JPWO2008133246A1 - Epoxy resin composition, resin film, prepreg, and multilayer printed wiring board - Google Patents

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Abstract

【課題】エポキシ樹脂組成物の硬化物からなる表面粗度が低い基材表面にめっきを形成する場合において、エポキシ樹脂組成物にハロゲン系難燃剤を含有させなくとも、難燃性を維持でき、優れためっきの密着性を維持する基材を得ることができるエポキシ樹脂組成物、この組成物から得られる樹脂フィルム及びプリプレグ、この組成物から樹脂絶縁層が形成された多層プリント配線板を提供することを目的とする。【解決手段】平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)と、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)とを含み、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比が、0.25〜2であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を用いる。[PROBLEMS] To maintain flame retardancy without forming a halogen-based flame retardant in an epoxy resin composition when plating is formed on a substrate surface having a low surface roughness composed of a cured product of an epoxy resin composition. Provided are an epoxy resin composition capable of obtaining a substrate that maintains excellent plating adhesion, a resin film and a prepreg obtained from the composition, and a multilayer printed wiring board having a resin insulating layer formed from the composition For the purpose. A biphenyl type epoxy resin (A) having an average epoxy equivalent of less than 450, a bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more, and a phenolic novolac resin having a triazine ring in the molecule. (C), and the mass ratio of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) is 0.25 to 2, and an epoxy resin composition is used.

Description

本発明は、エポキシ樹脂組成物に関し、特に、めっき工程を用いたビルドアップ法によるプリント配線板等の樹脂絶縁層を形成するために好適に用いられるエポキシ樹脂組成物に関する。また、このようなエポキシ樹脂組成物を用いた樹脂フィルム、プリプレグ、及び多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition, and more particularly to an epoxy resin composition suitably used for forming a resin insulation layer such as a printed wiring board by a build-up method using a plating process. Moreover, it is related with the resin film, prepreg, and multilayer printed wiring board using such an epoxy resin composition.

エポキシ樹脂組成物は、その優れた接着性、電気絶縁性、及び耐薬品性等から、プリント配線板材料として広く用いられている。   Epoxy resin compositions are widely used as printed wiring board materials because of their excellent adhesion, electrical insulation, chemical resistance, and the like.

エポキシ樹脂材料を用いたプリント配線板の製造方法としては、エポキシ樹脂組成物の硬化物からなる基材表面を酸化剤等の粗化液により粗化処理して、粗化処理された基材表面にめっき工程を用いて導体層(めっき層)を形成したのち、回路パターンをエッチングして回路形成する方法が広く用いられている。上記粗化処理は、めっき工程で形成されるめっき層との密着性を高めるために表面を荒らす工程である。従来行われている粗化処理においては、粗化表面の凹凸の高低差が、十点平均粗さRz=10μm、算術平均粗さRa=1μmのように表面の粗さを比較的高めることにより、めっき密着強度を高めている。   As a method for producing a printed wiring board using an epoxy resin material, a roughened substrate surface is obtained by roughening a substrate surface made of a cured epoxy resin composition with a roughening liquid such as an oxidizing agent. A method of forming a circuit by etching a circuit pattern after forming a conductor layer (plating layer) using a plating process is widely used. The said roughening process is a process of roughening the surface in order to improve adhesiveness with the plating layer formed at a plating process. In the conventional roughening treatment, the unevenness of the roughened surface has a relatively high surface roughness such as ten-point average roughness Rz = 10 μm and arithmetic average roughness Ra = 1 μm. The plating adhesion strength is increased.

しかしながら、近年求められているような、回路の配線間隔の狭いファインピッチ、例えば、配線間隔が10〜20μmの回路を形成する場合、上記のように表面粗さが比較的大きい基材表面に形成されためっき層には、表面が粗すぎるために正確な回路パターンを形成することが困難であった。従って、上記のようなファインピッチの回路を形成する場合には、比較的粗化度の低い、例えば十点平均粗さRz=3μm以下、算術平均粗さRa=0.3μm以下のような基材表面に形成されためっき層が用いられている。   However, when a circuit having a fine pitch with a narrow wiring interval, for example, a wiring interval of 10 to 20 μm as required in recent years, is formed on the surface of a substrate having a relatively large surface roughness as described above. Since the surface of the plated layer was too rough, it was difficult to form an accurate circuit pattern. Therefore, when forming a fine pitch circuit as described above, a base having a relatively low roughness, for example, a ten-point average roughness Rz = 3 μm or less and an arithmetic average roughness Ra = 0.3 μm or less. A plating layer formed on the material surface is used.

ところで、エポキシ樹脂は、比較的難燃性に乏しいために、プリント配線板に用いられるエポキシ樹脂組成物には、一般的に、臭素系難燃剤等のハロゲン系難燃剤や、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂等のハロゲン含有エポキシ樹脂等の難燃性を付与する効果の高いハロゲン系難燃剤が配合されている。しかしながら、このようなハロゲンを含有するエポキシ樹脂組成物の硬化物は、燃焼時にハロゲン化水素等の有害物質を生成するおそれがあり、人体や自然環境に対し悪影響を及ぼすという欠点を有している。   By the way, since epoxy resin is relatively poor in flame retardancy, epoxy resin compositions used for printed wiring boards are generally halogenated flame retardants such as brominated flame retardants and tetrabromobisphenol A type. A halogen-based flame retardant having a high effect of imparting flame retardancy such as a halogen-containing epoxy resin such as an epoxy resin is blended. However, a cured product of such an epoxy resin composition containing a halogen may generate harmful substances such as hydrogen halide at the time of combustion, and has a drawback of adversely affecting the human body and the natural environment. .

この欠点を解消するために、例えば、ハロゲン系難燃剤の代わりに、フェノキシホスファゼン化合物等のリン化合物を配合し、さらに、エポキシ樹脂として、ノボラック型エポキシ樹脂、硬化剤として、アミノ変性ノボラック型フェノール樹脂を用いたハロゲンを含有しないエポキシ樹脂組成物が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to eliminate this drawback, for example, a phosphorus compound such as a phenoxyphosphazene compound is blended in place of the halogen-based flame retardant, and further, a novolac type epoxy resin is used as an epoxy resin, and an amino-modified novolak type phenol resin is used as a curing agent. An epoxy resin composition containing no halogen is disclosed (for example, see Patent Document 1).

しかしながら、特許文献1に記載されたようなハロゲン系難燃剤を含有しないエポキシ樹脂組成物を用いた、粗化度が低い基材の表面にめっきを形成した場合、めっきの密着性が乏しくなるという現象が生じた。
特許3650090号公報
However, when plating is formed on the surface of a base material with a low degree of roughening using an epoxy resin composition that does not contain a halogen-based flame retardant as described in Patent Document 1, the adhesion of plating is poor. A phenomenon occurred.
Japanese Patent No. 36550090

本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、エポキシ樹脂組成物の硬化物からなる表面粗度が低い基材表面にめっきを形成する場合において、エポキシ樹脂組成物にハロゲン系難燃剤を含有させなくとも、難燃性を維持でき、優れためっきの密着性を維持する基材を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and in the case where plating is formed on a substrate surface having a low surface roughness made of a cured product of an epoxy resin composition, the halogen-based flame retardant is added to the epoxy resin composition. Even if it does not contain, it aims at providing the epoxy resin composition which can maintain a flame retardance and can obtain the base material which maintains the adhesiveness of the outstanding plating.

本発明の一局面に係るエポキシ樹脂組成物は、平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)と、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)とを含み、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。   The epoxy resin composition according to one aspect of the present invention includes a biphenyl type epoxy resin (A) having an average epoxy equivalent of less than 450, a bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more, and a molecule. And a phenolic novolak resin (C) having a triazine ring, and a mass ratio (B / A) of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) is 0.25 to 2 It is an epoxy resin composition characterized by being.

本発明の目的、特徴、局面及び利点は、以下の詳細な説明によって、より明白となる。   Objects, features, aspects and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description.

以下、本発明を実施の形態により説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具現化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to embodiments. The following embodiment is an example embodying the present invention, and does not limit the technical scope of the present invention.

(エポキシ樹脂組成物)
本実施形態に係るエポキシ樹脂組成物は、平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)と、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)とを含み、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2であることを特徴とするものである。なお、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)及び前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の合計の含有量が、全エポキシ樹脂量に対して、40質量%以上であることが好ましく、さらに50質量%以上であることがより好ましい。
(Epoxy resin composition)
The epoxy resin composition according to the present embodiment includes a biphenyl type epoxy resin (A) having an average epoxy equivalent of less than 450, a bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more, and triazine in the molecule. A phenolic novolak resin (C) having a ring, and a mass ratio (B / A) of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) is 0.25 to 2. It is characterized by. The total content of the biphenyl type epoxy resin (A) and the bisphenol A type epoxy resin (B) is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total amount of epoxy resin. It is more preferable that

前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)は、平均のエポキシ当量が450未満のものであり、400以下が好ましく、350以下がより好ましい。エポキシ当量が450以上の場合には、このエポキシ樹脂によって形成される硬化部分の架橋密度が、後述するビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)によって形成される硬化部分の架橋密度とあまり変わらず、全体的に架橋密度の比較的低い硬化物となる傾向がある。よって、粗化処理すると表面粗さが大きくなりすぎて、高密度化した多層プリント配線板を得ることが困難になることがある。また、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)の平均のエポキシ当量は、150以上であることが好ましい。平均のエポキシ当量が小さすぎる場合には、架橋密度の高すぎる硬化部分が形成されるので、粗化処理して形成される表面の表面粗さが小さくなりすぎて、めっき密着性が低下する傾向がある。   The biphenyl type epoxy resin (A) has an average epoxy equivalent of less than 450, preferably 400 or less, and more preferably 350 or less. When the epoxy equivalent is 450 or more, the crosslink density of the cured portion formed by this epoxy resin is not much different from the crosslink density of the cured portion formed by bisphenol A type epoxy resin (B), which will be described later. Tends to be a cured product having a relatively low crosslinking density. Therefore, when the roughening treatment is performed, the surface roughness becomes too large, and it may be difficult to obtain a high-density multilayer printed wiring board. Moreover, it is preferable that the average epoxy equivalent of the said biphenyl type epoxy resin (A) is 150 or more. When the average epoxy equivalent is too small, a cured portion having a too high crosslinking density is formed, so that the surface roughness of the surface formed by the roughening treatment becomes too small and the plating adhesion tends to be lowered. There is.

前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)の具体例としては、例えば、下記一般式(1)に示すような構造を有する日本化薬(株)製のNC3000H(平均のエポキシ当量290)や日本化薬(株)製のNC3000FH(平均のエポキシ当量336)等が挙げられる。   Specific examples of the biphenyl type epoxy resin (A) include, for example, NC3000H (average epoxy equivalent 290) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. having a structure as shown in the following general formula (1), Nippon Kayaku ( NC3000FH (average epoxy equivalent 336) manufactured by Co., Ltd.

Figure 2008133246
(式中、nは、1〜10を示す。)
Figure 2008133246
(In the formula, n represents 1 to 10.)

また、前記エポキシ樹脂組成物において、平均のエポキシ当量が300以下のエポキシ樹脂であって、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)以外のエポキシ樹脂を含んでいてもよい。このようなエポキシ樹脂の具体例としては、例えば、平均のエポキシ当量が300以下の、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、多官能フェノールのジグリシジルエーテル化合物、多官能アルコールのジグリシジルエーテル化合物、フェノール類とホルムアルデヒドの重縮合物のグリシジルエーテル化物であるフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは、単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、平均のエポキシ当量が300以下のフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)が、得られる硬化物のガラス転移温度Tgを向上させ、強度面に優れる硬化部が得られるという点で好ましい。さらに、平均のエポキシ当量が300以下のフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)と、平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)とを併用することによって、より伸びやすい硬化物を形成でき、めっきの追従性が高いという効果をより発揮できる点でより好ましい。このことは、常温で液状である平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)をさらに含むことによって、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)と前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と前記フェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)とを混合して、フィルム等の硬化物を得る際、これらの樹脂組成が均質化することに起因すると考えられる。一般的に靭性や強度を向上させても、部分的にでも脆弱な部分があると、その脆弱な部分を起点に皮膜は破断して伸びが悪化することが知られているが、平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)をさらに含むことによって、上記のような脆弱な部分を減らすので、伸びやすいものが得られると考えられる。   Moreover, the said epoxy resin composition is an epoxy resin whose average epoxy equivalent is 300 or less, Comprising: Epoxy resins other than the said biphenyl type epoxy resin (A) may be included. Specific examples of such epoxy resins include, for example, bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, and alicyclic epoxies having an average epoxy equivalent of 300 or less. Resin, diglycidyl ether compound of polyfunctional phenol, diglycidyl ether compound of polyfunctional alcohol, phenolic novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak which is glycidyl etherified product of polycondensate of phenol and formaldehyde Type epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, a phenol-based novolak type epoxy resin (E) having an average epoxy equivalent of 300 or less is preferable in that it can improve the glass transition temperature Tg of the obtained cured product and provide a cured portion having excellent strength. Furthermore, by using a phenolic novolac type epoxy resin (E) having an average epoxy equivalent of 300 or less and a bisphenol A type epoxy resin (F) having an average epoxy equivalent of 300 or less in combination, a cured product that is more easily stretched is obtained. It is more preferable in that it can be formed and the effect of high plating followability can be exhibited. This is because the biphenyl type epoxy resin (A) and the bisphenol A type epoxy resin (B) are further included by further including a bisphenol A type epoxy resin (F) having an average epoxy equivalent that is liquid at room temperature of 300 or less. It is considered that these resin compositions are homogenized when the phenolic novolac epoxy resin (E) is mixed to obtain a cured product such as a film. Generally, it is known that even if the toughness and strength are improved, but there is a part that is fragile, the film breaks from the fragile part and the elongation deteriorates. By further including the bisphenol A type epoxy resin (F) having an equivalent weight of 300 or less, the fragile parts as described above are reduced, and it is considered that an easily stretchable product can be obtained.

前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)は、平均のエポキシ当量が450以上のものである。前記平均のエポキシ当量が450未満の場合には、このエポキシ樹脂によって形成される硬化部分の架橋密度が、前記エポキシ樹脂(A)によって形成される硬化部分の架橋密度とあまり変わらず、全体的に架橋密度の比較的高い硬化物となる。よって、前記表面粗さが小さくなりすぎて、めっき密着性が低下する。また、前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の平均のエポキシ当量が500以下であることが好ましい。平均のエポキシ当量が大きすぎる場合には、架橋密度の低すぎる硬化部分が形成されるので、前記表面粗さが大きくなりすぎる傾向がある。前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の好ましい具体例は、例えば、大日本インキ化学工業(株)製1051(ビスフェノールA型固形エポキシ樹脂,平均のエポキシ当量480)等が挙げられる。   The bisphenol A type epoxy resin (B) has an average epoxy equivalent of 450 or more. When the average epoxy equivalent is less than 450, the crosslink density of the cured portion formed by the epoxy resin is not much different from the crosslink density of the cured portion formed by the epoxy resin (A). The cured product has a relatively high crosslink density. Therefore, the surface roughness becomes too small and the plating adhesion is lowered. Moreover, it is preferable that the average epoxy equivalent of the said bisphenol A type epoxy resin (B) is 500 or less. When the average epoxy equivalent is too large, a cured portion having a too low crosslinking density is formed, so that the surface roughness tends to be too large. Preferable specific examples of the bisphenol A type epoxy resin (B) include, for example, 1051 (bisphenol A type solid epoxy resin, average epoxy equivalent 480) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.

また、前記エポキシ樹脂組成物において、平均のエポキシ当量が450以上のエポキシ樹脂であって、前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)以外のエポキシ樹脂を含んでいてもよい。このようなエポキシ樹脂の具体例としては、例えば、平均のエポキシ当量が450以上の、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、多官能フェノールのジグリシジルエーテル化合物、多官能アルコールのジグリシジルエーテル化合物、フェノール類とホルムアルデヒドの重縮合物のグリシジルエーテル化物であるフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Moreover, the said epoxy resin composition is an epoxy resin whose average epoxy equivalent is 450 or more, Comprising: Epoxy resins other than the said bisphenol A type epoxy resin (B) may be included. Specific examples of such an epoxy resin include, for example, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, difunctional phenol diphenol having an average epoxy equivalent of 450 or more. Examples include glycidyl ether compounds, diglycidyl ether compounds of polyfunctional alcohols, phenolic novolac epoxy resins, cresol novolac epoxy resins, bisphenol A novolac epoxy resins that are glycidyl etherified products of polycondensates of phenols and formaldehyde. . These may be used alone or in combination of two or more.

また、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)及び前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)としては、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)の平均のエポキシ当量と前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の平均のエポキシ当量との差が、200〜400となるようなエポキシ樹脂の組合せを選択することが好ましい。前記平均のエポキシ当量の差が小さすぎる場合は、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)及び前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の両エポキシ樹脂により形成される架橋密度の異なる硬化部分の粗化剤に対する溶解性の差が不充分になり、表面粗さが小さいにもかかわらず高いめっき密着性を備えるという本発明の効果の発現が小さくなる傾向がある。また、前記平均のエポキシ当量の差が大きすぎる場合は、架橋密度の差が大きすぎて、表面粗さと密着性のバランスに優れた粗化表面を形成することが困難になる傾向がある。   The biphenyl type epoxy resin (A) and the bisphenol A type epoxy resin (B) include an average epoxy equivalent of the biphenyl type epoxy resin (A) and an average epoxy of the bisphenol A type epoxy resin (B). It is preferable to select a combination of epoxy resins such that the difference from the equivalent is 200 to 400. When the difference in the average epoxy equivalent is too small, the roughening agent for the cured portion having different crosslink densities formed by both the biphenyl type epoxy resin (A) and the bisphenol A type epoxy resin (B) is used. There is a tendency that the difference in solubility becomes insufficient and the expression of the effect of the present invention having high plating adhesion despite the small surface roughness becomes small. Moreover, when the difference of the said average epoxy equivalent is too large, there exists a tendency for it to become difficult to form the roughening surface excellent in the balance of surface roughness and adhesiveness because the difference in crosslinking density is too large.

また、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2である。この質量比が低すぎる場合には、架橋密度が高い部分の割合が高くなりすぎて、粗化処理によって形成される表面の表面粗さが小さくなりすぎる。また、高すぎる場合には、架橋密度が低い部分の割合が高すぎて、粗化処理によって形成される表面の表面粗さが大きくなりすぎる。したがって、前記範囲の質量比であると、樹脂絶縁層内に形成される架橋密度の比較的高い硬化部分と架橋密度の比較的低い硬化部分との比率が好適となり、より高いめっき密着性を発揮する。   Moreover, mass ratio (B / A) of the said bisphenol A type epoxy resin (B) with respect to the said biphenyl type epoxy resin (A) is 0.25-2. When this mass ratio is too low, the ratio of the portion having a high crosslinking density becomes too high, and the surface roughness of the surface formed by the roughening treatment becomes too small. Moreover, when too high, the ratio of the part with low crosslinking density is too high, and the surface roughness of the surface formed by a roughening process becomes large too much. Therefore, when the mass ratio is within the above range, the ratio of the cured portion having a relatively high crosslink density and the cured portion having a relatively low crosslink density formed in the resin insulating layer is suitable, and higher plating adhesion is exhibited. To do.

さらに、難燃性をさらに向上させる観点から、分子中にリン原子を有するリン含有エポキシ樹脂(D)をさらに含むことが好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of further improving the flame retardancy, it is preferable to further include a phosphorus-containing epoxy resin (D) having a phosphorus atom in the molecule.

前記リン含有エポキシ樹脂(D)としては、例えば、分子中にホスファフェナントレン構造を有するエポキシ樹脂が好ましく、分子中にホスファフェナントレン構造を有するビフェニル型エポキシ樹脂(D1)、分子中にホスファフェナントレン構造を有するビスフェノール型エポキシ樹脂(D2)、及び分子中にホスファフェナントレン構造を有するフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(D3)がより好ましい。   As the phosphorus-containing epoxy resin (D), for example, an epoxy resin having a phosphaphenanthrene structure in the molecule is preferable, a biphenyl type epoxy resin (D1) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, and a phosphaphenanthrene in the molecule. A bisphenol type epoxy resin (D2) having a structure and a phenol novolac type epoxy resin (D3) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule are more preferable.

分子中にホスファフェナントレン構造を有するビフェニル型エポキシ樹脂(D1)としては、下記一般式(2)に示すような構造を有する9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド又はその誘導体を用いてビフェニル型エポキシ樹脂を公知の方法で変性することにより得られる各種のホスファフェナントレン構造を有するビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの具体例としては、例えば、下記一般式(3)に示すような構造を有するジャパンエポキシレジン(株)製のYX4000を、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシドを用いて変性して得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。   As a biphenyl type epoxy resin (D1) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10- having a structure represented by the following general formula (2): Examples thereof include biphenyl type epoxy resins having various phosphaphenanthrene structures obtained by modifying a biphenyl type epoxy resin by a known method using an oxide or a derivative thereof. Specific examples thereof include, for example, YX4000 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. having a structure represented by the following general formula (3), 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10. -Epoxy resins obtained by modification with oxides.

Figure 2008133246
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Figure 2008133246
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分子中にホスファフェナントレン構造を有するビスフェノール型エポキシ樹脂(D2)としては、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド又はその誘導体を用いて、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂を公知の方法で変性することにより得られる各種のホスファフェナントレン構造を有するビスフェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは市販品として、例えば、下記式(4)に示すような構造を有する東都化成(株)製のFX305等が入手しうる。 As the bisphenol type epoxy resin (D2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide or a derivative thereof is used, and a bisphenol A type epoxy resin is used. And bisphenol type epoxy resins having various phosphaphenanthrene structures obtained by modifying bisphenol type epoxy resins such as bisphenol F type epoxy resin by a known method. As these products, for example, FX305 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. having a structure as shown in the following formula (4) can be obtained.

Figure 2008133246
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分子中にホスファフェナントレン構造を有するフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(D3)としては、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド又はその誘導体を用いてフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂を公知の方法で変性することにより得られる各種のホスファフェナントレン構造を有するフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは市販品として、例えば、下記式(5)に示すような構造を有する東都化成(株)製のFX289ZA等が入手しうる。   As the phenolic novolak epoxy resin (D3) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, a phenolic novolak type using 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide or a derivative thereof is used. Examples thereof include phenol-based novolak-type epoxy resins having various phosphaphenanthrene structures obtained by modifying an epoxy resin by a known method. As these products, for example, FX289ZA manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. having a structure as shown in the following formula (5) can be obtained.

Figure 2008133246
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また、上記リン含有エポキシ樹脂(D)を含有させる場合、リン原子の含有率が、全エポキシ樹脂量に対して、0.5〜1.5質量%であることが好ましい。この含有率が低すぎる場合、リン含有エポキシ樹脂(D)による難燃性の向上の効果が少なくなる傾向があり、また、この含有率が高すぎる場合、吸水性や耐熱性が悪化する傾向がある。   Moreover, when it contains the said phosphorus containing epoxy resin (D), it is preferable that the content rate of a phosphorus atom is 0.5-1.5 mass% with respect to the total amount of epoxy resins. If this content is too low, the effect of improving flame retardancy by the phosphorus-containing epoxy resin (D) tends to be reduced, and if this content is too high, the water absorption and heat resistance tend to deteriorate. is there.

前記エポキシ樹脂組成物は、硬化剤として、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)を含有する。分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)とは、トリアジン環を有する化合物に由来する構成単位を含有するフェノール系ノボラック樹脂であり、トリアジン環の窒素原子を含有している。硬化剤として、トリアジン環の窒素原子を含有しているフェノール系ノボラック樹脂(C)を用いると、窒素原子を含有しないクレゾールノボラック樹脂等のフェノールノボラック樹脂を用いる場合と比較して、架橋密度の比較的高い硬化部分と架橋密度の比較的低い硬化部分とが均一に混在するので、凹凸の密度がより高まり、より高いめっき密着性を発揮できる。   The epoxy resin composition contains a phenolic novolak resin (C) having a triazine ring in the molecule as a curing agent. The phenolic novolak resin (C) having a triazine ring in the molecule is a phenolic novolak resin containing a structural unit derived from a compound having a triazine ring, and contains a nitrogen atom of the triazine ring. When the phenolic novolak resin (C) containing a nitrogen atom of the triazine ring is used as the curing agent, the crosslinking density is compared with the case of using a phenol novolak resin such as a cresol novolak resin containing no nitrogen atom. Since a highly cured portion and a cured portion having a relatively low crosslinking density are uniformly mixed, the density of the unevenness can be further increased and higher plating adhesion can be exhibited.

前記フェノール系ノボラック樹脂(C)の好ましい具体例としては、例えば、アミノトリアジンノボラック樹脂(C1)等が挙げられる。前記アミノトリアジンノボラック樹脂(C1)は、架橋密度の比較的高い硬化部分と架橋密度の比較的低い硬化部分とがより分散して混在する。よって、凹凸の密度がより高まり、より高いめっき密着性を発揮できる。さらに、アミノトリアジンノボラック樹脂(C1)に含まれるアミノ基が、エポキシ基と架橋密度の低い部分を形成しやすくなる。   Preferable specific examples of the phenol novolak resin (C) include, for example, aminotriazine novolak resin (C1). In the aminotriazine novolak resin (C1), a cured portion having a relatively high crosslinking density and a cured portion having a relatively low crosslinking density are more dispersed and mixed. Therefore, the density of the unevenness is further increased, and higher plating adhesion can be exhibited. Furthermore, the amino group contained in the aminotriazine novolak resin (C1) is likely to form a portion having a low crosslinking density with the epoxy group.

また、前記フェノール系ノボラック樹脂(C)は、分子中に多数の窒素原子を有するので、燃焼時に分解ガスとして窒素ガス等の不燃性ガス又は不活性ガスが大量に発生して、比較的高い難燃性を発揮する。また、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)も比較的難燃性が高い。これらのことから、ビフェニル型エポキシ樹脂(A)とフェノール系ノボラック樹脂(C)とが分散されている本実施形態に係るエポキシ樹脂組成物の硬化物は、ハロゲンを含有しなくても、充分な難燃性を発揮できる。また、フェノール系ノボラック樹脂(C)の水酸基当量(OH当量)は、100〜200であることが好ましい。   In addition, since the phenolic novolak resin (C) has a large number of nitrogen atoms in the molecule, a large amount of incombustible gas or inert gas such as nitrogen gas is generated as a decomposition gas during combustion, which is relatively difficult. Exhibits flammability. Further, the biphenyl type epoxy resin (A) also has a relatively high flame retardancy. From these facts, the cured product of the epoxy resin composition according to the present embodiment in which the biphenyl type epoxy resin (A) and the phenolic novolak resin (C) are dispersed does not contain a halogen. Can exhibit flame retardancy. Moreover, it is preferable that the hydroxyl group equivalent (OH equivalent) of a phenol type novolak resin (C) is 100-200.

前記フェノール系ノボラック樹脂(C)の配合量は、前記エポキシ樹脂(A)と前記エポキシ樹脂(B)とを含む全エポキシ樹脂の平均のエポキシ当量に対するフェノール系ノボラック樹脂(C)の水酸基当量の比(OH当量/エポキシ当量)が、0.3〜0.7になるように調整することが好ましい。この比が低すぎる場合や高すぎる場合には、硬化物の耐熱性が低下する傾向がある。   The amount of the phenolic novolak resin (C) is the ratio of the hydroxyl equivalent of the phenolic novolak resin (C) to the average epoxy equivalent of all the epoxy resins including the epoxy resin (A) and the epoxy resin (B). It is preferable to adjust so that (OH equivalent / epoxy equivalent) is 0.3 to 0.7. When this ratio is too low or too high, the heat resistance of the cured product tends to decrease.

また、前記フェノール系ノボラック樹脂(C)の窒素含有率が、5%以上であることが好ましい。窒素含有率が低すぎる場合、めっき密着性が低下する。   Moreover, it is preferable that the nitrogen content rate of the said phenol type novolak resin (C) is 5% or more. When the nitrogen content is too low, the plating adhesion decreases.

前記フェノール系ノボラック樹脂(C)の好ましい具体例としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「フェノライトシリーズ」として、「フェノライトLA1356(窒素含有率19%)」、「フェノライトLA3018(窒素含有率18%)」、「フェノライトLA7052(窒素含有率8%)」等が挙げられる。   Preferable specific examples of the phenolic novolak resin (C) include, for example, “Phenolite LA1356 (nitrogen content 19%)”, “Phenolite” as “Phenolite series” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. LA3018 (nitrogen content 18%) "," Phenolite LA7052 (nitrogen content 8%) "and the like.

また、前記エポキシ樹脂組成物は、硬化反応を促進するために硬化促進剤を含有してもよい。硬化促進剤としては、エポキシ樹脂と硬化剤との硬化反応を促進することができるものであれば、特に制限することなく使用することができる。具体的には、例えば、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリエチレンジアミン等の三級アミン類、トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン類等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The epoxy resin composition may contain a curing accelerator in order to accelerate the curing reaction. Any curing accelerator can be used without particular limitation as long as it can accelerate the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent. Specific examples include imidazoles such as 2-methylimidazole, tertiary amines such as triethylenediamine, and organic phosphines such as triphenylphosphine. These may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ樹脂組成物は、上記のような樹脂成分とともに無機充填材をさらに含有してもよい。このような無機充填材としては、公知の溶融シリカや結晶シリカ等のシリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、Eガラス粉末、アルミナ、酸化マグネシウム、二酸化チタン、チタン酸バリウム、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、クレイ、タルク等が挙げられる。これらは、単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でもシリカを用いるのが好ましい。前記無機充填材の含有割合は、エポキシ樹脂組成物全量に対して5〜80質量%とすることが好ましい。   The epoxy resin composition may further contain an inorganic filler together with the resin component as described above. Examples of such inorganic fillers include known fused silica and crystalline silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, E glass powder, alumina, magnesium oxide, titanium dioxide, barium titanate, calcium silicate, calcium carbonate. , Clay, talc and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, silica is preferably used. It is preferable that the content rate of the said inorganic filler shall be 5-80 mass% with respect to the epoxy resin composition whole quantity.

また、前記無機充填材としては、平均粒径が1μm以下であることが好ましい。平均粒径が大きすぎる場合は、硬化後の粗化処理時に粗度が大きくなりすぎる可能性がある。なお、前記平均粒径とは、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された重量平均粒子径を意味する。   Moreover, as said inorganic filler, it is preferable that an average particle diameter is 1 micrometer or less. When the average particle size is too large, the roughness may become too large during the roughening treatment after curing. In addition, the said average particle diameter means the weight average particle diameter measured using the laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus.

前記エポキシ樹脂組成物は、さらに、本発明の効果を損なわない範囲でその他の添加剤、例えば、難燃剤、難燃助剤、レベリング剤、着色剤等を必要に応じて含有してもよい。   The epoxy resin composition may further contain other additives, for example, a flame retardant, a flame retardant aid, a leveling agent, a colorant and the like, as necessary, within a range not impairing the effects of the present invention.

また、前記エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて有機溶剤を含有してもよい。前記有機溶剤としては、特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール等のアルコール類、セロソルブ類等を挙げることができる。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Moreover, the said epoxy resin composition may contain the organic solvent as needed. Examples of the organic solvent include, but are not limited to, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, amides such as N, N-dimethylformamide (DMF), ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and the like. Alcohols, cellosolves and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ樹脂組成物は、内層回路基板の導体層が形成された外表面に樹脂ワニスに調整されたエポキシ樹脂組成物を塗布したのち、乾燥することにより樹脂絶縁層を形成したり、予め、前記エポキシ樹脂組成物からなる樹脂フィルムやプリプレグを形成しておき、このような樹脂フィルムやプリプレグを内層回路基板の導体層が形成された外表面に載置して、加圧・加熱等により貼り合せて形成することができる。   The epoxy resin composition is formed by applying an epoxy resin composition adjusted to a resin varnish on the outer surface on which the conductor layer of the inner circuit board is formed, and then drying to form a resin insulation layer, A resin film or prepreg made of an epoxy resin composition is formed, and the resin film or prepreg is placed on the outer surface of the inner circuit board on which the conductor layer is formed, and bonded together by pressing or heating. Can be formed.

以下に、前記エポキシ樹脂組成物を用いた樹脂フィルム、プリプレグ及び多層プリント配線板に係る各実施形態について更に詳しく説明する。   Below, each embodiment which concerns on the resin film, prepreg, and multilayer printed wiring board using the said epoxy resin composition is demonstrated in detail.

(樹脂フィルム)
本実施形態に係る前記樹脂フィルムは、前記エポキシ樹脂組成物から形成されるものである。このような樹脂フィルムは、前記エポキシ樹脂組成物から形成される樹脂ワニスを用いて、キャスティング法等によって作製することができる。例えば、前記樹脂ワニスを支持フィルムの一方の面に5〜100μmの厚みとなるように塗布した後、80〜160℃で1〜40分加熱乾燥し、溶剤を除去するとともに樹脂成分を半硬化(Bステージ化)させてフィルム状に成形することによって行う。このとき樹脂フィルムの厚みは、5〜80μmであることが好ましい。また、支持フィルム上に樹脂ワニスを塗布・乾燥した後、保護フィルムを貼付しておくと、真空ラミネータの適用に好適な樹脂フィルムとすることができ、例えば、多層プリント配線板の樹脂絶縁層に供される。
(Resin film)
The resin film according to the present embodiment is formed from the epoxy resin composition. Such a resin film can be produced by a casting method or the like using a resin varnish formed from the epoxy resin composition. For example, after applying the resin varnish to one surface of the support film so as to have a thickness of 5 to 100 μm, the resin varnish is dried by heating at 80 to 160 ° C. for 1 to 40 minutes to remove the solvent and semi-cure the resin component ( B-stage) and forming into a film. At this time, the thickness of the resin film is preferably 5 to 80 μm. Also, after applying and drying the resin varnish on the support film, a protective film can be applied to obtain a resin film suitable for application of a vacuum laminator. For example, it can be applied to the resin insulation layer of a multilayer printed wiring board. Provided.

また、上記の方法において、予め支持フィルムの表面を離型剤で処理しておくと、成形された樹脂フィルムを支持フィルムから容易に剥離することができて作業性が向上する。なお、支持フィルムとしては、樹脂ワニスに溶解しないものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の有機フィルムの他に、銅箔やアルミニウム箔等の金属箔を用いることができる。   In the above method, if the surface of the support film is previously treated with a release agent, the molded resin film can be easily peeled off from the support film, thereby improving workability. The support film is not particularly limited as long as it does not dissolve in the resin varnish. For example, in addition to a polyester film such as a polyethylene terephthalate (PET) film, an organic film such as a polyimide film, a copper foil Metal foil such as aluminum foil can be used.

(プリプレグ)
本実施形態に係るプリプレグは、前記エポキシ樹脂組成物をシート状基材に含浸して得られる。例えば、以下の方法によってプリプレグを作製することができる。より具体的には、上記の樹脂ワニス中にシート状基材を浸漬する等して、樹脂ワニスをシート状基材に含浸させた後、120〜180℃で1〜40分間加熱乾燥し、溶剤を除去するとともに樹脂成分を半硬化(Bステージ化)させることによって行う。このときプリプレグ中の樹脂量は、プリプレグ全量に対して30〜80質量%であることが好ましい。なお、前記シート状基材としては、特に限定されるものではないが、好ましくはシート状繊維基材が用いられ、例えば、ガラス等の無機質繊維の織布(クロス)又は不織布や、アラミドクロス、ポリエステルクロス、及び紙等を用いることができる。
(Prepreg)
The prepreg according to this embodiment is obtained by impregnating a sheet-like base material with the epoxy resin composition. For example, a prepreg can be produced by the following method. More specifically, after impregnating the resinous varnish into the resinous varnish by impregnating the resinous varnish into the resinous varnish, the resin varnish is dried by heating at 120 to 180 ° C. for 1 to 40 minutes, And the resin component is semi-cured (B-stage). At this time, it is preferable that the resin amount in a prepreg is 30-80 mass% with respect to the prepreg whole quantity. The sheet-like substrate is not particularly limited, but preferably a sheet-like fiber substrate is used. For example, a woven fabric (cloth) or a nonwoven fabric of inorganic fibers such as glass, an aramid cloth, Polyester cloth, paper, and the like can be used.

(多層プリント配線板)
本実施形態に係る多層プリント配線板は、内層回路基板の導体層上に樹脂絶縁層と導体層とが交互に積層されてなる多層プリント配線板であって、前記樹脂絶縁層は、前記エポキシ樹脂組成物から形成されるものであることを特徴とするものである。
(Multilayer printed wiring board)
The multilayer printed wiring board according to the present embodiment is a multilayer printed wiring board in which a resin insulating layer and a conductor layer are alternately laminated on a conductor layer of an inner circuit board, and the resin insulating layer includes the epoxy resin. It is formed from a composition.

多層プリント配線板の製造技術として、内層回路基板の導体層上に樹脂絶縁層と導体層とを交互に積み上げていくビルドアップ法が知られており、前記多層プリント配線板は、前記ビルドアップ法による多層プリント配線板の製造過程において、例えば、前記樹脂フィルムを用いて硬化樹脂絶縁層を形成した後、粗化液により粗化処理して表面を粗化したものを前記樹脂絶縁層とし、さらにこの上に積層される前記導体層をめっき工程により形成して得られるものである。   As a manufacturing technique of a multilayer printed wiring board, a build-up method in which a resin insulating layer and a conductor layer are alternately stacked on a conductor layer of an inner circuit board is known, and the multilayer printed wiring board is the build-up method. In the manufacturing process of the multilayer printed wiring board according to, for example, after forming a cured resin insulating layer using the resin film, the surface of the surface is roughened by a roughening liquid, and the surface is roughened, It is obtained by forming the conductor layer laminated thereon by a plating process.

以下、前記多層プリント配線板の製造方法を説明しつつ、前記多層プリント配線板の具体的形態について説明する。   Hereinafter, a specific form of the multilayer printed wiring board will be described while explaining a method for manufacturing the multilayer printed wiring board.

前記多層プリント配線板を得るには、先ず、予め外表面に内層回路が形成された内層回路基板を用意し、酸溶液等を用いてこの回路基板の内層回路に黒色酸化処理(黒化処理)等の内層粗化処理を行っておく。次に、内層回路基板の外表面に真空ラミネータを用いて樹脂フィルムを積層成形し、積層した樹脂フィルムの支持フィルムを除去してからオーブン等で加熱硬化させる。次に、硬化樹脂フィルムの表面を粗化液によって粗化処理を行う。   In order to obtain the multilayer printed wiring board, first, an inner layer circuit board having an inner layer circuit formed on the outer surface in advance is prepared, and the inner layer circuit of the circuit board is black-oxidized (blackening process) using an acid solution or the like. An inner layer roughening process such as the above is performed. Next, a resin film is laminated and formed on the outer surface of the inner layer circuit board using a vacuum laminator, and the support film of the laminated resin film is removed, followed by heat curing in an oven or the like. Next, the surface of the cured resin film is roughened with a roughening liquid.

前記粗化液としては、酸と酸化剤との両方又は一方を含むものであれば、特に限定されるものではない。例えば、過マンガン酸塩、重クロム酸塩、オゾン、過酸化水素/硫酸、硝酸等の酸化剤で粗化処理することができる。さらに、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB211」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB213」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB216」の3種類からなるものをセットで粗化液として用いることもできる。粗化液による粗化処理は、樹脂フィルムの積層成形後の積層板を粗化液に浸漬させることによって行うことができ、また、粗化液の種類を変えて複数回行うことができる。粗化液の温度は40〜90℃、浸漬時間は1〜30分間に設定することができる。   The roughening solution is not particularly limited as long as it contains both or one of an acid and an oxidizing agent. For example, it can be roughened with an oxidizing agent such as permanganate, dichromate, ozone, hydrogen peroxide / sulfuric acid, nitric acid. In addition, a set of three types of “Raku & Haas” “Circuposit MLB211”, Rohm & Haas “Circuposit MLB213” and Rohm & Haas “Circuposit MLB216” may be used as a roughening solution. it can. The roughening treatment with the roughening solution can be performed by immersing the laminated plate after the resin film lamination molding in the roughening solution, and can be performed a plurality of times by changing the type of the roughening solution. The temperature of the roughening solution can be set to 40 to 90 ° C., and the immersion time can be set to 1 to 30 minutes.

前記ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB211」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB213」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB216」の3種類からなるものをセットで粗化液として用いる場合には、まず積層成形後の積層板を「サーキュポジットMLB211」に浸漬させて樹脂を膨潤させ、次に上記積層板を「サーキュポジットMLB213」に浸漬させて樹脂を溶解させ、最後に上記積層板を「サーキュポジットMLB216」に浸漬させて塩基性下の状態を中和させることによって、粗化液による粗化処理を行うことができる。   When using as a roughening solution a set consisting of three types of "Circumposit MLB211" manufactured by Rohm and Haas, "Circuposit MLB213" manufactured by Rohm and Haas, and "Circuposit MLB216" manufactured by Rohm and Haas First, the laminated board after lamination molding is immersed in “Circuposit MLB211” to swell the resin, and then the laminated board is immersed in “Circuposit MLB213” to dissolve the resin. A roughening treatment with a roughening solution can be carried out by immersing the substrate in a circular deposit MLB216 to neutralize the basic state.

その後、上記のように粗化処理された樹脂絶縁層の表面に公知のアディティブ法で外層回路を形成することによって、多層プリント配線板を得ることができる。アディティブ法には、フルアディティブ法とセミアディティブ法とがあり、本実施形態においてはいずれの方法を使用して外層回路を形成してもよい。以下、セミアディティブ法で外層回路を形成する例について説明する。   Then, a multilayer printed wiring board can be obtained by forming an outer layer circuit by the well-known additive method on the surface of the resin insulating layer roughened as described above. The additive method includes a full additive method and a semi-additive method, and in this embodiment, any method may be used to form the outer layer circuit. Hereinafter, an example in which the outer layer circuit is formed by the semi-additive method will be described.

まず、スルーホールやブラインドバイアホールを形成するために貫通穴や非貫通穴を樹脂絶縁層にドリル、レーザーなどにより形成し、その後、粗化処理を施す。次に、無電解めっき処理を行って樹脂絶縁層の表面に無電解銅めっき等の無電解めっきを形成した後、外層回路を形成しない部分にめっきレジストを形成する。その後、電解めっき処理を行って、めっきレジストが形成されていない部分に電解銅めっき等の電解めっきを形成した後、めっきレジストを剥離する。そして、めっきレジストの剥離により露出した無電解めっきをクイックエッチング法(フラッシュエッチング)で除去することにより、外層回路が形成された多層プリント配線板を得ることができる。貫通穴や非貫通穴の内面には無電解めっき及び電解めっきが形成されることによって、内層回路と外層回路を電気的に接続するスルーホールやブラインドバイアホールが形成される。なお、適宜にアフターキュアーを行ってもよい。   First, in order to form a through hole or a blind via hole, a through hole or a non-through hole is formed in the resin insulating layer by a drill, a laser, or the like, and then a roughening process is performed. Next, an electroless plating treatment is performed to form electroless plating such as electroless copper plating on the surface of the resin insulating layer, and then a plating resist is formed in a portion where the outer layer circuit is not formed. Thereafter, electrolytic plating treatment is performed to form electrolytic plating such as electrolytic copper plating on a portion where the plating resist is not formed, and then the plating resist is peeled off. And the multilayer printed wiring board in which the outer layer circuit was formed can be obtained by removing the electroless plating exposed by peeling of the plating resist by a quick etching method (flash etching). By forming electroless plating and electrolytic plating on the inner surface of the through hole or the non-through hole, a through hole or a blind via hole for electrically connecting the inner layer circuit and the outer layer circuit is formed. In addition, you may perform an after cure suitably.

また、前記多層プリント配線板は、前記樹脂フィルムの代わりに前記プリプレグを用いてを作製することもできる。樹脂ワニスをシート状繊維基材に含浸させた後、得られた含浸体を乾燥機で加熱して乾燥させれば、半硬化のBステージ状態にあるプリプレグを得ることができ、このプリプレグに保護フィルムを配置した後、多段真空プレス等の成形方法によりこれらを一体に積層成形する。また、積層成形としては、プリプレグを真空ラミネータで積層することもできる。成形後に保護フィルムを除去した後は、樹脂フィルムを用いた場合と同様に粗化処理を行いアディティブ法により外層回路を形成して、プリント配線板を得ることができる。なお、シート状基材としてはガラスクロスが好ましく用いられ、例えば、日東紡社製の「WEA1116」(厚さ0.08mmのガラスクロス)や、「WEA1078」(厚さ0.04mmのガラスクロス)等を用いることができる。   Further, the multilayer printed wiring board can be produced using the prepreg instead of the resin film. After impregnating the resin varnish into the sheet-like fiber base material, if the obtained impregnated body is dried by heating with a dryer, a semi-cured B-stage prepreg can be obtained and protected by this prepreg After disposing the films, they are integrally laminated and formed by a forming method such as a multistage vacuum press. Moreover, as lamination molding, a prepreg can also be laminated | stacked with a vacuum laminator. After removing the protective film after molding, a roughening process is performed in the same manner as in the case of using a resin film, and an outer layer circuit is formed by an additive method, whereby a printed wiring board can be obtained. In addition, a glass cloth is preferably used as the sheet-like substrate. For example, “WEA1116” (a glass cloth having a thickness of 0.08 mm) manufactured by Nittobo Co., Ltd. or “WEA1078” (a glass cloth having a thickness of 0.04 mm) is used. Etc. can be used.

さらに、樹脂フィルムの代わりに前期樹脂ワニスを直接用いて、内層回路基板の導体層上に樹脂絶縁層を設けることによって多層プリント配線板を作製することもできる。すなわち、樹脂フィルムの作製と同様に一般にキャスティング法と呼ばれる方法によって行うものであり、内層回路基板の外表面に好ましくは5〜100μmの厚みに樹脂ワニスを塗布した後、これを100〜200℃で1〜90分間加熱加圧することによって行うことができる。この場合は、内層回路基板に樹脂ワニスが直接フィルム状に成形されるものであるが、乾燥後の厚みは5〜80μmであることが好ましい。その後は、樹脂フィルムを用いた場合と同様に粗化処理を行いアディティブ法により外層回路を形成して、プリント配線板を得ることができる。   Furthermore, a multilayer printed wiring board can be produced by directly using a resin varnish in place of the resin film and providing a resin insulating layer on the conductor layer of the inner circuit board. That is, it is performed by a method generally called a casting method in the same manner as the production of a resin film, and after applying a resin varnish to the outer surface of the inner layer circuit board preferably in a thickness of 5 to 100 μm, this is performed at 100 to 200 ° C. The heating can be performed for 1 to 90 minutes. In this case, the resin varnish is directly formed into a film on the inner circuit board, but the thickness after drying is preferably 5 to 80 μm. Thereafter, a roughening treatment is performed in the same manner as in the case of using a resin film, and an outer layer circuit is formed by an additive method, whereby a printed wiring board can be obtained.

[実施例1〜9及び比較例1〜7]
表1及び表2に示した、配合組成(質量部)により、エポキシ樹脂、トリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(硬化剤)、硬化促進剤、必要により無機充填材を加え、さらにメチルエチルケトンを加え、固形分が65質量%のエポキシ樹脂ワニスを調製した。各材料としては次のものを用いた。なお、比較例5は、難燃剤を加えた。
[Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 7]
According to the composition (parts by mass) shown in Tables 1 and 2, an epoxy resin, a phenolic novolak resin having a triazine ring (curing agent), a curing accelerator, and if necessary, an inorganic filler, and further adding methyl ethyl ketone, An epoxy resin varnish having a solid content of 65% by mass was prepared. The following were used as each material. In Comparative Example 5, a flame retardant was added.

(エポキシ樹脂)
・NC3000H : ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製、平均のエポキシ当量290)
・NC3000FH: ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製、平均のエポキシ当量336)
・N690 : クレゾール系ノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、平均のエポキシ当量215)
・850S : ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、平均のエポキシ当量190)
・1051 : ビスフェノールA型固形エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、平均のエポキシ当量480)
(硬化剤)
・ATN:アミノトリアジンノボラック樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、LA3018、窒素含有率18%、OH当量151)
・クレゾールノボラック樹脂:大日本インキ化学工業(株)製のKA1165(OH当量119)
(硬化促進剤)
・2E4MZ−CN:シアノエチルイミダゾール(四国化成工業(株)製)
(無機充填剤)
・シリカ:球状シリカ((株)アドマテックス製のSO25R、重量平均粒径0.5μm)
(難燃剤)
・リン系難燃剤:ホスファゼン(大塚化学(株)製、SPB100)
(Epoxy resin)
NC3000H: biphenyl type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., average epoxy equivalent 290)
NC3000FH: biphenyl type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., average epoxy equivalent 336)
N690: Cresol novolac type epoxy resin (Dainippon Ink & Chemicals, average epoxy equivalent 215)
850S: Bisphenol A type liquid epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., average epoxy equivalent 190)
1051: Bisphenol A type solid epoxy resin (Dainippon Ink and Chemicals, average epoxy equivalent 480)
(Curing agent)
ATN: aminotriazine novolak resin (Dainippon Ink & Chemicals, LA3018, nitrogen content 18%, OH equivalent 151)
Cresol novolak resin: KA1165 (OH equivalent 119) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.
(Curing accelerator)
2E4MZ-CN: Cyanoethylimidazole (manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.)
(Inorganic filler)
Silica: Spherical silica (SO25R manufactured by Admatechs Co., Ltd., weight average particle size 0.5 μm)
(Flame retardants)
Phosphorus flame retardant: Phosphazene (Otsuka Chemical Co., Ltd., SPB100)

次に、ポリエチレンテレフタレートの支持フィルムの離型面に、マルチコーター(ヒラノテクシード社製「M400」)を使用して、上記エポキシ樹脂ワニスを塗布し、これを搬送速度50cm/分で搬送しながら150℃の温度で乾燥し半硬化(Bステージ化)状態とした。さらに塗布面に厚さ20μmのポリエチレン(PE)保護フィルムを貼付して保護フィルム付きエポキシ樹脂フィルムを作製した。   Next, the epoxy resin varnish was applied to the release surface of the polyethylene terephthalate support film using a multi-coater ("H400" manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.) and conveyed at a conveyance speed of 50 cm / min. Was dried to a semi-cured (B stage) state. Furthermore, a 20 μm-thick polyethylene (PE) protective film was attached to the coated surface to prepare an epoxy resin film with a protective film.

積層成形には真空ラミネータを用い、まず、予め外表面に内層回路が形成された内層回路基板(松下電工社製「R−1566」)の表面に前記保護フィルム付きエポキシ樹脂フィルムの保護フィルムを剥離した樹脂面を重ね合わせた後、真空ラミネータを用いて積層成形(温度90℃、圧力0.3MPa)した。そして、支持フィルムを剥離して除去し、オーブンで160℃×60分の条件で硬化させ、粗化液による絶縁層の粗化処理を行った。   For lamination molding, a vacuum laminator is used. First, the protective film of the epoxy resin film with the protective film is peeled off on the surface of the inner layer circuit board (“R-1566” manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.) on which the inner layer circuit is formed on the outer surface in advance. After superposing the resin surfaces thus obtained, they were laminated (temperature 90 ° C., pressure 0.3 MPa) using a vacuum laminator. And the support film was peeled and removed, it was made to harden | cure on 160 degreeC * 60 minute conditions in oven, and the roughening process of the insulating layer by the roughening liquid was performed.

この粗化処理は下記(1)〜(3)の順番で行った。
(1)積層成形後の積層板をロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB211」の液中に80℃で3分間浸漬させた。
(2)次にロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB213」の液中に80℃で5分間浸漬させた。
(3)最後にロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB216」の液中に45℃で5分間浸漬させた。
This roughening treatment was performed in the following order (1) to (3).
(1) The laminated board after lamination molding was immersed in a solution of “Circuposit MLB211” manufactured by Rohm and Haas for 3 minutes at 80 ° C.
(2) Next, it was immersed for 5 minutes at 80 ° C. in a solution of “Circuposit MLB213” manufactured by Rohm and Haas.
(3) Finally, it was immersed for 5 minutes at 45 ° C. in a solution of “Circuposit MLB216” manufactured by Rohm and Haas.

その後、粗化処理された樹脂絶縁層の表面に上記のセミアディティブ法を用いて外層回路を形成した。すなわち、無電解銅めっき処理を行って樹脂絶縁層の表面に無電解銅めっきを形成した後、120℃で60分間乾燥させ、回路を形成しない部分にめっきレジストを形成した。さらに電解銅めっき処理を行った後にめっきレジストを剥離し、無電解めっきをフラッシュエッチングにより除去した。無電解銅めっきと電解銅めっきにより形成されためっきの厚さは20±2μm、めっき幅は10μmや20μmであった。   Thereafter, an outer layer circuit was formed on the surface of the roughened resin insulating layer using the semi-additive method. That is, electroless copper plating treatment was performed to form electroless copper plating on the surface of the resin insulation layer, and then dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a plating resist in a portion where no circuit was formed. Furthermore, after performing the electrolytic copper plating treatment, the plating resist was peeled off, and the electroless plating was removed by flash etching. The thickness of the plating formed by electroless copper plating and electrolytic copper plating was 20 ± 2 μm, and the plating width was 10 μm or 20 μm.

外層回路を形成した後、180℃60分間乾燥機でアフターキュアーを行うことによって、多層プリント配線板を得た。上記のようにして得られたプリント配線板を評価用サンプルとして用いて、以下に示す方法により、めっきピール強度、表面粗さ、難燃性(積層体)、皮膜伸び、ガラス転移温度の評価を行った。これらの結果を表1及び表2に示す。なお、表1及び表2では、エポキシ樹脂の平均のエポキシ当量を「エポキシ当量」と略記した。   After forming the outer layer circuit, aftercuring was performed with a dryer at 180 ° C. for 60 minutes to obtain a multilayer printed wiring board. Using the printed wiring board obtained as described above as an evaluation sample, the plating peel strength, surface roughness, flame retardancy (laminate), film elongation, and glass transition temperature are evaluated by the following methods. went. These results are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, the average epoxy equivalent of the epoxy resin is abbreviated as “epoxy equivalent”.

<めっきピール強度>
90度ピール試験方法(JIS C6481)に従い、外層回路(銅めっき幅10mm)のピール強度を測定した。いずれの実施例及び比較例についても、n(評価用サンプル数)を3として上記測定を行った。なお、表2中「剥離」とは、めっきがきれいに付着せず、ピール強度が測定できないほど密着力が弱かったことを示す。
<Plating peel strength>
In accordance with a 90-degree peel test method (JIS C6481), the peel strength of the outer layer circuit (copper plating width 10 mm) was measured. For any of the examples and comparative examples, the above measurement was performed with n (number of samples for evaluation) being 3. In Table 2, “peeling” means that the plating did not adhere cleanly and the adhesion was so weak that the peel strength could not be measured.

<表面粗さ(算術平均粗さRa及び十点平均粗さRz)>
オリンパス社製レーザー顕微鏡「OLS3000」を用い、以下の条件によって各実施例、比較例における粗化処理後の樹脂絶縁層の表面を評価した。
・半導体レーザー:波長408nm
・測定ピッチ:0.1μm
・測定範囲:0.012mm(平面)
<Surface roughness (arithmetic average roughness Ra and ten-point average roughness Rz)>
Using the Olympus laser microscope “OLS3000”, the surface of the resin insulation layer after the roughening treatment in each Example and Comparative Example was evaluated under the following conditions.
・ Semiconductor laser: wavelength 408nm
・ Measurement pitch: 0.1 μm
Measurement range: 0.012 mm 2 (plane)

<難燃性(積層体)>
難燃性は、0.4mm厚の内層回路基板(松下電工社製「R−1566」)の両面に0.07mm(70μm)厚のプリプレグを積層したものを、UL94に準拠して評価した。
<Flame retardance (laminate)>
The flame retardancy was evaluated based on UL94, in which a 0.07 mm (70 μm) thick prepreg was laminated on both sides of a 0.4 mm thick inner circuit board (“R-1566” manufactured by Matsushita Electric Works).

<皮膜伸び>
皮膜伸びは、硬化させた樹脂フィルムをJPCA−BU01に準拠の方法で測定した。
<Film elongation>
The film elongation was measured by a method based on JPCA-BU01 for a cured resin film.

<ガラス転移温度Tg>
ガラス転移温度Tgは、硬化させた樹脂フィルムをJIS−C6481に準拠の動的粘弾性分析(DMA)法の引っ張りモードで測定した。
<Glass transition temperature Tg>
The glass transition temperature Tg was measured in a tensile mode of a dynamic viscoelasticity analysis (DMA) method in accordance with JIS-C6481 for a cured resin film.

Figure 2008133246
Figure 2008133246

Figure 2008133246
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表1及び表2から、以下のようなことがわかる。   From Tables 1 and 2, the following can be seen.

平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)と、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック化合物(C)とを含み、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2であるエポキシ樹脂組成物を用いて形成した多層プリント配線板(実施例1〜9)は、いずれも表面粗さが小さい(Rz3μm以下、Ra0.3μm以下)にもかかわらず、めっきピール強度が0.7以上と高かった。また、皮膜伸びが5%以上と高かった。さらに、Tgが140℃以上と高く、難燃性も、全てV−0評価と高かった。   Biphenyl type epoxy resin (A) having an average epoxy equivalent of less than 450, bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more, and a phenolic novolak compound (C) having a triazine ring in the molecule, A multilayer printed wiring formed using an epoxy resin composition having a mass ratio (B / A) of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) of 0.25 to 2 The plates (Examples 1 to 9) all had a high plating peel strength of 0.7 or more, although the surface roughness was small (Rz 3 μm or less, Ra 0.3 μm or less). Moreover, the film elongation was as high as 5% or more. Furthermore, Tg was as high as 140 ° C. or higher, and the flame retardancy was also all high as V-0 evaluation.

これに対して、ビフェニル型エポキシ樹脂(A)を含まないエポキシ樹脂組成物を用いて形成した多層プリント配線板(比較例1及び比較例2)は、Tgが140℃未満と低く、難燃性も、V−1評価と低かった。さらに、エポキシ樹脂として、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)のみを用いた比較例2は、ピール強度が測定できないほど低く、めっき密着性が不充分であった。   In contrast, multilayer printed wiring boards (Comparative Example 1 and Comparative Example 2) formed using an epoxy resin composition that does not contain a biphenyl type epoxy resin (A) have a low Tg of less than 140 ° C. and are flame retardant. Was also low with a V-1 rating. Furthermore, Comparative Example 2 using only the bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more as the epoxy resin was so low that the peel strength could not be measured, and the plating adhesion was insufficient.

分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)以外の硬化剤を含有したエポキシ樹脂組成物を用いて形成した多層プリント配線板(比較例3〜5)は、ピール強度が低くかった。リン系難燃剤を用いた比較例5は、Tgが低い上に、ピール強度が測定できないほど低く、めっき密着性が不充分であった。   Multilayer printed wiring boards (Comparative Examples 3 to 5) formed using an epoxy resin composition containing a curing agent other than the phenolic novolak resin (C) having a triazine ring in the molecule had low peel strength. In Comparative Example 5 using a phosphorus-based flame retardant, Tg was low, and peel strength was too low to be measured, and plating adhesion was insufficient.

ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比が、0.25未満である比較例6は、ピール強度が測定できないほど低く、めっき密着性が不充分であった。また、ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比が、2より大きい比較例7は、ピール強度が低かった。さらに、Tgも低く、難燃性も不充分であった。   In Comparative Example 6 in which the mass ratio of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) was less than 0.25, the peel strength was too low to be measured, and the plating adhesion was insufficient. . Further, Comparative Example 7 in which the mass ratio of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) was larger than 2 had low peel strength. Furthermore, Tg was low and the flame retardancy was insufficient.

また、平均のエポキシ当量が300以下のエポキシ樹脂の組成が異なる実施例1〜3,8を比較すると、ビフェニル型エポキシ樹脂(A)(NC3000H)のみである実施例1より、フェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)(N690)をさらに含む実施例2のほうが、Tgが高かった。そして、さらに、NC3000H、N690及び平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)(850S)の3種を併用した実施例3が、皮膜伸びが高くなる点で好ましい。このことは、N690を含まず、NC3000Hと850Sとの2種を併用した実施例8では、皮膜伸びが高くならないことから、上記3種の併用が皮膜伸びを向上させることがわかる。   In addition, when Examples 1 to 3 and 8 having different compositions of epoxy resins having an average epoxy equivalent of 300 or less are compared, the phenolic novolac type epoxy is obtained from Example 1 which is only the biphenyl type epoxy resin (A) (NC3000H). Tg was higher in Example 2 which further contained resin (E) (N690). Further, Example 3 in which three types of NC3000H, N690 and bisphenol A type epoxy resin (F) (850S) having an average epoxy equivalent of 300 or less are used in combination is preferable in that the film elongation becomes high. This indicates that in Example 8 which does not contain N690 and uses two types of NC3000H and 850S in combination, the film elongation does not increase, and thus the above three types of combination improve the film elongation.

以上のことから、実施例1〜9は、ハロゲン系難燃剤を含有させなくとも、難燃性を維持でき、優れためっきの密着性を維持できることがわかった。   From the above, it was found that Examples 1 to 9 can maintain flame retardancy and maintain excellent plating adhesion without containing a halogen-based flame retardant.

[実施例10〜14]
表3に示した、配合組成(質量部)により、エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、トリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(硬化剤)、硬化促進剤を加え、さらにメチルエチルケトンを加え、固形分が65質量%のエポキシ樹脂ワニスを調製した。各材料としては次のものを用いた。なお、実施例1〜9及び比較例1〜7で使用したものの説明は省略する。
[Examples 10 to 14]
According to the composition (parts by mass) shown in Table 3, an epoxy resin, a phosphorus-containing epoxy resin, a phenolic novolak resin (curing agent) having a triazine ring, a curing accelerator, methyl ethyl ketone, and a solid content of 65 A mass% epoxy resin varnish was prepared. The following were used as each material. In addition, description of what was used in Examples 1-9 and Comparative Examples 1-7 is abbreviate | omitted.

(リン含有ビフェニル型エポキシ樹脂)
YX4000(ジャパンエポキシレジン(株)製のテトラメチルビフェニル型2官能エポキシ樹脂)70質量部、HCA−HQ(三光化学(株)製の9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド、フェノール性水酸基平均2.0個、リン含有量約9.6質量%、水酸基当量約162)30質量部を、110℃のメトキシプロパノール40質量部中で加熱攪拌し、その後、トリフェニルホスフィンを0.2質量部添加し、約3時間加熱攪拌を継続することにより、固形分中のエポキシ当量約525、固形分71質量%、固形分中のリン含有量約2.9質量%のリン含有ビフェニル型エポキシ樹脂を得た。
(Phosphorus-containing biphenyl type epoxy resin)
YX4000 (tetramethylbiphenyl type bifunctional epoxy resin manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 70 parts by mass, HCA-HQ (9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene manufactured by Sanko Chemical Co., Ltd.) 30 parts by mass of 10-oxide, phenolic hydroxyl group average of 2.0, phosphorus content of about 9.6% by mass, hydroxyl group equivalent of about 162) in 40 parts by mass of methoxypropanol at 110 ° C. By adding 0.2 parts by mass of phenylphosphine and continuing heating and stirring for about 3 hours, the epoxy equivalent in the solid content is about 525, the solid content is 71% by mass, and the phosphorus content in the solid content is about 2.9% by mass. A phosphorus-containing biphenyl type epoxy resin was obtained.

(リン含有ビスフェノールF型エポキシ樹脂)
・FX305 :東都化成(株)製、平均のエポキシ当量500)
(リン含有フェノール系ノボラック型エポキシ樹脂)
・FX289ZA:東都化成(株)製、平均のエポキシ当量336)
また、エポキシ樹脂フィルム及びプリント配線板の製造方法は、エポキシ樹脂ワニスの組成を変えたこと以外、実施例1と同様である。得られたエポキシ樹脂フィルム及びプリント配線板を評価用サンプルとして用いて、めっきピール強度、表面粗さ、難燃性(単体)、難燃性(積層体)、ガラス転移温度の評価を行った。これらの結果を表3に示す。なお、表3では、エポキシ樹脂の平均のエポキシ当量を「エポキシ当量」と略記した。また、難燃性(単体)の評価以外は、上記実施例1〜9及び比較例1〜5の評価と同様である。
(Phosphorus-containing bisphenol F epoxy resin)
-FX305: manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., average epoxy equivalent 500)
(Phosphorus-based novolac epoxy resin containing phosphorus)
-FX289ZA: manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., average epoxy equivalent 336)
Moreover, the manufacturing method of an epoxy resin film and a printed wiring board is the same as that of Example 1 except having changed the composition of the epoxy resin varnish. Using the obtained epoxy resin film and printed wiring board as samples for evaluation, the evaluation of plating peel strength, surface roughness, flame retardancy (single), flame retardancy (laminate), and glass transition temperature was performed. These results are shown in Table 3. In Table 3, the average epoxy equivalent of the epoxy resin is abbreviated as “epoxy equivalent”. Moreover, it is the same as that of the said Examples 1-9 and the evaluation of Comparative Examples 1-5 except the evaluation of a flame retardance (simple substance).

<難燃性(単体)>
ガラスクロス1037(厚さ30μm)にエポキシ樹脂組成物を含浸させ、乾燥機中で120〜190℃の範囲で5〜10分間程度乾燥することによって、半硬化状態(B−ステージ)のプリプレグを製造した。
<Flame retardance (single)>
A glass cloth 1037 (thickness 30 μm) is impregnated with an epoxy resin composition and dried in a dryer at 120 to 190 ° C. for about 5 to 10 minutes to produce a semi-cured (B-stage) prepreg. did.

得られたプリプレグを10枚重ねるとともに、この外側両面に銅箔を重ねた。さらに、これを140〜180℃、0.98〜3.9MPaの条件で加熱加圧することによって、約0.5mmの銅張積層板を製造した。なお、銅箔は、古河サーキットフォイル(株)製のGT(厚さ0.018mm)を用いた。   While 10 sheets of the obtained prepreg were stacked, copper foil was stacked on both outer surfaces. Furthermore, the copper clad laminated board of about 0.5 mm was manufactured by heat-pressing this on the conditions of 140-180 degreeC and 0.98-3.9 MPa. As the copper foil, GT (thickness 0.018 mm) manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. was used.

そして、銅張積層板から表面の銅箔をエッチングにより除去し、これを長さ125mm、幅13mmに切断し、UL94に準拠して難燃性を評価した。   And the copper foil of the surface was removed from the copper clad laminated board by etching, this was cut | disconnected to length 125mm and width 13mm, and the flame retardance was evaluated based on UL94.

Figure 2008133246
Figure 2008133246

表3から、以下のようなことがわかる。   Table 3 shows the following.

リン含有エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物を用いて形成した多層プリント配線板(実施例10〜14)は、リン含有エポキシ樹脂を含まない場合と比較して、表面粗さが多少大きくなったが、めっきピール強度が0.7以上と高く、Tgも160℃以上と高かった。さらに、積層体の難燃性は全てV−0評価であり、エポキシ樹脂フィルム単体の難燃性であってもV−0評価又はV−1評価と高かった。   The multilayer printed wiring boards (Examples 10 to 14) formed using the epoxy resin composition containing the phosphorus-containing epoxy resin had a slightly larger surface roughness than the case where the phosphorus-containing epoxy resin was not included. The plating peel strength was as high as 0.7 or higher, and the Tg was as high as 160 ° C. or higher. Furthermore, all the flame retardances of the laminates were evaluated as V-0, and even the flame retardancy of the epoxy resin film alone was as high as V-0 or V-1.

これに対して、リン含有エポキシ樹脂を含有していないエポキシ樹脂組成物を用いて形成した多層プリント配線板(例えば、実施例2)は、積層体の難燃性はV−0評価であったが、エポキシ樹脂フィルム単体は、全焼した。   On the other hand, in the multilayer printed wiring board (for example, Example 2) formed using the epoxy resin composition not containing the phosphorus-containing epoxy resin, the flame retardancy of the laminate was evaluated as V-0. However, the epoxy resin film alone was completely burned.

以上のことから、リン含有エポキシ樹脂を含有させることで、難燃性をより高めることができることがわかった。   From the above, it was found that flame retardance can be further improved by containing a phosphorus-containing epoxy resin.

以上詳述したように、本発明の一局面に係るエポキシ樹脂組成物は、平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)と、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)とを含み、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。   As described above in detail, the epoxy resin composition according to one aspect of the present invention includes a biphenyl type epoxy resin (A) having an average epoxy equivalent of less than 450 and a bisphenol A type epoxy resin having an average epoxy equivalent of 450 or more. (B) and a phenolic novolak resin (C) having a triazine ring in the molecule, and the mass ratio (B / A) of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) is , 0.25 to 2, an epoxy resin composition.

前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)と前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)とを、硬化剤として前記フェノール系ノボラック樹脂(C)を用いて硬化させると、平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)は、架橋密度の比較的高い硬化部分を形成し、平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)は、架橋密度の比較的低い硬化部分を形成する。このように形成された硬化物の表面を粗化処理した場合に、架橋密度の比較的高い硬化部分は溶解しにくく、架橋密度の比較的低い硬化部分は溶解しやすい。よって、架橋密度の比較的低い硬化部分が優先的に溶解されて凹部が形成され、架橋密度の比較的高い硬化部分は緩やかに適度に溶解される。   When the biphenyl type epoxy resin (A) and the bisphenol A type epoxy resin (B) are cured using the phenol novolac resin (C) as a curing agent, an average epoxy equivalent is less than 450 biphenyl type epoxy. The resin (A) forms a cured portion having a relatively high crosslinking density, and the bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more forms a cured portion having a relatively low crosslinking density. When the surface of the cured product thus formed is roughened, a cured portion having a relatively high crosslinking density is difficult to dissolve, and a cured portion having a relatively low crosslinking density is easily dissolved. Therefore, a cured portion having a relatively low crosslink density is preferentially dissolved to form a recess, and a cured portion having a relatively high crosslink density is gradually and moderately dissolved.

また、この硬化物は、架橋密度の比較的高い硬化部分と架橋密度の比較的低い硬化部分とが均一に混在し、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2であるので、架橋密度の比較的高い硬化部分と架橋密度の比較的低い硬化部分との比率が好適となる。従って、粗化処理後の硬化物の表面粗さが小さくても、単位表面積当たりの凹凸の数が多い(凹凸の密度が高い)面が形成されて硬化物の表面積が大きくなるので、高いめっき密着性を発揮する。   Further, in this cured product, a cured portion having a relatively high crosslinking density and a cured portion having a relatively low crosslinking density are uniformly mixed, and the bisphenol A type epoxy resin (B) with respect to the biphenyl type epoxy resin (A) is mixed. Since the mass ratio (B / A) is 0.25 to 2, a ratio of a cured portion having a relatively high crosslinking density and a cured portion having a relatively low crosslinking density is suitable. Therefore, even if the surface roughness of the cured product after the roughening treatment is small, a surface with a large number of irregularities per unit surface area (high density of irregularities) is formed and the surface area of the cured product is increased, so that high plating is achieved. Demonstrate adhesion.

また、ビフェニル型エポキシ樹脂(A)及び分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)は、比較的難燃性が高く、この難燃性の高い成分が均一に分散する。従って、エポキシ樹脂組成物にハロゲン系難燃剤を含有させなくとも、難燃性を維持できる硬化物が得られる。   Further, the biphenyl type epoxy resin (A) and the phenolic novolak resin (C) having a triazine ring in the molecule have relatively high flame retardancy, and this highly flame retardant component is uniformly dispersed. Therefore, even if it does not contain a halogen-type flame retardant in an epoxy resin composition, the hardened | cured material which can maintain a flame retardance is obtained.

以上より、本発明の一局面に係るエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂組成物の硬化物からなる表面粗度が低い基材表面にめっきを形成する場合において、エポキシ樹脂組成物にハロゲン系難燃剤を含有させなくとも、難燃性を維持でき、優れためっきの密着性を維持する基材を得ることができる。   As described above, the epoxy resin composition according to one aspect of the present invention is a halogen-based flame retardant for an epoxy resin composition when plating is formed on a substrate surface having a low surface roughness composed of a cured product of the epoxy resin composition. Even if it does not contain, a flame retardance can be maintained and the base material which maintains the adhesiveness of the outstanding plating can be obtained.

また、分子中にリン原子を有するリン含有エポキシ樹脂(D)をさらに含むことが好ましい。リン含有エポキシ樹脂(D)を含有させることによって、難燃性をより高めることができる。   Moreover, it is preferable that the phosphorus containing epoxy resin (D) which has a phosphorus atom in a molecule | numerator is further included. By containing the phosphorus-containing epoxy resin (D), flame retardancy can be further enhanced.

また、リン原子の含有率が、全エポキシ樹脂量に対して、0.5〜1.5質量%であることが好ましい。このようなリン原子の含有率であると、リン含有エポキシ樹脂(D)による難燃性の向上の効果をより発揮できる。   Moreover, it is preferable that the content rate of a phosphorus atom is 0.5-1.5 mass% with respect to the total amount of epoxy resins. With such a phosphorus atom content, the effect of improving flame retardancy by the phosphorus-containing epoxy resin (D) can be further exhibited.

また、前記リン含有エポキシ樹脂(D)が、分子中にホスファフェナントレン構造を有するビフェニル型エポキシ樹脂(D1)であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said phosphorus containing epoxy resin (D) is a biphenyl type epoxy resin (D1) which has a phosphaphenanthrene structure in a molecule | numerator.

また、前記リン含有エポキシ樹脂(D)が、分子中にホスファフェナントレン構造を有するビスフェノール型エポキシ樹脂(D2)であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said phosphorus containing epoxy resin (D) is a bisphenol-type epoxy resin (D2) which has a phosphaphenanthrene structure in a molecule | numerator.

また、前記リン含有エポキシ樹脂(D)が、分子中にホスファフェナントレン構造を有するフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(D3)であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said phosphorus containing epoxy resin (D) is a phenol type novolak-type epoxy resin (D3) which has a phosphaphenanthrene structure in a molecule | numerator.

前記エポキシ樹脂組成物において、平均のエポキシ当量が300以下のフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)をさらに含むことが好ましい。平均のエポキシ当量が300以下のフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)を含有させることによって、ガラス転移温度Tgを上げることができ、強度面により優れたものとなる。   The epoxy resin composition preferably further includes a phenolic novolac type epoxy resin (E) having an average epoxy equivalent of 300 or less. By including a phenol-based novolac type epoxy resin (E) having an average epoxy equivalent of 300 or less, the glass transition temperature Tg can be increased, and the strength is improved.

また、前記フェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)とともに、平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)をさらに含むことがより好ましい。前記フェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)と前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)とを併用することによって、エポキシ樹脂組成物から得られる硬化物がより伸びやすくなる。このような伸びやすい硬化物は、振動等に対するめっきの追従性が高くなる。従って、めっきの剥がれにくい基材を得ることができる。   In addition to the phenolic novolac type epoxy resin (E), it is more preferable to further include a bisphenol A type epoxy resin (F) having an average epoxy equivalent of 300 or less. By using the phenolic novolac type epoxy resin (E) and the bisphenol A type epoxy resin (F) in combination, the cured product obtained from the epoxy resin composition is more easily extended. Such a cured product that is easily stretched has high followability of plating against vibration and the like. Therefore, it is possible to obtain a base material that is difficult to peel off the plating.

このことは、常温で液状である平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)をさらに含むことによって、前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)と前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と前記フェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)とを混合して、フィルム等の硬化物を得る際、これらの樹脂組成が均質化することに起因すると考えられる。一般的に靭性や強度を向上させても、部分的にでも脆弱な部分があると、その脆弱な部分を起点に皮膜は破断して伸びが悪化することが知られているが、平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)をさらに含むことによって、上記のような脆弱な部分を減らすので、伸びやすいものが得られると考えられる。   This is because the biphenyl type epoxy resin (A) and the bisphenol A type epoxy resin (B) are further included by further including a bisphenol A type epoxy resin (F) having an average epoxy equivalent that is liquid at room temperature of 300 or less. It is considered that these resin compositions are homogenized when the phenolic novolac epoxy resin (E) is mixed to obtain a cured product such as a film. Generally, it is known that even if the toughness and strength are improved, but there is a part that is fragile, the film breaks from the fragile part and the elongation deteriorates. By further including the bisphenol A type epoxy resin (F) having an equivalent weight of 300 or less, the fragile parts as described above are reduced, and it is considered that an easily stretchable product can be obtained.

前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)の平均のエポキシ当量が350以下であることが好ましい。このようなビフェニル型エポキシ樹脂(A)は、架橋点の間隔が長いながら、多官能な樹脂骨格を備えているので、靭性及び強度に優れた硬化部分が得られる。   The biphenyl type epoxy resin (A) preferably has an average epoxy equivalent of 350 or less. Such a biphenyl type epoxy resin (A) has a polyfunctional resin skeleton with a long interval between cross-linking points, so that a cured portion excellent in toughness and strength can be obtained.

前記フェノール系ノボラック樹脂(C)が、アミノトリアジンノボラック樹脂(C1)であることが好ましい。前記アミノトリアジンノボラック樹脂(C1)を硬化剤として用いることによって、架橋密度の比較的高い硬化部分と架橋密度の比較的低い硬化部分とがより分散して混在するので、凹凸の密度がより高まり、より高いめっき密着性を発揮できる。   The phenolic novolac resin (C) is preferably an aminotriazine novolac resin (C1). By using the aminotriazine novolac resin (C1) as a curing agent, a cured portion having a relatively high crosslinking density and a cured portion having a relatively low crosslinking density are more dispersed and mixed, so that the unevenness density is further increased. Higher plating adhesion can be exhibited.

前記エポキシ樹脂組成物において、平均粒径が1μm以下の無機充填材をさらに含むことが好ましい。このような無機充填材を含有すると、表面粗さを小さく維持したまま、めっき密着性を向上させることができる。   The epoxy resin composition preferably further includes an inorganic filler having an average particle size of 1 μm or less. When such an inorganic filler is contained, plating adhesion can be improved while maintaining the surface roughness small.

本発明の他の一局面に係る樹脂フィルムは、前記エポキシ樹脂組成物から形成されることを特徴とする樹脂フィルムである。このような樹脂フィルムを用いれば、プリント配線板を製造する場合において、めっきからなる導体層の下地である樹脂絶縁層を容易に形成することができる。そして、形成された樹脂絶縁層は、ハロゲン系難燃剤が含有されていなくても、難燃性を維持でき、表面粗度の低い表面にめっきが形成されても、優れためっきの密着性を維持できる。   A resin film according to another aspect of the present invention is a resin film formed from the epoxy resin composition. If such a resin film is used, when manufacturing a printed wiring board, the resin insulation layer which is the foundation | substrate of the conductor layer which consists of plating can be formed easily. The formed resin insulation layer can maintain flame retardancy even if it does not contain a halogen-based flame retardant, and has excellent plating adhesion even when plating is formed on a surface with low surface roughness. Can be maintained.

本発明の他の一局面に係るプリプレグは、前記エポキシ樹脂組成物をシート状基材に含浸して形成されることを特徴とするプリプレグである。このようなプリプレグを用いれば、プリント配線板の製造において、めっきからなる導体層の下地となる樹脂絶縁層を容易に形成することができる。そして、形成された樹脂絶縁層は、ハロゲン系難燃剤が含有されていなくても、難燃性を維持でき、表面粗度の低い表面にめっきが形成されても、優れためっきの密着性を維持できる。   A prepreg according to another aspect of the present invention is a prepreg formed by impregnating a sheet-like base material with the epoxy resin composition. If such a prepreg is used, the resin insulation layer used as the foundation | substrate of the conductor layer which consists of plating can be easily formed in manufacture of a printed wiring board. The formed resin insulation layer can maintain flame retardancy even if it does not contain a halogen-based flame retardant, and has excellent plating adhesion even when plating is formed on a surface with low surface roughness. Can be maintained.

本発明の他の一局面に係る多層プリント配線板は、内層回路基板の導体層上に樹脂絶縁層と導体層とが交互に積層されてなる多層プリント配線板であって、前記樹脂絶縁層が前記エポキシ樹脂組成物から形成されるものであることを特徴とする多層プリント配線板である。このような構成によれば、ハロゲン系難燃剤が含有されていなくとも、難燃性を維持でき、表面粗度の低い表面にめっきが形成されても、優れためっきの密着性を維持できる樹脂絶縁層を得ることができ、その結果として、回路配線間隔を小さくした場合においても、正確な回路を形成しうる多層プリント配線板を提供することができる。   A multilayer printed wiring board according to another aspect of the present invention is a multilayer printed wiring board in which a resin insulation layer and a conductor layer are alternately laminated on a conductor layer of an inner circuit board, wherein the resin insulation layer is It is a multilayer printed wiring board characterized by being formed from the said epoxy resin composition. According to such a structure, even if a halogen-based flame retardant is not contained, a resin that can maintain flame retardancy and can maintain excellent plating adhesion even when plating is formed on a surface with low surface roughness. As a result, it is possible to provide a multilayer printed wiring board capable of forming an accurate circuit even when the circuit wiring interval is reduced.

前記樹脂絶縁層が、前記樹脂フィルム、及び前記プリプレグから選ばれる少なくとも1種から形成されるものであることが好ましい。このような構成によれば、前記多層プリント配線板を容易に提供することができる。   It is preferable that the resin insulating layer is formed of at least one selected from the resin film and the prepreg. According to such a configuration, the multilayer printed wiring board can be easily provided.

Claims (15)

平均のエポキシ当量が450未満のビフェニル型エポキシ樹脂(A)と、
平均のエポキシ当量が450以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)と、
分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック樹脂(C)とを含み、
前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)に対する前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)の質量比(B/A)が、0.25〜2であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
Biphenyl type epoxy resin (A) having an average epoxy equivalent of less than 450;
Bisphenol A type epoxy resin (B) having an average epoxy equivalent of 450 or more,
A phenolic novolak resin (C) having a triazine ring in the molecule,
An epoxy resin composition, wherein a mass ratio (B / A) of the bisphenol A type epoxy resin (B) to the biphenyl type epoxy resin (A) is 0.25 to 2.
分子中にリン原子を有するリン含有エポキシ樹脂(D)をさらに含む請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition of Claim 1 which further contains the phosphorus containing epoxy resin (D) which has a phosphorus atom in a molecule | numerator. リン原子の含有率が、全エポキシ樹脂量に対して、0.5〜1.5質量%である請求項2に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 2, wherein the phosphorus atom content is 0.5 to 1.5 mass% with respect to the total amount of epoxy resin. 前記リン含有エポキシ樹脂(D)が、分子中にホスファフェナントレン構造を有するビフェニル型エポキシ樹脂(D1)である請求項2又は請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 2 or 3, wherein the phosphorus-containing epoxy resin (D) is a biphenyl type epoxy resin (D1) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule. 前記リン含有エポキシ樹脂(D)が、分子中にホスファフェナントレン構造を有するビスフェノール型エポキシ樹脂(D2)である請求項2又は請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 2 or 3, wherein the phosphorus-containing epoxy resin (D) is a bisphenol-type epoxy resin (D2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule. 前記リン含有エポキシ樹脂(D)が、分子中にホスファフェナントレン構造を有するフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(D3)である請求項2又は請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 2 or 3, wherein the phosphorus-containing epoxy resin (D) is a phenol novolac type epoxy resin (D3) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule. 平均のエポキシ当量が300以下のフェノール系ノボラック型エポキシ樹脂(E)をさらに含む請求項1〜6のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising a phenolic novolac type epoxy resin (E) having an average epoxy equivalent of 300 or less. 平均のエポキシ当量が300以下のビスフェノールA型エポキシ樹脂(F)をさらに含む請求項7に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 7, further comprising a bisphenol A type epoxy resin (F) having an average epoxy equivalent of 300 or less. 前記ビフェニル型エポキシ樹脂(A)の平均のエポキシ当量が350以下である請求項1〜8のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein an average epoxy equivalent of the biphenyl type epoxy resin (A) is 350 or less. 前記フェノール系ノボラック樹脂(C)が、アミノトリアジンノボラック樹脂(C1)である請求項1〜9のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9, wherein the phenolic novolak resin (C) is an aminotriazine novolac resin (C1). 平均粒径が1μm以下の無機充填材をさらに含む請求項1〜10のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to claim 1, further comprising an inorganic filler having an average particle size of 1 μm or less. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物から形成されることを特徴とする樹脂フィルム。   It forms from the epoxy resin composition of any one of Claims 1-11, The resin film characterized by the above-mentioned. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物をシート状基材に含浸して形成されることを特徴とするプリプレグ。   A prepreg formed by impregnating a sheet-like base material with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 11. 内層回路基板の導体層上に樹脂絶縁層と導体層とが交互に積層されてなる多層プリント配線板であって、前記樹脂絶縁層が請求項1〜11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物から形成されるものであることを特徴とする多層プリント配線板。   It is a multilayer printed wiring board by which a resin insulation layer and a conductor layer are laminated | stacked alternately on the conductor layer of an inner-layer circuit board, Comprising: The said resin insulation layer is an epoxy resin of any one of Claims 1-11. A multilayer printed wiring board characterized by being formed from a composition. 前記樹脂絶縁層が、請求項12に記載の樹脂フィルム、及び請求項13に記載のプリプレグから選ばれる少なくとも1種から形成されるものである請求項14に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 14, wherein the resin insulating layer is formed of at least one selected from the resin film according to claim 12 and the prepreg according to claim 13.
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