KR100915156B1 - Flat panel display manufacturing machine - Google Patents
Flat panel display manufacturing machineInfo
- Publication number
- KR100915156B1 KR100915156B1 KR1020050092088A KR20050092088A KR100915156B1 KR 100915156 B1 KR100915156 B1 KR 100915156B1 KR 1020050092088 A KR1020050092088 A KR 1020050092088A KR 20050092088 A KR20050092088 A KR 20050092088A KR 100915156 B1 KR100915156 B1 KR 100915156B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chamber
- cover
- flat panel
- panel display
- display device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67126—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67201—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
본 발명은 평판표시소자 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공 상태와 대기압 상태가 순환되는 내부를 개폐할 수 있도록 기밀이 유지된 상태로 커버가 구비되는 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flat panel display device manufacturing apparatus, and more particularly, to a flat panel display device manufacturing apparatus having a cover in a state in which airtight is maintained to open and close the interior in which the vacuum state and the atmospheric pressure state is circulated.
즉, 본 발명은 챔버; 상기 챔버의 일측을 개폐하는 커버; 상기 챔버와 상기 커버의 접촉부분 일측에 부분 삽입된 상태로 설치되는 기밀유지부재; 상기 챔버와 상기 커버의 접촉부분 타측에 부분 삽입된 상태로 설치되는 댐퍼(Damper); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.That is, the present invention is a chamber; A cover for opening and closing one side of the chamber; An airtight holding member installed in a state of being partially inserted into one side of the contact portion of the chamber and the cover; A damper installed to be partially inserted into the other side of the contact portion of the chamber and the cover; It relates to a flat panel display device manufacturing apparatus comprising a.
Description
본 발명은 평판표시소자 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진공 상태와 대기압 상태가 순환되는 내부를 개폐할 수 있도록 기밀이 유지된 상태로 커버가 구비되는 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flat panel display device manufacturing apparatus, and more particularly, to a flat panel display device manufacturing apparatus having a cover in a state in which airtight is maintained to open and close the interior in which the vacuum state and the atmospheric pressure state is circulated.
일반적으로, 평판표시소자 제조장치는 내부에 LCD, PDP, OLED 등과 같은 평판표시소자 기판을 반입시켜 플라즈마 가스등을 이용하여 식각 등의 처리를 실시하며 상기 평판표시소자 제조장치는 일반적으로 로드락(Load lock) 챔버, 반송 챔버 및 한 개 이상의 공정 챔버로 구성된다.In general, a flat panel display device manufacturing apparatus is carried in a flat panel display device substrate such as LCD, PDP, OLED, etc. to perform an etching process using a plasma gas, etc. The flat panel display device manufacturing apparatus is generally a load lock (Load) lock) chamber, conveying chamber and one or more process chambers.
여기서, 상기 로드락 챔버는 외부에 구비되며 다수개의 처리 전 기판을 적재한 카세트에서 운송수단에 의해 기판을 받아들이거나 처리가 끝난 기판을 외부로 반출하는 역할을 하고, 상기 반송 챔버는 기판을 로드락 챔버 또는 공정 챔버들 간에 반송하기 위한 반송 로봇이 구비되어 있어서 처리할 기판을 로드락 챔버에서 공정 챔버로 전달하거나 처리가 완료된 기판을 공정 챔버에서 로드락 챔버로 전달하는 역할을 하며, 상기 공정 챔버는 진공 상태에서 플라즈마 등을 이용하여 기판상에 막을 성막하거나 에칭을 수행하는 역할을 각각 한다.Here, the load lock chamber is provided on the outside and serves to accept the substrate by a transport means or to carry out the processed substrate to the outside in a cassette in which a plurality of pre-processed substrates are loaded, and the transfer chamber load-loads the substrates. A transfer robot for transferring between chambers or process chambers is provided to transfer the substrate to be processed from the load lock chamber to the process chamber or to transfer the processed substrate from the process chamber to the load lock chamber. Each film serves to form a film or perform etching on a substrate using plasma or the like in a vacuum state.
여기서, 상기 로드락 챔버는 계속하여 대기압 분위기와 진공 분위기를 오가면서 기판의 반입과 반출을 담당하므로 그 내부를 진공으로 형성하기 위한 진공 형성 장치와, 다시 대기 분위기로 만들기 위한 대기압 형성 장치가 쉴 틈 없이 작동하다 보면 여러 가지 고장이 발생할 수 있다.Here, the load lock chamber is continuously responsible for carrying in and out of the substrate while moving between atmospheric and vacuum atmospheres, so that the vacuum forming apparatus for forming the inside of the vacuum and the atmospheric pressure forming apparatus for making the atmospheric atmosphere again rest. Operation without it can cause various failures.
이에 상기 진공 형성 장치 및 대기압 형성 장치와 같은 내부 구성물의 유지 보수 및 교체를 할 때 그 내부를 개폐할 수 있도록 별도의 커버가 마련된다.Thus, when the maintenance and replacement of the internal components, such as the vacuum forming device and the atmospheric pressure forming device is provided with a separate cover to open and close the inside.
이와 같은 종래의 평판표시소자 제조장치중 로드락 챔버는 도 1에 도시된 바와 같이 내부가 중공 형성된 상부는 개구되고 그 개구된 상면에 기밀이 유지된 상태로 커버(12)가 안착된다.The load lock chamber of the conventional flat panel display device manufacturing apparatus, as shown in FIG.
여기서, 상기 로드락 챔버(10)와 커버(12)와의 접촉면 둘레에는 기밀을 유지시키는 오링(O-ring)인 기밀유지부재(14)가 개재된다.Here, an airtight holding member 14, which is an O-ring for maintaining airtightness, is interposed around the contact surface between the load lock chamber 10 and the cover 12.
한편, 상기 로드락 챔버(10)는 그 내부에 진공 상태로 변환시키는 진공 형성 장치(도면에 미도시)와 대기압 상태로 변환시키는 대기압 형성 장치(도면에 미도시)가 구비되는데 이러한 장치들 및 기판 적재대의 유지 보수를 위하여 개폐할 수 있는 커버(12)가 마련되며, 상기 기판(도면에 미도시)이 대면적화됨에 따라 이와 같은 로드락 챔버(10) 및 커버(12) 또한 면적이 커지게 된다.On the other hand, the load lock chamber 10 is provided with a vacuum forming device (not shown in the drawing) for converting to a vacuum state therein and an atmospheric pressure forming device (not shown in the drawing) for converting to an atmospheric pressure state such devices and substrate A cover 12 that can be opened and closed for maintenance of the mounting table is provided, and as the substrate (not shown) becomes large, such a load lock chamber 10 and the cover 12 also increase in area. .
이때, 상기 진공 형성 장치의 작동시 상기 로드락 챔버(10) 내부가 저압 상태로 변화됨에 따라 외부와의 압력차에 의해 상기 로드락 챔버(10) 및 대면적 커버(12)의 각 변 중심부가 상대적으로 취약하여 내부 방향으로 치우치는 현상이 발생되며, 특히, 상기 커버(12)가 상기 로드락 챔버(10)의 상부에 결합되는 방식을 취하고 있어 상기 커버(12)와 상기 로드락 챔버(10)와의 결합면 일단과 타단은 상기 커버(12)의 하방을 향한 처짐에 의해 서로 크기가 다른 압력을 가하게 된다. At this time, as the inside of the load lock chamber 10 is changed to a low pressure state when the vacuum forming apparatus is operated, the centers of the sides of the load lock chamber 10 and the large area cover 12 are changed by a pressure difference with the outside. Due to the relative weakness, a phenomenon that is biased inwardly occurs, and in particular, the cover 12 is coupled to the upper portion of the load lock chamber 10, so that the cover 12 and the load lock chamber 10 One end and the other end of the mating surface exert pressures different in size from each other by sagging downward of the cover 12.
그리고 상기 대기압 형성 장치의 작동시 상기 로드락 챔버(10) 내부가 고압 상태로 변화됨에 따라 외부와의 압력차에 의해 상기 로드락 챔버(10) 및 대면적 커버(12)의 각 변 중심부가 상대적으로 취약하여 외부 방향으로 치우치는 현상이 발생된다.As the inside of the load lock chamber 10 is changed to a high pressure state when the atmospheric pressure forming device is operated, the center of each side of the load lock chamber 10 and the large-area cover 12 is relatively different due to the pressure difference with the outside. It is vulnerable, so it is biased outward.
여기서, 상기 커버(12)의 중심부가 상방으로 치우치는 상태에는 그 다지 위험하진 않지만 그 커버(12)의 중심부가 하방으로 치우치면 상기 로드락 챔버(10)의 내측벽 상단 모서리부와 접촉하는 커버(12)가 그 로드락 챔버(10)의 내측벽 상단 모서리부를 가압하게 되어 초반에는 크랙(Creak)이 발생되지만 차후에 응력이 집중되어 파손되는 결과를 초래하며 상기 로드락 챔버(10)의 파손된 조각이 기판에 낙하하는 등의 파티클(Particle) 이슈를 불러 일으키는 문제점이 있었다.Here, the cover 12 which is in contact with the upper edge of the inner wall of the load lock chamber 10 when the central portion of the cover 12 is not dangerous in a state in which the center of the cover 12 is upwardly biased downward. ) Pressurizes the upper edge of the inner wall of the load lock chamber 10 so that a crack is generated in the early stage, but the stress is concentrated at a later time, resulting in breakage, and a broken piece of the load lock chamber 10 There was a problem causing particle issues such as falling onto the substrate.
본 발명은 상기 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 미세 파티클 발생에 의한 기판의 공정불량이 다량으로 발생하여 공정 수율이 저하되는 것을 방지하기 위해 상기 챔버 내부의 진공 형성시 챔버의 내측벽 모서리부가 접촉하여 파손되는 것을 방지할 수 있게 한 평판표시소자 제조장치를 제공함에 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, the object is to generate a large amount of process defects of the substrate due to the generation of fine particles to prevent the process yield is lowered to form a vacuum inside the chamber of the chamber The present invention provides a flat panel display device manufacturing apparatus which can prevent the inner wall edge portion from being damaged due to contact.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 챔버; 상기 챔버의 일측을 개폐하는 커버; 상기 챔버와 상기 커버의 접촉부분 일측에 부분 삽입된 상태로 설치되는 기밀유지부재; 상기 챔버와 상기 커버의 접촉부분 타측에 부분 삽입된 상태로 설치되는 댐퍼(Damper); 를 포함하여 이루어짐으로써, 상기 챔버와 커버와의 접촉면에 댐퍼를 구비하여 펌핑시 그 커버가 하방으로 치우칠 때 그 치우치는 부위가 챔버의 내측벽 상단을 가압하여 파손되는 것을 방지하므로 바람직하다.The present invention to achieve the above object, the chamber; A cover for opening and closing one side of the chamber; An airtight holding member installed in a state of being partially inserted into one side of the contact portion of the chamber and the cover; A damper installed to be partially inserted into the other side of the contact portion of the chamber and the cover; It is preferable to include a damper on the contact surface between the chamber and the cover, so that when the cover is pumped downward, the biased portion is prevented from being damaged by pressing the upper end of the inner wall of the chamber.
또한, 본 발명에서의 상기 댐퍼는, 상기 기밀유지부재의 안쪽인 챔버의 상면 내측 가장자리부에 구비됨으로써, 하방으로 치우치는 커버와 챔버의 내측면 모서리부가 직접 접촉하는 것을 방지하므로 바람직하다.In addition, the damper of the present invention is preferably provided at an inner edge portion of the upper surface of the chamber that is inside the hermetic holding member, so that the cover biased downward and the inner edge portion of the chamber are prevented from directly contacting each other.
또한, 본 발명에서는 상기 댐퍼는, 상기 커버와 챔버와의 접촉면 둘레를 따라 전체적으로 구비되거나 상기 커버와 챔버와의 접촉면에 국부적으로 구비됨으로써, 상기 커버와 챔버의 내측벽 모서리부와의 접촉을 방지할 때 접촉면 전체에 댐퍼를 구비하거나, 댐퍼의 사용을 줄여 국부적으로 접촉을 방지함에 따라 제조 단가를 하강시키므로 바람직하다.In addition, in the present invention, the damper is provided along the circumference of the contact surface between the cover and the chamber as a whole or locally provided on the contact surface between the cover and the chamber, thereby preventing contact between the inner wall edge of the cover and the chamber. When the damper is provided on the entire contact surface or the use of the damper is reduced, the manufacturing cost is lowered by preventing the contact locally.
이하, 본 발명의 평판표시소자 제조장치를 첨부도면을 참조하여 일 실시예를 들어 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the flat panel display device manufacturing apparatus of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 평판표시소자 제조장치는 도 2에 도시된 바와 같이 내부가 중공 형성되되 그 양측벽에 형성되어 기판이 반입되는 반입구와 반출되는 반출구가 게이트 밸브에 의해 개폐되며 그 상부가 개구되고 그 상면에 기밀이 유지된 상태로 커버(112)가 마련되는 챔버(110)이며, 상기 커버(112)는 상부 챔버(110)의 면적과 동일하면서 적정 두께를 갖는다.In the apparatus for manufacturing a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, the inside of the flat panel display device is hollow and is formed on both side walls thereof so that the inlet and the outlet opening and closing the substrate are opened and closed by the gate valve. And an upper portion of the upper portion of the chamber 110 in which the cover 112 is provided in a state where airtightness is maintained on the upper surface thereof, and the cover 112 has the same thickness as that of the upper chamber 110.
여기서, 상기 챔버(110)는 로드락 챔버이며, 상기 챔버(110) 하측 중심부에는 기판(도면에 미도시)이 적재되는 기판 적재대가 각각 구비된다.Here, the chamber 110 is a load lock chamber, and a substrate mounting table on which a substrate (not shown) is mounted is provided at the lower center of the chamber 110.
그리고 상기 챔버(110)의 상면 내측 가장자리부와 외측 가장자리부에 적정 깊이로 홈이 형성되고 그 홈에 각각 댐퍼(120)와 기밀유지부재(114)가 상기 홈에서부터 적정 높이만큼 돌출되도록 삽입된다.In addition, grooves are formed at appropriate depths on the inner and outer edges of the upper surface of the chamber 110, and the dampers 120 and the airtight holding member 114 are inserted into the grooves so as to protrude from the grooves by an appropriate height.
즉, 상기 댐퍼(120)는 상기 챔버(110) 상면 내측 홈에 삽입되고 기밀유지부재(114)는 챔버(110) 상면 외측 홈에 삽입된다. That is, the damper 120 is inserted into the inner groove of the upper surface of the chamber 110 and the airtight holding member 114 is inserted into the outer groove of the upper surface of the chamber 110.
여기서, 상기 댐퍼(120)는 기밀유지부재(114)의 높이보다 더 높게 구비되어 챔버(110)의 진공 상태 유지시 방해가 되면 안된다.Here, the damper 120 is provided higher than the height of the hermetic holding member 114 should not be disturbed when maintaining the vacuum state of the chamber 110.
한편, 상기 댐퍼(120)를 기밀유지부재(114) 보다 안쪽에 구비시키는 이유는 상기 챔버(110)의 내부 펌핑시 상기 커버(112)가 하방으로 처지면서 챔버(110) 내측벽 상단 모서리부에 접촉되고 가압하여 그 모서리부가 파손되는 것을 방지하기 위함이다.Meanwhile, the reason why the damper 120 is provided inside the airtight holding member 114 is that the cover 112 sags downward when the inner pumping of the chamber 110 is performed, and the upper edge portion of the inner wall of the chamber 110 is lowered. This is to prevent the edge portion from being broken by contact and pressure.
상기 댐퍼(120)는 챔버(110)와 커버(112)와의 접촉면에 그 접촉면 둘레를 따라 구비되거나 국부적으로 구비될 수 있다. 여기서, 상기 댐퍼(120)를 챔버(110)와 커버(112)와의 접촉면에 국부적으로 구비시킬 경우 모서리부마다 구비하거나 모서리를 제외한 변 부분에 구비할 수 있으며 이에 한정하지 않고 다양한 변경 실시가 가능하다.The damper 120 may be provided along or around the periphery of the contact surface of the chamber 110 and the cover 112. In this case, when the damper 120 is locally provided on the contact surface between the chamber 110 and the cover 112, the damper 120 may be provided at each corner or at a side portion except the corner, and various modifications are possible without being limited thereto. .
그리고 상기 댐퍼(120)는 도 3에 도시된 바와 같이 내부에 일반적인 오링(120a)이 구비되고 상기 오링(120a)의 외부에 상기 오링(120a)보다 경질인 엔지니어링 튜브(Engineering Tube)가 감싸도록 구비되어 상기 커버(112)가 챔버(110)의 상면에 안착됨에 따라 상기 챔버(110) 내부를 펌핑할 때 그 사이에 개재된 기밀유지부재(114)에 압력이 가해진 상태로 가장자리부가 서로 밀착되지만 댐퍼(120)의 외주면에 구비된 경질의 엔지니어링 튜브에 의해 변형을 감소시켜 상기 커버(112)가 챔버(110)에 밀착되지 않고 미세량 이격된 상태로 구비된다.And the damper 120 is provided with a general O-ring (120a) is provided inside the inner ring as shown in Figure 3 and the engineering tube (Engineering Tube) that is harder than the O-ring (120a) on the outside of the O-ring (120a) As the cover 112 is seated on the upper surface of the chamber 110, when the inside of the chamber 110 is pumped, the edge portions are in close contact with each other in a state where pressure is applied to the airtight holding member 114 interposed therebetween. Deformation is reduced by a hard engineering tube provided on the outer circumferential surface of the 120 so that the cover 112 is provided in a state in which a small amount of the cover 112 is not in close contact with the chamber 110.
또한, 다른 실시예에 따른 상기 댐퍼(120')는 도 4에 도시된 바와 같이 길이 방향으로 연장되는 블록 형상의 엔지니어링 플라스틱(Engineering Plastic)으로도 구비될 수 있다.In addition, the damper 120 ′ according to another embodiment may be provided as an engineering plastic having a block shape extending in the longitudinal direction as shown in FIG. 4.
여기서, 상기 엔지니어링 플라스틱은 불소수지(Polytetra Fluoro Ethylene : PTFE)이거나 비닐 리덴(Polyvinylidene Fluoride : PVDF) 등으로 구비된다.Here, the engineering plastic is made of fluorine resin (Polytetra Fluoro Ethylene: PTFE) or vinylidene (Polyvinylidene Fluoride: PVDF).
그러므로 본 발명의 평판표시소자 제조장치인 챔버 상면에 그 내부를 개폐할 수 있도록 접촉되는 커버는 도 2에 도시된 바와 같이 상기 챔버(110)의 상면과 접촉된 상태에서 그 외측 접촉면에 기밀유지부재(114)가 개재되고 내측 접촉면에 댐퍼(120)가 개재되어 상기 챔버(110) 내부 펌핑시 커버(112)가 그 중심부를 기점으로 하방을 향해 처지면서 상기 커버(112)가 그 커버(112)와 접하는 챔버(110)의 내측벽 상단 모서리부를 가압하게 된다.Therefore, the cover which is in contact with the upper surface of the chamber of the flat panel display device manufacturing apparatus of the present invention to open and close the inside is in contact with the upper surface of the chamber 110, the airtight holding member on its outer contact surface as shown in FIG. A 114 is interposed and a damper 120 is interposed on an inner contact surface so that the cover 112 sags downward from the center thereof when the pump 110 is pumped inside the cover 110. Pressing the upper edge portion of the inner wall of the chamber 110 in contact with the.
이때, 상기 커버(112)와 챔버(110)의 내측벽 상단 모서리부 사이에 개재된 댐퍼(120)가 상기 커버(112)와 상기 챔버(110)의 내측벽 상단 모서리부가 직접 접촉되는 것을 방지하여 상기 챔버(110)의 내측벽 상단 모서리부가 파손되는 것을 방지한다.At this time, the damper 120 interposed between the cover 112 and the upper edge of the inner wall of the chamber 110 prevents the cover 112 from directly contacting the upper edge of the inner wall of the chamber 110. The upper edge portion of the inner wall of the chamber 110 is prevented from being damaged.
즉, 상기 댐퍼(120) 중 오링(120a)의 외주면을 상기 오링(120a)보다 경질인 엔지니어링 튜브가 감싸도록 구비되어 상기 커버(112)가 챔버(110)의 상면에 안착됨에 따라 상기 챔버(110) 내부를 펌핑할 때 그 사이에 개재된 기밀유지부재(114)에 압력이 가해진 상태로 가장자리부가 서로 밀착되지만 댐퍼(120)의 외주면에 구비된 경질의 엔지니어링 튜브에 의해 변형을 감소시켜 상기 커버(112)가 챔버(110)에 밀착되지 않고 미세량 이격된 상태로 구비된다.That is, the damper 120 is provided to surround the outer circumferential surface of the O-ring 120a that is harder than the O-ring 120a so that the cover 112 is seated on the upper surface of the chamber 110. At the time of pumping the inside, the edge portions are in close contact with each other in a state where pressure is applied to the airtight holding member 114 interposed therebetween, but the deformation is reduced by a hard engineering tube provided on the outer circumferential surface of the damper 120 to cover the cover ( 112 is provided in a state in which the minute amount is not in close contact with the chamber 110.
이와 같은 본 발명의 평판표시소자 제조장치는 챔버 상면에 안착되는 커버의 접촉면에 기밀유지부재와 댐퍼(Damper)를 구비하여 상기 커버가 하방으로 처지더라도 챔버 내벽 상단에 접촉되는 것을 방지함에 따라 파티클 발생을 최소화하고 상기 커버의 변형을 최소화하며 공정 수율 향상 및 장비의 내구성이 향상시키는 효과가 있다.Such a flat panel display device manufacturing apparatus of the present invention is provided with an airtight holding member and a damper on the contact surface of the cover seated on the upper surface of the chamber to prevent particles from contacting the upper end of the inner wall of the chamber even if the cover sags downward. Minimize, minimize the deformation of the cover and improve the process yield and equipment durability is improved.
도 1은 종래의 평판표시소자 제조장치를 도시한 측단면도이다.1 is a side sectional view showing a conventional flat panel display device manufacturing apparatus.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판표시소자 제조장치를 도시한 측단면도이다.2 is a side sectional view showing a flat panel display device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 상기 평판표시소자 제조장치의 일 실시예에 따른 댐퍼를 부분 도시한 사시도이다.3 is a perspective view partially showing a damper according to an embodiment of the flat panel display device manufacturing apparatus.
도 4는 상기 평판표시소자 제조장치의 다른 실시예에 따른 댐퍼를 부분 도시한 사시도이다.4 is a perspective view partially illustrating a damper according to another embodiment of the flat panel display device manufacturing apparatus.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
110 : 챔버 112 : 커버110: chamber 112: cover
114 : 기밀유지부재 120, 120' : 댐퍼(Damper)114: airtight holding member 120, 120 ': damper
120a : 오링120a: O-ring
Claims (7)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050092088A KR100915156B1 (en) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | Flat panel display manufacturing machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050092088A KR100915156B1 (en) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | Flat panel display manufacturing machine |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20070036961A KR20070036961A (en) | 2007-04-04 |
| KR100915156B1 true KR100915156B1 (en) | 2009-09-03 |
Family
ID=38158942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020050092088A KR100915156B1 (en) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | Flat panel display manufacturing machine |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100915156B1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101187362B1 (en) * | 2010-12-20 | 2012-10-02 | 한국항공우주연구원 | Corona Free Diplexer for Launcher Space Applications |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101580645B1 (en) * | 2013-11-18 | 2015-12-28 | 조규원 | Safety cover of load lock module chamber with sepsrated lexan |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10242097A (en) * | 1997-03-03 | 1998-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Plasma cleaning equipment of substrate |
| KR20030016460A (en) * | 2001-08-16 | 2003-03-03 | 삼성전자주식회사 | RF precleanning system having crack-free structure of bell jar |
| KR20040037288A (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-07 | 삼성전자주식회사 | plasma treating equipment |
-
2005
- 2005-09-30 KR KR1020050092088A patent/KR100915156B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10242097A (en) * | 1997-03-03 | 1998-09-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Plasma cleaning equipment of substrate |
| KR20030016460A (en) * | 2001-08-16 | 2003-03-03 | 삼성전자주식회사 | RF precleanning system having crack-free structure of bell jar |
| KR20040037288A (en) * | 2002-10-28 | 2004-05-07 | 삼성전자주식회사 | plasma treating equipment |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101187362B1 (en) * | 2010-12-20 | 2012-10-02 | 한국항공우주연구원 | Corona Free Diplexer for Launcher Space Applications |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20070036961A (en) | 2007-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI641066B (en) | Thin film encapsulation processing system and process kit permitting low-pressure tool replacement | |
| CN1327493C (en) | Mechanism and method for assembling processing device parts, and lock mechanism and method for locking the lock mechanism | |
| TWI743246B (en) | Electronic device manufacturing load port apparatus, systems, and methods | |
| JP4010314B2 (en) | Gate valve device, processing system, and seal member replacement method | |
| TWI524447B (en) | Method and apparatus for sealing an opening of a processing chamber | |
| US8070408B2 (en) | Load lock chamber for large area substrate processing system | |
| KR20170134287A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| US7431813B2 (en) | Multi-chambered substrate processing equipment having sealing structure between chambers thereof, and method of assembling such equipment | |
| KR200491849Y1 (en) | Load lock chamber with slit valve doors | |
| JP6846517B2 (en) | Loadport equipment, systems, and methods for manufacturing electronic devices | |
| JP2007187289A (en) | Decompression container and decompression processing apparatus | |
| KR100915156B1 (en) | Flat panel display manufacturing machine | |
| KR100872537B1 (en) | Proessure reduction vessel, pressure reduction processing apparatus and method of manufacturing a proessure reduction vessel | |
| KR100974856B1 (en) | Loadlock chamber | |
| TWI658164B (en) | Thin film encapsulation processing system and process kit | |
| KR20220148661A (en) | Gate valve for semiconductor and flat panel display apparatus | |
| KR20130016359A (en) | Substrate processing method and substrate processing system | |
| KR20090093546A (en) | Substrate processing apparatus | |
| KR100524881B1 (en) | Processing apparatus in low pressure condition comprising outer liftpin | |
| KR101571812B1 (en) | Apparatus for dechucking substrate, method for dechucking substrate, apparatus for processing substrate and method of processing substrate using the same | |
| KR100751032B1 (en) | Multi chamber system | |
| KR100965523B1 (en) | Flat panel display manufacturing machine | |
| JP2014201803A (en) | Bell jar and vacuum processing device | |
| US20060286801A1 (en) | Process chamber assembly and apparatus for processing a substrate | |
| KR102243741B1 (en) | Pull-push device, gate valve and vacuum processing apparatus using it |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120801 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130826 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150826 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160826 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170825 Year of fee payment: 9 |