JPS63179614A - Cmos boosting signal generating circuit - Google Patents

Cmos boosting signal generating circuit

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Publication number
JPS63179614A
JPS63179614A JP1158687A JP1158687A JPS63179614A JP S63179614 A JPS63179614 A JP S63179614A JP 1158687 A JP1158687 A JP 1158687A JP 1158687 A JP1158687 A JP 1158687A JP S63179614 A JPS63179614 A JP S63179614A
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JP
Japan
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mosfet
whose
drain
source
gate
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JP1158687A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Konishi
康弘 小西
Masaki Kumanotani
正樹 熊野谷
Hideji Miyatake
秀司 宮武
Hideto Hidaka
秀人 日高
Katsumi Dosaka
勝己 堂阪
Hiroyuki Yamazaki
山崎 宏之
Isato Ikeda
勇人 池田
Kazuhiro Tsukamoto
塚本 和宏
Masaki Shimoda
下田 正喜
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To boost a level at a high speed without causing any latchup with simple structure and low power consumption by inserting a 2nd N-MOSFET in series between a 1st N-MOSFET and a P-MOSFET. CONSTITUTION:The 2nd N-MOSFETQN2 is inserted in series between a drain of a P-MOSFETQP1 and a boosted node N1, and a gate of the 2nd N- MOSFETQN2 is connected to the gate/source connected in common of a 3rd N-MOSFETQN3 whose drain is connected to a power supply and to the source of a 4th N-MOSFETQN4 whose drain and gate are connected to the power supply. Thus, the drain of the P-MOSFETQP1 is always cut off from the potential of a power voltage (VCC) or over. Thus, it is possible to boost a signal at a high speed without a care of causing latchup.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、主にCMOS回路により構成されるCMO
S昇圧信号発生回路に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention is directed to a CMOS circuit mainly composed of CMOS circuits.
This relates to an S boost signal generation circuit.

〔従来の技術〕 MOSデバイス、特にMOSダイナミックRAM (D
−RAM)においては、外部から供給される電源電圧(
VCC)よりも高い電位を必要とする場合がある0例え
ばD−RAMの読み出し動作は第5図に示すように、ア
クセストランジスタ11のゲートにワード線12信号を
与えることによってMOSキャパシタ10に蓄えられた
電荷をビット線13に読み出し、これをセンスアンプ1
5で増幅して、“1”、“0”を判別する。読み出す前
には通常、ビット線13を■。レベルにプリチャージす
る場合が多いが、この時、第6図に示すポテンシャル図
かられかる様に、アクセストランジスタ11のゲートに
ワード線12信号としてVo、レベルを与えても、ゲー
ト下のチャネル16のポテンシャルは(Vcc−Vい)
までしか上がらない為、メモリセル容量をC8とすると
Cs X (Vcc−Vth)の電荷しかビット線13
に読み出すことができず、読み出しマージンを損失して
いることがわかる。°また、書き込み動作の場合は、ビ
ット線13の電位を外部入力信号によりVCC又は接地
電位(Vss)にして、アクセストランジスタ11を通
して電荷蓄積ノードN3に高電位、又は低電位を書き込
むのであるが、高電位を書き込む時、ワード線信号がV
CCレベルならば上記読み出し動作で説明したのと同じ
理由で、N、にはvcc−■lのレベルしか書き込まれ
ず、リフレッシュ特性や、耐ソフトエラー特性を悪化さ
せる。この様な損失を解消するためには、ワード線信号
をV8.+Vい以上に昇圧することが必要となる。
[Prior art] MOS devices, especially MOS dynamic RAM (D
- RAM), the power supply voltage (
For example, in a read operation of a D-RAM, which may require a potential higher than VCC), as shown in FIG. The charge is read out to the bit line 13 and sent to the sense amplifier 1.
5 to distinguish between "1" and "0". Before reading, the bit line 13 is normally set to ■. At this time, as shown in the potential diagram shown in FIG. 6, even if the word line 12 signal Vo is applied to the gate of the access transistor 11, the channel 16 under the gate The potential of is (Vcc-V)
Therefore, if the memory cell capacity is C8, only the charge of Cs
It can be seen that the data cannot be read out, and the read margin is lost. Further, in the case of a write operation, the potential of the bit line 13 is set to VCC or ground potential (Vss) by an external input signal, and a high potential or a low potential is written to the charge storage node N3 through the access transistor 11. When writing a high potential, the word line signal is V
If it is a CC level, only the level of vcc-1 is written to N for the same reason as explained in the above read operation, which deteriorates refresh characteristics and soft error resistance characteristics. In order to eliminate such losses, the word line signal must be set to V8. It is necessary to boost the voltage to more than +V.

従来、内部信号を■。以上に昇圧するためには、MOS
キャパシタとN−MOSトランジスタのみで構成した回
路が用いられてきた、。しかしN−MOS)ランジスタ
のみで回路を構成した場合、回路が複雑になり、用いる
トランジスタ数が多く、消費電力も大きくなってしまう
という欠点がある。
Conventionally, internal signals ■. In order to boost the voltage above
A circuit consisting only of a capacitor and an N-MOS transistor has been used. However, if the circuit is constructed using only N-MOS (N-MOS) transistors, there are disadvantages in that the circuit becomes complicated, a large number of transistors are used, and power consumption becomes large.

簡単な回路で消費電力を小さくするためには、0MOS
で回路を構成すればよいのであるが、CMOSインバー
タを構成するP−MOSトランジスタのソース、又はド
レインの電位がVCC以上に上がると、いわゆるラッチ
アップ現象を起こしてデバイスを破壊してしまう。
In order to reduce power consumption with a simple circuit, 0MOS
However, if the potential of the source or drain of the P-MOS transistor constituting the CMOS inverter rises above VCC, a so-called latch-up phenomenon will occur and the device will be destroyed.

第7図は0MOSで構成し、かつラフチアツブを避ける
ことのできる従来のCMOS昇圧信号発生回路を示し、
第8図はその動作タイミングチャートを示す。両図にお
いて、φ、はトリガ信号、QPIはP−MOS)ランジ
スタ、QNI、 QNz、 Q■はN−MOS )ラン
ジスタ、C,はMOSキャパシタ、D、、D、は遅延回
路、Nl、N2.N3、N4はノードである。
FIG. 7 shows a conventional CMOS boost signal generation circuit that is configured with 0MOS and can avoid rough drop.
FIG. 8 shows its operation timing chart. In both figures, φ is a trigger signal, QPI is a P-MOS) transistor, QNI, QNz, Q■ is an N-MOS) transistor, C is a MOS capacitor, D, , D are delay circuits, Nl, N2. N3 and N4 are nodes.

以下、第7図の回路の動作を第8図を参照して簡単に説
明する。
The operation of the circuit shown in FIG. 7 will be briefly explained below with reference to FIG.

トリガ信号φ、が“H”レベルの時、トランジスタQP
1はオフ、トランジスタQNIはオンで、ノードN1の
電位はVSS、従って、トランジスタQN2はオン状態
である。
When the trigger signal φ is at “H” level, the transistor QP
1 is off, transistor QNI is on, and the potential of node N1 is VSS, so transistor QN2 is on.

次にトリガ信号φ、が“L”レベルになると、トランジ
スタQPIはオン、トランジスタQNIはオフする。こ
のとき、トランジスタQ□は遅延回路D1のため初めの
うちはオン状態であるので、ノードN1はトランジスタ
Q、、、Q、、を通して充電され始め、同時にノードN
2の電位はセルフブーストでVCC+αまで上がるため
、結局ノードN1はVCCまで充電される。そしてこの
時、ノードN1のVCCレベルは遅延回路D2のために
ノードN3に伝わっておらず、ノードN3は■8.レベ
ルであり、キャパシタC1は■。、に充電される。φt
が“L”に下がってしばらくするとノードN2はVSS
に下がり、トランジスタQ■はオフする。これによりト
ランジスタQP、のドレインのノードN4はトランジス
タQN!によってノードN1とカットオフされ、ノード
N1がVCC以上に上がってもラフチアツブは起こさな
い。ノードN2がVSSまで下がってしばらく後にノー
ドN3はV。Cまで上がり、キャパシタC1に蓄積され
ていた電荷がノードN1に放出され、ノードN1の電位
はVCC以上に昇圧される。
Next, when the trigger signal φ becomes "L" level, the transistor QPI is turned on and the transistor QNI is turned off. At this time, the transistor Q□ is initially in the on state due to the delay circuit D1, so the node N1 begins to be charged through the transistors Q, , Q, , and at the same time, the node N
Since the potential of node N1 rises to VCC+α by self-boosting, the node N1 is eventually charged to VCC. At this time, the VCC level of the node N1 is not transmitted to the node N3 because of the delay circuit D2, and the node N3 is 8. level, and the capacitor C1 is ■. , is charged. φt
falls to “L” and after a while, node N2 becomes VSS.
, and the transistor Q■ turns off. As a result, the drain node N4 of the transistor QP is connected to the transistor QN! It is cut off from node N1 by , and no rough rise occurs even if node N1 rises above VCC. A while after node N2 drops to VSS, node N3 drops to V. C, the charge stored in the capacitor C1 is released to the node N1, and the potential of the node N1 is boosted to more than VCC.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来のCMOS昇圧信号発生回路は以上のように構成さ
れているので、ラッチアップを防ぐためには、第8図に
示すようにトリガ信号φ、の立下がりからノードN3の
立ち上がりまでの遅延時間Δt2をトリガ信号φ、の立
ち下がりからノードN2の電位がVCCに下がるまでの
遅延時間Δ1゜より必ず大きく取る必要があり、そのた
めノードNlの電位をVCCからVCC+ΔVに上げる
タイミングが遅くなるという問題点があった。そしてこ
の問題点のため、例えば前述のD−RAMのワード線信
号がVCC+ΔVに上昇するのが遅くなり、これが原因
でD−RAMのアクセス時間の高速化ができないという
、使用上の不利な点が出て来るものであった。
Since the conventional CMOS boost signal generation circuit is configured as described above, in order to prevent latch-up, the delay time Δt2 from the falling edge of the trigger signal φ to the rising edge of the node N3 is set as shown in FIG. It is necessary to take a delay time greater than Δ1° from the fall of the trigger signal φ until the potential of the node N2 falls to VCC, which causes the problem that the timing of raising the potential of the node Nl from VCC to VCC+ΔV is delayed. Ta. Due to this problem, for example, the rise of the D-RAM word line signal to VCC+ΔV is delayed, which is a disadvantage in use, such as the inability to speed up the access time of the D-RAM. It was something that would come out.

この発明は上記のような従来の問題点を解消するために
なされたもので、CMOS回路を用いて、構成されて簡
単な構造、低消費電力の利点を持ちかつラッチアンプを
起こすことなく、高速に電源電圧以上の昇圧信号を発生
することができるCMO8昇圧信号発生回路を得ること
を目的とする。
This invention was made in order to solve the above-mentioned conventional problems, and uses a CMOS circuit, which has the advantages of a simple structure, low power consumption, and high speed without the need for a latch amplifier. An object of the present invention is to obtain a CMO8 boost signal generation circuit that can generate a boost signal higher than the power supply voltage.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明に係るCMOS昇圧信号発生回路は、P−MO
SFETのドレイン(ソース)と昇圧されるノードとの
間に第2のN−MOSFETを直列に挿入し、その第2
のN−MOSFETのゲートを、ドレインを供給電源に
接続した第3のN−MOS F ETの共通接続したゲ
ート・ソース、及びドレインとゲートを供給電源に接続
した第4のMOSFETのソースに接続したものである
The CMOS boost signal generation circuit according to the present invention is a P-MO
A second N-MOSFET is inserted in series between the drain (source) of the SFET and the node to be boosted, and the second
The gate of the N-MOSFET was connected to the commonly connected gate and source of a third N-MOSFET whose drain was connected to the power supply, and to the source of a fourth MOSFET whose drain and gate were connected to the power supply. It is something.

〔作用〕[Effect]

この発明にかかるCMOS昇圧信号発生回路では、P−
MOSFETのドレインと昇圧されるノードとの間に挿
入された第2のN−MOSFETにより、前記P−MO
S F ETのドレインは常にVCC以上の電位からカ
ットオフされているため、ラフチアツブを起こす心配な
く、高速に信号を昇圧することが可能となる。
In the CMOS boost signal generation circuit according to the present invention, P-
A second N-MOSFET inserted between the drain of the MOSFET and the node to be boosted allows the P-MO
Since the drain of the SFET is always cut off from a potential higher than VCC, it is possible to boost the signal at high speed without worrying about ruff-up.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図について説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例によるCMOS昇圧信号発生
回路の回路図を示し、図においてQ、、。
FIG. 1 shows a circuit diagram of a CMOS boost signal generation circuit according to an embodiment of the present invention.

QH,はそれぞれ第7図と同じ第1のP−MOS FE
T、第1のN−MOSFETである。QMzは第1のP
  M OS F E T Q p +のドレインと第
1のN−MOSFETQ□のドレインである昇圧される
ノードとの間に直列に挿入された第2のN−MOSF 
E T 、 QH3はドレインを供給電源に接続しゲー
トとソースを上記第2のN−MOSFETのゲートに接
続した第3のN−MOSFET、QH4はドレインとゲ
ートを供給電源に接続しソースを上記第2のN−MOS
FETのゲートに接続した第4のN−MOSFETであ
る。
QH, are the same first P-MOS FE as in Fig. 7, respectively.
T, the first N-MOSFET. QMz is the first P
A second N-MOSF inserted in series between the drain of MOS FET Q p + and the node to be boosted which is the drain of the first N-MOSFETQ□
E T , QH3 is a third N-MOSFET whose drain is connected to the power supply and whose gate and source are connected to the gate of the second N-MOSFET, and QH4 is a third N-MOSFET whose drain and gate are connected to the power supply and whose source is connected to the above-mentioned second N-MOSFET. 2 N-MOS
A fourth N-MOSFET connected to the gate of the FET.

第2図は上記第1図の回路の動作のタイミングチャート
を示す。
FIG. 2 shows a timing chart of the operation of the circuit shown in FIG. 1 above.

次に動作について説明する。時刻t0でトリガ信号φ、
は“H”レベルにあり、トランジスタ0月はオフ、Q、
、はオンしているので、ノードNl。
Next, the operation will be explained. At time t0, the trigger signal φ,
is at "H" level, transistor 0 is off, Q,
, is on, so node Nl.

N3は共にVSSレベルである。またノードN2はトラ
ンジスタQN4によりVCc−Vい、に充電されている
。ここで■い4はQ□のしきい値電圧とする。
Both N3 are at VSS level. Further, the node N2 is charged to VCc-V by the transistor QN4. Here, ■4 is the threshold voltage of Q□.

トランジスタQ、1はオン、Q□はオフし、トランジス
タQNzはφ1に関係な(オンしているのでノードN1
の電位は上昇し始める。同時にノードN2の電位もセル
フブーストによりVCC以上に上昇するが、トランジス
タQH3によりVCC+Vtk!以上に上がることはな
い。ここでV tk2はQoのしきい値電圧で、QNI
とC8,のしきい値電圧は同じに設定されている。ノー
ドN2がvcc+vthtまで上がると、ノードNlは
VCCまで充電される。
Transistor Q,1 is on, Q□ is off, transistor QNz is not related to φ1 (because it is on, node N1
The potential of begins to rise. At the same time, the potential of node N2 also rises above VCC due to self-boosting, but VCC+Vtk! It will never go higher than that. Here, V tk2 is the threshold voltage of Qo, and QNI
The threshold voltages of and C8 are set to be the same. When node N2 rises to vcc+vtht, node Nl is charged to VCC.

この時、遅延回路D3により、ノードN3の電位はVS
Sのままで、このためMOSキャパシタC1もVCCま
で充電される。時刻t2でノードN1のvecレベルが
遅延回路D3を通ってノードN3に伝わり、ノードN3
の電位はVCCまで上昇する。
At this time, the potential of the node N3 is set to VS by the delay circuit D3.
Therefore, the MOS capacitor C1 is also charged to VCC. At time t2, the vec level of node N1 is transmitted to node N3 through delay circuit D3, and node N3
The potential of increases to VCC.

このためにMOSキャパシタC1に充電されていた電荷
がノードN1に放出され、ノードN1の電位はVCC+
ΔVまで上昇する。この時トランジスタQN2のためノ
ードN4の電位はVCC以上に上がることはない。
Therefore, the charge stored in the MOS capacitor C1 is released to the node N1, and the potential of the node N1 becomes VCC+
It increases to ΔV. At this time, the potential of the node N4 does not rise above VCC because of the transistor QN2.

本発明の他の実施例の回路図を第3図に、その動作のタ
イミングチャートを第4図に示す。
A circuit diagram of another embodiment of the present invention is shown in FIG. 3, and a timing chart of its operation is shown in FIG.

本実施例では、ノードN1の電位を昇圧するための昇圧
手段は3つのN−MOSFETQNs、QNil  Q
Nりと2つのMOSキャパシタC2,CI  (容量C
2<容量CI)と、遅延回路D2とからなっている。φ
11はトリガ信号φ、にほぼ同期したトリガ信号である
In this embodiment, the boosting means for boosting the potential of the node N1 includes three N-MOSFETQNs, QNilQ
Two MOS capacitors C2, CI (capacitance C
2<capacitance CI) and a delay circuit D2. φ
Reference numeral 11 denotes a trigger signal substantially synchronized with the trigger signal φ.

このような本実施例では、MOSキャパシタC1はトラ
ンジスタQ、により、時刻1.の時点で既にVC,−V
い? (vい)はQN?のしきい値電圧)まで充電され
ており、またMOSキャパシタC2の容量はMOSキャ
パシタC1の容量よりもずっと小さいので、トリガ信号
φ、が下がり始めてからノードN1の電位がVCCまで
上がるのにかかる時間(1g −1+ )が短くてすみ
、トリガ信号φt2を立ち下げるタイミングを早くする
ことができ、このためさらにノードN1の昇圧を高速化
することが可能となる。
In this embodiment, the MOS capacitor C1 is connected to the transistor Q at time 1. At the time of VC, -V
stomach? (v) is QN? Since the capacitance of MOS capacitor C2 is much smaller than that of MOS capacitor C1, the time it takes for the potential of node N1 to rise to VCC after the trigger signal φ starts to fall is (1g −1+ ) can be shortened, and the timing at which the trigger signal φt2 falls can be made earlier, making it possible to further speed up the boosting of the node N1.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のよるに、この発明によれば、CMOS昇圧信号発
生回路において、第2のN−MOSFETをP−MOS
FETと第1のN−MOSFETとの間に直列に挿入す
ることによりP−MOSFETのドレインをvce以上
の電位から常時カントオフするようにしたので、簡単な
構造で、低消費電力、かつラッチアップを起こさずに高
速に昇圧することのできるCMOS昇圧信号発生回路を
得ることができる効果がある。
As described above, according to the present invention, in the CMOS boost signal generation circuit, the second N-MOSFET is replaced with the P-MOS
By inserting the P-MOSFET in series between the FET and the first N-MOSFET, the drain of the P-MOSFET is always canted off from a potential higher than vce, resulting in a simple structure, low power consumption, and no latch-up. This has the effect of providing a CMOS boost signal generation circuit that can boost the voltage at high speed without causing any problems.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例によるCMOS昇圧信号発生
回路の回路図、第2図は第1図の動作を説明するための
タイミングチャート図、第3図は本発明の他の実施例の
回路図、第4図は第3図の回路の動作を説明するタイミ
ングチャート図、第5図は一般的なり−RAMのメモリ
セルを示す図、第6図はメモリセルの読み出し動作を説
明するためのポテンシャル図、第7図は従来のCMOS
昇圧信号発生回路の例を示す図、第8図は第7図の回路
の動作を説明するためのタイミングチャート図である。 φ、はトリガ信号、Q□はP−MOS F ET。 Q N l 、 Q N t 、 Q N s + Q
 N aはN−MOSFET、C1はMOSキャパシタ
、QNS、  QNil  QNqは第5゜第6.第7
+7)N−MOSFET、C2はMOSキャパシタ、φ
t2はφ、とほぼ同期するトリガ信号、QNIはN−M
OSFET、、D3は4歯数段のインバータ列から構成
されている遅延回路。
1 is a circuit diagram of a CMOS boost signal generation circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a timing chart diagram for explaining the operation of FIG. 1, and FIG. 3 is a circuit diagram of a CMOS boost signal generation circuit according to another embodiment of the present invention. 4 is a timing chart for explaining the operation of the circuit in FIG. 3, FIG. 5 is a diagram showing a general RAM memory cell, and FIG. 6 is for explaining the read operation of the memory cell. potential diagram, Figure 7 is the conventional CMOS
FIG. 8 is a diagram showing an example of a boost signal generating circuit, and is a timing chart diagram for explaining the operation of the circuit shown in FIG. 7. φ is a trigger signal, and Q□ is a P-MOS FET. Q N l , Q N t , Q N s + Q
Na is N-MOSFET, C1 is MOS capacitor, QNS, QNil QNq is 5th degree, 6th degree. 7th
+7) N-MOSFET, C2 is MOS capacitor, φ
t2 is a trigger signal almost synchronized with φ, QNI is N-M
OSFET, D3 is a delay circuit composed of an inverter array with several stages of four teeth.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1のP−MOSFETと第1、第2、第3、第
4のN−MOSFETを有し、 上記第1のN−MOSFETのソースを接地電源に、ド
レインを第2のN−MOSFETのソースに接続し、 上記第1のP−MOSFETのソースを供給電源に、ド
レインを第2のN−MOSFETのドレインに接続し、 上記第1のN−MOSFETのゲートと第1のP−MO
SFETのゲートを共にトリガ信号線に接続し、 上記第3のN−MOSFETのドレインを供給電源に、
ソースとゲートを共に上記第2のN−MOSFETのゲ
ートに接続し、 上記第4のN−MOSFETのドレインとゲートを共に
供給電源に、ソースを第2のN−MOSFETのゲート
に接続し、 上記第2のMOSFETと第3のMOSFETのしきい
値電圧を等しく設定し、 上記第1のN−MOSFETのドレインと第2のN−M
OSFETのソースとを結ぶ節点の出力電圧を電源電圧
以上の電圧に昇圧する昇圧手段とを備えたことを特徴と
するCMOS昇圧信号発生回路。
(1) It has a first P-MOSFET and first, second, third, and fourth N-MOSFETs, the source of the first N-MOSFET is connected to the ground power supply, and the drain is connected to the second N-MOSFET. The source of the first P-MOSFET is connected to the power supply, the drain is connected to the drain of the second N-MOSFET, and the gate of the first N-MOSFET and the first P-MOSFET are connected to the source of the first P-MOSFET. M.O.
The gates of the SFETs are both connected to the trigger signal line, and the drain of the third N-MOSFET is connected to the power supply.
The source and gate of the fourth N-MOSFET are both connected to the gate of the second N-MOSFET, the drain and gate of the fourth N-MOSFET are both connected to the power supply, and the source of the fourth N-MOSFET is connected to the gate of the second N-MOSFET. The threshold voltages of the second MOSFET and the third MOSFET are set equal, and the drain of the first N-MOSFET and the second N-MOSFET are set equal.
1. A CMOS boosted signal generation circuit comprising boosting means for boosting the output voltage of a node connected to the source of an OSFET to a voltage higher than a power supply voltage.
(2)上記昇圧手段は、 その入力端子を上記節点と接続した複数のMOSFET
より構成される遅延回路と、 第1の端子を上記節点に接続し、第2の端子を上記遅延
回路の出力端子に接続したMOS容量とからなることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のCMOS昇圧信
号発生回路。
(2) The step-up means includes a plurality of MOSFETs whose input terminals are connected to the nodes.
and a MOS capacitor whose first terminal is connected to the node and whose second terminal is connected to the output terminal of the delay circuit. The CMOS boost signal generation circuit described.
(3)上記昇圧手段は、 ドレインを上記節点に、ゲートを供給電源に接続した第
5のN−MOSFETと、 第1の端子を該第5の−MOSFETのソースに接続し
た第1のキャパシタより容量の小さい第2のMOSキャ
パシタと、ドレインを上記節点に、ゲートを上記第5の
N−MOSFETのソースに接続した第6のN−MOS
FETと、 第1の端子を該第6のN−MOSFETのソースに接続
した第1のMOSキャパシタと、 ドレインとゲートを供給電源に、ソースを上記第6のN
−MOSFETのソースに接続した第7のN−MOSF
ETと、 その出力端子を上記第1、第2のMOSキャパシタの第
2の端子に、入力端子を第2のトリガ信号に接続した遅
延回路とからなることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のCMOS昇圧信号発生回路。
(3) The boosting means includes a fifth N-MOSFET whose drain is connected to the node and whose gate is connected to the power supply, and a first capacitor whose first terminal is connected to the source of the fifth -MOSFET. a second MOS capacitor with a small capacity; and a sixth N-MOS whose drain is connected to the node and whose gate is connected to the source of the fifth N-MOSFET.
FET, a first MOS capacitor whose first terminal is connected to the source of the sixth N-MOSFET, whose drain and gate are connected to a power supply, and whose source is connected to the sixth N-MOSFET.
- a seventh N-MOSF connected to the source of the MOSFET;
ET; and a delay circuit whose output terminal is connected to the second terminal of the first and second MOS capacitors and whose input terminal is connected to the second trigger signal.
The CMOS step-up signal generation circuit described in .
JP1158687A 1987-01-20 1987-01-20 Cmos boosting signal generating circuit Pending JPS63179614A (en)

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JP (1) JPS63179614A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5694074A (en) * 1994-10-31 1997-12-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit being able to generate sufficient boost potential disregarding generation of noise
US8715163B2 (en) 2004-09-21 2014-05-06 Olympus Corporation Electronic apparatus with noise shielding

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5694074A (en) * 1994-10-31 1997-12-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit being able to generate sufficient boost potential disregarding generation of noise
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