KR100478730B1 - Substrate edge lighting apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 주변 노광 장치를 보다 컴팩트하게 구성하여 이를 트랙 시스템의 한정된 공간내 상,하단으로 적층하여 탑재함으로써 트랙 시스템의 사이즈를 증대시키지 않으면서도 기판 주변 노광 장치의 공정처리속도로 인한 트랙 시스템 내 기판 진행의 병목현상을 해소할 수 있도록 함과 더불어 공정처리시간을 단축할 수 있도록 한 기판 주변 노광 장치를 제공한다.The present invention provides a more compact configuration of a periphery substrate exposure apparatus, and stacks them on top and bottom in a limited space of the track system, thereby increasing the track system size without increasing the size of the track system. The present invention provides a substrate peripheral exposure apparatus capable of eliminating bottlenecks in substrate progress and shortening process processing time.
이는 광원장치와, 상기 광원장치로부터 라이트 가이드를 통해 조사노즐에서 조사되는 자외선광으로 회전 스테이지 구동모터에 의해 구동되는 회전 스테이지에 탑재된 기판의 주변 노광을 실시하는 노광 스테이지를 상,하 다단으로 적층하고, 상기 상,하 다단으로 적층된 각단의 광원장치 및 노광 스테이지는 각단을 제어하도록 된 각각의 전용 콘트롤러에 의해 제어되도록 구성함에 의해 달성되거나, 또는 광원장치와, 상기 광원장치로부터 라이트 가이드를 통해 조사노즐에서 조사되는 자외선광으로 회전 스테이지 구동모터에 의해 구동되는 회전 스테이지에 탑재된 기판의 주변 노광을 실시하는 노광 스테이지를 상,하 다단으로 적층시키되, 상기 상, 하 다단으로 적층된 각단의 광원장치 및 노광 스테이지는 하나의 겸용 콘트롤러에 의해 제어되도록 구성함에 의해 달성될 수 있다.This stacks the light source device and the exposure stage for performing peripheral exposure of the substrate mounted on the rotating stage driven by the rotating stage drive motor with ultraviolet light irradiated from the irradiation nozzle through the light guide from the light source device in multiple stages. In addition, the light source device and the exposure stage of each stage stacked in the upper and lower multi-stages are achieved by being configured to be controlled by each dedicated controller to control each stage, or through the light source apparatus and the light guide from the light source apparatus. An exposure stage for performing peripheral exposure of a substrate mounted on a rotating stage driven by a rotating stage driving motor with ultraviolet light irradiated from an irradiation nozzle is stacked in multiple stages of upper and lower stages. The device and exposure stage can be controlled by a single controller By construction.
Description
본 발명은 기판 주변 노광 장치에 관한 것으로, 특히 노광 유니트를 상,하 다단 구성한 기판 주변 노광 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate peripheral exposure apparatus, and more particularly, to a substrate peripheral exposure apparatus in which an exposure unit is configured in multiple stages.
반도체 LSI등 각종 일렉트로닉스 소자의 제조공정에서 반도체 기판의 표면에 포토 레지스트를 도포하고 노광, 현상을 수행하여 패턴을 형성하는 과정에서 기판 이동시 또는 노광,현상과정에서 발생되는 기판 에지의 불량원인을 제거하기 위하여 코팅된 기판의 에지로부터 일정폭을 자외선으로 조사하여 제거하는 장치가 도포,현상장치에 하나씩 탑재되어 있다.In the manufacturing process of various electronic devices such as semiconductor LSI, photoresist is applied to the surface of semiconductor substrate and exposure and development are performed to remove the cause of defects of substrate edges generated during substrate movement or during exposure and development. In order to irradiate and remove a certain width with ultraviolet rays from the edge of the coated substrate, one device is mounted in the application and development apparatus.
도 1은 일반적인 기판 주변 노광 장치를 나타낸 도로, 포토 레지스트(2)가 도포된 기판(1)을 탑재하고 회전하는 회전 스테이지(3), 회전 스테이지(3)를 구동하는 회전 스테이지 구동 모터(4), 셔터(5) 및 셔터 구동부(6)와 광원장치(7), 상기 셔터(5) 및 라이트 가이드(8)를 통해 광원장치(7)로부터 제공되는 자외선을 조사하기 위한 조사노즐(9), 상기 조사노즐(9)을 구동하는 노즐 구동부(10), 기판 주변형상 및 특이점(오리엔테이션 플랫 또는 노치마크)를 검출하는 기판 에지 검출부(11), 기판 주변 노광의 전반적인 제어를 행하는 콘트롤러(12)가 설치되어 있다.1 is a road showing a general substrate peripheral exposure apparatus, a rotating stage 3 for mounting and rotating a substrate 1 coated with a photoresist 2, and a rotating stage driving motor 4 for driving the rotating stage 3. , An irradiation nozzle 9 for irradiating ultraviolet rays provided from the light source device 7 through the shutter 5 and the shutter driver 6 and the light source device 7, the shutter 5 and the light guide 8, The nozzle driving unit 10 for driving the irradiation nozzle 9, the substrate edge detection unit 11 for detecting a substrate peripheral shape and singularity (orientation flat or notch mark), and the controller 12 for controlling overall exposure of the substrate peripheral are provided. It is installed.
이러한 기판 주변 노광 장치는 포토 레지스트(2)가 도포된 기판(1)이 반입되어 회전 스테이지(3)에 탑재된 후, 회전 스테이지 구동모터(4)에 의해 기판(1) 소정회 회전시 콘트롤러(12)의 제어에 따라 기판 에지 검출부(11)에 의해 기판(1)의 에지와 특이점을 검출한 후, 광원장치(7)로부터 조사되는 자외선을 조사 노즐(9)을 통해 기판(1)의 포토 레지스트(2)에 조사하여 기판 주변 노광을 실시 한 후, 기판(1)을 다시 반출하게 되며, 이와 같은 공정처리시간은 3,40여초가 걸린다.The substrate peripheral exposure apparatus includes a controller 1 when the substrate 1 coated with the photoresist 2 is loaded and mounted on the rotation stage 3, and then rotates the substrate 1 a predetermined time by the rotation stage driving motor 4. After detecting the edge and singularity of the substrate 1 by the substrate edge detection unit 11 under the control of 12, the ultraviolet rays irradiated from the light source device 7 are transferred to the photo of the substrate 1 through the irradiation nozzle 9. After irradiating the resist 2 to expose the periphery of the substrate, the substrate 1 is again taken out, which takes about 3,40 seconds.
한편, 종래에는 스텝퍼에서 노광후 현상하는 현상 유니트가 보통 세 개씩 탑재된다. 이는 스텝퍼에서 노광되어 나오는 기판을 현상 유니트에서 정체 없이 처리하기 위한 현상 유니트 수량이 세 개면 충분하였기 때문이다.On the other hand, conventionally, three developing units developed after exposure by a stepper are mounted. This is because three developer units were sufficient to process the substrate exposed by the stepper without any congestion.
그러나 최근 개발되어 생산되는 스텝퍼의 공정처리 기판 수량이 종래 보다 1.5배 향상되어 현상 유니트의 수량이 네 개 정도가 필요하게 되었으며, 따라서 하나뿐인 기판 주변 노광 장치만으로는 기판 진행의 병목현상을 유발하게 된다.However, the number of process substrates of the stepper, which has been recently developed and produced, is 1.5 times higher than that of the prior art, and thus, the number of development units is required to about four. Therefore, only one peripheral peripheral device is used to cause a bottleneck of substrate progression.
도 2a 및 도 2b는 이상적인 노광형태와 실제 노광형태를 각각 나타낸 것으로, 기판의 주변 노광시 자외선에 의하여 노광되는 면이 제조공정상의 불량원인으로 작용되지 않도록 하기 위해서는 도 2a와 같이 수직에 가깝게 노광되어 경사면의 폭이 10㎛ 이내로 제어되어야 할 필요성이 점차 대두되고 있지만, 이렇게 할 경우 조사노즐에 특수렌즈를 사용하여야 하며 노광시간 또한 길어지는 문제점이 발생되며, 이러한 문제의 해결을 위해서는 필연적으로 기판 주변 노광 장치의 공정처리시간 증가를 초래하게 된다. 따라서 노광 유니트의 추가 필요성이 대두되고 있다.2A and 2B illustrate an ideal exposure form and an actual exposure form, respectively. In order to prevent the surface exposed by ultraviolet rays during the peripheral exposure of the substrate from acting as a cause of a defect in the manufacturing process, it is exposed close to vertical as in FIG. 2A. Although the necessity of controlling the width of the inclined surface to within 10 μm is gradually increasing, in this case, a special lens must be used for the irradiation nozzle, and the exposure time is also long. This increases the processing time of the device. Therefore, the necessity of adding an exposure unit is increasing.
즉, 생산성의 향상을 위해 기판 주변 노광 장치의 증설을 실시하여야 하는데, 현재의 트랙 시스템 내 한정된 공간에 종래와 동일한 유니트를 탑재하는 경우 탑재공간이 없어 인접하여 증설할 수밖에 없게 된다. That is, in order to improve productivity, the expansion of the substrate peripheral exposure apparatus should be performed. When the same unit is mounted in the limited space in the current track system, there is no mounting space, and thus, the expansion of the exposure apparatus is adjacent.
이럴 경우, 트랙 시스템은 증설되는 유니트의 탑재공간만큼 장치 사이즈가 커지게 되며, 이는 결국 반도체 생산공장의 면적 또한 확보하여야 하는 단점으로 작용하게 된다.In this case, the track system has a device size that is as large as the mounting space of the expanded unit, which is a disadvantage in that the area of the semiconductor production plant must also be secured.
본 발명은 이러한 점을 해결하기 위한 것으로, 기판 주변 노광 유니트를 보다 컴팩트하게 구성하여 이를 트랙 시스템의 한정된 공간내 상,하단으로 적층하여 탑재함으로써 트랙 시스템의 사이즈를 증대시키지 않으면서도 기판 주변 노광 장치의 공정처리속도로 인한 트랙 시스템 내 기판 진행의 병목현상을 해소할 수 있도록 함과 더불어 공정처리시간을 단축할 수 있도록 한 기판 주변 노광 장치를 제공함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problem, and by constructing a more compact substrate peripheral exposure unit and stacking the upper and lower ends in a limited space of the track system, the substrate peripheral exposure apparatus can be increased without increasing the size of the track system. It is an object of the present invention to provide a substrate peripheral exposure apparatus capable of eliminating a bottleneck of substrate progress in a track system due to the processing speed and shortening the processing time.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 주변 노광 장치는, 광원장치와, 상기 광원장치로부터 라이트 가이드를 통해 조사노즐에서 조사되는 자외선광으로 회전 스테이지 구동모터에 의해 구동되는 회전 스테이지에 탑재된 기판의 주변 노광을 실시하는 노광 스테이지를 상,하 다단으로 적층하고, 상기 상,하 다단으로 적층된 각단의 광원장치 및 노광 스테이지는 각단을 제어하도록 된 각각의 전용 콘트롤러에 의해 제어되도록 구성하되, 상기 광원장치는 상기 노광 스테이지에 최대한 근접하게 설치하여 조도를 증대시킴과 더불어 라이트 가이드의 길이가 짧아질 수 있도록 하고, 상기 노광 스테이지는 상기 회전 스테이지 구동모터의 중앙축에 진공라인을 형성하여 회전 스테이지의 스핀척에 기판이 진공 흡착되도록 하며, 상기 각단의 전용 콘트롤러는 별도의 메인 콘트롤러가 제어하도록 한다.In accordance with an aspect of the present invention, there is provided a substrate peripheral exposure apparatus including a light source device and a rotation stage driven by a rotation stage driving motor with ultraviolet light emitted from an irradiation nozzle through a light guide from the light source device. An exposure stage for performing peripheral exposure of the substrate mounted on the substrate is stacked in multiple stages, and the light source device and the exposure stage of each stage stacked in the multiple stages are controlled by respective dedicated controllers for controlling each stage. The light source device may be installed as close as possible to the exposure stage to increase illuminance and to shorten the length of the light guide, and the exposure stage may form a vacuum line on the central axis of the rotating stage driving motor. To vacuum adsorb the substrate to the spin chuck of the rotating stage, Only a single controller is a separate main controller to control.
본 발명의 다른 실시 예에 의하면, 광원장치와, 상기 광원장치로부터 라이트 가이드를 통해 조사노즐에서 조사되는 자외선광으로 회전 스테이지 구동모터에 의해 구동되는 회전 스테이지에 탑재된 기판의 주변 노광을 실시하는 노광 스테이지와, 상기 광원장치 및 노광 스테이지를 제어하는 전용 콘트롤러로 이루어지는 노광 유니트를 상,하 다단으로 탑재하되, 상기 광원장치는 상기 노광 스테이지에 최대한 근접하게 설치하여 조도를 증대시킴과 더불어 라이트 가이드의 길이가 짧아질 수 있도록 하며, 상기 노광 스테이지는 상기 회전 스테이지 구동모터의 중앙축에 진공라인을 형성하여 회전 스테이지에 기판이 진공 흡착되도록 하고, 상기 상,하 다단으로 탑재된 노광 유니트의 각각의 전용 콘트롤러는 별도의 메인 콘트롤러가 제어하도록 한다.According to another embodiment of the present invention, an exposure for performing peripheral exposure of a light source device and a substrate mounted on a rotating stage driven by a rotating stage drive motor with ultraviolet light irradiated from the light source device through the light guide from the irradiation nozzle. Mounting the exposure unit consisting of a stage, the light source device and a dedicated controller for controlling the exposure stage in up and down multi-stage, the light source device is installed as close as possible to the exposure stage to increase the illuminance and the length of the light guide The exposure stage forms a vacuum line on the central axis of the rotation stage driving motor to allow the substrate to be vacuum-adsorbed on the rotation stage, and each dedicated controller of the exposure unit mounted in the upper and lower stages. Is controlled by a separate main controller.
본 발명의 또 다른 실시 예에 의하면, 광원장치와, 상기 광원장치로부터 라이트 가이드를 통해 조사노즐에서 조사되는 자외선광으로 회전 스테이지 구동모터에 의해 구동되는 회전 스테이지에 탑재된 기판의 주변 노광을 실시하는 노광 스테이지를 상,하 다단으로 적층시키되, 상기 상, 하 다단으로 적층된 각단의 광원장치 및 노광 스테이지는 하나의 겸용 콘트롤러에 의해 제어되도록 하되, 상기 각단의 광원장치는 각단의 노광 스테이지에 최대한 근접하게 설치하여 조도를 증대시킴과 더불어 라이트 가이드의 길이가 짧아질 수 있도록 하고, 상기 노광 스테이지는 상기 회전 스테이지 구동모터의 중앙축에 진공라인을 형성하여 회전 스테이지에 기판이 진공 흡착되도록 하며, 상기 겸용 콘트롤러를 별도의 메인 콘트롤러가 제어하도록 한다.According to another embodiment of the present invention, a peripheral light exposure of a substrate mounted on a light source device and a rotating stage driven by a rotating stage drive motor with ultraviolet light irradiated from the light emitting device through the light guide from the light emitting device is performed. The exposure stages are stacked in multiple stages up and down, and the light source devices and exposure stages of each stage stacked in the upper and lower stages are controlled by a single controller, and the light source devices of each stage are as close as possible to the exposure stages of each stage. In order to increase the illuminance and shorten the length of the light guide, the exposure stage forms a vacuum line on the central axis of the rotating stage driving motor to allow the substrate to be vacuum-adsorbed on the rotating stage. Let the controller be controlled by a separate main controller.
이하, 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described in detail.
도 3은 본 발명에 따른 기판 주변 노광 장치의 일 실시 예에 따른 개념 구성도를, 도 4는 이의 상세 구성도를 도시한 것으로, 제1,제2 노광 유니트(100),(200)를 상,하로 적층하여 탑재하되, 상기 제1,제2 노광 유니트(100),(200)는 각각 제1,제2 광원장치(100a),(200a)와 실제 기판(웨이퍼, LCD기판 등)의 주변 노광을 실시하는 제1,제2 노광 스테이지(100b),(200b) 및 이들을 제어하는 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)로 구성된다.3 is a conceptual configuration diagram according to an embodiment of a substrate peripheral exposure apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a detailed configuration diagram thereof, and illustrates the first and second exposure units 100 and 200. The first and second exposure units 100 and 200 may be stacked and mounted, and the first and second exposure units 100 and 200 may respectively surround the first and second light source devices 100a and 200a and the actual substrate (wafer, LCD substrate, etc.). The first and second exposure stages 100b and 200b perform exposure, and the first and second dedicated controllers 100c and 200c that control them.
상기 제1 노광 스테이지(100b) 및 제2 노광 스테이지(200b)는 포토 레지스트(102),(202)가 도포된 기판(101),(201)을 탑재하고 회전하는 회전 스테이지(103),(203), 회전 스테이지(103),(203)를 구동하는 회전 스테이지 구동 모터(104),(204), 셔터(105),(205) 및 셔터 구동부(106),(206), 상기 셔터(105),(205) 및 라이트 가이드(107),(207)를 통해 제1,제2 광원장치(100a),(200a)로부터 제공되는 자외선을 조사하기 위한 조사노즐(108),(208), 상기 조사노즐(108),(208)을 구동하는 노즐 구동부(109),(209), 기판 주변형상 및 특이점(오리엔테이션 플랫 또는 노치마크)을 검출하는 기판 에지 검출부(110),(210)를 각각 구비한다.The first exposure stage 100b and the second exposure stage 200b may include rotation stages 103 and 203 which mount and rotate the substrates 101 and 201 coated with the photoresist 102 and 202. ), The rotating stage driving motors 104 and 204 for driving the rotating stages 103 and 203, the shutters 105 and 205 and the shutter driving units 106 and 206 and the shutter 105 Irradiation nozzles 108 and 208 for irradiating ultraviolet rays provided from the first and second light source devices 100a and 200a through 205 and light guides 107 and 207. And nozzle edgers 109 and 209 for driving the nozzles 108 and 208, and substrate edge detectors 110 and 210 for detecting the substrate peripheral shape and singularity (orientation flat or notch mark), respectively. .
또한, 상기 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)는 상기 제1,제2 광원장치(100a),(200a) 및 제1,제2 노광 스테이지(100b),(200b)와 함께 상,하 다단으로 적층되거나 또는 상기 제1,제2 광원장치(100a),(200a) 및 제1,제2 노광 스테이지(100b),(200b)와는 별도로 상,하로 탑재되지 않고 소정의 장소에 각각 설치될 수 있다.In addition, the first and second dedicated controllers 100c and 200c are together with the first and second light source devices 100a and 200a and the first and second exposure stages 100b and 200b. Stacked in multiple stages up or down, or separately mounted above and below the first and second light source devices 100a and 200a and the first and second exposure stages 100b and 200b. Each can be installed.
상기 제1 전용 콘트롤러(100c)는 제1 광원장치(100a)를 제어하는 광량제어, 셔터구동부(106)를 제어하는 셔터구동제어, 노즐구동부(109)를 제어하는 노즐구동제어, 회전 스테이지 구동모터(104)를 제어하여 회전 스테이지(103)를 제어하는 회전 스테이지 구동제어, 기판 에지 검출부(110)를 제어하는 기판 에지검출 제어 등 제1 노광 유니트(100)의 기판 주변 노광을 위한 전반적인 제어를 행하도록 구성된다.The first dedicated controller 100c includes a light amount control for controlling the first light source device 100a, a shutter drive control for controlling the shutter driver 106, a nozzle drive control for controlling the nozzle driver 109, and a rotating stage drive motor. Overall control for exposure around the substrate of the first exposure unit 100 is performed, such as rotation stage driving control for controlling the rotation stage 103 by controlling the 104 and substrate edge detection control for controlling the substrate edge detection unit 110. It is configured to.
상기 제2 전용 콘트롤러(200c) 역시 상기 제1 전용 콘트롤러(100c)와 동일 기능을 수행하도록 구성된다.The second dedicated controller 200c is also configured to perform the same function as the first dedicated controller 100c.
또한, 상기 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)를 하나의 메인 콘트롤러(300)에서 제어하도록 함과 더불어 전원장치(400)에서 시스템 각부에 전원을 공급하도록 구성되며, 상기 메인 콘트롤러(300)는 상기 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)에 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)의 기판 주변 노광 프로세스 진행에 필요한 프로그램을 제공함과 더불어 트랙 시스템내의 타부분과의 신호 전달을 행하도록 된다.In addition, the first and second dedicated controllers 100c and 200c may be controlled by one main controller 300 and may be configured to supply power to each part of the system in the power supply 400. The 300 may provide the first and second dedicated controllers 100c and 200c with the programs necessary for the process of exposing the first and second dedicated controllers 100c and 200c around the substrate. Signal transmission with other parts is performed.
한편, 상기와 같이 구성된 노광 유니트(100),(200)를 트랙 시스템내의 한정된 공간 내에 상,하로 적층하기 위해서 상기 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)를 기존의 제어장치로 사용되던 산업용 컴퓨터를 대신하여 하나의 전용 콘트롤 보드인 전용 콘트롤러로 제작하며, 이 전용 콘트롤러 즉, 제1,제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)는 도시하지는 않았지만, 상기 제1,제2 광원장치(100a),(200a) 및 제1,제2 노광 스테이지(100b),(200b)를 제어하는 중앙제어장치와, 기판 주변 노광 프로세스를 진행하기 위한 프로그램이 저장된 프로그램 메모리와, 상기 중앙처리장치와 상기 제1,제2 광원장치(100a),(200a) 및 제1,제2 노광 스테이지(100b),(200b)의 각부와의 신호 인터페이스를 위한 제1,제2 인터페이스부를 탑재하게 된다.Meanwhile, the first and second dedicated controllers 100c and 200c are used as existing controllers in order to stack the exposure units 100 and 200 configured as described above up and down within a limited space in the track system. Instead of an industrial computer, a dedicated controller, which is a dedicated control board, is manufactured. The dedicated controllers, that is, the first and second dedicated controllers 100c and 200c are not shown, but the first and second light source devices are not shown. A central controller for controlling the (100a), (200a) and the first and second exposure stages (100b), (200b), a program memory storing a program for performing a process of exposing a substrate periphery, and The first and second interface units for signal interface with the first and second light source devices 100a and 200a and the respective parts of the first and second exposure stages 100b and 200b are mounted.
또한, 다단 구조에서 광원장치 및 조사되는 자외선을 가장 효율이 높은 상태로 조사하는 것이 중요 항목이 된다. 따라서 제1,제2 노광 스테이지(100b),(200b)만을 다단으로 구성하고 제1,제2 광원장치(100a),(200a)를 동일 위치에 구성하는 것이 가능하나, 이러한 경우 제1,제2 광원장치(100a),(200a)로부터 자외선을 집광하여 조사하게 되는 라이트 가이드(107),(207)가 문제이다. In addition, in the multi-stage structure, it is important to irradiate the light source device and the irradiated ultraviolet rays in the most efficient state. Therefore, it is possible to configure only the first and second exposure stages 100b and 200b in multiple stages and to configure the first and second light source devices 100a and 200a at the same position. The problem is the light guides 107 and 207 which condense and irradiate ultraviolet rays from the light source devices 100a and 200a.
그리고 기판 주변 노광 장치의 다단 구성은 각 노광 스테이지(100b),(200b) 간의 성능이 동일하게 유지되어야 한다. 상호 구조상의 차이에 의하여 자외선의 조도 차이가 발생하거나 노광시의 차이가 발생할 경우 오히려 문제가 된다. In the multi-stage configuration of the exposure apparatus around the substrate, the performance between the exposure stages 100b and 200b should be maintained the same. When the difference in the illuminance of the ultraviolet rays due to the mutual structural difference or the difference in exposure occurs, it becomes a problem.
따라서 각 노광 스테이지(100b),(200b)와 가장 근접한 위치에 각 광원장치(100a),(200a)를 배치하며, 라이트 가이드(107),(207)를 동일한 길이로 제작하여 부착한다.Therefore, each light source device 100a, 200a is disposed at the position closest to each of the exposure stages 100b, 200b, and the light guides 107, 207 are manufactured and attached to the same length.
이때, 각 광원장치(100a),(200a)를 각 노광 스테이지(100b),(200b)에 가장 근접한 위치에 배치하므로 라이트 가이드(107),(207)의 길이를 짧게 할 수 있어, 각 노광 스테이지(100b),(200b)가 공간적으로 종래보다 적은 공간을 차지하게 할 수 있다.At this time, since each light source device 100a, 200a is disposed at the position closest to each of the exposure stages 100b, 200b, the length of the light guides 107, 207 can be shortened, and each exposure stage It is possible to make the spaces 100b and 200b occupy less space than before.
또한, 각 광원장치(100a),(200a)가 각 노광 스테이지(100b),(200b)에 가장 근접한 위치에 배치됨에 따라 조도가 세져 노광 시간을 단축할 수 있게 되며, 단시간에 노광이 가능하게 됨에 따라 각 광원장치(100a),(200a)의 수명이 연장될 수 있다.In addition, as the light source devices 100a and 200a are disposed at positions closest to the respective exposure stages 100b and 200b, the illuminance is increased and the exposure time can be shortened, so that the exposure can be performed in a short time. Accordingly, the lifespan of each light source device 100a or 200a can be extended.
또한, 종래에는 회전 스테이지(103),(203)의 도시하지 않은 스핀척과 회전 스테이지 구동모터(104),(204)의 사이에 기판 흡착용 진공라인을 구성하여 스핀척 상부에서 회전 스테이지 구동모터(104),(204) 최하단까지의 길이가 상당히 길어지며, 이때 진공라인 형성을 위한 기구물이 필요함에 따라 이들 기구물에 의해 많은 공간을 차지하게 되나(도 5a 참조), 본 발명에서는 회전 스테이지 구동모터(104),(204)의 중앙축에 진공라인이 형성된 것을 적용함에 따라 진공라인 형성을 위한 별도의 기구물이 필요 없어 진공라인 형성시 종래에 비해 공간을 축소할 수 있게 된다(도 5b 참조).Further, in the related art, a substrate suction vacuum line is formed between the spin chucks (not shown) of the rotary stages 103 and 203 and the rotary stage drive motors 104 and 204 to form the rotary stage drive motors on the spin chuck. 104, 204 The length to the bottom end is considerably longer, in which case a large amount of space is occupied by these instruments as tools for forming vacuum lines are required (see FIG. 5A). By applying the vacuum lines formed on the central axis of the 104, 204, a separate mechanism for forming the vacuum line is not necessary, so that the space can be reduced compared to the prior art when forming the vacuum line (see FIG. 5B).
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 주변 노광 장치를 트랙 시스템에 적용한 상태의 구성도로, 4개의 스핀 유니트에서 처리되는 기판의 주변 노광을 위한 노광 유니트를 상,하 다단으로 설치한 상태를 나타낸 것으로, 이와 같이 노광 유니트(100),(200)를 상,하 다단으로 설치함에 따라 각각의 노광 유니트(100),(200)에서 스핀 유니트와의 인터페이스를 행하는 인터페이스 유니트를 통해 스핀 유니트에서 처리되어온 기판의 주변 노광을 행할 수 있게 되어 트랙 시스템 내에서 기판 진행의 병목현상을 해소할 수 있게 된다.FIG. 6 is a block diagram illustrating a state in which a substrate peripheral exposure apparatus according to an embodiment of the present invention is applied to a track system, and a state in which an exposure unit for surrounding exposure of substrates processed by four spin units is installed in upper and lower stages. As shown in the drawings, the exposure units 100 and 200 are installed in multiple stages in the upper and lower stages, so that the respective exposure units 100 and 200 process the spin unit through an interface unit that interfaces with the spin unit. It is possible to perform peripheral exposure of the substrate which has been made, thereby eliminating the bottleneck of substrate progression in the track system.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 개념 구성도를, 도 8은 이의 상세 구성도를 도시한 것으로, 제1,제2 노광 유니트(500),(600)를 상,하로 적층하여 탑재하되, 상기 제1,제2 노광 유니트(500),(600)는 제1,제2 광원장치(500a),(600a)와 실제 기판의 주변 노광을 행하는 제1,제2 노광 스테이지(500b),(600b)가 상,하 적층되어 탑재되고, 이들을 모두 제어하는 겸용 콘트롤러(700)가 설치된다.7 is a conceptual diagram according to another embodiment of the present invention, Figure 8 is a detailed configuration diagram of the first, the second exposure unit 500, 600 is stacked up and down, but mounted The first and second exposure units 500 and 600 may include first and second exposure stages 500b for performing peripheral exposure of the first and second light source devices 500a and 600a and the actual substrate. The 600b is stacked up and down and mounted, and a combined controller 700 for controlling both of them is provided.
상기 겸용 콘트롤러(700)는 상기 제1 노광 유니트(500)에 탑재되거나 또는 제2 노광 유니트(600)에 탑재되거나 또는 별도의 장치에 설치될 수 있다.The combined controller 700 may be mounted on the first exposure unit 500, the second exposure unit 600, or may be installed in a separate device.
상기 제1,2 노광 스테이지(500b),(600b)는 상기 실시 예와 동일 구성 및 기능을 수행하도록 된 것으로, 이에 대한 상세한 설명은 약한다.The first and second exposure stages 500b and 600b are configured to perform the same configuration and function as the above embodiment, and a detailed description thereof is weak.
또한, 겸용 콘트롤러(700)는 상기 실시 예의 제1 및 제2 전용 콘트롤러(100c),(200c)의 기능을 겸할 수 있도록 된 것으로, 제1,제2 광원장치(500a),(600a)를 제어하는 광량제어, 셔터 구동부(506),(606)를 제어하는 셔터구동제어, 노즐 구동부(509),(609)를 제어하는 노즐구동제어, 회전 스테이지 구동모터(504),(604)를 제어하여 회전 스테이지(503),(603)를 제어하는 회전 스테이지 구동제어, 기판 에지 검출부(510),(610)를 제어하는 기판 에지검출 제어 등 제1,제2 노광 유니트(500),(600)의 기판 주변 노광을 위한 전반적인 제어를 행하도록 구성되며, 상기 실시 예와 마찬가지로 노광 유니트(500),(600)를 트랙 시스템내의 한정된 공간 내에 상,하로 적층하기 위해서 상기 겸용 콘트롤러(700)를 기존의 제어장치로 사용되던 산업용 컴퓨터를 대신하여 하나의 전용 콘트롤 보드인 전용 콘트롤러로 제작하며, 이 전용 콘트롤러 즉, 겸용 콘트롤러(700)는 도시하지는 않았지만, 상기 1,제2 광원장치(500a),(600a) 및 제1,제2 노광 스테이지(500b),(600b)를 제어하는 중앙제어장치와, 기판 주변 노광 프로세스를 진행하기 위한 프로그램이 저장된 프로그램 메모리와, 상기 중앙처리장치와 상기 제1,제2 광원장치(500a),(600a) 및 제1,제2 노광 스테이지(500b),(600b)의 각부와의 신호 인터페이스를 위한 제1,제2 인터페이스부를 탑재하게 된다In addition, the combined controller 700 is able to function as the first and second dedicated controllers 100c and 200c of the above embodiment, and controls the first and second light source devices 500a and 600a. Light quantity control, shutter drive control to control the shutter drive unit 506, 606, nozzle drive control to control the nozzle drive unit 509, 609, rotation stage drive motor 504, 604 by controlling The rotation stage driving control for controlling the rotation stages 503 and 603 and the substrate edge detection control for controlling the substrate edge detection unit 510 and 610, etc. of the first and second exposure units 500 and 600. It is configured to perform overall control for exposure around the substrate, and the existing controller 700 is conventionally controlled to stack the exposure units 500 and 600 up and down in a limited space in the track system as in the above-described embodiment. Dedicated cone, a dedicated control board instead of the industrial computer used as a device The dedicated controller, that is, the combined controller 700, is not shown, but the first and second light source devices 500a and 600a and the first and second exposure stages 500b and 600b are manufactured by rollers. A central controller for controlling the program, a program memory storing a program for performing a process of exposing a substrate periphery, the central processing unit and the first and second light source devices 500a, 600a, and the first and second exposure stages. The first and second interface units for signal interface with the units 500b and 600b are mounted.
그리고 겸용 콘트롤러(700)를 하나의 메인 콘트롤러(800)에서 제어하도록 함과 더불어 전원장치(900)에서 시스템 각부에 전원을 공급하도록 구성되며, 상기 메인 콘트롤러(800)는 상기 겸용 콘트롤러(700)에 기판 주변 노광 프로세스 진행에 필요한 프로그램을 제공함과 더불어 트랙 시스템내의 타부분과의 신호 전달을 행하도록 된다.The main controller 800 is configured to supply power to each system from the power supply unit 900, and to control the combined controller 700 from one main controller 800. The main controller 800 is connected to the combined controller 700. In addition to providing a program for the process of exposing the substrate around the exposure process, signal transfer with other parts of the track system is performed.
이러한 본 발명의 다른 실시 예의 기타 부분은 상기 실시 예와 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 약하며, 이를 상기 실시 예의 도 6과 같이, 트랙 시스템에 적용할 경우, 노광 유니트(500),(600)에서 각각 스핀 유니트에서 처리되어온 기판의 주변 노광을 행할 수 있게 되므로 트랙 시스템 내에서 기판 진행의 병목 현상을 해소할 수 있게 된다.Since other parts of the other embodiments of the present invention are the same as the above embodiment, the detailed description thereof is weak, and when applied to the track system as shown in FIG. 6 of the embodiment, the exposure units 500 and 600 respectively. Since the peripheral exposure of the substrate processed by the spin unit can be performed, the bottleneck of substrate progression in the track system can be eliminated.
이상의 본 발명은 상기 기술된 실시 예에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.The present invention is not limited to the above described embodiments, and various modifications and changes can be made by those skilled in the art, which are included in the spirit and scope of the present invention as defined in the appended claims.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 다음과 같은 효과를 갖게 된다.As described above, the present invention has the following effects.
첫째, 기판 주변 노광 유니트를 상,하 다단으로 구성함에 따라, 기판 주변 노광의 처리시간을 단축할 수 있어 결과적으로 공정처리시간을 단축할 수 있게 된다.First, as the substrate peripheral exposure unit is configured in multiple stages, the processing time of the substrate peripheral exposure can be shortened, and as a result, the processing time can be shortened.
둘째, 광원장치를 노광 스테이지에 가장 근접한 위치에 배치하므로 라이트 가이드의 길이를 짧게 할 수 있음과 더불어 회전 스테이지 구동모터의 중앙축에 진공라인을 형성하여 진공라인 형성을 위한 별도의 기구물이 필요 없게 됨에 따라 종래에 비해 노광 스테이지가 차지하는 공간을 축소할 수 있게 되어 노광 스테이지를 보다 컴팩트하게 구성할 수 있게 되며, 또한, 콘트롤러를 종래 산업용 컴퓨터를 채용하지 않고 전용 콘트롤러로 제작함에 따라 노광 유니트의 탑재 공간을 줄일 수 있어 결국, 트랙 시스템내의 한정된 공간내 노광 유니트를 상,하 다단으로 탑재가능토록 한다.Second, since the light source device is disposed at the position closest to the exposure stage, the length of the light guide can be shortened, and a vacuum line is formed on the central axis of the rotating stage driving motor, thereby eliminating the need for a separate mechanism for forming the vacuum line. As a result, the space occupied by the exposure stage can be reduced as compared with the conventional art, and the exposure stage can be configured more compactly. Also, since the controller is manufactured as a dedicated controller without employing a conventional industrial computer, the space for mounting the exposure unit can be reduced. It is possible to reduce the size, so that the exposure unit in a limited space in the track system can be mounted in multiple stages.
셋째, 광원장치가 노광 스테이지에 가장 근접한 위치에 배치됨에 따라 조도가 세져 노광 시간을 단축할 수 있게 되며, 단시간에 노광이 가능하게 됨에 따라 광원장치의 수명을 연장시킬 수 있게 된다.Third, as the light source device is disposed at the position closest to the exposure stage, the illuminance is increased to shorten the exposure time, and as the light can be exposed in a short time, the life of the light source device can be extended.
도 1은 종래의 기판 주변 노광 장치의 구성도.1 is a block diagram of a conventional substrate peripheral exposure apparatus.
도 2a 및 도 2b는 이상적인 노광형태 및 실제 노광형태를 나타낸 도.2A and 2B illustrate ideal and actual exposure modes.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 주변 노광 장치의 개념 구성도.3 is a conceptual diagram of a substrate peripheral exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 4는 도 3의 상세 구성도.4 is a detailed configuration diagram of FIG. 3.
도 5a 및 도 5b는 종래의 스핀 모터 어셈블리 및 본 발명에 적용되는 스핀 모터 어셈블리의 구조도.5A and 5B are structural diagrams of a conventional spin motor assembly and a spin motor assembly applied to the present invention.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 주변 노광 장치의 트랙 시스템에의 적용도.6 is an application diagram of a track system of a periphery substrate exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 기판 주변 노광 장치의 개념 구성도.7 is a conceptual diagram of a substrate peripheral exposure apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 8은 도 7의 상세 구성도.8 is a detailed configuration diagram of FIG. 7.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100,500 : 제1 노광 유니트 200,600 : 제2 노광 유니트100,500: first exposure unit 200,600: second exposure unit
100a,500a : 제1 광원장치 200a,600a : 제2 광원장치100a, 500a: first light source device 200a, 600a: second light source device
100b,500b : 제1 노광 스테이지 200b,600b : 제2 노광 스테이지100b, 500b: first exposure stage 200b, 600b: second exposure stage
100c,200c : 제1, 제2 전용 콘트롤러 700 : 겸용 콘트롤러100c, 200c: First and second dedicated controller 700: Combined controller
300,800 : 메인 콘트롤러 400,900 : 전원장치 300,800: Main controller 400,900: Power supply
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