KR100642264B1 - Picture element structure of organic light emitting diode - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기발광표시장치에 관한 것으로, 특히 전원공급용 배선이 차지하는 면적에 기인한 개구율 감소로 인한 유기발광소자의 열화를 방지하는 유기발광소자의 화소구조에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유기발광소자의 화소구조는 제1 방향으로 형성되며, 데이터전압을 전달하는 데이터 라인과; 상기 제1 방향과 교차되는 제2 방향으로 형성되며, 스캔 신호를 전달하는 다수의 스캔 라인과; 상기 데이터 라인과 다수의 스캔 라인에 의해 정의되는 각 화소를 선택하도록 형성된 각각의 스위칭 트랜지스터와; 상기 데이터 라인으로 인가되는 전압에 따라 해당 전하를 저장하도록 형성된 각각의 커패시터와; 상기 스캔 라인을 통해 전원전압을 공급받도록 상기 스캔 라인과 접속된 각각의 구동 트랜지스터와; 상기 구동 트랜지스터에 흐르는 전류에 의해 발광하는 각각의 유기발광소자(Organic-Light Emitting Diode)를 포함함을 특징으로 한다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to a pixel structure of an organic light emitting device that prevents degradation of an organic light emitting device due to a decrease in aperture ratio due to an area occupied by a power supply wiring. The pixel structure of the organic light emitting device according to the present invention is formed in a first direction, the data line for transmitting a data voltage; A plurality of scan lines formed in a second direction crossing the first direction and transferring scan signals; A respective switching transistor configured to select each pixel defined by the data line and the plurality of scan lines; Each capacitor configured to store a corresponding charge according to a voltage applied to the data line; Each driving transistor connected to the scan line to receive a power supply voltage through the scan line; And an organic light emitting diode emitting light by the current flowing through the driving transistor.

액티브 매트릭스 OLED, 화소, 개구율, 전류밀도 Active matrix OLED, pixel, aperture ratio, current density

Description

유기발광소자의 화소구조{PICTURE ELEMENT STRUCTURE OF ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE} Pixel Structure of Organic Light Emitting Device {PICTURE ELEMENT STRUCTURE OF ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE}             

도 1은 박막트랜지스터를 이용하여 유기EL 소자를 구동하기 위한 종래의 화소회로도,1 is a conventional pixel circuit diagram for driving an organic EL device using a thin film transistor;

도 2는 도 1에 도시된 종래 유기EL 소자를 구동하기 위한 화소회로에 대한 레이아웃,2 is a layout of a pixel circuit for driving the conventional organic EL device shown in FIG. 1;

도 3은 도 1의 화소구조에서의 구동시간에 따른 유기EL소자의 발광율을 나타낸 도면,3 is a view showing a light emission rate of an organic EL device according to a driving time in the pixel structure of FIG. 1;

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 유기EL 소자를 구동하기 위한 화소회로 및 동작타이밍도,4 is a pixel circuit and an operation timing diagram for driving an organic EL device according to an embodiment of the present invention;

도 5는 도 4의 화소회로에서 게이트 선택신호의 동작 영역에 따른 동작 타이밍도,5 is an operation timing diagram according to an operation region of a gate select signal in the pixel circuit of FIG. 4;

도 6은 본 발명의 실시예에 따른, 이전 단의 게이트 선택신호(SCAN.n-1)를 VDD 공급전원으로 활용한 경우를 나타낸 도면,FIG. 6 is a diagram illustrating a case in which a gate selection signal SCAN.n-1 of a previous stage is used as a V DD power supply according to an embodiment of the present invention; FIG.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른, 다음 단의 게이트 선택신호(SCAN.n-1)를 VDD 공급전원으로 활용한 경우를 나타낸 도면,7 is a diagram illustrating a case where a next gate selection signal SCAN.n-1 is used as a V DD power supply according to an embodiment of the present invention;

도 8은 본 발명의 실시예에 따른, 서로 인접한 화소의 게이트 선택신호(SCAN.2n-1과 SCAN.2n)를 VDD 공급전원으로 활용한 예를 나타낸 도면, 8 is a diagram illustrating an example in which gate selection signals SCAN.2n-1 and SCAN.2n of adjacent pixels are used as a V DD power supply according to an embodiment of the present invention;

도 9는 각 화소마다 현재 단의 게이트 선택신호(SCAN.n)를 VDD 공급전원으로 활용한 예를 나타낸 도면,9 is a diagram illustrating an example in which a gate selection signal SCAN.n of a current stage is used as a V DD power supply for each pixel;

도 10은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광소자의 화소구조를 나타낸 단면도,10 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention;

도 11은 2-TFT 유기EL 화소회로의 레이아웃,11 is a layout of a 2-TFT organic EL pixel circuit,

도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기EL 화소회로도,12 is an organic EL pixel circuit diagram according to another embodiment of the present invention;

도 13은 도 12의 레이아웃13 is the layout of FIG.

본 발명은 유기발광표시장치에 관한 것으로, 특히 전원공급용 배선이 차지하는 면적에 기인한 개구율 감소로 인한 유기발광소자의 열화를 방지하는 유기발광소자의 화소구조에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to a pixel structure of an organic light emitting device that prevents degradation of an organic light emitting device due to a decrease in aperture ratio due to an area occupied by a power supply wiring.

현재, 디스플레이 장치의 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 요구가 크게 대두되고 있으며, 이러한 차세대 디스플레이 소자로서 주목받고 있는 것 중의 하나 가 유기발광소자(organic light emitting device)이다. 유기발광소자는 특정 유기물 또는 고분자들의 전기발광(electroluminescene: EL) 현상을 이용하는 것으로 백라이트를 구비하지 않아도 되므로 액정표시장치에 비해 박형화가 가능하고, 보다 저렴하고 쉽게 제작할 수 있으면서도 넓은 시야각과 밝은 광을 내는 장점이 있다.At present, there is a great demand for thinner, lighter, lower power consumption, and the like of the display device, and one of the attentions as the next-generation display device is an organic light emitting device. The organic light emitting device uses an electroluminescence (EL) phenomenon of certain organic materials or polymers, and does not require a backlight, so that the organic light emitting device can be thinner than a liquid crystal display device, and can be manufactured more inexpensively and easily, while providing a wide viewing angle and bright light. There is an advantage.

이러한 유기발광소자는 유기발광 표시패널의 단위 화소에 구비되는 스위칭 소자의 존재 여부에 따라 패시브-매트릭스방식(passive-matrix type)과 액티브-매트릭스방식(active-matrix type)으로 나눌 수 있다.The organic light emitting diodes may be classified into a passive-matrix type and an active-matrix type according to the presence of a switching element included in the unit pixel of the organic light emitting display panel.

패시브-매트릭스방식은 양극과 음극을 직교하도록 형성하고 라인을 선택하여 구동하는데 비해, 액티브-매트릭스방식은 구동용 박막트랜지스터(TFT)와 커패시터를 각 ITO(indium tin oxide) 화소전극에 접속하여 커패시턴스에 의해 전압을 유지하도록 하는 구동방식이다. In the passive-matrix method, the anode and cathode are orthogonal and the line is selected. The active-matrix method connects a driving thin film transistor (TFT) and a capacitor to each indium tin oxide (ITO) pixel electrode to provide capacitance It is a drive system to maintain the voltage by.

도 1은 박막트랜지스터를 이용하여 유기EL 소자를 구동하기 위한 종래의 화소회로로서, NxM 개의 화소 중 하나를 도시한 것이다. FIG. 1 is a conventional pixel circuit for driving an organic EL element using a thin film transistor, and shows one of NxM pixels.

도 1을 참조하면, 유기 EL소자(OLED)에 구동용 박막트랜지스터(DR TFT)가 연결되어 발광을 위한 전류를 공급한다. 구동용 박막트랜지스터(DR TFT)의 전류량은 스위칭 박막트랜지스터(SW TFT)를 통해 인가되는 데이터 전압에 의해 제어되도록 구성된다. 이때 인가된 전압을 일정기간 유지하기 위한 커패시터(CST)가 구동 트랜지스터의 소스와 게이트 사이에 연결되어 있다. 스위칭 트랜지스터(SW TFT)의 게이트에는 스캔 라인(SCAN)이 연결되어 있으며, 소스에는 데이터 라인(DATA)이 연결되 어 있다. Referring to FIG. 1, a driving thin film transistor DR TFT is connected to an organic EL element OLED to supply a current for emitting light. The current amount of the driving thin film transistor DR TFT is configured to be controlled by a data voltage applied through the switching thin film transistor SW TFT. At this time, a capacitor C ST for maintaining the applied voltage for a predetermined time is connected between the source and the gate of the driving transistor. The scan line SCAN is connected to the gate of the switching transistor SW TFT, and the data line DATA is connected to the source.

상기 구조를 갖는 화소회로의 동작을 살펴보면, 스위칭 박막트랜지스터(SW TFT)의 게이트에 인가되는 스캔 신호에 의해 스위칭 박막트랜지스터(SW TFT)가 온 되면, 데이터 라인을 통해 데이터 전압이 구동용 박막트랜지스터(DR TFT)의 게이트에 인가된다. 그리고, 게이트에 인가되는 데이터 전압에 대응하여 구동용 박막트랜지스터(DR TFT)를 통해 유기EL소자(OLED)에 전류가 흘러 발광이 이루어지며, 유기EL소자는 주입된 전류밀도에 비례하여 광을 발산한다. Referring to the operation of the pixel circuit having the above structure, when the switching TFT is turned on by a scan signal applied to the gate of the switching TFT, the data voltage is driven through the data line. DR TFT). In response to the data voltage applied to the gate, current flows through the driving thin film transistor (DR TFT) to the organic EL device OLED to emit light, and the organic EL device emits light in proportion to the injected current density. do.

이와 같이 유기EL소자에 전류를 흘림으로써 광을 발산하도록 하는 유기발광 디스플레이의 경우 광이 출력되는 발광 면적비(개구율; aperture ratio)가 액정디스플레이에 비해 현저히 낮다는 문제점이 있다. 개구율은 단위 화소(sub-pixel)의 전체 면적 대비 실제 발광이 일어나는 면적의 비를 뜻한다. As described above, an organic light emitting display that emits light by passing a current through an organic EL device has a problem in that a light emitting area ratio (aperture ratio) at which light is output is significantly lower than that of a liquid crystal display. The aperture ratio refers to the ratio of the area of actual light emission to the total area of the sub-pixel.

도 2는 도 1에 도시된 종래 유기EL 소자를 구동하기 위한 화소회로에 대한 레이아웃을 나타낸 도면이다. FIG. 2 is a diagram showing a layout of a pixel circuit for driving the conventional organic EL element shown in FIG.

도 2를 참조하면, 종래 유기EL 소자의 경우 스위칭 트랜지스터, 구동용 트랜지스터를 구비하며, 데이터 라인(21)과, 스캔 라인(22) 및 전류를 공급하기 위한 VDD전원공급라인(23)을 기본적으로 구비하고 있으므로 개구율이 매우 낮아진다. 특히 VDD전원공급라인(23)은 구동용 박막트랜지스터가 유기EL소자에 전류를 흘릴 수 있는 전류소스 역할을 하며, 이러한 VDD전원은 모든 개별 화소에 동일하게 공급도어야 하므로 화소패널을 열(column) 방향으로 배선이 되어야 한다. 이 경우 VDD전원 공급라인(23)은 통상 6~8㎛ 정도의 배선폭과 인접 배선과의 2㎛ 정도의 배선 마진(margin)을 갖게 되므로, 개별 화소의 전체면적에서 볼 때 상당한 면적을 차지한다. 예를 들어, 2.4인치 QVGA(240xBRGx320) 패널의 경우 개별 화소의 피치(pitch)는 51㎛이며, 따라서 VDD전원공급라인이 차지하는 면적은 15% 정도가 된다. 결국, 전원공급라인이 차지하는 면적만큼 개구율이 저하된다. Referring to FIG. 2, a conventional organic EL device includes a switching transistor and a driving transistor, and basically includes a data line 21, a scan line 22, and a V DD power supply line 23 for supplying current. Since it is provided with, the aperture ratio becomes very low. In particular, V DD power supply line 23, so the thin film transistor for driving is and the current source acts that can flow a current to the organic EL device, such V DD power is the same for all the individual pixels supplied also be open to the pixel panel ( It should be wired in the direction of column). In this case, the V DD power supply line 23 usually has a wiring width of about 6 to 8 μm and a wiring margin of about 2 μm between adjacent wirings, and thus occupies a considerable area in terms of the total area of individual pixels. do. For example, in the case of a 2.4-inch QVGA (240xBRGx320) panel, the pitch of each pixel is 51 μm, and thus the area occupied by the V DD power supply line is about 15%. As a result, the opening ratio is reduced by the area occupied by the power supply line.

낮은 개구율은 유기EL소자의 수명(life-time)에 직접적인 영향을 미친다. 유기EL소자는 주입되는 전류량에 의해 발광량이 결정되며, 전류량이 많을수록 발광량이 증가한다. 그러나 장시간동안의 전류구동은 유기EL소자의 열화(degradation)를 유발시키며, 유기EL소자의 열화는 곧 유기EL소자의 발광이 일어나는 개시전압(threshold voltage)이 증가되는 것과 발광효율의 저하를 들 수 있다. 발광효율이 저하되면 동일한 전류량에 의해서도 이전의 발광량을 확보하지 못하게 됨을 의미한다. The low aperture ratio directly affects the life-time of the organic EL element. The amount of light emitted is determined by the amount of current injected into the organic EL element, and the amount of light increases as the amount of current increases. However, current driving for a long time causes degradation of the organic EL device, and the degradation of the organic EL device may include an increase in the threshold voltage at which the organic EL device emits light and a decrease in luminous efficiency. have. When the luminous efficiency is lowered, it means that the previous luminous amount cannot be secured even by the same amount of current.

도 3은 도 1의 화소구조에서의 구동시간에 따른 유기EL소자의 발광율을 나타낸 도면으로, 장시간 구동에 따라 유기EL소자의 발광율이 크게 저하됨을 알 수 있다. 이와 같이 유기EL소자의 출력특성이 열화되면 각 화소의 발광량 제어능력 또한 저하되어 결국 유기발광 디스플레이의 화질 저하를 야기한다. 3 is a view showing the light emission rate of the organic EL device according to the driving time in the pixel structure of FIG. 1, and it can be seen that the light emission rate of the organic EL device is greatly reduced with long driving. As described above, when the output characteristics of the organic EL device are deteriorated, the light emission control capability of each pixel is also lowered, resulting in a deterioration of the image quality of the organic light emitting display.

한편, 유기EL소자의 열화는 유기EL소자에 흐르는 전류밀도(current density)와 밀접한 연관성이 있다. 즉 유기EL소자의 열화에 직접적인 영향을 미치는 인자(factor)는 전류량보다는 단위면적당 흐르는 전류밀도라고 알려져 있다. 따라서 전 류밀도를 줄이는 기술은 유기발광소자의 열화를 억제시킬 수 있는 효과적인 방법이 될 수 있다. 이에 일정 전류량을 주입함에 있어서 개구율(aperture ration)을 크게 함으로써 전류밀도를 낮추는 방법을 행각해 볼 수 있다. On the other hand, deterioration of the organic EL element is closely related to the current density flowing through the organic EL element. That is, the factor directly affecting the deterioration of the organic EL device is known as the current density flowing per unit area rather than the amount of current. Therefore, the technology to reduce the current density may be an effective way to suppress the degradation of the organic light emitting device. In this case, a method of lowering the current density by increasing the aperture ratio in injecting a predetermined amount of current may be performed.

그러나 유기발광 화소에서 개구율을 증가시키는 것은 매우 제한적이라 할 수 잇다. 유기발광 디스플레이는 전류량을 제어하기 위한 화소회로(pixel circuits)를 구성하고 있는데, 통상 2개 내지 6개 정도의 트랜지스터 및 이들 트랜지스터를 동작시키기 위한 신호선(control lines), 데이터 전압을 프레인(frame) 동안 저장하기 위한 저장 커패시터(storage capacitor) 등을 포함한다. 따라서 이들 회로가 개별 화소에서 차지하는 면적비율은 50~80% 정도로 매우 큰 편이며, 따라서 개구율은 20~50% 수준으로 상대적으로 매우 낮은 편이다. However, increasing the aperture ratio in the organic light emitting pixel may be very limited. The organic light emitting display is composed of pixel circuits for controlling the amount of current, typically two to six transistors, control lines for operating these transistors, and data voltages during the frame. Storage capacitors for storage, and the like. Therefore, the area ratio of these circuits in the individual pixels is very large, about 50 to 80%, and therefore the aperture ratio is relatively low, which is about 20 to 50%.

따라서 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 유기EL소자 발광면적(emission area)을 획기적으로 증대시킬 수 있는 유기발광소자의 화소구조를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a pixel structure of an organic light emitting device that can significantly increase the emission area of an organic EL device. .

본 발명의 다른 목적은 유기발광소자로 흐르는 전류밀도를 감소시켜 유기발광소자의 열화를 근본적으로 억제할 수 있는 유기발광소자의 화소구조를 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a pixel structure of an organic light emitting device which can fundamentally suppress deterioration of the organic light emitting device by reducing the current density flowing to the organic light emitting device.

본 발명의 또 다른 목적은 유기발광 표시장치의 화소회로 구현시 별도의 면적을 차지하지 않으면서도 충분한 커패시턴스를 얻을 수 있는 유기발광소자의 화소 구조를 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a pixel structure of an organic light emitting device that can obtain sufficient capacitance without occupying a separate area when implementing a pixel circuit of an organic light emitting display device.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 유기발광소자의 화소구조는 제1 방향으로 형성되며, 데이터전압을 전달하는 데이터 라인과; 상기 제1 방향과 교차되는 제2 방향으로 형성되며, 스캔 신호를 전달하는 다수의 스캔 라인과; 상기 데이터 라인과 다수의 스캔 라인에 의해 정의되는 각 화소를 선택하도록 형성된 각각의 스위칭 트랜지스터와; 상기 데이터 라인으로 인가되는 전압에 따라 해당 전하를 저장하도록 형성된 각각의 커패시터와; 상기 스캔 라인을 통해 전원전압을 공급받도록 상기 스캔 라인과 접속된 각각의 구동 트랜지스터와; 상기 구동 트랜지스터에 흐르는 전류에 의해 발광하는 각각의 유기발광소자(Organic-Light Emitting Diode)를 포함함을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a pixel structure of an organic light emitting diode according to the present invention is formed in a first direction and includes a data line transferring a data voltage; A plurality of scan lines formed in a second direction crossing the first direction and transferring scan signals; A respective switching transistor configured to select each pixel defined by the data line and the plurality of scan lines; Each capacitor configured to store a corresponding charge according to a voltage applied to the data line; Each driving transistor connected to the scan line to receive a power supply voltage through the scan line; And an organic light emitting diode emitting light by the current flowing through the driving transistor.

또한, 본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여 구동 트랜지스터와 데이터 라인을 구비하는 회로영역과; 투명 도전성 물질층, 발광층, 캐소드층을 구비하는 발광영역을 포함하는 유기발광소자의 화소구조에 있어서, 상기 데이터 라인과 접속하도록 상기 발광영역의 투명 도전성 물질층과 동일층의 상기 회로영역에 형성되어 커패시터의 제1 전극으로 작용하는 투명 도전성 물질층과; 상기 회로영역 및 상기 발광영역의 상기 투명 도전성 물질층 전면에 형성되어 상기 회로영역에서 상기 커패시터의 유전층으로 작용하는 BANK층과; 상기 BANK층 상부에 형성되되, 상기 발광영역에서 상기 투명 도전성 물질층과 접하도록 형성된 유기전계발광층과; 상기 유기전계발광층 상부에 형성되어, 상기 회로영역에서는 상기 커패시터의 제2 전극으로 작용하며, 상기 발광영역에서는 캐소드 전극으로 작용하는 전극층을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. In addition, the present invention provides a circuit region including a driving transistor and a data line to achieve the above object; A pixel structure of an organic light emitting device including a light emitting region having a transparent conductive material layer, a light emitting layer, and a cathode layer, the pixel structure being formed in the circuit region of the same layer as the transparent conductive material layer of the light emitting region to be connected to the data line. A transparent conductive material layer serving as a first electrode of the capacitor; A BANK layer formed over an entire surface of the transparent conductive material layer in the circuit region and the light emitting region to serve as a dielectric layer of the capacitor in the circuit region; An organic light emitting layer formed on the BANK layer and formed to contact the transparent conductive material layer in the emission region; And an electrode layer formed on the organic light emitting layer and serving as a second electrode of the capacitor in the circuit region, and acting as a cathode electrode in the emitting region.

바람직하게는, 입력된 데이터가 상기 게이트 전극과 상기 데이터 라인을 거쳐 상기 회로영역의 상기 투명 도전성 물질층으로 인가되도록, 상기 구동 트랜지스터의 게이트 전극은 상기 데이터 라인과 접속함을 특징으로 한다.Preferably, the gate electrode of the driving transistor is connected to the data line such that input data is applied to the transparent conductive material layer of the circuit area via the gate electrode and the data line.

더욱 바람직하게는, 상기 구동트랜지스터의 드레인 전극은 상기 발광영역의 상기 투명 도전성 물질층과 접속함을 특징으로 한다.
More preferably, the drain electrode of the driving transistor is connected to the transparent conductive material layer of the light emitting region.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 도면에서 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 참조번호 및 부호로 나타내고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention; Note that the same components in the drawings are represented by the same reference numerals and symbols as much as possible even though they are shown in different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

먼저, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 유기EL 소자를 구동하기 위한 화소회로 및 동작타이밍도이다. 4 is a pixel circuit and an operation timing diagram for driving an organic EL device according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 상기 화소회로는 유기 EL소자(41)와, 상기 유기 EL소자(41)에 전류를 전류를 공급하는 구동용 트랜지스터(42)와, 상기 구동용 트랜지스터(42)에 인가되는 데이터 전압을 제어하는 스위칭 트랜지스터(43)와, 구동 트랜지스터(42)의 소스와 게이트 사이에 연결되어 인가된 전압을 일정기간 유지하는 커패시터(44)를 구비한다. 또한, 데이터 라인(DATA)과 스캔 라인(SCAN, SCAN')을 포함하 며, 상기 스위칭 트랜지스터(43)의 게이트는 스캔 라인(SCAN)에 연결되며, 소스는 데이터 라인(DATA)에 연결된다. 이때, VDD 전원은 별도의 외부 전원에 의해 공급되지 않고 스캔 라인(SCAN')을 통해 공급받도록 구성된다. Referring to FIG. 4, the pixel circuit is applied to the organic EL element 41, a driving transistor 42 for supplying current to the organic EL element 41, and the driving transistor 42. A switching transistor 43 for controlling the data voltage and a capacitor 44 connected between the source and the gate of the driving transistor 42 to maintain the applied voltage for a predetermined period of time. In addition, a data line DATA and scan lines SCAN and SCAN 'are included. The gate of the switching transistor 43 is connected to the scan line SCAN, and the source is connected to the data line DATA. In this case, the V DD power is configured to be supplied through the scan line SCAN 'without being supplied by a separate external power source.

상기 구성을 갖는 화소회로의 동작은 다음과 같다. 도 4를 참조하면, 게이트 선택신호가 인가될 때 스위칭 트랜지스터(43)이 턴-온 되면서 데이터가 화소에 인가된다. 도 5는 도 4의 화소회로에서 게이트 선택신호의 동작 영역에 따른 동작 타이밍도를 나타낸 것으로, 도 5에서 게이트 선택신호는 입력 데이터를 화소에 인가할 경우에만 스위칭(VSS) 되며, 나머지 대부분의 한 프레임 시간을 VDD 전압을 갖게 된다. 따라서 실제 발광을 일으키는 시간동안에는 VDD 전원을 공급하는 역할을 하게 된다. The operation of the pixel circuit having the above configuration is as follows. Referring to FIG. 4, when the gate selection signal is applied, the switching transistor 43 is turned on to apply data to the pixel. FIG. 5 illustrates an operation timing diagram according to an operation region of a gate selection signal in the pixel circuit of FIG. 4. In FIG. 5, the gate selection signal is switched (V SS ) only when input data is applied to a pixel. One frame time will have a V DD voltage. Therefore, it serves to supply the V DD power during the time of actual light emission.

도 6 ~ 도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 게이트 선택신호의 활용예 및 그에 따른 레이아웃을 나타낸 것이다. 6 to 8 illustrate examples of using the gate selection signal according to an embodiment of the present invention and layout thereof.

도 6은 이전 단의 게이트 선택신호(SCAN.n-1)를 VDD 공급전원으로 활용한 경우로써, 이전 단(stage)의 게이트 선택신호가 현재 단의 VDD 전압으로써 공급됨을 나타낸다. 도 7은 다음 단의 게이트 선택신호(SCAN.n-1)를 VDD 공급전원으로 활용한 경우로써, 다음 단(stage)의 게이트 선택신호가 현재 단의 VDD 전압으로써 공급됨을 나타낸다. 이전(n-1) 단 또는 다음(n+1) 단의 게이트 선택신호가 스위칭 될 때에는 현재 단의 구동 트랜지스터의 게이트 노드의 전압이 커플링(coupling)에 의해 흔들 리게(fluctuation) 된다. 이는 저장된 데이터 값의 왜곡을 일으키며 프로그래밍 된 유기EL소자의 전류값은 변하게 된다. 그러나 게이트 선택신호에 의한 스캐닝(scanning)이 종료되고, VDD 전압으로 되돌아오면 구동용 트랜지스터의 게이트 노드 전압은 원래 전압 값으로 복귀하게 되며 유기EL소자(OLED)의 전류 값 또한 복귀된다. FIG. 6 illustrates a case in which the gate selection signal SCAN.n-1 of the previous stage is used as the V DD supply power, and the gate selection signal of the previous stage is supplied as the V DD voltage of the current stage. FIG. 7 illustrates a case where the next stage gate selection signal SCAN.n-1 is used as the V DD power supply, and the next stage gate selection signal is supplied as the current stage V DD voltage. When the gate selection signal of the previous (n-1) stage or the next (n + 1) stage is switched, the voltage of the gate node of the driving transistor of the current stage is fluctuated by coupling. This causes distortion of the stored data value and changes the current value of the programmed organic EL device. However, when the scanning by the gate selection signal is completed and the voltage is returned to the V DD voltage, the gate node voltage of the driving transistor is returned to the original voltage value, and the current value of the organic EL element OLED is also restored.

도 8은 서로 인접한 화소의 게이트 선택신호(SCAN.2n-1과 SCAN.2n)를 VDD 공급전원으로 활용한 예를 나타낸 것이다. 도 6, 7에 도시된 바와 같이 이전 또는 다음 단의 게이트 선택신호가 현재 단으로 인가되기 위해서는 배선라인을 통해야 하기 때문에 개구율의 이득이 없다는 단점이 있다. 따라서 도 8에 도시한 바와 같이 인접한 화소간에 상대 화소의 게이트 선택신호를 활용하면 배선 라인이 줄어들게 되며 이에 따라 개구율이 증가된다. 8 shows an example in which the gate selection signals SCAN.2n-1 and SCAN.2n of pixels adjacent to each other are used as the V DD power supply. As shown in FIGS. 6 and 7, the gate selection signal of the previous stage or the next stage needs to pass through the wiring line in order to be applied to the current stage. Therefore, as shown in FIG. 8, when the gate selection signal of the relative pixel is utilized between adjacent pixels, the wiring line is reduced, thereby increasing the aperture ratio.

도 9는 각 화소마다 현재 단의 게이트 선택신호(SCAN.n)를 VDD 공급전원으로 활용한 예를 나타낸 것으로, 현재 단의 게이트 선택신호를 이용하였으므로 배선상의 이득이 극대화됨과 동시에 개구율이 최대한 증대됨을 알 수 있다. 9 shows an example in which the gate selection signal SCAN.n of the current stage is used as the V DD supply power for each pixel. Since the gate selection signal of the current stage is used, the gain on the wiring is maximized and the aperture ratio is increased as much as possible. It can be seen that.

한편, 도 9에 도시된 바와 같이 현재단의 게이트 선택신호를 VDD 공급전원으로 이용하는 경우, 게이트 선택신호가 스위칭 될 때에도 인가된 데이터가 보존되어야 한다. 즉, 저장 커패시터는 고정된 전압을 갖는 노드에 연결 되어야 한다. 종래 화소회로에서는 저장 커패시터는 VDD 라인에 연결되며, 도 6 ~ 도 8의 경우 저장 커 패시터는 이웃한 스캔 라인에 연결된다. 그러나, 도 9의 회로에서는 현재의 스캔 라인에 저장 커패시터를 연결할 수 없다. 왜냐하면 저장 커패시터를 스캔 라인에 연결할 경우, 스캔 라인이 턴-오프 될 때 커패시터에 저장된 데이터가 커플링(coupling)에 의해 왜곡되기 때문이다. 따라서 본 실시예에서는 도 9에 도시된 바와 같이 저장커패시터(91)는 유기EL소자(92)의 캐소드 전극에 연결된다. 이는, 스캔 선택신호가 스위칭 될 때에도 인가된 데이터 전압이 보존되도록 하기 위함이다. Meanwhile, as shown in FIG. 9, when the gate selection signal of the current stage is used as the V DD power supply, the applied data must be preserved even when the gate selection signal is switched. In other words, the storage capacitor should be connected to a node with a fixed voltage. In the conventional pixel circuit, the storage capacitor is connected to the V DD line, and in the case of FIGS. 6 to 8, the storage capacitor is connected to the neighboring scan line. However, in the circuit of Figure 9 it is not possible to connect the storage capacitor to the current scan line. This is because when the storage capacitor is connected to the scan line, the data stored in the capacitor is distorted by coupling when the scan line is turned off. Therefore, in this embodiment, the storage capacitor 91 is connected to the cathode electrode of the organic EL element 92, as shown in FIG. This is to ensure that the applied data voltage is preserved even when the scan selection signal is switched.

도 10은 본 발명의 실시예에 따른 유기발광소자의 화소구조를 나타낸 단면도이다. 도 10은 도 9의 유기EL소자 및 커패시터와 연결된 구동 박막트랜지스터를 포함하는 구조로써, 본 발명에 따른 커패시터의 구조를 설명하기 위한 도면이다. 10 is a cross-sectional view illustrating a pixel structure of an organic light emitting diode according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 10 is a view illustrating a structure of a capacitor according to the present invention as a structure including a driving thin film transistor connected to the organic EL device and the capacitor of FIG. 9.

도 10을 참조하면, 유기발광소자의 화소구조는 발광영역(E)과 회로영역(C)이 정의된 절연기판(101)과, 회로영역(C)의 상기 절연기판 상에 형성된 반도체층(102)과, 상기 반도체층(102) 상부에 형성된 게이트 절연막(103)과, 상기 게이트 절연막(103) 상부에 형성된 게이트전극(104)과, 상기 게이트 전극(104) 상부에 상기 게이트 전극(104)과 접속되도록 형성된 데이터 라인(105)과, 상기 데이터 라인(105)과 일정간격 이격되어 위치하며, 상기 반도체층(102)과 접속되도록 형성된 소스 전극(106) 및 드레인 전극(107)과, 상기 데이터 라인(104) 상부의 회로영역(C) 및 발광영역(E)에 형성된 투명전도성물질(Indium Tin Oxide: ITO)층(108C, 108E)과, 상기 ITO층(108) 전면을 감싸도록 형성된 BANK층(109)과, 회로영역(C)의 상기 BANK층(109) 상부 및 발광영역(E)의 상기 ITO층(108)과 접하도록 형성된 유기EL발광층(110)과, 상기 유기EL발광층(110) 상에 형성된 금속층(111C, 111E)을 포함한다. Referring to FIG. 10, a pixel structure of an organic light emitting diode includes an insulating substrate 101 in which a light emitting region E and a circuit region C are defined, and a semiconductor layer 102 formed on the insulating substrate in a circuit region C. Referring to FIG. ), A gate insulating film 103 formed on the semiconductor layer 102, a gate electrode 104 formed on the gate insulating film 103, and a gate electrode 104 formed on the gate electrode 104. A data line 105 formed to be connected, a source electrode 106 and a drain electrode 107 formed to be spaced apart from the data line 105 at a predetermined interval, and connected to the semiconductor layer 102, and the data line. (104) Indium Tin Oxide (ITO) layers 108C and 108E formed in the circuit region C and the light emitting region E thereon, and a BANK layer formed to surround the entire surface of the ITO layer 108 ( 109 and the organic layer formed to be in contact with the BANK layer 109 in the circuit region C and the ITO layer 108 in the emission region E. An EL light emitting layer 110 and metal layers 111C and 111E formed on the organic EL light emitting layer 110 are included.

도 10에서, 회로영역(C)의 상기 ITO층(108C)은 상기 데이터 라인(105)과 접속되며, 발광영역(E)의 상기 ITO층(108E)은 상기 드레인 전극(107)과 접속된다. 또한, 회로영역(C)의 상기 금속층(111C)은 상기 ITO층(108C)과 함께 커패시터 전극을 이루며, 발광영역(E)의 상기 금속층(111E)은 유기EL소자의 캐소드전극으로 작용한다. 즉, 발광영역(E)에 ITO층(108E) 형성시 회로영역에도 ITO층(108C)을 형성하여 커패시터의 일측 전극으로 사용하며, 유기EL소자의 캐소드층을 커패시터의 타측 전극으로 사용하도록 구성한 것이다. 또한 BANK층은 SiO2 또는 SiNX 등의 무기물 유전체 또는 유기물 유전체를 포함하는 유전체로 이루어지며, 본 실시예에서 커패시터의 유전체(dielectric)로서 충분할 역할을 할 수 있다. 따라서 본 발명에 의하면 화소 내에서 별도의 면적을 차지하지 않고 충분한 커패시턴스를 갖는 커패시터를 형성할 수 있다. 또한 ITO층은 유기EL소자의 애노드 전극을 적층 및 패터닝 할 때 동시에 공정할 수 있으므로 부가적인 공정이 요구되지 않으며, BANK 및 캐소드층 또한 유기EL소자 공정시 동시에 이루어지므로 별도의 마스크 패터닝이나 공정이 요구되지 않는다. In FIG. 10, the ITO layer 108C in the circuit region C is connected with the data line 105, and the ITO layer 108E in the light emitting region E is connected with the drain electrode 107. In addition, the metal layer 111C in the circuit region C forms a capacitor electrode together with the ITO layer 108C, and the metal layer 111E in the light emitting region E serves as a cathode electrode of the organic EL element. That is, when the ITO layer 108E is formed in the light emitting region E, the ITO layer 108C is formed in the circuit region to be used as one electrode of the capacitor, and the cathode layer of the organic EL element is used as the other electrode of the capacitor. . In addition, the BANK layer is made of a dielectric including an inorganic dielectric or an organic dielectric such as SiO 2 or SiN X , and may play a sufficient role as a dielectric of the capacitor in this embodiment. Therefore, according to the present invention, a capacitor having sufficient capacitance can be formed without occupying a separate area in the pixel. In addition, the ITO layer can be processed simultaneously when the anode electrode of the organic EL device is stacked and patterned, so no additional process is required, and since the BANK and cathode layers are also made at the same time during the organic EL device process, a separate mask patterning or process is required. It doesn't work.

도 11은 2-TFT 유기EL 화소회로의 레이아웃(layout)으로써, (a)는 VDD 공급라인이 별도로 존재하는 종래 화소회로의 레이아웃이며, (b)는 본 발명에 따른 레이아웃이다. 도 11의 (b)에서 TFT 회로부에 저장 커패시터를 설계하기 위한 ITO층(ITO for CST)이 설계되어 있으며, 이에 따라 개구율이 종래의 34%(도 11의 (a)참조)에서 54%로 증가한 것을 알 수 있다. 11 is a layout of a 2-TFT organic EL pixel circuit, where (a) is a layout of a conventional pixel circuit in which a V DD supply line is separately present, and (b) is a layout according to the present invention. In FIG. 11 (b), an ITO layer (ITO for C ST ) for designing a storage capacitor in the TFT circuit portion is designed, so that the opening ratio is 54% from the conventional 34% (see FIG. 11 (a)). It can be seen that the increase.

도 12는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 것으로, 도 12의 (a)는 구동 트랜지스터의 문턱전압을 보상한 회로(S.H. Jung, SID 2002, pp.622-625)이며, 도 12의 (b)는 본 발명에 따라, 도 12의 (a)의 화소회로에서 별도의 VDD 공급라인을 제거하고 게이트 선택신호로 대체한 경우를 나타낸다. FIG. 12 illustrates another embodiment of the present invention. FIG. 12A illustrates a circuit compensating threshold voltages of a driving transistor (SH Jung, SID 2002, pp. 622-625), and FIG. 12B. According to the present invention, in the pixel circuit of FIG. 12A, a separate V DD supply line is removed and replaced with a gate select signal.

도 13은 도 12의 레이아웃이다. 도 13의 (a)를 보면, 트랜지스터의 수가 많고 게이트 선택라인, 데이터 입력 신호라인, VDD 공급라인에 의해 개구율이 25% 정도로 작아짐을 알 수 있다. 이에 비해 도 13의 (b)를 보면, 저장 커패시터 설계를 위한 ITO층이 구획되어 있으며, 개구율이 44%까지 증가함을 알 수 있다. FIG. 13 is a layout of FIG. 12. Referring to FIG. 13A, it can be seen that the number of transistors is large and the aperture ratio is reduced to about 25% by the gate selection line, the data input signal line, and the V DD supply line. On the other hand, referring to FIG. 13 (b), it can be seen that the ITO layer for the storage capacitor design is partitioned and the opening ratio is increased by 44%.

한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며 후술하는 특허청구의 범위뿐만 아니라 이 특허청구의 범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Meanwhile, in the detailed description of the present invention, specific embodiments have been described, but various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined not only by the scope of the following claims, but also by the equivalents of the claims.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 유기EL소자의 화소구조는 VDD 공급라인을 제거하여 배선이 차지하던 면적을 줄임으로써 유기EL소자의 발광면적을 획기적으로 증대시킬 수 있다. 이에 따라, 유기EL소자로 흐르는 전류밀도를 감소시켜 유기EL소자의 열화를 근본적으로 억제할 수 있으며 결과적으로 유기EL소자의 수명이 증가 하고 유기발광 디스플레이의 화질이 향상되는 장점이 있다. 따라서 본 발명은 유기EL소자의 물성적인 향상을 꾀하는 연구와 접목될 경우 유기EL소자 구동의 신뢰성 향상에 직접적인 기여를 할 수 있을 것이다. As described above, the pixel structure of the organic EL device according to the present invention can significantly increase the emission area of the organic EL device by eliminating the V DD supply line and reducing the area occupied by the wiring. Accordingly, it is possible to fundamentally suppress deterioration of the organic EL device by reducing the current density flowing to the organic EL device. As a result, the lifespan of the organic EL device is increased and the image quality of the organic light emitting display is improved. Therefore, the present invention can directly contribute to the improvement of the reliability of driving the organic EL device when combined with the research for the physical properties improvement of the organic EL device.

또한, 본 발명에서는 ITO/BANK/캐소드로 구성되는 새로운 저장 커패시터 구조를 제안함으로써, 화소회로 구현시 별도의 면적을 차지하지 않으면서도 기존의 저장 커패시터가 갖는 커패시턴스를 상회하는 충분한 커패시턴스를 얻을 수 있다. 더욱이 본 발명에 따른 커패시터 구조는 별도의 추가공정이 요구되지 않기 때문에 공정효율 및 비용면에서도 유리한 장점이 있다. In addition, the present invention proposes a new storage capacitor structure consisting of ITO / BANK / cathode, it is possible to obtain a sufficient capacitance that exceeds the capacitance of the existing storage capacitor without occupying a separate area when implementing the pixel circuit. Moreover, the capacitor structure according to the present invention has an advantage in terms of process efficiency and cost since no additional process is required.

Claims (9)

제1 방향으로 형성되며, 데이터전압을 전달하는 데이터 라인과; A data line formed in a first direction and transferring a data voltage; 상기 제1 방향과 교차되는 제2 방향으로 형성되며, 스캔 신호를 전달하는 다수의 스캔 라인과;A plurality of scan lines formed in a second direction crossing the first direction and transferring scan signals; 상기 데이터 라인과 다수의 스캔 라인에 의해 정의되는 각 화소를 선택하도록 형성된 각각의 스위칭 트랜지스터와;A respective switching transistor configured to select each pixel defined by the data line and the plurality of scan lines; 상기 데이터 라인으로 인가되는 전압에 따라 해당 전하를 저장하도록 형성된 각각의 커패시터와;Each capacitor configured to store a corresponding charge according to a voltage applied to the data line; 상기 스캔 라인을 통해 전원전압을 공급받도록 상기 스캔 라인과 접속된 각각의 구동 트랜지스터와;Each driving transistor connected to the scan line to receive a power supply voltage through the scan line; 상기 구동 트랜지스터에 흐르는 전류에 의해 발광하는 각각의 유기발광소자(Organic-Light Emitting Diode)를 포함함을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조. And a respective organic light emitting diode (LED) which emits light by a current flowing through the driving transistor. 제 1 항에 있어서, 상기 각 화소의 구동 트랜지스터는 The driving transistor of claim 1, wherein the driving transistor of each pixel 상기 다수의 스캔 라인 중 현재단의 스캔 라인에 접속됨을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조.The pixel structure of the organic light emitting device, characterized in that connected to the scan line of the current stage of the plurality of scan lines. 제 2 항에 있어서, 상기 커패시터는 The method of claim 2, wherein the capacitor 상기 스캔 신호가 스위칭 될 경우에도 인가된 데이터가 보존되도록 고정된 전압을 갖는 노드에 접속됨을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조.And a node having a fixed voltage so that the applied data is preserved even when the scan signal is switched. 제 1 항에 있어서, 상기 각 화소의 구동 트랜지스터는 The driving transistor of claim 1, wherein the driving transistor of each pixel 상기 다수의 스캔 라인 중 인접한 단의 스캔 라인에 상호 교차하여 접속됨을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조.The pixel structure of the organic light emitting device, characterized in that connected to the scan line of the adjacent stage of the plurality of scan lines cross each other. 구동 트랜지스터와 데이터 라인을 구비하는 회로영역과; 투명 도전성 물질층, 발광층, 캐소드층을 구비하는 발광영역을 포함하는 유기발광소자의 화소구조에 있어서,A circuit region having a driving transistor and a data line; In the pixel structure of an organic light emitting device comprising a light emitting region comprising a transparent conductive material layer, a light emitting layer, a cathode layer, 상기 데이터 라인과 접속하도록 상기 발광영역의 투명 도전성 물질층과 동일층의 상기 회로영역에 형성되어 커패시터의 제1 전극으로 작용하는 투명 도전성 물질층과;A transparent conductive material layer formed in the circuit region of the same layer as the transparent conductive material layer of the light emitting region so as to be connected to the data line and serving as a first electrode of the capacitor; 상기 회로영역 및 상기 발광영역의 상기 투명 도전성 물질층 전면에 형성되어 상기 회로영역에서 상기 커패시터의 유전층으로 작용하는 뱅크(BANK)층과;A bank layer formed over the transparent conductive material layer in the circuit region and the light emitting region and serving as a dielectric layer of the capacitor in the circuit region; 상기 뱅크층 상부에 형성되되, 상기 발광영역에서 상기 투명 도전성 물질층 과 접하도록 형성된 유기전계발광층과;An organic light emitting layer formed on the bank layer and formed to be in contact with the transparent conductive material layer in the emission region; 상기 유기전계발광층 상부에 형성되어, 상기 회로영역에서는 상기 커패시터의 제2 전극으로 작용하며, 상기 발광영역에서는 캐소드 전극으로 작용하는 전극층을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조. And an electrode layer formed on the organic light emitting layer and acting as a second electrode of the capacitor in the circuit region, and acting as a cathode electrode in the light emitting region. 제 5 항에 있어서, 입력된 데이터가 상기 게이트 전극과 상기 데이터 라인을 거쳐 상기 회로영역의 상기 투명 도전성 물질층으로 인가되도록, 상기 구동 트랜지스터의 게이트 전극은 상기 데이터 라인과 접속함을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조.The organic light emitting diode of claim 5, wherein the gate electrode of the driving transistor is connected to the data line such that input data is applied to the transparent conductive material layer of the circuit region via the gate electrode and the data line. Pixel Structure of Light-Emitting Element. 제 6 항에 있어서, 상기 구동트랜지스터의 드레인 전극은 상기 발광영역의 상기 투명 도전성 물질층과 접속함을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조. 7. The pixel structure of claim 6, wherein the drain electrode of the driving transistor is connected to the transparent conductive material layer of the light emitting region. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 투명 도전성 물질층은The method of claim 5 or 6, wherein the transparent conductive material layer ITO(Indium Tin Oxide)층임을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조. A pixel structure of an organic light emitting device, characterized in that the ITO (Indium Tin Oxide) layer. 제 5 항에 있어서, 상기 뱅크(BANK)층은 The method of claim 5, wherein the bank BANK layer is SiO2 또는 SiNX 등의 무기물 유전체 또는 유기물 유전체를 포함함을 특징으로 하는 유기발광소자의 화소구조. A pixel structure of an organic light emitting device, characterized in that it comprises an inorganic dielectric or an organic dielectric, such as SiO 2 or SiN X.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019518992A (en) * 2016-05-26 2019-07-04 ネーデルランセ オルハニサチエ フォール トゥーヘパスト−ナツールウェーテンシャッペルック オンデルズク テーエヌオーNederlandse Organisatie voor toegepast−natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Conformable matrix display device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100766949B1 (en) * 2006-11-17 2007-10-17 삼성에스디아이 주식회사 Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003108036A (en) 2001-09-29 2003-04-11 Toshiba Corp Display device
US20040113872A1 (en) 2000-12-08 2004-06-17 Yutaka Nanno El display device
US20040183758A1 (en) 2003-03-21 2004-09-23 Industrial Technology Research Institute Pixel circuit for active matrix OLED and driving method
KR20050005646A (en) * 2003-07-07 2005-01-14 삼성에스디아이 주식회사 Pixel circuit in OLED and Method for fabricating the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040113872A1 (en) 2000-12-08 2004-06-17 Yutaka Nanno El display device
JP2003108036A (en) 2001-09-29 2003-04-11 Toshiba Corp Display device
US20040183758A1 (en) 2003-03-21 2004-09-23 Industrial Technology Research Institute Pixel circuit for active matrix OLED and driving method
KR20050005646A (en) * 2003-07-07 2005-01-14 삼성에스디아이 주식회사 Pixel circuit in OLED and Method for fabricating the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2019518992A (en) * 2016-05-26 2019-07-04 ネーデルランセ オルハニサチエ フォール トゥーヘパスト−ナツールウェーテンシャッペルック オンデルズク テーエヌオーNederlandse Organisatie voor toegepast−natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Conformable matrix display device

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