KR100810738B1 - Preparation method of multi structural film using slot die and anti pollutant-heat cutting film prepared from them - Google Patents

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Abstract

본 발명은 슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 방오-단열 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면을 코팅을 수행함에 있어, 상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, 평균입경이 다른 입자가 함유된 용액을 각각의 슬롯을 통과시킨 후, 상기 슬롯을 통과한 용액은 경사조건에서 방출 및 적층하는 단 한번의 공정으로, 상기 고분자 표면에 여러 개의 다층막을 동시 형성이 가능하며, 상기 전자석에 의해 형성된 자기장으로 입자의 재배열이 유도되어 상대적으로 평균입경이 큰 입자가 고분자 표면의 하단에 위치하는 경사구조를 형성하고, 계면이 불명확하여 층간의 상용성 및 계면부착력이 우수하고 장기 물성확보가 가능한 슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법과, 이를 이용하여 안티몬-이산화주석을 함유하는 적외선 차단층과 이산화티탄을 함유하는 광촉매층이 적층된 방오-단열 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a multilayer film using a slot die and an antifouling insulation film prepared therefrom, and more particularly, to coating a surface of a polymer substrate using a slot-die coater. After placing the electromagnet on the guide roll, which is the lower end of the polymer substrate, and passing the solution containing particles having different average particle diameters through each slot, the solution passing through the slot is discharged and laminated under inclined conditions. As a result, it is possible to simultaneously form a plurality of multilayer films on the surface of the polymer, and rearrangement of the particles is induced by the magnetic field formed by the electromagnet to form an inclined structure in which particles having a relatively average particle diameter are located at the bottom of the surface of the polymer. Of multi-layered film using slot die, which has excellent interfacial compatibility, interfacial adhesion, and long-term physical properties due to unclear interface. The present invention relates to an antifouling-insulating film in which an infrared blocking layer containing antimony-tin dioxide and a photocatalyst layer containing titanium dioxide are laminated using the same method.

평균입경, 슬롯다이 코터, 입자 재배열, 경사구조, 다층구조 Average particle size, slot die coater, particle rearrangement, inclined structure, multilayer structure

Description

슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 방오-단열 필름{PREPARATION METHOD OF MULTI STRUCTURAL FILM USING SLOT DIE AND ANTI POLLUTANT-HEAT CUTTING FILM PREPARED FROM THEM}Method for manufacturing multilayer film using slot die and antifouling insulation film manufactured therefrom {PREPARATION METHOD OF MULTI STRUCTURAL FILM USING SLOT DIE AND ANTI POLLUTANT-HEAT CUTTING FILM PREPARED FROM THEM}

도 1은 본 발명에 따라 실시예 1에서 제조된 필름으로, 기재에 적외선 차단층(1), 광촉매층(2)이 적층된 2층 구조의 필름을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명에 따라 실시예 2에서 제조된 필름으로, 기재에 계면활성제층(1), 적외선 차단층(2), 계면활성제층(3), 광촉매층(4)이 적층된 4층 구조의 필름을 나타낸 것이다.
1 is a film prepared in Example 1 according to the present invention, which shows a film of a two-layer structure in which an infrared ray blocking layer 1 and a photocatalytic layer 2 are laminated on a substrate.
2 is a film prepared in Example 2 according to the present invention, a four-layer structure in which a surfactant layer (1), an infrared ray blocking layer (2), a surfactant layer (3), a photocatalytic layer (4) is laminated on a substrate It shows a film.

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도3은 실시예 3에서 제조된 필름의 전자주사현미경 사진으로, 도 3a는 광촉매졸을 1층 주입용액, 도 3b는 1층 주입용액으로 광촉매졸을 사용한 후 2층 주입용액으로 적외선 차단졸을 사용한 것이다.Figure 3 is an electron scanning microscope photograph of the film prepared in Example 3, Figure 3a is a photocatalyst sol in a single layer injection solution, Figure 3b is a photocatalyst as a single layer injection solution and then used an infrared barrier sol as a two-layer injection solution I used it.

도 4는 종래 통상적으로 사용되는 슬롯다이의 모식도를 나타낸 것으로, 1, 2, 3 및 4는 각각 분출슬롯을 나타낸다.Figure 4 shows a schematic diagram of a conventionally used slot die, 1, 2, 3 and 4 represents the ejection slot, respectively.

도 5는 본 발명에 따라 실시예 2에서 제조된 4층 구조의 전자주사현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 5 shows an electron scanning micrograph of a four-layer structure prepared in Example 2 according to the present invention.

도 6은 본 발명에서 사용된 전자석이 부착된 가이드 롤을 이용한 슬롯다이의 모식도를 나타낸 것으로, 1, 2, 3 및 4는 각각 분출슬롯을 나타낸다.Figure 6 shows a schematic diagram of a slot die using a guide roll with an electromagnet used in the present invention, 1, 2, 3 and 4 represents the ejection slot, respectively.

도 7은 본 발명에 따라 실시예 4에서 제조된 4층 구조의 전자주사현미경 사 진을 나타낸 것이다.Figure 7 shows an electron scanning microscope photograph of a four-layer structure prepared in Example 4 in accordance with the present invention.

본 발명은 슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 방오-단열 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면을 코팅을 수행함에 있어, 상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, 평균입경이 다른 입자가 함유된 용액을 각각의 슬롯을 통과시킨 후, 상기 슬롯을 통과한 용액은 경사조건에서 방출 및 적층하는 단 한번의 공정으로, 상기 고분자 표면에 여러 개의 다층막을 동시 형성이 가능하며, 상기 전자석에 의해 형성된 자기장으로 입자의 재배열이 유도되어 상대적으로 평균입경이 큰 입자가 고분자 표면의 하단에 위치하는 경사구조를 형성하고, 계면이 불명확하여 층간의 상용성 및 계면부착력이 우수하고 장기 물성확보가 가능한 슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법과, 이를 이용하여 안티몬-이산화주석을 함유하는 적외선 차단층과 이산화티탄을 함유하는 광촉매층이 적층된 방오-단열 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a multilayer film using a slot die and an antifouling insulation film prepared therefrom, and more particularly, to coating a surface of a polymer substrate using a slot-die coater. After placing the electromagnet on the guide roll, which is the lower end of the polymer substrate, and passing the solution containing particles having different average particle diameters through each slot, the solution passing through the slot is discharged and laminated under inclined conditions. As a result, it is possible to simultaneously form a plurality of multilayer films on the surface of the polymer, and rearrangement of the particles is induced by the magnetic field formed by the electromagnet to form an inclined structure in which particles having a relatively average particle diameter are located at the bottom of the surface of the polymer. Of multi-layered film using slot die, which has excellent interfacial compatibility, interfacial adhesion, and long-term physical properties due to unclear interface. The present invention relates to an antifouling-insulating film in which an infrared blocking layer containing antimony-tin dioxide and a photocatalyst layer containing titanium dioxide are laminated using the same method.

일반적으로 이산화티탄을 포함한 광촉매, 또는 광촉매 활성재료는 그 밴드 갭 이상의 에너지를 조사하면 여기되어 전도대에 전자가 생기고 가전자대에 정공이 생긴다. 이러한 광촉매의 광활성 현상은 후지시마 교수에 의해 최초로 밝혀졌 다. In general, photocatalysts including titanium dioxide, or photocatalytic active materials are excited when irradiated with energy above the band gap to generate electrons in the conduction band and holes in the valence band. Photocatalytic activity of these photocatalysts was first discovered by Professor Fujishima.

이산화티타늄 전극과 백금 전극으로 구성된 전지에 광을 조사하면 약 -0.5 V에서 물의 분해가 일어나며 이산화티타늄 전극의 표면에서 산소가 발생하고 백금전극 주변에서 수소가 발생한다. 이는 물의 통상 산화 분해 전위인 +1.23 V 보다 훨씬 적은 전위에서 발생하는 특이한 현상으로 자외선에 의해 이산화티타늄의 가전자띠(valance band)가 전도띠(conduction band)로 전이되며 이 때 발생하는 정공에 의하여 물의 산화가 일어나 수소를 발생하는 것으로 설명하였다. When light is irradiated to a battery composed of a titanium dioxide electrode and a platinum electrode, water decomposition occurs at about -0.5 V, oxygen is generated on the surface of the titanium dioxide electrode, and hydrogen is generated around the platinum electrode. This is a peculiar phenomenon that occurs at a potential far lower than +1.23 V, which is the normal oxidative decomposition potential of water. The valence band of titanium dioxide is transferred to the conduction band by ultraviolet rays. It was explained that oxidation occurs to generate hydrogen.

광촉매의 종류는 이산화티탄을 포함하여 산화철, 산화텅스텐, 산화아연, 황화카드뮴 등이 있지만 이산화티탄의 경우 태양광에 포함되는 자외선 영역의 특정파장 광을 흡수하는 능력이 가장 우수하여 광촉매 활성이 높은 것으로 알려져 있다. 이산화티탄 계열 광촉매는 백색 안료, 고주파용 콘덴서 소재, 저반사 코팅 재료 등으로 광범위하게 이용되고 있다. 이산화티탄은 강력한 산화력을 나타내는 환경 개선형 소재로써 탈취, 방오, 항균, 살균 및 각종 환경오염물질의 분해 등에 효과가 크고, 최근 들어 수처리 분야, 공기 청정 분야, 각종 생활소재 분야 등에 응용되고 있다.Types of photocatalysts include titanium dioxide, iron oxide, tungsten oxide, zinc oxide, cadmium sulfide, etc., but titanium dioxide has the highest photocatalytic activity because it has the best ability to absorb specific wavelength light in the ultraviolet region included in sunlight. Known. Titanium dioxide-based photocatalysts are widely used as white pigments, high frequency capacitor materials, low reflection coating materials, and the like. Titanium dioxide is an environmentally improved material that exhibits strong oxidizing power and is effective in deodorization, antifouling, antibacterial, sterilization, and decomposition of various environmental pollutants. Recently, titanium dioxide has been applied to water treatment, air cleaning, and various living materials.

이에 대한 일례를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.An example of this will be described in detail below.

국제특허공개 제96/29375호에 의하면 광촉매가 광 여기 되어 광촉매 표면과 물과의 접촉각이 10도 이하가 되어 초친수화를 나타낸 것이 공지되어 있다. 이러한 광촉매의 초친수화 특성을 이용하여 자동차의 사이드 미러용 필름, 욕실용 방담필름, 셀프클리닝 유리등에 사용을 시도하고 있다. 이러한 광촉매를 유기기 재인 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 등에 곧바로 코팅하면 광촉매 작용에 의해 단시간에 유기기재가 열화되어 코팅된 면의 밀착력이 떨어지고 초친수성이 떨어져서 그 기능을 유지할 수 없게 된다. 따라서 이를 해결하기 위해 통상 유기기재 필름에 중간층을 형성시키는 바, 중간층으로는 일반적으로 실리콘 수지나 아크릴 변성 실리콘 수지 등이 사용되고 있다. According to International Patent Publication No. 96/29375, a photocatalyst is photoexcited, and the contact angle between the surface of the photocatalyst and water is 10 degrees or less, and superhydrophilization is known. By using the superhydrophilic property of the photocatalyst, it is attempting to be used in the side mirror film of the automobile, antifog film for the bathroom, self-cleaning glass and the like. If the photocatalyst is directly coated on an organic substrate such as polypropylene and polyethylene terephthalate film, the organic substrate deteriorates in a short time due to the photocatalytic action, resulting in poor adhesion of the coated surface and inferior superhydrophilic properties, thereby preventing its function. Therefore, in order to solve this problem, an intermediate layer is usually formed on an organic substrate film. As the intermediate layer, a silicone resin, an acrylic modified silicone resin, or the like is generally used.

그러나 이러한 광촉매 코팅 필름은 1 ∼ 3년이 지나면 열화되어 필름의 투명성과 방오성 등이 떨어진다. 그 원인으로는 상기 중간층이 유기치환기를 가짐으로 광촉매 작용에 의해 이들 치환기의 분해에 의한 중간층 크랙이 발생하거나, 광촉매 층과 중간층, 중간층과 필름 계면이 뜨거나 부분적 박리가 생기기 때문이다. However, such a photocatalyst coating film deteriorates after 1 to 3 years, resulting in poor transparency and antifouling properties of the film. The reason for this is that the intermediate layer has an organic substituent, so that an intermediate layer crack occurs due to the decomposition of these substituents due to the photocatalytic action, or the photocatalytic layer and the intermediate layer, the intermediate layer and the film interface are floated, or partial peeling occurs.

일본특허출원 평11-264592호에 의하면 유기기재에 광촉매 층을 형성할 때 유기재료와 무기 또는 금속재료와의 접착제, 유기기재의 열화를 막기 위한 중간층이나 무기, 금속계 재료 층과의 밀착성 향상을 위한 중간층을 위해 두께 방향으로 조성이 연속적으로 변화하게끔 하는 유기-무기 복합 경사재료를 개발하였다. 그러나 복합경사막은 투명재료로 이뤄지기 때문에 자외선을 포함하는 태양광의 차폐효과는 기대할 수 없어 유기기재 자체의 내후성이 떨어지는 문제가 있고, 복합경사막을 형성시키는데 유기용제를 이용한 코팅이 필수적이므로 기재의 내용제성이 제품의 수명을 단축시키게 되는 단점이 있다. According to Japanese Patent Application No. Hei 11-264592, when forming a photocatalyst layer on an organic substrate, it is necessary to improve adhesion between an organic layer and an inorganic or metallic material, and an intermediate layer or inorganic or metallic material layer to prevent deterioration of the organic substrate. For intermediate layers, we developed organic-inorganic composite warp materials that allow the composition to change continuously in the thickness direction. However, since the composite inclined film is made of a transparent material, the shielding effect of solar light including ultraviolet light cannot be expected, and thus there is a problem in that weather resistance of the organic substrate itself is inferior, and coating using an organic solvent is essential to form the composite inclined film. There is a drawback to shortening the life of this product.

상기의 문제를 해결하기 위해 국내공개특허 10-2005-0026555는 복합경사재료에 자외선흡수제 또는 광안정제를 혼합하여 광촉매 및 유기기재의 내구성, 내후성 을 향상시키는 재료 및 방법을 제안하였다. In order to solve the above problem, Korean Patent Publication No. 10-2005-0026555 proposed a material and method for improving the durability and weather resistance of a photocatalyst and an organic substrate by mixing a UV absorber or a light stabilizer with a composite inclined material.

한편, 일반적으로 이산화티타늄을 제조하는 방법은 황산법과 염소법이 공지되어 있다.On the other hand, in general, a method for producing titanium dioxide is known sulfuric acid method and chlorine method.

황산법은 일루메나이트 광석을 진한 황산으로 용해시킨 후 용해된 티타늄 이온을 가수분해하여 TiO(OH)2로 친전시켜 철과 분리한 후 고온으로 열처리하여 이산화티타늄으로 전환시키는 벙법이다. 염소법은 루틸광을 1000 ℃ 고온로에서 염소가스와 반응시켜 사염화티타늄으로 제조 후 사염화티타늄을 정제한 후 고온에서 산소와 반응시켜 이산화티타늄 분말을 제조한다. 이와 같은 방법을 적용하면, 매우 작은 입경과 높은 비표면적을 가진 고순도의 이산화티타늄을 얻을 수 있다.The sulfuric acid method is a method of dissolving an illuminite ore with concentrated sulfuric acid, hydrolyzing the dissolved titanium ions with TiO (OH) 2 , separating it from iron, and heat-treating at high temperature to convert to titanium dioxide. In the chlorine method, rutile ore is reacted with chlorine gas at a high temperature furnace at 1000 ° C. to produce titanium tetrachloride, and then purified titanium tetrachloride and then reacted with oxygen at high temperature to produce titanium dioxide powder. By applying this method, it is possible to obtain high purity titanium dioxide having a very small particle size and a high specific surface area.

이산화티타늄는 결정구조에 따라 크게 아나타제형, 루틸형, 부루카이트형으로 구분되는데, 저온상인 아나타제형과 고온상인 루틸형이 일반적이다. 이 두가지의 결정형은 공통적으로 정방정계를 가지나 산소리간드의 위치에 따라 구조가 다르게 나타난다. 루틸형은 산소리간드가 꼭지점에 위치하는 것과는 달리 아나타제형은 산소리간드가 모서리 면에 위치하므로 서로 다른 물리화학적 특성을 나타낸다. 이같이 제조한 이산화티타늄 광촉매는 일반적으로 약 75%의 아나타제형과 25%의 루틸형이 혼재된 것으로 알려져 있다. Titanium dioxide is largely divided into anatase type, rutile type, and brookite type according to the crystal structure. Anatase type in low temperature phase and rutile type in high temperature phase are generally used. These two crystalline forms have a tetragonal system in common, but their structure appears different depending on the position of the oxygen ligand. In the rutile type, the oxygen ligand is located at the vertex, whereas the anatase type shows different physical and chemical properties because the oxygen ligand is located at the edge. Titanium dioxide photocatalysts thus prepared are generally known to contain about 75% of anatase and 25% of rutile.

최근 나노미립자 광촉매 이산화티타늄을 제조하기 위하여 티타늄 알콕사이드 원료로 가수분해와 축합반응을 통한 졸-겔 공정이 널리 응용되고 있는데, 100% 아나타제 조성을 갖는 입경이 5 ㎚ 미만인 이산화티타늄 분말을 제조할 수 있는 것으 로 알려져 있다. 이 이산화티타늄 입자는 물 또는 알콜 용매류에 고형분 30% 이상의 고농도로 분산하여 용해가 가능하고 유기기재에 박막코팅이 가능하여 광촉매로써 응용되고 있다. Recently, the sol-gel process through hydrolysis and condensation reaction has been widely applied as a titanium alkoxide raw material to produce nanoparticle photocatalyst titanium dioxide, and it is possible to manufacture titanium dioxide powder having a particle diameter of less than 5 nm with a 100% anatase composition. Known as Titanium dioxide particles are dispersed in water or alcohol solvents at a high concentration of 30% or more in solid content, so that they can be dissolved and thin film coated on organic materials.

이에 대한 일례를 구체적으로 살펴보면, 대한민국 공개특허 제2001-0073712호에 의하면, 산촉매 하에서 결정형 아나타제형 이산화티타늄 나노졸을 사용하여 폴리스티렌 기재를 사용한 박막을 형성하는 방법을 제안하였다. 박막의 제조는 희석된 이산화티타늄 나노졸 용액을 고분자 지지체에 딥-코팅하는 방법이고, 이때 제조된 박막의 용도는 페놀 등의 난분해성 독성유기물, 메틸렌블루 등의 색소화합물을 분해할 수 있는 특징이 있다. Looking at an example for this in detail, according to the Republic of Korea Patent Publication No. 2001-0073712, a method of forming a thin film using a polystyrene substrate using a crystalline anatase type titanium dioxide nanosol under an acid catalyst. The manufacturing of the thin film is a method of dip-coating a dilute titanium dioxide nanosol solution on a polymer support, and the use of the prepared thin film is characterized in that it is capable of decomposing refractory toxic organic substances such as phenol and pigment compounds such as methylene blue. have.

대한민국 실용신안 출원 제20-2004-0017333호에서는 폴리에스터 층의 한 면에 열차단 접착제를 형성시키고 타측면에 실리콘(실리카) 코팅층과 그 위에 광촉매층을 형성시킴으로 실리콘(실리카) 코팅층의 빈공간으로 광촉매 용액의 일부가 스며들게 하여 단열성 쏠라 필름의 제조를 제안하고 있다. 이는 실리콘 코팅면이 균일하지 않거나 빈 공간이 불균일하게 분포할 가능성이 높으므로 안정적인 광촉매 특성을 발현시키기 어렵다는 단점이 있다. In Korean Utility Model Application No. 20-2004-0017333, a thermal barrier adhesive is formed on one side of a polyester layer, and a silicon (silica) coating layer and a photocatalytic layer are formed on the other side to form an empty space of the silicon (silica) coating layer. A part of the photocatalyst solution is impregnated to propose the production of an insulating solar film. This has a disadvantage in that it is difficult to express stable photocatalytic properties because the silicon coating surface is not likely to be uniform or the empty space is unevenly distributed.

이외에, 기재에 광촉매를 직접 고정시키는 방법으로 대한민국 특허 출원 제2002-0022735호는 티타늄 전구체를 기상에서 직접 분사하여 기재표면에 나노크기 광촉매 입자를 형성시킨 후 마이크로파를 조사하여 반영구적으로 고정시키는 방법을 제안하였다. 이는 종래에 사용하였던 유, 무기 바인더를 사용하지 않고 직접 코팅하므로 대부분 광촉매가 표면에 노출되어 있어 높은 광촉매 효율을 보일 수 있는 장점이 있다. In addition, as a method of directly fixing a photocatalyst on a substrate, Korean Patent Application No. 2002-0022735 proposes a method of semi-permanently fixing by irradiating microwaves after forming a nano-sized photocatalyst particles on the surface of the substrate by directly spraying a titanium precursor in the gas phase. It was. This is a direct coating without using the organic and inorganic binders used in the prior art has the advantage that most of the photocatalyst is exposed to the surface can show a high photocatalyst efficiency.

언급된 광촉매는 다양한 분야에 응용하기 위하여 광촉매의 박막화, 멤브레인화 등의 기술개발이 시도되고 있으며 다양한 지지체 상에 광촉매를 고정화시키는 기술도 함께 연구되고 있다. 이들 지지체 중 대표적인 예로는 유리, 실리카, 유리/광섬유, 셀룰로오스, 제올라이트, 알루미나, 알루미노실리케이트, 스테인레스스틸, 폴리신계 수지 등이 알려져 있다. 이때, 광촉매 입자를 다양한 지지체 상에 고정할 때 중요한 요소로는 촉매와 지지체간 강한 접착력을 제공하여 안정성이 확보되어야 하고 공정 중에 촉매의 변성이 일어나지 않아야 하며, 특히 외장재의 경우, 코팅막의 투명성과 광택도 확보가 중요한 요소이다. The photocatalyst mentioned above has been attempted to develop technologies such as thinning and membrane-forming a photocatalyst for application in various fields, and a technique for immobilizing the photocatalyst on various supports has also been studied. Representative examples of these supports include glass, silica, glass / optical fibers, cellulose, zeolite, alumina, aluminosilicate, stainless steel, polycin-based resin, and the like. In this case, when fixing the photocatalyst particles on various supports, an important factor is to provide strong adhesion between the catalyst and the support to ensure stability and to prevent the catalyst from being modified during the process. Particularly, in case of the exterior material, the transparency and gloss of the coating film Also securing is an important factor.

광촉매 중 외장재로의 응용분야 중 대표적인 것이 차량용으로는 윈도우 필름, 건축 외장용으로는 착색을 포함한 단열필름 및 도로교통 표지판과 같은 용도로 연구가 진행되고 있다. 이들 용도에서 요구되는 광촉매 특성은 외부환경에 노출되므로 내구성이 뛰어나야 하며, 최소 1 ∼ 2년의 장기물성 확보가 필연적이다. 이러한 장기물성으로는 광촉매의 활성과 관계된 방오 특성 및 그 특성을 유지하기 위한 코팅 구조물 제어가 필수적이다. Among the photocatalysts, typical applications for exterior materials are researches such as window films for vehicles, thermal insulation films including coloring for architectural exteriors, and road traffic signs. The photocatalyst properties required for these applications are exposed to the external environment, so they must be excellent in durability, and it is necessary to secure long-term physical properties of at least 1 to 2 years. Such long-term physical properties are necessary to control the antifouling properties related to the activity of the photocatalyst and the coating structure to maintain the properties.

또한, 외장재로서 태양광에 노출되므로 단열 특성이 우수해야 하는데, 일반적으로 사용되는 외장재에 발현된 단열특성은 유기 또는 무기입자를 코팅용액에 분산시키고 이를 균일 박막코팅하여 얻게 된다. 이러한 필름에 의한 태양광 단열특성은 비교적 양호한 것으로 검토되고 있으나 광촉매 입자가 분산된 코팅액과의 비상용성 및 계면활성의 문제로 인해 외장재로서의 기능을 충분히 발현시키지 못하 고 있다. In addition, the thermal insulation properties should be excellent because it is exposed to sunlight as the exterior material, the thermal insulation properties expressed in the commonly used exterior material is obtained by dispersing organic or inorganic particles in the coating solution and coating it uniformly. Although the solar thermal insulation property by such a film is considered to be comparatively good, it cannot fully express its function as an exterior material because of the incompatibility with the coating liquid in which the photocatalyst particle was disperse | distributed, and a surface activity.

이에 본 발명자들은 상기와 같은 문제점을 개선하면서 외장용으로 필름으로 부합되는 기능성 필름을 제조하고자 연구 노력하였다. 그 결과, 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면을 코팅을 수행함에 있어, 상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, 평균입경이 다른 입자가 함유된 용액을 각각의 슬롯을 통과시킨 후, 상기 슬롯을 통과한 용액은 특정범위의 경사조건에서 방출 및 적층하는 단 한번의 공정으로, 상기 고분자 표면에 여러 개의 다층막을 동시 형성이 가능하며, 상기 전자석에 의해 형성된 자기장으로 입자의 재배열이 유도되어 상대적으로 평균입경이 큰 입자가 고분자 표면의 하단에 위치하는 경사구조를 형성한다는 것을 알게되어 본 발명을 완성하게 되었다.The present inventors have tried to manufacture a functional film that is matched with a film for exterior use while improving the above problems. As a result, in coating the surface of the polymer substrate by using a slot-die coater, an electromagnet is disposed on the guide roll, which is the lower end of the polymer substrate, and a solution containing particles having different average particle diameters is prepared. After passing through the slot, the solution passing through the slot is a single process of ejecting and stacking in a specific range of inclined conditions, it is possible to simultaneously form a multi-layered film on the surface of the polymer, the magnetic field formed by the electromagnet The rearrangement of the particles is induced to find that the particles having a relatively large average particle diameter form a slanted structure located at the bottom of the polymer surface to complete the present invention.

또한, 상기 방법으로 제조된 고분자는 자기장에 의해 층이 형성되어 층간의 계면이 불명확하여 층간의 상용성 및 계면부착력이 우수하고 장기물성확보가 가능하다는 것을 알게 되어 본 발명을 완성하게 되었다.In addition, the polymer produced by the above method is a layer formed by the magnetic field, the interface between the layers is unclear, so that the compatibility and interfacial adhesion between the layers and the long-term physical properties can be obtained to complete the present invention.

따라서, 본 발명은 가이드롤에 전자석이 배치된 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 일회의 공정으로 상용성 및 계면부착력이 우수하고 장기물성 확보가 가능한 다층의 방오-단열 필름 및 이의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention uses a slot-die coater with an electromagnet disposed on a guide roll, and has a multi-layer antifouling-insulating film capable of ensuring excellent compatibility and interfacial adhesion power and long-term physical properties in a single process, and a method of manufacturing the same. The purpose is to provide.

본 발명은 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면에 유동성 소재를 코팅하는 공정을 포함하는 필름의 제조 방법에 있어서, 상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, 상기 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 서로 다른 입경의 금속입자가 함유된 졸(sol)을 고분자 기재표면에 30 ∼ 60 °범위의 경사 조건으로 방출하여서, 상기 전자석의 자기장에 의해 상대적으로 평균입경이 큰 금속입자로부터 순차적으로 고분자 기재 표면에 적층되면서 다층구조가 형성되도록 하는 필름의 제조방법에 그 특징이 있다.The present invention provides a film manufacturing method comprising the step of coating a flowable material on the surface of the polymer substrate using a slot-die coater, the electromagnet is disposed on the guide roll which is the lower end of the polymer substrate, the slot Using a die-die coater, a sol containing metal particles of different particle diameters was released on the surface of the polymer substrate under inclined conditions in the range of 30 to 60 °, and the average particle diameter was relatively caused by the magnetic field of the electromagnet. There is a feature of the method for producing a film in which a multilayer structure is formed while being sequentially laminated on the surface of a polymer substrate from the large metal particles.

또한, 본 발명은 고분자 기재에, 이산화티탄과 안티몬-이산화주석 또는 이들의 금속 혼합물이 포함된 기능성층이 적층되어 있는 필름으로, In addition, the present invention is a film in which a functional layer containing titanium dioxide and antimony-tin dioxide or a metal mixture thereof is laminated on a polymer substrate,

상기 고분자 기재 표면에 상대적으로 평균입경이 큰 금속입자부터 순차적으로 적층되어 다층구조를 형성하는 방오-단열 필름에 그 특징이 있다.The antifouling-insulating film is formed by sequentially stacking metal particles having a relatively large average particle diameter on the surface of the polymer substrate to form a multilayer structure.

이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면에 다층의 코팅막을 단 일회의 공정으로 형성하는 다층 필름의 제조방법과 이로부터 제조된 방오-단열 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a multilayer film and a antifouling-insulating film prepared therefrom which form a multilayer coating film on a surface of a polymer substrate using a slot-die coater in a single process.

통상적으로 기재 표면에 다층의 코팅막을 형성하기 위해서는 층의 개수만큼의 코팅 공정을 수행하여야 하는 바, 이때 대규모의 코팅공정에 통상적으로 사용되는 것이 슬롯다이(slot-die) 코터이다. 그러나, 이와 같은 방법으로 수행하는 경우 층간이 상용성 및 계면부착력 등으로 장기간 지속력이 저하되는 한계가 있다.In general, in order to form a multi-layer coating film on the surface of the substrate, as many coating processes as the number of layers have to be performed. In this case, a slot-die coater is commonly used in a large-scale coating process. However, when carried out in this way there is a limit that the long-term sustainability is lowered due to intercompatibility and interfacial adhesion.

그러나, 본 발명은 고분자 기재 하단인 가이드롤에 전자석을 배치한 슬롯다 이(slot-die) 코터를 사용하고, 층을 형성하기 위한 각 용액은 평균입경이 다른 입자가 함유된 것을 사용하며, 상기 용액의 방출 시 슬롯을 특정범위의 경사각을 유지하는 조건에서 수행하는 단 일회의 공정으로 다층을 형성한다. 즉, 상기 용액 내부에 함유된 입자는 평균입경이 달라 전자석에 의해 형성된 자기장에 노출될 경우 평균입경이 큰 입자가 고분자 기재 표면에 가깝게 되고 입자의 크기가 작아질수록 멀어지는 경사구조를 형성하게 되어 층을 형성하는 것이다. 이렇게 형성된 층은 계면의 경계가 불분명하여 층간의 소재에 따른 상용성과 계면 부착력이 우수하여 제조된 필름의 물성이 우수하게 된다.However, the present invention uses a slot-die coater in which an electromagnet is disposed on a guide roll, which is a lower end of a polymer substrate, and each solution for forming a layer uses particles containing different average particle diameters. Upon release of the solution, the multilayers are formed in a single process in which the slots are maintained under a certain range of tilt angles. That is, when the particles contained in the solution have different average particle diameters and are exposed to a magnetic field formed by an electromagnet, the particles having a larger average particle diameter are closer to the surface of the polymer substrate, and as the particle size decreases, the inclined structure is formed. To form. The layer formed as described above has an unclear interface and thus has excellent compatibility and interfacial adhesion depending on the material between the layers, thereby improving physical properties of the film.

이하 본 발명을 구체적인 일례를 사용하여 보다 상세히 설명하겠는 바, 이러한 일례에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using specific examples, but the present invention is not limited to these examples.

다음 도 1은 본 발명에 따라 기재에, 적외선 차단층(1) 및 광촉매층(2)가 적층된 2층 구조를 갖는 방오-단열 필름을 나타낸다. 상기 적외선 차단층은 적외선 차단 졸, 광촉매층은 광촉매 졸을 이용하여 층을 형성한다. 이때, 상기 이산화티탄은 광촉매 졸에 함유되고, 안티몬-이산화주석은 적외선 차단 졸에 함유되는 금속 입자 성분으로 상기 졸 성분은 용액주입 및 슬롯의 위치는 중요하지 않으며, 제조 공정 중에 상기 입자의 평균입경에 따라 입경이 큰 금속부터 순차적으로 고분자 기재 표면에 배열된다.1 shows an antifouling-insulating film having a two-layer structure in which an infrared ray blocking layer 1 and a photocatalytic layer 2 are laminated on a substrate according to the present invention. The infrared blocking layer is an infrared blocking sol, the photocatalyst layer is formed using a photocatalyst sol. At this time, the titanium dioxide is contained in the photocatalyst sol, and the antimony-tin dioxide is a metal particle component contained in the infrared blocking sol. The sol component is not important in the solution injection and the position of the slot. Therefore, the particles having a large particle diameter are sequentially arranged on the surface of the polymer substrate.

상기 고분자 기재층은 당 분야에서 일반적으로 사용되는 것으로 특별히 한정하지는 않으나, 투명도가 우수하고 표면에 아크릴 처리된 폴리에스터(PET), 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐클로라이드(PVC) 및 폴리이미드(PI) 등을 사용할 수 있다.The polymer base layer is generally used in the art, but is not particularly limited, but has excellent transparency and acrylic surface-treated polyester (PET), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), and polyimide (PI). ) Can be used.

상기 광촉매 졸은 광에 의해 활성을 갖는 성분을 함유하는 것으로, 특별히 한정하지는 않으나, 취급 및 성능면에서 효과적인 이산화티탄(TiO2)을 사용한다. 상기 이산화티탄은 당 분야에서 강력한 산화력으로 오염방지, 정화, 살균 및 소취능을 갖는 알려져 있는 바, 공지된 것을 사용할 수 있다. 광촉매 졸은 산 촉매하에서 티타늄알콕사이드와 물을 반응시키는 가수분해 반응으로 투명한 아나타제 결정형 이산화티타늄 졸을 형성한다. 이때, 이산화티탄은 평균입자크기가 30 ∼ 50 ㎚범위를 유지하는 바, 상기 입자 크기가 30 ㎚ 미만이면 입자크기가 작아 용액 내에서 상대적으로 비중이 낮아 경사구조를 형성하는데 저해요소가 되고, 50 ㎚을 초과하는 경우에는 광촉매 효율이 떨어지는 문제가 있다. 또한, 상기 광촉매 졸은 비중이 0.5 ~ 1.8 g/㎤을 유지하는 바, 0.5 g/㎤ 미만이면 용액내에서 입자 흐름속도가 느리게 되고 1.8 g/㎤을 초과하는 경우에는 입자가 큰 광촉매 입자들이 급격히 용액 층 하부로 가라앉는 현상이 발생한다. The photocatalyst sol contains a component having activity by light, and is not particularly limited, but uses titanium dioxide (TiO 2 ) effective in terms of handling and performance. The titanium dioxide is known in the art as having a strong oxidative power to prevent contamination, purification, sterilization and deodorization, it can be used a known one. The photocatalyst sol is a hydrolysis reaction of titanium alkoxide and water under an acid catalyst to form a transparent anatase crystalline titanium dioxide sol. At this time, titanium dioxide maintains the average particle size in the range of 30 to 50 nm, if the particle size is less than 30 nm, the particle size is small, the specific gravity is relatively low in the solution, which is an inhibitory factor to form a gradient structure, 50 When it exceeds nm, there exists a problem that a photocatalyst efficiency falls. In addition, the photocatalyst sol maintains specific gravity of 0.5 to 1.8 g / cm 3. When the photocatalyst sol is less than 0.5 g / cm 3, the particle flow rate is slowed in the solution. It sinks under the solution layer.

상기 광촉매 졸은 고분자 기재 100 중량%에 대하여 1.0 ∼ 3.0 중량% 범위로 사용하는 바, 1.0 중량% 미만이면 사용된 기재의 종류에 따라 부착성이 떨어지는 문제가 있으며, 3.0 중량%를 초과하는 경우에는 광 활성 성분이 많아 기재에 손상을 줄 수 있는 문제가 있다.When the photocatalyst sol is used in the range of 1.0 to 3.0% by weight based on 100% by weight of the polymer substrate, if it is less than 1.0% by weight, there is a problem in that the adhesion is inferior according to the type of the substrate used, and when it exceeds 3.0% by weight There is a problem that can damage the substrate with a large number of optically active components.

상기 적외선 차단 졸은 적외선 차단에 활성을 갖는 성분을 함유하는 것으로, 특별히 한정하지는 않으나, 안티몬-이산화주석(Sb-SnO2)과 인듐-이산화주석(In-SnO2)의 혼합물을 사용할 수 있는 바, 상기 혼합 사용하는 경우에는 안티몬-이산화주석의 함량이 75 중량% 이상, 바람직하기로는 75 ∼ 100 중량% 함유한 것으로 입자의 형상이 구형인 것을 사용하는 것이 좋다.The infrared blocking sol contains a component having an activity for blocking infrared rays, and is not particularly limited, but a mixture of antimony-tin dioxide (Sb-SnO 2 ) and indium-tin dioxide (In-SnO 2 ) may be used. In the case of the mixed use, the antimony-tin dioxide content is 75% by weight or more, preferably 75-100% by weight, and it is preferable to use a spherical particle.

상기 안티몬-이산화주석(Sb-SnO2)은 극성이 강한 알콜계 용매, 구체적으로 이소프로필 알코올에 분산시켜 졸 형태로 사용하는 바, 상기 용매는 안티몬-이산화주석 100 중량%에 대하여 75 ∼ 85 중량% 범위로 사용하여 졸 형성이 유리하도록 한다. 안티몬-이산화주석은 평균입자크기가 60 ∼ 80 ㎚범위를 유지하는 바, 상기 입자 크기가 60 ㎚ 미만이면 분산 후 자체 응집력이 생겨 뭉치게 되고 재분산의 어려움이 있고, 80 ㎚을 초과하는 경우에는 입자가 약간 타원형으로 불규칙적이어서 입자가 작은 크기의 용액 내 유동을 방해하게 된다. 또한, 상기 적외선 차단졸은 비중이 0.5 ~ 1.5 g/㎤를 유지하는 바, 0.5 g/㎤미만이면 계면활성제 층과의 비중차이가 적어 적외선 차단층과의 경사구조를 형성하기가 어렵고 적외선 차단졸의 비중이 1.5 g/㎤를 초과하는 경우에는 광촉매 입자가 기재 상부로의 이동이 어려워 광활성을 저해하므로 방오기능이 저하되는 문제가 발생한다. The antimony-tin dioxide (Sb-SnO 2 ) is used in a sol form by dispersing in a highly polar alcoholic solvent, specifically isopropyl alcohol, the solvent is 75 to 85% by weight based on 100% by weight of antimony-tin dioxide It is used in the% range so that sol formation is advantageous. The antimony-tin dioxide maintains an average particle size in the range of 60 to 80 nm. If the particle size is less than 60 nm, coagulation occurs after dispersing, resulting in agglomeration and difficulty in redispersing. Is slightly elliptical and irregular, causing particles to obstruct flow in small sized solutions. In addition, the infrared barrier sol has a specific gravity of 0.5 to 1.5 g / cm 3, and if it is less than 0.5 g / cm 3, the difference in specific gravity with the surfactant layer is small, making it difficult to form an inclined structure with the infrared barrier layer. When the specific gravity exceeds 1.5 g / cm 3, the photocatalyst particles are difficult to move to the upper substrate, thereby inhibiting photoactivity.

이러한 적외선 차단졸은 고분자 기재에 대하여 3 ∼ 15 중량% 사용하는 바, 상기 범위를 벗어나는 경우에는 열차단 특성이 40%에도 미치지 못하게 되거나 기재와의 부착력이 저하되는 문제가 발생한다.The infrared barrier sol is used in 3 to 15% by weight with respect to the polymer substrate, if outside the above range, the thermal barrier properties are less than 40%, or the adhesion to the substrate is reduced.

이때, 각층을 형성하는 용액은 유사 범위의 비중을 유지하는 것이 바람직한 바, 두 용액간의 비중 차이가 적을 수록 용액 내에 포함된 입자들의 재배치가 보다 효과적으로 일어나게 된다.In this case, it is preferable that the solution forming each layer maintains specific gravity in a similar range. The smaller the difference in specific gravity between the two solutions, the more effectively rearrangement of the particles contained in the solution occurs.

상기의 광촉매졸과 적외선 차단 졸을 다음 도 6에 나타낸 슬롯다이 코터 구체적으로 1, 2, 3 및 4의 분출 슬롯, pick-up 롤 및 전자석으로 구성된 이용하여 다층의 필름을 형성한다. 이때, 상기 층 형성 용액이 통과하는 슬롯은 고분자 기재표면에 대하여 30 ∼ 60 °, 바람직하기로는 40 ∼ 50 °의 경사각을 유지하면서 분출되는 바, 상기 경사각이 30 ° 미만이면 용액의 주입속도를 달리할 때 하부층 용액이 상부층 용액과 너무 빨리 섞여 건조오븐까지 이송하기 전에 공기와 노출된 표면부위에서 용매의 건조속도가 빨라 경사구조를 용이하게 형성하기 어렵고, 60 °를 초과하는 경우에는 PICK-UP 롤을 통과한 기재에서 균일한 코팅면을 제어하기 어려운 문제가 발생한다. The photocatalyst sol and infrared ray blocking sol are then used to form a multilayer film using the slot die coater shown in FIG. 6 specifically composed of ejection slots of 1, 2, 3 and 4, pick-up rolls and electromagnets. At this time, the slot through which the layer forming solution passes is ejected while maintaining an inclination angle of 30 to 60 °, preferably 40 to 50 °, with respect to the surface of the polymer substrate. When the lower layer solution is mixed with the upper layer solution too quickly and is transferred to the drying oven, the drying speed of the solvent is high in the exposed surface area with air, making it difficult to form the inclined structure easily, and when it exceeds 60 °, the PICK-UP roll A problem arises that it is difficult to control the uniform coating surface from the substrate passed through.

상기 과정으로 다층이 형성된 필름은 5 ∼ 15 m/min, 바람직하기로는 8 ∼ 10 m/min 이동속도, 5 m 구간에 설치된 다단계 가이드롤에서 건조를 수행한다. 상기 가이드롤의 길이가 5 m를 벗어나는 경우에는 전자석의 설치하지 않은 구간이 늘어나므로 경사구조를 가지지 않은 코팅막이 형성되는 문제가 있다. 이때, 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 배치된 전자석에 의해 상기 입자의 경사특성이 원활하게 발현된다. 상기 전자석은 600 ∼ 1500 mG 범위의 자기장을 갖는 것을 사용하는 바, 상기 자기장이 600 mG 미만이면 자기장이 약해 용액내의 입자들이 충분히 유동할 수 없고, 1500 mG를 초과하는 경우에는 자기장이 너무 강해 용액 하부층으로 비중이 높은 입자들이 많이 분포하게 되어 경사구조가 아닌 2층 구조가 형성되므로 상기 범위를 유지하는 것이 좋다. 즉, 상기 범위의 자기장을 만족시키는 것으로 전자석의 개수와는 큰 관련이 없으나, 바람직하기로는 3 ∼ 5개의 전자석이 간격을 두고 배열되는 것이 좋으며, 보다 바람직하기로는 3개를 유지하는 것이 좋다.The film in which the multilayer is formed by the above process is dried in a multi-stage guide roll installed at 5 to 15 m / min, preferably 8 to 10 m / min moving speed and 5 m section. In the case where the length of the guide roll is more than 5 m, a section in which the electromagnet is not installed increases, which causes a problem in that a coating film having no inclined structure is formed. At this time, the inclination characteristic of the particles is smoothly expressed by the electromagnet disposed on the guide roll which is the lower end of the polymer substrate. The electromagnet uses a magnetic field in the range of 600 to 1500 mG. If the magnetic field is less than 600 mG, the magnetic field is weak and the particles in the solution cannot flow sufficiently. If the electromagnet exceeds 1500 mG, the magnetic field is too strong. As a result, many particles having a high specific gravity are distributed to form a two-layer structure instead of an inclined structure. In other words, it satisfies the magnetic field in the above range and does not have much relation with the number of electromagnets. Preferably, three to five electromagnets are arranged at intervals, and more preferably, three are maintained.

상기와 같은 일회의 공정으로 입자들은 상대적으로 입경이 큰 안티몬-이산화주석이 고분자 기재표면에 적층되고, 상기 안티몬-이산화주석 위에 이산화티탄이 적층되는 경사구조를 나타내는 바, 도 7과 같이 각 층의 계면이 불명확하면서 입자들끼리의 상용성이 향상된 다층구조의 방오-단열 필름이 형성된다. 상기 형성된 방오-단열 필름은 적외선 차단율이 65 ∼ 75%이고, 표면부착력이 40/100 ∼ 100/100 범위를 갖는다.In one process as described above, the particles exhibit an inclined structure in which antimony-tin dioxide having a relatively large particle diameter is laminated on the polymer substrate surface, and titanium dioxide is laminated on the antimony-tin dioxide, as shown in FIG. 7. A multi-layered antifouling-insulating film is formed with an unclear interface and improved compatibility between particles. The formed antifouling-insulating film has an infrared ray blocking rate of 65 to 75% and a surface adhesion of 40/100 to 100/100.

상기 층간의 표면 부착력을 향상시키기 위하여 계면활성제를 추가하여 사용할 수 있는 바, 상기 계면활성제는 당 분야에서 일반적으로 사용할 수 있는 것으로 비이온성, 양이온성 및 음이온성 계면활성제를 사용할 수 있다. 보다 바람직하기로는 알코올류 용매제와의 분산성이 우수한 것을 사용하는 바, 구체적으로 Triton X-100(시그마사) 및 NP#8(시그마사) 등을 사용할 수 있다. 상기 계면활성제는 비중이 0.2 미만인 것을 사용하는 바, 기재 및 광촉매 졸과 적외선 차단 졸 등의 기능성 층을 형성하기 위한 졸 성분간의 계면을 활성화시켜 입자들의 유동을 원활히 하도록 유도하므로 비중이 0.2 이상인 경우에는 용매와의 분산성이 떨어지는 문제가 있다.In order to improve surface adhesion between the layers, a surfactant may be additionally used, and the surfactant may be generally used in the art and may use nonionic, cationic and anionic surfactants. More preferably, those having excellent dispersibility with alcohol solvents may be used. Specifically, Triton X-100 (Sigma) and NP # 8 (Sigma) may be used. When the specific gravity of the surfactant is less than 0.2, the specific gravity of 0.2 or more is used, since it activates the interface between the substrate and the sol component for forming a functional layer such as a photocatalyst sol and an infrared blocking sol. There is a problem of poor dispersibility with the solvent.

이러한 계면활성제는 고분자 기재에 대하여 0.1 ∼ 0.3 중량% 사용하는 바, 상기 범위를 벗어나는 경우에는 계면활성이 건조오븐을 통과한 후에도 일어날 수 있으므로 2차적인 코팅 물성의 변화를 초래할 수 있게 된다.Since the surfactant is used in an amount of 0.1 to 0.3% by weight with respect to the polymer substrate, if the surfactant is out of the above range, the surfactant may occur even after passing through the drying oven, thereby causing secondary coating properties.

이때, 계면활성제는 기재 위에 구성할 경우, 기재와 입자들간의 부착력을 증가시키게 되고, 두 층간에 구성할 경우 두 층 사이에 활성을 도와 비중 차이로 인한 입자들의 유동을 돕게 된다. 이런 과정을 거치면서 계면 활성제는 나노입자와 기재 또는 나노 입자들끼리 연결해주는 리간드 역할을 하게 된다. 이러한 계면활성제는 고분자 기재와, 기능성 층 및 기능성 층 사이에 분포하게 되는 바, 이를 위하여 비중을 0.2 이하로 조절하는 것이 바람직하다. 일례로 상기 계면활성제를 슬롯다이의 슬롯 2개, 적외선 차단 졸의 슬롯 1개, 광촉매 졸의 슬롯 1개를 사용하여 도 2에 나타낸 바와 같이, 기재에 계면활성제층(1), 적외선 차단층(2), 계면활성제층(3) 및 광촉매층(4)으로 구성되는 4층 구조의 방오-단열 필름을 제조할 수 있다.In this case, when the surfactant is configured on the substrate, the adhesion between the substrate and the particles is increased, and when configured between the two layers, the surfactant helps the flow of particles due to the difference in specific gravity by helping the activity between the two layers. Through this process, the surfactant acts as a ligand that connects the nanoparticles with the substrate or nanoparticles. Such a surfactant is distributed between the polymer substrate, the functional layer and the functional layer, and for this purpose, the specific gravity is preferably adjusted to 0.2 or less. For example, as shown in FIG. 2, the surfactant is used as two slots of a slot die, one slot of an infrared blocking sol, and one slot of a photocatalyst sol. 2) A four-layer antifouling-insulating film composed of the surfactant layer 3 and the photocatalyst layer 4 can be produced.

이와 같은 본 발명은 다음의 실시예에 의거하여 더욱 상세하게 설명하겠는 바, 본 발명이 이에 해당되는 것은 아니다.Such a present invention will be described in more detail based on the following examples, but the present invention is not equivalent thereto.

제조예Production Example

제조예 1 : 이산화티탄졸 제조Preparation Example 1 Preparation of Titanium Dioxide

Ti(OCH(CH3)2)4 12.5 mL를 10 mL의 이소프로판올에 첨가하여 티타늄 원료용액을 제조하였다. 별도로, 2차 증류수 75 mL에 아세틸아세톤 4.4 mL를 첨가하여 가수분해 용액을 제조하였다. 이후에 상기 티타늄 원료용액을 가수분해 용액에 천천히 적하하여 티타늄의 가수분해를 유도하였다. 이때 가수분해 반응을 촉진하기 위해 2 mL의 70% 질산을 첨가하고 60 ℃에서 20시간동안 교반하여 투명한 TiO2 졸 용액을 합성하였다(이하 광촉매졸이라 함). 이 용액 내에 포함된 TiO2 입자는 평균입경이 20 ∼ 30 ㎚ 크기의 입자가 80% 이상 함유되었다.12.5 mL of Ti (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 was added to 10 mL of isopropanol to prepare a titanium starting solution. Separately, 4.4 mL of acetylacetone was added to 75 mL of distilled water to prepare a hydrolysis solution. Thereafter, the titanium raw material solution was slowly added dropwise to the hydrolysis solution to induce hydrolysis of titanium. In this case, 2 mL of 70% nitric acid was added to promote the hydrolysis reaction and stirred at 60 ° C. for 20 hours to synthesize a transparent TiO 2 sol solution (hereinafter referred to as photocatalyst sol). TiO 2 particles contained in this solution contained 80% or more of particles having an average particle diameter of 20 to 30 nm.

제조예 2 : 안티몬-이산화주석졸 제조Preparation Example 2 Preparation of Antimony-Tin Dioxide Sol

적외선 차단제 평균입경이 70 ∼ 80 ㎚인 Sb-SnO2(ATO)를 10 mL의 이소프로판올에 첨가하여 분산시켰고, 30 mL의 메틸에틸케톤(methylethylketone, MEK)을 첨가하여 용액을 제조하였다(이하 적외선 차단졸이라 함).Sb-SnO 2 (ATO) having an average particle diameter of 70 to 80 nm was added to 10 mL of isopropanol and dispersed, and 30 mL of methyl ethyl ketone (MEK) was added to prepare a solution (hereinafter referred to as infrared blocking). Called pawns).

제조예 3 : 계면활성제Preparation Example 3 Surfactant

계면활성제는 Triton X-100(시그마)과 NP#8(시그마)를 각각 사용하였으며, 각각의 코팅제 고형분으로부터 기능상 필요한 코팅두께를 추정하여 ㎡당 5 cc 코팅하였다. Triton X-100 (Sigma) and NP # 8 (Sigma) were used as surfactants, and the coating thickness was estimated by 5 cc / m 2 from each coating solids.

제조예 4 : 이산화티탄졸과 안티몬-이산화주석졸 혼합 용액 제조Preparation Example 4 Preparation of Titanium Dioxide Sol and Antimony-Tinazole Sol Solution

제조예 1의 이산화티탄졸과 제조예 2의 안티몬-이산화주석졸 용액을 50 mL 용기에 정량하여 상기 이산화티탄졸과 안티몬-이산화주석졸의 배합비가 1:1 중량비, 1:2 중량비, 1:3 중량비, 1:4 중량비가 되도록 준비하였다. 이때, 배합용액의 비중(g/㎤)을 측정한 결과 1.23, 1.27, 1.33, 1.41이었으며, 각각의 용액을 사용하여 다양한 층을 구성하였다.The titanium dioxide sol of Preparation Example 1 and the antimony-tin dioxide sol solution of Preparation Example 2 were quantified in a 50 mL container, and the blending ratio of the titanium dioxide sol and antimony-tin dioxide sol was 1: 1 by weight, 1: 2 by weight, 1: Prepared to be 3 weight ratio, 1: 4 weight ratio. At this time, as a result of measuring the specific gravity (g / cm 3) of the compound solution was 1.23, 1.27, 1.33, 1.41, each layer was used to form a variety of layers.

실시예 : 다층구조의 필름 제조Example: Film production of multilayer structure

실시예 1 : 2층 구조의 필름 제조Example 1 Film Preparation of Two-Layer Structure

상기 제조예 1의 이산화티탄졸과 제조예 2의 안티몬-이산화주석졸을 PET(도레이새한, XG545B, 25 ㎛)에 코팅하기 위하여, 가이드롤 하단에 600 ∼ 1500 mG 범위의 자기장을 갖는 전자석이 1m 간격으로 3개가 구비된 슬롯다이(Slot-die) 코터방법을 사용하여 고분자의 표면 코팅을 수행하였다. 이때, 상기 이산화티탄졸과 안티몬-이산화주석졸은 3 : 1 중량비를 유지하는 것을 사용하였다. 또한, 용액주입부가 총 7구로 되어있고, 폭 1 m의 각각의 용액주입구를 통해 주입된 용액이 슬롯다이 내부 유로를 거쳐 경사 45 °의 각도로 조절하여 각각의 용액을 동시에 다층 코팅하였다. 상기 적외선 차단졸은 자외선을 조사시켜 경화시켜야 하므로 자외선 광량 200 mJ/cm2으로 조사하였고, 라인속도는 15 m/min, 건조조건은 60 ℃에서 40초 동안 경화시켰다. In order to coat the titanium dioxide sol of Preparation Example 1 and the antimony-tin dioxide sol of Preparation Example 2 on PET (Toray Sae, XG545B, 25 μm), an electromagnet having a magnetic field in the range of 600 to 1500 mG at the bottom of the guide roll was 1 m. Surface coating of the polymer was performed using a slot-die coater method provided with three at intervals. At this time, the titanium dioxide sol and antimony-tin dioxide sol was used to maintain a 3: 1 weight ratio. In addition, the solution inlet was made up of seven holes, and the solution injected through each solution inlet having a width of 1 m was adjusted at an angle of inclination of 45 ° through the slot die inner flow path to simultaneously coat each solution in multiple layers. Since the infrared block sol should be cured by irradiation with ultraviolet light, the ultraviolet light amount was irradiated at 200 mJ / cm 2 , the line speed was 15 m / min, and the drying condition was cured at 60 ° C. for 40 seconds.

상기과정으로 초기에는 PET 기재/안티몬-이산화주석층(적외선 차단층)/이산화티탄층(광촉매층)으로 형성된 필름의 구성이, 최종적으로 PET 기재/안티몬-이산화주석층(적외선 차단층)/이산화티탄층(광촉매층) 순을 적층된 필름이 제조되었다.Initially, the composition of the film formed of a PET substrate / antimony-tin dioxide layer (infrared shielding layer) / titanium dioxide layer (photocatalyst layer) is finally achieved by a PET substrate / antimony-tin dioxide layer (infrared shielding layer) / dioxide. The film which laminated | stacked the titanium layer (photocatalyst layer) order was manufactured.

또 다른 방법으로, 상기 제조예 1의 이산화티탄졸과 제조제 2의 안티몬-이산화주석졸의 순서를 바꿔 수행한 결과, 초기에는 PET 기재/이산화티탄층(광촉매층)/안티몬-이산화주석층(적외선 차단층)으로 형성된 필름의 구성이 최종적으로는 PET 기재/안티몬-이산화주석층(적외선 차단층)/이산화티탄층(광촉매층) 순으로 적층된 필름을 제조하였다.In another method, the order of the titanium dioxide sol of Preparation Example 1 and the antimony-tin dioxide sol of Preparation 2 was changed. As a result, the PET substrate / titanium dioxide layer (photocatalytic layer) / antimony-tin dioxide layer ( The film formed of the infrared blocking layer) was finally laminated in the order of PET substrate / antimony-tin dioxide layer (infrared blocking layer) / titanium dioxide layer (photocatalyst layer).

실시예 2 : 4층구조의 필름 제조Example 2 Film Preparation of Four Layer Structure

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 비중이 1.3인 제조예 1의 이산화티탄졸과 비중이 1.5인 제조예 2의 안티몬-이산화주석졸 및 계면활성제로 비중이 0.2인 Triton X-100(시그마) 또는 NP#8(시그마)을 3 : 1 : 0.5의 중량비로 사용하여 수행하였다.Triton X-100 (Sigma) having a specific gravity of 0.2 as the titanium dioxide sol of Preparation Example 1 having a specific gravity of 1.3 and the antimony-tin dioxide sol of Preparation Example 2 having a specific gravity of 1.5 and a surfactant. Or NP # 8 (Sigma) using a weight ratio of 3: 1: 0.5.

초기에는 PET 기재/계면활성제/안티몬-이산화주석층(적외선 차단층)/계면활성제/이산화티탄층(광촉매층)을 순으로 적층되었던 것이 최종에도 동일한 순으로 적층된 필름을 제조하였다.Initially, the PET substrate / surfactant / antimony-tin dioxide layer (infrared blocking layer) / surfactant / titanium dioxide layer (photocatalyst layer) was laminated in the same order to produce a film laminated in the same order.

또 다른 방법으로, 상기 제조예 1의 이산화티탄졸과 제조제 2의 안티몬-이산화주석졸의 순서를 바꿔 수행한 결과, 초기에는 PET 기재/계면활성제/이산화티탄층(광촉매층)/계면활성제/안티몬-이산화주석층(적외선 차단층)으로 적층되었던 것이 최종적으로 PET 기재/계면활성제/안티몬-이산화주석층/계면활성제/이산화티탄층을 순으로 적층된 필름을 제조하였다. In another method, the order of the titanium dioxide sol of Preparation Example 1 and the antimony-tin dioxide sol of Preparation 2 was changed, and as a result, the PET substrate / surfactant / titanium dioxide layer (photocatalytic layer) / surfactant / What was laminated with an antimony-tin dioxide layer (infrared blocking layer) finally produced a film laminated with a PET substrate / surfactant / antimony-tin dioxide layer / surfactant / titanium dioxide layer in that order.

다음 도 5 및 도 7은 상기에서 제조된 필름의 주사전자현미경 사진을 나타낸 것으로 층간의 계면이 불확실하게 나타났으며, 경사구조의 발현성이 우수하다는 것을 확인할 수 있었다.5 and 7 show the scanning electron micrographs of the film prepared above, the interface between the layers was uncertain, and it was confirmed that the inclination structure was excellent.

상기 실시예 2에서 제조된 필름의 표면부착력을 측정하여 그 결과를 다음 표 에 나타내었다. 이때, 표면부착력은 ASTM D3359에 의한 코로스 컷 방법으로 1 mm 간격으로 100개의 격자를 코팅면 표면에 형성시킨 후 셀로판테이프를 이용하여 5회 박리 테스트를 행하여 박리되지 않은 칸 수를 세어서 판정하였다. The surface adhesion of the film prepared in Example 2 was measured and the results are shown in the following table. At this time, the surface adhesion was determined by forming 100 lattice on the surface of the coating surface by 1 mm interval by the colossal cut method according to ASTM D3359, and then subjected to five peel tests using a cellophane tape to determine the number of uncoated cells.

초기 적층순서Initial stacking order 표면부착력 (갯수)Surface Adhesion (Number) 1, 3층 주입성분1, 3 layer injection ingredients 2층 주입성분2 layer injection ingredients 4층 주입성분4-layer injection ingredient 계면활성제 Triton X-100Surfactant Triton X-100 적외선차단졸Infrared sunscreen 광촉매졸Photocatalyst sol 40/10040/100 계면활성제 NP#8Surfactant NP # 8 적외선차단졸Infrared sunscreen 광촉매졸Photocatalyst sol 40/10040/100 계면활성제 Triton X-100Surfactant Triton X-100 광촉매졸Photocatalyst sol 적외선차단졸Infrared sunscreen 100/100100/100 계면활성제 NP#8Surfactant NP # 8 광촉매졸Photocatalyst sol 적외선차단졸Infrared sunscreen 80/10080/100

실시예 3 : 다양한 층 구조에 따른 필름의 물성측정Example 3 Measurement of Properties of Films According to Various Layer Structures

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 고분자 기재 표면에 각각의 단층의 기능성 코팅층(광촉매졸, 광촉매졸+계면활성제(Triton X-100, NP#8), 적외선차단졸)을 형성하여 표면부착력을 측정하였다.The same process as in Example 1, except that the functional coating layer (photocatalyst sol, photocatalyst sol + surfactant (Triton X-100, NP # 8), infrared blocking agent) of each monolayer on the surface of the polymer substrate to form a surface adhesion Measured.

이후에, 상기 단층의 코팅층 위에 기능성 코팅층(광촉매졸, 적외선차단졸)을 재 코팅하여 표면부착력을 측정하였다. 이때, 1층 2층은 상이한 기능성 층을 구성하였다.Thereafter, a functional coating layer (photocatalyst sol, infrared ray blocking sol) was recoated on the coating layer of the single layer to measure surface adhesion. At this time, one layer and two layers constituted different functional layers.

구 분division 1층 주입성분1st layer injection ingredient 2층 주입성분2 layer injection ingredients 표면부착력 (갯수)Surface Adhesion (Number) 실시예 3Example 3 광촉매졸Photocatalyst sol -- 40/10040/100 광촉매졸+Triton X-100Photocatalyst Sol + Triton X-100 -- 40/10040/100 광촉매졸+NP#8Photocatalyst Sol + NP # 8 -- 40/10040/100 적외선 차단졸Infrared ray shield -- 40/10040/100 실시예 4 Example 4 적외선차단졸Infrared sunscreen 광촉매졸Photocatalyst sol 60/10060/100 적외선차단졸+Triton X-100Infrared Blocker + Triton X-100 광촉매졸Photocatalyst sol 60/10060/100 적외선차단졸+NP#8Infrared Blocker + NP # 8 광촉매졸Photocatalyst sol 60/10060/100 광촉매졸+Triton X-100Photocatalyst Sol + Triton X-100 적외선차단졸Infrared sunscreen 100/100100/100 광촉매졸+NP#8Photocatalyst Sol + NP # 8 적외선차단졸Infrared sunscreen 100/100100/100

상기 표 2에서 살펴본 바와 같이, 두 가지 필름 층에 형성된 필름 모두 수축현상이 발생되지 않으며 레벨링 성이 양호한 코팅필름을 얻었다. 도 3은 광촉매졸을 코팅한 것과(도 3a), 적외선 차단졸을 코팅한 면 위에 곧바로 광촉매졸을 처리한 코팅면의 표면(도 3b) 주사전자현미경 사진을 나타낸 것이다. 상기 도 3b의 경우 표면에 움푹 파인 부분이 보이며 비중 차이에 의해 비중이 높은 적외선 차단제 입자가 아래층으로 이동한 것으로 해석된다. As shown in Table 2, both of the films formed on the film layer did not produce shrinkage and obtained a good leveling coating film. FIG. 3 shows a scanning electron micrograph of the photocatalyst coated with the photocatalyst (FIG. 3A) and the surface of the coated surface treated with the photocatalyst (FIG. 3B) directly on the surface coated with the infrared blocking sol. In the case of FIG. 3B, a recessed portion is seen on the surface, and it is interpreted that the infrared ray blocker particles having a high specific gravity moved to the lower layer by the difference in specific gravity.

실시예 4 : 용액주입속도에 다른 필름의 물성측정Example 4 Measurement of Physical Properties of Films Different in Solution Injection Speed

상기 실시예 2와 동일하게 수행하되, 계면활성제는 15 cc/min, 광촉매졸과 적외선 차단졸은 30 cc/min의 속도로 용액을 주입하여 필름을 제조하여 이의 표면부착력 및 작업성을 측정하여 그 결과를 다음 표 3에 나타내었다.In the same manner as in Example 2, the surfactant is 15 cc / min, photocatalyst sol and infrared blocking sol is injected into the solution at a rate of 30 cc / min to prepare a film to measure its surface adhesion and workability The results are shown in Table 3 below.

구분division 용액주입속도(cc/min)Solution injection speed (cc / min) 표면부착력 (갯수)Surface Adhesion (Number) 작업성Workability 4층 주입성분4-layer injection ingredient 1층First floor 2층Second floor 3층3rd Floor 4층4th floor 적외선차단졸Infrared sunscreen 3030 3030 3030 3030 60/10060/100 광촉매졸Photocatalyst sol 1515 1515 3030 3030 80/10080/100

실시예 5 : 자외선 경화시간에 따른 투과도 및 적외선 차단율Example 5 Transmittance and Infrared Blocking Rate According to UV Curing Time

상기 실시예 2와 동일하게 수행하되, 자외선 경화시간을 다음 표 4와 같이 달리하여 필름을 형성하고, 투과도 및 자외선 차단율을 측정하여 그 결과를 다음 표 4에 나타내었다.The same process as in Example 2, except that UV curing time is different from the following Table 4 to form a film, and the transmittance and UV blocking rate were measured and the results are shown in Table 4 below.

조사시간 (초)Irradiation time (seconds) 투과도 (380 ∼ 780 ㎚, %)Transmittance (380-780 nm,%) 적외선 차단율 (800 ∼ 1800 ㎚, %)Infrared cut off rate (800-1800 ㎚,%) 6060 85.485.4 56.656.6 2323 86.186.1 60.260.2 1515 84.984.9 63.663.6

실시예 6 : 적외선 차단층 두께에 따른 투과도 및 적외선 차단율Example 6 Transmittance and Infrared Blocking Rate According to Infrared Blocking Layer Thickness

상기 실시예 2와 동일하게 수행하되, 적외선 차단층 두께를 다음 표 5와 같이 달리하여 필름을 형성하고, 투과도 및 자외선 차단율을 측정하여 그 결과를 다음 표 5에 나타내었다. 이때, 4층 주입성분으로 적외선 차단층 주입속도를 조절하여 두께가 조절되도록 수행한 것이다.In the same manner as in Example 2, the thickness of the infrared blocking layer was changed as shown in the following Table 5 to form a film, and the transmittance and UV blocking rate were measured and the results are shown in the following Table 5. At this time, the thickness is controlled by adjusting the infrared blocking layer injection rate as a four-layer injection component.

4층주입성분4-layer injection ingredient 두께 (㎚)Thickness (nm) 투과도 (380 ∼ 780 ㎚, %)Transmittance (380-780 nm,%) 적외선 차단율 (800 ∼ 1800 ㎚, %)Infrared cut off rate (800-1800 ㎚,%) 적외선차단졸Infrared sunscreen 2626 5656 7373 2828 7575 5050 광촉매졸Photocatalyst sol 2929 6969 6565 3030 6868 5656

상기 표 5에 나타낸 바와 같이, 코팅두께 26 및 28 ㎛는 4층 주입 시 적외선 차단졸의 주입양 대비 두께이다. 적외선 차단졸을 4층에 주입하여 도포한 경우, 800 ∼ 1800 ㎚의 영역에서 적외선 차단율이 각각 73 및 50%인 것으로 나타났다. 4층 주입성분으로 광촉매층을 주입한 경우에는 코팅두께 29 및 30㎛로 측정되었으며 광촉매졸을 4층으로 주입하면 적외선 차단졸을 4층으로 주입할 때보다 코팅두께가 증가하나 적외선 차단율은 오히려 낮아져 65 및 56%로 낮아졌다. As shown in Table 5, the coating thickness 26 and 28 ㎛ is the thickness compared to the injection amount of the infrared barrier sol in the four-layer injection. When the infrared blocking sol was injected into four layers and applied, the infrared blocking rates were found to be 73 and 50% in the region of 800 to 1800 nm, respectively. When the photocatalyst layer was injected as a four-layer injection component, the coating thickness was measured to be 29 and 30 μm. When the photocatalyst sol was injected into four layers, the coating thickness was increased, but the infrared ray blocking rate was lower than that of the four-layer injection. Lowered to 65 and 56%.

상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따라 전자석이 부가된 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면에 다층의 코팅막을 단 일회의 간소화된 공정 수행으로, 상기 고분자 표면에 여러 개의 다층막을 동시 형성이 가능하며, 전자석에 의해 형성된 자기장으로 입자의 재배열이 유도되어 상대적으로 평균입경이 큰 입자가 고분자 표면의 하단에 위치하는 경사구조를 형성하며, 또한 자기장에 의해 층이 형성되어 층간의 계면이 불명확하여 층간의 상용성 및 계면부착력이 우수하고 장기물성확보가 가능하여 그 유용성이 기대된다.As described above, by using a slot-die coater to which an electromagnet is added according to the present invention, the multilayer coating film is performed on the surface of the polymer substrate in a single, simplified process. Simultaneous formation is possible, and rearrangement of particles is induced by the magnetic field formed by the electromagnet, forming a slanted structure in which particles having a relatively large average particle size are located at the bottom of the polymer surface. As the interface is unclear, its compatibility and interfacial adhesion are excellent, and long-term physical properties can be secured.

Claims (11)

슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면에, 광촉매 졸 및 적외선 차단 졸을 코팅하는 공정을 포함하는 필름의 제조 방법에 있어서,In the method for producing a film comprising the step of coating a photocatalyst sol and an infrared blocking sol on the surface of the polymer substrate using a slot-die coater, 상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, Electromagnet is placed on the guide roll which is the lower end of the polymer substrate, 상기 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여, 평균입경이 30 ∼ 50 nm 범위인 이산화티탄이 함유된 광촉매 졸과, 평균입경이 60 ∼ 80 nm 범위인 안티몬-이산화주석이 함유된 적외선 차단 졸 또는 이들 졸 혼합물을 고분자 기재표면에 30 ∼ 60 °경사 조건으로 방출하여서, Using the slot-die coater, a photocatalyst sol containing titanium dioxide having an average particle diameter in the range of 30 to 50 nm, and an infrared blocking sol containing antimony-tin dioxide having an average particle diameter in the range of 60 to 80 nm. Or by discharging these sol mixtures on the surface of the polymer base material at a slope of 30 to 60 °. 상기 전자석의 자기장에 의해 상대적으로 평균입경이 큰 금속입자로부터 순차적으로 고분자 기재 표면에 적층되면서 다층구조가 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.Method of manufacturing a film, characterized in that the multilayer structure is formed by sequentially laminated on the surface of the polymer substrate from the metal particles having a relatively large average particle size by the magnetic field of the electromagnet. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 졸에는 계면활성제가 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the sol further comprises a surfactant. 제 1 항에 있어서, 상기 광촉매 졸은 비중이 0.5 ∼ 1.8 g/㎤ 범위인 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the photocatalyst sol has a specific gravity ranging from 0.5 to 1.8 g / cm 3. 제 1 항에 있어서, 상기 적외선 차단 졸은 비중이 0.5 ∼ 1.5 g/㎤ 범위인 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the infrared blocking sol has a specific gravity in the range of 0.5 to 1.5 g / cm 3. 제 1 항에 있어서, 상기 필름은 5 ∼ 15 m/min 범위의 이동속도, 길이 5m 범위의 가이드롤에서 건조를 수행하는 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the film is dried at a moving speed in a range of 5 to 15 m / min and a guide roll in a range of 5 m in length. 제 1 항에 있어서, 상기 전자석은 600 ∼ 1500 mG 범위의 자기장을 형성하는 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the electromagnet forms a magnetic field in the range of 600 to 1500 mG. 제 1 항에 있어서, 상기 고분자 기재는 폴리에스터(PET), 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐클로라이드(PVC) 및 폴리이미드(PI) 중에서 선택된 필름인 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the polymer substrate is a film selected from polyester (PET), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), and polyimide (PI). 고분자 기재에, 이산화티탄가 함유된 광촉매층 및 안티몬-이산화주석이 함유된 적외선 차단층이 포함된 기능성층이 적층되어 있는 필름으로, A film in which a functional layer including a photocatalyst layer containing titanium dioxide and an infrared ray blocking layer containing antimony-tin dioxide is laminated on a polymer substrate, 상기 고분자 기재 표면에 상대적으로 평균입경이 큰 금속입자부터 순차적으로 적층되어 다층구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 방오-단열 필름.Antifouling-insulating film, characterized in that to form a multi-layer structure by sequentially stacking from the metal particles having a relatively large average particle diameter on the surface of the polymer substrate. 제 9 항에 있어서, 상기 필름은 적외선 차단율이 65 ∼ 75%이고, 표면부착력이 40/100 ∼ 100/100 범위인 것을 특징으로 하는 방오-단열 필름. 10. The antifouling-insulating film according to claim 9, wherein the film has an infrared ray blocking rate of 65 to 75% and a surface adhesion strength in the range of 40/100 to 100/100. 제 9 항에 있어서, 상기 기능성층은 계면활성제가 함유된 계면활성제층이 함유된 것을 특징으로 하는 방오-단열 필름. 10. The antifouling-insulating film of claim 9, wherein the functional layer contains a surfactant layer containing a surfactant.
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