KR100213110B1 - Thin film heater and its manufaturing method - Google Patents

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Abstract

단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질 특히, TaAl, Ni-Cr, Sn02, HfB2, Ta 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 일정한 패턴 분포를 가지도록 유리 기판 상에 박막 코팅된 다수의 단위 발열층과, 그 단위 발열층을 상호 연결하여 전류통로가 형성되도록 기판에 코팅된 전극층과, 발열층 및 전극층을 보호하기 위해 형성된 보호막을 포함하는 박막형 발열 히터와, 건식코팅법에 의해 그 박막형 발열 히터를 제조하는 방법이 개시된다.A material having excellent electrical resistance to a unit area, in particular, a plurality of unit heat generating layers coated with a thin film on a glass substrate such that any one selected from TaAl, Ni-Cr, Sn0 2 , HfB 2 and Ta has a uniform pattern distribution. And a thin film type heating heater comprising an electrode layer coated on a substrate to form a current path by interconnecting the unit heating layers, a heating layer and a protective film formed to protect the electrode layer, and the thin film heating heater by a dry coating method. A method of making is disclosed.

Description

박막형 발열 히터 및 그 제조방법Thin film type heating heater and its manufacturing method

본 발명은 열탕식 가습기, 순간온수기 등의 히터로 이용될 수 있는 박막형 발열 히터 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a thin-film type heating heater that can be used as a heater, such as a hot water humidifier, instantaneous water heater, and a manufacturing method thereof.

열탕식 가습기는 수조의 물을 히터로 가열하여 증발된 수증기를 송풍기에 의해 분무하도록 되어 있으며, 통상 히터의 발열량을 제어함으로써 분무되는 수증기의 양이 제어된다. 히터의 발열량 제어는 히터의 접점을 변화시켜 저항을 다단계로 변화시켜주거나, 히터에 흐르는 전류량의 제어에 의해 이루어진다. 일반적으로, 열탕식 가습기에 채용되는 히터는 원하는 저항을 가질 수 있도록 예컨대, 일정한 길이의 니크롬선 또는 봉히터를 주로 사용하거나, 다수의 접점을 형성하여 원하는 저항값을 다양하게 가질 수 있도록 구성된 히터 등이 사용된다.The hot water humidifier is configured to spray water from a water tank with a heater to spray vaporized vapor by a blower, and the amount of water vapor sprayed is usually controlled by controlling the amount of heat generated by the heater. The heating value control of the heater is performed by changing the resistance of the heater by changing the contact point of the heater or by controlling the amount of current flowing through the heater. In general, a heater employed in a boiling water humidifier is a heater configured to mainly use a nichrome wire or a rod heater of a predetermined length to form a desired resistance, or to have a variety of desired resistance values by forming a plurality of contacts. This is used.

이러한 종래의 히터는 초기 가열시간이 느리기 때문에 최초 가습시간이 오래 걸리는 단점이 있으며, 또한 전극간의 접점에서 발생되는 고열에 의해 접점이 단락되는 문제점이 있다.The conventional heater has a disadvantage in that the initial humidification time is long because the initial heating time is slow, and the contact is short-circuited by the high heat generated at the contacts between the electrodes.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 바와 같은 종래 열탕식 가습기 등에 이용되는 히터가 가지는 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명은 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질을 이용하여 초기가열시간이 매우 빠르고 소형으로의 제작이 가능하여 순간 히팅 효율을 최대화시킬 수 있는 박막형 발열 히터 및 그 제조방법을 제공함에 목적이 있다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the problem that the heater used in the conventional boiling water humidifier as described above, the present invention is very initial heating time by using a material having excellent electrical resistance characteristics for the unit area It is an object of the present invention to provide a thin film type heating heater and a method of manufacturing the same, which can be manufactured quickly and compactly, thereby maximizing instantaneous heating efficiency.

도 1은 본 발명에 의한 박막형 발열 히터를 개략적으로 나타내 보인 단면 구성도,1 is a cross-sectional configuration diagram schematically showing a thin film type heating heater according to the present invention,

도 2는 도 1의 박막형 발열 히터를 개략적으로 나타내 보인 평면도,2 is a plan view schematically showing the thin film type heating heater of FIG.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 의한 박막형 발열 히터의 제조공정별 단계를 개략적으로 나타내 보인 평면도이다.3A to 3C are plan views schematically illustrating steps according to a manufacturing process of the thin film type heater according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10 : 기판 20 : 단위 박막 발열층10: substrate 20: unit thin film heating layer

30 : 전극층 40 : 보호막30 electrode layer 40 protective film

31 : 접속단자31: Connection terminal

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 박막형 발열 히터는, 기판과, 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질을 상기 기판상에 일정한 패턴 분포를 가지도록 박막 코팅하여 형성된 다수의 단위 발열층과, 상기 단위 발열층을 상호 연결하여 전류통로를 형성하도록 상기 기판상에 코팅된 전극층과, 상기 발열층 및 전극층을 보호하기 위해 상기 기판상에 형성되는 보호막을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a thin film type heating heater according to the present invention includes a substrate, a plurality of unit heating layers formed by thin film coating a material having excellent electrical resistance characteristics with respect to a unit area on the substrate, And an electrode layer coated on the substrate to interconnect the unit heating layers to form a current path, and a protective film formed on the substrate to protect the heating layer and the electrode layers.

그리고, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 박막형 발열 히터의 제조방법은, 기판상에 일정한 패턴 분포를 가지도록 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질을 박막 코팅하여 다수의 단위 발열층을 형성하는 제1단계와; 상기 단위 발열층을 상호 연결하도록 상기 기판상에 전극층을 형성하는 제2단계와; 상기 발열층 및 전극층을 보호하기 위해 상기 기판상에 보호막을 형성하는 제3단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a thin film type heater according to the present invention for achieving the above object, a plurality of unit heat generating layer by coating a thin film of a material having excellent electrical resistance characteristics to the unit area to have a constant pattern distribution on the substrate Forming a first step; Forming an electrode layer on the substrate to interconnect the unit heating layers; And forming a protective film on the substrate to protect the heating layer and the electrode layer.

상기 본 발명에 의한 박막형 발열 히터 및 그 제조방법에 있어서, 특히 상기 발열층과 전극층 및 보호막은 각각 마스크를 이용하여 물리증착법(PVD), 또는 화학증착법(CVD)과 같은 건식코팅법에 의해 형성되는 것이 바람직하다.In the thin film type heater and the method of manufacturing the same according to the present invention, in particular, the heating layer, the electrode layer, and the protective film are each formed by a dry coating method such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD) using a mask. It is preferable.

그리고, 상기 발열층은 TaAl, Ni-Cr, Sn02, HfB2, Ta 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 2,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅되는 것이 바람직하며, 상기 전극층은 Al, Au, Ag, Ru02, Pt 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅되는 것이 바람직하고, 상기 보호막은 Si3N4, Si02, SiC 중에서 선택된 어느 하나의 유전체물질이 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅되는 것이 바람직하다.The heat generating layer is preferably coated such that any one material selected from TaAl, Ni-Cr, Sn0 2 , HfB 2 , and Ta has a thickness in the range of 2,000 to 10,000 Å, and the electrode layer is made of Al, Au, Ag. , Ru0 2 , Pt is preferably any one of the coating material is selected to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å, the protective film is a dielectric material of any one selected from Si 3 N 4 , Si0 2 , SiC 5,000 to It is desirable to coat to have a thickness in the range of 10,000 kPa.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 따른 본 발명의 박막형 발열 히터 및 그 제조방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a thin film type heating heater and a manufacturing method of the present invention according to a preferred embodiment.

도 1을 참조하면, 본 발명에 의한 박막형 발열 히터는 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질을 기판(10)상에 일정한 패턴 분포를 가지도록 박막 코팅하여 형성된 다수의 단위 발열층(20)과, 상기 단위 발열층(20)을 상호 연결하여 전류통로를 형성하도록 상기 기판(10)상에 코팅된 전극층(30)과, 상기 발열층(20) 및 전극층(30)을 덮어서 보호할 수 있도록 상기 기판(10)상에 형성되는 보호막(40)을 포함하여 구성된다. 참조부호 31은 상기 전극층(30)의 끝단이 상기 보호막(40)의 외부로 돌출된 외부 전원과 접속되는 접속단자로서, 이 접속단자(31)는 본 발명에 의한 히터가 채용되는 제품 예컨대, 열탕식 가습기, 순간 온수기 등의 메인회로기판과 와이어 본딩에 의해 전기적으로 연결된다.Referring to FIG. 1, the thin film type heating heater according to the present invention includes a plurality of unit heating layers 20 formed by coating a thin film on a substrate 10 with a material having excellent electrical resistance to a unit area. In order to protect the electrode layer 30 and the heating layer 20 and the electrode layer 30 coated on the substrate 10 so as to interconnect the unit heating layers 20 to form a current path, The protective film 40 formed on the board | substrate 10 is comprised. Reference numeral 31 denotes a connection terminal in which an end of the electrode layer 30 is connected to an external power supply protruding to the outside of the protective film 40. The connection terminal 31 is a product in which a heater according to the present invention is employed, for example, a hot water. It is electrically connected to main circuit boards such as type humidifiers and instantaneous water heaters by wire bonding.

상기 구성을 가지는 박막형 발열 히터에 있어서, 특히 상기 기판(10)은 유리 기판인 것이 바람직하며, 상기 발열층(20)과 전극층(20) 및 보호막(40)은 각각 금속 마스크에 의해 마스킹된 상태에서 PVD 또는 CVD와 같은 건식코팅법에 의해 형성된 것이 바람직하다. 그리고, 상기 발열층(20)은 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 TaAl, Ni-Cr, Sn02, HfB2, Ta 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 2,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅된 것이 바람직하다. 또한, 상기 전극층은 전기전도도가 우수한 Al, Au, Ag, Ru02, Pt 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅된 것이 바람직하며, 상기 보호막은 유전체 물질로서 Si3N4, Si02, SiC 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지고 상기 발열층(20)과 전극층(30)의 상면부 주위를 국소적으로 덮어 그 상면이 요철면을 가지도록 코팅된 것이 바람직하다.In the thin film type heater having the above configuration, in particular, the substrate 10 is preferably a glass substrate, and the heat generating layer 20, the electrode layer 20, and the protective film 40 are respectively masked by a metal mask. It is preferable that it is formed by a dry coating method such as PVD or CVD. In addition, the heating layer 20 is coated such that any one material selected from TaAl, Ni-Cr, Sn0 2 , HfB 2 , and Ta having excellent electrical resistance to a unit area has a thickness in the range of 2,000 to 10,000Å. It is preferable. In addition, the electrode layer is preferably coated such that any material selected from Al, Au, Ag, Ru0 2 , Pt having excellent electrical conductivity has a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å, and the protective film is a dielectric material as Si 3 Any one selected from N 4 , Si0 2 , and SiC has a thickness in the range of 5,000 to 10,000 Å, and locally covers the upper surface portions of the heating layer 20 and the electrode layer 30, and the upper surface has an uneven surface. Is preferably coated.

도 3a 내지 도 3c는 상기한 본 발명에 의한 박막형 발열 히터의 제조공정별 단계를 개략적으로 도시한 것으로서, 이하에서는 도 3을 참조하여 본 발명에 의한 박막형 발열 히터의 제조방법에 대해 상세히 설명한다.3A to 3C schematically illustrate the steps of the manufacturing process of the thin film type heater according to the present invention as described above. Hereinafter, a method of manufacturing the thin film type heater according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. 3.

도 3a는 기판(10)에 단위 발열층(20)의 코팅이 완료된 상태를 보인 것으로서 그 과정을 살펴보면, 먼저 유리 기판(10)을 세척하여 먼지 등의 오염원을 제거한 다음, 상기 단위 발열층의 패턴이 형성된 금속마스크를 씌우고(마스킹), 건식코팅용 PVD 또는 CVD 챔버에 장입하여 5×10-7토르(torr) 이하의 진공분위기에서 200 내지 500℃ 범위의 온도로 가열한 후, 아르곤(Ar) 가스를 주입하여 TaAl, Ni-Cr, Sn02, HfB2, Ta 중에서 선택된 어느 하나의 물질을 코팅한다. 이때, 코팅되는 단위 발열층(20)의 면적과 두께는 얻고자 하는 전기 저항값에 따라 적절히 조절할 수 있으며, 특히 상기 단위 발열층(20)은 2,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 박막 코팅되는 것이 바람직하다.3A shows a state in which the coating of the unit heating layer 20 is completed on the substrate 10. Referring to the process, first, the glass substrate 10 is cleaned to remove contaminants such as dust, and then the pattern of the unit heating layer is formed. The formed metal mask was covered (masked), charged into a dry coating PVD or CVD chamber, and heated to a temperature ranging from 200 to 500 ° C. in a vacuum atmosphere of 5 × 10 −7 torr or less, followed by argon (Ar). The gas is injected to coat any one material selected from TaAl, Ni-Cr, Sn0 2 , HfB 2 , and Ta. At this time, the area and thickness of the unit heating layer 20 to be coated can be appropriately adjusted according to the electrical resistance value to be obtained, in particular, the unit heating layer 20 is a thin film is coated to have a thickness in the range of 2,000 to 10,000Å It is preferable.

다음에, 도 3b는 인접된 단위 발열층(20)을 각각 연결하도록 전극층(30)의 코팅이 완료된 상태를 보인 것으로서 그 과정을 살펴보면, 상기 발열층(20)의 박막 코팅이 완료된 기판(10)에 전극형성용 금속마스크를 씌우고(마스킹), 건식코팅용 PVD 또는 CVD 챔버에 장입하여 진공분위기에서 전기전도도가 우수한 Al, Au, Ag, Ru02, Pt 중에서 선택된 어느 하나의 물질을 코팅한다. 이때, 코팅되는 전극층(30)의 면적과 두께는 얻고자 하는 전기 저항값에 따라 적절히 조절할 수 있으며, 특히 상기 전극층(30)은 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 박막 코팅되는 것이 바람직하다.Next, FIG. 3B illustrates a state in which the coating of the electrode layer 30 is completed so as to connect adjacent unit heating layers 20, respectively. Referring to FIG. 3B, the thin film coating of the heating layer 20 is completed. An electrode forming metal mask is put on (masking) and charged into a dry coating PVD or CVD chamber to coat any one material selected from Al, Au, Ag, Ru0 2 and Pt having excellent electrical conductivity in a vacuum atmosphere. At this time, the area and thickness of the electrode layer 30 to be coated can be appropriately adjusted according to the electrical resistance value to be obtained, in particular, the electrode layer 30 is preferably a thin film coating to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000 내지.

마지막으로, 도 3c는 상기 단위 발열층(20)과 전극층(30)을 보호하기 위한 보호막(40)의 코팅이 완료된 상태를 보인 것으로서 그 과정을 살펴보면, 상기 발열층(20) 및 전극층(30)의 박막 코팅이 완료된 기판(10)에 보호막형성용 금속마스크를 씌우고(마스킹), 건식코팅용 PVD 또는 CVD 챔버에 장입하여 진공분위기에서 Al, Au, Ag, Ru02, Pt 중에서 선택된 어느 하나의 유전체 물질을 코팅한다. 이때, 코팅되는 보호막(40)은 상기 발열층(20)과 전극층(30)의 상면부 주위를 일정한 두께로 국소적으로 덮어 그 상면이 요철면을 가지도록 상기 단위 발열층(20)의 전기 저항값에 따라 적절히 조절할 수 있으며, 특히 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 박막 코팅되는 것이 바람직하다.Finally, FIG. 3C illustrates a state in which the coating of the passivation layer 40 for protecting the unit heating layer 20 and the electrode layer 30 is completed. Referring to FIG. 3C, the heating layer 20 and the electrode layer 30 are described. A protective film forming metal mask on the substrate 10 on which the thin film coating was completed (masking), and charged into a dry coating PVD or CVD chamber, and then selected any one of dielectric materials selected from Al, Au, Ag, Ru02, and Pt in a vacuum atmosphere. Coating. In this case, the protective film 40 to be coated is locally covered with a constant thickness around the upper surface portions of the heat generating layer 20 and the electrode layer 30, the electrical resistance of the unit heat generating layer 20 so that the upper surface has an uneven surface It can be appropriately adjusted according to the value, it is particularly preferred that the thin film is coated to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å.

이상에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 의한 박막형 발열 히터에 따르면 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질에 의해 매우 빠른 초기발열시간을 얻을 수 있고, 또한 박막 코팅에 의해 소형으로의 제작이 가능하여 예컨대, 수조의 전면에 대해 히터를 용이하게 고루 분포시킬 수 있으므로 순간 히팅 효율을 극대화시킬 수 있다.As described above, according to the thin film type heating heater according to the present invention, a very fast initial heat generation time can be obtained by a material having excellent electrical resistance characteristics for a unit area, and also a small size can be manufactured by thin film coating. For example, it is possible to easily distribute the heater evenly over the front of the tank can maximize the instantaneous heating efficiency.

Claims (28)

기판과,Substrate, 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질을 상기 기판상에 일정한 패턴 분포를 가지도록 박막 코팅하여 형성된 다수의 단위 발열층과,A plurality of unit heating layers formed by coating a thin film on the substrate with a material having excellent electrical resistance to a unit area; 상기 단위 발열층을 상호 연결하여 전류통로가 되도록 상기 기판상에 형성된 전극층과,An electrode layer formed on the substrate such that the unit heat generating layers are interconnected to form a current path; 상기 발열층 및 전극층을 보호하기 위해 상기 기판상에 형성되는 보호막을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.And a protective film formed on the substrate to protect the heat generating layer and the electrode layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판은 유리 기판인 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The substrate is a thin film type heating heater, characterized in that the glass substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 발열층과 전극층 및 보호막은 각각 마스크를 이용하여 건식코팅법에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The heat generating layer, the electrode layer and the protective film are thin film type heating heater, characterized in that each formed by a dry coating method using a mask. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 발열층은 TaAl, Ni-Cr, Sn02, HfB2, Ta 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 코팅된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The heating layer is a thin film type heating heater, characterized in that the coating of any one selected from TaAl, Ni-Cr, Sn0 2 , HfB 2 , Ta. 제1항 또는 제4항에 있어서,The method according to claim 1 or 4, 상기 발열층은 2,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The heating layer is a thin film type heating heater, characterized in that the coating to have a thickness in the range of 2,000 to 10,000Å. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전극층의 끝단이 외부 전원과의 접속 단자를 이루도록 상기 보호막 외부로 돌출된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.Thin film type heating heater, characterized in that the end of the electrode layer protrudes to the outside of the protective film to form a connection terminal with an external power source. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전극층은 Al, Au, Ag, Ru02, Pt 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 코팅된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The electrode layer is a thin film type heating heater, characterized in that the coating of any one selected from Al, Au, Ag, Ru0 2 , Pt. 제1항 또는 제7항에 있어서,The method according to claim 1 or 7, 상기 전극층은 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The electrode layer is a thin film type heating heater, characterized in that the coating to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호막은 유전체물질로 형성된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The protective film is a thin film type heating heater, characterized in that formed of a dielectric material. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호막은 Si3N4, Si02, SiC 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The protective film is a thin film type heating heater, characterized in that formed of any one material selected from Si 3 N 4 , Si0 2 , SiC. 제1항 또는 제10항에 있어서,The method according to claim 1 or 10, 상기 보호막은 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The protective film is a thin film type heating heater, characterized in that the coating to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å. 제1항 또는 제10항에 있어서,The method according to claim 1 or 10, 상기 보호막은 상기 발열층과 전극층의 상면부 주위를 국소적으로 덮어 그 상면이 요철면을 가지도록 형성된 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The passivation layer is a thin film type heating heater, characterized in that the upper surface is formed to have a concave-convex surface covering the upper portion of the heating layer and the electrode layer locally. 기판상에 일정한 패턴 분포를 가지도록 단위 면적에 대한 전기적 저항 특성이 우수한 물질을 박막 코팅하여 다수의 단위 발열층을 형성하는 제1단계와;A first step of forming a plurality of unit heating layers by coating a thin film of a material having excellent electrical resistance to a unit area to have a predetermined pattern distribution on a substrate; 상기 단위 발열층을 상호 연결하여 전기적 통로를 형성하도록 상기 기판상에 전극층을 형성하는 제2단계와;Forming an electrode layer on the substrate to interconnect the unit heating layers to form an electrical passage; 상기 발열층 및 전극층을 보호하기 위해 상기 기판상에 보호막을 형성하는 제3단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.And a third step of forming a protective film on the substrate to protect the heat generating layer and the electrode layer. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제1단계에서는 건식코팅법을 이용하여 상기 기판에 상기 발열층을 박막 코팅하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.In the first step, a thin film type heating heater, characterized in that the thin film coating the heating layer on the substrate using a dry coating method. 제13항에 있어서, 상기 제1단계에서는,The method of claim 13, wherein in the first step, 유리 기판에 마스크를 이용하여 상기 발열층의 패턴을 형성하는 단계와;Forming a pattern of the heating layer using a mask on a glass substrate; 마스킹에 의해 발열층의 패턴 형성이 완료된 기판을 건식코팅용 챔버에 장입하여 진공분위기에서 가열하는 단계와;Inserting the substrate on which the pattern formation of the heat generating layer is completed by masking into a dry coating chamber and heating in a vacuum atmosphere; 상기 기판의 패턴부에 발열층을 박막 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.Thin film coating the heating layer on the pattern portion of the substrate; manufacturing method of a thin film type heating heater comprising a. 제13항 내지 제15항의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 13 to 15, 상기 제1단계에서는 마스킹에 의해 발열층의 패턴 형성이 완료된 기판을 건식코팅용 챔버에 장입하여 5×10-7토르(torr) 이하의 진공분위기에서 200 내지 500℃ 온도의 범위에서 가열하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.In the first step, the substrate on which the pattern formation of the heat generating layer is completed by masking is charged to a dry coating chamber, and heated in a temperature range of 200 to 500 ° C. in a vacuum atmosphere of 5 × 10 −7 Torr or less. The manufacturing method of the thin-film type | mold heating heater made into. 제13항 내지 제15항의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 13 to 15, 상기 발열층은 TaAl, Ni-Cr, Sn02, HfB2, Ta 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 코팅되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The heating layer is a thin film type heating heater, characterized in that the coating of any one selected from TaAl, Ni-Cr, Sn0 2 , HfB 2 , Ta. 제13항 내지 제15항의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 13 to 15, 상기 발열층은 2,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The heating layer is a thin film type heating heater, characterized in that the coating to have a thickness in the range of 2,000 to 10,000Å. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제2단계에서는 건식코팅법을 이용하여 상기 기판에 상기 전극층을 박막 코팅하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.In the second step, a thin film type heating heater, characterized in that for coating the electrode layer on the substrate using a dry coating method. 제13항에 있어서, 상기 제2단계에서는,The method of claim 13, wherein in the second step, 상기 제1단계에 의해 발열층의 박막 코팅이 완료된 기판에 마스크를 이용하여 상기 전극층의 패턴을 형성하는 단계와;Forming a pattern of the electrode layer by using a mask on the substrate on which the thin film coating of the heating layer is completed by the first step; 마스킹에 의해 전극층의 패턴 형성이 완료된 기판을 건식코팅용 챔버에 장입하여 진공분위기에서 상기 기판의 패턴부에 전극층을 박막 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The method of manufacturing a thin film type heater according to claim 1, further comprising charging a substrate on which the patterning of the electrode layer is completed by masking to a dry coating chamber and coating the electrode layer on the pattern portion of the substrate in a vacuum atmosphere. 제19항 또는 제20항에 있어서,The method of claim 19 or 20, 상기 전극층은 Al, Au, Ag, Ru02, Pt 중에서 선택된 어느 하나의 물질이 코팅되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The electrode layer is a method of manufacturing a thin film type heating heater, characterized in that the coating of any one selected from Al, Au, Ag, Ru02, Pt. 제19항 또는 제20항에 있어서,The method of claim 19 or 20, 상기 전극층은 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The electrode layer is a method of manufacturing a thin film type heating heater, characterized in that the coating to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제3단계에서는 건식코팅법을 이용하여 상기 기판에 상기 보호막을 코팅하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.In the third step, a method of manufacturing a thin film type heater, characterized in that for coating the protective film on the substrate using a dry coating method. 제13항에 있어서, 상기 제3단계에서는,The method of claim 13, wherein in the third step, 상기 제1단계 및 제2단계에 의해 상기 발열층과 전극층의 박막 코팅이 완료된 기판에 마스크를 이용하여 상기 보호막의 패턴을 형성하는 단계와;Forming a pattern of the passivation layer on the substrate on which the thin film coating of the heating layer and the electrode layer is completed by the first step and the second step; 마스킹에 의해 보호막의 패턴 형성이 완료된 기판을 건식코팅용 챔버에 장입하여 보호막 패턴부에 보호막을 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The method of manufacturing a thin film type heating heater comprising a; a step of coating a protective film on the protective film pattern portion by inserting a substrate on which the pattern formation of the protective film is completed by masking in a dry coating chamber. 제23항 또는 제24항에 있어서,The method of claim 23 or 24, 상기 보호막은 유전체물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The protective film is a method of manufacturing a thin film type heating heater, characterized in that formed of a dielectric material. 제23항 또는 제24항에 있어서,The method of claim 23 or 24, 상기 보호막은 Si3N4, Si02, SiC 중에서 선택된 어느 하나의 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The protective film is a method of manufacturing a thin film type heating heater, characterized in that formed of any one material selected from Si 3 N 4 , Si0 2 , SiC. 제23항 또는 제24항에 있어서,The method of claim 23 or 24, 상기 보호막은 5,000 내지 10,000Å 범위의 두께를 가지도록 코팅되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터의 제조방법.The protective film is a method of manufacturing a thin film type heating heater, characterized in that the coating to have a thickness in the range of 5,000 to 10,000Å. 제23항 또는 제24항에 있어서,The method of claim 23 or 24, 상기 보호막은 상기 발열층과 전극층의 상면부 주위를 국소적으로 덮어 그 상면이 요철면을 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 박막형 발열 히터.The protective film is a thin film type heating heater, characterized in that the upper surface is formed to have a concave-convex surface to cover locally around the upper surface portion of the heating layer and the electrode layer.
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