KR100452113B1 - Micromirror device using cantilever - Google Patents

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KR100452113B1
KR100452113B1 KR10-2002-0009989A KR20020009989A KR100452113B1 KR 100452113 B1 KR100452113 B1 KR 100452113B1 KR 20020009989 A KR20020009989 A KR 20020009989A KR 100452113 B1 KR100452113 B1 KR 100452113B1
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Abstract

본 발명에 따른 마이크로미러 디바이스는, 어드레싱 회로가 구성되어 있는 기판; 상기 기판 중심을 기준으로 하여 서로 마주보도록 상기 기판 상에 형성되며 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되는 두개의 전극; 상기 기판 중심에 수직하게 형성되며 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되는 외팔보 지지대; 상기 외팔보 지지대에 의해 수평지지되며 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분을 중심으로 하여 점대칭되도록 양쪽으로 각각 연장되며 상기 전극 상부에서 그 연장이 멈추는 두개의 외팔보; 상기 외팔보의 각 끝단 상에 수직하게 형성된 미러 지지대; 및 상기 미러 지지대 상에 수평하게 놓여지는 미러; 를 구비하여, 상기 어드레싱 회로에 의해서 발생하는 상기 전극과 상기 외팔보 사이의 정전기력 또는 상기 전극과 상기 미러 사이의 정전기력에 의해 상기 외팔보가 변형되도록 함으로써 상기 미러를 회전시켜 상기 미러에 의한 빛의 반사경로를 바꾸는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 종래에 비하여 변형될 수 있는 외팔보의 길이가 매우 길게 되고 다양한 형태의 스프링 구조를 적용하여 낮은 전압에서 더 많이 휘게 할 수 있다.A micromirror device according to the present invention comprises: a substrate on which an addressing circuit is configured; Two electrodes formed on the substrate to face each other with respect to the center of the substrate and electrically connected to the addressing circuit; A cantilever support formed perpendicular to the center of the substrate and electrically connected to the addressing circuit; Two cantilever beams which are horizontally supported by the cantilever support and each extend in both sides to be point symmetrical with respect to the part where the cantilever support meets; Mirror supports vertically formed on each end of the cantilever beam; A mirror placed horizontally on the mirror support; And the cantilever beam is deformed by the electrostatic force between the electrode and the cantilever generated by the addressing circuit or by the electrostatic force between the electrode and the mirror to rotate the mirror to reflect the light path by the mirror. It is characterized by changing. According to the present invention, the length of the cantilever that can be deformed compared to the prior art is very long, and various types of spring structures can be applied to bend more at low voltages.

Description

외팔보를 이용하는 마이크로미러 디바이스 {Micromirror device using cantilever}Micromirror device using cantilever}

본 발명은 마이크로미러 디바이스에 관한 것으로서, 특히 정전기력으로 미러를 회전 구동하여 입사되는 빛의 반사각도를 조절하여 빛의 진행 경로를 바꾸는 마이크로미러 디바이스에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micromirror device, and more particularly, to a micromirror device that changes a light propagation path by adjusting a reflection angle of incident light by rotating a mirror by electrostatic force.

대표적인 화상 표시용 마이크로미러 디바이스는 어드레싱 회로(addressing circuitry)가 제작된 기판 위에 2차원적으로 배열되어 정전기력에 의해 구동되어 입사하는 빛을 소정 각도로 반사시키는 작용을 한다. 이러한 마이크로미러 디바이스는 광 정보 처리(optical information processing), 투사 표시기(projection displays), 모니터(video and graphics monitors), 텔레비젼(television) 등의 화상 표시 장치, 복사기 등의 광 주사 장치에 활용할 수 있다.Representative image display micromirror devices are arranged two-dimensionally on a substrate on which addressing circuitry is fabricated, and are driven by electrostatic force to reflect incident light at a predetermined angle. Such a micromirror device can be utilized for optical information processing, projection displays, video and graphics monitors, image display devices such as televisions, and optical scanning devices such as copiers.

도 1 내지 도 3은 1996년 7월 9일자로 혼벡(Hornbeck)에게 부여된 미국특허번호 제5,535,047호에 개시된 종래의 화상표시용 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면들이다.1 to 3 are diagrams for explaining a conventional image display micromirror device disclosed in US Patent No. 5,535,047 issued to Hornbeck on July 9, 1996.

도 1은 마이크로미러 디바이스의 개략적인 분해 사시도이다. 도 1을 참조하면, 어드레싱 회로(미도시) 위에 요크 어드레스 전극(10)과 랜딩 사이트(landing site; 11)가 형성된 층이 있으며, 그 위에 어드레스 지지대(12)에 의해 지지되며 미러 어드레스 전극(13), 비틀림 힌지(torsion hinge; 14), 미러(17)와 직접 연결되는 요크(yoke; 15)로 구성된 층이 있다. 그 위에는 역시 미러 지지대(16)에 의해 요크(15)와 연결되는 미러(17)가 놓이게 된다. 이렇게 종래의 마이크로미러 디바이스는 미러와 어드레싱 회로를 포함하여 4개의 층으로 구성되며, 미러 어드레스 전극 층을 지탱하는 어드레스 지지대(12)와, 미러를 지탱하는 미러 지지대(16), 그리고 미러(17)와 연결된 요크(15), 그리고 비틀림 힌지(14)가 놓이며 미러(17)와의 사이에 전압을 인가하기 위한 요크 어드레스 전극(10) 1개, 미러(17)를 구동하기 위한 미러 어드레스 전극(12) 2개로 구성된다.1 is a schematic exploded perspective view of a micromirror device. Referring to FIG. 1, there is a layer having a yoke address electrode 10 and a landing site 11 formed on an addressing circuit (not shown), supported by an address support 12 thereon, and a mirror address electrode 13. ), A torsion hinge 14, and a yoke 15 directly connected to the mirror 17. On top of that lies a mirror 17 which is also connected to the yoke 15 by a mirror support 16. The conventional micromirror device is composed of four layers including a mirror and an addressing circuit, and includes an address support 12 supporting a mirror address electrode layer, a mirror support 16 supporting a mirror, and a mirror 17. And yoke 15 connected to the torsional hinge 14 and one yoke address electrode 10 for applying a voltage between the mirror 17 and the mirror address electrode 12 for driving the mirror 17. ) It consists of two.

도 2는 도 1의 마이크로 디바이스를 힌지(14) 방향으로 본 단면도이다. 도 2를 참조하면, 미러(17)는 미러 지지대(16)에 의해 요크(15)와 연결되어 있고, 요크(15) 밑에 힌지(14)가 설치되어 회전축의 역할을 한다. 요크 어드레스 전극(10)은 어드레스 지지대(12)와 연결되는 한편, 어드레싱 회로를 형성하도록 공정처리된 후 보호용 산화막(8)에 의해 부분 피복된 기판(6)과도 연결된다.2 is a cross-sectional view of the micro device of FIG. 1 viewed in the hinge 14 direction. 2, the mirror 17 is connected to the yoke 15 by a mirror support 16, and a hinge 14 is installed below the yoke 15 to serve as a rotating shaft. The yoke address electrode 10 is connected to the address support 12, and is also connected to the substrate 6 partially covered by the protective oxide film 8 after being processed to form an addressing circuit.

도 3은 미러(17)와 미러 어드레스 전극(13) 사이에 전압이 걸릴 때 미러(17)가 회전하는 모습을 힌지(14)의 수직방향에서 본 단면도이다. 여기서는 기술 내용의 설명과 무관한 구성요소들의 참조번호는 생략하였다. 미러(17)와 한쪽 전극(10) 사이에 전위차가 발생하게 되면 미러(17)는 정전기력에 의해 도 3a와 같이 한 방향으로 회전하게 되며 소정 각도로 회전된 후 랜딩 사이트(11)에 부딪혀 더 이상 회전할 수 없게 되어 멈춘다. 한편, 다른 쪽 전극(10)과 미러(17) 사이에 전압이 걸리게 되면 도 3b와 같이 다른 방향으로 회전된다. 미러(17)는 이렇게 두 가지의 안정된 상태를 가지며 미러의 두 가지 회전 상태에 따라 미러에 입사되는 빛이 반사되는 각도가 달라지게 된다. 따라서 일정한 방향에서 입사되는 빛을 미러(17)로 진행경로를 바꾸어줌으로써 빛이 렌즈(미도시) 및 스크린(미도시)에 입사되게 하거나 벗어나게 할 수 있다.3 is a cross-sectional view seen from the vertical direction of the hinge 14 in which the mirror 17 rotates when a voltage is applied between the mirror 17 and the mirror address electrode 13. Reference numerals of components that are not related to the description of the technical contents are omitted here. When a potential difference occurs between the mirror 17 and one electrode 10, the mirror 17 is rotated in one direction as shown in FIG. 3A by an electrostatic force, and after being rotated at a predetermined angle, the mirror 17 is no longer hit by the landing site 11. I can't turn and stop. On the other hand, when a voltage is applied between the other electrode 10 and the mirror 17, it is rotated in another direction as shown in FIG. The mirror 17 has two stable states as described above, and the angle at which light incident on the mirror is reflected varies depending on two rotation states of the mirror. Therefore, by changing the traveling path of the light incident from a certain direction to the mirror 17, the light can be incident on or off the lens (not shown) and the screen (not shown).

상기한 바와 같이, 종래의 마이크로미러 디바이스는 미러(17)와 요크(15), 힌지(14), 각각의 지지대(12, 16)로 구성되어 그 구조가 복잡하며 제조 시 여러 공정을 거쳐야 하는 단점이 있다. 따라서 이러한 복잡한 구조로 인하여 미러(17)를 일정하게 구동하게 만드는 데 어려움이 있고 제조 공정이 어렵고 제조 단가가 비싸게 된다.As described above, the conventional micromirror device is composed of a mirror 17 and the yoke 15, the hinge 14, the support 12, 16, each of which is complicated in structure and has to go through various processes in manufacturing. There is this. Therefore, due to such a complicated structure, it is difficult to constantly drive the mirror 17, the manufacturing process is difficult and the manufacturing cost is expensive.

또한, 종래의 마이크로미러 디바이스에서는 미러 어드레스 전극(13)에 적당한 전압을 주어 미러(17)가 언제나 좌우 양 방향으로 회전되어 힌지(14)가 뒤틀려 있는 상태에 있게 된다. 한 쌍의 얇은 힌지(14)에 의해 이러한 동작을 하게 되어 힌지(14)의 견고함이 디바이스의 특성을 결정하는 주요한 요인이 된다.In addition, in the conventional micromirror device, the mirror address electrode 13 is provided with an appropriate voltage so that the mirror 17 is always rotated in both the left and right directions so that the hinge 14 is in a twisted state. This operation is done by a pair of thin hinges 14 so that the firmness of the hinges 14 is a major factor in determining the characteristics of the device.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 외팔보(cantilever)를 이용한 간단한 방법으로 미러의 회전 각도를 바꾸는 마이크로미러 디바이스를 제공하는 데 있다.Accordingly, a technical object of the present invention is to provide a micromirror device for changing the rotation angle of a mirror by a simple method using a cantilever.

도 1 내지 도 3은 종래의 화상표시용 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면들;1 to 3 are diagrams for explaining a conventional micromirror device for image display;

도 4 내지 도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면들;4 to 8 are views for explaining a micromirror device according to a first embodiment of the present invention;

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면;9 is a view for explaining a micromirror device according to a second embodiment of the present invention;

도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면;10 is a view for explaining a micromirror device according to a third embodiment of the present invention;

도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면;11 is a view for explaining a micromirror device according to a fourth embodiment of the present invention;

도 12는 제2 실시예 및 제4 실시예의 스프링 구조를 좀 더 상세히 설명하기 위한 도면이다.12 is a view for explaining the spring structure of the second embodiment and the fourth embodiment in more detail.

< 도면의 주요 부분에 대한 참조번호의 설명 ><Description of Reference Numbers for Main Parts of Drawings>

20: 미러 21: 기판20: mirror 21: substrate

22. 23, 52, 53: 전극 24: 외팔보 지지대22. 23, 52, 53: electrode 24: cantilever support

26, 27: 미러 지지대 37: 렌즈26, 27: mirror support 37: lens

31, 32, 31', 32', 41, 42, 41', 42': 외팔보31, 32, 31 ', 32', 41, 42, 41 ', 42': cantilever

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 마이크로미러 디바이스는: 어드레싱 회로가 구성되어 있는 기판; 상기 기판 중심을 기준으로 하여 서로 마주보도록 상기 기판 상에 형성되며 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되는 두개의 전극; 상기 기판 중심에 수직하게 형성되며 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되는 외팔보 지지대; 상기 외팔보 지지대에 의해 수평지지되며 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분을 중심으로 하여 점대칭되도록 양쪽으로 각각 연장되며 상기 전극 상부에서 그 연장이 멈추되, 소정부분이 스프링 구조를 갖고, 끝단은 자신의 다른 부분보다 더 넓은 면적을 갖도록 2차원적으로 확장된 판형태를 갖는 두개의 외팔보; 상기 외팔보의 각 끝단 상에 수직하게 형성된 미러 지지대; 및 상기 미러 지지대 상에 수평하게 놓여지는 미러; 를 구비하여, 상기 어드레싱 회로에 의해서 발생하는 상기 전극과 상기 외팔보 사이의 정전기력 또는 상기 전극과 상기 미러 사이의 정전기력에 의해 상기 외팔보가 변형되도록 함으로써 상기 미러를 회전시켜 상기 미러에 의한 빛의 반사경로를 바꾸는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a micromirror device comprising: a substrate on which an addressing circuit is configured; Two electrodes formed on the substrate to face each other with respect to the center of the substrate and electrically connected to the addressing circuit; A cantilever support formed perpendicular to the center of the substrate and electrically connected to the addressing circuit; It is horizontally supported by the cantilever support and extends to both sides so as to be point symmetrical with respect to the part where it meets the cantilever support, and the extension is stopped at the upper portion of the electrode, and a predetermined portion has a spring structure, and the end portion has a spring structure. Two cantilever beams having a plate shape extended two-dimensionally to have a larger area; Mirror supports vertically formed on each end of the cantilever beam; A mirror placed horizontally on the mirror support; And the cantilever beam is deformed by the electrostatic force between the electrode and the cantilever generated by the addressing circuit or by the electrostatic force between the electrode and the mirror to rotate the mirror to reflect the light path by the mirror. It is characterized by changing.

상기 외팔보의 재질로는 도펀트가 도핑된 다결정실리콘 또는 금속이 사용될 수 있다. 이는 전극과 외팔보 사이에 정전기력을 가하기 위해서는 외팔보가 전도성 물질이 되어야 하기 때문이다. 그리고 미러 역시 도핑된 다결정 실리콘 또는 금속으로 이루어진 것일 수 있으며, 미러의 반사율을 높이기 위해 반사율이 높은 얇은 금속층, 예컨데 알루미늄, 금, 은 등이 미러 표면에 한 층 또는 이중, 삼중으로코팅될 수 있다As the material of the cantilever, polycrystalline silicon or a metal doped with a dopant may be used. This is because the cantilever must be a conductive material in order to apply an electrostatic force between the electrode and the cantilever. The mirror may also be made of doped polycrystalline silicon or metal, and a thin metal layer having high reflectivity, such as aluminum, gold, or silver, may be coated on the mirror surface in one layer, double, or triple to increase the reflectivity of the mirror.

상기 스프링 구조는 수평방향과 수직방향으로 번갈아 가면서 꼬인 형태일 수도 있고, 수직방향으로 꼬인 형태일 수도 있다.The spring structure may be twisted alternately in the horizontal and vertical directions, or may be twisted in the vertical direction.

한편, 상기 기판은 사각형 모양을 하고; 상기 전극은 상기 기판의 마주보는 두개의 꼭지점 부위에 삼각형 모양으로 설치되되 그 꼭지점과 변이 상기 기판의 꼭지점과 변에 일치되도록 설치되며; 상기 외팔보 각각은 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분에서 전극이 형성되어 있지 않은 상기 기판의 꼭지점 상부까지 직선으로 연장된 후에 상기 전극이 있는 방향으로 절곡되어 상기 전극 상부까지 연장되고 끝단은 상기 전극과 동일한 모양과 크기의 삼각형 형태를 하는 것일 수 있다.On the other hand, the substrate has a rectangular shape; The electrodes are installed in a triangle shape at two opposite vertex portions of the substrate, the vertices and sides of which are coincident with the vertices and sides of the substrate; Each of the cantilever beams extends linearly to the top of the vertex of the substrate where no electrode is formed at a portion where the cantilever support meets, and then is bent in the direction in which the electrodes are extended to the top of the electrode, and the ends are the same as those of the electrode. It may be in the form of a triangle of size.

또 한편, 상기 기판은 사각형 모양을 하고; 상기 전극은 상기 기판의 마주보는 두개의 꼭지점 부위에 사각형 모양으로 설치되되 그 꼭지점과 변이 상기 기판의 꼭지점과 변에 일치되도록 설치되며; 상기 외팔보 각각은 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분에서 상기 기판이 변 상부까지 직선으로 연장된 후에 전극이 형성되어 있지 않은 상기 기판의 꼭지점 상부까지 절곡된 후에 전극이 형성된 기판의 꼭지점 방향으로 다시 절곡되어 상기 전극 상부까지 연장되고 끝단은 상기 전극과 동일한 모양과 크기의 사각형 형태를 하는 것일 수도 있다.On the other hand, the substrate has a rectangular shape; The electrode is installed in a square shape at two opposite vertex portions of the substrate, the vertices and sides of which are coincident with the vertices and sides of the substrate; Each of the cantilever beams is bent back to the upper edge of the substrate where the electrode is not formed after the substrate extends in a straight line to the upper side at the portion meeting with the cantilever support, and then bent back toward the vertex direction of the substrate on which the electrode is formed. Extending to the top and the end may be in the form of a square of the same shape and size as the electrode.

이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 도면에 있어서, 동일한 참조번호는 동일 기능을 수행하는 구성요소를 나타내며 반복적인 설명은 생략한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. In the drawings, like reference numerals denote components that perform the same function, and repetitive description thereof will be omitted.

[실시예 1]Example 1

도 4 내지 도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면들이다.4 to 8 are diagrams for describing a micromirror device according to a first embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 마이크로미러 디바이스의 개략적인 분해 사시도이고, 도 5는 외팔보(31, 32)의 평면도이며, 도 6은 도 5의 a-a' 방향에서 바라본 도 4의 측면도이다.4 is a schematic exploded perspective view of the micromirror device according to the present invention, FIG. 5 is a plan view of the cantilever 31 and 32, and FIG. 6 is a side view of FIG. 4 seen from the a-a 'direction of FIG.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 사각형 모양의 기판(21)에는 어드레싱 회로(미도시)가 형성되어 있으며, 전극(22, 23)은 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되도록 기판(21) 상에 형성된다. 전극(22, 23)은 기판(21)의 중심을 기준으로 하여 서로 마주보도록 기판(21)의 마주보는 두개의 꼭지점 부위에 형성된다. 전극(22, 23)은 삼각형 모양을 하며 그 꼭지점과 변은 기판(21)의 꼭지점과 변에 일치되도록 설치된다.4 to 6, an addressing circuit (not shown) is formed on a rectangular substrate 21, and electrodes 22 and 23 are formed on the substrate 21 to be electrically connected to the addressing circuit. do. The electrodes 22 and 23 are formed at two vertex portions facing the substrate 21 so as to face each other with respect to the center of the substrate 21. The electrodes 22 and 23 have a triangular shape and their vertices and sides are installed to coincide with the vertices and sides of the substrate 21.

기판(21)의 중심에는 외팔보 지지대(24)가 수직하게 설치된다. 외팔보 지지대(24)에 연결되는 외팔보(31, 32)에 전압이 인가될 수 있도록 외팔보 지지대(24)는 전도성 물질로 구성되어 기판(21)의 어드레스 회로와 전기적으로 연결된다.The cantilever support 24 is vertically installed at the center of the substrate 21. The cantilever support 24 is made of a conductive material and electrically connected to the address circuit of the substrate 21 so that voltage can be applied to the cantilever beams 31 and 32 connected to the cantilever support 24.

외팔보(31, 32)는 외팔보 지지대(24)에 의해 수평지지되는데 외팔보지지대(24)와 만나는 부분을 중심으로 하여 점대칭되도록 양쪽으로 각각 연장되어 전극(22, 23) 상부에서 그 연장이 멈춘다. 두개의 외팔보(31, 32)는 일체형으로 이루어진다.The cantilever beams 31 and 32 are horizontally supported by the cantilever beam 24 and extend in both sides to be point symmetrical with respect to the portion where the cantilever beam 24 meets. The two cantilever beams 31 and 32 are formed in one piece.

외팔보(31, 32) 각각은 세개의 부분으로 구분된다. 제1부분(31a, 32a)은 외팔보 지지대(24)와 만나는 부분에서 전극(22, 23)이 형성되어 있지 않은 기판(21)의 꼭지점 상부까지 직선으로 연장된 부분이고, 제2부분(31b, 32b)은 제1부분(31a, 32a)의 끝단에서 전극(22, 23)이 있는 방향으로 절곡된 부분이다. 그리고, 제3부분(31c, 32c)은 제2부분(31b, 32b)의 끝단에 연결되어 전극(22, 23) 상부에 위치하며 전극(22, 23)과 동일한 모양과 크기의 삼각형 형태를 갖는 부분이다.Each cantilever 31, 32 is divided into three parts. The first portions 31a and 32a extend in a straight line to the upper edge of the substrate 21 where the electrodes 22 and 23 are not formed at the portion where the cantilever support 24 meets the second portion 31b, 32b) is a portion bent in the direction in which the electrodes 22, 23 are located at the ends of the first portions 31a, 32a. The third portions 31c and 32c are connected to the ends of the second portions 31b and 32b and are positioned on the electrodes 22 and 23 and have a triangular shape having the same shape and size as the electrodes 22 and 23. Part.

외팔보의 제3부분(31c, 32c) 상에는 미러 지지대(26, 27)가 수직하게 설치되며, 미러(20)는 미러 지지대(26, 27) 상에 수평하게 놓여진다.Mirror supports 26 and 27 are vertically installed on the third portions 31c and 32c of the cantilever beam, and the mirror 20 is horizontally placed on the mirror supports 26 and 27.

도 7은 제1 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스의 구동상태를 설명하기 위한 도면이다. 도 7을 참조하면, 오른쪽 전극(22)과 이에 대응하는 외팔보(32) 사이에 전압차가 발생할 경우에 끌어당기는 정전기력에 의하여 외팔보(32)가 휘게 되어 미러(20)가 오른쪽으로 회전하게 된다. 따라서, 미러(20)에서 반사되는 빛은 렌즈(37)를 통과하지 않아 어두운 상태가 된다. 왼쪽 전극(23)과 이에 대응하는 외팔보(31) 사이에 전압차가 발생할 경우 역시 정전기력에 의해 외팔보(31)가 휘게 되어 미러(20)는 왼쪽으로 회전된다. 따라서, 미러(20)에서 반사되는 빛은 렌즈(37)를 통과하게 되어 밝은 상태가 된다. 이와 같이 본 발명에 따른 마이크로미러 디바이스를 이용할 경우 어두운 상태와 밝은 상태는 미러(20)의 회전에 의하여 결정된다.7 is a view for explaining a driving state of the micromirror device according to the first embodiment. Referring to FIG. 7, when the voltage difference occurs between the right electrode 22 and the corresponding cantilever 32, the cantilever 32 is bent by the electrostatic force that is attracted so that the mirror 20 rotates to the right. Therefore, the light reflected by the mirror 20 does not pass through the lens 37 and becomes dark. When a voltage difference occurs between the left electrode 23 and the corresponding cantilever 31, the cantilever 31 is also bent by the electrostatic force, and the mirror 20 is rotated to the left. Therefore, the light reflected by the mirror 20 passes through the lens 37 and becomes bright. As such, when using the micromirror device according to the present invention, the dark state and the bright state are determined by the rotation of the mirror 20.

이는 본 발명에 따른 마이크로미러 디바이스가 대표적으로 화상 표시용으로 이용될 경우에 적합하며, 전극과의 전압 차에 의해 외팔보의 휘어지는 정도가 결정되어 어드레스 전압에 의해 미러의 회전 각도를 연속적으로 조절할 수 있게 하면 미러의 회전을 이용하는 광 스위칭 등의 분야에도 사용될 수 있다.This is suitable when the micromirror device according to the present invention is typically used for image display, and the degree of deflection of the cantilever can be determined by the voltage difference with the electrode so that the rotation angle of the mirror can be continuously adjusted by the address voltage. The lower surface can also be used in fields such as optical switching using the rotation of the mirror.

구동층으로서의 역할을 하는 외팔보(31, 32)와 전극(22, 23) 사이에는 정전기력이 발생해야 하므로 외팔보(31, 32)는 탄력성이 있으면서 전도성이 있는 물질로 만들어야 한다. 이러한 물질로서 도펀트가 첨가된 다결정 실리콘 또는 금속을 사용할 수 있다. 물론, 미러(20)를 전도성 물질로 만들어 미러(20)와 전극(22, 23) 사이의 정전기력에 의하여 외팔보(31, 32)를 휘어지게 하여도 된다. 이 경우 미러(20)는 전체적으로 금속으로 만들 수도 있지만, 다결정 실리콘의 표면에 금속을 입혀서 만들어도 좋다. 이때의 금속 코팅은 반사율이 높도록 이루어지는 것이 좋다.Since the electrostatic force should be generated between the cantilever 31 and 32 serving as the driving layer and the electrodes 22 and 23, the cantilever 31 and 32 should be made of a flexible and conductive material. As such a material, polycrystalline silicon or metal to which a dopant is added can be used. Of course, the cantilever beams 31 and 32 may be bent by the electrostatic force between the mirror 20 and the electrodes 22 and 23 by making the mirror 20 a conductive material. In this case, the mirror 20 may be made entirely of metal, or may be made of metal on the surface of polycrystalline silicon. At this time, the metal coating is preferably made so that the reflectance is high.

외팔보의 제3부분(31c, 32c)을 다른 부분보다 더 넓은 면적을 갖도록 2차원적으로 확장된 판형태로 하는 이유는 정전기력이 더 강하게 작용하도록 하기 위해서이다.The reason for making the third portions 31c and 32c of the cantilever into a plate shape extended two-dimensionally to have a larger area than other portions is to allow the electrostatic force to work more strongly.

도 8은 제1 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 이용하여 2차원 어레이를 만든 경우를 나타낸 도면이다. 이렇게 구성하면 하나의 마이크로미러 디바이스가 화상표시 시스템에서 하나의 화소에 해당하는 역할을 하게 되어 프로젝션 디스플레이로 응용할 수 있게 된다. 이러한 마이크로미러 디바이스를 사용하여 화상표시 시스템을 구성하면, 기존의 액정 디스플레이 소자에 비해 값싸고 고정세하며 빛의 이용 효율이 높아지게 된다.FIG. 8 is a diagram illustrating a case where a two-dimensional array is manufactured using the micromirror device according to the first embodiment. In this configuration, one micromirror device may serve as one pixel in an image display system, and thus may be applied as a projection display. When the image display system is configured using such a micromirror device, it is inexpensive, high definition, and light utilization efficiency is higher than that of a conventional liquid crystal display device.

[실시예 2]Example 2

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면이다. 도 9를 참조하면, 외팔보의 제2부분(31b', 32b')이 스프링 구조를 하는 것이 제1 실시예와 다르다. 이와 같은 구성에 의하면, 제2부분(31b', 32b')이 실시예 1의 경우보다 실질적으로 더 길기 때문에 낮은 어드레스 전압에서 더 큰 변위의 구동을 할 수 있게 된다.9 is a view for explaining a micromirror device according to a second embodiment of the present invention. 9, it is different from the first embodiment that the second portions 31b 'and 32b' of the cantilever have a spring structure. According to such a configuration, since the second portions 31b 'and 32b' are substantially longer than in the case of the first embodiment, a larger displacement can be driven at a lower address voltage.

[실시예 3]Example 3

도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면이다. 도 10을 참조하면, 전극(52, 53)은 꼭지점과 변이 기판(21)의 꼭지점과 변에 일치되도록 사각형 모양을 하며, 외팔보(41, 42) 각각은 4개의 부분으로 구분되는 것이 제1 실시예와 다르다.10 is a view for explaining a micromirror device according to a third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 10, the electrodes 52 and 53 have a quadrangular shape so as to correspond to the vertices and sides of the vertex and sides of the substrate 21, and the cantilever 41 and 42 are each divided into four parts. It is different from the example.

제1부분(41a, 42a)은 외팔보 지지대(24)와 만나는 부분에서 기판(21)의 변 상부까지 직선으로 연장된 부분이고, 제2부분(41b, 42b)은 제1부분(41a, 42a)의 끝단에서 전극(52, 53)이 형성되어 있지 않은 기판의 꼭지점 상부까지 절곡된 부분이고, 제3부분(41c, 42c)은 제2부분(41b, 42b)의 끝단에서 전극(52, 53)이 있는 방향으로 절곡된 부분이다. 그리고, 제4부분(41d, 42d)은 제3부분(41c, 42c)의 끝단에연결되어 전극(52, 53) 상부에 위치하며 전극(52, 53)과 동일한 모양과 크기의 사각형 형태를 갖는 부분이다.The first portions 41a and 42a extend in a straight line from the portion that meets the cantilever support 24 to the upper side of the substrate 21, and the second portions 41b and 42b are the first portions 41a and 42a. Is a portion bent from the end of the substrate to the top of the vertex of the substrate is not formed, the third portion (41c, 42c) is the electrode (52, 53) at the end of the second portion (41b, 42b) This is the part bent in the direction. In addition, the fourth portions 41d and 42d are connected to the ends of the third portions 41c and 42c and are positioned on the electrodes 52 and 53, respectively, and have a quadrangular shape having the same shape and size as the electrodes 52 and 53. Part.

제3 실시예에 의하면 외팔보(41, 42)의 길이가 제1 실시예에 비하여 더 길어지므로 더 많은 구동을 할 수 있게 된다.According to the third embodiment, the length of the cantilever 41 and 42 is longer than that of the first embodiment, thereby enabling more driving.

[실시예 4]Example 4

도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 마이크로미러 디바이스를 설명하기 위한 도면이다. 도 11을 참조하면, 외팔보의 제3부분(41c', 42c')이 스프링 구조를 하는 것이 제3 실시예와 다르다. 이와 같은 구성에 의하면, 제3부분(41c', 42c')이 실시예 3의 경우보다 실질적으로 더 길기 때문에 더 큰 변위의 구동을 할 수 있게 된다.11 is a view for explaining a micromirror device according to a fourth embodiment of the present invention. Referring to Fig. 11, it is different from the third embodiment that the third portions 41c 'and 42c' of the cantilever have a spring structure. According to such a configuration, since the third portions 41c 'and 42c' are substantially longer than those of the third embodiment, a larger displacement can be driven.

도 12는 제2 실시예 및 제4 실시예에서 언급된 스프링 구조를 좀 더 상세히 설명하기 위한 도면이다. 도 12a는 외팔보가 직선 형태를 하는 경우이고, 도 12b는 수평방향으로만 꼬인 형태의 경우이고, 도 12c는 수직방향으로만 꼬인 형태의 경우이다. 그리고, 도 12d는 수평방향과 수직방향으로 번갈아 가면서 꼬인 형태의 경우이다.12 is a view for explaining the spring structure mentioned in the second and fourth embodiments in more detail. FIG. 12A illustrates a case in which the cantilever is straight, FIG. 12B illustrates a case where the cantilever is twisted only in the horizontal direction, and FIG. 12C illustrates a case where the cantilever is twisted only in the vertical direction. And, Figure 12d is a case of twisted form alternately in the horizontal direction and the vertical direction.

외팔보가 수평방향만으로 꼬인 형태일 때에는 외팔보를 설치하기에는 미러(20)의 아래 공간이 너무 비좁아서 바람직하지 못하고 설치한다 하더라도 미러(20) 바깥쪽으로 튀어나올 우려가 많다. 이 경우에는 옆의 소자와 간격이 멀어지는 치명적인 문제가 생길 수도 있다. 외팔보가 수직방향으로 꼬인 형태일 때에는미러(20) 밑의 남는 수직공간을 활용할 수 있기 때문에 훨씬 더 긴 외팔보를 얻을 수 있다. 이들을 조합하여 수평방향과 수직방향으로 번갈아 가면서 꼬인 형태로 만들어도 좋다.When the cantilever is twisted only in the horizontal direction, the space below the mirror 20 is too narrow to install the cantilever, which is not preferable, and even if installed, there is a possibility that it may protrude out of the mirror 20. In this case, there may be a fatal problem that is far from the next device. When the cantilever is twisted in the vertical direction, a much longer cantilever can be obtained because the remaining vertical space under the mirror 20 can be utilized. These may be combined to form a twisted shape alternately in the horizontal and vertical directions.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 디바이스가 종래에 비하여 구조가 매우 간단하고 대칭 형태이기 때문에 안정된 두개의 회전상태를 가진다. 또한 구동하는 힘이 작용되는 부분이 넓어서 작은 전압으로 구동할 수 있다. 그리고, 종래에 비하여 변형될 수 있는 외팔보의 길이가 매우 길게되고 다양한 형태의 스프링 구조를 적용하여 더 많이 휘게 할 수 있다. 특히, 수직방향으로 꼬인 스프링 구조를 외팔보에 적용하여 미러 밑의 남아 있는 수직공간을 활용하여 더 많이 구동되게 할 수 있다.As described above, according to the present invention, the device has two stable rotation states because the device is very simple in structure and symmetrical form. In addition, since the driving force is wide, it can be driven with a small voltage. In addition, compared to the prior art, the cantilever can be deformed to be very long and bend more by applying various types of spring structures. In particular, by applying a spring structure twisted in the vertical direction to the cantilever beam can be driven more by utilizing the remaining vertical space under the mirror.

본 발명은 상기 실시예들에만 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that many modifications are possible by those skilled in the art within the technical spirit of the present invention.

Claims (17)

어드레싱 회로가 구성되어 있는 기판;A substrate on which an addressing circuit is configured; 상기 기판 중심을 기준으로 하여 서로 마주보도록 상기 기판 상에 형성되며 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되는 두개의 전극;Two electrodes formed on the substrate to face each other with respect to the center of the substrate and electrically connected to the addressing circuit; 상기 기판 중심에 수직하게 형성되며 상기 어드레싱 회로와 전기적으로 연결되는 외팔보 지지대;A cantilever support formed perpendicular to the center of the substrate and electrically connected to the addressing circuit; 상기 외팔보 지지대에 의해 수평지지되며 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분을 중심으로 하여 점대칭되도록 양쪽으로 각각 연장되며 상기 전극 상부에서 그 연장이 멈추되, 소정부분이 스프링 구조를 갖고, 끝단은 자신의 다른 부분보다 더 넓은 면적을 갖도록 2차원적으로 확장된 판형태를 갖는 두개의 외팔보;It is horizontally supported by the cantilever support and extends to both sides so as to be point symmetrical with respect to the part where it meets the cantilever support, and the extension is stopped at the upper portion of the electrode, and a predetermined portion has a spring structure, and the end portion has a spring structure. Two cantilever beams having a plate shape extended two-dimensionally to have a larger area; 상기 외팔보의 각 끝단 상에 수직하게 형성된 미러 지지대; 및Mirror supports vertically formed on each end of the cantilever beam; And 상기 미러 지지대 상에 수평하게 놓여지는 미러;A mirror placed horizontally on the mirror support; 를 구비하여,With 상기 어드레싱 회로에 의해서 발생하는 상기 전극과 상기 외팔보 사이의 정전기력 또는 상기 전극과 상기 미러 사이의 정전기력에 의해 상기 외팔보가 변형되도록 함으로써 상기 미러를 회전시켜 상기 미러에 의한 빛의 반사경로를 바꾸는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The cantilever is deformed by the electrostatic force between the electrode and the cantilever generated by the addressing circuit or by the electrostatic force between the electrode and the mirror, thereby rotating the mirror to change a reflection path of light by the mirror. Micromirror device. 제1항에 있어서, 상기 외팔보는 도펀트가 도핑된 다결정실리콘 또는 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.2. The micromirror device according to claim 1, wherein the cantilever is made of polycrystalline silicon or metal doped with dopant. 제1항에 있어서, 상기 미러는 표면이 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 1, wherein the mirror is made of metal. 제3항에 있어서, 상기 미러는 내부가 다결정실리콘으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.4. The micromirror device according to claim 3, wherein the mirror is made of polysilicon inside. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 스프링 구조는 수평방향과 수직방향으로 번갈아 가면서 꼬인 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 1, wherein the spring structure has a twisted shape alternately in a horizontal direction and a vertical direction. 제1항에 있어서, 상기 스프링 구조는 수직방향으로 꼬인 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 1, wherein the spring structure is twisted in a vertical direction. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 전극과 상기 외팔보 끝단의 모양과 크기가 동일한 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 1, wherein the electrode and the cantilever tip have the same shape and size. 제1항에 있어서, 상기 기판은 사각형 모양을 하고; 상기 전극은 상기 기판의 마주보는 두개의 꼭지점 부위에 삼각형 모양으로 설치되되 그 꼭지점과 변이 상기 기판의 꼭지점과 변에 일치되도록 설치되며; 상기 외팔보 각각은 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분에서 전극이 형성되어 있지 않은 상기 기판의 꼭지점 상부까지 직선으로 연장된 후에 상기 전극이 있는 방향으로 절곡되어 상기 전극 상부까지 연장되고 끝단은 상기 전극과 동일한 모양과 크기의 삼각형 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The method of claim 1, wherein the substrate has a rectangular shape; The electrodes are installed in a triangle shape at two opposite vertex portions of the substrate, the vertices and sides of which are coincident with the vertices and sides of the substrate; Each of the cantilever beams extends linearly to the top of the vertex of the substrate where no electrode is formed at a portion where the cantilever support meets, and then is bent in the direction in which the electrodes are extended to the top of the electrode, and the ends are the same as those of the electrode. Micromirror device characterized in that the triangular shape of size. 제10항에 있어서, 전극이 형성되어 있지 않은 상기 기판의 꼭지점 상부에서 상기 전극이 있는 방향으로 절곡된 상기 외팔보 부분이 스프링 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 10, wherein the cantilever portion bent in a direction in which the electrode is located above the vertex of the substrate on which the electrode is not formed has a spring structure. 제11항에 있어서, 상기 스프링 구조는 수평방향과 수직방향으로 번갈아 가면서 꼬인 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.12. The micromirror device according to claim 11, wherein the spring structure is twisted alternately in a horizontal direction and a vertical direction. 제11항에 있어서, 상기 스프링 구조는 수직방향으로 꼬인 형태를 하는 것을특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 11, wherein the spring structure is twisted in a vertical direction. 제1항에 있어서, 상기 기판은 사각형 모양을 하고; 상기 전극은 상기 기판의 마주보는 두개의 꼭지점 부위에 사각형 모양으로 설치되되 그 꼭지점과 변이 상기 기판의 꼭지점과 변에 일치되도록 설치되며; 상기 외팔보 각각은 상기 외팔보 지지대와 만나는 부분에서 상기 기판이 변 상부까지 직선으로 연장된 후에 전극이 형성되어 있지 않은 상기 기판의 꼭지점 상부까지 절곡된 후에 전극이 형성된 기판의 꼭지점 방향으로 다시 절곡되어 상기 전극 상부까지 연장되고 끝단은 상기 전극과 동일한 모양과 크기의 사각형 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The method of claim 1, wherein the substrate has a rectangular shape; The electrode is installed in a square shape at two opposite vertex portions of the substrate, the vertices and sides of which are coincident with the vertices and sides of the substrate; Each of the cantilever beams is bent back to the upper edge of the substrate where the electrode is not formed after the substrate extends in a straight line to the upper side at the portion meeting with the cantilever support, and then bent back toward the vertex direction of the substrate on which the electrode is formed. Micromirror device, characterized in that extending to the top and the end is in the form of a square of the same shape and size as the electrode. 제14항에 있어서, 전극이 형성되어 있지 않은 상기 기판의 꼭지점 상부에서 전극이 형성된 상기 기판의 꼭지점 방향으로 절곡된 상기 외팔보 부분이 스프링 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.15. The micromirror device according to claim 14, wherein the cantilever portion bent in a vertex direction of the substrate on which the electrode is formed on the vertex of the substrate on which the electrode is not formed has a spring structure. 제14항에 있어서, 상기 스프링 구조는 수평방향과 수직방향으로 번갈아 가면서 꼬인 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.15. The micromirror device according to claim 14, wherein the spring structure is twisted alternately in a horizontal direction and a vertical direction. 제14항에 있어서, 상기 스프링 구조는 수직방향으로 꼬인 형태를 하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 디바이스.The micromirror device according to claim 14, wherein the spring structure is twisted in a vertical direction.
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