JPS6254891A - Write recovery circuit - Google Patents

Write recovery circuit

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Publication number
JPS6254891A
JPS6254891A JP60194398A JP19439885A JPS6254891A JP S6254891 A JPS6254891 A JP S6254891A JP 60194398 A JP60194398 A JP 60194398A JP 19439885 A JP19439885 A JP 19439885A JP S6254891 A JPS6254891 A JP S6254891A
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JP
Japan
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data line
circuit
write
time
signal
Prior art date
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Application number
JP60194398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Nakagawara
中川原 明
Kazuo Watanabe
和雄 渡辺
Yukio Kobayashi
幸雄 小林
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Priority to JP60194398A priority Critical patent/JPS6254891A/en
Publication of JPS6254891A publication Critical patent/JPS6254891A/en
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Abstract

PURPOSE:To shorten write recovery time and to read at high speed by providing a shift-detection circuit, letting it to generate a pulse when detecting a timing when the control signal of a memory shifts from writing state to reading state, and equalizing a compensation data line by using the said detection pulse. CONSTITUTION:The shift detection signal WEP is supplied to the gate of the equalizer MOS transistor 51 of the write recovery circuit 50, and the transistor 51 turns on, then a current flows from the stray capacity C17 of a data line 21 to the stray capacity C18 of a data line 22 to lower the potential V21 of the data line 21. At the same time, the potential V22 of the data line 22 begins to rise. Because the MOS transistor 51 is comparatively a small area, its driving capability is comparatively small, but it becomes much more smaller with the lapse of time because, the voltage VDS between the drain and source of the transistor 51 decreases with the lapses of time. Accordingly, during the period when the signal WEP is 'Hi', the potentials V21 and V22 of both data lines 21 and 22 approach closer each other.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はメモリのライトリカバリ回路に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a memory write recovery circuit.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、メモリの制御信号が書き込み状態から読み出
し状態に遷移する時点を検出してパルスを発生させ、こ
の検出パルスを用いて相補データ線をイコライズするこ
とによって、ライトリカバリ時間を短縮し、高速読み出
しを可能とするものである。
The present invention detects the point in time when a memory control signal transitions from a write state to a read state, generates a pulse, and uses this detection pulse to equalize complementary data lines, thereby shortening write recovery time and increasing speed. This enables reading.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、電子計算機の内部記憶装置または外部記憶装置(
メモリ)からの読み出し信号を得るためにデータ線駆動
回路が使用されている。
Conventionally, electronic computers' internal storage devices or external storage devices (
A data line driving circuit is used to obtain a read signal from the memory.

まず、第5図を参照しながら、従来のデータ線駆動回路
について説明する。
First, a conventional data line drive circuit will be described with reference to FIG.

第5図に従来のメモリ (RAM)の要部の構成例を示
す。
FIG. 5 shows an example of the configuration of the main parts of a conventional memory (RAM).

この第5図において、(10)はメモリマトリクスを全
体として示し、その構成要素である任意のメモリセル(
11)がワード線(12)に接続されると共に、1対の
ビット線(13)及びビット線(14)に接続されてい
る。このメモリセル(11)は、図示を省略した負荷抵
抗器及びMOS)ランジスタから成るフリップフロップ
回路を有し、電流のオン・オフによって情報を記憶する
スタティック型である。ビット線(13)及びビット線
(14)の各一端は1対の能動負荷としてのNチャンネ
ルMOSトランジスタ(15)及び(16)のソースに
それぞれ接続される0両MO3I−ランジスタ(15)
及び(16)は、そのゲート及びドレインが共に電源端
子Pに接続されて、それぞれダイオード化される。
In this FIG. 5, (10) shows the memory matrix as a whole, and any memory cell (
11) is connected to a word line (12), and is also connected to a pair of bit lines (13) and (14). This memory cell (11) has a flip-flop circuit consisting of a load resistor (not shown) and a MOS (MOS) transistor, and is of a static type that stores information by turning on and off a current. One end of each of the bit line (13) and bit line (14) is connected to the sources of a pair of N-channel MOS transistors (15) and (16) as active loads, respectively.
and (16) have their gates and drains both connected to the power supply terminal P, and are each turned into a diode.

ビット線(13)及びビット線(14)の他端はNチャ
ンネルMOSトランジスタ(17)及び(18)のドレ
インにそれぞれ接続さ゛れ、両MO3)ランジスタ(1
7)及び(18)のゲートはカラム選択端子(19)に
接続される。
The other ends of the bit line (13) and bit line (14) are connected to the drains of N-channel MOS transistors (17) and (18), respectively, and both MO3) transistors (1
The gates of 7) and (18) are connected to a column selection terminal (19).

(20)はデータ線駆動回路を全体として示し、メモリ
マトリクスQlの選択用MOSトランジスタ(17)及
び(18)の各ソースに接続された1対のデータ線(2
1)及びデータ線(22)がそれぞれ1対の能動負荷と
してのNチャンネルMO3I−ランジスタ(23)及び
(24)のソース・ドレインを介して電源端子Pに接続
される。MOS)ランジスタ(23)及び(24)のゲ
ートは共にWE信号入力端子(25)に接続される。W
π信号は読み出し時に1H1″となる”ので、両MO3
)ランジスタ(23)及び(24)は読み出し時に、破
線で示すように、それぞれダイオード化される。
(20) shows the data line driving circuit as a whole, and a pair of data lines (2
1) and a data line (22) are respectively connected to the power supply terminal P via the sources and drains of N-channel MO3I transistors (23) and (24) as a pair of active loads. The gates of the MOS transistors (23) and (24) are both connected to the WE signal input terminal (25). W
Since the π signal becomes 1H1'' at the time of reading, both MO3
) At the time of reading, the transistors (23) and (24) are respectively converted into diodes as shown by broken lines.

(31)は読み出し増幅器であって、例えばカレントt
ラー型差動増幅回路を含み、その反転入力端子及び非反
転入力端子がそれぞれデータ線(21)及びデータ線(
22)に接続される。読み出し増幅器(31)の出力は
、反転増幅器(32)を介して、データ入出力端子(3
0)に供給される。
(31) is a readout amplifier, for example, current t
The inverting input terminal and the non-inverting input terminal are connected to a data line (21) and a data line (21), respectively.
22). The output of the read amplifier (31) is sent to the data input/output terminal (3) via the inverting amplifier (32).
0).

(40)は書き込み回路を全体として示し、入出力端子
(30)から供給されたデータ信号は、第1のインバー
タ(41)で反転され、第2のインバータ(42)を介
して一方のノア回路(43)に供給されると共に、直接
に他方のノア回路(44)に供給される0両ノア回路(
43)及び(44)の出力は、それぞれ第3及び第4の
インバータ(45)及び(46)を介して、データ線(
21)及びデータ線(22)に供給される。また、端子
(47)から両ノア回路(43)及び(44)にそれぞ
れWE倍信号供給される。
(40) shows the write circuit as a whole, and the data signal supplied from the input/output terminal (30) is inverted by the first inverter (41) and sent to one NOR circuit via the second inverter (42). (43) and directly to the other NOR circuit (44) (
The outputs of 43) and (44) are connected to the data line (
21) and data line (22). Further, the WE multiplied signal is supplied from the terminal (47) to both NOR circuits (43) and (44), respectively.

書き込みモードまたは読み出しモードにおいて、図示を
省略したXデコーダによってワード線(12)が選択さ
れ、このワード線(12)に接続されたすべてのメモリ
セルが活性化されると共に、図示を省略したYデコーダ
から所定の1対のビット線(13)及びビット線(14
)に対する1H1”のカラム選択信号が端子(19)に
供給されて、MOSトランジスタ(17)及び(18)
がオン状態とされて、所望のメモリセル(11)が選択
される。
In write mode or read mode, a word line (12) is selected by an X decoder (not shown), and all memory cells connected to this word line (12) are activated, and a Y decoder (not shown) A predetermined pair of bit lines (13) and bit lines (14) from
) is supplied to the terminal (19), and the MOS transistors (17) and (18)
is turned on, and a desired memory cell (11) is selected.

書き込みの場合、データ線駆動回路(20)の端子(2
5)及び書き込み回路(40)の端子(27)に供給さ
れるWE (反転ライトエネイブル)信号がLo’″と
されて、入力端子(30)から書き込み回路(40)に
“Hi ”のデータ信号が供給される。
In the case of writing, the terminal (2) of the data line drive circuit (20)
5) and the WE (inverted write enable) signal supplied to the terminal (27) of the write circuit (40) is set to Lo''', and "Hi" data is sent from the input terminal (30) to the write circuit (40). A signal is provided.

データ線駆動回路(20)の両MO3I−ランジスタ(
23) 、  (24)がオフ状態とされると共に、書
き込み回路(40)の一方のノア回路(43)の2つの
入力が“Hi”、“Lo”とされ、他方のノア回路(4
4)の2うの入力が共に@Lo”とされる。
Both MO3I transistors (
23) and (24) are turned off, the two inputs of one NOR circuit (43) of the write circuit (40) are set to "Hi" and "Lo", and the other NOR circuit (43) is set to "Hi" and "Lo".
Both of the two inputs in 4) are set to "@Lo".

一方のノア回路(43)の“Lo”の出力がインバータ
(45)で反転されて、データ線(21)の電位は“H
i ”となり、他方のノア回路(44)の“Hi ″の
出力がインバータ(46)で反転されて、データ線(2
2)の電位は“Lo”となる、このとき、メモリマトリ
クス(10)のMOSトランジスタ(15)〜(18)
はすべてオン状態にあり、入力端子(30)から書き込
み回路(40)の第3のインバータ(45)、データ線
(21) 、MOS )ランジスタ(17)及びビット
線(13)を経て所望のメモリセル(11)に達する第
1の書き込み経路が形成されると共に、第4のインバー
タ(46)からデータ線(22)、MOSトランジスタ
(18)及びビット線(14)を経てメモリセル(11
)に達する第2の書き込み経路が形成されて、メモリセ
ル(11)にデータが書き込まれる。
The “Lo” output of one NOR circuit (43) is inverted by the inverter (45), and the potential of the data line (21) is “H”.
i”, the “Hi” output of the other NOR circuit (44) is inverted by the inverter (46), and the data line (2
The potential of 2) becomes “Lo”. At this time, the MOS transistors (15) to (18) of the memory matrix (10)
are all in the on state, and the desired memory is connected from the input terminal (30) through the third inverter (45) of the write circuit (40), the data line (21), the MOS transistor (17), and the bit line (13). A first write path reaching the cell (11) is formed, and the memory cell (11) is connected from the fourth inverter (46) through the data line (22), the MOS transistor (18) and the bit line (14).
) is formed to write data into the memory cell (11).

読み出しの場合、データ線駆動回路(20)の端子(2
5)及び書き込み回路(40)の端子(47)に供給さ
れるWE倍信号“Hi ”とされる、データ線駆動回路
(20)の両MO3)ランジスタ(23)及び(24)
はオン状態とされると共に、書き込み回路(40)の両
ノア回路(43)及び(44)の出力は、それぞれの他
の入力の如何に拘らず“Lo”とされて、データの書き
込みが禁止される。なお、この場合、書き込み回路(4
0)は適宜に高インピーダンス状態とされる。
In the case of reading, the terminal (2) of the data line drive circuit (20)
5) and the WE multiplier signal "Hi" supplied to the terminal (47) of the write circuit (40), both MO3) transistors (23) and (24) of the data line drive circuit (20).
is turned on, and the outputs of both NOR circuits (43) and (44) of the write circuit (40) are set to "Lo" regardless of their other inputs, and data writing is prohibited. be done. Note that in this case, the write circuit (4
0) is appropriately placed in a high impedance state.

メモリセル(11)内のフリップフロップ(図示を省略
)のビット線(13)に接続されたMOSトランジスタ
がオン状態であったとすると、データ線駆動回路(20
)のMOSトランジスタ(23)からデータ線(21)
 、選択用MO3)ランジスタ(17)及びビット線(
13)の経路により、メモリセル(11)にデータ線電
流10が流入する。また、ビット線(13)の一端に接
続された能動負荷MOSトランジスタ(15)は、その
ゲートに電源電圧vDDが供給されて、オン状態にあり
、このMOSトランジスタ(15)を経て、メモリセル
(11)にビット線電流1Bが流入する。このビット線
電流1Bと上述のデータ線電流1oとの和がメモリセル
(11)の吸い込み電流INとなる。
Assuming that the MOS transistor connected to the bit line (13) of the flip-flop (not shown) in the memory cell (11) is in the on state, the data line drive circuit (20
) from the MOS transistor (23) to the data line (21)
, selection MO3) transistor (17) and bit line (
The data line current 10 flows into the memory cell (11) through the path 13). Further, the active load MOS transistor (15) connected to one end of the bit line (13) is in an on state as the power supply voltage vDD is supplied to its gate, and the memory cell ( Bit line current 1B flows into 11). The sum of this bit line current 1B and the above-mentioned data line current 1o becomes the sink current IN of the memory cell (11).

一方、メモリセル(11)内のビット線(14)に接続
されたMOSトランジスタ(図示を省略)はオフ状態に
あり、ビット線(14)及びデータ線(22)からはメ
モリセル(11)に電流が流入しない。
On the other hand, the MOS transistor (not shown) connected to the bit line (14) in the memory cell (11) is in an off state, and the bit line (14) and data line (22) are connected to the memory cell (11). No current flows.

従って、ビット線(13)及びビット線(14)の電位
V13及びV14は異なり、この異なる2つの電位が所
望のメモリセル(11)の情報としてデータ線(21)
及びデータ線(22)を通って読み出し増幅器(31)
の両入力端子に供給される。この入力信号の差信号が増
幅されて、読み出し増幅1B(31)の不平衡出力信号
が反転増幅器(32)か−ら入出力端子(30)に供給
される。
Therefore, the potentials V13 and V14 of the bit line (13) and the bit line (14) are different, and these two different potentials are used as information of the desired memory cell (11) on the data line (21).
and a read amplifier (31) through the data line (22).
is supplied to both input terminals of The difference signal between the input signals is amplified, and the unbalanced output signal of the read amplifier 1B (31) is supplied from the inverting amplifier (32) to the input/output terminal (30).

電源電圧VDDが例えば5vであるとき、(高い方の)
ビット線(14)の電位Vt4は、MOS)ランジスタ
(16)のスレッショルド電圧Vth(約0.7V)及
び基板効果Δv th (約1.IV)の影響によって
、例えば約3.2vとなる。また、ビット線(13)の
電位vt3は、メモリセル(11)の吸い込み電流IM
が、例えば100μAであるとき、MOSトランジスタ
(15)内の電圧降下によってV14よりも稍低く、例
えば約2.9vとなる。
When the power supply voltage VDD is, for example, 5v, (the higher one)
The potential Vt4 of the bit line (14) becomes, for example, about 3.2 V due to the influence of the threshold voltage Vth (about 0.7 V) of the MOS transistor (16) and the substrate effect Δv th (about 1.IV). Further, the potential vt3 of the bit line (13) is the sink current IM of the memory cell (11).
is, for example, 100 μA, it becomes slightly lower than V14, for example, about 2.9 V, due to the voltage drop within the MOS transistor (15).

また、データ線(21)及びデータ線(22)の電位V
21及びV22は、上述と同じ理由によって、それぞれ
V13及びVt+と略等しくなる。
Also, the potential V of the data line (21) and the data line (22)
21 and V22 are approximately equal to V13 and Vt+, respectively, for the same reason as described above.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところが、第5図に示すような従来のメモリでは、カラ
ム選択用MO5)ランジスタ(17)及び(18)の接
合容量Ctt及びCtsがそれぞれデータ線(21)及
びデータ線(22)の浮遊容量となる。
However, in the conventional memory shown in FIG. 5, the junction capacitances Ctt and Cts of the column selection MO5 transistors (17) and (18) are equal to the stray capacitances of the data line (21) and data line (22), respectively. Become.

例えば64にビットの容量のメモリでは、カラムの数は
256となり、データ線(21)及びデータ線(22)
にはかなり大きな浮遊容量が付加される。
For example, in a memory with a capacity of 64 bits, the number of columns is 256, with data lines (21) and data lines (22).
A fairly large stray capacitance is added to the .

このため、書き込みモードから読み出しモードに遷移す
る場合、WE倍信号“Hi ″となって能動負荷MO3
I−ランジスタ(23)及び(24)がオン状態となっ
ても、データ線(22)の電位v2!が、その浮遊容量
C1eとMOS)ランジスタ(24)の等価抵抗値R2
4とで定まる時定数Ct@R24に従って、Ovから、
読み出し増幅器(31)の入力電位として適当な、例え
ば約3vの所定値まで回復(ライトリカバリ)するには
例えば50nSとかなり長い時間を要する。
Therefore, when transitioning from the write mode to the read mode, the WE double signal becomes "Hi" and the active load MO3
Even if the I-transistors (23) and (24) are turned on, the potential v2 of the data line (22)! is the stray capacitance C1e and the equivalent resistance value R2 of the MOS transistor (24).
According to the time constant Ct@R24 determined by 4, from Ov,
It takes quite a long time, for example 50 nS, to recover (write recovery) to a predetermined value, for example about 3V, which is suitable as the input potential of the read amplifier (31).

従って、従来のメモリでは、第6図に示すようなライト
リカバリ時間T wrcが長く、データの高速読み出し
が妨げられるという問題があった。
Therefore, the conventional memory has a problem in that the write recovery time T wrc is long as shown in FIG. 6, which hinders high-speed data reading.

か−る点に鑑み、本発明の目的は、ライトリカバリ時間
を短縮したライトリカバリ回路を提供することにある。
In view of the above, an object of the present invention is to provide a write recovery circuit that shortens write recovery time.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、一端が能動負荷を介して電源に接続されると
共に、他端がメモリマトリクスのカラム選択スイッチン
グ素子及び書き込み回路に接続された相補データ線と、
この相補データ線間に接続されたイコライズ用スイッチ
ング素子と、データの書き込み状態及び読み出し状態を
制御する制御信号の遷移を検出して検出パルスを発生す
る遷移検出回路とを具備し、制御信号が書き込み状態か
ら読み出し状態に遷移したとき、遷移検出回路の検出パ
ルスをイコライズ用スイッチング素子に供給するように
したライトリカバリ回路である。
The present invention provides a complementary data line having one end connected to a power supply via an active load and the other end connected to a column selection switching element and a write circuit of a memory matrix;
It is equipped with an equalizing switching element connected between the complementary data lines and a transition detection circuit that detects the transition of a control signal that controls the write state and read state of data and generates a detection pulse. This is a write recovery circuit configured to supply a detection pulse from a transition detection circuit to an equalizing switching element when the state transitions from a read state to a read state.

〔作用〕[Effect]

か\る構成によれば、メモリが書き込み状態から読み出
し状態に遷移する時点において、データ線のイコライズ
を行うので、データ線の電位が所定値まで回復する時間
が短縮されて、高速読み出しが行われる。
According to this configuration, the data lines are equalized when the memory transitions from the write state to the read state, so the time for the data line potential to recover to a predetermined value is shortened, and high-speed reading is performed. .

〔実施例〕〔Example〕

以下、第1図〜第4図を参照しながら、本発明によるラ
イトリカバリ回路の一実施例について説明する。
Hereinafter, one embodiment of the write recovery circuit according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4.

本発明の一実施例の構成を第1図に示す。この第1図に
おいて、第5図に対応する部分には同一の符号を付して
重複説明を省略する。
FIG. 1 shows the configuration of an embodiment of the present invention. In FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals and redundant explanation will be omitted.

第1図において、(50)はライトリカバリ回路を全体
として示し、イコライズ用のNチャンネルMOSトラン
ジスタ(51)のドレイン及びソースが両データ線(2
1)及び(22)に接続され、ゲートは端子(52)に
接続される。両データ線(21)及び(22)はそれぞ
れ能動負荷MOSトランジスタ(53)及び(54)の
ソース・ドレインを介して電源端子Pに接続され、両M
O3)ランジスタ(53)及び(54)のゲートは端子
(55)に接続される。イコライズ用MOSトランジス
タ(51)の面積は能動負荷MOSトランジスタ(53
) 、  (54)の面積の例えば1/4に設定される
。書き込み/読み出しくMR)遷移検出回路(60)は
、その入力端子(61)からWE倍信号供給され−て、
ライトリカバリ回路(50)の端子(52)にW/R遷
移検出信号WEPを供給すると共に、書き込み回路(4
0)の端子(47)及びライトリカバリ回路(50)の
端子(55)に共通にWE倍信号遅延した信号WEIを
供給する。その余の構成は第5図と同様である。
In FIG. 1, (50) shows the write recovery circuit as a whole, and the drain and source of the N-channel MOS transistor (51) for equalization are connected to both data lines (2
1) and (22), and its gate is connected to the terminal (52). Both data lines (21) and (22) are connected to the power supply terminal P via the sources and drains of active load MOS transistors (53) and (54), respectively.
O3) The gates of transistors (53) and (54) are connected to terminal (55). The area of the equalizing MOS transistor (51) is the same as that of the active load MOS transistor (53).
), (54) is set to, for example, 1/4 of the area. The write/read MR) transition detection circuit (60) is supplied with the WE times signal from its input terminal (61), and
The W/R transition detection signal WEP is supplied to the terminal (52) of the write recovery circuit (50), and the write circuit (4
A signal WEI delayed by WE times the signal is commonly supplied to the terminal (47) of the write recovery circuit (50) and the terminal (55) of the write recovery circuit (50). The rest of the structure is the same as that shown in FIG.

″−/R遷移検出回路(60)の構成の詳細を第2図に
示す、第2図において、入力端子(61)からのWE倍
信号、3&のインバータ(62) 、  (63)及び
(64)を介して、ナンド回路(65)の一方の入力端
子に供給されると共に、他方の入力端子に直接に供給さ
れる。初段のインバータ(62)の出力端子に適宜の容
量のコンデンサが負荷されて、所要の遅延時間τが設定
される。ナンド回路(65)の出力はインバータ(66
)で反転されて、遷移検出信号WEPとして出力される
。また、端子(61)のWE倍信号適宜のコンデンサが
負荷されたインバータ(67)によって所定の遅延を受
け、インバータ(68)で反転されて、WE!信号とし
て出力される。
The details of the configuration of the −/R transition detection circuit (60) are shown in FIG. 2. In FIG. ) is supplied to one input terminal of the NAND circuit (65) and directly to the other input terminal.A capacitor of an appropriate capacity is loaded on the output terminal of the first stage inverter (62). The required delay time τ is set.The output of the NAND circuit (65) is connected to the inverter (66).
) and output as a transition detection signal WEP. Further, the WE multiplied signal at the terminal (61) is subjected to a predetermined delay by an inverter (67) loaded with an appropriate capacitor, and is inverted by an inverter (68), so that WE! Output as a signal.

本実施例の動作は次のとおりである。The operation of this embodiment is as follows.

第3図に示すように、端子(61)のV/E信号■が、
遷移開始時点toにおいて@Lo”から“Hlに立上り
始め、遷移終了時点t1において“Hl”に達すると、
第3のインバータ(64)の信号■は、第3図Bに示す
ように、遷移開始時点toより所定時間τだけ遅れた遅
延時点t2において“Hi ”から“Lo”に立下り始
める。ナンド回路(65)の出力◎は、第3図Cに示す
ように、その入力が同時にHi ”であるような、遷移
終了時点t1から遅延時点t2までの期間だけ“Lo”
となる。
As shown in Fig. 3, the V/E signal ■ of the terminal (61) is
At the transition start time to, the voltage starts to rise from @Lo to Hl, and when it reaches Hl at the transition end time t1,
As shown in FIG. 3B, the signal (2) of the third inverter (64) starts falling from "Hi" to "Lo" at a delay time t2 delayed by a predetermined time τ from the transition start time to. As shown in FIG. 3C, the output ◎ of the NAND circuit (65) is "Lo" only during the period from the transition end time t1 to the delay time t2 when its input is simultaneously "Hi".
becomes.

このナンド回路(65)の負の出力パルス◎がインバー
タ(66)で反転されて、第3図りに示すような正のパ
ルス■が遷移検出信号WBPとして出力される。この遷
移検出信号WEPのパルス幅は例えば5nSに設定され
る。
The negative output pulse ◎ of this NAND circuit (65) is inverted by the inverter (66), and a positive pulse ◎ as shown in the third diagram is output as the transition detection signal WBP. The pulse width of this transition detection signal WEP is set to, for example, 5 nS.

第4図Bに示すような、上述の遷移検出信号WEPがラ
イトリカバリ回路(50)のイコライズ用MO3)ラン
ジスタ(51)のゲートに供給されて、MO3I−ラン
ジスタ(51)はオン状態となる。
As shown in FIG. 4B, the above-described transition detection signal WEP is supplied to the gate of the equalizing MO3 transistor (51) of the write recovery circuit (50), and the MO3I transistor (51) is turned on.

そうすると、このMOS)ランジスタ(51)を通って
データ線(21)の浮遊容量CL?からデータ線(22
)の浮遊容i1 Ct@へ電流が流れて、第4図Aに示
すように、データ線(21)の電位V21が下降し始め
、同時にr;T線(22)の電位V22が上昇し始める
。前述のように、MOSトランジスタ(51)は比較的
小面積であるため、その駆動能力(等価コンダクタンス
)もまた比較的小さく、更に、そのドレイン・ソース間
電圧VOSが時間の経過と共に減少するため、MOS)
ランジスタ(51)の駆動能力は時間の経過と共に一層
減少する。このため、第4図A、Bに示すように、遷移
検出パルスWEPが1H1″である期間内に、両データ
線(21)及び(22)の電位V2を及びV2tは相互
に接近するが一致するに至らない、即ち、本実施例では
弱くイコライズされる。
Then, the stray capacitance CL of the data line (21) passes through this MOS transistor (51)? to the data line (22
) current flows into the floating capacitance i1 Ct@, and as shown in Figure 4A, the potential V21 of the data line (21) begins to fall, and at the same time the potential V22 of the r;T line (22) begins to rise. . As mentioned above, since the MOS transistor (51) has a relatively small area, its driving capability (equivalent conductance) is also relatively small, and furthermore, its drain-source voltage VOS decreases over time. MOS)
The driving ability of the transistor (51) further decreases over time. Therefore, as shown in FIGS. 4A and 4B, during the period when the transition detection pulse WEP is 1H1'', the potentials V2 and V2t of both data lines (21) and (22) approach each other but match. In other words, in this embodiment, it is weakly equalized.

一方、第3図Eに示すように、遷移検出パルスWEPが
立下り始める時点t2において、WBI信号が@ n 
t 11となるので、能動負荷MOSトランジスタ(5
3)及び(54)がオン状態となり、第4図に示すよう
に、両データ線(21)及び(22)の電位V21及び
V22はそれぞれ約3Vまで上昇し、読み出し増幅器(
31)の入力として適当な電位となる。
On the other hand, as shown in FIG. 3E, at time t2 when the transition detection pulse WEP starts to fall, the WBI signal becomes @ n
Since t is 11, the active load MOS transistor (5
3) and (54) are turned on, and as shown in FIG.
31) has an appropriate potential as an input.

本実施例においては、データ線(22)の電位V22が
、上述のようなイコライズ動作によって、かなり上昇さ
せられているので、所要値まで回復(リカバリ)する時
間が例えば40nSに短縮される。
In this embodiment, since the potential V22 of the data line (22) is considerably increased by the equalization operation as described above, the time for recovery to a required value is shortened to, for example, 40 nS.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳述のように、本発明によれば、メモリの書き込み
及び読み出しを制御するWE倍信号遷移を検出してパル
スを発生させ、この検出パルスを用いて相補データ線の
イコライズを行うようにしたので、データ線の電位が所
定値まで回復する時間を短縮したライトリカバリ回路が
得られる。
As described in detail above, according to the present invention, a pulse is generated by detecting the WE multiplication signal transition that controls writing and reading of the memory, and this detection pulse is used to equalize the complementary data line. Therefore, a write recovery circuit can be obtained in which the time required for the potential of the data line to recover to a predetermined value is shortened.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による°ライトリカバリ回路の一実施例
の構成を示す結線図、第2図は第1図の実施例の要部の
構成を示す結線図、第3@は第2図の一実施例の要部の
動作を説明するためのタイムチャート、第4図は第1図
の実施例の動作を説明するための波形図、第5図は従来
のメモリの要部の構成例を示す結線図、第6図は本発明
の説明に供する波形図である。 α〔はメモリマトリクス、(17) 、  (18)は
カラム選択MO3)ランジスタ、(21) 、  <2
2)は相補データ線、(40)は書き込み回路、(50
)はライトリカバリ回路、(51)はイコライズ用MO
Sトランジスタ、(53) 、  (54)は能動負荷
MOSトランジスタ、(60)は遷移検出回路である。 第2図 一実、i仔ツn4L4甲のタイムチャート第3図 一’X81!!鍔すのシ皮形 第4図 参iト8月のtヒ8月のに−ψタイムチャート第6図
Figure 1 is a wiring diagram showing the configuration of an embodiment of the ° write recovery circuit according to the present invention, Figure 2 is a wiring diagram showing the configuration of the main part of the embodiment of Figure 1, and Figure 3 is the wiring diagram of the embodiment of Figure 2. 4 is a waveform diagram for explaining the operation of the embodiment shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a configuration example of the main part of a conventional memory. The connection diagram shown in FIG. 6 is a waveform diagram for explaining the present invention. α [is the memory matrix, (17), (18) is the column selection MO3) transistor, (21), <2
2) is a complementary data line, (40) is a write circuit, (50
) is the write recovery circuit, (51) is the equalization MO
S transistors, (53) and (54) are active load MOS transistors, and (60) is a transition detection circuit. Figure 2 Kazumi, Ikotsu n4L4A time chart Figure 3 1'X81! ! Refer to figure 4 of Tsubasu's skin pattern.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一端が能動負荷を介して電源に接続されると共に、他端
がメモリマトリクスのカラム選択スイッチング素子及び
書き込み回路に接続された相補データ線と、 該相補データ線間に接続されたイコライズ用スイッチン
グ素子と、 データの書き込み状態及び読み出し状態を制御する制御
信号の遷移を検出して検出パルスを発生する遷移検出回
路とを具備し、 上記制御信号が書き込み状態から読み出し状態に遷移し
たとき、上記遷移検出回路の上記検出パルスを上記イコ
ライズ用スイッチング素子に供給するようにしたことを
特徴とするライトリカバリ回路。
[Claims] One end is connected to a power supply via an active load, and the other end is connected between a complementary data line connected to a column selection switching element and a write circuit of a memory matrix, and the complementary data line. an equalizing switching element, and a transition detection circuit that detects a transition of a control signal that controls a data write state and a read state and generates a detection pulse, when the control signal transitions from a write state to a read state. A write recovery circuit characterized in that: the detection pulse of the transition detection circuit is supplied to the equalization switching element.
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