KR100725046B1 - Atmospheric pressure plasma generating apparatus - Google Patents

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KR100725046B1 KR1020050113206A KR20050113206A KR100725046B1 KR 100725046 B1 KR100725046 B1 KR 100725046B1 KR 1020050113206 A KR1020050113206 A KR 1020050113206A KR 20050113206 A KR20050113206 A KR 20050113206A KR 100725046 B1 KR100725046 B1 KR 100725046B1
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Abstract

본 발명은 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 특히 금속 전극을 이용하여 플라즈마를 발생시키고 공기의 흐름에 의해 발생된 플라즈마를 확산시켜 넓은 플라즈마 발생공간을 확보함과 동시에 절연체 가이드에 의하여 효과적으로 플라즈마 발생공간을 한정한 뒤, 상기 한정된 플라즈마를 전극 내부의 낮은 압력공간을 통하여 고밀도로 발생시킬 수 있도록 구성되는 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서,BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an atmospheric pressure plasma generator, and in particular, a plasma is generated by using a metal electrode and a plasma generated by the flow of air is diffused to secure a wide plasma generating space, and at the same time, effectively space the plasma generating space by an insulator guide. After the limitation, relates to an atmospheric pressure plasma generator configured to generate the limited plasma at a high density through a low pressure space inside the electrode,

본 발명을 적용하면, 상압에서 단순히 금속 전극을 사용함으로서 고밀도 플라즈마를 발생시킬 수 있으며, 간단한 구조로 인하여 유지 관리에 소요되는 시간과 노동력을 저감시킬 수 있고, 내구성 또한 높일 수 있으며, 에너지 효율을 높일 수 있으며, 고밀도의 플라즈마가 한정된 공간에 국한되지 않고 외부로 발생되는 구조로 실현하여 필요한 부분에 효과적으로 플라즈마를 집중 공급할 수 있으며, 시편의 크기에 관계없이 균일하게 처리할 수 있으며, 플라즈마 밀도를 용이하게 조절하여 시편 종류에 상관없이 금속, 반도체, 플라스틱, 세라믹 등 어떠한 재료도 손쉽고 안정적으로 세정 및 표면개질이 가능하게 할 수 있게 되는 효과가 있다.Applying the present invention, it is possible to generate a high-density plasma by simply using a metal electrode at normal pressure, and because of the simple structure can reduce the time and labor required for maintenance, can also increase the durability, and increase the energy efficiency High density plasma is not limited to a limited space but can be realized externally so that the plasma can be efficiently supplied to the required part, uniformly processed regardless of the size of the specimen, and the plasma density can be easily By adjusting, any material such as metal, semiconductor, plastic, ceramic, etc. can be easily and reliably cleaned and surface modified regardless of the specimen type.

Description

상압 플라즈마 발생장치{ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATING APPARATUS}Atmospheric pressure plasma generator {ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATING APPARATUS}

도 1a는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 측면도Figure 1a is a side view of the atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention

도 1b는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 단면도1B is a cross-sectional view of an atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention.

도 1c는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 제2 전극 채널 및 절연체의 채널간 크기 관계를 나타내는 도면1C is a view illustrating a relationship between sizes of a second electrode channel and an insulator in an atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention;

도 1d는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치에서 발생된 플라즈마의 입체도Figure 1d is a three-dimensional view of the plasma generated in the atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention

도 2a는 본 발명의 다른 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 측면도Figure 2a is a side view of the atmospheric pressure plasma generator according to another embodiment of the present invention

도 2b는 본 발명의 다른 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 단면도Figure 2b is a cross-sectional view of the atmospheric pressure plasma generator according to another embodiment of the present invention

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

1 : 제1 전극 2 : 제2 전극1: first electrode 2: second electrode

2a : 제2 전극 채널(Channel) 2b : 제2 전극 공간(Space)2a: second electrode channel 2b: second electrode space

3 : 절연체 3a : 절연체 채널3: insulator 3a: insulator channel

4 : 세라믹 부재 5 : 공기흐름 가이드 4: ceramic member 5: airflow guide

6 : 플라즈마 7 : 시편6 plasma 7 specimen

8 : 챔버 9 : 공기 발생 팬(Fan)8 chamber 9 air generating fan

10 : 타 작업가스 공급 관 11 : 작업가스 공급 팬10: other working gas supply pipe 11: working gas supply fan

12 : 작업가스 통로 13 : 차단막 12: working gas passage 13: blocking film

21 : 전도성 시편21: conductive specimen

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h1 : 제1 전극과 제2 전극 간의 가장 짧은 높이차h1: shortest height difference between the first electrode and the second electrode

h2 : 제1 전극과 제2 전극 간의 가장 긴 높이차h2: longest height difference between the first electrode and the second electrode

h3 : 제1 전극과 전도성 시편 간의 가장 짧은 높이차h3: shortest height difference between the first electrode and the conductive specimen

h4 : 제1 전극과 전도성 시편 간의 가장 긴 높이차h4: longest height difference between the first electrode and the conductive specimen

w1 : 절연체 채널폭 w2 : 제2 전극 공간폭w1: insulator channel width w2: second electrode space width

w3 : 제2 전극 채널폭 d1 : 절연체 두께w3: second electrode channel width d1: insulator thickness

d2 : 제2 전극 공간두께 d3 : 제2 전극 채널두께d2: second electrode space thickness d3: second electrode channel thickness

본 발명은 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 특히 금속 전극을 이용하여 플라즈마를 발생시키고 공기의 흐름에 의해 발생된 플라즈마를 확산시켜 넓은 플라즈마 발생공간을 확보함과 동시에 절연체 가이드에 의하여 효과적으로 플라즈 마 발생공간을 한정한 뒤, 상기 한정된 플라즈마를 전극 내부의 낮은 압력공간을 통하여 고밀도로 발생시킬 수 있도록 구성되는 상압 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an atmospheric pressure plasma generating apparatus. In particular, a plasma is generated by using a metal electrode and a plasma generated by the flow of air is diffused to secure a wide plasma generating space, and at the same time, an effective plasma generating space by an insulator guide. After defining the present invention, the present invention relates to an atmospheric pressure plasma generator configured to generate the limited plasma at a high density through a low pressure space inside the electrode.

일반적으로, 플라즈마란 제4 의 물질상태로써 외부에서 가해진 전기장 등에 의하여 생성된 이온, 전자, 라디칼 및 중성입자로 구성되어 전기적으로 중성을 이루는 물질상태이다.In general, a plasma is a fourth material state, which is composed of ions, electrons, radicals, and neutral particles generated by an externally applied electric field, etc., to be electrically neutral.

플라즈마는 발생 압력에 따라 저압(수 mmTorr - 수 Torr) 플라즈마와 상압(수 Torr - 760 Torr) 플라즈마로 구분된다. The plasma is classified into a low pressure (several mmTorr-several Torr) plasma and an atmospheric pressure (several Torr-760 Torr) plasma according to the generated pressure.

여기서, 저압 플라즈마는 생성은 용이하나 저압 상태를 유지하기 위하여 진공 챔버, 배기 장치 등이 요구되어 생성비용이 고가이며, 저압 플라즈마 생성을 위한 장치는 배치 타입(batch type)의 제품 투입 방식으로 인하여 대량처리에 한계를 드러내며, 비교적 적은 면적의 시편에만 적용될 수 있다는 문제점이 있었다.Here, the low pressure plasma is easy to generate, but the production cost is expensive because a vacuum chamber, an exhaust device, etc. are required to maintain the low pressure state, and the device for generating the low pressure plasma has a large amount due to the batch type product input method. There is a problem in that the treatment is limited and can be applied only to a relatively small area of the specimen.

반면에, 상압 플라즈마는 상압(760 Torr) 상태에서 생성될 수 있으므로 고가의 장비없이 대량 생산을 할 수 있기 때문에 최근에는 상압 대면적 플라즈마 발생장치들이 많이 개발되고 있는 실정이다. On the other hand, the atmospheric pressure plasma can be generated in the normal pressure (760 Torr) state, so the mass production without expensive equipment has been developed a lot of atmospheric pressure large-area plasma generating apparatus in recent years.

기존의 상압 대면적 플라즈마 발생장치들로는 AC 배리어(barrier) 타입 (T. Yokoyama, M. Kogoma, T. Moriwaki, and S. Okazaki, J. Phys. D:Appl. Phys. V23, p1125 (1990)), (John R. Roth, Peter P. Tsai, Chaoyu Lin, Mouuir Laroussi, Paul D. Spence,"Steady-state, Glow discharge plasma", US patent 5,387,842 (Feb. 7, 1995), "One Atmosphere, Uniform Glow Discharge Plasma", US patent 5,414,324 (May 9, 1995)), 저항체 타입 (Yu. S. Akishev, A. A. Deryugin, I. V.Kochetov, A. P. Napartovich, and N. I. Trushkin, J. Phys. D: Appl. Phys. V26, p1630 (1993)), 천공된 유전체(Perforated Dielectric) 또는 세관(Capillary) 타입 (Erich E. Kunhardt, Kurt H. Becker, "Glow plasma discharge device having electrode covered with perforated dielectric", US patent 5,872,426 (Feb. 16, 1999))등이 있다. Conventional atmospheric large area plasma generators include AC barrier type (T. Yokoyama, M. Kogoma, T. Moriwaki, and S. Okazaki, J. Phys. D: Appl. Phys. V23, p1125 (1990)) , (John R. Roth, Peter P. Tsai, Chaoyu Lin, Mouuir Laroussi, Paul D. Spence, "Steady-state, Glow discharge plasma", US patent 5,387,842 (Feb. 7, 1995), "One Atmosphere, Uniform Glow Discharge Plasma ", US patent 5,414,324 (May 9, 1995)), resistor type (Yu. S. Akishev, AA Deryugin, IV Kochetov, AP Napartovich, and NI Trushkin, J. Phys. D: Appl. Phys. V26, p1630 (1993)), Perforated Dielectric or Capillary Type (Erich E. Kunhardt, Kurt H. Becker, "Glow plasma discharge device having electrode covered with perforated dielectric", US patent 5,872,426 (Feb. 16, 1999).

그러나, 상기 AC 배리어(barrier) 타입은 균일한 플라즈마를 형성하지만 플라즈마 밀도가 낮으며 유전체에 의한 에너지 손실이 크다. However, the AC barrier type forms a uniform plasma but has a low plasma density and a large energy loss due to the dielectric.

또한, 상기 저항체 타입은 여러 개의 핀 캐소드(pin cathode)를 사용하였으며, 각 핀 마다 저항체(1 mW/pin)를 붙여 상압에서 대면적의 안정한 DC 플라즈마를 얻을 수 있지만, 저항체에서 에너지의 많은 부분이 손실되어 비효율적이며 플라즈마의 균일성도 떨어진다. In addition, the resistor type uses a plurality of pin cathodes, and a resistor (1 mW / pin) is attached to each pin to obtain a stable DC plasma having a large area at normal pressure. Lost and inefficient, resulting in poor plasma uniformity.

또한, 상기 천공된 유전체(Perforated Dielectric) 또는 세관(Capillary) 타입도 플라즈마의 균일성이 떨어지며 홀 내부 벽에서 전자와 이온이 결합하여 열이 발생하므로 에너지 손실이 발생하는 구조이다. In addition, the perforated dielectric or the capillary type also has a low plasma uniformity and a structure in which energy is lost because electrons and ions are combined to generate heat.

게다가, 세관 타입의 플라즈마 밀도는 AC 배리어 타입에 비해 100배 정도까지도 높기는 하지만 금속 시료에 대해서는 플라즈마 균일성이 급격히 나빠지고 플라즈마 밀도 또한 10배 이상 약해진다. In addition, although the plasma density of the tubular type is up to about 100 times higher than that of the AC barrier type, the plasma uniformity deteriorates sharply and the plasma density also decreases more than 10 times for the metal sample.

이와같이, 종래의 기술은 에너지 손실이 많이 발생하며, 전도성 금속 등의 시료에 대한 적용도 현실적으로 어려운 점이 있다. As described above, the conventional technology generates a lot of energy loss, and there is a practical difficulty in applying a sample such as a conductive metal.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 그 목적은 상압에서 금속 전극을 이용하여 플라즈마를 발생시키고 공기의 흐름에 의해 발생된 플라즈마를 확산시켜 넓은 플라즈마 발생공간을 확보함과 동시에 절연체 가이드에 의하여 효과적으로 플라즈마 발생공간을 한정한 뒤, 상기 한정된 플라즈마를 전극 내부의 낮은 압력공간을 통하여 고밀도로 발생시킬 수 있도록 하는 상압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, the object is to generate a plasma using a metal electrode at normal pressure and to diffuse the plasma generated by the flow of air to ensure a wide plasma generating space and at the same time insulator The present invention provides an atmospheric pressure plasma generating apparatus that effectively defines a plasma generating space by a guide and generates the limited plasma at a high density through a low pressure space inside the electrode.

또한, 본 발명의 다른 목적은 플라즈마 밀도를 용이하게 조절하여 전도성 시편 및 비전도성 시편으로 구성된 복합 시편을 안정적으로 처리할 수 있도록 하는 상압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide an atmospheric pressure plasma generating apparatus for stably processing a composite specimen consisting of a conductive specimen and a non-conductive specimen by easily adjusting the plasma density.

또한, 본 발명의 다른 목적은 고밀도의 플라즈마가 한정된 공간에 국한되지 않고 외부로 발생되는 구조로 실현하여 시편의 크기에 관계없이 균일하게 처리할 수 있도록 하는 상압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide an atmospheric pressure plasma generating apparatus that can be uniformly processed regardless of the size of the specimen by realizing a structure in which the high-density plasma is not limited to a limited space generated outside.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면,
적어도 하나 이상의 제1 전극과 상기 제1 전극으로부터 소정의 거리 이격된 적어도 하나 이상의 절연체 채널을 포함한 절연체와, 상기 절연체 하부에 상기 절연체 채널에 대응하여 형성된 하나 이상의 제2 전극 채널 및 제2 전극 공간을 포함하여 정렬된 제2 전극과, 상기 제1 전극과 절연체 사이의 일측에 위치한 공기 발생 팬과, 상기 제1 전극 상부에 상기 공기 발생 팬에 의하여 발생된 공기의 흐름이 일정 방향이 되도록 유도하도록 배치된 공기흐름 가이드와, 작업가스를 공급하는 작업가스 공급부와, 상기 절연체 채널을 포함한 절연체, 제2 전극 채널 및 제2 전극 공간을 포함하여 정렬된 제2 전극, 공기 발생 팬, 공기흐름 가이드 및 작업가스 공급부를 수용하는 챔버로 구성된다.
According to a feature of the present invention for achieving the above object,
An insulator including at least one first electrode and at least one insulator channel spaced apart from the first electrode by a predetermined distance, and at least one second electrode channel and a second electrode space formed under the insulator corresponding to the insulator channel. A second electrode including an alignment, an air generating fan positioned at one side between the first electrode and the insulator, and arranged to induce a flow of air generated by the air generating fan above the first electrode to be in a predetermined direction Air flow guides, a work gas supply unit for supplying a work gas, an insulator including the insulator channel, a second electrode aligned with the second electrode channel and a second electrode space, an air generating fan, an air flow guide and a work It consists of a chamber for receiving a gas supply.

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본 발명의 상술한 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해, 첨부된 도면을 참조하여 후술되는 본 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the present invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부도면 도 1a는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 측면도이고, 도 1b는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 단면도이며, 도 1c는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 제2 전극 채널 및 절연체의 채널간 크기 관계를 나타내는 도면이며, 도 1d는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치에서 발생된 플라즈마의 입체도이며, 도 2a는 본 발명의 다른 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 측면도이며, 도 2b는 본 발명의 다른 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 단면도이다.1A is a side view of an atmospheric pressure plasma generating apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 1B is a cross-sectional view of an atmospheric pressure plasma generating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1C is an embodiment of the present invention. FIG. 1D is a three-dimensional view of plasma generated in an atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention, and FIG. Side view of the atmospheric pressure plasma generator according to another embodiment of the present invention, Figure 2b is a cross-sectional view of the atmospheric pressure plasma generator according to another embodiment of the present invention.

상기 첨부도면 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 도면부호 1은 제1 전극을 나타내고, 도면부호 2는 제2 전극, 2a는 제2 전극 채널(Channel), 2b는 제2 전극 공간(Space)을 나타내며, 도면부호 3은 절연체, 3a는 절연체 채널을 나타내며, 도면부호 4는 세라믹 부재, 5는 공기흐름 가이드, 6은 플라즈마, 7은 시편, 8은 챔버, 9는 공기 발생 팬(Fan), 10은 타 작업가스 공급 관, 11은 작업가스 공급 팬, 12는 작업가스 통로 및 13은 차단막을 나타낸다.1A and 1B, reference numeral 1 denotes a first electrode, reference numeral 2 denotes a second electrode, 2a denotes a second electrode channel, and 2b denotes a second electrode space. 3 is an insulator, 3a is an insulator channel, 4 is a ceramic member, 5 is an airflow guide, 6 is plasma, 7 is a specimen, 8 is a chamber, 9 is an air generating fan, 10 Is the other working gas supply pipe, 11 is the working gas supply fan, 12 is the working gas passage and 13 is the blocking film.

상기 제1 전극(1)은 금속으로 이루어져 있으며, 적어도 하나 이상의 와이어(Wire), 로드(Rod) 또는 리본 모양으로 형성된다.The first electrode 1 is made of metal and is formed in at least one wire, rod, or ribbon shape.

상기 제2 전극(2)은 금속으로 형성되고 상기 제1 전극(1)으로부터 소정의 거리만큼 이격되어 배치된다. 상기 판 형상의 제2 전극(2)은 적어도 하나 이상의 상기 제2 전극 채널(2a) 및 제2 전극 공간(2b)를 포함한다.The second electrode 2 is made of metal and is spaced apart from the first electrode 1 by a predetermined distance. The plate-shaped second electrode 2 includes at least one second electrode channel 2a and a second electrode space 2b.

이때, 상기 제2 전극 채널(2a)는 슬릿(slit) 형태로 길게 형성되는 것이 바람직하다.In this case, the second electrode channel 2a may be elongated in a slit form.

여기서, 상기 제1 전극(1) 및 제2 전극(2)간의 높이차는 수평방향에 따라 다르며, 상기 제1 전극(1)과 제2 전극(2)간의 가장 짧은 높이차를 h1이라 하고 상기 제1 전극(1)과 제2 전극(2)간의 가장 긴 높이차를 h2라 나타낸다.Here, the height difference between the first electrode 1 and the second electrode 2 depends on the horizontal direction, and the shortest height difference between the first electrode 1 and the second electrode 2 is h1 and the first difference. The longest height difference between the 1st electrode 1 and the 2nd electrode 2 is represented by h2.

상기 제1 전극(1)과 제2 전극(2)에 전류 제한 양극성(Bipolar) 또는 단극성(Unipolar) 전압이 가해진다.A current limiting bipolar or unipolar voltage is applied to the first electrode 1 and the second electrode 2.

상기 제2 전극(2)은 접지되는 것이 바람직하다.Preferably, the second electrode 2 is grounded.

상기 절연체(3)는 상기 제2 전극(2) 위에 놓여 지며 상기 적어도 하나 이상의 제2 전극 채널(2a)과 대응된 긴 슬릿 형태의 절연체 채널(3a)를 포함한다.The insulator 3 includes an insulator channel 3a in the form of an elongated slit over the second electrode 2 and corresponding to the at least one or more second electrode channels 2a.

상기 공기 발생 팬(9)는 상기 제1 전극(1)과 절연체(3) 사이의 일측에 위치하여 공기의 흐름을 발생시킨다. 상기 공기흐름 가이드(5)는 상기 제1 전극(1) 위에 위치하여 공기의 흐름을 소정의 방향으로 유도한다. 상기 세라믹 부재(4)는 상기 제1 전극(1)과 절연체(3) 사이의 타측에 위치한다. The air generating fan 9 is located at one side between the first electrode 1 and the insulator 3 to generate a flow of air. The air flow guide 5 is positioned above the first electrode 1 to direct the flow of air in a predetermined direction. The ceramic member 4 is located on the other side between the first electrode 1 and the insulator 3.

또한, 상기 작업가스 공급 팬(11) 및 타 작업가스 공급 관(10)는 상기 챔버 (8)의 상부 또는 측면에 위치하며, 상기 시편(7)은 상기 제2 전극(2)으로부터 일정거리 떨어진 상기 챔버(8)의 외부에 위치한다.In addition, the working gas supply fan 11 and the other working gas supply pipe 10 is located on the upper side or the side of the chamber 8, the specimen 7 is separated from the second electrode 2 by a predetermined distance. Located outside the chamber (8).

상기 도 1c를 참조하여 상기 제2 전극(2)과 절연체(3)의 구조를 상세히 설명하면, 상기 제2 전극(2)의 제2 전극 채널(2a)과 상기 절연체(3)의 절연체 채널(3a)는 서로 대응하는 위치에 형성된다. Referring to FIG. 1C, the structure of the second electrode 2 and the insulator 3 will be described in detail. The second electrode channel 2a of the second electrode 2 and the insulator channel of the insulator 3 ( 3a) are formed at positions corresponding to each other.

이때, 상기 절연체 채널(3a)의 폭을 w1, 제2 전극 공간(2b)의 폭을 w2, 제2 전극 채널(2a)의 폭을 w3라 하면 w1<w3<w2의 관계를 유지하는 것이 바람직하다. 상기 제2 전극 공간(2b)의 두께를 d2 상기 제2 전극 채널(2a) 두께를 d3라 하면 상기 제2 전극 공간 두께와 제2 전극 채널 두께간에는 d2≥d3의 부등식을 따르는 관계인 것이 바람직하다. At this time, when the width of the insulator channel 3a is w1, the width of the second electrode space 2b is w2, and the width of the second electrode channel 2a is w3, it is preferable to maintain a relationship of w1 <w3 <w2. Do. When the thickness of the second electrode space 2b is d2 and the thickness of the second electrode channel 2a is d3, it is preferable that the relationship between the thickness of the second electrode space and the thickness of the second electrode channel is in accordance with an inequality of d2 ≧ d3.

또한, 상기 제2 전극 공간 폭 w2는 상기 제2 전극 공간 두께 d2의 3배 이상이고, 상기 제2 전극 공간 두께 d2와 상기 제2 전극 채널 폭 w3과의 관계는 w3≥d2인 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the second electrode space width w2 is three times or more the second electrode space thickness d2 and the relationship between the second electrode space thickness d2 and the second electrode channel width w3 is w3 ≧ d2.

여기서, 상기 제2 전극 채널 두께 d3는 작을수록 좋으나 전극의 수명과도 관련됨으로 적절히 고려하는 것이 바람직하다. Here, the smaller the second electrode channel thickness d3 is better, but it is appropriately considered as it relates to the life of the electrode.

계속해서, 상기 첨부도면 도 1a 및 도 1b를 참조하여 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치의 작동 원리에 대해 설명하면 다음과 같다.Subsequently, referring to the accompanying drawings, FIGS. 1A and 1B, the operating principle of the atmospheric pressure plasma generating apparatus according to an embodiment having the above configuration will be described.

상기 공기발생 팬(9)에 의해 상기 제1 전극(1)과 절연체(3) 사이에 작업 가스가 유속되는 상태에서 고전압의 전류 제한 양극성(Bipolar) 또는 단극성 (Unipolar) 전압이 상기 제1 전극(1)과 제2 전극(2)간에 인가되면 상기 제1 전극(1) 및 제2 전극(2) 간의 높이차가 가장 짧은 일측에서 스트리머(Streamer) 플라즈마가 우선적으로 발생한다. A high voltage current limiting bipolar or unipolar voltage is applied to the first electrode while the working gas flows between the first electrode 1 and the insulator 3 by the air generating fan 9. When applied between (1) and the second electrode 2, streamer plasma is preferentially generated at one side where the height difference between the first electrode 1 and the second electrode 2 is the shortest.

그뒤, 상기 스트리머 플라즈마는 상기 공기발생 팬(9)에 의한 작업 가스의 유속에 의해 상기 제1 전극(1)과 제2 전극(2)을 타고 상기 챔버(8)의 소정 공간에 대하여 전체적으로 확산된다. Thereafter, the streamer plasma diffuses through the first electrode 1 and the second electrode 2 to the predetermined space of the chamber 8 by the flow rate of the working gas by the air generating fan 9. do.

이때, 상기 확산되는 플라즈마가 상기 제1 전극(1) 및 제2 전극(2) 간의 높이차가 가장 긴 타측에 도달되면 상기 세라믹 부재(5)에 의해 플라즈마 통전 거리가 길어지고, 이로 인하여 플라즈마는 중단되고 다시 고전압에 의해 높이차가 가장 짧은 제1 전극(1) 및 제2 전극(2) 간의 일측에서 플라즈마 생성되어 플라즈마가 전파 발생되는 과정이 반복적으로 일어나게 된다. At this time, when the spreading plasma reaches the other side of the longest difference in height between the first electrode 1 and the second electrode 2, the plasma conduction distance is lengthened by the ceramic member 5, thereby stopping the plasma. In addition, plasma is generated at one side between the first electrode 1 and the second electrode 2 having the shortest height difference due to the high voltage, and thus the plasma propagation occurs repeatedly.

상기 절연체(3)의 절연체 채널(3a)은 상기 과정을 통해 상기 챔버(8)의 소정 공간에 형성된 플라즈마를 상기 제2 전극(2)의 제2 전극 채널(2a)로 유도한다. 즉, 상기 절연체(3)의 절연체 채널(3a) 및 상기 제2 전극(2)의 제2 전극 채널(2a)는 상기 챔버(8)의 소정 공간에 형성된 플라즈마의 낭비없이 효율성을 극대화하기위하여 사용된다. The insulator channel 3a of the insulator 3 guides the plasma formed in the predetermined space of the chamber 8 to the second electrode channel 2a of the second electrode 2 through the above process. That is, the insulator channel 3a of the insulator 3 and the second electrode channel 2a of the second electrode 2 are used to maximize efficiency without wasting plasma formed in a predetermined space of the chamber 8. do.

계속해서, 발생된 플라즈마는 상기 작업가스 공급 팬(11) 또는 타 작업가스 공급 관(10)으로부터 공급되는 압력에 의하여 상기 제2 전극 공간(2b)을 지나 상기 제2 전극 채널(2a)을 통하여 상기 챔버(8)의 외부에 위치한 상기 시편(7)으로 분출된다.Subsequently, the generated plasma passes through the second electrode space 2b through the second electrode channel 2a by the pressure supplied from the working gas supply fan 11 or the other working gas supply pipe 10. It is ejected to the specimen 7 located outside of the chamber 8.

이때, 넓은 공간인 상기 챔버(8)의 소정의 공간에서 좁은 공간인 상기 제2 전극 공간으로의 공기의 흐름은 베루누이 원리(Bernulli's Law)에 의해 유속(flow rate)이 증가하게 되고, 이로 인하여 상기 제2 전극 공간(2b)내의 압력이 낮아진다. At this time, the flow rate of air from the predetermined space of the chamber 8, which is a large space, to the second electrode space, which is a narrow space, increases the flow rate according to Bernoulli's Law. The pressure in the second electrode space 2b is lowered.

계속해서, 파센 법칙(Paschen's Law)에 의해 낮은 압력에서는 방전 전압이 낮아지고 플라즈마 발생 효율이 증가하게 됨으로 낮은 압력의 상기 제2 전극 공간(2b)내에서 고밀도의 플라즈마가 발생하게 되어 상기 제2 전극 채널(2a)을 통하여 상기 시편(7)으로 분출하게 된다. Subsequently, according to Paschen's Law, at low pressure, the discharge voltage is lowered and the plasma generation efficiency is increased, so that a high-density plasma is generated in the second electrode space 2b of low pressure, thereby causing the second electrode. It is ejected to the specimen 7 through the channel (2a).

본 발명의 일실시예에 의한 상기 상압 플라즈마 발생장치는 상기 제1 전극(1)과 제2 전극(2)의 금속 간에 직접 플라즈마가 발생하는 구조로 전류 공급량에 의해 쉽게 플라즈마 밀도를 제어하여 고밀도 플라즈마를 쉽게 생성시킨다.The atmospheric pressure plasma generating apparatus according to an embodiment of the present invention has a structure in which a plasma is directly generated between the metal of the first electrode 1 and the second electrode 2, thereby easily controlling the plasma density by the amount of current supplied to the high density plasma. Easily create

이렇게 생성된 고밀도의 플라즈마(6)는 상기 시편(7)으로 조사된다. The high density plasma 6 thus produced is irradiated onto the specimen 7.

상기 본 발명의 상압 플라즈마 발생장치는 모든 종류의 작업가스를 사용한다.The atmospheric pressure plasma generator of the present invention uses all kinds of working gases.

상기 도 1d를 참조하여 플라즈마가 발생되는 형상을 설명하면, 상기 작업 가스가 상기 도 1a 및 도 1b의 상기 작업가스 공급 팬(11) 및 타 작업가스 공급 관(10)으로부터 상기 챔버(8)의 내부로 제공되고, 상기 제공된 공급가스를 소스로 하여 플라즈마가 형성된 뒤, 상기 제2 전극(2)의 제2 전극 채널(2a)을 통하여 상기 챔버(8)의 외부에 위치한 상기 시료(7)를 향하여 상기 제2 전극 채널(2a)의 형상에 따라서 특정 모양의 고밀도 플라즈마 분출 영역이 형성된다.Referring to FIG. 1D, the shape in which the plasma is generated will be described. The working gas may be formed from the working gas supply fan 11 and the other working gas supply pipes 10 of FIGS. 1A and 1B. After the plasma is formed by using the supplied supply gas as a source, the sample 7 located outside the chamber 8 through the second electrode channel 2a of the second electrode 2 The high density plasma ejection region having a specific shape is formed according to the shape of the second electrode channel 2a.

상기 첨부도면 도 2a 및 도 2b을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치를 설명하면, 적어도 하나 이상의 Wire 또는 Rod 또는 리본 모양의 제1 전극(1)으로부터 소정 거리 떨어진 위치에 적어도 하나 이상의 절연체 채널(3a)를 갖는 상기 절연체(3)가 위치하며, 절연체(3)로부터 일정거리 떨어진 상기 챔버(8)의 외부에 전도성 시편(21)이 배치된다. Referring to the accompanying drawings, FIGS. 2A and 2B, an atmospheric pressure plasma generating apparatus according to another embodiment of the present invention is described. At least one wire or rod or a ribbon-shaped first electrode 1 is located at a distance away from the first electrode 1. The insulator 3 having at least one insulator channel 3a is located, and the conductive specimen 21 is arranged outside of the chamber 8 at a distance from the insulator 3.

이때, 상기 제1 전극(1)과 전도성 시편(21)에 전류 제한 양극성(Bipolar) 또는 단극성(Unipolar) 전압이 가해지고 상기 전도성 시편(21)은 접지된다. 상기 공기 발생 팬(9)는 상기 제1 전극(1)과 절연체(3) 사이에서 가장 짧은 높이차를 이루는 일측에 공기흐름을 발생시키기 위하여 배치된다. 상기 공기흐름 가이드(5)는 상기 제1 전극(1) 상부에 위치하여 발생된 공기흐름을 일정 방향으로 유도한다. 상기 챔버(8)는 상기 구성품들을 그 내부에 보유하며, 상기 작업가스 공급 팬(11) 및 타 작업가스 공급 관(10)는 상기 챔버(8)의 상부 또는 측면에 위치한다. At this time, a current limiting bipolar or unipolar voltage is applied to the first electrode 1 and the conductive specimen 21 and the conductive specimen 21 is grounded. The air generating fan 9 is arranged to generate an air flow on one side of the shortest height difference between the first electrode 1 and the insulator 3. The air flow guide 5 is positioned above the first electrode 1 to guide the generated air flow in a predetermined direction. The chamber 8 holds the components therein, and the working gas supply fan 11 and the other working gas supply pipe 10 are located at the top or the side of the chamber 8.

이 경우의 작동 원리는 상기에서 서술한 바와 같으므로 생략하며, 다만 상기 도 1a 및 도 1b에서의 상기 제2 전극(2)의 역할을 상기 도 2a 및 상기 도 2b에서는 상기 전도성 시편(21)이 대신한다.In this case, the operating principle is the same as described above, and is omitted. However, in FIG. 2A and FIG. 2B, the conductive specimen 21 serves as the second electrode 2. Instead.

따라서, 상기 본 발명의 다른 실시예에 의한 상압 플라즈마 발생장치는 전극 역할을 하는 상기 전도성 시편(21) 표면에 고밀도 플라즈마가 직접 노출됨으로서 상기 전도성 시편(21)의 표면 세정 및 개질 특성을 극대화한다. Accordingly, the atmospheric pressure plasma generator according to another embodiment of the present invention maximizes the surface cleaning and modification characteristics of the conductive specimen 21 by directly exposing the high density plasma to the surface of the conductive specimen 21 serving as an electrode.

이상의 본 발명은 상기에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자들 에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.The invention described above is not limited to the embodiments described above, and various modifications and changes can be made by those skilled in the art, which are included in the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims.

이상에서 살펴본 바와 같이,, 본 발명에 의한 상압 플라즈마 발생 장치는 상압에서 단순히 금속 전극을 사용함으로서 고밀도 플라즈마를 발생시킬 수 있게 되는 효과가 있다.As described above, the atmospheric pressure plasma generating apparatus according to the present invention has an effect of generating a high density plasma by simply using a metal electrode at normal pressure.

또한, 그에 따라, 간단한 구조로 인하여 유지 관리에 소요되는 시간과 노동력을 저감시킬 수 있고, 내구성 또한 높일 수 있게 되는 효과가 있다.In addition, due to the simple structure, it is possible to reduce the time and labor required for maintenance, it is possible to increase the durability.

또한, 그에 따라, 에너지 효율을 높일 수 있게 되는 효과가 있다.In addition, there is an effect that can increase the energy efficiency accordingly.

고밀도의 플라즈마가 한정된 공간에 국한되지 않고 외부로 발생되는 구조로 실현하여 필요한 부분에 효과적으로 플라즈마를 집중 공급할 수 있게 되는 효과가 있다.The high-density plasma is not limited to a limited space but is realized as a structure that is generated externally so that the plasma can be efficiently supplied to a required portion.

또한, 그에 따라, 시편의 크기에 관계없이 균일하게 처리할 수 있게 되는 효과가 있다In addition, there is an effect that can be uniformly processed regardless of the size of the specimen.

또한, 그에 따라, 반도체 팩키지, PCB(Printed Circuit Board) 제조 등에서의 활용을 극대화할 수 있게 되는 효과가 있다.In addition, accordingly, there is an effect that can be maximized in the semiconductor package, printed circuit board (PCB) manufacturing and the like.

플라즈마 밀도를 용이하게 조절하여 시편 종류에 상관없이 금속, 반도체, 플라스틱, 세라믹 등 어떠한 재료도 손쉽고 안정적으로 세정 및 표면개질이 가능하게 할 수 있는 효과가 있다.By controlling the plasma density easily, any material such as metal, semiconductor, plastic, ceramic, etc. can be easily and reliably cleaned and surface modified regardless of the specimen type.

작업 가스 흐름 조절 시스템을 사용하여 간단히 작업가스 방향 및 유속량 및 전력 전압을 바꿈으로서 다양한 플라즈마 타입을 얻을 수 있게 되는 효과가 있다.By using the working gas flow control system, it is possible to obtain various plasma types by simply changing the working gas direction, flow rate, and power voltage.

Claims (14)

적어도 하나 이상의 제1 전극과 상기 제1 전극으로부터 소정의 거리 이격된 적어도 하나 이상의 절연체 채널을 포함한 절연체와, 상기 절연체 하부에 상기 절연체 채널에 대응하여 형성된 하나 이상의 제2 전극 채널 및 제2 전극 공간을 포함하여 정렬된 제2 전극과, 상기 제1 전극과 절연체 사이의 일측에 위치한 공기 발생 팬과, 상기 제1 전극 상부에 상기 공기 발생 팬에 의하여 발생된 공기의 흐름이 일정 방향이 되도록 유도하도록 배치된 공기흐름 가이드와, 작업가스를 공급하는 작업가스 공급부와, 상기 절연체 채널을 포함한 절연체, 제2 전극 채널 및 제2 전극 공간을 포함하여 정렬된 제2 전극, 공기 발생 팬, 공기흐름 가이드 및 작업가스 공급부를 수용하는 챔버로 구성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.An insulator including at least one first electrode and at least one insulator channel spaced apart from the first electrode by a predetermined distance, and at least one second electrode channel and a second electrode space formed under the insulator corresponding to the insulator channel. A second electrode including an alignment, an air generating fan positioned at one side between the first electrode and the insulator, and arranged to induce a flow of air generated by the air generating fan above the first electrode to be in a predetermined direction Air flow guides, a work gas supply unit for supplying a work gas, an insulator including the insulator channel, a second electrode aligned with the second electrode channel and a second electrode space, an air generating fan, an air flow guide and a work Atmospheric pressure plasma generating apparatus comprising a chamber for receiving a gas supply. 삭제delete 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 전극은 와이어, 로드 또는 리본 모양 중 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.The first electrode is an atmospheric pressure plasma generator, characterized in that formed in any one of a wire, rod or ribbon shape. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 전극 공간이 절연체 쪽에 근접하여 형성되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.And the second electrode space is formed close to the insulator side. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연체 채널 및 제2 전극 채널은 긴 슬릿(slit) 형태의 모양으로 형성되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.The insulator channel and the second electrode channel are formed in the shape of a long slit (slit) atmospheric pressure plasma generating apparatus. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 전극 및 제2 전극간에 전류 제한 양극성(Bipolar) 또는 단극성(Unipolar) 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치. And generating a plasma by applying a current limiting bipolar or unipolar voltage between the first electrode and the second electrode. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공기 발생 팬은 상기 제1 전극 및 절연체간의 높이차가 최소로 되는 측에 위치하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치. The air generating fan is an atmospheric pressure plasma generator, characterized in that located on the side where the height difference between the first electrode and the insulator is minimum. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 플라즈마 처리대상은 상기 제2 전극으로부터 일정 거리 떨어진 상기 챔버의 외부에 위치하도록 구성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.The plasma treatment object is configured to be positioned outside of the chamber a predetermined distance from the second electrode. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연체 채널의 폭을 w1라 하고, 상기 제2 전극 공간의 폭을 w2라 하고, 상기 제2 전극 채널의 폭을 w3라 두면, w1<w3<w2의 관계를 유지함을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.When the width of the insulator channel is w1, the width of the second electrode space is w2, and the width of the second electrode channel is w3, atmospheric pressure plasma is maintained, wherein w1 <w3 <w2 is maintained. Device. 적어도 하나 이상의 와이어, 로드 또는 리본 형태 중 어느 하나의 형태로 형성된 제1 전극과 상기 제1 전극으로부터 소정의 거리 이격된 적어도 하나 이상의 긴 슬릿 형태의 절연체 채널을 포함한 절연체와, 상기 절연체로부터 하부로 소정거리 이격된 전도성 시편과, 상기 제1 전극과 절연체 사이의 일측에 위치한 공기 발생 팬과, 상기 제1 전극 상부에 공기의 흐름이 일정 방향이 되도록 유도하는 공기흐름 가이드와, 작업가스를 공급하는 작업가스 공급부와, 상기 와이어, 절연체 채널을 포함한 절연체, 전도성 시편, 공기 발생 팬, 공기흐름 가이드 및 작업가스 공급부를 수용하는 챔버로 구성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.An insulator comprising a first electrode formed in at least one of the form of at least one wire, rod or ribbon, and at least one insulator channel in the form of at least one long slit spaced from the first electrode by a predetermined distance; A conductive specimen spaced apart from each other, an air generating fan located at one side between the first electrode and the insulator, an air flow guide for inducing a flow of air to a predetermined direction on the first electrode, and a work gas supply operation Atmospheric pressure plasma generating apparatus comprising a gas supply unit, the wire, the insulator including the insulator channel, the conductive specimen, the air generating fan, the air flow guide and the chamber for receiving the working gas supply. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 전도성 시편은 상기 절연체로부터 일정 거리 떨어진 상기 챔버의 외부에 위치하도록 구성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치.And the conductive specimen is configured to be positioned outside of the chamber at a distance from the insulator. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제1 전극 및 전도성 시료간에 전류 제한 양극성(Bipolar) 또는 단극성(Unipolar) 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치. And generating a plasma by applying a current limiting bipolar or unipolar voltage between the first electrode and the conductive sample. 삭제delete
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010005472A (en) * 1999-06-23 2001-01-15 김성아이 Apparatus for plasma treatment for treat workpiece
KR100481492B1 (en) 2004-04-22 2005-04-07 주식회사 피에스엠 Apparatus and method for plasma formation of micro arc prevention type

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010005472A (en) * 1999-06-23 2001-01-15 김성아이 Apparatus for plasma treatment for treat workpiece
KR100481492B1 (en) 2004-04-22 2005-04-07 주식회사 피에스엠 Apparatus and method for plasma formation of micro arc prevention type

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240045492A (en) 2022-09-30 2024-04-08 (주)티티에스 Dry process coating apparatus using plasma and method thereof

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