JPS6212996A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPS6212996A
JPS6212996A JP60153452A JP15345285A JPS6212996A JP S6212996 A JPS6212996 A JP S6212996A JP 60153452 A JP60153452 A JP 60153452A JP 15345285 A JP15345285 A JP 15345285A JP S6212996 A JPS6212996 A JP S6212996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
potential
bit line
memory device
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60153452A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideto Hidaka
秀人 日高
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP60153452A priority Critical patent/JPS6212996A/en
Publication of JPS6212996A publication Critical patent/JPS6212996A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To prevent a non-selected word from floating up during recharging a bit line potential by giving a potential change in a negative direction only with respect to the non-selected word line during the recharging. CONSTITUTION:A new control signal phi1 rises to an L level at the start time (time t4) of a recharge cycle and to an H level at the time t5 on the completion of the recharging. At the time t3, when a word line WL0 is selected and other word line WL1... are non-selected, that is, at an earth potential level, an electrode opposing to the gate of a MOS capacitor C0 remains H level and other electrode opposing to the gate of a MOS capacitor C1 becomes the earth potential. Accordingly, during recharging (time t4-t5), a negative coupling is given only to the non-selected word line and a coupling noise in a positive direction due to the raise of the bit line potential during recharging is canceled.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は半導体記憶装置、特に、タイナミック型MO
8RAM (ランダムアクセスメモリ)のワード線駆動
方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] This invention is applicable to semiconductor memory devices, particularly dynamic type MO
This invention relates to a word line driving method for 8RAM (Random Access Memory).

[従来の技術J 第3図は従来のダイナミック型半導体記憶装置のワード
線駆動部の構成の一例を示す図である。
[Prior Art J] FIG. 3 is a diagram showing an example of the configuration of a word line driving section of a conventional dynamic semiconductor memory device.

第3図において、従来のワード線駆動部は、ローアドレ
スデコーダ1からの信号に応答してオン・オフし、ワー
ド線駆動信号φ6をワード線WLO。
In FIG. 3, a conventional word line drive section turns on and off in response to a signal from a row address decoder 1, and applies a word line drive signal φ6 to a word line WLO.

W L 、へ伝達、非伝達するメモリセル選択ゲートと
なるワード線駆動用1−ランジスタQ。0I01.と、
ワード線〜VL、1.WL、と交差するビット線対BL
、BLと、ビット!BL、BL上の信号レベルのセンス
〈読出または書込)を行なうためのセンスアンプ2とを
含む。ここで、ワード線をWLc 、WL、、ヒラl−
1!ilをBL、E3Lとそれぞれ2本として示してい
るが、これは説明の便宜上であり、実際には各々その記
憶容量に応じた本数だけ設けられている。ワードl1l
WLO,WL、の各々には、非選択のワード線が誤って
選択状態になる(浮き上がる)のを防止するため、MJ
Rワード線のレベルの立ち上がり時に非選択のワード線
を接地電位に保つためのトランジスタQ、 、 、 Q
l、が設けられる。トランジスタQ、、、、Q、。
1-transistor Q for word line driving, which serves as a memory cell selection gate for transmitting and non-transmitting to W L . 0I01. and,
Word line ~VL, 1. A bit line pair BL intersects with WL.
, BL and BIT! BL and a sense amplifier 2 for sensing (reading or writing) the signal level on BL. Here, the word lines are WLc, WL, HIRA l-
1! Although two ils are shown for each of BL and E3L, this is for convenience of explanation, and in reality, each is provided in a number corresponding to its storage capacity. word l1l
Each of WLO and WL is provided with an MJ to prevent an unselected word line from being erroneously selected (rising).
Transistors Q, , , Q for keeping unselected word lines at ground potential when the level of the R word line rises
l, is provided. Transistor Q, ,,Q,.

の各々は、そのドレインがワードl1WLo、WL、に
接続され、そのソースが接地電位に接続され、かつその
ゲートは共に制御信号RQを受ける。制御信号RQは、
トランジスタQ。l + Q l 1のゲートに適切な
電位を与えトランジスタQ、 、 、 Qllの動作の
FJJ御を行なう。信号RQを発生する回路は、トラン
ジスタQ7.Q2とから構成される。トランジスタQ、
のソースは電源電位Vccに接続され、そのドレインは
トランジスタQ2のドレインと接続されて出力端子とな
り、そのゲートに反転ローアドレスストローブ信号RA
Sを受ける。トランジスタQ2はそのドレインがトラン
ジスタQ、のドレインに接続され、かつそのソースは接
地され、そのゲートに信号RASの反転信号とほぼ同様
のタイミングを持つ信号RAS、を受ける。また、ワー
ド線WLo 、WL+の各々には、信号RA S +を
そのゲートに受け、そのドレインがワード線WLo 、
WL+に接続され、そのソースが接地されるトランジス
タQO21Q+2が設けられる。このトランジスタQ。
each has its drain connected to word l1WLo, WL, its source connected to ground potential, and its gates both receiving control signal RQ. The control signal RQ is
Transistor Q. An appropriate potential is applied to the gate of l+Ql1 to perform FJJ control of the operations of transistors Q, , , Qll. The circuit that generates signal RQ includes transistors Q7. It consists of Q2. transistor Q,
Its source is connected to the power supply potential Vcc, its drain is connected to the drain of transistor Q2 to serve as an output terminal, and its gate receives an inverted row address strobe signal RA.
Receive S. Transistor Q2 has its drain connected to the drain of transistor Q, its source grounded, and receives at its gate a signal RAS having substantially the same timing as the inverted signal of signal RAS. Further, each of the word lines WLo and WL+ receives the signal RA S + at its gate, and has its drain connected to the word lines WLo and WL+.
A transistor QO21Q+2 is provided which is connected to WL+ and whose source is grounded. This transistor Q.

21Q+2はワード綜駆動系が非活性状態のときにワー
ド線W[。、Wし、の電位を確実にL°゛にするための
ものである。ワード線WLo 、WL、とビット線BL
、8mにはそれぞれ1トランジスタ・1キヤパシタ型の
メモリセル3が接続される。
21Q+2 is the word line W[. when the word hex drive system is inactive. This is to ensure that the potentials of , W and are at L°. Word lines WLo, WL, and bit lines BL
, 8m are each connected to a one-transistor/one-capacitor type memory cell 3.

第4図は第3図に示される回路の動作タイミングを示す
信号波形図である。以下、第3図および第4図を参照し
て動作について説明する。ここで、第4図においてRA
S、RQ、WLo 、WL+ 。
FIG. 4 is a signal waveform diagram showing the operation timing of the circuit shown in FIG. 3. The operation will be described below with reference to FIGS. 3 and 4. Here, in Fig. 4, RA
S, RQ, WLo, WL+.

RAS、、φ、はそれぞれ第3図に示される信号を表わ
し、BL、B〒はワード線と交差する複数のビット線対
の電位を代表して表わしたものである。時刻t、で信号
RASが立ち下がり始め、応じてアクティブサイクルが
開始される。信号RASの立ち下がりに応答してローア
ドレス信号が取込まれ、ローアドレスデコーダ1へ与え
られる。
RAS, .phi., respectively represent the signals shown in FIG. 3, and BL, B〒 represent potentials of a plurality of bit line pairs crossing the word line. At time t, the signal RAS begins to fall, and an active cycle is accordingly started. In response to the fall of signal RAS, a row address signal is taken in and applied to row address decoder 1.

ローアドレスデコーダ1は与えられたローアドレスをデ
コードし、その出力信号をトランジスタQ。o * Q
 +。のゲートへ与える。時刻t2においてローアドレ
スデコーダ1の出方電位が安定(1つのデコーダ出力の
みH″、他のデコーダ出力はすべて“’L”)となると
ワード線駆動信号φ。
Row address decoder 1 decodes the given row address and sends its output signal to transistor Q. o * Q
+. Give to the gate. At time t2, when the output potential of the row address decoder 1 becomes stable (only one decoder output is "H", all other decoder outputs are "'L"), the word line drive signal φ is activated.

が立ち上がり始め、選択されたワード線のレベルが立ち
上がり始める。このとき、トランジスQ1、Q2のゲー
トにはそれぞれ信号RAS、RAS、が与えられており
、トランジスタQ1はオフ。
begins to rise, and the level of the selected word line begins to rise. At this time, signals RAS and RAS are applied to the gates of transistors Q1 and Q2, respectively, and transistor Q1 is turned off.

Q2はオン状態となる。これに応じて信号RQは時刻t
2において立ち下がり始める。しかし信号RQは第4図
に見られるように徐々に立ち下がる信号であり、これに
、よりトランジスタao 、 、 Q、1は時刻t2よ
り遅れてオフ状態となり、非選択デコーダ出力が十分に
°°L”レベルに到達する前にワード線駆動信号φ、が
立ち上がった場合に、非選択ワード線の電位が少し浮き
上がって誤動作(誤選択)に至るのを防止している。選
択されたワード線のレベルが立ち上がり、所望の信号電
位がビット線対BL、8L上に現われると、時刻【、に
おいてビット線対BL、BLに接続されたセンスアンプ
2が活性化され、゛L″レベルのビット線のみ接地レベ
ルにされる。次に時刻t、においで、゛H″レベルのビ
ット線のみ電源電圧■。
Q2 is turned on. In response to this, signal RQ changes at time t.
It starts to fall at 2. However, the signal RQ is a signal that gradually falls as shown in FIG. This prevents the potential of unselected word lines from rising slightly and causing malfunction (erroneous selection) when the word line drive signal φ rises before reaching the L'' level. When the level rises and a desired signal potential appears on the bit line pair BL, 8L, at time [, the sense amplifier 2 connected to the bit line pair BL, BL is activated, and only the bit line at the "L" level is activated. brought to ground level. Next, at time t, only the bit line at the "H" level has the power supply voltage ■.

。レベルまで昇圧するリストア(リチャージ)動作が行
なわれる。このときに、各ワード線と交差するビット線
の総数のうち半数がH”レベルへ昇圧されるが、これは
ビット線−ワード線間のカップリング容I!1(浮遊結
合容量)を介してワード線に正方向のノイズ(電位変化
)を与える。したがって、第4図に示されるように、接
地電位であった非選択ワード線の電位が上昇し、これが
メモリセル選択用トランジスタ〈メモリセル3を構成す
るトランジスタ)のしきい値電圧を越えると非選択ワー
ド線が選択状態となって誤動作に至る。
. A restore (recharge) operation is performed to boost the voltage to the same level. At this time, half of the total number of bit lines that intersect with each word line are boosted to H" level, but this is due to the coupling capacitance I!1 (stray coupling capacitance) between the bit line and the word line. Noise (potential change) in the positive direction is applied to the word line.Therefore, as shown in FIG. When the voltage exceeds the threshold voltage of the transistor (composing the transistor), the unselected word line becomes selected, resulting in malfunction.

時刻t、において信号RASが立ち上がりアクティブサ
イクルが終了する。
At time t, the signal RAS rises and the active cycle ends.

[発明が解決しようとする問題点] 従来のダイナミック型MO8RAMのワード線駆動回路
は以上のように構成されており、11 H11レベルの
ビット線のりチャージ時に非選択ワード線がビット線−
ワード線間の浮遊結合容量により正方向へ移動して浮き
上がり、これにより誤った選択状態に至るという問題点
があった。
[Problems to be Solved by the Invention] The word line drive circuit of the conventional dynamic MO8RAM is configured as described above, and when the bit line is charged at the 11H11 level, the unselected word line becomes the bit line -
There is a problem in that the stray coupling capacitance between the word lines causes the word lines to move in the positive direction and float up, resulting in an incorrect selection state.

それゆえ、この発明の目的は上述のような問題点を除去
し、簡単な手段により非選択のワード線が浮き上がるの
を防ぐワード線駆動回路を備えた半導体記憶装置を提供
することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device equipped with a word line drive circuit that eliminates the above-mentioned problems and prevents unselected word lines from floating by simple means.

[問題点を解決するための手段1 この発明にかかる半導体記憶装置は、ワード線駆動回路
において、” H”レベルのビット線のりチャージ時に
非選択ワード線に対してのみ負方向の電位変化を与える
手段を備えるように構成したものである。
[Means for Solving the Problems 1] The semiconductor memory device according to the present invention provides a negative potential change only to unselected word lines when charging a bit line at "H" level in a word line drive circuit. The device is configured to include means.

好ましくは負方向の電位変化を与える手段は、MOS 
i−ランジスタからなる容量で構成され、この容量をワ
ード線の各々に結合させ、これによりリチャージ時に非
選択ワード線が受ける正方向のカップリングノイズを打
消すようにする。
Preferably, the means for applying a negative potential change is a MOS
This capacitance is made up of an i-transistor and is coupled to each word line, thereby canceling the positive coupling noise that unselected word lines receive during recharging.

[作用] この発明におけるワード線駆動回路を備える単導体記憶
装置においては、非選択ワード線に対してのみ負方向の
電位変化をリチャージ時に与えることにより、非選択ワ
ード線がビット線電位のりチャージ時に浮き上がること
が防止される。
[Function] In the single-conductor memory device equipped with the word line drive circuit according to the present invention, by applying a negative potential change only to unselected word lines at the time of recharging, the unselected word lines are charged with the bit line potential. This prevents it from floating up.

[発明の実施例] 以下、この発明の一実施例を図について説明する。[Embodiments of the invention] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図はこの発明の一実施例であるワード線駆動回路を
備える半導体記憶装置のワード榛駆動部における構成を
示す図である。第1図において、第3図に示される従来
のワード線駆動系と異なり、ワード線WLo 、WL、
の各々にIIIIIIII信号φ、により信号側御され
るMOSキャパシタC0,C+が新たに設けられる。M
OSキャパシタC0,C9はエンハンスメント型nチャ
ネルMOSトランジスタで構成され、ともにそのソース
およびドレインが互いに接続されかつワードaWLo、
WL、に各々接続され、かつそのゲートに1lilJ御
信号φ、を受ける。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a word line driving section of a semiconductor memory device including a word line driving circuit according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, unlike the conventional word line drive system shown in FIG. 3, the word lines WLo, WL,
MOS capacitors C0 and C+, each of which is controlled by the IIIIII signal φ, are newly provided. M
The OS capacitors C0 and C9 are composed of enhancement type n-channel MOS transistors, and their sources and drains are connected to each other, and the words aWLo,
WL, respectively, and receives a 1lilJ control signal φ at its gate.

第2図は第1図の回路の動作タイミングを示す信号波形
図である。第2図から見られるように、新たな制御信号
φ、はりチャージサイクル開始時(時刻で4)に゛L″
レベルに立ち下がり、リチャージ終了°時の時刻で、に
゛′H″レベルに立ち上がる信号である。以下、第1図
および第2図を参照して動作について説明する。
FIG. 2 is a signal waveform diagram showing the operation timing of the circuit of FIG. 1. As can be seen from FIG. 2, the new control signal φ is ``L'' at the start of the beam charging cycle (at time 4).
This is a signal that falls to a high level and then rises to a high level at the time when the recharge ends.The operation will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

今、時刻t3において、ワード線WL、が選択状態であ
り、他のワード線WL、、・・・、(以下、非選択ワー
ドIt W L 、で代表させる。)は非選択すなわち
接地電位レベルであるとする。時刻taまでの動作は従
来と同様である。このとき、M OSキャパシタCつの
ゲートと対向する!I!極(ソースおよびドレイン、す
なわち基板側電極)は゛H″レベルのままであり、その
他のMOSキャパシタC1のゲートと対向する電極は接
地電位となる。
Now, at time t3, the word line WL is in the selected state, and the other word lines WL, . Suppose there is. The operation up to time ta is the same as the conventional one. At this time, the gates of the MOS capacitors C! I! The electrodes (source and drain, ie, substrate side electrodes) remain at the "H" level, and the other electrodes facing the gate of the MOS capacitor C1 are at the ground potential.

時刻t4までは信号φ、は“H″レベルあり、リチャー
ジ開始時の時刻t4でL”レベルに立ち下がる。このと
きの〜10SキャパシタC8,C4の働きについて説明
する。
The signal φ is at the "H" level until time t4, and falls to the "L" level at time t4 when charging is started.The function of the ~10S capacitors C8 and C4 at this time will be explained.

MOSキャパシタはエンハンスメント型nチャネルMO
Sトランジスタで構成されている。すなわち、ゲートの
ドレインおよびソース(反対電極)に対する電圧が正の
成る値(たとえば1V程度)以下では゛オフ状態”すな
わちキャパシタンスが0であり何の影響も及ぼさず、こ
の値以上においては゛オン状態”すなわち大きなキャパ
シタンスを有するような動作を行なう。時刻t、におい
て制御信号φ、が立ち下がるとき、それ以前には信号φ
1は″゛H″H″レベルえばビット線プリチャージレベ
ル)であったことを考えると次のような動作を6容[I
G−、C+が行なう。
MOS capacitor is enhancement type n-channel MO
It is composed of S transistors. That is, when the voltage to the drain and source (opposite electrodes) of the gate is below a positive value (for example, about 1V), it is in an "off state", that is, the capacitance is 0 and there is no effect, and above this value, it is in an "on state". In other words, it operates with a large capacitance. When the control signal φ falls at time t, before that, the signal φ
Considering that 1 is the "H" level (bit line precharge level), the following operation can be performed as follows.
G- and C+ do it.

■ 容量C8は“オフ状!9″となり、選択されたワー
ド線W L cには何の影響も与えず、負方向(ワード
線の電位を下げる方向)のカップリングを与えない。
(2) The capacitor C8 is in the "off state!9" and has no effect on the selected word line WLc, and does not provide coupling in the negative direction (direction of lowering the potential of the word line).

■ 非選択ワードIt W L +に接続される容量C
1は゛オン状態″となり、非選択ワード# W L +
は負方向(ワード線電位を下げる方向)のカップリング
を受ける。
■ Capacitor C connected to unselected word It W L +
1 is in the "on state" and the non-selected word # W L +
receives coupling in the negative direction (in the direction of lowering the word line potential).

したがって、リチャージ時(時刻t、〜ji)に、非選
択ワード線のみに対し負のカップリングが与えられるこ
とになり、リチャージ時にビット線電位が上昇すること
による正方向のカップリングノイズが打消される。頭だ
、選択されたワード#1! W L 、、に対しては負
のカップリングは与えられず、選択ワード線レベルが下
がることはない。したがって、第2図に示されるように
非選択ワードIll W L +の電位が浮き上がるこ
とはなく、このワード線に接続されたメモリセルが誤っ
て選択されることもない。
Therefore, during recharging (time t, ~ji), negative coupling is applied only to unselected word lines, and the positive coupling noise caused by the bit line potential rising during recharging is canceled. Ru. Head, selected word #1! No negative coupling is applied to W L , , and the selected word line level does not fall. Therefore, as shown in FIG. 2, the potential of the unselected word Ill W L + will not rise, and the memory cells connected to this word line will not be erroneously selected.

(発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、リチャージ時に非選
択ワード線のみに対し負方向に電位を下げるようにMO
Sトランジスタからなるキャパシタを用いて構成したの
で、簡単な手段によりビット線電位リチャージ時に非選
択ワード線が浮き上がることを防止することができ、安
定に動作する半導体記憶装置を得ることができる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, the MO
Since it is constructed using a capacitor made of an S transistor, it is possible to prevent an unselected word line from floating when bit line potential is recharged by a simple means, and a semiconductor memory device that operates stably can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例である半導体記憶装置のワ
ード線駆動系の構成を示す図である。第2図は第1図の
回路の動作タイミングを示す信号波形図である。第3図
は従来の半導体記憶装置におけるワード線駆動系の構成
を示す図である。第4図は第3図に示される従来の半導
体記憶装置の動作タイミングを示す信号波形図である。 図において、1はローアドレスデコーダ、WL、、WL
、はワード線、BL、BLはビット線、C,、C,はエ
ンハンスメント型nチャネルMOSトランジスタにより
構成される容量である。 なお、図中、同符号は同一または相当部分を示ず。 代理人    大  岩  増  雄 具4図 手続補正帯(自発) 昭和 6iJJ1弔 6B 園
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a word line drive system of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a signal waveform diagram showing the operation timing of the circuit of FIG. 1. FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a word line drive system in a conventional semiconductor memory device. FIG. 4 is a signal waveform diagram showing the operation timing of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. In the figure, 1 is a row address decoder, WL, , WL
, are word lines, BL and BL are bit lines, and C, , C, are capacitors formed by enhancement type n-channel MOS transistors. In addition, in the figures, the same reference numerals do not indicate the same or equivalent parts. Agent Masu Oiwa Yugu 4 figure procedure correction belt (voluntary) Showa 6iJJ1 condolence 6B Sono

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)ローアドレスデコーダからの信号に応答してオン
・オフするメモリセル選択ゲートに接続されるワード線
と、前記ワード線と交差するビット線と、前記ビット線
とワード線とに接続されるメモリセルとを備える半導体
記憶装置であつて、前記半導体記憶装置は前記ビット線
上のデータ読出後に、“H”レベルのビット線電位を十
分高くするためのビット線電位リチャージサイクルを有
しており、 前記ビット線電位リチャージサイクル期間の間、非選択
ワード線のみに対し負方向の電位変化を与えるバイアス
手段を備える半導体記憶装置。(2)前記バイアス手段
は、前記ワード線の各々に接続されるMOSトランジス
タからなる容量である、特許請求の範囲第1項記載の半
導体記憶装置。 (3)前記容量を構成するMOSトランジスタは、エン
ハンスメント型nチャネルMOSトランジスタであり、
その2つの導通端子が互いに接続されかつワード線に接
続され、そのゲートに前記ビット線電位リチャージサイ
クル期間中は正電位から接地電位に変化するクロック信
号を制御信号として受ける、特許請求の範囲第2項記載
の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] (1) A word line connected to a memory cell selection gate that turns on and off in response to a signal from a row address decoder, a bit line that intersects the word line, and a word line that intersects the word line and the word line. A semiconductor memory device comprising a memory cell connected to a line, wherein the semiconductor memory device performs a bit line potential recharge cycle to make the bit line potential at "H" level sufficiently high after reading data on the bit line. A semiconductor memory device comprising: bias means for applying a negative potential change to only unselected word lines during the bit line potential recharge cycle period. (2) The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the bias means is a capacitor formed of a MOS transistor connected to each of the word lines. (3) The MOS transistor constituting the capacitor is an enhancement type n-channel MOS transistor,
Claim 2, wherein the two conductive terminals are connected to each other and to the word line, and the gate thereof receives as a control signal a clock signal that changes from a positive potential to a ground potential during the bit line potential recharge cycle. The semiconductor storage device described in 1.
JP60153452A 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor memory device Pending JPS6212996A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60153452A JPS6212996A (en) 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60153452A JPS6212996A (en) 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor memory device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6212996A true JPS6212996A (en) 1987-01-21

Family

ID=15562864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60153452A Pending JPS6212996A (en) 1985-07-10 1985-07-10 Semiconductor memory device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6212996A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5113374A (en) * 1989-08-30 1992-05-12 Nec Corporation Mos type semiconductor memory device having a word line resetting circuit
US5161121A (en) * 1988-06-27 1992-11-03 Oki Electric Industry Co., Ltd. Random access memory including word line clamping circuits
KR100286468B1 (en) * 1996-09-12 2001-07-12 포만 제프리 엘 Method to enhance soi sram cell stability
US6724664B2 (en) 1999-06-01 2004-04-20 Nec Electronics Corporation Low-amplitude driver circuit

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5161121A (en) * 1988-06-27 1992-11-03 Oki Electric Industry Co., Ltd. Random access memory including word line clamping circuits
US5113374A (en) * 1989-08-30 1992-05-12 Nec Corporation Mos type semiconductor memory device having a word line resetting circuit
KR100286468B1 (en) * 1996-09-12 2001-07-12 포만 제프리 엘 Method to enhance soi sram cell stability
US6724664B2 (en) 1999-06-01 2004-04-20 Nec Electronics Corporation Low-amplitude driver circuit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100377421B1 (en) Semiconductor memory device with precharge voltage correction circuit
US8300446B2 (en) Ferroelectric random access memory with single plate line pulse during read
US6288950B1 (en) Semiconductor memory device capable of generating offset voltage independent of bit line voltage
JP3373534B2 (en) Semiconductor storage device
US5602784A (en) Power consumption reducing circuit having word-line resetting ability regulating transistors
JPH0366757B2 (en)
JPS6212997A (en) Semiconductor memory device
US5768204A (en) Semiconductor memory device having dummy word lines and method for controlling the same
JP3112685B2 (en) Semiconductor memory device
JPH1116377A (en) Ferroelectric memory device
JPH0522316B2 (en)
JPS6212996A (en) Semiconductor memory device
US4734890A (en) Dynamic RAM having full-sized dummy cell
JPH06176572A (en) Semiconductor memory device
JP3568876B2 (en) Integrated memory and method of operation for memory
US6430091B2 (en) Semiconductor memory device having reduced current consumption at internal boosted potential
JP3238806B2 (en) Semiconductor storage device
JPH0510756B2 (en)
JPH0748318B2 (en) Semiconductor memory circuit and test method thereof
JP4223078B2 (en) Dynamic random access memory
JPH04358393A (en) Semiconductor memory device
JP2543058B2 (en) Semiconductor memory device
JPS6226115B2 (en)
JPS6196593A (en) Dynamic-type ram
JPS6257245A (en) Semiconductor memory cell