 가요성 기판(103)과 지그 기판(100) 사이에 단차가 발생하지 않도록 해준다. 즉, 지그 기판(100)에 도포되는 점착제(107)의 두께로 인해 가요성 기판(103)에 발생하는 단차를 제2 홈(117)이 방지해주는 것이다. 가요성 기판(103)과 지그 기판 사이에 단차가 발생하지 않음으로써 가요성 기판(103) 상에서 후술할 상/하부 어레이 기판 공정이 안정적으로 이루어질 수 있게 된다. On the other hand, the width and the thickness of the first groove 113 is formed to be the same as the width and thickness of the flexible substrate 103 so that the flexible substrate 103 is fixed. The first groove 113 may fix the flexible substrate 103 in the manufacturing process of the flexible display device to prevent the flexible substrate 103 from moving during the manufacturing process of the flexible display device. In addition, the second groove 117 may be formed under the edge of the first groove 113 to provide a space where the adhesive 107 may be applied to allow the flexible substrate 103 to be attached to the jig substrate 100. do. The width x of the second groove 117 is formed to 5mm ~ 100mm. When the width x of the second groove 117 is less than 5 mm, since the adhesive force is not sufficiently provided, the flexible substrate is peeled off during the manufacturing process of the flexible display device, so 5 mm or more is appropriate. In addition, if the width (x) of the second groove 117 exceeds 100mm, since it is difficult to proceed the peeling step (S5) in the future, less than 100mm is appropriate. The thickness y of the second groove 117 has the same thickness as that of the pressure-sensitive adhesive 101 to be applied. The second groove 117 having the same thickness as the pressure-sensitive adhesive 101 has the flexible substrate 103 attached to the pressure-sensitive adhesive 101 applied to the second groove 117, and then the flexible substrate 103 and the jig substrate ( It is possible to avoid the step between 100). That is, the second groove 117 prevents a step generated in the flexible substrate 103 due to the thickness of the adhesive 107 applied to the jig substrate 100. Since no step is generated between the flexible substrate 103 and the jig substrate, the upper and lower array substrate processes to be described later may be stably performed on the flexible substrate 103.

상기의 가요성 기판(103)과 지그 기판(100)의 부착 공정(S1)은 상부 어레이 기판 제조공정(S2)을 거칠 제1 가요성 기판(103a) 및 제1 지그 기판(100a)과 하부 어레이 기판 제조공정(S3)을 거칠 제2 가요성 기판(103b) 및 제2 지그 기판(100b)에서 각각 진행된다.In the attaching step S1 of the flexible substrate 103 and the jig substrate 100, the first flexible substrate 103a and the first jig substrate 100a and the lower array which have passed through the upper array substrate manufacturing process S2 are performed. It progresses in the 2nd flexible board | substrate 103b and the 2nd jig board | substrate 100b which respectively passed the board | substrate manufacturing process S3.

도 10은 본 발명의 제4 실시예에 따른 가요성 표시장치 부착공정(S1) 진행후의 과정들을 간략히 도시한 도면이다. 또한, 도 11a 및 도 11b에 도시된 가요성 기판(103a, 103b) 상에 상/하부 어레이 기판 공정후 형성된 각 전극 및 컬러필터는 도시하지 않았다.FIG. 10 is a view briefly illustrating processes after a flexible display device attaching process S1 according to a fourth exemplary embodiment of the present invention. In addition, the electrodes and the color filters formed after the upper and lower array substrate processes on the flexible substrates 103a and 103b shown in FIGS. 11A and 11B are not shown.

도 10을 참조하면, 지그 기판에 부착된 가요성 기판 상부에서 상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3)을 진행한다.Referring to FIG. 10, upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3 are performed on a flexible substrate attached to a jig substrate.

상/하부 어레이 기판 제조공정(S2, S3)에 대한 상세한 설명은 도 3a 내지 도 4d에서 상술한바 있으므로 생략한다. Detailed descriptions of the upper and lower array substrate manufacturing processes S2 and S3 are omitted since they have been described above with reference to FIGS. 3A to 4D.

그 후, 상기의 상부 어레이 기판 제조공정(S2)과 하부 어레이 기판 제조공정(S3)에서 제작된 두개의 기판을 하나로 합착하고 그 내부의 액정층(149) 공간에 액정을 주입하는 액정공정(S4)을 진행한다.Then, the liquid crystal process (S4) of bonding the two substrates produced in the upper array substrate manufacturing process (S2) and the lower array substrate manufacturing process (S3) into one and injecting liquid crystal into the liquid crystal layer 149 space therein. Proceed).

액정공정(S4)을 마친 상/하부 어레이 기판은 점착제에서 박리시키는 박리공정(S5)을 진행한다. After completing the liquid crystal process (S4), the upper and lower array substrates are subjected to a peeling process (S5) in which the adhesive is peeled off.

도 11a 및 도 11b를 참조하여 박리공정(S5)을 상세히 하면, 박리공정(S5)은 제2 홈(117)에 도포된 점착제(107)의 종류에 따라 약간의 차이가 있다.11A and 11B, the peeling step S5 will be described in detail. The peeling step S5 may be slightly different depending on the type of the adhesive 107 applied to the second groove 117.

제2 홈(117)에 도포되는 점착제(107)는 자외선(UV)타입 및 써멀(thermal) 타 입의 점착제 및 내열성이 강한 폴리 이미드(PI) 점착 테잎을 포함한다.The pressure-sensitive adhesive 107 applied to the second grooves 117 may include pressure-sensitive adhesives of ultraviolet (UV) type and thermal type and polyimide (PI) adhesive tape having strong heat resistance.

자외선 타입의 점착제를 사용할 경우, 박리 공정(S5) 진행시 점착제(101)에 자외선을 조사하면 점착제(107)가 점착력을 잃게 되어 제1 및 제2 지그 기판(100a, 100b)에서 제1 및 제2 가요성 기판(103a, 103b)이 떼어지게 된다. In the case of using the ultraviolet-ray type adhesive, when the adhesive 101 is irradiated with ultraviolet rays during the peeling process (S5), the adhesive 107 loses the adhesive force, and thus the first and second jig substrates 100a and 100b are used. The two flexible substrates 103a and 103b are separated.

써멀(thermal) 타입의 점착제는 상온이하의 온도에서 점착력을 잃는 점착제와 20℃~200℃의 온도에서 점착력을 잃는 점착제를 포함한다. 상온 이하의 온도에서 점착력을 잃는 점착제를 사용하는 경우에는 점착제(107)에 상온이하의 온도를 가해주어 점착력을 잃게하는 쿨-오프(cool-off) 방식으로 박리공정(S5)을 진행시킨다. 20℃~200℃의 온도에서 점착력을 잃는 점착제를 사용할 경우에는 점착제(101)에 20℃~200℃의 온도를 가해주어 점착력을 잃게하는 웜-오프(warm-off)방식으로 박리공정(S5)을 진행시킨다. The thermal type adhesive includes an adhesive which loses the adhesive force at a temperature below room temperature and an adhesive which loses the adhesive force at a temperature of 20 ° C to 200 ° C. When using the pressure-sensitive adhesive at a temperature below room temperature, the peeling process (S5) is performed in a cool-off manner by applying a temperature below room temperature to the pressure-sensitive adhesive 107 to lose the adhesive force. When using the pressure-sensitive adhesive at a temperature of 20 ℃ ~ 200 ℃ peeling step (S5) by applying a temperature of 20 ℃ ~ 200 ℃ to the pressure-sensitive adhesive 101 to lose the adhesive force (warm-off) method Proceed.

그리고 폴리 이미드 점착 테잎을 사용할 경우, 박리 공정(S5) 진행시 폴리이미드 점착 테잎이 붙어있는 제1 및 제2 가요성 기판(103a, 103b)의 테두리를 레이저로 절단하여 박리시킨다.In the case of using the polyimide adhesive tape, the edges of the first and second flexible substrates 103a and 103b having the polyimide adhesive tape are peeled off with a laser during the peeling process (S5).

도 12a 내지 도 14e는 본 발명의 제5 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.12A through 14E illustrate a method of manufacturing a flexible display device according to a fifth exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 제5 실시예에 따른 가요성 표시장치의 제조 방법은 도 1에서 상술한 바와 같은 공정과정을 통해 제조된다.The method of manufacturing the flexible display device according to the fifth exemplary embodiment of the present invention is manufactured through the process described above with reference to FIG. 1.

한편, 기판 부착공정(S1) 진행중에 점착층과 가요성 기판 또는 점착층과 비가요성 기판 사이에 발생하는 기포에 의해 가요성 기판 상부에 불량 패턴이 형성될 수 있다.Meanwhile, a defective pattern may be formed on the flexible substrate by bubbles generated between the adhesive layer and the flexible substrate or the adhesive layer and the non-flexible substrate during the substrate attaching process S1.

기포에 의한 불량패턴 형성을 12a 내지 도 12f를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Defect pattern formation by bubbles will be described in detail with reference to 12a to 12f.

기판 부착 공정(S1)은 도 12a에 도시된 바와 같이 점착층(101), 제1 보호막(111a) 및 제2 보호막(111b)을 포함하는 점착제를 이용하여 이루어진다.As shown in FIG. 12A, the substrate attaching process S1 is performed using an adhesive including the adhesive layer 101, the first passivation layer 111a, and the second passivation layer 111b.

제1 및 제2 보호막(111a, 111b)은 점착층(101)이 외부에 노출되어 오염되는 것을 방지하기 위한 것이다. The first and second passivation layers 111a and 111b are for preventing the adhesion layer 101 from being exposed to the outside and being contaminated.

점착층(101)에는 전극형성이 정밀하게 진행되도록 지지역할을 해 줄 비가요성 기판과 표시장치에 유연성을 제공해 줄 가요성 기판이 부착된다.The adhesive layer 101 is attached with a flexible substrate to provide flexibility to the display device and a non-flexible substrate to support the electrode formation precisely.

비가요성 기판으로는 지지력을 부여할 수 있는 유리 기판을 사용하고, 가요성 기판으로는 내열성이 강하면서 유연한 플라스틱 기판을 사용한다.As a non-flexible board | substrate, the glass substrate which can provide a support force is used, and as a flexible board | substrate, a flexible plastic board | substrate is used, which is strong in heat resistance.

가요성 기판 및 비가요성 기판의 부착 과정을 단계적으로 설명하면, 먼저 도 12b에 도시된 바와 같이 점착제의 제1 보호막(111a)을 떼어내고, 점착층(101)의 제1 면을 노출시킨다.Referring to the process of attaching the flexible substrate and the non-flexible substrate in stages, first, as shown in FIG. 12B, the first protective layer 111a of the adhesive is removed and the first surface of the adhesive layer 101 is exposed.

도 12c를 참조하면, 점착층(101)의 노출된 제1 면은 롤(roll)(105)을 통해 밀착시킴으로써 비가요성 기판(147)에 부착된다. Referring to FIG. 12C, the exposed first surface of the adhesive layer 101 is attached to the non-flexible substrate 147 by bringing it into close contact with the roll 105.

상기의 롤(105)을 통해 밀착되는 과정 중에 도 12d와 같이 비가요성 기판(147)과 점착층(101) 사이에 점착이 제대로 이루어지지 않아 미세 기포가 발생할 수 있다. 이러한 기포는 비가요성 기판(147)상에 부착된 점착제 표면에 요철을 발생시킬수 있다. During the process of being in close contact with the roll 105 as described above, as shown in FIG. 12D, adhesion between the inflexible substrate 147 and the adhesive layer 101 may not be performed properly, and thus fine bubbles may occur. Such bubbles may cause irregularities on the pressure-sensitive adhesive surface attached to the non-flexible substrate 147.

그 후 도 12e와 같이, 비가요성 기판(147) 상에 부착된 점착제의 제2 보호막(111b)을 떼어내고, 점착층(101)의 제2 면을 노출시킨후, 노출된 점착층(101)의 제2 면에 가요성 기판(145)이 부착되도록 롤(105)을 통해 가요성 기판(145) 및 점착층(101)의 제2 면을 밀착시킨다. 이 공정에서 가요성 기판(145) 및 점착층(101)의 제2 면 사이에서도 도 12f와 같이 점착이 제대로 이루어지지 않아 기포가 발생할 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 12E, the second protective film 111b of the adhesive attached to the non-flexible substrate 147 is removed, the second surface of the adhesive layer 101 is exposed, and then the exposed adhesive layer 101 is exposed. The second surface of the flexible substrate 145 and the pressure-sensitive adhesive layer 101 is brought into close contact through the roll 105 so that the flexible substrate 145 is attached to the second surface of the flexible substrate 145. In this process, even though the second surface of the flexible substrate 145 and the adhesive layer 101 is not properly adhered as shown in FIG. 12F, bubbles may occur.

상기의 기포들은 제1 및 제2 보호막(111a, 111b)에 의해 보호되는 점착층(101)의 친수성 정도에 비해 외부에 노출된 가요성 기판(145) 및 비가요성 기판(147)의 친수성 정도가 약하므로 각 점착면의 점착 강도가 떨어져서 발생하는 현상이다. 상기의 점착 강도는 친수성 정도가 비슷해야 커질 수 있다. The bubbles have a hydrophilicity of the flexible substrate 145 and the non-flexible substrate 147 exposed to the outside compared to the hydrophilicity of the adhesive layer 101 protected by the first and second passivation layers 111a and 111b. Since it is weak, it is a phenomenon which arises because the adhesive strength of each adhesive surface falls. The adhesive strength can be increased only if the degree of hydrophilicity is similar.

상술한 도 12c 내지 도 12e의 과정에서 발생한 기포들은 어레이 공정이 진행될 가요성 기판(145)의 표면에 요철부(A)를 발생시키므로 문제가 된다. The bubbles generated in the above-described processes of FIGS. 12C to 12E are problematic because the uneven parts A are generated on the surface of the flexible substrate 145 to be arrayed.

이러한 요철부(A)는 기판 부착 공정(S1) 후 진행되는 박막 트랜지스터 어레이 공정 및 칼라 필터 어레이 공정의 안정성을 저하시킨다. 즉 요철부(A)는 박막트랜지스터 어레이 공정 및 칼라 필터 어레이 공정 중에 형성되는 배선들의 정상적인 형성을 방해하여 불량패턴 형성시키므로 가요성 표시장치의 제조공정의 안정성을 저하시키는 것이다. 여기서 박막 트랜지스터 어레이 공정 및 칼라 필터 어레이 공정은 도 3a 내지 도 4d에서 상술하였으므로 생략한다.The uneven portion A lowers the stability of the thin film transistor array process and the color filter array process performed after the substrate attaching process S1. That is, the uneven portion A interferes with the normal formation of the wirings formed during the thin film transistor array process and the color filter array process, thereby forming a defective pattern, thereby reducing the stability of the manufacturing process of the flexible display device. Since the thin film transistor array process and the color filter array process have been described above with reference to FIGS. 3A to 4D, they will be omitted.

도 13 내지 도 14e는 기포의 발생을 예방하기 위한 공정을 포함하는 본 발명의 제5 실시예에 따른 가요성 액정표시장치의 제조공정을 설명하기 위한 도면이다.13 to 14E are views for explaining a manufacturing process of a flexible liquid crystal display according to a fifth embodiment of the present invention including a process for preventing the generation of bubbles.

도 13을 참조하면 본 발명의 제5 실시예에서는 가요성 표시장치의 제조에 이용되는 비가요성 기판(247) 및 가요성 기판(245)의 표면에 화학 처리를 한다.Referring to FIG. 13, in the fifth embodiment of the present invention, chemical treatment is performed on the surfaces of the non-flexible substrate 247 and the flexible substrate 245 used for manufacturing the flexible display device.

비가요성 기판(247) 및 가요성 기판(245)의 화학 처리면은 기판 부착 공정(S1)에서 점착층에 부착되는 면이다.The chemically treated surfaces of the non-flexible substrate 247 and the flexible substrate 245 are surfaces adhered to the adhesive layer in the substrate attaching step S1.

비가요성 기판(247) 및 가요성 기판(245) 표면의 화학 처리는 아세톤, PGMEA(propylene glycol monomethyl ether acetate), IPA(isopropyl alcohol)과 같이 친수성이 강함과 아울러 휘발성이 강한 용매를 이용하여 비가요성 기판(247) 및 가요성 기판(245)의 표면을 세척(cleaning)함으로써 이루어진다.Chemical treatment of the surfaces of the inflexible substrate 247 and the flexible substrate 245 is made inflexible using a solvent having high hydrophilicity and a high volatility such as acetone, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and isopropyl alcohol (IPA). This is accomplished by cleaning the surfaces of the substrate 247 and the flexible substrate 245.

상기와 같이 친수성이 강한 용매를 이용하여 비가요성 기판(247) 및 가요성 기판(245)의 표면을 처리하면 비가요성 기판(247) 및 가요성 기판(245) 표면 처리면은 친수성이 높아진다. As described above, when the surfaces of the non-flexible substrate 247 and the flexible substrate 245 are treated using a solvent having a strong hydrophilicity, the surface-treated surfaces of the non-flexible substrate 247 and the flexible substrate 245 have high hydrophilicity.

도 14a 내지 도 14e는 본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 부착공정을 단계적으로 설명하기 위한 도면이다. 14A to 14E are views for explaining a step of attaching a substrate according to a fifth embodiment of the present invention step by step.

본 발명의 제5 실시예에 따른 기판 부착 공정(S1)은 도 13a에 도시된 바와 같이 점착층(201), 제1 보호막(211a) 및 제2 보호막(211b)을 포함하는 점착제를 이용하여 이루어진다.The substrate attaching process S1 according to the fifth embodiment of the present invention is performed using an adhesive including an adhesive layer 201, a first passivation layer 211a, and a second passivation layer 211b as illustrated in FIG. 13A. .

제1 및 제2 보호막(211a, 211b)은 점착층(201)이 외부에 노출되어 오염되는 것을 방지하기 위한 것이다. The first and second passivation layers 211a and 211b are for preventing the adhesion layer 201 from being exposed to the outside and being contaminated.

점착층(201)에는 전극형성이 정밀하게 진행되도록 지지역할을 해 줄 비가요성 기판과 표시장치에 유연성을 제공해 줄 가요성 기판이 부착된다.The adhesive layer 201 is attached with a flexible substrate that provides flexibility to the display device and a non-flexible substrate to support the electrode formation precisely.

비가요성 기판으로는 지지력을 부여할 수 있는 유리 기판을 사용하고, 가요성 기판으로는 내열성이 강하면서 유연한 플라스틱 기판을 사용한다.As a non-flexible board | substrate, the glass substrate which can provide a support force is used, and as a flexible board | substrate, a flexible plastic board | substrate is used, which is strong in heat resistance.

또한 본 발명의 제5 실시예에서 사용되는 비가요성 기판 및 가요성 기판은 도 13에서 상술한 바와 같이 표면처리된 것이다.In addition, the inflexible substrate and the flexible substrate used in the fifth embodiment of the present invention are surface treated as described above in FIG.

가요성 기판 및 비가요성 기판의 부착 과정을 단계적으로 설명하면, 먼저 도 14a에 도시된 바와 같이 제1 보호막(211a)을 떼어내고, 점착층(201)의 제1 면을 노출시킨다.A process of attaching the flexible substrate and the non-flexible substrate is described step by step. First, as shown in FIG. 14A, the first passivation layer 211a is removed and the first surface of the adhesive layer 201 is exposed.

도 14b를 참조하면, 점착층(201)의 노출된 제1 면은 비가요성 기판(247)에 부착되도록 롤(205)을 통해 비가요성 기판(247)에 밀착시킨다. Referring to FIG. 14B, the exposed first surface of the adhesive layer 201 is brought into close contact with the inflexible substrate 247 through the roll 205 to attach to the inflexible substrate 247.

도 14c를 참조하면, 비가요성 기판(247) 상에 부착된 점착제의 제2 보호막(211b)을 떼어내고, 점착층(201)의 제2 면을 노출시킨다. 노출된 점착층(211b)의 제2 면에는 가요성 기판(245)이 부착되도록 롤(205)을 통해 가요성 기판(245) 및 점착층(201)의 제2 면을 밀착시킨다.Referring to FIG. 14C, the second protective film 211b of the adhesive attached to the non-flexible substrate 247 is removed to expose the second surface of the adhesive layer 201. The second surface of the flexible substrate 245 and the adhesive layer 201 are brought into close contact with the second surface of the exposed adhesive layer 211b through the roll 205 to attach the flexible substrate 245.

도 14d를 참조하면, 비가요성 기판(247) 상에 부착된 점착제의 제2 보호막(211b)을 떼어내고, 점착층(201)의 제2 면을 노출시킨다. 노출된 점착층(201)의 제2 면에 가요성 기판(245)이 부착되도록 롤(105)을 통해 가요성 기판(245) 및 점착층(201)의 제2 면을 밀착시킴으로써 도 13e와 같이 기판 부착 공정(S1)을 완료한다.Referring to FIG. 14D, the second protective film 211b of the adhesive adhered on the non-flexible substrate 247 is removed to expose the second surface of the adhesive layer 201. As shown in FIG. 13E, the flexible substrate 245 and the second surface of the adhesive layer 201 are brought into close contact with each other through the roll 105 to attach the flexible substrate 245 to the exposed second surface of the adhesive layer 201. Substrate attachment process S1 is completed.

상술한 도 14b 내지 도 14e의 과정에서 표면 처리에 의해 친수성이 향상된 가요성 기판(245) 및 비가요성 기판(247)을 점착층(201)에 점착시킴으로써 점착이 제대로 이루어지지 않아 발생하는 기포를 현저히 감소시킬 수 있다. 기포 발생이 줄어드는 이유는 표면 처리에 의해 친수성이 향상된 가요성 및 비가요성 기판(245, 247)의 점착면과 점착층(201) 점착면의 친수성 정도가 비슷해짐으로써 점착 강도가 높아지기 때문이다. By adhering the flexible substrate 245 and the non-flexible substrate 247 with improved hydrophilicity by surface treatment in the above-described processes of FIGS. 14B to 14E to the adhesive layer 201, bubbles generated due to poor adhesion are remarkably remarkable. Can be reduced. The bubble generation is reduced because the adhesion strength of the adhesive and adhesive layers 201 and 247 of the flexible and non-flexible substrates 245 and 247 with improved hydrophilicity is increased by surface treatment.

현저히 감소되는 기포는 기판 부착 공정(S1) 후 진행되는 박막트랜지스터 어레이 공정 및 칼라 필터 어레이 공정의 안정성을 향상시킨다. 즉 기포에 의해 박막트랜지스터 어레이 공정 및 칼라 필터 어레이 공정 중에 형성되는 배선 불량이 감소되어 가요성 표시장치의 제조공정의 안정성을 향상시키는 것이다. 여기서 박막트랜지스터 어레이 공정 및 칼라 필터 어레이 공정은 도 3a 내지 도 4d에서 상술하였으므로 생략한다.Significantly reduced bubbles improve the stability of the thin film transistor array process and the color filter array process performed after the substrate attach process (S1). In other words, wiring defects formed during the thin film transistor array process and the color filter array process are reduced by bubbles, thereby improving the stability of the manufacturing process of the flexible display device. Since the thin film transistor array process and the color filter array process are described above with reference to FIGS. 3A to 4D, they will be omitted.

또한 도 13에서 상술한 바와 같이 휘발성이 좋은 용매를 이용하여 가요성 기판(245) 및 비가요성 기판(247)을 표면 처리하는 것은 점착층(201)과 가요성 기판(245) 및 비가요성 기판(247)이 점착되는 시간이 길어지지 않도록 하기 위해서이다. In addition, as described above with reference to FIG. 13, the surface treatment of the flexible substrate 245 and the non-flexible substrate 247 using a highly volatile solvent may be performed using the adhesive layer 201, the flexible substrate 245, and the non-flexible substrate ( This is to prevent the length of time 247) from sticking.

이와 같이, 상기 본 발명의 실시예들에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 IPS 모드의 액정표시패널 및 TN 모드의 액정표시패널 뿐만아니라, ECB(Electrical Controlled Birefringence), VA(Vertical Alignment) 모드의 액정표시패널에도 용이하게 적용될 수 있다. 더 나아가, 자발광 소자인 유기전계발광표시장치의 제조방법에서도 이용될 수 있다. As described above, the manufacturing method of the flexible display device according to the embodiments of the present invention includes not only the liquid crystal display panel of the IPS mode and the liquid crystal display panel of the TN mode, but also of the ECB (Electric Controlled Birefringence) and VA (Vertical Alignment) modes. The liquid crystal display panel can also be easily applied. Furthermore, the present invention can also be used in a method of manufacturing an organic light emitting display device which is a self-luminous element.

도 15를 참조하여 본 발명의 실시예들을 적용하여 제조된 유기전계발광표시 장치의 단면 구조를 개략적으로 살펴보자.A cross-sectional structure of an organic light emitting display device manufactured by applying the embodiments of the present invention will be described with reference to FIG. 15.

가요성 유기전계발광표시장치의 개략적 구조는 가요성 기판(82)상부에 애노드전극(84) 및 캐소드전극(86)과, 애노드전극(84)과 캐소드전극(86)의 교차부마다 형성된 유기발광층(80)을 구비한다. 이러한 구조를 가지는 유기전계발광표시장치의 애노드전극(84)과 캐소드전극(86)에 구동신호가 인가되면 전자와 정공이 방출되고, 애노드전극(84) 및 캐소드전극(86)에서 방출된 전자와 정곡은 유기발광층(80)내에서 재결합하면서 가시광을 발생하게 된다. 이때 발생된 가시광은 애노드전극(84)을 통하여 외부로 나오게 되어 소정의 화상 또는 영상을 표시하게 된다. The schematic structure of the flexible organic light emitting display device is an organic light emitting layer formed on the flexible substrate 82 at the intersection of the anode electrode 84 and the cathode electrode 86, and the anode electrode 84 and the cathode electrode 86. 80 is provided. When driving signals are applied to the anode electrode 84 and the cathode electrode 86 of the organic light emitting display device having such a structure, electrons and holes are emitted, and electrons and holes emitted from the anode electrode 84 and the cathode electrode 86 Jeonggok generates visible light while recombining in the organic light emitting layer (80). At this time, the visible light is emitted to the outside through the anode electrode 84 to display a predetermined image or image.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 가요성 표시장치의 제조방법은 기판 부착공정에서 사용하는 점착층의 제2 점착물 테두리 및 제2 점착물 상부의 테두리에 제3 점착물을 구비하거나 부착공정 중에 제2 점착물 상부 테두리에 제3 점착물을 프린팅하는 단계를 포함하고 있다. 제3 점착물의 점착력은 제2 점착물의 점착력보다 강함에 따라 가요성 표시장치 제조 공정 진행중 제2 점착물의 약한 점착력으로 인해 발생하는 박리 위험성이 감소하게 된다. 또한 제3 점착물이 제2 점착물로 부착된 가요성 기판의 취약한 측면을 보호해 줌으로써 각 공정시 발생하는 증착막의 스트레스로 인해 형성되는 가요성 기판의 축소를 미연에 방지할 수 있게 된다. As described above, the method of manufacturing the flexible display device according to the present invention includes the third adhesive on the edge of the adhesive layer and the upper edge of the adhesive layer used in the substrate attaching process or during the attachment process. And printing the third adhesive on the upper edge of the second adhesive. As the adhesive force of the third adhesive is stronger than that of the second adhesive, the risk of peeling caused by the weak adhesive force of the second adhesive during the manufacturing process of the flexible display device is reduced. In addition, since the third adhesive protects the weak side of the flexible substrate attached with the second adhesive, it is possible to prevent the shrinkage of the flexible substrate formed due to the stress of the deposition film generated during each process.

이로 인하여 가요성 표시장치 제조공정의 안정성 및 생산성의 향상을 기대할 수 있다. Therefore, the stability and productivity of the flexible display device manufacturing process can be expected.

또한 본 발명은 가요성 기판이 고정되는 제1 홈 및 점착제가 도포되는 제2 홈을 구비하는 지그(jig) 기판을 이용함으로써 가요성 표시장치 제조 공정이 더욱 안정적으로 진행될 수 있게 된다. 제2 홈은 제2 홈에 도포되는 점착제와 동일두께로 형성됨으로써 가요성 기판을 부착시키더라도 가요성 기판과 지그 기판 사이에 단차가 발생하지 않도록 해준다. 즉, 지그 기판에 도포되는 점착제의 두께로 인해 발생하는 단차를 제2 홈이 방지해주는 것이다. 가요성 기판과 지그 기판 사이에 단차가 발생하지 않음으로써 가요성 기판 상에서 상/하부 어레이 기판 공정이 안정적으로 이루어질 수 있게 된다. 또한 지그 기판의 제1 홈이 가요성 기판과 동일한 크기로 제작됨으로써 가요성 기판이 제조 공정 도중 유동할 수 있는 확률을 감소시켜준다. 이러한 지그 기판은 제작이 용이하므로 가요성 기판의 생산성 향상 및 공정 안정성이 확보될 수 있게 된다.In addition, the present invention enables a flexible display device manufacturing process to be more stable by using a jig substrate having a first groove to which the flexible substrate is fixed and a second groove to which the adhesive is applied. The second grooves are formed to have the same thickness as the pressure-sensitive adhesive applied to the second grooves, so that even if the flexible substrate is attached, a step does not occur between the flexible substrate and the jig substrate. That is, the second groove prevents a step generated due to the thickness of the adhesive applied to the jig substrate. Since no step occurs between the flexible substrate and the jig substrate, the upper and lower array substrate processes can be stably performed on the flexible substrate. In addition, the first groove of the jig substrate is manufactured to be the same size as the flexible substrate, thereby reducing the probability that the flexible substrate can flow during the manufacturing process. Since the jig substrate is easy to manufacture, it is possible to secure productivity and process stability of the flexible substrate.

본 발명은 또한 친수성을 띄는 용매를 통해 표면 처리된 가요성 기판 및 비가요성 기판을 점착층에 부착시킴으로써 점착층과 가요성 기판의 부착면 또는 점착층과 비가요성 기판의 부착면의 친수성을 향상시켜 점착면의 점착 특성을 개선한다. 점착 특성이 개선됨에 따라 점착면에 발생하는 기포의 수가 현저히 감소함으로써 기포로 기인된 불량패턴 발생이 감소하여 가요성 표시장치의 제조 공정이 안정화된다. The present invention also improves the hydrophilicity of the adhesion surface of the adhesive layer and the flexible substrate or the adhesion surface of the adhesive layer and the non-flexible substrate by attaching the flexible and non-flexible substrates surface-treated through a hydrophilic solvent to the adhesive layer. Improve the adhesive properties of the adhesive face. As the adhesive property is improved, the number of bubbles generated on the adhesive surface is remarkably reduced, thereby reducing the occurrence of defective patterns caused by bubbles, thereby stabilizing the manufacturing process of the flexible display device.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (28)

지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물과, 상기 제2 점착물의 가장자리를 감싸는 제3 점착물로 구성된 제1 점착층을 마련하는 단계;Providing a first adhesive layer comprising a support film, first and second adhesives formed on each of the first and second surfaces of the support film, and a third adhesive material surrounding an edge of the second adhesive material; 상기 제1 점착층의 제1 점착물 상에 제1 비가요성 기판을 부착하는 단계;Attaching a first non-flexible substrate on the first adhesive of the first adhesive layer; 상기 제1 점착층의 제2 및 제3 점착물 상에 제1 가요성 기판을 부착하는 단계; 및Attaching a first flexible substrate on the second and third adhesives of the first adhesive layer; And 상기 제1 가요성 기판 상에서 상부 어레이 기판을 제조하는 단계와,Fabricating an upper array substrate on the first flexible substrate; 지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물과, 상기 제2 점착물의 가장자리를 감싸는 제3 점착물로 구성된 제2 점착층을 마련하는 단계;Providing a second adhesive layer comprising a support film, first and second adhesives formed on each of the first and second surfaces of the support film, and a third adhesive material surrounding an edge of the second adhesive material; 상기 제2 점착층의 제1 점착물 상에 제2 비가요성 기판을 부착하는 단계;Attaching a second non-flexible substrate on the first adhesive of the second adhesive layer; 상기 제2 점착층의 제2 및 제3 점착물 상에 제2 가요성 기판을 부착하는 단계; 및Attaching a second flexible substrate on the second and third adhesives of the second adhesive layer; And 상기 제2 가요성 기판 상에서 하부 어레이 기판을 제조하는 단계와,Fabricating a lower array substrate on the second flexible substrate; 상기 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판을 합착하고 액정을 주입하는 단계와,Bonding the upper array substrate and the lower array substrate and injecting liquid crystal; 상기 제1 가요성 기판과 상기 제1 비가요성 기판을 상기 제1 점착층으로부터 박리시키고 상기 제2 가요성 기판과 상기 제2 비가요성 기판을 상기 제2 점착층으로부터 박리시키는 단계;를 포함하고,And peeling the first flexible substrate and the first non-flexible substrate from the first adhesive layer and peeling the second flexible substrate and the second non-flexible substrate from the second adhesive layer. 상기 제1 및 제2 점착층을 마련하는 단계 각각은 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 및 제3 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함하는 점착제를 마련하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The providing of the first and second adhesive layers may include: a first passivation layer attached on the first surface of the support layer with the first adhesive interposed therebetween; and the second and third adhesive layers interposed therebetween. A method of manufacturing a flexible display device, the method comprising: providing an adhesive including a second passivation layer on a second surface of the support layer. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 및 제3 점착물은 동일한 점착물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.And the first and third adhesives are made of the same adhesive material. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제3 점착물의 너비는 2mm 내지 8mm 사이인 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The width of the third adhesive is a manufacturing method of the flexible display device, characterized in that between 2mm to 8mm. 지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물과, 상기 제2 점착물 상에 형성된 제3 점착물로 구성된 제1 점착층을 마련하는 단계;Providing a first adhesive layer comprising a support film, first and second adhesives formed on each of the first and second surfaces of the support film, and a third adhesive formed on the second adhesive; 상기 제1 점착층의 제1 점착물 상에 제1 비가요성 기판을 부착하는 단계;Attaching a first non-flexible substrate on the first adhesive of the first adhesive layer; 상기 제1 점착층의 제2 및 제3 점착물 상에 제1 가요성 기판을 부착하는 단계; 및Attaching a first flexible substrate on the second and third adhesives of the first adhesive layer; And 상기 제1 가요성 기판 상에서 상부 어레이 기판을 제조하는 단계와,Fabricating an upper array substrate on the first flexible substrate; 지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물과, 상기 제2 점착물 상에 형성된 제3 점착물로 구성된 제2 점착층을 마련하는 단계;Providing a second adhesive layer comprising a support film, first and second adhesives formed on each of the first and second surfaces of the support film, and a third adhesive formed on the second adhesive; 상기 제2 점착층의 제1 점착물 상에 제2 비가요성 기판을 부착하는 단계;Attaching a second non-flexible substrate on the first adhesive of the second adhesive layer; 상기 제2 점착층의 제2 및 제3 점착물 상에 제2 가요성 기판을 부착하는 단계; 및Attaching a second flexible substrate on the second and third adhesives of the second adhesive layer; And 상기 제2 가요성 기판 상에서 하부 어레이 기판을 제조하는 단계와,Fabricating a lower array substrate on the second flexible substrate; 상기 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판을 합착하고 액정을 주입하는 단계와,Bonding the upper array substrate and the lower array substrate and injecting liquid crystal; 상기 제1 가요성 기판과 상기 제1 비가요성 기판을 상기 제1 점착층으로부터 박리시키고 상기 제2 가요성 기판과 상기 제2 비가요성 기판을 상기 제2 점착층으로부터 박리시키는 단계;를 포함하고,And peeling the first flexible substrate and the first non-flexible substrate from the first adhesive layer and peeling the second flexible substrate and the second non-flexible substrate from the second adhesive layer. 상기 제1 및 제2 점착층을 마련하는 단계 각각은 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 및 제3 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함하는 점착제를 마련하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The providing of the first and second adhesive layers may include: a first passivation layer attached on the first surface of the support layer with the first adhesive interposed therebetween; and the second and third adhesive layers interposed therebetween. A method of manufacturing a flexible display device, the method comprising: providing an adhesive including a second passivation layer on a second surface of the support layer. 제4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제1 및 제3 점착물은 동일한 점착물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.And the first and third adhesives are made of the same adhesive material. 제4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제3 점착물은 상기 제2 점착물의 가장자리 상에서 띠 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The third adhesive is formed in the form of a band on the edge of the second adhesive, the manufacturing method of the flexible display device. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제3 점착물의 너비는 2mm 내지 8mm 사이인 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The width of the third adhesive is a manufacturing method of the flexible display device, characterized in that between 2mm to 8mm. 지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물로 구성된 제1 점착층을 마련하는 단계;Providing a first adhesive layer composed of a support film and first and second adhesives formed on each of the first and second surfaces of the support film; 상기 제1 점착층의 제1 점착물 상에 제1 비가요성 기판을 부착하는 단계;Attaching a first non-flexible substrate on the first adhesive of the first adhesive layer; 상기 제1 점착층의 제2 점착물 상에 제1 가요성 기판을 부착하는 단계; 및Attaching a first flexible substrate on the second adhesive of the first adhesive layer; And 상기 제1 가요성 기판 상에서 상부 어레이 기판을 제조하는 단계와,Fabricating an upper array substrate on the first flexible substrate; 지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물로 구성된 제2 점착층을 마련하는 단계;Providing a second adhesive layer composed of a support film and first and second adhesives formed on each of the first and second surfaces of the support film; 상기 제2 점착층의 제1 점착물 상에 제2 비가요성 기판을 부착하는 단계;Attaching a second non-flexible substrate on the first adhesive of the second adhesive layer; 상기 제2 점착층의 제2 점착물 상에 제2 가요성 기판을 부착하는 단계; 및Attaching a second flexible substrate on the second adhesive of the second adhesive layer; And 상기 제2 가요성 기판 상에서 하부 어레이 기판을 제조하는 단계와,Fabricating a lower array substrate on the second flexible substrate; 상기 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판을 합착하고 액정을 주입하는 단계와,Bonding the upper array substrate and the lower array substrate and injecting liquid crystal; 상기 제1 가요성 기판과 상기 제1 비가요성 기판을 상기 제1 점착층으로부터 박리시키고 상기 제2 가요성 기판과 상기 제2 비가요성 기판을 상기 제2 점착층으로부터 박리시키는 단계;를 포함하고,And peeling the first flexible substrate and the first non-flexible substrate from the first adhesive layer and peeling the second flexible substrate and the second non-flexible substrate from the second adhesive layer. 상기 제1 및 제2 점착층을 마련하는 단계 각각은 상기 제1 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제1 면 위에 부착된 제1 보호막과, 상기 제2 점착물을 사이에 두고 상기 지지막의 제2 면 위에 부착된 제2 보호막을 포함하는 점착제를 마련하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The preparing of the first and second adhesive layers may include forming a first passivation layer attached on the first surface of the support layer with the first adhesive interposed therebetween, and the support layer having the second adhesive interposed therebetween. A method of manufacturing a flexible display device, the method comprising: providing an adhesive including a second passivation layer attached on two surfaces. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 홈 및 상기 제1 홈의 테두리 하부에 형성되는 제2 홈을 포함하는 제1 및 제2 비가요성 기판을 형성하는 단계와; Forming first and second non-flexible substrates including a first groove and a second groove formed under the edge of the first groove; 상기 제1 및 제2 비가요성 기판 각각의 상기 제2 홈에 점착제를 도포하는 단계와;Applying an adhesive to the second groove of each of the first and second non-flexible substrates; 상기 제1 및 제2 비가요성 기판 각각의 상기 점착제 및 상기 제1 홈에 제1 및 제2 가요성 기판을 각각 고정시키는 단계와;Fixing first and second flexible substrates to the pressure-sensitive adhesive and the first groove of each of the first and second non-flexible substrates, respectively; 상기 제1 가요성 기판 상에서 상부 어레이 기판을 제조하는 단계 및 상기 제2 가요성 기판 상에서 하부 어레이 기판을 제조하는 단계와;Fabricating an upper array substrate on the first flexible substrate and fabricating a lower array substrate on the second flexible substrate; 상기 상부 어레이 기판 및 상기 하부 어레이 기판을 합착하고 액정을 주입하는 단계와;Bonding the upper array substrate and the lower array substrate and injecting liquid crystal; 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 비가요성 기판에서 박리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.Peeling the first and second flexible substrates from the first and second non-flexible substrates. 제12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 제2 홈의 너비는 5mm 내지 100mm로 형성하고,The width of the second groove is formed to 5mm to 100mm, 상기 제2 홈의 두께는 상기 점착제와 동일한 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The thickness of the second groove is formed in the same thickness as the pressure-sensitive adhesive manufacturing method of a flexible display device. 제12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 제1 홈의 너비 및 두께는 상기 가요성 기판의 너비 및 두께와 동일하게 형성하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The width and thickness of the first groove is formed to be the same as the width and thickness of the flexible substrate. 제12 항에 있어서, 13. The method of claim 12, 상기 제2 홈에 도포되는 점착제는 폴리이미드 테잎을 포함하고,The adhesive applied to the second groove includes a polyimide tape, 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 비가요성 기판에서 박리시키는 단계는, 레이저를 이용하여 상기 폴리 이미드 테잎이 점착된 상기 제1 및 제2 가요성 기판의 테두리를 컷팅하여 진행하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법. Peeling the first and second flexible substrates from the first and second non-flexible substrates, cutting edges of the first and second flexible substrates to which the polyimide tape is adhered using a laser. Method of manufacturing a flexible display device characterized in that the progress. 제12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 제2 홈에 도포되는 점착제는 자외선에 반응하여 점착력을 잃는 특성의 점착제를 포함하고,The pressure-sensitive adhesive applied to the second groove includes a pressure-sensitive adhesive that loses adhesion in response to ultraviolet rays, 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 비가요성 기판에서 박리시키는 단계는 상기 점착제에 자외선을 조사하여 진행하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.Peeling the first and second flexible substrates from the first and second non-flexible substrates by irradiating the adhesive with ultraviolet rays. 제12 항에 있어서,13. The method of claim 12, 상기 제2 홈에 도포되는 점착제는 온도에 반응하여 점착력을 잃는 특성의 점착제를 포함하고,The pressure-sensitive adhesive applied to the second groove includes a pressure-sensitive adhesive that loses adhesive strength in response to temperature. 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 상기 제1 및 제2 비가요성 기판에서 박리시키는 단계는, 상기 점착제에 온도를 가하여 진행하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.Peeling the first and second flexible substrates from the first and second non-flexible substrates, by applying temperature to the pressure-sensitive adhesive. 표면이 친수 처리된 제1 및 제2 가요성 기판과, 표면이 친수 처리된 제1 및 제2 비가요성 기판을 각각 마련하는 단계;Providing first and second flexible substrates on which the surface is hydrophilized and first and second non-flexible substrates on the surface; 상기 제1 비가요성 기판의 친수 처리면에 제1 점착층의 제1 면을 부착하는 단계와 상기 제1 가요성 기판의 친수 처리면에 제1 점착층의 제2 면을 부착하는 단계;Attaching a first surface of a first adhesive layer to a hydrophilic surface of the first non-flexible substrate and attaching a second surface of the first adhesive layer to a hydrophilic surface of the first flexible substrate; 상기 제1 가요성 기판 상에서 상부 어레이 기판을 제조하는 단계;Fabricating an upper array substrate on the first flexible substrate; 상기 제2 비가요성 기판의 친수 처리면에 제2 점착층의 제1 면을 부착하는 단계와 상기 제2 가요성 기판의 친수 처리면에 제2 점착층의 제2 면을 부착하는 단계;Attaching a first surface of a second adhesive layer to a hydrophilic treatment surface of the second flexible substrate and attaching a second surface of a second adhesive layer to a hydrophilic treatment surface of the second flexible substrate; 상기 제2 가요성 기판 상에서 하부 어레이 기판을 제조하는 단계;Fabricating a lower array substrate on the second flexible substrate; 상기 상부 어레이 기판 및 하부 어레이 기판을 합착하고 액정을 주입하는 단계;Bonding the upper array substrate and the lower array substrate and injecting liquid crystal; 상기 제1 가요성 기판과 상기 제1 비가요성 기판을 상기 제1 점착층으로부터 박리시키고 상기 제2 가요성 기판과 상기 제2 비가요성 기판을 상기 제2 점착층으로부터 박리시키는 단계;를 포함하고,And peeling the first flexible substrate and the first non-flexible substrate from the first adhesive layer and peeling the second flexible substrate and the second non-flexible substrate from the second adhesive layer. 상기 제1 및 제2 점착층 각각은 지지막과, 상기 지지막의 제1 면 및 제2 면 각각에 형성된 제1 및 제2 점착물과, 상기 제2 점착물 상에 형성된 제3 점착물로 구성되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.Each of the first and second adhesive layers includes a support film, first and second adhesive materials formed on each of the first and second surfaces of the support film, and a third adhesive material formed on the second adhesive material. Method of manufacturing a flexible display device characterized in that. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 친수 처리는 The hydrophilic treatment 아세톤, PGMEA, IPA 중 어느 하나를 포함한 용매를 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.A method of manufacturing a flexible display device, characterized in that it is made through a solvent containing any one of acetone, PGMEA, IPA. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제2 점착물은 상기 제1 점착물 보다 점성이 약하고, 상기 제3 점착물은 상기 제2 점착물 보다 점성이 강한 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.And the second adhesive is less viscous than the first adhesive, and the third adhesive is more viscous than the second adhesive. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 및 제2 비가요성 기판을 부착하는 단계는 상기 제1 및 제2 점착층 각각에서 상기 제1 보호막을 떼어낸 후 상기 제1 점착물 상에 부착되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The attaching of the first and second non-flexible substrates may include attaching the first and second adhesive layers on the first adhesive after removing the first protective layer from each of the first and second adhesive layers. Manufacturing method. 제1 항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 부착하는 단계는 상기 제1 및 제2 점착층 각각에 상기 제2 보호막을 떼어낸 후 상기 제2 및 제3 점착물 상에 부착되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The attaching of the first and second flexible substrates may include attaching the first and second flexible substrates to the second and third adhesives after removing the second protective layer from each of the first and second adhesive layers. Method for manufacturing a display device. 제4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제2 점착물은 상기 제1 점착물 보다 점성이 약하고, 상기 제3 점착물은 상기 제2 점착물 보다 점성이 강한 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.And the second adhesive is less viscous than the first adhesive, and the third adhesive is more viscous than the second adhesive. 제4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제1 및 제2 비가요성 기판을 부착하는 단계는 상기 제1 및 제2 점착층 각각에서 상기 제1 보호막을 떼어낸 후 상기 제1 점착물 상에 부착되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The attaching of the first and second non-flexible substrates may include attaching the first and second adhesive layers on the first adhesive after removing the first protective layer from each of the first and second adhesive layers. Manufacturing method. 제4 항에 있어서,5. The method of claim 4, 상기 제1 및 제2 가요성 기판은 상기 제1 및 제2 점착층 각각에서 상기 제2 보호막을 떼어낸 후 상기 제2 및 제3 점착물 상에 부착되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.The first and second flexible substrates may be attached onto the second and third adhesive materials after removing the second protective layer from each of the first and second adhesive layers. Way. 제8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제1 및 제2 비가요성 기판은 상기 제1 및 제2 점착층 각각에서 상기 제1 보호막을 떼어낸 후 상기 제1 점착물 상에 부착되는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.And the first and second non-flexible substrates are attached onto the first adhesive after removing the first passivation layer from each of the first and second adhesive layers. 제8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제1 및 제2 가요성 기판을 부착하는 단계는,Attaching the first and second flexible substrate, 상기 제1 및 제2 점착층 각각에서 상기 제2 보호막을 떼어내는 단계; 및Removing the second protective film from each of the first and second adhesive layers; And 상기 제2 점착물 상에 상기 제2 점착물 보다 점성이 강한 제3 점착물을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.Forming a third adhesive having a viscosity higher than that of the second adhesive on the second adhesive. 제27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 제2 점착물은 상기 제1 점착물 보다 점성이 약하고, 상기 제3 점착물은 상기 제2 점착물 보다 점성이 강한 것을 특징으로 하는 가요성 표시장치의 제조방법.And the second adhesive is less viscous than the first adhesive, and the third adhesive is more viscous than the second adhesive.
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