JPS63187701A - Microwave line converter - Google Patents

Microwave line converter

Info

Publication number
JPS63187701A
JPS63187701A JP2163287A JP2163287A JPS63187701A JP S63187701 A JPS63187701 A JP S63187701A JP 2163287 A JP2163287 A JP 2163287A JP 2163287 A JP2163287 A JP 2163287A JP S63187701 A JPS63187701 A JP S63187701A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor
line
input
output
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2163287A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Tanaka
利憲 田中
Tsuneo Tokumitsu
恒雄 徳満
Masayoshi Aikawa
正義 相川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
A T R KOUDENPA TSUSHIN KENKYUSHO KK
ATR Optical and Radio Communications Research Laboratories
Original Assignee
A T R KOUDENPA TSUSHIN KENKYUSHO KK
ATR Optical and Radio Communications Research Laboratories
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by A T R KOUDENPA TSUSHIN KENKYUSHO KK, ATR Optical and Radio Communications Research Laboratories filed Critical A T R KOUDENPA TSUSHIN KENKYUSHO KK
Priority to JP2163287A priority Critical patent/JPS63187701A/en
Publication of JPS63187701A publication Critical patent/JPS63187701A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Networks Using Active Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To match impedances between input and output microwave lines and to improve electric separation between input and output by cascading a first grounded-gate field effect transistor FET and a second grounded-drain FET. CONSTITUTION:The first grounded-gate FET 2 which has the source electrode connected to an input microwave line 1 and the second grounded-drain FET 4 which has the gate electrode connected to the drain electrode of the first FET and has the source electrode connected to an output microwave line 5 are provided. Thus, the first grounded gate FET and the second grounded-drain FET are cascaded, and various characteristic impedances between input and output microwave lines are matched by these two cascaded FET circuits, and in this state, different microwave lines are connected.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、異なるマイクロ波線路間を接続するマイクロ
波線路変換装置に関する。以下、マイクロ波線路とは、
概ねIGI−(z以上の周波数の信号を伝送するための
線路であって、コプレナー線路又はスロット線路等の共
平面線路、並びにマイクロストリップ線路等をいう。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a microwave line conversion device for connecting different microwave lines. Below, what is a microwave line?
In general, IGI- (a line for transmitting signals with a frequency of z or higher, and refers to a coplanar line such as a coplanar line or a slot line, a microstrip line, etc.).

[従来の技術] 第9図(Δ)はコプレナー線路12とるロット線路16
間の線路変換を行うマイクロ波線路変換回路(以下、第
1の従来例という。)の斜視図であり、第9図(B)は
第9図(A)の八−A′線についての縦断面図である。
[Prior art] FIG. 9 (Δ) shows a lot line 16 that takes a coplanar line 12.
FIG. 9B is a perspective view of a microwave line conversion circuit (hereinafter referred to as the first conventional example) that performs line conversion between It is a front view.

第9図(A)及び(B)において、導体夏3ないし15
で((■成されるコプレナー線路12が誘電体基板11
の図上左側に形成され、一方、導体13及び14で構成
されるスロット線路16が誘電体基板11の図上右側に
形成される。ここで、コプレナー線路12において、幅
I21を有する導体15が導体i3及び14とそれぞれ
所定間隔に、たけ離れて形成され、一方、スロット線路
!6において導体13が導体14と所定間隔(1,li
け離れて形成される。また、コブレリー−線路12と出
力スロット線路16との接続点において、外側の導体1
3と14が短絡線18で接続される。さらに、上記短絡
線18の接続点からスロット線路16側に所定幅りと1
/4波長の長さを有するスロット線路17が導体14及
び!5で形成される。ここで、スロット線路17が1/
4波長の長さで短絡しであるため、上記短絡線18の接
続点において電気的に解放となる。以上のように構成す
ることにより、コプレナー線路12とスロット線路1G
との線路変換が行われ、この線路変換回路においては、
コプレナー線路12に入力された信号が線路変換されて
スロット線路i6に出力され、一方、スロット線路16
から入力された信号が線路変換されてコプレナー線路1
2に出力される。従って、本線路変換回路が相反回路と
なっている。
In Figures 9(A) and (B), conductor summers 3 to 15
() The coplanar line 12 formed is connected to the dielectric substrate 11.
On the other hand, a slot line 16 composed of conductors 13 and 14 is formed on the right side of the dielectric substrate 11 in the figure. Here, in the coplanar line 12, a conductor 15 having a width I21 is formed far apart from the conductors i3 and 14 at predetermined intervals, while the slot line! 6, the conductor 13 is spaced from the conductor 14 by a predetermined distance (1, li
Formed separately. Also, at the connection point between the Koblely line 12 and the output slot line 16, the outer conductor 1
3 and 14 are connected by a shorting wire 18. Further, a predetermined width and a length of 1.5 mm are provided from the connection point of the short circuit line 18 to the slot line 16 side.
A slot line 17 having a length of /4 wavelength is connected to the conductor 14 and! Formed by 5. Here, the slot line 17 is 1/
Since it is short-circuited with a length of four wavelengths, it is electrically released at the connection point of the short-circuit wire 18. By configuring as above, the coplanar line 12 and the slot line 1G
In this line conversion circuit,
The signal input to the coplanar line 12 is line-converted and output to the slot line i6, while the slot line 16
The signal input from the line is converted to the coplanar line 1.
2 is output. Therefore, the main line conversion circuit is a reciprocal circuit.

第1O図は、特開昭61−153602号公報において
提案された電界効果トランジスタ(以下、F’ETとい
う。)のマイクロ波線路変換回路(以下、第2の従来例
という。)の斜視図である。第1O図において第9図(
A)及び(113)と同一のものについては同一の符号
を付している。この第2の従来例の回路が上述の第1の
従来例の回路と異なるのは、l/4波長の長さを有する
スロット線路17の代わりに、パッケージで封入された
FE’r19が、入力コプレナー線路12と出力スロッ
ト線路1Gの接続部の該電体基板!1上に設けられるこ
とである。ここで、FET19のゲート端子24が入力
コプレナー線路12の中心導体15及びバイアス供給用
端子26に接続され、[;”ET+9のソース端子22
及び23が入力コプレナー線路12の外側接地導体13
及び14に接続される。また、FET19のドレイン端
子が出力スロット線路16の導体21及びバイアス端子
27に接続され、出力スロット線路16が導体14及び
21によって構成される。
FIG. 1O is a perspective view of a microwave line conversion circuit (hereinafter referred to as a second conventional example) of a field effect transistor (hereinafter referred to as F'ET) proposed in Japanese Patent Application Laid-open No. 153602/1982. be. In Figure 1O, Figure 9 (
Components that are the same as A) and (113) are given the same reference numerals. This second conventional circuit differs from the first conventional circuit described above because, instead of the slot line 17 having a length of 1/4 wavelength, an FE'r 19 enclosed in a package is used as the input. The electrical board at the connection between the coplanar line 12 and the output slot line 1G! 1. Here, the gate terminal 24 of the FET 19 is connected to the center conductor 15 of the input coplanar line 12 and the bias supply terminal 26, and the source terminal 22 of the FET 19 is
and 23 is the outer ground conductor 13 of the input coplanar line 12
and 14. Further, the drain terminal of the FET 19 is connected to the conductor 21 and bias terminal 27 of the output slot line 16, and the output slot line 16 is constituted by the conductors 14 and 21.

以上のように構成することにより、入力コプレナー線路
12と出力スロット線路16との線路変換が行われ、入
力コプレナー線路12に入力された信号が線路変換され
て出力スロット線路1Gに出力される。
With the above configuration, line conversion is performed between the input coplanar line 12 and the output slot line 16, and the signal input to the input coplanar line 12 is line converted and output to the output slot line 1G.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上述の第1の従来例の線路変換回路は、
1/4波長の短絡スロット線路17を用いる必要がある
ため、約1/4波長の長さよりも短く構成することがで
きず、線路変換回路を小型化することがむずかしかった
。また、この回路は上述のように相反回路であるため入
出力線路12゜16間の電気的な分離を行うことができ
ず、例えば、出力スロット線路16に接続された回路か
ら反射がある場合は、その反射波がそのまま入力コプレ
ナー線路12へ現れることになる。この反射波を除去す
る場合には更にアイソレータを設ける必要があるという
問題点もあった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the line conversion circuit of the first conventional example described above has the following problems:
Since it is necessary to use the 1/4 wavelength short-circuited slot line 17, it is impossible to configure the line conversion circuit to be shorter than about 1/4 wavelength, making it difficult to miniaturize the line conversion circuit. Furthermore, since this circuit is a reciprocal circuit as described above, it is not possible to electrically separate the input and output lines 12 and 16. For example, if there is reflection from the circuit connected to the output slot line 16, , the reflected waves appear as they are on the input coplanar line 12. In order to remove this reflected wave, there is also the problem that it is necessary to further provide an isolator.

第2の従来例の線路変換回路はl/4波長の短絡線路を
必要としないので、第1の従来例の回路に比較して小型
化が可能であり、しかもFE’r19を介して両人出力
線路12,1f3が接続されているので、上述のように
入力コプレナー線路12に入力された信号が出力スロッ
ト線路に一方向に出力され、従って、入出力線路12.
16間を電気的に分離することができる。しかしながら
、この第2の従来例の回路においては、入出力線路12
及び16間のインピーダンス整合がとれていないため、
良好な電気特性を得るためには整合回路を追加する必要
がある。このため、この線路変換回路全体が大きくなっ
てしまうという問題点があった。
Since the line conversion circuit of the second conventional example does not require a short-circuited line of 1/4 wavelength, it can be made smaller compared to the circuit of the first conventional example, and moreover, both Since the output lines 12 and 1f3 are connected, the signal input to the input coplanar line 12 as described above is output to the output slot line in one direction, and therefore the input/output lines 12.
16 can be electrically isolated. However, in this second conventional circuit, the input/output line 12
Since impedance matching between 16 and 16 is not achieved,
It is necessary to add a matching circuit to obtain good electrical characteristics. Therefore, there is a problem in that the entire line conversion circuit becomes large.

本発明の目的は以上の問題点を解決し、従来例に比較し
小型であって、入出力線路間の電気的分離を行うことが
でき、かつ人出力線路間のインピーダンス整合がとれる
マイクロ波線路変換装置を提供することにある。
The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a microwave line that is smaller than the conventional example, can electrically isolate input and output lines, and can achieve impedance matching between human output lines. The purpose of the present invention is to provide a conversion device.

[問題点を解決するための手段] 本発明は、異なるマイクロ波線路間を接続するマイクロ
波線路変換装置において、ソース電極が入力マイクロ波
線路に接続されるゲート接地の第1の電界効果トランジ
スタと、上記第1の電界効果トランジスタのドレイン電
極にゲート電極が接続されるとともに、ソース電極が出
力マイクロ波線路に接続されるドレイン接地の第2の電
界効果トランジスタとを備えたことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a microwave line conversion device for connecting different microwave lines, which includes a first field effect transistor with a common gate whose source electrode is connected to an input microwave line; and a second field effect transistor whose gate electrode is connected to the drain electrode of the first field effect transistor and whose drain is grounded and whose source electrode is connected to the output microwave line.

[作用コ 以上のように構成することにより、ゲート接地の第1の
電界効果トランジスタとドレイン接地の第2の電界効果
トランジスタが縦続接続され、この縦続接続された2p
Iの電界効果トランジスタ回路によって、入力マイクロ
波線路と出力マイクロ波線路間の各特性インピーダンス
が整合された状態で、異なるマイクロ波線路間を接続す
ることができる。
[Operations] By configuring as above, the first field effect transistor with a common gate and the second field effect transistor with a common drain are cascade-connected, and this cascade-connected 2p field-effect transistor is connected in cascade.
By using the field effect transistor circuit I, different microwave lines can be connected with each characteristic impedance between the input microwave line and the output microwave line being matched.

[実施例] 基本回路 第1図は本発明の一実施例である電界効果トランジスタ
(以下、FETという。)を用いたマイクロ波線路変換
回路の基本回路の回路図である。第1図において、特性
インピーダン、スZ。lを有する入力マイクロ波線路1
が相互コンダクタンスgra+を有するゲート接地のF
ET2のソースに接続され、該FET2のドレインが抵
抗値Rの利得調整用抵抗3を介してアースに接続される
とともに、相互コンダクタンスgm、を有するドレイン
接地の1’;’ET4のゲートに接続される。さらに、
該FE′r4のソースが特性インピーダンスZ。、を有
する出力マイクロ波線路5に接続される。
[Embodiment] Basic Circuit FIG. 1 is a circuit diagram of a basic circuit of a microwave line conversion circuit using a field effect transistor (hereinafter referred to as FET), which is an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the characteristic impedance, SZ. Input microwave line 1 with l
is a gate-grounded F with transconductance gra+
The drain of the FET 2 is connected to the ground via a gain adjustment resistor 3 having a resistance value R, and the drain is connected to the gate of the ET4 with a mutual conductance gm. Ru. moreover,
The source of the FE'r4 has a characteristic impedance Z. , is connected to the output microwave line 5 having the following.

ここで、F E ’!’ 2及び4を相互コンダクタン
スのみで記述可能な理想的なF E ’1”であると考
えると、第1図の回路のSパラメータは次式のようにS
+t−0・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(2)さらに、gm+Zo+=gm
tZot= Iとなるようにゲート接地のI;’ E 
T 2およびドレイン接地のFET4の各ゲート幅を設
定すると、上記各Sパラメータは次式のようになる。
Here, F E'! '2 and 4 are ideal F E '1'' that can be described only by mutual conductance, then the S parameter of the circuit in Figure 1 is S as shown in the following equation.
+t-0・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(2) Furthermore, gm+Zo+=gm
The gate is grounded so that tZot=I;' E
When T2 and each gate width of the FET 4 with a common drain are set, each of the above S parameters becomes as shown in the following equation.

5ll=Sl!=S、=0 ・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(5)521=□ ・・・・・・・
・・・・・・・・・・・(6)2(τ=7−− このように、gffi+Zo+=gmtZo*= 1と
設定されたゲート接地のr’ET2およびドレイン接地
のFET71を縦続接続することにより、次のような効
果が有る。
5ll=Sl! =S, =0 ・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・(5)521=□ ・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・(6) 2(τ=7−− In this way, r'ET2 with a gate common and FET71 with a common drain set as gffi+Zo+=gmtZo*=1 are connected in cascade. This has the following effects.

(1)入力端反射係数S II及び出力端反射係数82
2がゼロとなるので、人出力線路間のインピーダンス整
合がとれる。
(1) Input end reflection coefficient S II and output end reflection coefficient 82
2 becomes zero, impedance matching between the human output lines can be achieved.

(2)逆方向伝達係数S12がゼロとなるので、入出力
線路間の電気均分61を行うことができる。
(2) Since the reverse transfer coefficient S12 becomes zero, electrical equalization 61 between input and output lines can be performed.

(3)正方向伝達係数St+か上記(6)式のように表
わすことができるので、抵抗3の抵抗値Rを変化するこ
とにより増幅利得を調整できる。なお、抵抗3は、利得
制御および広帯域化のために設けてあり、この抵抗3の
抵抗値Rを無限大とし、すなわち抵抗3を取り除いても
、このマイクロ波線路変換回路は、上記(1)および(
2)の効果を有する。従って、このマイクロ波線路変換
回路は、異なる入出力マイクロ波線路間を、インピーダ
ンス整合状態でかつ入出力間の電気的分離状態で接続す
ることができる。
(3) Since the positive direction transfer coefficient St+ can be expressed as in the above equation (6), the amplification gain can be adjusted by changing the resistance value R of the resistor 3. Note that the resistor 3 is provided for gain control and broadband expansion, and even if the resistance value R of this resistor 3 is set to infinity, that is, even if the resistor 3 is removed, this microwave line conversion circuit will still not perform as described in (1) above. and(
It has the effect of 2). Therefore, this microwave line conversion circuit can connect different input and output microwave lines in an impedance matching state and in an electrically isolated state between the input and output.

さらに、入出力線路l及び2間の間隔は、第1の従来例
のようにI/4波長の長さを必要とせず、F E ’r
 2 、4並びに抵抗3で構成される回路を小型化する
ことによって、該マイクロ波線路変換回路を第1の従来
例に比較して小型化することができる。
Furthermore, the distance between the input and output lines l and 2 does not require the length of I/4 wavelength as in the first conventional example, and the distance between F E 'r
By downsizing the circuit constituted by 2, 4 and the resistor 3, the microwave line conversion circuit can be downsized compared to the first conventional example.

第1の実施例 第2図は本発明の第1の実施例である入力コプレナー線
路12と出力スロット線路16間の線路変換のためのハ
イブリッド集積回路の平面図であり、第2図において上
述の図面と同一の乙のについては同一の符号を付してい
る。
First Embodiment FIG. 2 is a plan view of a hybrid integrated circuit for line conversion between an input coplanar line 12 and an output slot line 16, which is a first embodiment of the present invention. Items in Part B that are the same as those in the drawings are given the same reference numerals.

第2図において、誘電体基板IIの上表面上に、入力コ
プレナー線路12と出力スロット線路16が各線路12
.16の長手方向に所定間隔だけ離れて形成される。こ
こで、入力コプレナー線路12は幅ff、の中心導体1
5と外側導体13.14から構成され、外側導体13.
14が中心導体15と所定の間隔Q、たけ離れかつ共平
面関係で形成され、一方、出力スロット線路16は所定
の間隔Q3だけ離れた導体14及び21から構成される
。入出力線路+2,10間の良好な電気的分離を得るた
めに、導体13及び21が可能な限り離れるように、導
体13の導体2I側の部分及び導体21の導体13側の
部分がそれぞれカットされた形状となっている。この線
路12及び16間の基板11上に、略正方形状の導体9
I及び92がそれぞれ所定間隔だけ離れて形成され、導
体9Iと92間が直流カット用チップキャパシタ33を
介して接続される。線路12と導体91の間の基板II
上に、パッケージに封入されたFET31が載置され、
また、導体92と線路16の間の基板II上に、パッケ
ージに封入されたFET32が載置される。
In FIG. 2, an input coplanar line 12 and an output slot line 16 are arranged on the upper surface of the dielectric substrate II.
.. 16 are formed at predetermined intervals in the longitudinal direction. Here, the input coplanar line 12 has a center conductor 1 with a width ff.
5 and an outer conductor 13.14, the outer conductor 13.
14 is formed in a spaced apart and coplanar relationship with the center conductor 15 by a predetermined distance Q, while the output slot line 16 is composed of conductors 14 and 21 separated by a predetermined distance Q3. In order to obtain good electrical isolation between input and output lines +2 and 10, the part of conductor 13 on the conductor 2I side and the part of conductor 21 on the conductor 13 side are cut so that conductors 13 and 21 are as far apart as possible. It is shaped like this. A substantially square conductor 9 is placed on the substrate 11 between the lines 12 and 16.
Conductors 9I and 92 are formed apart from each other by a predetermined interval, and conductors 9I and 92 are connected via a DC cutting chip capacitor 33. Substrate II between line 12 and conductor 91
A FET 31 enclosed in a package is placed on top,
Furthermore, a FET 32 sealed in a package is placed on the substrate II between the conductor 92 and the line 16.

導体91及びFET32の図面下側の基板■1上に、そ
れぞれ導体93及び94が形成され、導体93及び導体
94が形成される位置に凹部14a及び14bを有する
接地導体14が、FET31及び32並びに導体93及
び94の図面下側の基板11上に形成される。また、導
体93及び94にそれぞれドレインバイアス供給用端子
38及び39が接続される。
Conductors 93 and 94 are formed on the substrate 1 at the bottom of the drawing of the conductors 91 and FET 32, respectively, and the ground conductor 14 having recesses 14a and 14b at the positions where the conductors 93 and 94 are formed is connected to the FETs 31 and 32 and The conductors 93 and 94 are formed on the substrate 11 on the lower side in the drawing. Further, drain bias supply terminals 38 and 39 are connected to the conductors 93 and 94, respectively.

FE’r31のソース端子が線路I2の中心導体15の
端部に接続され、またFET31のドレイン端子が導体
91に接続され、さらにFET31の2個のゲート端子
がそれぞれ接地導体13及び14に接続される。導体9
1がチップ抵抗3Gを介して導体93に接続され、導体
93が高周波バイパス用チップキャパシタ34を介して
接地導体14に接続される。また、導体91が直流カッ
ト用チップキャパシタ33を介して導体92に接続され
ろ。さらに、導体92がチップ抵抗37を介して接地導
体14の凹部14aと14b間の突出部+4cに接続さ
れ、導体94が高周波バイパス用チップキャパシタ35
を介して接地導体14に接続される。
The source terminal of FE'r31 is connected to the end of center conductor 15 of line I2, the drain terminal of FET31 is connected to conductor 91, and the two gate terminals of FET31 are connected to ground conductors 13 and 14, respectively. Ru. conductor 9
1 is connected to the conductor 93 via the chip resistor 3G, and the conductor 93 is connected to the ground conductor 14 via the high frequency bypass chip capacitor 34. Further, the conductor 91 is connected to the conductor 92 via the DC cut chip capacitor 33. Furthermore, the conductor 92 is connected to the protrusion +4c between the recesses 14a and 14b of the ground conductor 14 via the chip resistor 37, and the conductor 94 is connected to the chip capacitor 35 for high frequency bypass.
It is connected to the ground conductor 14 via.

FET32のゲート端子が導体92に接続され、また、
該r;’ET32のドレイン端子が導体94に接続され
、さらに、該F’ET32のソース端子が線路16の導
体21の端部に接続される。
A gate terminal of FET 32 is connected to conductor 92, and
The drain terminal of the r;'ET 32 is connected to the conductor 94, and the source terminal of the F'ET 32 is further connected to the end of the conductor 21 of the line 16.

以上のように構成することにより、FET31のドレイ
ン端子がチップ抵抗36及びチップキャパシタ34を介
して高周波的に接地され、また、FET32のドレイン
端子がチップキャパシタ35を介して高周波的に接地さ
れる。入力コプレナー線路12に入力された信号がFE
T31、チップキャパシタ33及びFET32を介して
出力スロット線路16に出力される。ここで、第2図の
ハイブリッド集積回路の高周波等価回路は、第1図のよ
うになり、FET31およびFET32の相互コンダク
タンスをglLZo+=gllltZo*= 1のよう
に設定することにより、上述のように、入出力線路12
及び16間のインピーダンス整合がとれた状態で、異な
る入出力線路12及び16間の接続を行うことができる
。また、入出力線路12及び16間に、信号を一方向し
か伝達しない2個のFET 31.32ニテなるFET
回路を挿入しているので、人出力線路12及び16間の
電気的な分離度が良好なマイクロ波線路変換回路が得ら
れる。
With the above configuration, the drain terminal of the FET 31 is grounded at high frequency via the chip resistor 36 and the chip capacitor 34, and the drain terminal of the FET 32 is grounded at high frequency via the chip capacitor 35. The signal input to the input coplanar line 12 is FE
It is output to the output slot line 16 via T31, chip capacitor 33, and FET32. Here, the high frequency equivalent circuit of the hybrid integrated circuit of FIG. 2 becomes as shown in FIG. 1, and by setting the mutual conductance of FET31 and FET32 as glLZo+=gllltZo*=1, as described above, Input/output line 12
The different input/output lines 12 and 16 can be connected while impedance matching between the input and output lines 12 and 16 is achieved. In addition, between the input and output lines 12 and 16, there are two FETs that transmit signals in only one direction.
Since the circuit is inserted, a microwave line conversion circuit with good electrical separation between the human output lines 12 and 16 can be obtained.

さらに、本回路における人出力線路12.16間の間隔
は、第1の従来例のように1/4波長の長さを必要とし
ないので、FE’l’31,32.チップキャパシタ3
3並びに導体91ないし9イから構成される回路を小型
化することにより、該マイクロ波線路変換回路を第1の
従来例に比較して小型化することができる。
Furthermore, since the interval between the human output lines 12, 16 in this circuit does not require a quarter wavelength length as in the first conventional example, FE'l'31, 32. Chip capacitor 3
By downsizing the circuit constituted by 3 and conductors 91 to 9a, the microwave line conversion circuit can be downsized compared to the first conventional example.

なお、本実施例では、FET31およびFET32間を
近接配置して集中定数的に接続しているが、マイクC1
波線路を介して接続することら可能であ、る。このこと
は、以下の実施例で6同様である。
Note that in this embodiment, the FET 31 and the FET 32 are arranged close to each other and connected in a lumped constant manner, but the microphone C1
It is possible to connect via a wave line. This also applies to Example 6 below.

第2の実施例 第3図(A)は本発明の第2の実施例である入力コプレ
ナー線路12と出カスロット線路16間の線路変換のた
めのモノリシック集積回路の平面図、第3図(I3)は
第3図(Δ)のr3−[1’線の縦断面図、第3図(C
)は第3図(A)のc−c’線の縦断面図である。この
第3図(A)、(I3)及び(C)において、上述の図
面と同一の乙のについては同一の符号を付している。
Second Embodiment FIG. 3A is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input coplanar line 12 and an output slot line 16 according to a second embodiment of the present invention. ) is a vertical cross-sectional view taken along the r3-[1' line in Figure 3 (Δ), Figure 3 (C
) is a vertical cross-sectional view taken along line cc' in FIG. 3(A). In FIGS. 3(A), (I3), and (C), the same reference numerals are given to the same parts as those in the above-mentioned drawings.

第3図(Δ)、(B)及び(C)において、長方形状の
半絶縁性GaAs半導体基板40の図上左側の略中央位
置であって金属−半導体電界効果トランジスタ(以下、
MESFETという。)41が形成される位(1%2の
全面上に、半導体基板40の上表面から不純物イオンを
注入して動作層45を形成する。
In FIGS. 3(Δ), (B), and (C), a metal-semiconductor field effect transistor (hereinafter referred to as
It is called MESFET. ) 41 is formed (1%2), impurity ions are implanted from the upper surface of the semiconductor substrate 40 to form an active layer 45.

MESFET41のゲート電極42が」1記動作層45
の略中央位置に接地導体61a、61bと一体的に形成
され、ここで、該ゲート電極42の平面形状は長手のゲ
ート幅W1とゲート長g1の2辺を何する長方形状であ
る。さらに、ソース電極43及びドレイン電極44が、
上記ゲート電極42を間にはさんで、それぞれゲート電
極42と所定の間隔だけ離れて、上記動作層45上にそ
れぞれ入力コプレナー線路!2の導体15及び導体62
と一体的に形成される。ここで、ソース電極43及びド
レイン電極44の各平面形状は長方形状であって、該電
極43及び44の長手方向の辺が」二足ゲート4tt極
42のゲート幅冑、方向の辺と平行している。
The gate electrode 42 of the MESFET 41 is the active layer 45
The gate electrode 42 is formed integrally with the ground conductors 61a and 61b at approximately the center of the gate electrode 42, and the planar shape of the gate electrode 42 is a rectangle whose two sides are the longitudinal gate width W1 and the gate length g1. Furthermore, the source electrode 43 and the drain electrode 44 are
Input coplanar lines are placed on the active layer 45 at a predetermined distance from the gate electrode 42 with the gate electrode 42 in between! 2 conductor 15 and conductor 62
It is formed integrally with. Here, each of the source electrode 43 and the drain electrode 44 has a rectangular planar shape, and the sides in the longitudinal direction of the electrodes 43 and 44 are parallel to the side in the gate width direction of the bipedal gate 4tt pole 42. ing.

半導体基板40内の動作層・15上に以上のように公知
の方法で形成されたゲート電極42、ソース電極43及
びドレイン電極44によって、MESFE’ll’41
を構成している。
The MESFE'll' 41 is formed by the gate electrode 42, source electrode 43, and drain electrode 44 formed on the active layer 15 in the semiconductor substrate 40 by a known method as described above.
It consists of

また、MIDSFET41の図上右下側の位置の半導体
基板40の動作層55上にM E S F E ’1’
 41と同様にゲート電極52、ソース電極53及びド
レイン電極54を備えるMES[”ET51が形成され
る。ここで、ゲート電極52の平面形状は長手のゲート
幅實、とゲート長g、の2辺を有する長方形状であり、
ソース電極53及びドレイン電極54は、動作層55上
にそれぞれ出力スロット線路16の導体71及び導体6
Gと一体的に形成される。
Further, on the active layer 55 of the semiconductor substrate 40 at the lower right side of the figure of the MIDSFET 41, there is an M E S F E '1'.
41, an MES["ET51 is formed which includes a gate electrode 52, a source electrode 53, and a drain electrode 54.Here, the planar shape of the gate electrode 52 has two sides of the long gate width and the gate length g. It has a rectangular shape with
The source electrode 53 and the drain electrode 54 are respectively arranged on the conductor 71 and the conductor 6 of the output slot line 16 on the active layer 55.
It is formed integrally with G.

以下、MESFE’r41が形成される半導体基板40
の図上左側を基板40の入力側といい、また、MESF
E’r51が形成される半導体基板40の図上右側を基
板40の出力側という。
Hereinafter, the semiconductor substrate 40 on which the MESFE'r41 will be formed.
The left side in the figure is called the input side of the board 40, and the MESF
The right side in the figure of the semiconductor substrate 40 on which E'r 51 is formed is referred to as the output side of the substrate 40.

入力コプレナー線路I2の導体15がMESFE’r4
1のソース電極43の図上上側にソース電′極43と一
体的に形成され、この導体15の平面形状はゲート幅w
1方向の幅Qlと長手の辺を有する長方形状である。こ
こで、この導体15の幅i21の一辺かソース?ut&
43のゲート輻W、方向の辺の中央部分と接続される。
Conductor 15 of input coplanar line I2 is MESFE'r4
The conductor 15 is formed integrally with the source electrode 43 on the upper side of the source electrode 43 in the figure, and the planar shape of this conductor 15 is the same as the gate width w.
It has a rectangular shape with a width Ql in one direction and a long side. Here, one side of the width i21 of this conductor 15 or the source? ut&
It is connected to the central part of the side in the direction of gate radius W of 43.

接地導体61aが、中心導体15の図上左側、MESP
E’r41のゲート電極42及びドレイン電極44の図
上左側及び下側、並びにMESFET51のドレイン電
極54の下側の半導体基板40の縁端部に、ゲート電極
42及び接地導体61bと一体的にかつ中心導体15及
び接地導体61bと共平面関係で形成されろ。
The ground conductor 61a is located on the left side of the center conductor 15 in the figure, MESP
At the upper left side and bottom of the gate electrode 42 and drain electrode 44 of E'r41, and at the edge of the semiconductor substrate 40 below the drain electrode 54 of MESFET 51, integrally with the gate electrode 42 and the ground conductor 61b, It is formed coplanar with the center conductor 15 and the ground conductor 61b.

また、接地導体61bが中心導体15の図」1右側の半
導体基板40上にゲート電極42及び接地導体Glaと
共平面関係で形成され、この接地導体61bの平面形状
は略長方形状であって、該接地導体61bが導体71と
所定間隔だけ離れて形成される。ここで、接地導体61
aおよび61.bは、中心導体15と所定間隔Q、たけ
離れてかつ共平面関係で半導体基板40上に形成され、
この接地導体61a、61b及び中心導体15によって
入力コプレナー線路12を構成している。
Further, a ground conductor 61b is formed on the semiconductor substrate 40 on the right side of the center conductor 15 in a coplanar relationship with the gate electrode 42 and the ground conductor Gla, and the planar shape of the ground conductor 61b is approximately rectangular. The ground conductor 61b is formed apart from the conductor 71 by a predetermined distance. Here, the ground conductor 61
a and 61. b is formed on the semiconductor substrate 40 at a predetermined distance Q from the center conductor 15 and in a coplanar relationship;
The ground conductors 61a, 61b and the center conductor 15 constitute an input coplanar line 12.

導体62が、ドレイン電極44の図上下側及び右下側の
半導体基板40」二にドレイン71i極44と一体的に
形成される。この導体62の平面形状は20、ξ1の長
方形を組み合わU゛たL字形であって、ゲート幅w1の
幅をイfするMESFEi”41側の長方形部G2aと
MESFET51側の長方形部G2bから+1が成され
る。導体62の長方形部62aの図上下側の接地導体6
1aJ=及び接地導体Glaの近傍部分の半導体基板4
0上に、長方形状の誘電体にてなる絶縁体層64が形成
され、さらに、該絶縁体層64と導体62の長方形部G
2aとの間の絶縁体層64の近傍部分の半導体基板40
」二、並びに絶縁体層64上に、導体63が形成される
A conductor 62 is formed integrally with the drain electrode 71i on the semiconductor substrate 40 on the upper and lower sides of the drain electrode 44 and on the lower right side in the figure. The planar shape of this conductor 62 is an L-shape formed by combining rectangles of 20 and ξ1, and +1 is formed from the rectangular part G2a on the MESFET 51 side and the rectangular part G2b on the MESFET 51 side, which increases the width of the gate width w1. The ground conductor 6 on the upper and lower sides of the rectangular portion 62a of the conductor 62 in the figure
1aJ= and the semiconductor substrate 4 in the vicinity of the ground conductor Gla
0, an insulator layer 64 made of a rectangular dielectric material is formed, and the insulator layer 64 and the rectangular portion G of the conductor 62 are further formed.
2a of the semiconductor substrate 40 in the vicinity of the insulator layer 64.
A conductor 63 is formed on the second layer and the insulator layer 64.

この導1体63、絶縁体層64及び接地導体Glaによ
り、金属−絶縁体−金属キャパシタ(以下、M I M
キャパシタという。)68を構成している。
The conductor 63, the insulator layer 64, and the ground conductor Gla form a metal-insulator-metal capacitor (hereinafter referred to as M I M
It's called a capacitor. )68.

この導体63にバイアス供給用端子38が接続される。A bias supply terminal 38 is connected to this conductor 63.

導体63の半導体基板40上の端部G3aから導体62
の長方形部62aの図上下側端部62aaまでの半導体
基板40内に予め不純物イオンが注入され、これによっ
て抵抗体46が形成される。
From the end G3a of the conductor 63 on the semiconductor substrate 40 to the conductor 62
Impurity ions are implanted in advance into the semiconductor substrate 40 up to the upper and lower ends 62aa of the rectangular portion 62a in the figure, thereby forming the resistor 46.

従って、導体62が抵抗体46、導体63、絶縁体層6
4を介して接地導体61aに接続される。
Therefore, the conductor 62 is the resistor 46, the conductor 63, and the insulator layer 6.
4 to the ground conductor 61a.

導体62の長方形部62bの端部の下側であって半導体
基板40」二に、長方形状の導体65がMESFET5
1のゲート電極52と一体的に形成され、ここで、導体
65はゲート電極52のゲート長g、の一辺と接続され
る。この導体65と導体62の長方形部62bとの間に
誘電体にてなる絶縁体層(図示せず)が形成され、この
絶縁体層、導体62及び65によってMIMキャパシタ
70を構成している。従って、導体62が絶縁体層を介
して導体65に接続される。
A rectangular conductor 65 is located below the end of the rectangular portion 62b of the conductor 62 and located on the semiconductor substrate 40''.
Here, the conductor 65 is connected to one side of the gate length g of the gate electrode 52. An insulating layer (not shown) made of a dielectric material is formed between this conductor 65 and the rectangular portion 62b of the conductor 62, and this insulating layer and the conductors 62 and 65 constitute an MIM capacitor 70. Therefore, conductor 62 is connected to conductor 65 via the insulator layer.

導体65の図上下側端部(i5aから接地導体61の上
記端部65a側近傍部分61aaまでの半導体基板40
内に予め不純物イオンが注入され、これによって抵抗体
47が形成される。従って、導体65が抵抗体47を介
して接地導体61aに接続される。
The semiconductor substrate 40 from the upper and lower ends of the conductor 65 (i5a to the portion 61aa near the end 65a of the ground conductor 61)
Impurity ions are implanted in advance into the resistor 47, thereby forming the resistor 47. Therefore, the conductor 65 is connected to the ground conductor 61a via the resistor 47.

MESFET51のドレイン電極5イの図上下側の接地
導体61a上並びに該接地導体61aとドレイン電極5
4との間の半導体基板40上に、誘7[体にてなる絶縁
体層67が形成され、さらに、ゲート幅W!を汀する長
方形状の導体66がこの絶縁体層67上にドレイン電極
54と一体的に形成される。この導体66、絶縁体層6
7及び接地導体61aによってMIMキャパシタ69を
形成しており、これによって、MESFET51のドレ
イン電極54が導体66及び絶縁体層67を介して接地
導体61gに接続される。さらに、この導体66にバイ
アス供給用接続端子39が接続される。
On the ground conductor 61a on the upper and lower sides of the drain electrode 5a of the MESFET 51, and between the ground conductor 61a and the drain electrode 5a.
An insulator layer 67 made of a dielectric material is formed on the semiconductor substrate 40 between the semiconductor substrate 40 and the gate width W! A rectangular conductor 66 is formed integrally with the drain electrode 54 on the insulating layer 67. This conductor 66, insulator layer 6
7 and the ground conductor 61a form an MIM capacitor 69, whereby the drain electrode 54 of the MESFET 51 is connected to the ground conductor 61g via the conductor 66 and the insulator layer 67. Further, a bias supply connection terminal 39 is connected to this conductor 66 .

出力スロット線路16の導体71が、ソース電極53の
図上上側及び右上側の半導体基板40上にソース電極5
3と一体的に形成される。ここで、導体71の平面形状
は間隔Q3に比較して十分に広いゲート長g、方向の幅
を有ずろ略長方形伏であって、導体71が接地導体(3
1aと所定間隔a3だけ離れかつ共平面関係で形成され
る。従って、導体7!がソース電極53と接続され、導
体71と接地導体61aによって出力スロット線路16
を構成している。
The conductor 71 of the output slot line 16 is connected to the source electrode 5 on the semiconductor substrate 40 on the upper and upper right sides of the source electrode 53 in the figure.
It is formed integrally with 3. Here, the planar shape of the conductor 71 is a substantially rectangular shape with a sufficiently wide gate length g and width in the direction compared to the interval Q3, and the conductor 71 is a ground conductor (3
1a and are spaced apart from each other by a predetermined distance a3 and coplanar with each other. Therefore, conductor 7! is connected to the source electrode 53, and the output slot line 16 is connected by the conductor 71 and the ground conductor 61a.
It consists of

以上のように(1v1成することにより、入力コプレナ
ー線路12と出力スロット線路16間の線路変換回路を
構成することができるとともに、この第2の実施例のモ
ノリシック集積回路の高周波等価回路は第り図のように
なり、上述の第1の実施例と同様の効果を有する。
As described above, by forming 1v1, it is possible to configure a line conversion circuit between the input coplanar line 12 and the output slot line 16, and the high frequency equivalent circuit of the monolithic integrated circuit of this second embodiment is as follows. As shown in the figure, it has the same effect as the first embodiment described above.

第3の実施例 第4図(A)は本発明の第3の実施例である入力スロッ
ト線路16と出力コプレナー線路12間の線路変換のた
めのモノリシック集積回路の平面図であり、第4図(B
)は第4図(A)のD−D’線の縦断面図である。なお
、第4図(A)のn−n’線の縦断面図は、導体15が
導体73となり接地導体01aが接地導体72aとなる
ことを除いて第3図(t3)と同様である。この第4図
(A)及び(B)において、上述の図面と同一のものに
ついては同一の符号を付している。
Third Embodiment FIG. 4(A) is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input slot line 16 and an output coplanar line 12, which is a third embodiment of the present invention. (B
) is a longitudinal sectional view taken along line DD' in FIG. 4(A). The vertical cross-sectional view taken along line nn' in FIG. 4(A) is the same as FIG. 3(t3) except that the conductor 15 becomes the conductor 73 and the ground conductor 01a becomes the ground conductor 72a. In FIGS. 4(A) and 4(B), the same parts as in the above-mentioned drawings are designated by the same reference numerals.

この第3の実施例の回路か第2の実施例の回路と異なる
のは、 (1)入カコブレナー線路12が入力スロット線路16
に、また出力スロット線路16が出力コプレナー線路1
2にとって代わったこと、(2)MES F IE’r
 51が、2個のゲート電極52a、52b、2個のド
レイン電極54a、54b並びにソース電極52aを有
するMESFE’r51aにとって代わったこと、 (3)上記(1)によって導体15が導体73にとって
代わり、また、導体71が導体74にとって代わり、さ
らに接地導体61aか接地導体72a及び72bにとっ
て代わったこと、並びに、(4)上記(2)によって2
個のトレイン電極54a、54bにそれぞれ接続される
2個のMr〜1キャパシタ69a及び69bが形成され
たことである。
The circuit of this third embodiment is different from the circuit of the second embodiment as follows: (1) The input Cacobrenner line 12 is replaced by the input slot line 16.
In addition, the output slot line 16 is connected to the output coplanar line 1.
(2) MES F IE'r
51 has replaced the MESFE'r 51a having two gate electrodes 52a, 52b, two drain electrodes 54a, 54b and a source electrode 52a; (3) the conductor 15 has replaced the conductor 73 according to (1) above; In addition, the conductor 71 replaced the conductor 74, and the ground conductor 61a replaced the ground conductor 72a and 72b, and (4) due to the above (2),
Two Mr~1 capacitors 69a and 69b connected to the train electrodes 54a and 54b, respectively, are formed.

以下、上記の相違点について詳細に説明する。The above differences will be explained in detail below.

導体73が、MESFET41のソース電極43の図上
上側及び左上側の半導体基板4θ上に接地導体72aと
所定間隔a、たけ離れて、ソース電極43と一体的にか
つ接地導体72aと共平面関係で形成される。この導体
73の平面形状は上記間隔Q、よりら十分に広いゲート
長g+方向の幅を育する略長方形状であって、該導体7
3のゲート幅w+方向の辺の一部がソース71極43に
接続される。
A conductor 73 is disposed on the semiconductor substrate 4θ on the upper and upper left sides of the source electrode 43 of the MESFET 41 in the figure, at a predetermined distance a distance from the ground conductor 72a, and integrally with the source electrode 43 and coplanar with the ground conductor 72a. It is formed. The planar shape of this conductor 73 is a substantially rectangular shape that has a width in the gate length g+ direction that is sufficiently wider than the above-mentioned interval Q.
A part of the side in the gate width w+ direction of No. 3 is connected to the source 71 pole 43.

また、接地導体72aが、基板40の図上左上端縁部上
に形成されないことを除いて第2の実施例の接地導体G
laと同様に形成され、MESFET51の図上左側に
おいて接地導体72aが出力スロット線路12の中心導
体74と所定の間隔ムだけ離れて形成されろ。この接地
導体72aと導体73によって入力スロット線路16を
構成している。
Further, the ground conductor G of the second embodiment is different from that of the second embodiment except that the ground conductor 72a is not formed on the upper left edge of the substrate 40 in the figure.
The ground conductor 72a is formed in the same manner as the MESFET 51 on the left side of the diagram, and is spaced apart from the center conductor 74 of the output slot line 12 by a predetermined distance. The ground conductor 72a and the conductor 73 constitute the input slot line 16.

接地導体72bh<MESFET51aの図上上側及び
右上側の半導体基板40上に、導体73と所定間隔離れ
て形成される。接地導体72bの平面形状は幅乙及び間
隔g、に比べて十分に広いゲート長g、方向の幅を有す
る略長方形状であって、該接地導体72bが導体74と
所定間隔e、たけ離れて導体74及び接地導体72aと
共平面関係で形成される。
The ground conductor 72bh<MESFET 51a is formed on the semiconductor substrate 40 on the upper and upper right sides of the figure, spaced apart from the conductor 73 by a predetermined distance. The ground conductor 72b has a substantially rectangular planar shape with a gate length g and a width in the direction that are sufficiently wider than the width A and the interval g, and the ground conductor 72b is separated from the conductor 74 by a predetermined distance e. It is formed in a coplanar relationship with the conductor 74 and the ground conductor 72a.

上述の第2の実施例のMESFET51の位置と同一の
位置の半導体基板40の上表面から不純物イオンを注入
して動作層55a+形成した後、2個のゲート電極52
a及び521.が、ソース電極53aが形成される上記
動作層55aの略中央位置からそれぞれ所定間隔離れて
、上記動作層55a上に導体65と一体的に形成される
。ここで、該ゲート7Ii極52a、52bの各平面形
状は、長手のゲート幅W、の辺とゲート長g、の辺を何
する長方形状であって、該ゲート電極52a、52bの
ゲート幅W、の辺は出力コプレナー線路12の中心導体
74の長手方向の辺と平行しており、各ゲート電極52
a、52bのゲート長g、方向の各−辺が上述の導体6
5と接続される。
After forming an active layer 55a+ by implanting impurity ions from the upper surface of the semiconductor substrate 40 at the same position as the MESFET 51 of the second embodiment, two gate electrodes 52 are formed.
a and 521. are formed integrally with the conductor 65 on the active layer 55a at a predetermined distance from the substantially central position of the active layer 55a where the source electrode 53a is formed. Here, each planar shape of the gate 7Ii poles 52a, 52b is a rectangular shape with a long side of the gate width W and a side of the gate length g, and the gate width W of the gate electrodes 52a, 52b. , are parallel to the longitudinal sides of the center conductor 74 of the output coplanar line 12, and each gate electrode 52
Each side of the gate length g and direction of a and 52b is the conductor 6 described above.
Connected to 5.

さらに、ソース電極53aが、上記両ゲート電+’U3
2a、52bを間にはさんでかつ所定間隔だけ離れて上
記動作層55a上に導体74と一体的に形成される。該
ソース電極53aの5II−面形状は長′方形状であっ
て、該電極53aの長手方向の辺が上記ゲート71極5
2aと52bのゲート幅W、方向の辺と平行している。
Furthermore, the source electrode 53a is connected to both gate voltages +'U3.
2a and 52b and are formed integrally with the conductor 74 on the active layer 55a at a predetermined distance apart. The shape of the 5II-plane of the source electrode 53a is a rectangular shape, and the longitudinal side of the electrode 53a is parallel to the gate 71 pole 5.
The gate width W of 2a and 52b is parallel to the side in the direction.

また、2個のドレイン電極54a及び54bが、ソース
電極53aが形成された側の反対側である上記両ゲート
410極52aと52bの外側に、それぞれ」二足ゲー
ト7TI極52 aと52bと所定間隔離れて上記動作
層55a上に、それぞれ導体(i6a及び66bと一体
的に形成される。該ドレイン電極54a、54bの平面
形状は長方形状であって、該電極54a、54bの長手
方向の辺が上記ゲート電極52a、52bの長手のゲー
ト幅W。
Further, two drain electrodes 54a and 54b are provided on the outside of the gate 410 poles 52a and 52b, which are opposite to the side on which the source electrode 53a is formed, and are arranged as "biped gate 7TI poles 52a and 52b, respectively". Conductors (i6a and 66b) are formed integrally with each other at intervals on the operating layer 55a.The planar shape of the drain electrodes 54a, 54b is rectangular, and the longitudinal sides of the electrodes 54a, 54b is the longitudinal gate width W of the gate electrodes 52a and 52b.

方向の辺と平行している。parallel to the direction edge.

MESFET51aのドレイン71極54aの図上下側
及び54bの図面上側の各接地導体72a及び72b上
、並びに該接地導体72a、72bと各ドレイン7[1
1iu54 a、 54 b間の半導体基板40上に、
それぞれ誘電体にてなる絶縁体fi67a及び67bが
形成され、さらに、ゲート幅W、を有する長方形状の導
体66a及び66bが、それぞれ絶縁体層67a及びG
7b上にドレイン電極54a及び54bと一体的に形成
される。この導体66a、絶縁体層67a及び接地導体
72aによって、MIMキャパシタ69aを形成してお
り、これによってM ES FET51aのドレイン電
極54aが導体66a及び絶縁体層67aを介して接地
導体72aに接続される。また同様に、MIMキャパシ
タ69bが形成され、MESFE’I”51aのドレイ
ン71極54bが導体66b及び絶縁体Ft67bを介
して接地導体72bに接続される、なお、バイアス供給
用端子39が導体GCiaに接続される。
The drain 71 of MESFET 51a and the ground conductors 72a and 72b on the upper and lower sides of the pole 54a and the upper side of 54b in the drawing, and the ground conductors 72a and 72b and each drain 7 [1
On the semiconductor substrate 40 between 1iu54a and 54b,
Insulators fi 67a and 67b made of dielectric material are formed, respectively, and rectangular conductors 66a and 66b having a gate width W are formed on insulator layers 67a and G, respectively.
The drain electrodes 54a and 54b are integrally formed on the drain electrodes 7b. The conductor 66a, the insulator layer 67a, and the ground conductor 72a form an MIM capacitor 69a, whereby the drain electrode 54a of the MES FET 51a is connected to the ground conductor 72a via the conductor 66a and the insulator layer 67a. . Similarly, a MIM capacitor 69b is formed, and the drain 71 pole 54b of the MESFE'I" 51a is connected to the ground conductor 72b via the conductor 66b and the insulator Ft67b. Note that the bias supply terminal 39 is connected to the conductor GCia. Connected.

またさらに、上記ゲート電[152a、52b、ドレイ
ン電極54a、54b及びソース7IXt453 aの
ゲート幅窃、方向の略中央部分及びその近傍の導体66
a及びf3Gb上に、例えばSin、X5iN、又はフ
ィ・トレジスト(この場合は後で除去)にてなる絶縁体
Iil?i90を形成した後、絶縁体層90を介してグ
ー1−電極52a、52b及びソース電極53aと絶縁
された接続導体76が、上記絶縁体層90上渋び導体G
6a及び66bの該絶縁体層90の近傍部分上に形成さ
れ、上記導体G6a及び661)が該接続導体76を介
して電気的に接続される。
Furthermore, the gate width of the gate electrodes 152a, 52b, the drain electrodes 54a, 54b, and the source 7IXt453a, the substantially central part in the direction and the conductor 66 in the vicinity
On a and f3Gb, an insulator Iil? made of, for example, Sin, X5iN, or phytoresist (in this case removed later). After forming I90, the connecting conductor 76, which is insulated from the goo 1 electrodes 52a, 52b and the source electrode 53a via the insulating layer 90, is connected to the astringent conductor G on the insulating layer 90.
6a and 66b near the insulator layer 90, and the conductors G6a and 661) are electrically connected via the connection conductor 76.

以上のように、半導体基板40内の動作層55a上に公
知の方法で形成された、ドレイン電極54a、54b、
ゲート電極52a、52b及びソース電極53aによっ
て、MESFET51aを構成している。
As described above, the drain electrodes 54a, 54b,
The gate electrodes 52a, 52b and the source electrode 53a constitute a MESFET 51a.

導体74が接地導体72a及び72bとそれぞれ接地導
体72a、?2bのゲート長g、方向の幅よりも十分に
狭い所定の間隔りだけ離れて、ソース電極53aと一体
的にかつ接地導体72a、72bと共平面関係でMES
PET51aの図上右側の半導体基板40上に形成され
る。導体75の平面形状は、所定の幅乙を有する長方形
状であって。該導体75のゲート長訃方向の幅ぐ1の一
辺がソース電極53aのゲート長g2方向の一辺と接続
される。
The conductor 74 is connected to the ground conductors 72a and 72b, respectively. MES 2b is integrally connected to the source electrode 53a and coplanar with the ground conductors 72a and 72b, separated by a predetermined interval sufficiently narrower than the width in the gate length g and direction of the MES 2b.
It is formed on the semiconductor substrate 40 on the right side of the PET 51a in the figure. The conductor 75 has a rectangular planar shape with a predetermined width. One side of the width g1 of the conductor 75 in the gate length g2 direction is connected to one side of the source electrode 53a in the gate length g2 direction.

この導体74と接地導体72a及び72bによって、出
ノ〕コプレナー線路12を構成している。
This conductor 74 and ground conductors 72a and 72b constitute a coplanar line 12.

以上のように+11?を成することにより、入力スロッ
ト線路16と出力コプレナー線路12間の線路変換回路
を構成することができるととしに、この第3の実施例の
モノリシック集積回路の高周波回路は第1図のようにな
り、上述の第1の実施例と同様の効果を打する。
+11 as above? Assuming that a line conversion circuit between the input slot line 16 and the output coplanar line 12 can be constructed by constructing the following, the high frequency circuit of the monolithic integrated circuit of this third embodiment is as shown in FIG. This achieves the same effect as the first embodiment described above.

第4の実施例 第5図(Δ)は本発明の第4の実施例である入力スロッ
ト線路12及び出力マイクロストリップ線路75間の線
路変換のためのモノリシック集積回路の平面図であり、
第5図(■〕)は第5図(Δ)の1号−E’線について
の縦断面図である。この第5図(Δ)及び([1)にお
いて、上述の図面と同一のものについては同一の符号を
付している。
Fourth Embodiment FIG. 5 (Δ) is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between the input slot line 12 and the output microstrip line 75, which is the fourth embodiment of the present invention.
FIG. 5 (■) is a longitudinal cross-sectional view taken along the No. 1-E' line in FIG. 5 (Δ). In FIGS. 5(Δ) and ([1), the same parts as in the above-mentioned drawings are designated by the same reference numerals.

この第4図の実施例の回路が第2の実施例の回路と異な
るのは、 (1)出力スロット線路16が出力マイクロストリップ
線路75にとって代わったこと、(2)出力側のMES
FET51の図上左下側の接地導体Glaにバイアポー
ル80が形成されたこと、 (3)上記(’1 )によって、導体71が導体75に
とって代わったこと、並びに、 (4)半導体基板7IOの下表面に接地導体60が形成
されることである。以下、上記の相違点について詳細に
説明する。
The circuit of the embodiment shown in FIG. 4 differs from the circuit of the second embodiment in that (1) the output slot line 16 has replaced the output microstrip line 75, and (2) the MES on the output side
The via pole 80 is formed on the ground conductor Gla on the lower left side of the figure of the FET 51; (3) the conductor 71 replaces the conductor 75 in ('1) above; and (4) the ground conductor 71 is placed under the semiconductor substrate 7IO. A ground conductor 60 is formed on the surface. The above differences will be explained in detail below.

接地導体61aにおいては、第2の実施例の接地導体G
laに比較して、半導体基板40の図上左下縁端部であ
ってMrMキャパシタ69の図上左側の接地導体61a
の部分が形成されない。
In the ground conductor 61a, the ground conductor G of the second embodiment
In comparison with la, the ground conductor 61a is located at the lower left edge of the semiconductor substrate 40 in the figure and is on the left side of the MrM capacitor 69 in the figure.
part is not formed.

また、MIMキャパシタ69の図上右側の近傍部分の接
地導体Gla、半導体基板40、及び接地導体60に略
円柱形状のバイアホール80が形成され、該バイアホー
ル80の内周面に導体80aが形成される。これによっ
て、接地導体61aがバイアホール80の導体80aを
介して接地導体60に接続される。
Further, a substantially cylindrical via hole 80 is formed in the ground conductor Gla, the semiconductor substrate 40, and the ground conductor 60 in the vicinity of the right side of the MIM capacitor 69 in the figure, and a conductor 80a is formed on the inner peripheral surface of the via hole 80. be done. Thereby, the ground conductor 61a is connected to the ground conductor 60 via the conductor 80a of the via hole 80.

導体75が、M[ESFET51の図」皿上側及び右上
側の半導体基板40上にソース電極53と一体的に形成
される。導体75の平面形状は、ゲー]・長g、方向の
幅ρ、を有する略長方形状であって、該導体75の図上
左上端部が一部カットされた形状となっている。該導体
75のゲート幅W、方向の一辺がソース電極53のゲー
ト幅W、方向の一辺と接続される。下表面に接地導体6
0が形成された半導体基板40上に、導体75が形成さ
れているので、導体75が出力マイクロストリップ線路
として動作する。
A conductor 75 is formed integrally with the source electrode 53 on the semiconductor substrate 40 on the upper side and the upper right side of the M[diagram of the ESFET 51] plate. The planar shape of the conductor 75 is a substantially rectangular shape having a length g and a width ρ in the direction, and the upper left end of the conductor 75 in the figure is partially cut off. One side of the conductor 75 in the direction of gate width W is connected to one side of the source electrode 53 in the direction of gate width W. Ground conductor 6 on the bottom surface
Since the conductor 75 is formed on the semiconductor substrate 40 on which 0 is formed, the conductor 75 operates as an output microstrip line.

以上のように構成す乏ことにより、人ツノコプレナー線
路12と出力マイクロストリップ線路75間の線路変換
回路を構成することができるとともに、この第4の実施
例のモノリシック集積回路の高周波回路は第1図のよう
になり、上述の第1の実施例と同様の効果を有する。
By configuring as described above, it is possible to configure a line conversion circuit between the human horn coplanar line 12 and the output microstrip line 75, and the high frequency circuit of the monolithic integrated circuit of this fourth embodiment is As shown in the figure, it has the same effect as the first embodiment described above.

以上の第4の実施例において、接地導体61aをバイア
ホール80の導体80aを介して接地導体60に接続し
ているが、これに限らず、接地導体61aを接続線を介
して接地導体60に接続するようにしてもよい。
In the fourth embodiment described above, the ground conductor 61a is connected to the ground conductor 60 through the conductor 80a of the via hole 80, but the present invention is not limited to this. You may also connect it.

血l二尖胤剋 第6図は本発明の第5の実施例である入力スロット線路
16及び出力マイクロストリップ線路75間の線路変換
のためのモノリシック集積回路の平面図であり、第6図
において、上述の図面と同一のらのについては同一の符
号を付している。なお、第6図のE−E’線についての
縦断面図は、接地導体(ilaが72aにとって代わっ
たことを除いて、第5図(B)と同様である。
FIG. 6 is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input slot line 16 and an output microstrip line 75, which is a fifth embodiment of the present invention. , the same numbers as those in the above-mentioned drawings are given the same reference numerals. Note that the longitudinal cross-sectional view taken along line EE' in FIG. 6 is the same as that in FIG. 5(B) except that the ground conductor (ila) has replaced 72a.

この第5の実施例の回路は、該半導体基板40の入力側
が第3の実施例(第4図(A))の半導体基板40の入
力端と同様に構成され、一方該半導体基板40の出力側
が第4の実施例(第5図(A))の半導体基板40の出
力側と同様に構成される。
In the circuit of this fifth embodiment, the input side of the semiconductor substrate 40 is configured in the same manner as the input end of the semiconductor substrate 40 of the third embodiment (FIG. 4(A)), and the output side of the semiconductor substrate 40 is The output side of the semiconductor substrate 40 of the fourth embodiment (FIG. 5(A)) is constructed in the same manner as the output side of the semiconductor substrate 40 of the fourth embodiment (FIG. 5(A)).

以上のように構成することにより、入力スロット線路I
6と出力マイクロストリップ線路75間の線路変換回路
を構成ずろことができるとともに、この第5の実施例の
モノリシック集積回路の高周波回路は第1図のようにな
り、上述の第1の実施例と同様の効果を有する。
By configuring as above, the input slot line I
6 and the output microstrip line 75, and the high frequency circuit of the monolithic integrated circuit of this fifth embodiment is as shown in FIG. 1, which is different from that of the first embodiment described above. Has a similar effect.

11座X胤性 第7図は本発明の第6の実施例である入力マイクロスト
リップ線路81及び出力コプレナー線路12間の線路変
換のためのモノリシック集積回路の平面図であり、第7
図において上述の図面と同一のらのについては同一の符
号を付している。
Figure 7 is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input microstrip line 81 and an output coplanar line 12, which is a sixth embodiment of the present invention.
In the figures, the same numbers as in the above-mentioned drawings are given the same numbers.

この第6の実施例の回路が上述の第3の実施例の回路(
第4図(Δ)及び(+3))と異なるのは、(+)入力
スロット線路16が入力マイクロストリップ線路81に
とって代わったこと、(2)接地導体60が半導体コ、
(板40の下表面に形成されること、並びに (3)上記(1)によって、導体73が導体81にとっ
て代わり、MESFE’r4+の図上左側の接地導体7
2a、半導体基板40及び接地導体60に、」ユ述のバ
イアホール80と同様にバイアホール82が形成された
ことである。以下、上記の相違点について詳細に説明す
る。
The circuit of this sixth embodiment is the circuit of the third embodiment (
The difference from FIG. 4 (Δ) and (+3)) is that the (+) input slot line 16 has replaced the input microstrip line 81, (2) the ground conductor 60 is a semiconductor
(formed on the lower surface of the plate 40, and (3) due to the above (1), the conductor 73 replaces the conductor 81, and the ground conductor 7 on the left side of the figure of MESFE'r4+
2a, a via hole 82 is formed in the semiconductor substrate 40 and the ground conductor 60 in the same manner as the via hole 80 described in ``U''. The above differences will be explained in detail below.

導体81が、MESPET41のソース電極43の図上
上側の半導体基板40上にソース電極43と一体的に形
成され、この導体81の弔面形状はゲート幅豐、方向の
幅乙と長手の辺を有する長方形状である。ここで、この
導体73の幅g4の一辺がソース電極43のゲート幅冑
、方向の辺の中央部分と接続される。上述のように、バ
イアポール82が形成され、バイアポール82の内周面
に導体82aが形成される。これによって、接地導体7
2aがバイアホール82の導体82aを介して接地導体
60に接続される。この導体81が、下表面に接地導体
60を有する半導体J、号仮40上に形成されているの
で、導体81がマイクロストリップ線路として動作する
A conductor 81 is formed integrally with the source electrode 43 on the semiconductor substrate 40 above the source electrode 43 of the MESPET 41, and the shape of the conductor 81 has a gate width, a width in the direction, and a long side. It has a rectangular shape. Here, one side of the width g4 of the conductor 73 is connected to the center portion of the side of the source electrode 43 in the direction of the gate width. As described above, the via pole 82 is formed, and the conductor 82a is formed on the inner peripheral surface of the via pole 82. As a result, the ground conductor 7
2 a is connected to the ground conductor 60 via a conductor 82 a of the via hole 82 . Since this conductor 81 is formed on the semiconductor J, No. 40 having the ground conductor 60 on the lower surface, the conductor 81 operates as a microstrip line.

以上のように構成することにより、入力マイクロストリ
ップ線路81と出力コプレナー線路12間の線路変換回
路を+1が成することができるとと乙に、この第6の実
施例のモノリシック集積回路の高周波等価回路は第1図
のようになり、上述の第1の実施例と同様の効果を有す
る。
By configuring as described above, a line conversion circuit between the input microstrip line 81 and the output coplanar line 12 can be constructed. The circuit is as shown in FIG. 1, and has the same effect as the first embodiment described above.

第7の実施例 第8図は本発明の第7の実施例である。入力マイクロス
トリップ線路81及び出力スロット線路16間の線路変
換のためのモノリンツク集積回路の平面図であり、第8
図において上述の図面と同一のものについては同一の符
号を付している。
Seventh Embodiment FIG. 8 shows a seventh embodiment of the present invention. 8 is a plan view of a monolink integrated circuit for line conversion between an input microstrip line 81 and an output slot line 16;
In the figures, the same parts as in the above-mentioned drawings are designated by the same reference numerals.

この第7の実施例の回路は、該半導体基板40の入力端
が第6の実施例(第7図)の半導体基板40の入力端と
同様に構成され、一方、該半導体基板40の出力側が、
第2の実施例(第3図(A)及び(C))の半導体基板
40の出力側と同様に構成される。
In the circuit of the seventh embodiment, the input end of the semiconductor substrate 40 is configured in the same manner as the input end of the semiconductor substrate 40 of the sixth embodiment (FIG. 7), while the output side of the semiconductor substrate 40 is ,
The structure is similar to the output side of the semiconductor substrate 40 in the second embodiment (FIGS. 3A and 3C).

以上のように構成することにより、入力マイクロストリ
ップ線路81と出力スロット線路16間の線路変換回路
を構成することができるとともに、この第7の実施例の
モノリシック集積回路の高周波回路は第1図のようにな
り、上述の第1の実施例と同様の効果を有する。
By configuring as described above, it is possible to configure a line conversion circuit between the input microstrip line 81 and the output slot line 16, and the high frequency circuit of the monolithic integrated circuit of this seventh embodiment is as shown in FIG. Thus, it has the same effect as the first embodiment described above.

他の実施例 以上の実施例において、線路変換及びインピーダンス整
合を行う能動素子としてMESPETを用いているが、
これに限らず、その他の種類のFETを用いてもよい。
Other Embodiments In the above embodiments, MESPET is used as an active element for line conversion and impedance matching.
The present invention is not limited to this, and other types of FETs may be used.

また、入出力線路としてマイクロストリップ線路、スロ
ット線路又はコプレナー線路を用いているが、これに限
らず、その他のマイクロ波線路を用いてもよい。
Further, although a microstrip line, a slot line, or a coplanar line is used as the input/output line, the present invention is not limited thereto, and other microwave lines may be used.

[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、ゲート接地の第1
の電界効果トランジスタとドレイン接地の第2の電界効
果トランジスタとを縦続接続することによって、入出力
マイクロ波線路間のインピーダンス整合がとれ、かつ入
出力間の電気的分離が良好なマイクロ波線路間の線路変
換装置を実現できる。また、本発明の装置は入出力間の
アイソレータとしての機能を合わ仕持ち、かつ従来例に
比較して極めて小形にできるため、各種モノリシックマ
イクロ波・ミリ波集積回路への応用がきわめて有効であ
る。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, the first gate grounding
By cascade-connecting a field effect transistor and a second field effect transistor with a common drain, impedance matching can be achieved between the input and output microwave lines, and electrical isolation between the input and output can be achieved. A line conversion device can be realized. Furthermore, since the device of the present invention has the function of an isolator between input and output, and can be made extremely small compared to conventional devices, it is extremely effective in application to various monolithic microwave/millimeter wave integrated circuits. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるFETを用いた線路変
換回路の基本回路の回路図、 第2図は本発明の第1の実施例である入力コプレナー線
路と出力スロット線路間の線路変換のためのハイブリッ
ド集積回路の平面図、 第3図(A)は本発明の第2の実施例である入力コプレ
ナー線路と出力スロット線路間の線路変換のためのモノ
リシック集積回路の平面図、第3図(B)は第3図(Δ
)のn−l3’線の縦断面図、 第3図(C)は第3図(A)のc−c’線の縦断面図、 第4図(A)は本発明の第3の実施例である入力スロッ
ト線路と出力コプレナー線路の線路変換のためのモノリ
シック集積回路の平面図、第4図(r3)は第4図(A
)のD−D’線の縦断面図、 第5図(Δ)は本発明の第4の実施例である入力コプレ
ナー線路と出力マイクロストリップ線路間の線路変換の
ためのモノリシック集積回路の平面図、 第5図(13)は第5図(A)のE−E’線についての
縦断面図、 第6図は本発明の第5の実施例である入力スロット線路
と出力マイクロストリップ線路間の線路変換のためのモ
ノリシック集積回路の平面図、第7図は本発明の第6の
実施例である入力マイクロストリップ線路と出力コプレ
ナー線路間の線路変換のためのモノリシック集積回路の
平面図、第8図は本発明の第7の実施例である入力マイ
クロストリップ線路と出力スロット線路間の線路変換の
ためのモノリシック集積回路の平面図、第9図(A)は
第!の従来例であるコプレナー線路とスロット線路間の
線路変換を行うマイクロ波線路変換回路の斜視図、 第9図(B)は第9図(A)のΔ−A′線についての縦
断面図、 第1θ図は第2の従来例のFETのマイクロ波線路変換
回路の斜視図である。 1・・・入力マイクロ波線路、 2.4・・・電界効果トランジスタ(r;’ET)、3
・・・抵抗、 5・・・出力マイクロ波線路。 特許出願人 株式会社エイ・ティ・アール光電波通信研
究所 代 理 人 弁理士 前出 葆 ほか2名第9図(A)
        第9図(B)茗10図
Fig. 1 is a circuit diagram of a basic circuit of a line conversion circuit using FET, which is an embodiment of the present invention. Fig. 2 is a circuit diagram of a line between an input coplanar line and an output slot line, which is a first embodiment of the invention. FIG. 3(A) is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input coplanar line and an output slot line, which is a second embodiment of the present invention; Figure 3 (B) shows Figure 3 (Δ
), FIG. 3(C) is a longitudinal sectional view taken along line c-c' of FIG. 3(A), and FIG. A plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion of an example input slot line and an output coplanar line, FIG. 4(r3) is shown in FIG.
) is a vertical cross-sectional view taken along the line DD' of FIG. , FIG. 5(13) is a longitudinal cross-sectional view taken along the line EE' in FIG. 5(A), and FIG. FIG. 7 is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input microstrip line and an output coplanar line, which is a sixth embodiment of the present invention; The figure is a plan view of a monolithic integrated circuit for line conversion between an input microstrip line and an output slot line, which is a seventh embodiment of the present invention. A perspective view of a microwave line conversion circuit that performs line conversion between a coplanar line and a slot line, which is a conventional example of FIG. FIG. 1θ is a perspective view of a second conventional FET microwave line conversion circuit. 1... Input microwave line, 2.4... Field effect transistor (r;'ET), 3
...Resistance, 5...Output microwave line. Patent applicant: A.T.R. Optical Radio Communication Research Institute Co., Ltd. Representative: Patent attorney: Maeda Hoshi and two others Figure 9 (A)
Figure 9 (B) Meat figure 10

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)異なるマイクロ波線路間を接続するマイクロ波線
路変換装置において、 ソース電極が入力マイクロ波線路に接続されるゲート接
地の第1の電界効果トランジスタと、上記第1の電界効
果トランジスタのドレイン電極にゲート電極が接続され
るとともに、ソース電極が出力マイクロ波線路に接続さ
れるドレイン接地の第2の電界効果トランジスタとを備
えたことを特徴とするマイクロ波線路変換装置。
(1) In a microwave line conversion device that connects different microwave lines, a first field effect transistor whose source electrode is connected to the input microwave line and whose gate is grounded, and a drain electrode of the first field effect transistor. 1. A microwave line conversion device comprising: a second field effect transistor having a grounded drain and having a gate electrode connected to the output microwave line and a source electrode connected to the output microwave line.
JP2163287A 1987-01-29 1987-01-29 Microwave line converter Pending JPS63187701A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2163287A JPS63187701A (en) 1987-01-29 1987-01-29 Microwave line converter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2163287A JPS63187701A (en) 1987-01-29 1987-01-29 Microwave line converter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63187701A true JPS63187701A (en) 1988-08-03

Family

ID=12060441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2163287A Pending JPS63187701A (en) 1987-01-29 1987-01-29 Microwave line converter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63187701A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0329506A (en) * 1989-06-27 1991-02-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Frequency conversion circuit
US5424692A (en) * 1994-02-03 1995-06-13 National Semiconductor Corporation Switchable impedance circuit
US6029044A (en) * 1997-02-03 2000-02-22 Hughes Electronics Corporation Method and apparatus for in-line detection of satellite signal lock
JP2009192514A (en) * 2008-02-18 2009-08-27 Etsuo Ban Detector for hf band magnetic resonance device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6221633A (en) * 1985-07-16 1987-01-30 Kubota Ltd Granular body feeding device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6221633A (en) * 1985-07-16 1987-01-30 Kubota Ltd Granular body feeding device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0329506A (en) * 1989-06-27 1991-02-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Frequency conversion circuit
US5424692A (en) * 1994-02-03 1995-06-13 National Semiconductor Corporation Switchable impedance circuit
US6029044A (en) * 1997-02-03 2000-02-22 Hughes Electronics Corporation Method and apparatus for in-line detection of satellite signal lock
JP2009192514A (en) * 2008-02-18 2009-08-27 Etsuo Ban Detector for hf band magnetic resonance device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3657412B2 (en) High frequency circuit
US4390851A (en) Monolithic microwave amplifier having active impedance matching
US5983089A (en) Slotline-mounted flip chip
JPS6349402B2 (en)
JPS63187701A (en) Microwave line converter
US5874859A (en) High-frequency amplifier integrated-circuit device
JPH1027808A (en) High-frequency semiconductor device
US5978666A (en) Slotline-mounted flip chip structures
JPH0693565B2 (en) Microwave branch circuit device
JPS63240102A (en) Microwave line converter
JPS63187702A (en) Impedance converter
JPH03218102A (en) Interdigital filter
US4004256A (en) High frequency amplifier stage with input reference translation and output matching
JP2737874B2 (en) Semiconductor line converter
JP2594558B2 (en) Field-effect transistor
JPH03211870A (en) Monolithic microwave integrated circuit
JPH07321130A (en) Semiconductor device
JPH0693566B2 (en) Microwave synthesis circuit device
JP3176667B2 (en) Microwave circuit
JP2868939B2 (en) Microwave amplifier
JPH0366205A (en) Matching circuit for high frequency transistor
JPS6349922B2 (en)
JPS5915083Y2 (en) GaAs shot key barrier gate field effect transistor power amplifier
JP2001044717A (en) Microwave semiconductor device
JPH07263634A (en) Transmission line and semiconductor device