KR100187713B1 - Semiconductor memory module and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

이 발명은 웨이퍼 제조후 웨이퍼 레벨 포트 파셜다이 마킹 이전에 전기적 다이 소팅(EDS) 단계에서 체킹된 포트파셜다이를 활용하여 메모리의 단품 용량을 지속적으로 증가시켜서 SIMM 메모리 모듈장치로 구현할 수 있도록 웨이퍼 상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조 공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조하는 단계와; 상기 단계에서 제조된 웨이퍼를 전기적 다이 소팅 테스트를 통하여 굳다이와 포트파셜다이로 구분하여 체킹하는 단계와; 상기 단계후 웨이퍼 레벨 테스트를 통하여 포트파셜다이를 마킹하는 단계와; 상기 단계를 거친 반도체 칩을 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 패키지를 얻어내는 단계와; 상기 단계에 의해 얻어진 패키지를 이용하여 싱글인라인 메모리 모듈로 조립하는 단계와; 상기 단계에서 조립된 메모리 모듈장치를 실장 및 신뢰성 테스트 하는 단계를 포함하는 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 제조방법에 관한 것이다. 따라서 각종 고량의 반도체 메모리 모듈장치에 유용하게 적용된다.The present invention is designed on a wafer to be implemented as a SIMM memory module device by continuously increasing the unit capacity of the memory by utilizing the potted die checked in the electrical die sorting (EDS) step after wafer fabrication before wafer level port partial die marking. Manufacturing a wafer through various semiconductor manufacturing processes according to a circuit pattern; Checking the wafer manufactured in the step into a good die and a potial die through an electrical die sorting test; Marking the potial die through a wafer level test after the step; Obtaining a package by performing an assembly unit process using the semiconductor chip which has undergone the above steps; Assembling a single in-line memory module using the package obtained by the above steps; The present invention relates to a semiconductor memory module device and a manufacturing method using a potial die including mounting and reliability testing of the memory module device assembled in the above step. Therefore, it is usefully applied to various high amount of semiconductor memory module devices.

Description

포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 그 제조방법Semiconductor memory module device using port partial die and manufacturing method thereof

제1도는 반도체 파셜다이를 사용한 메모리 모듈장치의 제조방법을 공정순으로 나타낸 공정 순서도,1 is a process flowchart showing a manufacturing method of a memory module device using a semiconductor partial die in a process order;

제2도는 종래기술의 반도체 메모리 모듈장치를 나타낸 것으로,2 shows a conventional semiconductor memory module device,

(a)는 블록도이고,(a) is a block diagram,

(b)는 모듈장치,(b) the module unit,

제3도는 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치의 일실시예를 나타낸 것으로,3 illustrates an embodiment of a semiconductor memory module device using a port partial die according to the present invention.

(a)는 블록도이고,(a) is a block diagram,

(b)는 모듈장치.(b) the module device.

제4도는 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치의 다른 실시예를 나타낸 것으로,4 illustrates another embodiment of a semiconductor memory module device using a pot partial die according to the present invention.

(a)는 블록도이고,(a) is a block diagram,

(b)는 모듈장치이다.(b) is a module device.

이 발명은 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 그 제조방법에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 4M 또는 16M의 메모리 용량을 갖는 반도체 장치의 제조공정중 굳 아이를 제외한 포트파셜다이를 이용하여 16M 또는 64M의 포트파셜로 반도체 메모리 모듈장치로 조립할 수 있도록 한 포트파셜다이(port partial die)를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory module device using a pot partial die and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a semiconductor memory module device having a memory capacity of 4M or 16M. The present invention also relates to a semiconductor memory module device using a port partial die and a method for manufacturing the same, which can be assembled into a semiconductor memory module device using a port partial of 64M.

종래의 메모리 모듈장치는 4M×8, 4M×9〔8+1(패리티비트 체크용)〕의 4M 디램을 기본으로 한다. 이들은 4M 디램 8개를 인쇄회로기판에 시리얼(serial)하게 실장하여 패러럴(parall)하게 데이터를 인터페이스함으로써 시스템 상에서 메모리 용량의 확장을 달성할 수 있었다.The conventional memory module device is based on 4M DRAMs of 4Mx8 and 4Mx9 (8 + 1 (parity bit check)). By mounting eight 4M DRAMs serially on a printed circuit board, they were able to interface data in parallel to achieve the expansion of memory capacity on the system.

또한 메모리 모듈 16M×8(KMM5816000) 및 16M×9〔8+1(패리티비트 체크용)〕은 16M 디램을 기본으로 하는데, 이것은 16M디램 8개를 인쇄회로기판에 시리얼하게 실장하여 시스템간에 패러럴하게 데이터를 인터페이스함으로써 시스템의 메모리 용량을 확장할 수 있었다.In addition, the memory modules 16M × 8 (KMM5816000) and 16M × 9 (8 + 1 (for parity bit check)) are based on 16M DRAM, which is equipped with eight 16M DRAMs serially mounted on a printed circuit board in parallel between systems. By interfacing the data, the system's memory capacity was expanded.

제1도는 반도체 파셜다이를 사용한 메모리 모듈장치의 제조공정을 나타낸 공정순서도이고, 제2도는 종래기술의 반도체 메모리 모듈장치를 나타낸 도면이다.1 is a process flowchart showing a manufacturing process of a memory module device using a semiconductor partial die, and FIG. 2 is a view showing a semiconductor memory module device of the prior art.

먼저, 제1도를 참조하면 기존의 반도체 메모리 모듈장치의 제조공정은 웨이퍼 상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조 공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조하는 단계(S100)와; 상기 단계에서 제조된 웨이퍼를 웨이퍼 레벨 테스트를 통하여 포트 파셜 다이를 마킹하는 단계(S102)와; 상기 단계를 거친 반도체 칩을 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 패키지를 얻어내는 단계(S103)와; 상기 단계에 의해 얻어진 패키지를 이용하여 SIMM(Single In line Memory Module) 모듈로 조립하는 단계(S104)와; 상기 단계에서 조립된 메모리 모듈장치를 실장 및 신뢰성 테스트 하는 단계(S105)로 진행된다.First, referring to FIG. 1, a manufacturing process of a conventional semiconductor memory module device may include manufacturing a wafer through various semiconductor manufacturing processes according to a circuit pattern designed on the wafer (S100); Marking the pot partial die through a wafer level test on the wafer manufactured in the step (S102); (S103) obtaining a package by performing an assembly unit process using the semiconductor chip which has passed the above steps; Assembling into a SIMM module using the package obtained by the above step (S104); In step S105, the memory module device assembled in the above step is mounted and tested for reliability.

다음, 제2도(a)는 종래의 4M×8 디램 SIMM 모듈의 포트파셜다이 응용 방법에 따른 개념을 블록 다이아그램으로 나타낸 것으로, 4M×8(U1∼U8)의 디램을 시리얼하게 배치하며, 패러럴하게 구동될 수 있도록 각각의 유니트들의 라이트 단자(W)와 어드레스 단자(A0∼A10)는 시리얼하게 접속되어 있으며, CAS와 RAS는 패러럴하게 접속되어 있고, 각각의 유니트는 개별 데이터 출력단(DQ0∼DQ7)을 갖는다.Next, FIG. 2 (a) shows a block diagram of the concept of the conventional partial die application method of the conventional 4M × 8 DRAM SIMM module, and serially arranges DRAMs of 4M × 8 (U1 to U8). The write terminals W and the address terminals A0 to A10 of the respective units are serially connected so that they can be driven in parallel, CAS and RAS are connected in parallel, and each unit is connected to the individual data output terminals DQ0 to. DQ7).

또한, 제2도(b)는 상기 제2도(a)에 의해 모듈장치를 구성한 것으로, 상부는 반도체 메모리 모듈 실장영역으로 되며 하부는 시스템간의 접속을 위한 다수의 태브단자가 마련된 것이다.In addition, FIG. 2 (b) shows the module device as shown in FIG. 2 (a). The upper part is a semiconductor memory module mounting area and the lower part is provided with a plurality of tab terminals for connection between systems.

그러나, 이러한 종래의 파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치는 제1도에 도시된 바와 같이 패키징 완료 후, 최종 실장 및 테스트 단계에서 BGD(Bin Grade Down) 개념의 파셜다이를 이용하기 때문에 메모리 모듈 장치의 고용량화의 실현히 어렵다는 단점이 있다.However, since the conventional semiconductor memory module device using a partial die uses a partial die of BGD (Bin Grade Down) concept in the final mounting and testing stage after packaging is completed, as shown in FIG. There is a disadvantage that high capacity is difficult to realize.

따라서, 이 발명은 상기한 종래의 반도체 메모리 모듈장치에서 고용량화의 기술적인 단점을 해소하기 위하여 발명한 것으로써, 이 발명의 목적은 웨이퍼 제조후 웨이퍼 레벨 포트 파셜다이 마킹 이전에 전기적 다이 소팅(EDS) 단계에서 체킹된 포트파셜다이를 활용하여 메모리의 단품 용량을 지속적으로 증가시켜서 SIMM 메모리 모듈장치로 구현할 수 있는 고용량의 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 그 제조방법을 제공함에 있다.Therefore, the present invention was invented to solve the technical disadvantage of high capacity in the above-described conventional semiconductor memory module device, and an object of the present invention is to perform electrical die sorting (EDS) before wafer level port partial die marking after wafer fabrication. The present invention provides a semiconductor memory module device using a high capacity port partial die and a method of manufacturing the same, which can be realized as a SIMM memory module device by continuously increasing the capacity of a single component of the memory by using the checked port partial die.

상기한 목적을 달성하기 위한 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈 제조방법의 특징은, 웨이퍼 상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조하는 단계와; 상기 단계에서 제조된 웨이퍼를 전기적 다이 소팅 테스트를 통하여 굳다이와 포트파셜다이로 구분하여 체킹하는 단계와; 상기 단계후 웨이퍼 레벨 테스트를 통하여 포트파셜다이를 마킹하는 단계와; 상기 단계를 거친 포트파셜다이를 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 패키지를 얻어내는 단계와; 상기 단계에 의해 얻어진 패키지를 이용하여 싱글인라인 메모리 모듈로 조립하는 단계와; 상기 단계에서 조립된 메모리 모듈장치를 실장 및 신뢰성 테스트 하는 단계로 이루어진 점이 있다.A semiconductor memory module manufacturing method using a potial die according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of manufacturing a wafer through a variety of semiconductor manufacturing process according to the circuit pattern designed on the wafer; Checking the wafer manufactured in the step into a good die and a potial die through an electrical die sorting test; Marking the potial die through a wafer level test after the step; Performing an assembly unit process using the potted die which has undergone the above steps to obtain a package; Assembling a single in-line memory module using the package obtained by the above steps; There is a point consisting of the mounting and reliability test of the memory module device assembled in the above step.

또한, 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치는, 웨이퍼상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조 공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조하고, 상기 웨이퍼를 전기적 다이 소팅 테스트를 통하여 굳다이와 포트파셜다이로 구분하여 체킹하고, 웨이퍼 레벨 테스트를 통하여 상기 포트파셜다이를 마킹하고, 상기 포트파셜다이를 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 제조된 복수의 패키지와; 상기 패키지들이 시리얼 단위로 배치되며, 상기 각각의 패키지에 해당하는 신호의 입출력단들과 각기 공토으로 접속되는 신호라인과, 상기 신호라인과 각기 연결된 태브단자를 갖는 인쇄회로 기판;을 포함한다.In addition, in the semiconductor memory module device using the potial die according to the present invention, a wafer is manufactured through various semiconductor manufacturing processes according to a circuit pattern designed on the wafer, and the wafer is formed into a good die and a potial die through an electrical die sorting test. A plurality of packages manufactured by dividing and checking the markings, marking the potial dies through a wafer level test, and performing an assembly unit process using the potential dies; The packages are arranged in a serial unit, the printed circuit board having a signal line connected to each of the input and output terminals of the signal corresponding to each package and the clay, and a tab terminal connected to the signal line, respectively.

상기 반도체 메모리 모듈장치의 포트파셜다이는 4M×2단위의 16M 용량과 16M×2 단위의 64M 용량을 갖도록 2포트 파셜 또는 4포트파셜다이로 구현하는 것이 바람직하다.The port partial die of the semiconductor memory module device may be implemented as a 2-port partial or 4-port partial die to have a 16M capacity of 4M × 2 units and a 64M capacity of 16M × 2 units.

이하, 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 그 제조방법의 바람직한 일 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a semiconductor memory module device and a method of manufacturing the same using a potial die according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1도를 참조하면, 먼저, 웨이퍼 상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조 공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조한다(S100).Referring to FIG. 1, first, a wafer is manufactured through various semiconductor manufacturing processes according to a circuit pattern designed on a wafer (S100).

다음, 상기 단계(S100)에서 제조된 웨이퍼를 전기적 다이 소팅 테스트를 통하여 굳다이와 포트파셜다이로 구분하여 체킹한다(S101).Next, the wafer manufactured in step S100 is divided into a good die and a pot partial die through an electrical die sorting test (S101).

여기서, 상기 단계(S101)는 16M 디램 포트 파셜다이 또는 64M 디램 포트 파셜다이를 EDS 테스트를 통하여 마킹하는 단계로서, 4M×8 또는 4M×9의 용량을 갖는 SIMM 모듈을 구현하기 위해서는 16M 디램〔(4M×4, 2포트 파셜다이(4M×2)〕을 패키징하여 4개 사용함으로써 가능하다. 이와 동일하게 16×8(KMM581600) SIMM 모듈을 구현하기 위해서는 64M 디램〔(16M×4, 2포트 파셜다이(16M×2)〕를 4개 실장함으로써 가능해진다. 이때, 마킹은 포트파셜다이는 1점으로 잉크 마킹하고 포트리젝다이는 2점으로 잉크 마킹한다(S102).Here, the step S101 is a step of marking the 16M DRAM port partial die or the 64M DRAM port partial die through an EDS test. In order to implement a SIMM module having a capacity of 4M × 8 or 4M × 9, the 16M DRAM [( 4M × 4, 2-port partial die (4M × 2)] can be packaged and used in 4. Similarly, to implement a 16 × 8 (KMM581600) SIMM module, 64M DRAM ((16M × 4, 2-port partial) 4 dies 16M × 2. ”In this case, the marking is done by marking the pot partial die at one point and the pot rejection at two points (S102).

다시말하면, 16M 디램 포트파셜다이는 4M×4, 4M×9 SIMM 모듈장치에 적용을 위해 16M 디램 4M×4의 4개의 포중 2개의 포트가 완전하게 구동되는 4M×2를 EDS 테스트하여 마킹한다(S102).In other words, the 16M DRAM port partial die is EDS-tested and marks 4M × 2, which is fully driven by two of the four 4M × 4 ports of the 16M DRAM 4M × 4 for application to 4M × 4 and 4M × 9 SIMM module devices. S102).

또한, 16M 디램을 이용한 16×8(KMM5816000)의 SIMM 모듈장치에 적용을 위해 64M 디램 16×4의 4개의 포트중 2개의 포트가 완전하게 구동되는 16M×2를 EDS 테스트하여 마킹한다(S102).In addition, for application to the SIMM module device of 16 × 8 (KMM5816000) using 16M DRAM, the EDS test marks 16M × 2 in which two ports of four ports of 64M DRAM 16 × 4 are fully driven (S102). .

다음, 종래와 같이 상기 단계(S102)를 거친 포트파셜다이를 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 패키지를 얻어내는 단계(S103)와, 상기 단계에 의해 얻어진 패키지를 이용하여 싱글인라인 메로리 모듈로 조립하는 단계(S104)와, 상기 단계에서 조립된 메모리 모듈장치를 실장 및 신뢰성 테스트 하는 단계(S105)를 진행한다.Next, a step of obtaining a package by performing an assembly unit process using a port partial die, which has passed the step (S102) as in the prior art (S103), and assembling into a single in-line memory module using the package obtained by the step Step S104 and step S105 of mounting and reliability testing the memory module device assembled in the step are performed.

제3도 및 제4도는 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치의 실시예들을 나타낸 것으로 (a)는 블록도이며, (b)는 모듈장치이다.3 and 4 show embodiments of a semiconductor memory module device using a potial die according to the present invention, where (a) is a block diagram and (b) is a module device.

먼저 제3도를 참조하면 좌단의 종래의 4M×8의 메모리 모듈장치를 우단에서와 같이 16M×4로 간단히 구성시킨 것이다.First, referring to FIG. 3, the conventional 4M × 8 memory module device at the left end is simply configured as 16M × 4 as at the right end.

즉, 반도체 메모리 모듈장치는 4M×2단위의 16M 용량을 갖는 패키지를 시리얼 단위로 배치한 후, 각각의 패키지에 해당하는 신호의 입출력단(CAS, RAS)(W, A0∼A10)(DQ0∼DQ7)들을 해당 신호라인과 공통으로 접속하여, 상기 패키지를 공통 신호 입출력단의 태브단자를 갖는 프린트 인쇄회로기판상에 실장한 것이다.That is, the semiconductor memory module device arranges packages having a capacity of 16M of 4M × 2 units in serial units, and then inputs / outputs (CAS, RAS) (W, A0 to A10) (DQ0 to AQ) of signals corresponding to each package. DQ7) is connected in common with the corresponding signal line, and the package is mounted on a printed printed circuit board having tab terminals of a common signal input / output terminal.

즉, 4M×2의 동작을 하는 16M(4M×4)의 2포트 파셜 칩은 4개가 필요하고, 4M×2의 4개의 구성은 4M×2×4는 4M×8로 동작된다.That is, four 16M (4Mx4) two-port partial chips for 4Mx2 operation are required, and four configurations of 4Mx2 operate at 4Mx8 for 4Mx2x4.

따라서, 4M 디램 대신 2포트파셜다이를 갖는 16M은 8개의 각각에 입력되는 CAS, RAS, W 및 어드레스 신호와 8개의 입출력 데이터 신호를 16M 디램 4개를 이용하여 각각의 패키지에 입력함으로써 동작된다.Therefore, the 16M having a two-port partial die instead of the 4M DRAM is operated by inputting eight CAS, RAS, W, and address signals and eight input / output data signals into each package using four 16M DRAMs.

다음, 제4도를 참조하면 좌단의 종래의 16M×8의 메모리 모듈장치를 우단에서와 같이 64M×4로 간단히 구성시킨 것이다.Next, referring to FIG. 4, the conventional 16Mx8 memory module device at the left end is simply configured as 64Mx4 as at the right end.

즉, 반도체 메모리 모듈장치는 16M×2단위의 16M 용량을 갖는 2포트 파셜다이 단위로 구성된 패키징 유니트를 시리얼 단위로 배치한 후, 각각의 패키징 유니트에 해당하는 신호의 입출력단(CAS, RAS)(W,A0∼A10)(DQ0∼DQ7)들을 해당 신호라인과 공통으로 접속하여, 상기 패키징 유니트를 공통 신호 입출력단의 태브단자를 갖는 프린트 인쇄회로기판상에 실장한 것이다.That is, the semiconductor memory module device arranges a packaging unit composed of a two-port partial die unit having a 16M capacity of 16M × 2 units in a serial unit, and then inputs / outputs (CAS, RAS) (signals of signals corresponding to each packaging unit) ( W, A0 to A10 (DQ0 to DQ7) are connected in common with the corresponding signal lines, and the packaging unit is mounted on a printed printed circuit board having tab terminals of a common signal input / output terminal.

16M×2의 동작을 하는 64M(16M×4)의 2포트 파셜 칩은 4개가 필요하고, 16M×2의 4개의 구성은 16M×2×4는 16M×8로 동작된다.Four two port partial chips of 64M (16M × 4) for 16M × 2 operation are required, and four configurations of 16M × 2 operate at 16M × 8 for 16M × 2 × 4.

따라서, 64M 디램(16M×4)중 2포트 파셜(16M×2)는 4개를 16M 디램 8개로 구성하는 것과 동일하게 각각에 입력된 CAS, RAS, W 및 어드레스 신호와 8개의 입/출력 데이터 신호를 인터페이스함으로써 동작된다.Therefore, the two-port partial (16M × 2) of the 64M DRAM (16M × 4) has the same CAS, RAS, W and address signals and eight input / output data respectively inputted in the same way as four 16M DRAMs. It is operated by interfacing the signal.

이상에서 설명한 바와 같이 이 발명에 따른 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치 및 그 제조방법은 다음과 같은 효과가 얻어진다.As described above, the semiconductor memory module device and its manufacturing method using the pot partial die according to the present invention have the following effects.

첫째, EDS 테스트 단계에서 얻어진 포트파셜다이를 적절히 활용함으로써 SIMM 모듈장치 구성시 단품 레벨의 수리가 가능하므로 그 활용도를 높일 수 있다.First, the proper utilization of the potial die obtained in the EDS test step enables the unit-level repair when configuring the SIMM module device, thereby increasing its utilization.

둘째, 반도체 칩의 용량이 16M, 64M, 128M, 256M로 증가할수록 포트개념의 파셜다이의 수가 증가할 것으로 기대되기 때문에, 이와 같은 포트파셜다이를 효과적으로 활용할 수 있고 정품 적용시 보다 오히려 효과적인 SIMM 모듈장치의 구성이 가능하다.Second, as the capacity of semiconductor chip is expected to increase to 16M, 64M, 128M, and 256M, the number of partial dies of the port concept is expected to increase. The configuration of is possible.

셋째, 실장 및 테스트 단계에 의해 패키징 완료된 제품을 이용하는 것보다 EDS 테스트 단계에서 얻어진 포트파셜다이를 적절히 활용함으로써 메모리 모듈장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.Third, there is an advantage that the reliability of the memory module device can be improved by appropriately utilizing the portial die obtained in the EDS test step, rather than using a product packaged by the mounting and testing step.

넷째, 포트파셜다이를 활용할 경우 인쇄회로기판에 실장되는 패키지의 수가 종래에 비해 반으로 줄어들기 때문에, 종래에 비하여 인쇄회로기판의 공간활용 측면에서도 이점이 있다.Fourth, since the use of the potial die reduces the number of packages to be mounted on the printed circuit board in half compared to the conventional, there is an advantage in terms of space utilization of the printed circuit board compared to the conventional.

Claims (4)

웨이퍼 상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조 공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조하는 단계와; 상기 단계에서 제조된 웨이퍼를 전기적 다이 소팅 테스트를 통하여 굳다이와 포트파셜다이로 구분하여 체킹하는 단계와; 상기 단계후 웨이퍼 레벨 테스트를 통하여 포트파셜다이를 마킹하는 단계와; 상기 단계를 거친 포트파셜다이를 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 패키지를 얻어내는 단계와; 상기 단계에 의해 얻어진 패키지를 이용하여 싱글인라인 메모리 모듈로 조립하는 단계와; 상기 단계에서 조립된 메모리 모듈장치를 실장 및 신뢰성 테스트 하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 포트파셜다이/리젝다이를 이용한 반도체 메모리 모듈 제조방법.Manufacturing a wafer through various semiconductor manufacturing processes according to a circuit pattern designed on the wafer; Checking the wafer manufactured in the step into a good die and a potial die through an electrical die sorting test; Marking the potial die through a wafer level test after the step; Performing an assembly unit process using the potted die which has undergone the above steps to obtain a package; Assembling a single in-line memory module using the package obtained by the above steps; A method of manufacturing a semiconductor memory module using a potial die / reject die, characterized in that the step of mounting and reliability test the memory module device assembled in the step. 웨이퍼 상에서 설계된 회로 패턴에 따라 각종 반도체 제조 공정을 거쳐서 웨이퍼를 제조하고, 상기 웨이퍼를 전기적 다이 소팅 테스트를 통하여 굳다이와 포트파셜다이로 구분하여 체킹하고, 웨이퍼 레벨 테스트를 통하여 상기 포트파셜다이를 마킹하고, 상기 포트파셜다이를 이용하여 조립 단위 공정을 수행하여 제조된 복수의 패키지와; 상기 패키지들이 시리얼 단위로 배치되며, 상기 각각의 패키지에 해당하는 신호의 입출력단들과 각기 공통으로 접속되는 신호라인과, 상기 신호라인과 각기 연결된 태브단자를 갖는 인쇄회로기판;을 포함하는 것을 특징으로 하는 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치.The wafer is manufactured through various semiconductor manufacturing processes according to a circuit pattern designed on the wafer, and the wafer is divided into good die and a partial die by an electrical die sorting test, and the wafer is marked by a wafer level test. A plurality of packages manufactured by performing an assembly unit process using the pot partial die; And a printed circuit board having the package arranged in serial units and having a signal line connected to the input / output terminals of the signal corresponding to each package in common, and a tab terminal connected to the signal line, respectively. A semiconductor memory module device using a port partial die. 제2항에 있어서, 상기 포트파셜다이는 4M×2단위의 16M의 용량을 갖는 2포트파셜다이인 것을 특징으로 하는 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치.3. The semiconductor memory module device according to claim 2, wherein the port partial die is a two port partial die having a capacity of 16M of 4M × 2 units. 제2항에 있어서, 상기 포트파셜다이는 16M×2단위의 64M 용량을 갖는 2포트파셜다이인 것을 구성함을 특징으로 하는 포트파셜다이를 이용한 반도체 메모리 모듈장치.3. The semiconductor memory module device according to claim 2, wherein the port partial die is a two port partial die having a capacity of 64M of 16M × 2 units.
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