JPWO2018207578A1 - 圧電マイクロフォンチップおよび圧電マイクロフォン - Google Patents
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Abstract
Description
薄板の一方の面に設けられた、薄板の外縁を支持する外縁支持部および外縁支持部と共働して薄板を複数のダイヤフラムに仕切る分離支持部からなるダイヤフラム支持構造と、
各ダイヤフラム上に、各ダイヤフラム側から第1の電極、圧電体膜および第2の電極が順に積層されてなる、単数もしくは複数の圧電変換部と、
複数のダイヤフラム上に設けられている圧電変換部からの出力を検出する信号検出回路とを備え、
外縁支持部の厚みt1と、分離支持部の厚みt2と、薄板の厚みtdの関係が
13.3×td<t2<t1−20μm
である。
Pb(Zry,Tiz,Nb1−y−z)O3,0.06<1−y−z<0.14
で表されるペロブスカイト型酸化物からなることが好ましい。
パッケージ内に配置された、本発明の圧電マイクロフォンチップとを備え、
圧電マイクロフォンチップが、集音孔を外縁支持部で囲む位置に配置されている圧電マイクロフォンである。
13.3×td<t2<t1−20μm
である。
本実施形態においては、1つのダイヤフラム11上に1つの圧電変換部30を備えたものを示しているが、1つのダイヤフラム11上に複数の圧電変換部を備えていてもよい。
図3Aに示すように、2つの圧電変換部30a、30bの出力が同位相である場合、一方の圧電変換部30aの第2の電極36aを他方の圧電変換部30bの第1の電極32bと導線により電気的に接続する。2つの圧電変換部30a、30bの出力が同位相であるとは、例えば、圧力を受けるといずれも内部に引っ張り応力が生じるものであり、第1の電極32a、32bが正極、第2の電極36a、36bが負極となる場合である。この場合、上記の電極接続により2つの圧電変換部30a、30bが直列接続されることになる。そして、一方の圧電変換部30aの第1の電極32aと、他方の圧電変換部30bの第2の電極36b間の電位差V1−V2が、加算された出力電圧となる。
他方、複数の圧電変換部を接続して、信号を検出することも可能である。並列接続の場合には、信号強度は低下するが出力容量が上がるため、ノイズを低減することができる。そのため、結果としてS/Nを向上させることができる。
第1の電極32の主成分としては、特に制限はなく、Au、Pt、Ir、IrO2、RuO2、LaNiO3、およびSrRuO3等の金属または金属酸化物、および、これらの組合せが挙げられる。
第2の電極36の主成分としては、特に制限なく、第1の電極32で例示した材料、Al、Ti、Ta、Cr、およびCu等の一般的に半導体プロセスで用いられている電極材料、およびこれらの組合せが挙げられる。
(式中、A:Aサイト元素であり、Pbを含む少なくとも1種の元素、B:Bサイトの元素であり、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Sc、Co、Cu、In、Sn、Ga、Zn、Cd、Fe、Ni、およびランタニド元素からなる群より選ばれた少なくとも1種の元素、O:酸素原子。
A:B:Oのモル比は1:1:3が標準であるが、このモル比はペロブスカイト構造を取り得る範囲内でずれてもよい。)
比較例のチップ121が、集音孔111に対してチップが正しいマウント位置に配置された場合(図6中パターンP3)には、特に問題なく、複数のダイヤフラム構造を備えた効果を得ることができる。一方、チップ121のマウント位置ズレが発生した場合(図6中パターンP4)には、分離支持部124と基台112とにより一部のキャビティ126aが塞がれてしまう。そのため、音圧Spがキャビティ126aに入らず、音圧検出機能が働かない状況が生じ得る。このとき、チップ121の複数のダイヤフラムのうちの一部のみで音圧検出を行うことになるため、信号強度が低下し、S/Nの低下につながる。このように、分離支持部124が外縁支持部122と同じ長さの場合、ダイヤフラムのアレイ数nが増加し、一つ一つの背面キャビティが小型化すると、数10μm程度のわずかなアライメントズレによってもいくつかのキャビティが塞がれてしまう。
図10は、圧電マイクロフォンチップ2の図7Bに示した断面における製造工程を示す。図10において、SOI基板表面の圧電変換部は省略している。
フォトレジスト40をマスクとして、Siからなるハンドル層14を深堀エッチングする(S4−3)。
実施例1〜4および比較例1〜3のマイクロフォンを作製した。
周囲に設けられている圧電変換部a11〜a14のうち、対向する2つの圧電変換部a11とa13、およびa12とa14は対称な形状を有する。そのうちx方向に延びる圧電変換部a11、a13のx方向に延びる長い方の辺の長さをW1x、x方向に延びる短い方の辺の長さをW2xとし、y方向の幅をHxとする。また、y方向の延びる圧電変換部a12、a14のy方向に延びる長い方の辺の長さをW1y、y方向に延びる短い方の辺の長さをW2yとし、x方向の幅をHyとする。
なお、表1におけるダイヤフラム数はダイヤフラムアレイ領域内に設けたダイヤフラム構造の数である。また、表2における直列接続数はダイヤフラムアレイ領域上に設けられた全ての圧電変換部の総数である。
なお、Pad−3は、圧電体膜の分極処理の際、接地電位として用いるための電極である。実施例1〜4および比較例1〜3については、Nb添加のPZT膜をスパッタ法により成膜したため、自発的に分極が揃っており分極処理は不要であるが、後述の比較例4との比較のため、便宜上用意した。
マイクロフォンの出力端子を、増幅率10倍の非反転増幅回路を構成するオペアンプの正極側入力に接続した。オペアンプの出力端子から出力される電圧信号Voutの周波数特性をインピーダンスアナライザによって読み取った。
S=20×log10(Vout_s)
ここで、f1=100Hz,f2=20kHz,A(f)は音響A特性の重みである。
上記測定により得られたS/N、共振周波数frを表2に示した。
t2が大きすぎる場合、実装後に各ダイヤフラム背面のキャビティ同士の連結が不十分となるため、キャビティ内の空気が硬いバネとして機能してしまい、ダイヤフラムの変位を阻害して感度が低下する。逆に、t2が小さすぎる場合、ダイヤフラムの厚みに近づき、各ダイヤフラムを保持するフレームとしての機能が低下する。これにより、すべてのダイヤフラムが一体となって振動してしまう。すべてのダイヤフラムが一体となって振動すると、共振周波数の低下を引き起こし、設計通りのマイクロフォンが実現できない。図16に、ダイヤフラムの厚みtdが1.5μm、3μmの場合について、分離支持部の厚みt2とダイヤフラムの厚みtdの比t2/tdと、ダイヤフラムの一次共振周波数の関係を有限要素法によって計算した結果をプロットした。図16において、縦軸は、t2がtdより十分厚く、確実にフレームとして機能している場合の共振周波数で規格化した共振周波数である。分離支持部の幅を3倍に増やしたシミュレーションも同様に行った結果、ほぼ同様の傾向が得られた。
有限要素法によりLd、td、t2を変化させた場合のダイヤフラム厚みtdに対する分離支持部の厚みt2の比t2/tdおよび規格化共振周波数を求めた結果を表3に示す。なお、図17は表3の結果をプロットしたグラフである。
実施例5、6および7として、上記実施例2と同一の構成であり、圧電体膜の組成のみ変化させたマイクロフォンチップを作製し、それぞれパッケージに組み込みマイクロフォンとした。PZTにおけるNb添加量を実施例5では6%、実施例6では14%、実施例7では0%(無添加)とした。
各マイクロフォンについて共振周波数、S/Nの測定は上記の場合と同様とした。測定結果は表4に示す。
ここでは、PZT膜への分極処理の有無によるS/Nの変化も測定している。分極処理は、図14および図15に示したPad−3を接地電位として、Pad−1およびPad−2にマイナスの分極電圧Vpを印加して実施した。分極処理の電圧は−20Vおよび−50Vの2種類とし、印加時間は5分とした。
2 第2の圧電マイクロフォンチップ
10 薄板
11 ダイヤフラム
12 ダイヤフラム構造
14 ハンドル層
15 ボックス層
16 デバイス層
17 酸化膜
18 酸化膜
19 SOI基板
20 ダイヤフラム支持構造
22 外縁支持部
24 分離支持部
26、26a、26b 背面キャビティ
28 共通キャビティ部
30、30a〜30h 圧電変換部
32、32a、32b 第1の電極
34 圧電体膜
36、36a、36b 第2の電極
38 絶縁膜
39 接続電極
40 フォトレジスト
51、51a〜51d ダイヤフラム
100 圧電マイクロフォン
102 信号増幅用アンプ
104 接着剤
106 ボンディングワイヤ
110 パッケージ
111 集音孔
112 基台
114 メタルリッド
121 チップ
122 外縁支持部
124 分離支持部
126a キャビティ
Claims (6)
- 1枚の薄板と、
該薄板の一方の面に設けられた、該薄板の外縁を支持する外縁支持部および該外縁支持部と共働して前記薄板を複数のダイヤフラムに仕切る分離支持部からなるダイヤフラム支持構造と、
前記各ダイヤフラム上に、該各ダイヤフラム側から第1の電極、圧電体膜および第2の電極が順に積層されてなる、単数もしくは複数の圧電変換部と、
前記複数のダイヤフラム上に設けられている前記圧電変換部からの出力を検出する信号検出回路とを備え、
前記外縁支持部の厚みt1と、前記分離支持部の厚みt2と、前記薄板の厚みtdの関係が
13.3×td<t2<t1−20μm
である圧電マイクロフォンチップ。 - 前記信号検出回路が、前記複数の圧電変換部の各圧電変換部の電圧出力を加算して検出する請求項1記載の圧電マイクロフォンチップ。
- 前記複数の圧電変換部のうちの少なくとも2つの圧電変換部の電圧出力が同位相であり、
前記信号検出回路が、前記2つの圧電変換部の一方の第2の電極と、他方の第1の電極とを電気接続する導線を有することにより、該2つの圧電変換部の電圧出力を加算する請求項2記載の圧電マイクロフォンチップ。 - 前記複数の圧電変換部のうちの少なくとも2つの圧電変換部の電圧出力が逆位相であり、
前記信号検出回路が、前記2つの圧電変換部の一方の第1の電極と、他方の第1の電極とを電気接続する導線を有することにより、該2つの圧電変換部の電圧出力を加算する請求項2記載の圧電マイクロフォンチップ。 - 前記圧電体膜が、
Pb(Zry,Tiz,Nb1−y−z)O3,0.06<1−y−z<0.14
で表されるペロブスカイト型酸化物からなる請求項1から4いずれか1項記載の圧電マイクロフォンチップ。 - 1つの集音孔を備えたパッケージと、
該パッケージ内に配置された、請求項1から5いずれか1項記載の圧電マイクロフォンチップとを備え、
前記圧電マイクロフォンチップが、前記集音孔を前記外縁支持部で囲む位置に配置されている圧電マイクロフォン。
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---|---|---|---|---|
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CN110545514B (zh) * | 2019-08-16 | 2021-01-08 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 压电式mems麦克风 |
CN110650420B (zh) * | 2019-08-16 | 2021-01-08 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 压电式mems麦克风 |
CN110545511B (zh) * | 2019-08-16 | 2021-05-07 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 压电式mems麦克风 |
CN111372178B (zh) * | 2019-12-15 | 2022-01-11 | 瑞声科技(新加坡)有限公司 | 一种mems麦克风、阵列结构及加工方法 |
WO2021134334A1 (zh) * | 2019-12-30 | 2021-07-08 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 一种mems麦克风 |
CN111148000B (zh) * | 2019-12-31 | 2021-10-22 | 瑞声科技(南京)有限公司 | 一种mems麦克风及阵列结构 |
WO2021134671A1 (zh) * | 2019-12-31 | 2021-07-08 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 压电mems麦克风及压电mems麦克风的制备方法 |
CN111294715B (zh) * | 2020-03-02 | 2021-05-04 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 压电mems麦克风 |
CN111328005B (zh) * | 2020-03-10 | 2021-09-10 | 瑞声声学科技(深圳)有限公司 | 压电式mems麦克风 |
CN111669690A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-09-15 | 瑞声科技(南京)有限公司 | 一种压电式麦克风及其制备工艺 |
CN113132876B (zh) * | 2021-03-01 | 2023-08-04 | 歌尔微电子股份有限公司 | 微机电麦克风及电子设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63134563A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-07 | 矢崎総業株式会社 | 圧電性磁器組成物 |
JP2012242398A (ja) * | 2011-05-23 | 2012-12-10 | General Electric Co <Ge> | 環境的影響力を測定するためのデバイスおよび同デバイスを製作する方法 |
JP2017022576A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | ローム株式会社 | 圧電薄膜マイクロフォンの構造および製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3318687B2 (ja) * | 1993-06-08 | 2002-08-26 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法 |
US6924584B2 (en) * | 2002-12-13 | 2005-08-02 | Palo Alto Research Center Inc. | Piezoelectric transducers utilizing sub-diaphragms |
WO2007024909A1 (en) * | 2005-08-23 | 2007-03-01 | Analog Devices, Inc. | Multi-microphone system |
JP4538493B2 (ja) * | 2007-12-18 | 2010-09-08 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子 |
CN102440005B (zh) * | 2009-05-25 | 2014-09-24 | 株式会社日立医疗器械 | 超声波换能器及利用该超声波换能器的超声波诊断装置 |
EP2528125B1 (en) * | 2010-09-24 | 2014-11-26 | BlackBerry Limited | Piezoelectric actuator assembly |
KR20120036631A (ko) * | 2010-10-08 | 2012-04-18 | 삼성전자주식회사 | 압전형 마이크로 스피커 및 그 제조방법 |
KR20120056020A (ko) * | 2010-11-24 | 2012-06-01 | 삼성전자주식회사 | 마이크로 음향 변환기 |
KR20120080882A (ko) * | 2011-01-10 | 2012-07-18 | 삼성전자주식회사 | 음향 변환기 및 그 구동방법 |
JP5338825B2 (ja) * | 2011-02-23 | 2013-11-13 | オムロン株式会社 | 音響センサ及びマイクロフォン |
JP5751026B2 (ja) | 2011-05-31 | 2015-07-22 | セイコーエプソン株式会社 | 超音波トランスデューサー、生体センサー、及び超音波トランスデューサーの製造方法 |
JP5874208B2 (ja) | 2011-06-15 | 2016-03-02 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電センサー装置、超音波センサー、および圧電センサー装置の駆動方法 |
CN104012113B (zh) * | 2012-12-25 | 2018-02-13 | 京瓷株式会社 | 音响发生器、音响发生装置以及电子设备 |
JP6211866B2 (ja) * | 2013-09-20 | 2017-10-11 | 株式会社東芝 | 圧力センサ、マイクロフォン、血圧センサおよびタッチパネル |
JP6154729B2 (ja) * | 2013-10-28 | 2017-06-28 | 富士フイルム株式会社 | 圧電体素子の製造方法 |
JP6476633B2 (ja) * | 2014-07-31 | 2019-03-06 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電デバイス |
WO2016107975A1 (en) * | 2014-12-31 | 2016-07-07 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Piezoelectric mems transducer |
-
2018
- 2018-04-18 EP EP18798276.4A patent/EP3624464B1/en active Active
- 2018-04-18 WO PCT/JP2018/016052 patent/WO2018207578A1/ja unknown
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-
2019
- 2019-10-31 US US16/669,515 patent/US11477580B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63134563A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-07 | 矢崎総業株式会社 | 圧電性磁器組成物 |
JP2012242398A (ja) * | 2011-05-23 | 2012-12-10 | General Electric Co <Ge> | 環境的影響力を測定するためのデバイスおよび同デバイスを製作する方法 |
JP2017022576A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | ローム株式会社 | 圧電薄膜マイクロフォンの構造および製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3624464A4 (en) | 2020-04-01 |
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