JPS62134890A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPS62134890A
JPS62134890A JP60273712A JP27371285A JPS62134890A JP S62134890 A JPS62134890 A JP S62134890A JP 60273712 A JP60273712 A JP 60273712A JP 27371285 A JP27371285 A JP 27371285A JP S62134890 A JPS62134890 A JP S62134890A
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JP
Japan
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potential
line
memory cell
data
word
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Application number
JP60273712A
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Japanese (ja)
Inventor
Shiroji Shoren
城二 勝連
Jiro Miyake
二郎 三宅
Kenichi Hasegawa
謙一 長谷川
Masakatsu Maruyama
征克 丸山
Kunitoshi Aono
邦年 青野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To eliminate the need for a word line by writing and reading data in and out of a selected memory through a power source potential line and an earth power line common to memory cells in a word direction. CONSTITUTION:When a memory cell M is unselected, the power source potential line for memory cells which is common to cells M in the word direction is held at a source potential VDD1 of 5V, etc., through an address decoder 13 and a voltage generating circuit 14 and the grounding potential line is held at the ground potential VSS1 of OV, etc., from a fixed potential of 2.5V, etc. Therefore, a base is controlled through a bit line B and the inversion of B whcih are precharged to 2.5V, etc., by a precharging circuit 15 and transistors 11 and 12 forming a transfer gate turn on and off corresponding to the H and L sides of the cell M, whose storage contents are read out. Writing operation is performed similarly and the need for word lines is eliminated to reduce the chip area of a memory and lower the precharging voltage to about a half as high as the source voltage, thereby reducing current consumption and speeding up readout operation.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は主として金属−絶縁膜一半導体(以下MISと
いう)トランジスタを用いた半導体記憶装置(以下メモ
リという)に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention mainly relates to a semiconductor memory device (hereinafter referred to as memory) using a metal-insulating film-semiconductor (hereinafter referred to as MIS) transistor.

従来の技術 第4図に、CMO8型スタティックRAMのメモリセル
を含む主要部の従来例を示す。Mはメモリセルで、トラ
ンスフアゲ−1−51,52を介してメモリセルのデー
タをビット線B、Hに伝達させる一方、また逆にメモリ
セルMヘデータの書き込み動作もワード線W、の選択に
」:り行なわれる。
BACKGROUND OF THE INVENTION FIG. 4 shows a conventional example of the main parts of a CMO8 type static RAM including memory cells. M is a memory cell, and the data of the memory cell is transmitted to the bit lines B and H via transfer gates 1-51 and 52, and conversely, the data write operation to the memory cell M is also performed by selecting the word line W. ”: is carried out.

53はアドレスデコーダ、54はワード線駆動回路、5
5はプリチャージ回路、■DDは電源電位線、vss 
は接地電位線で、これら幻、通常全メモリについて共通
に接続され、それぞれメモリセル間で同一の電位レベル
となっており、メモリセルパターン上で効率よく配着接
続されている。メモリセルのデータの読み出しは、通常
ビット線がある固定電位プリチャージされその後アドレ
スデコーダによって選択されたワード線がワード線駆動
回路により立上り、トランスファゲート51.52がO
N状態になりデータがビット線上に電位差となって表わ
れる。データの書き込みについてもほぼ同様に行なわれ
る。
53 is an address decoder, 54 is a word line drive circuit, 5
5 is a precharge circuit, ■DD is a power supply potential line, vss
is a ground potential line, which is commonly connected to all memories, has the same potential level between memory cells, and is efficiently arranged and connected on the memory cell pattern. To read data from a memory cell, the bit line is usually precharged to a fixed potential, then the word line selected by the address decoder is turned on by the word line drive circuit, and the transfer gates 51 and 52 are turned on.
It enters the N state and data appears as a potential difference on the bit line. Data writing is performed in almost the same way.

3ヘーノ 第5図に従来の2ポー)RAMのメモリセルを含む主要
部を示す。メモリセルMは、2個のNチャンネル昏エン
ハンスメント型MOSトランジスタ67.68と2個の
Nチャンネル・ディプレッション型MO3)ランジスタ
ロ5.66から構成され、トランスファゲート61,6
2,63.64は各ワード線71〜73に接続されてい
る。Aポー l−、Bポート2つのポートから独立に読
み出しができる」:うに、Aポート読み出しワード線7
1とBボート読み出しワード線72とを持ち、それぞれ
の読み出しワード線に対応した読み出しビット線81,
82を持つ。Aポートからデータの読み出しを行なう場
合、Aポート読み出しワード線71を駆動してメモリセ
ルMのデータをAポート読み出しビット線81にのせ、
それをセンスアンプ90で検出してAの内部バス91に
出力する。
FIG. 5 shows the main part of a conventional 2-port RAM including memory cells. The memory cell M is composed of two N-channel enhancement type MOS transistors 67 and 68 and two N-channel depletion type MOS transistors 5.66, and transfer gates 61 and 6.
2, 63, and 64 are connected to each word line 71-73. "A port l-, B port can read independently from two ports": A port read word line 7
1 and a B boat read word line 72, and a read bit line 81 corresponding to each read word line,
Has 82. When reading data from the A port, the A port read word line 71 is driven to put the data in the memory cell M on the A port read bit line 81,
It is detected by the sense amplifier 90 and output to the internal bus 91 of A.

一方Bポートからの読み出しについても同様である。デ
ータの書き込みの場合は、駆動回路100で書き込みビ
ット線83を駆動し、書き込みワード線73でメモリセ
ルMでアクセスすることによって達成させる。
On the other hand, the same applies to reading from the B port. In the case of data writing, the drive circuit 100 drives the write bit line 83 and the write word line 73 is used to access the memory cell M.

発明が解決し」こうとする問題点 このように2ボ一トRAMでU15、ワード線及びビッ
ト線等を複数本持つことQま避けられずメモリセルの面
積は、通常のスタテイワクRA M 等に比べかなり増
大することになる(例えば、H、Kadot a 。
Problems that the invention attempts to solve In this way, it is unavoidable that a 2-bot RAM has multiple U15, word lines, bit lines, etc., and the area of the memory cell is larger than that of a normal state-of-the-art RAM. (e.g. H, Kadota).

e’t al  [A new registor f
ile 5tructurefor the high
−speed m1croprocessor、 Jア
イ イーイーイー ジャーナル オブ ソリッドステー
ト サーキッツ(I  EEE  J、5olid−8
tateCircuits ) 5C−17、p892
〜897(1982) )。
e't al [A new register f
ile 5 structure for the high
-speed m1croprocessor, JEEE Journal of Solid State Circuits (IEEE J, 5solid-8
tate Circuits) 5C-17, p892
~897 (1982)).

本発明は、半導体記憶装置においてワード線を除去する
ことに31:リメモリセルの面積を縮少し、またプリチ
ャージレベルJ+=幅、電源電位と接地電位の電位差、
データの書き込み読み出時の電位振幅を減少させること
により、低消費電力化及び読み出しの高速化を図るもの
である。
The present invention aims to eliminate the word line in a semiconductor memory device.
By reducing the potential amplitude when writing and reading data, it is possible to reduce power consumption and speed up reading.

問題点を解決するだめの手段 本発明は、半導体記憶装置、特に電源電位及び接地電位
を有するメモリセルにおいて、従来より5 ベー/′ ビット線とメモリセルとを接続するトランスファゲート
のゲートに接続されていたワード線を除去j〜、前記ゲ
ート、をビット“線に電気的に接続した構造を持たせる
。前記メモリセルの電源電位及び接地電位を従来のワー
ド線方向に配列しているメモリセル間についてのみ電源
電位及び接地電位を共通として接続し電源電位線及び接
地電位線を各メモリセルの従来のワード線に対応させて
形成する。
Means for Solving the Problems The present invention provides a semiconductor memory device, particularly a memory cell having a power supply potential and a ground potential, in which a 5 Be/' bit line is conventionally connected to the gate of a transfer gate connecting a bit line and a memory cell. The gate is electrically connected to the bit line.The power supply potential and ground potential of the memory cell are connected between the memory cells arranged in the conventional word line direction. The power supply potential and the ground potential are connected in common only for the memory cells, and the power supply potential line and the ground potential line are formed corresponding to the conventional word line of each memory cell.

前記電源電位線及び接地電位線を所望の選択されたアド
レスに対するワードに対応させて電圧発生回路により所
定の固定電位に設定しデータの読み出し及び書き込み動
作を行なう。
The power supply potential line and the ground potential line are set at a predetermined fixed potential by a voltage generating circuit in correspondence with a word corresponding to a desired selected address, and data reading and writing operations are performed.

作  用 本発明は、上記で示した手段によりメモリセルにおける
従来のワード線を除去することが可能であり、ワード線
のメモリセルにおいて占める部分が縮少可能となり特に
2ボ一トRAM等の構造的にワード線を複数本必要とす
るメモリセル等においては面積縮少がより効果的に実現
できる。また、メモリセルのデータ読み出し時には、ビ
ット線のプリチャージレベルを電源電位の%のレベル付
近に設定するため、これによる電力の消費を低減でき、
しかもデータのHi gh(” H” )レベルをプリ
チャージレベル、 Low (” L ” ) レヘル
ヲ接M7M。
Effect of the Invention The present invention makes it possible to eliminate the conventional word line in a memory cell by the above-mentioned means, and it is possible to reduce the portion occupied by the word line in the memory cell. Area reduction can be achieved more effectively in memory cells and the like that require a plurality of word lines. In addition, when reading data from memory cells, the precharge level of the bit line is set near the level of % of the power supply potential, which reduces power consumption.
Moreover, the data High ("H") level is the precharge level and the Low ("L") level is connected to the M7M.

位付近の固定電位レベルで読み出すため論理振幅の縮小
化によるデータの高速読み出しが可能となる。一方、デ
ータの書き込み時においては、電源電位と接地電位の電
位差を電源電圧の%程度にして行ないデータの書き込み
レベルを°゛H″を電源電圧の%程度のレベル II 
L l“を接地電位近傍の固定電位にするため書き込み
時のドライバの消費電力の低減を可能にする。
Since data is read at a fixed potential level near the current level, it is possible to read data at high speed by reducing the logic amplitude. On the other hand, when writing data, the potential difference between the power supply potential and the ground potential is set to approximately % of the power supply voltage, and the data writing level is set to a level of approximately % of the power supply voltage.
Since L l" is set to a fixed potential near the ground potential, it is possible to reduce the power consumption of the driver during writing.

実施例 第1図は本発明の第1の実施例における半導体記憶装置
を示す。第1図においてMはメモリセル、トランジスタ
11.12iJ:、従来例ではメモリセルとビット線と
の間のトランスファゲートでワード線と接続されていた
ものであるが、実施例においてはこれに接続されてい/
こワードfiIは除去し、そのゲートをビット線に接続
を行なう構造をもつ7ヘー。
Embodiment FIG. 1 shows a semiconductor memory device in a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, M is a memory cell, and a transistor 11.12iJ:, in the conventional example, it is connected to the word line at the transfer gate between the memory cell and the bit line, but in the embodiment, it is connected to the word line. attitude/
This word fiI is removed and its gate is connected to the bit line.

ものである。13はアドレスデコーダ、14は電圧発生
回路、15はプリチャージ回路、vDDl及びvssl
は、ワード線方向のメモリセル間を共通に接続した電源
電位線及び接地電位線であり、アドレスデコーダと電位
発生回路により選択されたメモリセルに接続された電源
電位線vDD1と接地電位線■s81をそれぞれ所定の
固定電位点に設定すること忙よりデータの書き込み読み
出し動作を行なうものである。このときVDDl及びv
ss1以外のその他のアドレスデコーダにより非選択な
電源電位線及び接地電位線はそれぞれ所定の固定電位状
態の1まになっている。
It is something. 13 is an address decoder, 14 is a voltage generation circuit, 15 is a precharge circuit, vDDl and vssl
are a power supply potential line and a ground potential line commonly connected between memory cells in the word line direction, and a power supply potential line vDD1 and a ground potential line ■s81 connected to the memory cell selected by the address decoder and the potential generation circuit. Data writing/reading operations are performed by setting each of them to a predetermined fixed potential point. At this time, VDDl and v
The power supply potential lines and the ground potential lines that are not selected by the address decoders other than ss1 are each set to a predetermined fixed potential state of 1.

メモリセルへのデータの書き込み及びメモリセルからの
データの読み出しについて、第2図は水弟1の実施例装
置の動作説明を行なうだめの各電位点の状態を示したも
のである。
Regarding writing data to and reading data from memory cells, FIG. 2 shows the state of each potential point for explaining the operation of the apparatus of the embodiment of Mizuhiro 1.

寸ず第1に読み出し動作の説明を第1図を参照しながら
説明を行なう。非選択状態の電源電圧線vDD1の電位
は、周辺回路と同一の電源電圧vDD(例えばここでは
5■とする。)sVであり、接地電位線■ss、の電位
は周辺回路等のGND 電位(通常○■)ではなく電源
型rU(ここで1ci5V)の%倍の2.5■に固定さ
れている。そこでアドレスデコーダに31:リフモリ−
1=ルMが選択されるとこれに接続されている電源電位
線■DD1及び接地電位線■ss1が選択されることに
より■DDは6■・のままで変化せず、vss1は2.
6■からOv又はoV近傍の固定電位点に変化する。メ
モリセルのデータのその選択される直前の一ヒル状だイ
の電位はビット線B側で“H”の5V、ビット線B側で
”L I+の2.5■の状態とすると、第2図(a)に
示すようにl Hl”側の電位は5■の4寸変化せず、
+1 L II側の電位仁]、vss、が2.5■から
oV近傍に変化したことにより0■又幻、oV近傍の同
定電位点となる。そこでビ、1・線B 、BK読み出さ
れる電位状態は、読み出す直前にピント線は電源電圧■
DD(ここでは5■とする。)の%の電位2.5■にプ
リチャージを行なっていることに」:す、j・ランスフ
ァゲート11はい芥ビット線Bの電位2.5V、メモリ
セルのHuの電位が5■のため0FF9ページ と々す、ビット線Bの電位は2.5vのまま変化せずこ
の値がビット線の読み出しの”H”のデータとなる。
First, the read operation will be explained with reference to FIG. The potential of the power supply voltage line vDD1 in the non-selected state is the same power supply voltage vDD (for example, 5■ here) sV as that of the peripheral circuit, and the potential of the ground potential line ■ss is the same as the GND potential of the peripheral circuit ( Normally, it is fixed at 2.5■, which is % times the power supply type rU (1ci5V here), instead of ○■). So the address decoder is 31: ref memory.
When 1 = M is selected, the power supply potential line ■DD1 and the ground potential line ■ss1 connected to it are selected, so that ■DD remains unchanged at 6■, and vss1 becomes 2.
The voltage changes from 6■ to a fixed potential point of Ov or around oV. Assuming that the potential of a single hill-like voltage immediately before the data in the memory cell is selected is "H" at 5V on the bit line B side and 2.5V of "L I+" on the bit line B side, the second As shown in figure (a), the potential on the l Hl'' side does not change by 4 dimensions of 5■,
+1L II side potential 2], vss, changes from 2.5■ to around oV, resulting in an identified potential point near 0V and oV. Therefore, the potential state to be read out from B, 1, B, and BK is that the focus line is set to the power supply voltage ■
Precharging is performed to a potential of 2.5V, which is 5% of the DD (in this case, 5■). Since the potential of Hu is 5■, 0FF9 page is reached, and the potential of bit line B remains unchanged at 2.5 V, and this value becomes "H" data for reading from the bit line.

一方、トランスファゲート12は、ビット線Bの電位2
.6V、メモリセル゛′L”の電位が2,6vからφ■
近傍まで下がることによりON状態によりビット線Bの
電位は、急激に下がり最終的にはOv、l:J)トラン
スファゲート12のしきい値V7分高い電位近傍となり
”L I+のデータとなる。このようにして、メモリセ
ルのデータの読み出し動作が行なわれる。
On the other hand, the transfer gate 12 is at the potential 2 of the bit line B.
.. 6V, the potential of memory cell ``L'' is φ■ from 2.6V
When the bit line B is turned on, the potential of the bit line B decreases rapidly and finally reaches a potential that is higher than the threshold value V7 of the transfer gate 12 (Ov, l:J), resulting in data of "L I+". In this manner, the data read operation of the memory cell is performed.

次にデータ書き込みの動作を第2図(b)により説明を
行なう。非選択状態では■DD1は5v、vsslは2
.5vであり選択状態では読み出し動作と異なりvDD
lを5 V カら2.5Vへ下げvsslは2.5vか
らφ■に下げる。この■DD1を2.5vに下げるのは
メモリセル内のンリップフロップ回路のスイッチング電
圧を下げるためでより高速に誤動作なく書き込むことが
可能と々る。vDDl及びvss1の電位がメモリセル
選択により変化する直前、ビ10ヘ−ノ ッ)、ilB、Bは電源電圧vDDの%倍の2.5V近
傍の電位状態であり、このときセル状態は図にボすよう
にビット線B側がH“の5V、ビット線B側のデータが
L″の2.5v近傍であるとする。
Next, the data writing operation will be explained with reference to FIG. 2(b). In the non-selected state ■DD1 is 5V, vssl is 2
.. 5V, and in the selected state, unlike the read operation, VDD
Lower l from 5 V to 2.5 V, and lower vssl from 2.5 V to φ■. The reason why DD1 is lowered to 2.5 V is to lower the switching voltage of the flip-flop circuit in the memory cell, which enables faster writing without malfunction. Immediately before the potentials of vDDl and vss1 change due to memory cell selection, ilB and B are in a potential state near 2.5V, which is % times the power supply voltage vDD, and at this time, the cell state is indicated by the box in the figure. Assume that the bit line B side is at 5V, which is H", and the data on the bit line B side is approximately 2.5V, which is L".

そこで書き込みデータをビット線f3にI L 1′の
oV、ビット線BKvDDの3イイト“?の電位である
2、5vの”H′′で入力する。この状態からトランの
電位は1時的にはφ■近傍に下がりがけるが書■ き込みデ〜りが2.6vより11びその電位は2.69
近傍の固定電位点にしだいに一1ニケーするとともに一
方のピット線B側のセル状態の電位6■はしだいに下が
り書き込みのドライブに」:り強制的にφ■に下げられ
る。
Therefore, the write data is inputted to the bit line f3 at oV of I L 1' and "H" of 2.5 V, which is the potential of the bit line BKvDD at 3-ite "?". From this state, the potential of the transformer temporarily drops to around φ■, but since the write voltage is 2.6V, the potential of 11 and 11 is 2.69V.
As the fixed potential point in the vicinity is gradually increased, the potential 6 in the cell state on one pit line B side gradually decreases and is forcibly lowered to φ2 for writing drive.

このようにしてデータの書き込み動作が完了することに
なる。ここでは反転データの書き込み動作について説明
を行なったが以上の結果がらゎかるように、非選択状態
でのメモリセル及びビット線の各電位は、1ずピッ)B
、Bとも■DDの%倍11ペー/゛ の電位2.5v近傍となっており、メモリセル内のデー
タ゛H″は電源電圧■DD の5■近傍で、データ゛L
″は2.5■近傍の固定電位点で■s81電位線の電位
となる。また読み出しだビット線上のデータの電位は、
データのH″がビット線のプリチャージレベルである■
DDの%倍の電位点でこの例では2.5V、データの“
L″が選択されたメモリセルの接地電位線の電位にトラ
ンスファゲートのvTを加えた電位でこの例ではvT■
となる。
In this way, the data write operation is completed. Here, we have explained the write operation of inverted data, but as the above results show, each potential of the memory cell and bit line in the non-selected state is
, B are both at a potential of 2.5V which is 11% times the voltage of ■DD, and the data 'H' in the memory cell is around 5V of the power supply voltage ■DD, and the data 'L' is around 5V of the power supply voltage ■DD.
'' becomes the potential of the ■s81 potential line at a fixed potential point near 2.5■.The potential of the data on the read bit line is
Data H'' is the precharge level of the bit line■
In this example, it is 2.5V at the potential point % times DD, and the data “
L'' is the potential obtained by adding vT of the transfer gate to the potential of the ground potential line of the selected memory cell, and in this example, vT■
becomes.

第3図は本発明筒2の実施例の2ポー)RAMのメモリ
セルの主要部を示したもので、図においてビット線のプ
リチャージ回路、AポートとBポートのそれぞれに対す
るアドレスデコーダ及び電圧発生回路は省略されている
。第4図は第3図で示す実施例の動作説明のだめの各電
位点の電圧及びAボート、Bポートから読出したデータ
の認識の結果を示している。第3図において、B、Bは
ビット線で、vDDm及び” S S mはそれぞれm
番地のワードに共通な電源電位線及び接地電位線で、■
DDn及びvssnはそれぞれn番地のワードに共通な
電源電位線及び接地電位線である。35は電圧レベル検
出回路、36はデータ分離回路である。
FIG. 3 shows the main parts of a 2-port RAM memory cell according to an embodiment of the present invention. Circuits are omitted. FIG. 4 shows the voltage at each potential point and the results of recognition of data read from the A port and the B port, just to explain the operation of the embodiment shown in FIG. In FIG. 3, B and B are bit lines, and vDDm and "S S m are m, respectively.
A power supply potential line and a ground potential line common to the word of the address, ■
DDn and vssn are a power supply potential line and a ground potential line, respectively, common to the word at address n. 35 is a voltage level detection circuit, and 36 is a data separation circuit.

読出しの時、電源電位線d:周辺回路の電位vDDと同
じであるが、接地電位線d1、Aボートのアドレスデコ
ーダによって選択された場合は■sAにBポートのアド
レスデコーダによって選択された場合■sB に設定さ
れる。非選択のワードの電源電位線は■DD、接地電位
線はプリチャージレベルvPRの−1まである。ただし
、vPR〉vsB〉■sA′:2ovである。いま、m
番地のデータをAボートから、n番地のデータをBボー
トから読出す場合を考える。まず、メモリセルMm、M
nのデータが同一の場合、すなわち両方とも′H″又は
゛L′ルベルの場合ビット線上の電位は次の表で示すよ
うに、データが両方とも”L IIならげビット線Bi
J:V3B。
At the time of reading, the power supply potential line d: the same as the peripheral circuit potential vDD, but the ground potential line d1, if selected by the address decoder of the A port, ■sA; if selected by the address decoder of the B port, ■ sB. The power supply potential line of the unselected word is DD, and the ground potential line is up to -1 of the precharge level vPR. However, vPR〉vsB〉■sA': 2ov. Now m
Consider the case where data at address is read from boat A and data at address n is read from boat B. First, memory cells Mm, M
When the data of n is the same, that is, both are 'H' or 'L' level, the potential on the bit line is as shown in the following table.
J:V3B.

BはvPRの電位となり、データが両方とも°l Hl
”ならばビット線BはVPR,Bil、vsB の電位
が発生している。
B is the potential of vPR, and both data are °l Hl
``If so, the potentials of VPR, Bil, and vsB are generated on bit line B.

13ベー/゛ 次にAポートのデータとBポートのデータが逆の場合と
してII L IIとH′′のときを考える。
13ba/゛Next, let us consider the case where the data of the A port and the data of the B port are reversed, and IIL II and H''.

となる。一方Bポートのデータが°゛H″よりBポート
単独とした場合ビット線B上にはvPRの電位。
becomes. On the other hand, if the B port data is °゛H'' and the B port is left alone, the potential on the bit line B is vPR.

B上にはvsBの電位となる。しかし、これらの電位が
同一のビット線で重なるためビット線Bにおいてはトラ
ンスファゲート31がオン状態のためビット線Bは電位
■sAまで下がることになる一方、ビット線Bは逆にト
ランスファゲート34がオン状態のためビット線Bは電
位vsB まで下がることになる。逆にAポートのデー
タがHI1でBポートのデータがL′”とすると、ビッ
ト線Bの電位はvsB でビット線Bの電位は■sA 
となる。
The potential on B is vsB. However, since these potentials overlap on the same bit line, the transfer gate 31 on bit line B is in the on state, so the bit line B drops to the potential ■sA. Due to the on state, the bit line B drops to the potential vsB. Conversely, if the data at port A is HI1 and the data at port B is L''', the potential of bit line B is vsB and the potential of bit line B is ■sA.
becomes.

このようにビット線B、BJ二に発生する電位によfi
AポートとBボートどちらのデータかを区別することが
可能となるため、その電位レベルを検出する回路を付加
するだけでビット線の本数もワード線の本数も増加する
ことなく2ポー)RAMが形成できることがわかる。
In this way, fi
Since it is possible to distinguish between the data on the A port and the B port, just by adding a circuit to detect the potential level, the 2-port RAM can be expanded without increasing the number of bit lines or word lines. It turns out that it can be formed.

本発明のメモリセル構造をとることにより、通常のRA
Mとしてメモリに対してそのメモリセル配置をそのまま
の状態で周辺回路の変更することだけで2ポー)RAM
はもちろん多ポー)RAMを容易に実現できる。また、
本発明において電源電圧線及び接地電位線を従来のメモ
リにおけるワード線と同様の役目を行なわせているが、
これはメモリセルとビット線をつなぐトランスファゲー
トのゲートに接続する必要がないため、ポリシリコン等
を使用する必要がなく純粋に低抵抗の金属配線材料を用
いればよくワード線としての役目の15へ−2 メモリセル選択の遅延時間の短縮によるアクセスの高速
化を可能にする。
By adopting the memory cell structure of the present invention, normal RA
(2-port RAM) by simply changing the peripheral circuitry while keeping the memory cell arrangement as it is.
Of course, a multi-port RAM can be easily realized. Also,
In the present invention, the power supply voltage line and the ground potential line play the same role as the word line in a conventional memory.
This does not need to be connected to the gate of the transfer gate that connects the memory cell and the bit line, so there is no need to use polysilicon, etc., and you can simply use a low-resistance metal wiring material. -2 Enables faster access by shortening the delay time of memory cell selection.

本発明において読み出し時に電源電圧線の電位を変化さ
せどy’h線のプリチャージレベル近傍まで下げること
も可能であり、またトランスファゲートとしてNチャン
ネルMOS型トランジスタを用いだが同一の機能を満す
よう接続を行なうことに」:すPチャンネルMOS型ト
ランジスタでもよくさらにダイオード等でもよい。
In the present invention, it is possible to lower the potential of the power supply voltage line to near the precharge level of the y'h line by changing the potential of the power supply voltage line at the time of reading, and although an N-channel MOS transistor is used as the transfer gate, it is possible to achieve the same function. For connection, a P-channel MOS transistor or a diode or the like may be used.

発明の効果 以」二述べたように、本発明によればメモリセルにワー
ド線の配線を必要とせずメモリのチップ面積の縮小が可
能であり、周辺回路を変更することにより2ポ一トRA
M等を容易に実現できる。データの書き込み及び読み出
し時の動作電流の低減及びプリチャージ時の消費電流の
縮小そしてデータのアクセスの高速化を可能にする。
Effects of the Invention As described in Section 2, according to the present invention, it is possible to reduce the memory chip area without requiring word line wiring for memory cells, and by changing the peripheral circuitry, it is possible to reduce the memory chip area.
M etc. can be easily realized. This makes it possible to reduce operating current when writing and reading data, reduce current consumption during precharging, and speed up data access.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例における半導体記憶装置
の回路図、第2図は同第1の実施例装置のデータの書き
込み及び読み出し時における各動作点の電位を示す図、
第3図は本発明の第2の実施例における半ノ、9体記憶
装置の回路図、第4図は同第2の実施例装置の動作説明
のt(めのビット線の電位を示す図、第6図#題七岡は
従来の半導体記憶装置の回路図である。 M 、Mm、Mn−、、、メモリセル、11.12゜3
1.32.33.34・  トランスファゲート、■D
D1.■DDm、■DDn−・−電源電圧線、■ss1
゜■5srn、■ssn・・・−接地電位線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名M−
−7モリ乞ル 第2図 (α2 [V] 崎7’、”1 (b’    [vl 睦聞 第3図 第5図 第4図
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing potentials at each operating point during data writing and reading of the device according to the first embodiment.
FIG. 3 is a circuit diagram of a half- and nine-bit storage device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. , Figure 6 # Title Nanaoka is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device. M , Mm, Mn-, , Memory cell, 11.12°3
1.32.33.34・ Transfer gate, ■D
D1. ■DDm, ■DDn-・-power supply voltage line, ■ss1
゜■5srn, ■ssn...-Ground potential line. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and one other person M-
-7 Moribeiru Figure 2 (α2 [V] Saki 7', "1 (b' [vl Mutsumon Figure 3 Figure 5 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ビット線とメモリセルとの間に、ビット線からメモリ
セル方向に順方向特性となるダイオード特性を持つスイ
ッチ素子を接続し、ワード線を用いず、電源電位及び接
地電位を、ワード方向に同一に配列されたメモリセルに
ついて共通にそれぞれ接続して電源電位線及び接地電位
線とし、所望のメモリセルの選択時に前記メモリセルに
接続されている前記電源電位線及び接地電位線をそれぞ
れ所定の固定電位に設定しメモリセルのデータの書き込
み及び読み出しを行なうように構成した半導体記憶装置
A switch element with diode characteristics that has forward characteristics from the bit line to the memory cell is connected between the bit line and the memory cell, and the power supply potential and ground potential are made the same in the word direction without using a word line. The arranged memory cells are commonly connected to each other as a power supply potential line and a ground potential line, and when a desired memory cell is selected, the power supply potential line and the ground potential line connected to the memory cell are respectively set at a predetermined fixed potential. A semiconductor memory device configured to write and read data in and from a memory cell.
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