JPS63218131A - X-ray generating device - Google Patents

X-ray generating device

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Publication number
JPS63218131A
JPS63218131A JP4890187A JP4890187A JPS63218131A JP S63218131 A JPS63218131 A JP S63218131A JP 4890187 A JP4890187 A JP 4890187A JP 4890187 A JP4890187 A JP 4890187A JP S63218131 A JPS63218131 A JP S63218131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
electrode
ray source
melting point
ray
Prior art date
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Pending
Application number
JP4890187A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Yoshihara
秀雄 吉原
Yasunao Saito
斉藤 保直
Ikuo Okada
岡田 育夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP4890187A priority Critical patent/JPS63218131A/en
Publication of JPS63218131A publication Critical patent/JPS63218131A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To realize a long service life of a plasma X-ray source by using a high melting point metal or high melting point metal alloy for the electrode to which a high density plasma of the plasma X-ray source contacts. CONSTITUTION:In an X-ray generating device to generate X-rays from plasma produced by making a large current flow between a pair of electrodes 4A and 4B, at least portions 4C exposed to the plasma of the pair of electrodes are composed of one of tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, niobium, rhenium, and zirconium, or an alloy of two or more of them. By using such a high melting point metal or a high melting point metal alloy for the electrode which contacts to a high density plasma of a plasma X-ray source, the consumption of the electrode is reduced extremely. Therefore, as well as the electrode life of the plasma X-ray source is extended extremely, a damage of the X-ray pickup window is decreased, and the long service life of the plasma X-ray source is realized.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体集積回路バタン転写のためのX線露光
用線源3労析用線源等において、Zピンチ効果を利用し
た高温・高密度プラズマを用いるX線源に関するもので
ある。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention is an X-ray exposure source for semiconductor integrated circuit button transfer. This invention relates to an X-ray source using density plasma.

[従来の技術] 高温・高密度プラズマを利用するX線源として、金属に
細く絞ったレーザを瞬間的に当てて、金属の高温・高密
度プラズマを形成するレーザ励起プラズマX線源と放電
プラズマを利用するプラズマX線源がある。レーザ励起
プラズマX線源は、金属を蒸発させるためX線取り出し
窓の汚染が問題であり、実用的でない。
[Prior art] As an X-ray source that uses high-temperature, high-density plasma, a laser-excited plasma X-ray source that instantaneously irradiates a narrowly focused laser onto metal to form high-temperature, high-density metal plasma and discharge plasma. There are plasma X-ray sources that utilize Laser-excited plasma X-ray sources are impractical because they evaporate metal, so contamination of the X-ray extraction window is a problem.

一方、放電方式を用いるプラズマX線源A源には、不活
性ガスの高温・高密度プラズマの形成に絶縁物表面の沿
面放電を利用するプラズマフォーカスと、電極間に瞬間
的にガスを注入するガス注入型プラズマX線源がある。
On the other hand, the plasma X-ray source A source that uses a discharge method includes a plasma focus that uses creeping discharge on the surface of an insulator to form a high-temperature, high-density plasma of an inert gas, and a plasma X-ray source that uses a discharge method to instantaneously inject gas between electrodes. There are gas injection plasma X-ray sources.

プラズマフォーカスでは、放電に絶縁物の沿而を利用し
ているので、放電によって絶縁物表面にT;、極か消耗
物か付着し、絶縁物表面の絶縁不良を起こすという問題
があり、長期間安定に高温プラズマ形成をすることは困
難である。従って、プラズマフォーカス型のプラズマX
線源では、長寿命で安定なX線源を得るのは原理的に困
難である。
Plasma focus uses the structure of the insulator for discharge, so there is a problem that T, poles or consumables may adhere to the surface of the insulator due to the discharge, causing insulation failure on the surface of the insulator, and it may not last for a long time. It is difficult to form stable high-temperature plasma. Therefore, plasma focus type plasma
In principle, it is difficult to obtain a stable X-ray source with a long life.

現在、最も高効率で、長寿命のプラズマX線源は、ガス
注入型プラズマX線源である。X線露光等に用いるため
に、小型化を図ったこの種のX線源としては、Maxw
ell研究所(J、S、Pearl+nan etal
、: J、 Vac、 Sci、 Technol、、
 vol、19. No、4(1981)P−1190
)、 NTT(1,0kada et al、: J、
 Vac。
Currently, the most efficient and long-life plasma X-ray source is the gas injection plasma X-ray source. This type of X-ray source is miniaturized for use in X-ray exposure, etc.
ELL Research Institute (J, S, Pearl+nan etal
,: J, Vac, Sci, Technol, .
vol, 19. No. 4 (1981) P-1190
), NTT (1,0kada et al.: J.
Vac.

Sci、 Technol、、 vol、 B4. N
o、1(1985)P−243)等のX線源があげられ
る。このX線源の基本回路構成は第3図に示すようにな
っている。図において、1はコンデンサ、2はスイッチ
、3は高速開閉ガスバルブ、4は電極、5は電力伝送板
、6は絶縁板、7は真空容器、8はX線取り出し窓、1
00は噴射されたガス塊、101はピンチした高温・高
密度プラズマ、+02はX線、103は磁場である。
Sci, Technol, vol, B4. N
1 (1985) P-243). The basic circuit configuration of this X-ray source is shown in FIG. In the figure, 1 is a capacitor, 2 is a switch, 3 is a high-speed opening/closing gas valve, 4 is an electrode, 5 is a power transmission board, 6 is an insulating board, 7 is a vacuum container, 8 is an X-ray extraction window, 1
00 is an injected gas mass, 101 is a pinched high-temperature, high-density plasma, +02 is an X-ray, and 103 is a magnetic field.

高速開閉バルブ3を開くことにより、円筒状のガス塊+
00が電極4.4間に形成された時に、スイッチ2が閉
じられ、電極4.4の両端に高電圧が印加され、放電が
起こる。放電に伴ない電極間が導通状態となり300に
へ程度の大電流が流れ、これにともない磁場103が発
生し、この6n場によりプラズマは中央に収束し、ピン
チした高温・高密度プラズマ101を形成する。このプ
ラズマからX線102が発生する。以上述べたように、
電極間に大電流が流れるとともに、高温・高密度プラズ
マに直接さらされるため、7M、4’4の消耗が木刀式
の長寿命化の難点であった。
By opening the high-speed opening/closing valve 3, a cylindrical gas mass +
00 is formed between the electrodes 4.4, the switch 2 is closed, a high voltage is applied across the electrodes 4.4, and a discharge occurs. Due to the discharge, conduction occurs between the electrodes, and a large current of about 300 flows, which generates a magnetic field 103. This 6n field causes the plasma to converge at the center, forming a pinched high-temperature, high-density plasma 101. do. X-rays 102 are generated from this plasma. As mentioned above,
Because a large current flows between the electrodes and the electrodes are directly exposed to high-temperature, high-density plasma, the 7M, 4'4 wear was a problem in extending the lifespan of the wooden sword method.

この点を解決するために、従来から使用されていた銅電
極に代って大電流用のスイッチ材料として実績のあるA
g−W合金、 (:u−W合金、炭素が用いられつつあ
る。しかし、Ag−W合金、Cu−W合金の場合には、
合金中のAgとCuが蒸発し、著しい改善は認められな
い。一方、炭素電極の場合には、蒸発は認められないが
、材料強度が小さいため、熱応力によって電極材料が小
さな破片によって飛び散るという問題がある。このよう
に従来の電極では寿命が短く、また、電極を構成する材
料が真空容器内を汚染する問題があった。
To solve this problem, we decided to replace the conventionally used copper electrode with A, which has a proven track record as a switch material for large currents.
g-W alloy, (: u-W alloy, carbon is being used. However, in the case of Ag-W alloy, Cu-W alloy,
Ag and Cu in the alloy evaporated and no significant improvement was observed. On the other hand, in the case of carbon electrodes, no evaporation is observed, but because the material strength is low, there is a problem that the electrode material is scattered by small pieces due to thermal stress. As described above, conventional electrodes have a short lifespan, and the materials constituting the electrodes have the problem of contaminating the inside of the vacuum container.

一方、電極消耗の最大の原因である高温プラズマに直接
さらされる部分を円筒状に取り除くような構成もある。
On the other hand, there is also a configuration in which the portion directly exposed to high-temperature plasma, which is the biggest cause of electrode wear, is removed in a cylindrical shape.

第4図はそのような構成の電極部分を示した構成図であ
る。第4図では上側の電極4の中央に高温プラズマ10
1を逃すための穴9が設けである。このような構造をと
ることによってX線発生後の余分のプラズマをこの穴を
通して取り除けるので、電極消耗か改善される。しかし
ながら、現状では、このような改善では電極消耗を完全
になくすことはできない。
FIG. 4 is a configuration diagram showing the electrode portion of such a configuration. In FIG. 4, a high temperature plasma 10 is placed in the center of the upper electrode 4.
1 is provided with a hole 9 for letting it escape. By adopting such a structure, excess plasma after X-ray generation can be removed through this hole, thereby reducing electrode wear. However, at present, such improvements cannot completely eliminate electrode wear.

[発明が解決しようとする問題点] 上述したように、従来は、低融点金属と高融点金属の合
金を一部または全部に用いており、合金の耐熱性が低い
ので、消耗が大きい。一方、炭素を′7J、極に用いた
場合、強度が小さいので、電極に小さなりラックが発生
し、小さな破片が生ずる。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, conventionally, an alloy of a low melting point metal and a high melting point metal is used in part or in whole, and the heat resistance of the alloy is low, resulting in large consumption. On the other hand, when carbon is used for the electrode, the strength is low, so small cracks occur on the electrode and small pieces are generated.

本発明はこのような従来の欠点を解消し、電極消耗が著
しく少なく、長寿命で安定なX線発生装置を提供するこ
とを目的とする。
It is an object of the present invention to overcome these conventional drawbacks and to provide an X-ray generating device that exhibits significantly less electrode wear, has a long life, and is stable.

[問題点を解決するための手段] かかる目的を達成するために、本発明は一対の電極間に
大電流を流して生成されるプラズマからX線を発生する
X線発生装置において、一対の電極の少なくともプラズ
マに曝される部分が、タングステン、タンタル、モリブ
デン、バナジウム。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides an X-ray generator that generates X-rays from plasma generated by passing a large current between a pair of electrodes. At least the part exposed to plasma is tungsten, tantalum, molybdenum, and vanadium.

ニオブ、レニウム、ジルコニウムの一種またはタングス
テン、タンタル、モリブデン、バナジウム、ニオブ、レ
ニウム、ジルコニウムのうちの二種以上からなる合金で
構成されていることを特徴とする。
It is characterized by being composed of one of niobium, rhenium, and zirconium, or an alloy of two or more of tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, niobium, rhenium, and zirconium.

[作 用] 本発明によれは、高融点金属または高融点金属の合金を
プラズマX線源の高密度プラズマの接触する電極部分に
使用することによって、電極消耗が極端に減少するので
、プラズマX線源の電極。
[Function] According to the present invention, by using a refractory metal or an alloy of refractory metals in the electrode portion of the plasma X-ray source that comes into contact with high-density plasma, electrode wear is extremely reduced. Source electrode.

寿命が大幅に延びるとともに、X線取り出し窓の損傷も
少なくなりプラズマX線源が長寿命化し、信頼性が飛躍
的に向上する。
The lifespan is significantly extended, and the damage to the X-ray extraction window is reduced, resulting in a longer lifespan for the plasma X-ray source and dramatically improved reliability.

[実施例] 以下に図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
[Examples] Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

実施例1 第1図は本発明の第一の実施例を説明する図であって、
4Aは上部電極、4Bは下部電極、4Cは電極に高融点
金属をコーティングした膜、5は電力伝送板、6は絶縁
板、100は噴射されたガス塊、101はピンチした高
温・高密度プラズマ、102はX線、103は磁場であ
る。
Example 1 FIG. 1 is a diagram illustrating a first example of the present invention,
4A is an upper electrode, 4B is a lower electrode, 4C is a film coated with a high melting point metal on the electrode, 5 is a power transmission plate, 6 is an insulating plate, 100 is an injected gas mass, 101 is a pinched high-temperature, high-density plasma , 102 is an X-ray, and 103 is a magnetic field.

本実施例の電極4A、4Bはステンレスで構成されてお
り、その上に減圧雰囲気中(数Toprr)でM。をプ
ラズマ溶射してM0膜4Cを形成した。上部電極4Aの
外径は2(1〜50mmで、下部電極4Bの外径は10
0n++a以内であり、比較的簡単にプラズマ溶射が行
なえた。プラズマ溶射で形成したコーテイング膜の厚さ
は1mmである。100万回の放電試験(1回の放電時
間200〜3QQ n5cc)での消耗量は300 μ
m以下であり、その表面は極めて滑らかであった。
The electrodes 4A and 4B of this embodiment are made of stainless steel, and are coated with M in a reduced pressure atmosphere (several Toprr). was plasma sprayed to form an M0 film 4C. The outer diameter of the upper electrode 4A is 2 (1 to 50 mm), and the outer diameter of the lower electrode 4B is 10 mm.
It was within 0n++a, and plasma spraying could be performed relatively easily. The thickness of the coating film formed by plasma spraying is 1 mm. The consumption amount in 1 million discharge tests (1 discharge time 200~3QQ n5cc) is 300μ
m or less, and its surface was extremely smooth.

以上述べたようにモリブデンのコーテイング膜を用いた
場合、300万回以上の電極寿命が保証でき、従来の電
極に比べ著しい改善効果があった。
As described above, when a molybdenum coating film is used, an electrode life of 3 million cycles or more can be guaranteed, which is a significant improvement over conventional electrodes.

実施例2 実施例1と同様にステンレス電極の上にタングステン粉
末とタンタル粉末を用いてプラズマ溶射し、タングステ
ンとタンタルの合金のコーテイング膜を形成した。この
結果、100万回の寿命試験で電極の消耗量は100μ
m以下となり、実施例1で示したM。膜以上の長寿命化
が図れた。
Example 2 As in Example 1, tungsten powder and tantalum powder were plasma sprayed onto a stainless steel electrode to form a coating film of an alloy of tungsten and tantalum. As a result, the amount of electrode wear is 100μ after 1 million life tests.
m or less, and M shown in Example 1. We achieved a longer lifespan than that of membranes.

溶射する材料としては、モリブデンM。(融点=262
5℃)、ニオブNb (2500℃)、レニウムRe(
3170℃)、タンタルTa (3000℃)、バナジ
ウムV(1735℃)、タングステンW(3410’e
) 、ジルコニウムZr(1750℃)を使用してもほ
ぼ同様の効果がある。
The material to be thermally sprayed is molybdenum M. (Melting point=262
5℃), Niobium Nb (2500℃), Rhenium Re (
3170℃), tantalum Ta (3000℃), vanadium V (1735℃), tungsten W (3410'e
) and zirconium Zr (1750°C) have almost the same effect.

上述の融点は飯田他編「物理常数表」 (昭和44年l
O月10日発行、朝倉書店)からの引用であるが、これ
らの金属は全て約2000Kまたはそれ以上の融点をも
っているので、高温のプラズマにさらされても安定であ
る。2000に以上の融点をもつ金属にはルテニウムR
u、ロジウムRh、オスミウムOs、イリジウムIr、
白金Ptがあるが、これら白金族の金属は高価であって
、電極に用いることは可能であるが、価格上好ましくな
い。チタンTiは融点は2000に以上であるが蒸気圧
が高く、高温では消耗が激しい。
The melting point mentioned above is obtained from "Table of Physical Constants" edited by Iida et al.
All of these metals have melting points of about 2000 K or higher, so they are stable even when exposed to high-temperature plasma. Ruthenium R is a metal with a melting point above 2000
u, rhodium Rh, osmium Os, iridium Ir,
Although platinum (Pt) is available, these platinum group metals are expensive, and although they can be used for electrodes, they are not preferred in terms of cost. Although titanium has a melting point of over 2000, it has a high vapor pressure and is rapidly consumed at high temperatures.

実施例3 第2図に本発明の他の実施例を示す。第2図の4肩よ上
部電極の基部、4Dは高融点金属からなる上部電極のプ
ラズマにさらされる部分、4Eは高融点金属の下部電極
、5は電力伝送板である。
Embodiment 3 FIG. 2 shows another embodiment of the present invention. In FIG. 2, 4 shoulders are the base of the upper electrode, 4D is a portion of the upper electrode made of a high melting point metal exposed to plasma, 4E is a lower electrode made of a high melting point metal, and 5 is a power transmission plate.

上部電極の基部4Aはステンレスであり、上部電極のプ
ラズマにさらされる部分4Dはタングステンであり、下
部電極4Eはタングステンである。タングステンの加工
には放電加工を用い、上部電極のステンレス部4八とタ
ングステン部4Dとの接続は銀ろう付けを用いた。下部
電極4Eはタングステンを円板状に加工したもので風る
。このような電極を用いて、放電実験を行った結果、1
00万回の放電の電極の消耗は100μm以下であった
。同様の構造で高融点金属の焼結合金を使用してもほぼ
同様の結果を得た。
The base portion 4A of the upper electrode is made of stainless steel, the portion 4D of the upper electrode exposed to plasma is made of tungsten, and the lower electrode 4E is made of tungsten. Electric discharge machining was used to process the tungsten, and silver brazing was used to connect the stainless steel part 48 of the upper electrode to the tungsten part 4D. The lower electrode 4E is made of tungsten processed into a disk shape. As a result of conducting a discharge experiment using such an electrode, 1
The wear of the electrode after 1,000,000 discharges was less than 100 μm. Almost similar results were obtained using a sintered alloy of a high melting point metal with a similar structure.

[発明の効果コ 以上説明したように、高融点金属または高融点金属の合
金をプラズマX線源の高密度プラズマの接触する電極部
分に使用することによって、′電極消耗が極端に減少す
るので、プラズマX線源の電極、寿命が大幅に延びると
ともに、X線取り出し窓の損傷も少なくなりプラズマX
線源が長寿命化し、信頼性が飛躍的に向上する。
[Effects of the Invention] As explained above, by using a high-melting point metal or an alloy of high-melting point metals in the electrode portion that comes into contact with the high-density plasma of the plasma X-ray source, 'electrode wear is extremely reduced; The lifespan of the plasma X-ray source electrodes has been significantly extended, and the damage to the
The life of the radiation source will be extended, and its reliability will be dramatically improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例の構成図、 第2図は本発明の他の実施例の構成図、第3図はプラズ
マX線源の基本回路構成図、第4図は従来のプラズマX
線源の電極部の構成図である。 1・・・コンデンサ、 2・・・スイッチ、 3・・・高速開閉ガスバルブ、 4・・・電極、 4八・・・上部′准柘、 4B・・・下部電極、 4G・・・二極に高融点金属をコーティングした膜、 4D・・・高融点金属からなる上部電極、4E・・・高
融点金属の下部電極、 5・・・電力伝送板、 6・・・絶縁板、 7・・・真空容器、 8・・・X線取り出し窓、 100・・・噴射されたガス塊、 lOl・・・ピンチした高温・高密度プラズマ、102
・・・X線、 103・・・6n場。 51慨力伎成オ反5 第1図 第2図
Fig. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a block diagram of another embodiment of the present invention, Fig. 3 is a basic circuit block diagram of a plasma X-ray source, and Fig. 4 is a block diagram of a conventional plasma X-ray source.
It is a block diagram of the electrode part of a radiation source. 1...Capacitor, 2...Switch, 3...High-speed opening/closing gas valve, 4...Electrode, 48...Upper part, 4B...Lower electrode, 4G...Double pole A film coated with a high melting point metal, 4D... Upper electrode made of a high melting point metal, 4E... Lower electrode made of a high melting point metal, 5... Power transmission board, 6... Insulating plate, 7... Vacuum container, 8... X-ray extraction window, 100... Injected gas mass, lOl... pinched high-temperature/high-density plasma, 102
...X-ray, 103...6n field. 51 Diagram 1 Diagram 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 一対の電極間に大電流を流して生成されるプラズマから
X線を発生するX線発生装置において、前記一対の電極
の少なくとも前記プラズマに曝される部分が、タングス
テン、タンタル、モリブデン、バナジウム、ニオブ、レ
ニウム、ジルコニウムの一種またはタングステン、タン
タル、モリブデン、バナジウム、ニオブ、レニウム、ジ
ルコニウムのうちの二種以上からなる合金で構成されて
いることを特徴とするX線発生装置。
In an X-ray generator that generates X-rays from plasma generated by passing a large current between a pair of electrodes, at least a portion of the pair of electrodes exposed to the plasma is made of tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, niobium, etc. , rhenium, zirconium, or an alloy consisting of two or more of tungsten, tantalum, molybdenum, vanadium, niobium, rhenium, and zirconium.
JP4890187A 1987-03-05 1987-03-05 X-ray generating device Pending JPS63218131A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10942706B2 (en) 2017-05-05 2021-03-09 Intel Corporation Implementation of floating-point trigonometric functions in an integrated circuit device

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