JPS62100806A - Producing device for sequence control program of batch production process - Google Patents

Producing device for sequence control program of batch production process

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JPS62100806A
JPS62100806A JP24085685A JP24085685A JPS62100806A JP S62100806 A JPS62100806 A JP S62100806A JP 24085685 A JP24085685 A JP 24085685A JP 24085685 A JP24085685 A JP 24085685A JP S62100806 A JPS62100806 A JP S62100806A
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JP
Japan
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equipment
control
parameter
general
module
Prior art date
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Pending
Application number
JP24085685A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masachika Hirayama
平山 正近
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS62100806A publication Critical patent/JPS62100806A/en
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Abstract

PURPOSE:To attain easy production of a sequence control program for a batch production process with reduced errors despite the complicated universal production facilities, by providing a production mechanism for the sequence control programs of plural similar processes. CONSTITUTION:A designated module is selected 63 out of a standard program group 60 before production of a control module for a universal process based on a signal A designating 62 modules. Then a designated module parameter is selected 65 out of an equipment parameter/numerical parameter group 61 and the equipment corresponding to each treatment process is selected by a selection mechanism 72 according to the signal of a treatment process start/end point designating mechanism 71 as well as the universal production facilities information 67. Then the relation is secured between both contents of mechanisms 72 and 65 by the signal of a numerical parameter designating mechanism 75. While the correspondence is secured between the parameter of a designated module and the equipment by means of a correspondence securing mechanism 74. The correspondence is secured between the contents of both mechanisms 74 and 63 by a program production mechanism. Thus a specific specification program is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は薬品、染料、食品又はこれらの中間体等の多品
種少量生産設備又は化学分野以外の電子部品、機械など
の1准設備のバッチプロセスのシーケンス制御に係り、
より詳しくは前記多品種少量生産設備のバッチプロセス
のコンピュータによるシーケンス制御、特にコンピュー
タによる制御を可能ならしめるためのシーケンス制御プ
ログラムの生成装置に係る。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention is applicable to high-mix, low-volume production equipment for drugs, dyes, foods, or their intermediates, or batch production equipment for electronic parts, machinery, etc. other than in the chemical field. Regarding process sequence control,
More specifically, the present invention relates to computer-based sequence control of the batch process of the high-mix, low-volume production equipment, and particularly to a sequence control program generation device for enabling computer-based control.

この発明は、また特開昭59−125403の「バッチ
プロセスのシーケンス制御方法」の計算機プログラムの
生成装置に関する。
The present invention also relates to a computer program generation device for "Sequence control method for batch process" of Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-125403.

[従来技術] 特開昭59−125403のバッチプロセス制御方法は
、薬品、染料、食品又はこれらの中間体等の多品種少量
生産設備の製造プロセスを計算機で制御する汎用性のプ
ログラムによるシーケンス制御であって、製品の製造を
最小の仕事単位である工程シーケンスを設け、この工程
シーケンスを複数個組み合せて反応や洗滌などのユニッ
トプロセスを行2)せるブロックを作り、これらのブロ
ックを時系列的に経由することによって製品が製造され
るように構成され、しかも上記の工程シーケンスが実行
される際、その先頭でその工程シーケンスが制御する機
器の状態を初期化することと、機器を指定するための記
号及び機器の動作条件を指定する数値にパラメータを用
いてそのパラメータを指定することにより色々な実動作
に対応できるようにしたものである。
[Prior Art] The batch process control method disclosed in JP-A-59-125403 is a sequence control method using a general-purpose program that uses a computer to control the manufacturing process of a high-mix, low-volume production facility for drugs, dyes, foods, or their intermediates. Therefore, we create a process sequence that is the smallest work unit for manufacturing a product, create blocks that perform unit processes such as reactions and washing by combining multiple process sequences, and organize these blocks in chronological order. When the above process sequence is executed, the state of the equipment controlled by the process sequence is initialized at the beginning, and the process for specifying the equipment is performed. By using parameters for the symbols and numerical values that specify the operating conditions of the equipment, it is possible to correspond to various actual operations by specifying the parameters.

上記のプロ′セス制御のプログラムの作製は】二ンジニ
アリングフローダイヤグラム(EFD)または配管封装
ダイヤグラム(P&ID)と製造手順占より入手により
作製しているが、E F DやP&IDとの機器番号(
T agN o、 )との照合や記録など繁雑で誤謬が
起りやすい。
The above process control program was created by obtaining engineering flow diagrams (EFDs) or piping and packaging diagrams (P&IDs) and manufacturing procedure information.
The checking and recording of tag numbers (TagNo, ) is complicated and errors are likely to occur.

しかし最近はEFDまたはP&IDの作製をま1算機で
行う方法が一般化してきている。
However, recently it has become common to manufacture EFDs or P&IDs using a single computer.

し発明が解決しようとする問題点] 本発明は前記した点に鑑みなされたものであり、その目
的とするところは、薬品、染料2食品又はその中間体等
の多品種少量生産設備又は化学分野以外の電子部品、機
械などの生産設備のバッチプロセスのシーケンス制御プ
ログラムを容易に且つ誤りの虞れが少なく生成し得る多
品種少量生産設備による薬品、染料1食品又はその中間
体等のバッチ生産プロセスのシーケンス制御プログラム
生成装置を提供することにある。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the above-mentioned points, and its purpose is to provide equipment for producing high-mix, low-volume products such as drugs, dyes, 2 foods, or intermediates thereof, or in the chemical field. A batch production process for chemicals, dyes, foods, or their intermediates, etc., using high-mix, low-volume production equipment that can easily generate batch process sequence control programs for production equipment such as electronic parts and machinery, etc., with less risk of error. An object of the present invention is to provide a sequence control program generation device.

[問題点を解決するための手段] 本発明によれば、前記した目的は、 バッチ生産用の汎用設備を構成する機器及び該機器間の
配管接続情報を記憶している第一の記憶機構と、 バッチ生産プロセスを構成する複数の工程のうち一組の
同種の別の機器間で同書の別の被処理物に対して施され
る類似の処理に対して共通であり、前記一組の同種の別
の機器間に位置する少なくとも一種類の同種の別の機器
に対する制御条件を規定している前記複数の類似工程の
シーケンス制御用の被生成汎用モジュールを記憶してい
る第二の記憶機構と、 前記複数の類似工程の夫々に対応する前記一組の機器を
指定する指定刷構と、 前記指定機構によって指定された前記一組の機器情報、
並びに前記第一の記憶機構に記憶されているバッチ生産
用の汎用設備を構成する機器及び該機器間の配管接続情
報に基づいて、指定された前記一組の機器間に位置する
前記少なくとも一種類の機器をバッチ生産用の前記汎用
設備を構成する特定の機器に対応づけることによって、
第二の記憶機構に記憶された前記複数の類似工程のシー
ケンス制御用の被生成汎用モジュールから前記複数の類
似工程のうちの特定の工程のシーケンス制御用のプログ
ラムを生成するための生成機構とを有するバッチ生産プ
ロセスのシーケンス制御プログラム生成装置によって達
成される。
[Means for Solving the Problems] According to the present invention, the above-mentioned object is as follows: A first storage mechanism that stores equipment constituting general-purpose equipment for batch production and piping connection information between the equipment; , is common to similar processing performed on different workpieces in the same book between a set of different equipment of the same type among a plurality of processes constituting a batch production process, and a second storage mechanism that stores a generated general-purpose module for sequence control of the plurality of similar processes that defines control conditions for at least one other device of the same type located between the other devices; , a designated printing mechanism that specifies the set of equipment corresponding to each of the plurality of similar processes; information on the set of equipment specified by the designation mechanism;
and the at least one type of equipment located between the specified set of equipment based on the equipment constituting the general-purpose equipment for batch production and the piping connection information between the equipment stored in the first storage mechanism. By associating the equipment with specific equipment constituting the general-purpose equipment for batch production,
a generation mechanism for generating a program for sequence control of a specific process among the plurality of similar processes from a generated general-purpose module for sequence control of the plurality of similar processes stored in a second storage mechanism; This is achieved by a sequence control program generation device for batch production process.

[作用及び効果] 本発明によるバッチ生産プロセスのシーケンス制御プロ
グラム生成装置では、 バッチ生産用の汎用設備を構成する機器及び該機器間の
配管接続情報を記憶している第一の記憶機構と、 バッチ生産プロセスを構成する複数の工程のうち一組の
同種の別の機器間で同種の別の被処理物に対して施され
る類似の処理に対して共通であり、前記一組の同種の別
の機器間に位置す・る少なくとも一種類の同種の別の機
器に対する制御条件を規定している前記複数の類似工程
のシーケンス制御用の被生成汎用モジュールを記憶して
いる第二の記憶機構と、 前記複数の類似工程の夫々の前記一組の機器を指定する
指定機構と、 前記指定機構によって指定された前記一組の機器情報、
並びに前記第一の記憶機構に記憶されているバッチ生産
用の汎用設備を構成する機器及び該機器間の配管接続情
報に基づいて、指定された前記一組の機器間に位置する
前記少なくとも一種類の機器をバッチ生産用の前記汎用
設備を構成する特定の機器に対応づけることによって、
第二の記憶機構に記憶された前記複数の類似工程のシー
ケンス制御用の被生成汎用モジュールから前記複数の類
似工程のうちの特定の工程のシーケンス制御用のプログ
ラムを生成するための生成機構とが設けられているため
に、 指定i構によって前記fi数の類似工程の夫々の前記一
組の機器を指定機構を介して指定し、必要ならば(被生
成汎用モジュールが複数種類ある場合)被生成汎用モジ
ュールの種類を特定することにより、汎用生産設備が複
雑な場合でも容易且つ誤りの虞れが少なく、バッチ生産
プロセスのシーケンス制御プログラムが生成され得る。
[Operations and Effects] The sequence control program generation device for a batch production process according to the present invention includes: a first storage mechanism that stores equipment constituting general-purpose equipment for batch production and piping connection information between the equipment; It is common to a similar process performed on another workpiece of the same type between a set of different equipment of the same type among a plurality of processes constituting a production process, and a second storage mechanism that stores a generated general-purpose module for sequence control of the plurality of similar processes that defines control conditions for at least one other device of the same type located between the devices; , a designation mechanism that designates the set of equipment for each of the plurality of similar processes; information on the set of equipment specified by the designation mechanism;
and the at least one type of equipment located between the specified set of equipment based on the equipment constituting the general-purpose equipment for batch production and the piping connection information between the equipment stored in the first storage mechanism. By associating the equipment with specific equipment constituting the general-purpose equipment for batch production,
a generation mechanism for generating a program for sequence control of a specific process among the plurality of similar processes from a generated general-purpose module for sequence control of the plurality of similar processes stored in a second storage mechanism; Therefore, the set of devices for each of the fi number of similar processes is specified via the specification mechanism, and if necessary (if there are multiple types of general-purpose modules to be generated), By specifying the type of general-purpose module, a sequence control program for a batch production process can be generated easily and with less risk of error even when general-purpose production equipment is complex.

次に本発明による好ましい一具体例を図面に基づいて説
明する。
Next, a preferred specific example of the present invention will be explained based on the drawings.

本発明の一員体例では、第1図に図示する如き(汎用)
生産設備1を用いてバッチ生産プロセスにより製品2を
製造する。製品2は薬品、染料又は食品等の最終製品又
はその中間体乃至半製品である。
In one example of the present invention, as shown in FIG. 1 (general purpose)
Product 2 is manufactured using production equipment 1 through a batch production process. The product 2 is a final product such as a drug, dye, or food, or an intermediate or semi-finished product thereof.

設備1においてR1は製品2の生成のための反応を行な
わせる反応槽であり、反応槽R1には槽R1の内容物を
攪拌器3を介して撹拌するためのモータM、槽R1の内
容物の最をその液位又は槽R1の底部での圧力等によっ
て検出する液■検出器LT2、槽R1内の温度Tを検出
する温度の検出器TEと調節器T1Cが設けられている
In the equipment 1, R1 is a reaction tank in which the reaction for producing the product 2 is carried out, and the reaction tank R1 includes a motor M for stirring the contents of the tank R1 via a stirrer 3, and a motor M for stirring the contents of the tank R1. A liquid detector LT2 for detecting the temperature of the liquid by the liquid level or the pressure at the bottom of the tank R1, a temperature detector TE for detecting the temperature T in the tank R1, and a regulator T1C are provided.

4は槽R1の外周に形成された冷媒[3rの溜め部であ
り、検出器TEによって検出されたtEUR1内の温度
Tが所定の温度になるように弁XV4の開度を調節器T
1Cからの制御信号によって調節する。この場合冷媒3
rが、弁XV4の開度によって規定される流ωで配管5
から管6、溜め部4、管7を通って流され、溜め部4を
通る冷媒13rによって槽R1内が冷やされる。
4 is a reservoir of refrigerant [3r formed around the outer periphery of the tank R1, and the opening degree of the valve XV4 is controlled by the regulator T so that the temperature T in tEUR1 detected by the detector TE becomes a predetermined temperature.
Adjusted by control signals from 1C. In this case refrigerant 3
r is the flow ω defined by the opening degree of the valve XV4, and the piping 5
The inside of the tank R1 is cooled by the refrigerant 13r that flows through the pipe 6, the reservoir 4, and the pipe 7, and passes through the reservoir 4.

STIは製品2を製造するための原料△の収容タンクで
あり、原料タンクSTIは配管8、ポンプP1、配管9
、流量検出部10、配管11、弁Xv1、配管12を介
して反応槽R1に接続されている。
STI is a storage tank for raw material △ for manufacturing product 2, and raw material tank STI includes piping 8, pump P1, and piping 9.
, the flow rate detection unit 10, the pipe 11, the valve Xv1, and the pipe 12 are connected to the reaction tank R1.

13は流量計FqC1の流量制御部であり、流量制御部
13は、検出部10を介して検出された原料△の流量が
所定の値になると弁XV1を閉じるべく弁XV1を制御
するように構成されている。LT3は検出部14を介し
て原料タンクSTI内の原料Aの量を検出する検出器で
ある。
Reference numeral 13 denotes a flow rate control unit of the flowmeter FqC1, and the flow rate control unit 13 is configured to control the valve XV1 to close the valve XV1 when the flow rate of the raw material Δ detected via the detection unit 10 reaches a predetermined value. has been done. LT3 is a detector that detects the amount of raw material A in the raw material tank STI via the detection unit 14.

ST2は製品2を製造するための原料Cの収容タンクで
あり、原料タンクST2は配管15、ポンプP2、配管
16、流量検出部17、配管18、弁×V2、配管19
を介して反応槽R1に接続されている。
ST2 is a storage tank for raw material C for manufacturing product 2, and raw material tank ST2 includes piping 15, pump P2, piping 16, flow rate detection section 17, piping 18, valve x V2, and piping 19.
It is connected to reaction tank R1 via.

20は流量計FQC2の流恒制(11部であり、流量制
御部20は、検出器17を介して検出された原料Cの流
量が所定の値になると弁XV2を閉じるべくXV2を制
御するように構成されている。LT4は検出部21を介
して原料タンクST2内の原料Cの聞を検出する検出器
である。
Reference numeral 20 denotes a constant flow control unit (part 11) of the flowmeter FQC2, and the flow rate control unit 20 controls the valve XV2 to close the valve XV2 when the flow rate of the raw material C detected via the detector 17 reaches a predetermined value. LT4 is a detector that detects the amount of raw material C in the raw material tank ST2 via the detection unit 21.

ST3は製品2を製造するための触媒Bの収容タンクで
あり、原料タンクST3は配管22、弁XV3、配管2
3、流量検出部24、配管25を介して反応槽R1に接
続されている。26は、流量計FqC3の流量制御部で
あり、流量制御部26は検出部24を介して検出された
触媒Bの流量が所定の値になると弁XV3を閉じるべく
弁XV3を制御するように構成されている。LTIは検
出部27を介して触媒タンクST3内の触媒液Bの役を
検出する検出器である。
ST3 is a storage tank for catalyst B for manufacturing product 2, and raw material tank ST3 includes pipe 22, valve XV3, and pipe 2.
3. It is connected to the reaction tank R1 via the flow rate detection section 24 and piping 25. 26 is a flow rate control unit of the flowmeter FqC3, and the flow rate control unit 26 is configured to control the valve XV3 to close the valve XV3 when the flow rate of the catalyst B detected via the detection unit 24 reaches a predetermined value. has been done. LTI is a detector that detects the role of the catalyst liquid B in the catalyst tank ST3 via the detection unit 27.

XV5は配管28.29を介する反応槽R1内容物の送
出を制御する弁である。
XV5 is a valve that controls the delivery of the contents of reaction tank R1 via piping 28,29.

PTは製品2を収容するためのタンクであり、製品収容
タンクPTは配管30、弁XV6、配管31.32 、
ポンプP3、配管29、弁XV5、及び配管28を介し
て反応槽R1に接続されている。LT6は検出部33を
介して製品タンクPT内の製品2の量を検出する検出器
である。
PT is a tank for storing the product 2, and the product storage tank PT includes a pipe 30, a valve XV6, pipes 31, 32,
It is connected to the reaction tank R1 via a pump P3, a pipe 29, a valve XV5, and a pipe 28. LT6 is a detector that detects the amount of product 2 in product tank PT via detection section 33.

DTは廃液34を収容するためのタンクであり、廃液収
容タンクDTは、配管35、弁XV7、配管36.32
 、ポンプP3、配管29、弁XV5及び配管28を介
して反応槽R1に接続されている。LT5(よ検出部3
7を介して廃液タンクDT内の廃液34の量を検出する
検出器である。
DT is a tank for accommodating waste liquid 34, and waste liquid storage tank DT includes piping 35, valve XV7, and piping 36.32.
, pump P3, pipe 29, valve XV5, and pipe 28 are connected to reaction tank R1. LT5 (detection section 3
This is a detector that detects the amount of waste liquid 34 in the waste liquid tank DT via 7.

第1図の生産設備1を用いての製品2のバッチ生産のプ
ロセスは第2図の概要フローチャートで示されるように
行なわれる。
The process of batch production of products 2 using production equipment 1 of FIG. 1 is carried out as shown in the schematic flowchart of FIG.

すなわち、最初にブロック38で示されるとおり、原料
へがタンクSTIから反応層R1に送給される原料Aの
仕込が行なわれ、次にブロック39で示されるとおり、
触媒BがタンクST3から反応槽R1に自重によって送
給されることによる触媒Bの仕込が行なわれ、次に冷媒
3rを室4に流すことによって反応槽R1を冷却しつつ
、原料CをタンクST2から反応槽R1に送給する原料
Cの仕込が行なわれ(ブロック40) 、IQ拌蒸器3
反応槽R1の内容物を撹拌しつつ触媒Bの存在下で原料
A、Cの反応を完結させ(ブロック41)、lq拌器3
をとめて、静置することにより、反応槽R1中の反応生
成物を比重の差異に従って上側の製品2と下側の廃液3
4(製品2の比重の方が廃液34の比重よりも小さいと
仮定する)とに分離させ(ブロック42)、静置によっ
て下側に分離された廃液34を反応槽R1から廃液タン
クDTに排出しくブロック43)、廃液34の排出後反
応槽R1に残った製品2を反応槽R1から製品タンクP
Tに送出する(ブロック44)。
That is, first, as shown in block 38, the raw material A is fed from the tank STI to the reaction layer R1, and then, as shown in block 39,
Catalyst B is fed from tank ST3 to reaction tank R1 by its own weight to prepare catalyst B. Next, while cooling reaction tank R1 by flowing refrigerant 3r into chamber 4, raw material C is transferred to tank ST2. The raw material C to be fed to the reaction tank R1 is charged from the IQ stirring steamer 3 (block 40).
The reaction of raw materials A and C is completed in the presence of catalyst B while stirring the contents of reaction tank R1 (block 41), and the lq stirrer 3
The reaction product in the reaction tank R1 is divided into the upper product 2 and the lower waste liquid 3 according to the difference in specific gravity.
4 (assuming that the specific gravity of the product 2 is smaller than the specific gravity of the waste liquid 34) (block 42), and the waste liquid 34 separated to the lower side by standing still is discharged from the reaction tank R1 to the waste liquid tank DT. After discharging the waste liquid 34, the product 2 remaining in the reaction tank R1 is transferred from the reaction tank R1 to the product tank P.
(block 44).

第1図に示した生産設備1を用いて第2図に示したバッ
チ生産プロセスに従って製品2を製造するバッチ処理の
シーケンス制御は、より詳細には、第3図に示す七つの
工程制御シーケンス45,4647、48.49.50
.51によって実現される。ここで、各工程制御シーケ
ンス45.413.47.48.49.50.51は夫
々第2図の七つの処理プロセス38,39,40,41
,42,43゜44に対応している。
Sequence control of batch processing for manufacturing the product 2 according to the batch production process shown in FIG. 2 using the production equipment 1 shown in FIG. ,4647,48.49.50
.. This is realized by 51. Here, each process control sequence 45, 413, 47, 48, 49, 50, 51 corresponds to the seven processing processes 38, 39, 40, 41 in FIG.
, 42, 43°44.

第3図の各工程制御シーケンス45.46.47.48
゜49、50.51中、45a、 46a、 47a、
 48a、 49a、 50a、 51aは、対応する
各工程制御シーケンスの開始と共に後述する初期他出カ
バターン10pのうち特定の初期他出カバターンの設定
を表わす。
Each process control sequence in Figure 3 45.46.47.48
゜49, 50.51, 45a, 46a, 47a,
48a, 49a, 50a, and 51a represent the setting of a specific initial cover turn among the initial cover turns 10p to be described later together with the start of each corresponding process control sequence.

45b、 46b、 47b、 50bは、対応する各
処理工程の処理制御に入る前の初期条件のチェックを表
わし、チェックされ満足されるべき初期条件は第3図中
左側にブロック45c、 46c、 47c、 50c
で示されている。
45b, 46b, 47b, and 50b represent checking of initial conditions before entering the processing control of each corresponding processing step, and the initial conditions to be checked and satisfied are blocks 45c, 46c, 47c, and 45b on the left side in FIG. 50c
It is shown in

チェックされるべきブロックが明示されていない場合、
初期条件チェックは行なわれない。ブロック45d、 
46d、 47d、 48d、 49d、 50d、 
51dは、対応する各処理工程の処理制御を表わし、工
程処理制御ブロック45d、 46d、 47d、 4
8d、 49d、 50d、 51d中、右側のサブブ
ロック45e、 46e、 47’e、 48e、 4
9e、 50e、 51eには各工程処理制御において
制御乃至利用されるポンプ、弁及び流量計等のm器、並
びに液量及び処理時間等のパラメータの値が示されてい
る。
If the block to be checked is not specified,
No initial condition checks are performed. block 45d,
46d, 47d, 48d, 49d, 50d,
51d represents processing control of each corresponding processing step, and process processing control blocks 45d, 46d, 47d, 4
8d, 49d, 50d, 51d, right sub-blocks 45e, 46e, 47'e, 48e, 4
9e, 50e, and 51e show values of m devices such as pumps, valves, and flowmeters that are controlled or utilized in each process control, as well as parameters such as liquid volume and processing time.

52は補助的な処理制御である温度制御としての冷却で
あり、冷却制御52は第3番目及び第4番目の処理制御
段階にわたって、並列的に行なわれる。
Reference numeral 52 indicates cooling as temperature control which is auxiliary processing control, and cooling control 52 is performed in parallel over the third and fourth processing control stages.

冷却制御を表わすブロック52中、右側のサブブロック
52aには冷却処理を行ない温度を40℃に保つことが
示されている。
In the block 52 representing cooling control, the right sub-block 52a indicates that cooling processing is performed to maintain the temperature at 40°C.

53は補助的な処理制御である異常処理制御であり、異
常処理制御53は第3番目から第5番目の処理制御段階
中に侵で詳述づるとおり右側サブブロック53aの上段
の状態゛(反応槽内湯度T≧45℃)になると無条件に
ブロック53aの下段の処1’l! <初期他出カバタ
ーン10pが3の処理)を行なう。
Reference numeral 53 indicates an abnormality processing control which is an auxiliary processing control, and the abnormality processing control 53 controls the upper state of the right sub-block 53a (reaction When the hot water temperature in the tank reaches T≧45℃), the lower part of block 53a is 1'l! <Processing in which the initial other output pattern 10p is 3) is performed.

第3図に示した各処理制御45.46・・・・・・15
1は、第4図に示す如き共通の工程処理制御手順54か
らなる。
Each processing control shown in Fig. 3 45.46...15
1 consists of a common process control procedure 54 as shown in FIG.

すなわち、工程処理制御手順54は、各工程処理制御の
ために初期他出カバターンiopに従って殿器の初期化
を行なう段階54a1各工程処理制御のために必要な初
期条件54cのチェックを行なう段階54b、及び各工
程処理制御を行なう段階54dからなる。
That is, the process control procedure 54 includes a step 54a of initializing the chamber according to the initial output pattern iop for each process control; a step 54b of checking the initial conditions 54c necessary for each process control; and a step 54d of controlling each process.

後で詳述するとおり、工程処理制御54dは処理種類毎
に共通の制御モジュールを用いて行なわれる。
As will be described in detail later, the process control 54d is performed using a common control module for each type of processing.

尚、工程処理制御段階54dでは、必要に応じて並列的
に温度制御等の補助制御2Il処理54■、異常制御処
理54wが行なわれる。異常制御処理54wは異常のモ
ニタリング54×及び異常に対処する処理54Vからな
る。
In the process control stage 54d, an auxiliary control process 542 such as temperature control and an abnormality control process 54w are performed in parallel as required. The abnormality control process 54w consists of abnormality monitoring 54x and abnormality handling processing 54V.

第4図の54aで示した初期他出カバターン10pには
、第1表で示すとおり三種類のパターン(iopl、1
op2.1op3)がある。初期化出力制御の対処とな
るのは、第1表に示されるとおり、液状原料乃至触媒△
、B、C,反応槽R1の内容物、並びに反応生成物とし
ての製品2及び廃液34の移送乃至状態変化を直接的に
行なわせる機器、すなわちポンプP1.P2.P3、弁
XV1.XV2.XV3.XV4.XV5゜XV6.X
V7、モータM(乃至撹拌器3)である。
The initial other cover pattern 10p shown at 54a in FIG. 4 includes three types of patterns (iopl, 1
There are OP2.1OP3). As shown in Table 1, initialization output control deals with liquid raw materials or catalyst △
, B, C, a device that directly transfers or changes the state of the contents of the reaction tank R1, the product 2 as a reaction product, and the waste liquid 34, that is, a pump P1. P2. P3, valve XV1. XV2. XV3. XV4. XV5゜XV6. X
V7, motor M (or stirrer 3).

三種類の初期他出カバターン10pのうち第一のパター
ンr oplはすべての直接的能8機器P1.・・・・
・・、P3.XVI、・・・・・・、XV7゜を非作動
状態に設定すると共に冷却フラグをOに設定するもので
あり、第二のパターンi op2はモータM(IR拌蒸
器3を作動状態に設定する点を除いて第一・のパターン
1oplと同一であり、第三のパターン1op3は冷却
フラグを1にセットしてTlCを作動状態にし、冷!1
XBrで冷却を行なう点を除いて第二のパターンi 0
D2と同一である。
The first pattern ropl of the three types of initial cover patterns 10p is for all direct function 8 devices P1.・・・・・・
..., P3. XVI, . . . , The third pattern 1op3 is the same as the first pattern 1opl except for this point, and the third pattern 1op3 sets the cooling flag to 1 to activate the TLC, and the cold!1
The second pattern i 0 except that cooling is performed with XBr
Same as D2.

工程処理制御手順54では、その最初の段階で初期他出
カバターンiooに従う初期化出力制御を行なわせるこ
とによって実際上はほとんどの直接的能動機器を非作動
状態に設定するようにしているため、各工程処理の順序
にかかわらず共通の乃至類似の工程処理料11154d
を行ない得るのみならず、すべての直接的能動機器を非
作動状態におくパターン1oplに加えてパターンi 
op2及び10p3を有しているため、工程歩進時に歩
進前の状態の脂層が残らず、手動操作の後始末が自動釣
に行なわれ得、また異常処理が簡単に行なわれ得る。
In the process control procedure 54, in practice, most direct active devices are set to a non-operating state by performing initialization output control according to the initial output pattern ioo at the first stage. Common or similar process treatment charges 11154d regardless of the order of process treatment
In addition to pattern 1opl, which not only allows for
Since it has op2 and 10p3, no fat layer remains in the state before the step when the step is advanced, manual operation can be automatically cleaned up, and abnormalities can be easily handled.

工程処理制御段階54dに対応する七つの工程処理制御
45d1・・・・・・、51dのうち反応層R1に対す
る物の仕込という観点で類似の工程処理制御 45d、
46d。
Of the seven process controls 45d1..., 51d corresponding to the process control step 54d, process controls 45d are similar in terms of charging the reaction layer R1,
46d.

47dは、第5図り示す如く被生成汎用モジュールとし
ての共通の仕込制御モジュール55を利用して行なわれ
る。
47d is performed using a common preparation control module 55 as a generated general-purpose module, as shown in the fifth diagram.

仕込制御モジュ、−ル55は、少なくとも一つの同種の
別の機器としての機器パラメータPR1で示されるポン
プの作動開始制御段階55a1少なくとも一つの同種の
別の1!!器としての機器パラメータP F< 2 ’
r示される弁の作動開始(以下では弁の開放を指プ)制
御段階55b、少なくとも一つの同種の別の機器として
の機器パラメータPR3で示す流量計の積算流量(指示
値)がパラメータPR4で示す所定の値に達したかどう
かをチェックする段1i55c、パラメータPR3の指
示値≧パラメータ[〕k4が満足されると機器パラメー
タPR2で示される弁の作動を終了させる(以下では弁
を閉出することを指す)制御段階55d、及び機器パラ
メータPR1で示されるポンプの作動終了(停止)制御
段階55eからなる。段階55a、 55bの順序、段
階55d、 55cの順序は逆でもよい。
The charging control module 55 controls the operation start control step 55a1 of the pump indicated by the equipment parameter PR1 as at least one other equipment of the same kind! ! Equipment parameters P F <2'
Control step 55b: Start of operation of the valve indicated by r (hereinafter, the opening of the valve is indicated), and the integrated flow rate (indication value) of the flow meter indicated by the device parameter PR3 as at least one other device of the same type is indicated by the parameter PR4. Step 1i55c to check whether a predetermined value has been reached, and when the indicated value of parameter PR3 ≧ parameter [ ] k4 is satisfied, the operation of the valve indicated by device parameter PR2 is terminated (hereinafter, the valve is closed) 55d), and a pump operation termination (stop) control stage 55e indicated by device parameter PR1. The order of steps 55a, 55b and steps 55d, 55c may be reversed.

ただし、仕込制御モジュール55において、機器バラメ
ークとして特定の機器が指定されていない場合当該大器
パラメータに係る制御段階は無視されて次の制御段階に
移る。
However, in the preparation control module 55, if a specific device is not specified as the device parameter make, the control step related to the large device parameter is ignored and the process moves to the next control step.

この汎用の仕込制御モジュール55が原料Aの仕込制御
145dに用いられる場合、一組の同種の別の機器のう
ちの一組の機器としての原料Aの収容タンクSTIと反
応槽R1とを接続する配管8,9゜11.12間に位置
するポンプP1が機器パラメータPR1として、弁XV
1が81器パラメータPR2として、流m計FQC1が
機器パラメータPR3として指定され、且つ例えばリッ
トル単位の積算流量パラメータPR4として例えば50
0が指定される。
When this general-purpose preparation control module 55 is used for the preparation control 145d of raw material A, it connects the storage tank STI of raw material A, which is one set of other equipment of the same type, and the reaction tank R1. Pump P1 located between piping 8, 9° 11.12 has valve XV as equipment parameter PR1.
1 is specified as the 81 device parameter PR2, the flow meter FQC1 is specified as the device parameter PR3, and, for example, 50 is specified as the integrated flow rate parameter PR4 in liters.
0 is specified.

同様に、汎用仕込制御モジュール55が原料Aの仕込制
御45dの類似工程である原料Cの仕込制御47dに用
いられる場合、一組の同種の別の機器のうちの一組の機
器としての原料Cの収容タンクST2と反応槽R1とを
接続する配管15.16.18゜19間に位置するポン
プP2が機器パラメータPR1として、弁XV2が機器
パラメータPR2として、流量ffi’ F CI C
2が機器パラメータPR3として指定され、且つ例えば
リットル単位の積算流量パラメータPR4として 30
0が指定される。
Similarly, when the general-purpose preparation control module 55 is used for the preparation control 47d of the raw material C, which is a similar process to the preparation control 45d of the raw material A, the raw material C is The pump P2 located between the pipes 15, 16, 18 and 19 connecting the storage tank ST2 and the reaction tank R1 has the equipment parameter PR1, and the valve XV2 has the equipment parameter PR2, and the flow rate ffi' F CI C
2 is specified as the device parameter PR3, and for example, as the cumulative flow rate parameter PR4 in liters.
0 is specified.

一方、汎用仕込制御モジュール55が触媒Bの仕込制御
46dに用いられる場合、一組の同種の別の機器のうち
の一組の機器としての触媒Bの収容タンクST3と反応
槽R1とを接続する配管22゜23、25間に位置する
弁XV3が機器パラメータPR2として、流量計FqC
3が機器パラメータPR3として指定され、且つ例えば
リットル単位の積算流量パラメータPR4として20が
指定される。この例の場合には、触媒BはタンクST3
から反応槽R1に自重によって送給されポンプが用いら
れていない故、機器パラメータPR1に対応するIa器
は指定されず、仕込制御モジュール55中、制御処理段
階55a、 55eでは機器制御が行なわれることなく
次の制御処理段階の処理が行なわれる。
On the other hand, when the general-purpose preparation control module 55 is used for the preparation control 46d of the catalyst B, the storage tank ST3 of the catalyst B, which is one set of equipment among a set of other equipment of the same type, and the reaction tank R1 are connected. The valve XV3 located between the pipes 22, 23 and 25 is connected to the flowmeter FqC as the equipment parameter PR2.
3 is designated as the device parameter PR3, and 20 is designated as the cumulative flow rate parameter PR4 in liters, for example. In this example, catalyst B is in tank ST3
Since the reactor R1 is fed by its own weight and no pump is used, the Ia device corresponding to the device parameter PR1 is not specified, and device control is performed in the control processing stages 55a and 55e in the preparation control module 55. The next control processing step is then executed.

工程処理制御段階54dに対応する七つの工程処理制御
のうち、反応槽R1への原料乃至触媒等のものの送給も
、反応槽R1からの製品乃至廃液等のものの送出も行な
わないという反応槽R1の静置の観点で共通の工程処即
制@ 48d、 49dは、第6図に示す共通の静置制
御モジュール56を利用して行なわれる。
Among the seven process control steps corresponding to the process control step 54d, the reaction tank R1 does not perform feeding of raw materials, catalysts, etc. to the reaction tank R1, nor delivery of products, waste liquid, etc. from the reaction tank R1. Immediate control @ 48d, 49d, which is common from the standpoint of standing still, is performed using a common standing control module 56 shown in FIG.

静置制御モジュール56は、待ち時間乃至保持時間を示
すパラメータPR1で示される時間の間保持状態を保つ
段階56aからなる。
The stationary control module 56 comprises a stage 56a for maintaining a holding state for a time indicated by a parameter PR1 indicating a waiting or holding time.

この汎用の静置制御モジュール56が触媒Bの存在下で
の原料△、C間の反応制御48dに用いられる場合、例
えば分単位での保持時間を示すパラメータPR1として
例えば60が指定される。反応制御段階48dとして汎
用静置制御モジュール56が利用され得るのは、モータ
Mによる撹拌器3の作動が工程処理制御段階54dから
分離された初期化出力制鉗段階54aで制御されるよう
にしているためである。
When this general-purpose stationary control module 56 is used for reaction control 48d between raw materials Δ and C in the presence of catalyst B, for example, 60 is specified as the parameter PR1 indicating the holding time in minutes. The general-purpose stationary control module 56 can be utilized as the reaction control stage 48d in such a way that the operation of the stirrer 3 by the motor M is controlled in the initialization output control stage 54a, which is separate from the process control stage 54d. This is because there is.

汎用静置制御モジュール56が反応物の比重の差異によ
る分離のための静149dに用いられる場合、例えば、
分単位での保持時間を示すパラメータPR1どして60
が指定される。
When the general-purpose stationary control module 56 is used in the stationary station 149d for separation based on differences in specific gravity of reactants, for example,
Parameter PR1 indicating retention time in minutes 60
is specified.

工程処理制御段階54dに対応する七つの工程処理制御
45d、・・・・・・、51dのうち反応槽R1からの
ものの移送乃至送出という観点で共通の工程処理制御5
0d、51dは被生成汎用モジュールとしての第7図に
示す共通の移送制御モジュール57を利用して行なわれ
る。
Among the seven process controls 45d, .
0d and 51d are performed using a common transfer control module 57 shown in FIG. 7 as a generated general-purpose module.

移送制御モジュール57は、機器パラメータPR1で示
される弁の作動開始制御段階57a、機器パラメータP
R2で示される別の弁の作動開始制御段階57b 、 
様器パラメータPR3で示されるポンプの作動開始制御
段階57C,機器パラメータP1で4で示される液量計
の液吊値がパラメータPR5で示す所定の値に達したか
どうかをチェックする段階57d1パラメータPR4の
指示値≦PR5が満足されると機器パラメータPR1で
示される弁の作動を終了させる制御段階57e 、 @
器パラメータPR2で示される別の弁の作vJを終了さ
せる制御段階57f1及び機器パラメータPR3で示さ
れるポンプのfl動終了制御段階571Jからなる。
The transfer control module 57 performs a valve operation start control step 57a indicated by a device parameter PR1, a device parameter P
another valve activation control step 57b designated R2;
Step 57C of controlling the start of operation of the pump indicated by device parameter PR3, Step 57C of checking whether the liquid level value of the liquid meter indicated by 4 in device parameter P1 has reached a predetermined value indicated by parameter PR5 57d1 Parameter PR4 A control step 57e that terminates the operation of the valve indicated by the device parameter PR1 when the indicated value ≦PR5 is satisfied, @
It consists of a control step 57f1 for terminating the operation vJ of another valve indicated by device parameter PR2, and a control step 571J for terminating pump fl operation indicated by device parameter PR3.

この汎用の移送制御モジュール57が廃液34の移送乃
至排出制御1150dに用いられる場合、反応槽R1と
廃液タンクDTとを接続する配管28,29゜32、3
6.35間に位置する弁×5が機器パラメータPR1と
して、別の弁XV7が機器パラメータPR2として、ポ
ンプP3が機器パラメータPR3として指定され、また
液体が移送されるべき反応槽R1の液量を示す液m R
t L T 2が筬器パラメ−タPR4として指定され
、更に例えば体積(又は重ω)パーセント単位で反応槽
R1中の液量を示す液量パラメータPR5として例えば
30が指定される。
When this general-purpose transfer control module 57 is used for the transfer or discharge control 1150d of the waste liquid 34, the pipes 28, 29, 32, 3 connecting the reaction tank R1 and the waste liquid tank DT are
The valve x5 located between 6.35 and 35 is designated as the device parameter PR1, another valve XV7 as the device parameter PR2, pump P3 as the device parameter PR3, and the liquid volume of the reaction tank R1 to which the liquid is to be transferred is specified. Indicating liquid m R
t L T 2 is specified as the reed parameter PR4, and further, for example, 30 is specified as the liquid amount parameter PR5 indicating the amount of liquid in the reaction tank R1 in units of volume (or weight ω) percent.

同様に、汎用移送制御モジュール57が製品2の移送乃
至取出制御に用いられる場合、反応槽R1と製品タンク
PTとを接続する配管28.29.32.31 。
Similarly, when the general-purpose transfer control module 57 is used to control the transfer or removal of the product 2, the pipes 28, 29, 32, and 31 connect the reaction tank R1 and the product tank PT.

30間に位置する弁XV5が機器パラメータPR1とし
て、別の弁XV6が機器パラメータPR2としてポンプ
P3が機器パラメータPR3として指定され、また液体
が移送されるべき反応槽R1の液量を示す液量計LT2
が機器パラメータPR4として指定され、更に例えばパ
ーセント単位で反応槽R1中の液量を示す液量パラメー
タPR5として例えばOが指定される。
A valve XV5 located between 30 and 30 is designated as equipment parameter PR1, another valve XV6 as equipment parameter PR2, a pump P3 as equipment parameter PR3, and a liquid flow meter indicating the liquid volume in reaction tank R1 to which the liquid is to be transferred. LT2
is specified as the device parameter PR4, and further, for example, O is specified as the liquid amount parameter PR5 indicating the liquid amount in the reaction tank R1 in percent units.

尚、工程処理制御段階54dに並列的に行なわれる補助
的な工程処理制御段階54vである冷却制御は第8図に
おいて符号58で示す如き段階58a、58b。
Note that the cooling control, which is an auxiliary process control step 54v that is performed in parallel to the process control step 54d, is performed in steps 58a and 58b as shown by reference numeral 58 in FIG.

58c、58dからなる。この冷却制御は常時実行され
ている。
It consists of 58c and 58d. This cooling control is constantly executed.

冷却制御段階58中、段階58aは、たっている冷却フ
ラグの状態を判定する段階であり、冷却フラグOがたっ
ている場合ブロック58dで示されるようにDDCルー
プ(フィードバック制御ループ)のTlCの作動解除(
OFF>を行ない、バルブXV4の開度を0%とする。
During the cooling control step 58, step 58a is a step of determining the state of the turned-on cooling flag, and if the cooling flag O is turned on, the TLC of the DDC loop (feedback control loop) is deactivated (as indicated by block 58d).
OFF> to set the opening degree of valve XV4 to 0%.

冷却フラグ1がたっている場合、ブロック58bで示さ
れるようにDDCループのTlCの作動制御n(ON>
を行なわせ、更にブロック58cで示されるように当該
ループの設定値を与える。
If the cooling flag 1 is on, the DDC loop TLC operation control n(ON>
and provides the settings for the loop as shown in block 58c.

第5図乃至第7図に示された汎用の工程処理制御モジュ
ール55.56.57を利用した七つの工程処理制御手
順45.・・・・・・、51の生成は以下のようにして
行なわれる。
Seven process control procedures 45. using the general purpose process control modules 55, 56, 57 shown in FIGS. 5-7. ..., 51 is generated as follows.

まず、汎用仕込制御モジュール55を利用して原事1A
の仕込制御プログラム45dを生成する場合を例にとっ
て、第9図のシーケンス制御モジュールプログラム生成
装置59について詳述する。
First, using the general-purpose preparation control module 55, the original 1A
The sequence control module program generation device 59 in FIG. 9 will be described in detail, taking as an example the case of generating the preparation control program 45d.

第9図のプログラム生成装置59において、60は汎用
の工程処理制御モジュール55,56.57すなわち生
成前の汎用の標準プログラム群であり、これらは第二の
記憶機構としての例えば、磁気ディスク等の大容量の周
辺記憶装置に格納されている。
In the program generation device 59 in FIG. 9, 60 is a general-purpose process control module 55, 56, 57, that is, a group of general-purpose standard programs before generation, and these are stored in a second storage device such as a magnetic disk. Stored in large-capacity peripheral storage.

61は各汎用工程処理制御モジュール55,56.57
の夫々に対応して規定されるべき機器パラメータ乃至数
値パラメータPR1,・・・・・・に関する情報であり
、各汎用工程制御モジュール55.56.57と共に周
辺記憶装置に格納されている。
61 is each general-purpose process processing control module 55, 56, 57
This is information regarding equipment parameters to numerical parameters PR1, .

62は特定の工程処理料@45d、・・・・・・150
d又は51dに対応する汎用工程処理制御モジュール5
5.56又は57の指定機構、例えば原料への仕込制御
2I145dに対応づる汎用仕込制御モジュール55の
指定Raであり、例えばコンソールのキーボードのキー
からなる。
62 is a specific process treatment fee @45d,...150
General-purpose process control module 5 corresponding to d or 51d
5.56 or 57, for example, the designation Ra of the general-purpose preparation control module 55 corresponding to the material preparation control 2I 145d, and consists of, for example, a key on the keyboard of the console.

63は複数の汎用工程処理制御モジュール60(55゜
56、57)から指定R構62で指定された特定の汎用
工程処理制御モジュール、例えば仕込モジュール55を
取り出して主記憶等の記憶装置64に記憶させる指定モ
ジュール選択機構である。
63 extracts a specific general-purpose process control module, for example, the preparation module 55, specified by the designated R structure 62 from the plurality of general-purpose process control modules 60 (55° 56, 57) and stores it in a storage device 64 such as a main memory. This is a designated module selection mechanism.

65は複数の汎用工程処理制御モジュール60(55゜
56、57)の夫々に係るモジュールパラメータPR1
゜・・・・・・から指定機構62ゴ指定された特定の汎
用工程制御モジュール、例えば仕込モジュール55に係
るモジュールパラメータPR1,・・・・・・、PR4
を取り出して主記憶等の記憶装置66に記憶させる指定
モジュールパラメータ選択機構である。
Reference numeral 65 indicates a module parameter PR1 for each of the plurality of general-purpose process control modules 60 (55°56, 57).
゜...Module parameters PR1, .
This is a designated module parameter selection mechanism that extracts the specified module parameter and stores it in the storage device 66 such as the main memory.

67は製品2の製造に利用される生産設備(これは第1
図に示したタンク、配管系統、反応槽以外の他のタンク
、配管系統、反応槽等を含んでいてもよい)を構成する
タンク、反応槽及びこれらに関連づけられた液量計等の
機器、並びにポンプ、弁、流量計及びこれらに接続され
た配管系統に関する情報であり、これらの情報は、第一
の記憶機構としての磁気ディスク等の大容量の周辺記憶
装置に格納されている。
67 is the production equipment used to manufacture product 2 (this is the first
Tanks, reaction vessels, and equipment such as liquid volume meters associated with these (may include tanks, piping systems, reaction vessels, etc. other than the tanks, piping systems, and reaction vessels shown in the figure), and information regarding pumps, valves, flowmeters, and piping systems connected to these, and this information is stored in a large-capacity peripheral storage device such as a magnetic disk as a first storage mechanism.

尚汎用生産設備情報67は、例えばCAD(Compu
ter −A 1ded  D esign)用の情報
としてCADシステムの読出制tini構68によって
例えばディスプレイ69に第1図に示す機器配置が画像
情報として表示されるようにしておくのが好ましい。
Note that the general-purpose production equipment information 67 includes, for example, CAD (Computer
It is preferable that the equipment arrangement shown in FIG. 1 be displayed as image information on the display 69, for example, by the readout system 68 of the CAD system.

70は表示制御機構である。70 is a display control mechanism.

71は各工程処理に係る始点及び終点の装置の指定機構
であり、指定機M471は62で指定された工程制御モ
ジュール、例えば仕込制御モジュール55が原料への仕
込に係る原料タンクST1 (仕込処理の始点の装置)
から反応槽R1(仕込処理の終点の装置〉への処理に対
して適用されることを指定するように構成されており、
例えばコンソールのキーボードのキーからなる。この装
置の指定機構71は、汎用工程υ1111モジュールが
仕込55又は移送57の場合に用いられる。静置56に
係る場合、反応槽が一つならば指定しなくてもよいが、
汎用設備に反応槽が複数ある場合、始点及び終点のいず
れか一方又は両方で反応)WRlを指定するようにして
もよい。
Reference numeral 71 is a designation mechanism for the start point and end point devices related to each process process, and the designation machine M471 is a designation mechanism for the start point and end point devices related to each process process, and the designation machine M471 is a designation mechanism for the process control module specified by 62, for example, the preparation control module 55, which is used to specify the raw material tank ST1 (preparation process starting point device)
It is configured to specify that it is applied to the process from to the reaction tank R1 (the device at the end of the preparation process),
For example, it consists of keys on a console keyboard. The designation mechanism 71 of this device is used when the general-purpose process υ1111 module is the preparation 55 or the transfer 57. In the case of static standing 56, if there is only one reaction tank, there is no need to specify it, but
When a general-purpose facility has a plurality of reaction tanks, the reaction) WRl may be specified at either or both of the starting point and the ending point.

CADシステムによってディスプレイ69に表示された
設備機器に対応するディスプレイ6つの表示画面上の場
所をライトペン等で特定乃至指定できるようにしておく
場合、指定機構71はライトペンからなっていてもよく
、仕込が原料Aに係ることを、ライトペン11によって
例えばディスプレイ69の表元画面上のタンクST1を
押えて始点を指定し、ディスプレイ69の表示画面上の
反応槽R1を押えて終点を指定するようにしてもよい。
When the location on the six display screens corresponding to the equipment displayed on the display 69 by the CAD system can be specified or specified using a light pen or the like, the specifying mechanism 71 may include a light pen, To indicate that the preparation is related to raw material A, use the light pen 11 to, for example, press tank ST1 on the front screen of display 69 to specify the starting point, and press reaction tank R1 on the display screen of display 69 to specify the end point. You can also do this.

72は装置指定機構71で指定された始点装置及び終点
装置間にある配管系統に関連づけられた機器の選択機構
であり、 例えば装置指定機構71で始点袋はとして原料△収容タ
ンクST1が指定され、終点装置として反応槽R1が指
定された場合、関連機器選択機構72は、記憶装置に格
納された汎用生産設備情報67h)らタンクSTI及び
反応槽R1間の配管系統8゜9、11.12に関連づけ
られた機器、液量計LT3、ポンプP1、弁x■1、流
量計FqC1、液量計LT2を選択して、機器名情報を
夫々の機器の種類毎に主記憶等の記憶装置73に格納す
る。
72 is a selection mechanism for equipment associated with the piping system between the starting point device and the ending point device specified by the device specifying mechanism 71; for example, the device specifying mechanism 71 specifies the raw material △ storage tank ST1 as the starting point bag; When the reaction tank R1 is specified as the end point device, the related equipment selection mechanism 72 selects the piping system 8゜9, 11.12 between the tank STI and the reaction tank R1 from the general-purpose production equipment information 67h) stored in the storage device. Select the associated devices, liquid meter LT3, pump P1, valve x1, flow meter FqC1, and liquid meter LT2, and save the device name information to the storage device 73 such as main memory for each type of device. Store.

74は指定モジュールパラメータ選択機tM65で選択
され記憶装置66に格納されている指定モジュールパラ
メータ、例えば仕込制御モジュール55のパラメータP
RI、PR2、PR3(数値パラメータPR4は除く)
を、関連機器選択機構72で選択され記憶装置73に格
納されている機器、例えば原料AのタンクST1と反応
槽R1間の配管系統8゜9.11.12に関連づけられ
た機器P1.XVI。
74 is a designated module parameter selected by the designated module parameter selector tM65 and stored in the storage device 66, for example, the parameter P of the preparation control module 55.
RI, PR2, PR3 (excluding numerical parameter PR4)
is selected by the related equipment selection mechanism 72 and stored in the storage device 73, for example, the equipment P1. XVI.

FQCl (液j計LT3.LT2は除く)と一対一対
に対応づけるための対応(=l曙1fitである。
Correspondence for one-to-one correspondence with FQCl (excluding liquid gauges LT3 and LT2) (=lAkebono1fit).

この対応付磯構74による一対一対応付を容易にすべく
、好ましくは、パラメータPR1がポンプに係り機器P
i (iは正の整数)で表わされるものであり、バラメ
ークPR2が弁に係り芸器名XViで表わされるもので
あり、パラメータPR3が流量割に係り機器名FQCi
で表わされるものであることを予め記憶装置66に記憶
しておく。
In order to facilitate the one-to-one correspondence by this correspondence isostructure 74, it is preferable that the parameter PR1 is related to the pump and the equipment P
i (i is a positive integer), the parameter PR2 is related to the valve and is expressed by the instrument name XVi, and the parameter PR3 is related to the flow rate and is expressed by the device name FQCi.
It is stored in advance in the storage device 66 that it is expressed by .

このために、各汎用モジュールに係るパラメータPRI
、・・・・・・に関連づけて前記機器種別Pi。
For this purpose, the parameter PRI related to each general-purpose module is
, . . . in association with the device type Pi.

XVi、FqCi、LTi等を記憶装置66に記憶させ
ておくことが好ましい。
It is preferable to store XVi, FqCi, LTi, etc. in the storage device 66.

数値パラメータであるパラメータPR4は対応付されな
いので、コンソールのキーボードのキー等の数値パラメ
ータ指定機構75によってパラメータPR4の値、例え
ばリットル中位で500を指定する。
Since the parameter PR4, which is a numerical parameter, is not associated, the value of the parameter PR4, for example, 500 in the middle of liters, is designated by the numerical parameter designation mechanism 75 such as a key on the keyboard of the console.

対応付機構74は一対一対に対応付けられた結果、例え
ば PRl      PI PR2’   XVl PR3FQCl P R4500 を主記+j:i等の記憶装置76に格納する。
As a result of the one-to-one correspondence, the association mechanism 74 stores, for example, PRl PI PR2' XVl PR3FQCl PR4500 in the storage device 76 such as the main entry +j:i.

77は記憶表@76に格納された指定モジュールパラメ
ータPR1,・・・川に一対一に対応づけられた別器名
及び数値データ、例えばPl、XVI。
77 is the specified module parameter PR1, . . ., which is stored in the memory table @76, and the device name and numerical data that are in one-to-one correspondence with the river, such as Pl, XVI.

F qC1、500を記憶装置64に格納された指定の
汎用工程制御モジコール、例えば仕込モジュール55に
関連づけて、特定の工程制御モジュールプログラム、例
えば反応槽R1に対する原料への仕込制御モジュールプ
ログラムを生成し、磁気ディスク等の周辺記憶装置78
に格納するためのプログラム生成機構である。
Associate F qC1, 500 with a specified general-purpose process control module stored in the storage device 64, for example, the charging module 55, to generate a specific process control module program, for example, a raw material charging control module program for the reaction tank R1, Peripheral storage device 78 such as a magnetic disk
It is a program generation mechanism for storing in .

以上の如く構成されたシーケンス制御モジュールプログ
ラム生成装置59では、汎用工程制御モジュールの種別
と、必要に応じて始点及び終点装置並びに数値パラメー
タの値とを与えるのみで特定仕様の工程制御モジュール
プログラム78が生成され得る。
In the sequence control module program generation device 59 configured as described above, the process control module program 78 of a specific specification can be generated by simply providing the type of general-purpose process control module, the start point and end point devices, and the values of numerical parameters as necessary. can be generated.

第9図に示したシーケンス制御モジュールプログラム生
成装置59等を用いて第4図の工程シーケンス制御手順
54を有する工程シーケンス制御プログラムを作製する
装置79について以下に説明する。
A device 79 for creating a process sequence control program having the process sequence control procedure 54 in FIG. 4 using the sequence control module program generation device 59 shown in FIG. 9 and the like will be described below.

第11図は、工程シーケンス制御プログラムを作製する
際、ディスプレイ69の表示画面69a上に表示された
基本画像80である。基本画像80は記憶装置81に記
憶されており、コンソールのキーボード82からの指定
に従って制御装置83によって制御装置83内の記憶部
83aに格納されると共にコンソールのディスプレイ6
9の表示画面69aに表示される。
FIG. 11 shows a basic image 80 displayed on the display screen 69a of the display 69 when creating the process sequence control program. The basic image 80 is stored in a storage device 81, and is stored in a storage section 83a in the control device 83 by the control device 83 according to a designation from the keyboard 82 of the console, and is also stored on the display 6 of the console.
9 is displayed on the display screen 69a.

基本画像80において、工程番号とは第2図乃至第3図
の七つの工程のうち何番目の工程であるかを指す。原料
Aの仕込の場合、七つの工程のうち第一番目の工程であ
る故、工程番号という表示の右側の枠84内に(例えば
カーソルを移動させた後)01とキーボード82から入
力する。この入力内容は制御装置83の記憶部83a 
k:書き込まれると共にディスプレイ6つの画面69a
の所定の場所84に表示される(第12図参照)。
In the basic image 80, the process number indicates the number of the process among the seven processes shown in FIGS. 2 and 3. In the case of preparing raw material A, since this is the first step among seven steps, input 01 from the keyboard 82 into the frame 84 on the right side of the step number display (for example, after moving the cursor). This input content is stored in the storage section 83a of the control device 83.
k: 6 screens 69a that are written and displayed
is displayed at a predetermined location 84 (see FIG. 12).

基本画像80において、工程名称とは第2図乃至第3図
の七つの工程の名称であり、操作者の希望する任意の名
称をその右側の枠85内に記入すべく、カーソルを所定
位置に移動させた後、キーボード82のキーを操作すれ
ばよい。例えば七つの工程のうちの第一番目の工程の場
合、原料A仕込とキーインすればよい。このキーインさ
れた内容は制御装置83の記憶部83aに書き込まれる
と共にディスプレイ69の画面69aの所定位置85に
表示される。
In the basic image 80, the process names are the names of the seven processes shown in FIGS. After moving, the keys on the keyboard 82 may be operated. For example, in the case of the first step out of seven steps, it is sufficient to key in "Prepare raw material A". The keyed-in contents are written into the storage section 83a of the control device 83 and displayed at a predetermined position 85 on the screen 69a of the display 69.

基本画像80において登録シーケンスとは汎用工程シー
ケンス制御モジュール55.56.57の夫々の登録番
号であり、汎用仕込モジュール55の登録番号が101
である場合、登録シーケンスという表示の右側の枠86
内にカーソルを移動させた後キーボード82から101
 と入力する。この入力内容は制御袋@83の記憶部8
3aに書き込まれると共にディスプレイ69の画面69
aの所定場所86内に表示される。
In the basic image 80, the registered sequences are the registration numbers of the general-purpose process sequence control modules 55, 56, and 57, and the registration number of the general-purpose preparation module 55 is 101.
If so, the box 86 on the right side of the display ``registration sequence''
After moving the cursor inside the keyboard 82 to 101
Enter This input content is stored in the storage section 8 of the control bag @83.
3a and the screen 69 of the display 69.
is displayed in a predetermined location 86 of a.

更に登録シーケンス番号101に対応する汎用工程制御
モジュール、例えば汎用仕込制御モジュール55が記憶
部@60から制御装置83の記憶部83a内に読み込ま
れる。
Further, the general-purpose process control module corresponding to the registration sequence number 101, for example, the general-purpose preparation control module 55, is read from the storage unit @60 into the storage unit 83a of the control device 83.

基本画像80において主操作とは各工程制御シーケンス
において施されるべき主たる制御操作を指す。
In the basic image 80, the main operation refers to the main control operation to be performed in each process control sequence.

基本画像80の主操作のうちの初期化上カバターンとは
、工程シーケンス制御手順54のうち最初に行なわれる
べき初期化制御段1!i!i 54aで選択されるべき
パターンを指し、第1表の三つのパターンのうちから所
定のパターンが選択される。原料Aの仕込の場合、すべ
ての直接的能動搬器を非作動状態に設定するパターン1
が選択され、枠87内にカーソルを移動させた後キーボ
ード82から10p1と入力する。この入力内容は制御
装置83の記憶部83aに書き込まれると共にディスプ
レイ69の画面69aの所定の場所87に表示される。
The initialization top cover turn among the main operations of the basic image 80 is the initialization control stage 1! which should be performed first in the process sequence control procedure 54! i! Refers to the pattern to be selected in i 54a, in which a predetermined pattern is selected from among the three patterns in Table 1. When preparing raw material A, pattern 1 sets all direct active carriers to non-operating state.
is selected, and after moving the cursor within the frame 87, input 10p1 from the keyboard 82. This input content is written into the storage section 83a of the control device 83 and displayed at a predetermined location 87 on the screen 69a of the display 69.

基本画像80において、モジュールとは汎用工程シーケ
ンス制御モジュール55.56.57を指し、例えば前
記の登録シーケンス番号を枠86に指定した際、モジュ
ール55,56.57に付与された名称がモジュール5
5.56又は57と共に制御装置83の記憶部83aに
読み込まれると共に枠88に表示される。登録シーケン
ス番号101の仕込制御モジュール55の場合、例えば
仕込1と表示される。尚、枠88内に仕込1と自動的に
表示されるようにするかわりにキーボード82から名称
を入力するようにしてもよい。
In the basic image 80, the module refers to the general-purpose process sequence control module 55, 56, 57. For example, when the registration sequence number mentioned above is specified in the frame 86, the name given to the module 55, 56, 57 is the module 5.
5.56 or 57 is read into the storage section 83a of the control device 83 and displayed in the frame 88. In the case of the preparation control module 55 with the registration sequence number 101, for example, preparation 1 is displayed. Note that instead of automatically displaying "Preparation 1" in the frame 88, the name may be input from the keyboard 82.

基本画像80において枠89.90は汎用工程シーケン
ス制御モジュール55.56.57が特定の工程シーケ
ンスIll allに用いられるように始点装置及び終
点装置を指定する欄である。登録シーケンス番号101
の仕込、制御モジュール55を原料Aの仕込に利用する
場合、始点装置は原料A収容タンクST1であり終点装
置は反応槽R1である故、キーボード82から、枠89
内にST1と、枠90内にR1と入力する。この入力内
容は制御装置83の記憶部83aに書き込まれると共に
ディスプレイ69の画面69aの所定の場所89.90
に表示される。尚、始点装置及び終点装置の指定乃至入
力を、前述の如<CADシステムを利用してライトベン
で行なうようにしてもよい。
In the basic image 80, boxes 89.90 are fields in which the general process sequence control module 55, 56, 57 specifies the starting point device and ending point device to be used for a specific process sequence Ill all. Registration sequence number 101
When using the control module 55 for preparing raw material A, the starting point device is the raw material A storage tank ST1 and the ending point device is the reaction tank R1.
Enter ST1 in the box 90 and R1 in the box 90. This input content is written to the storage section 83a of the control device 83 and is also written to a predetermined location 89.90 on the screen 69a of the display 69.
will be displayed. Note that the designation or input of the starting point device and the ending point device may be performed using the light bench using the CAD system as described above.

汎用工程シーケンス制御モジュールとして特定のモジュ
ール、例えば汎用仕込モジュール55が登録シーケンス
番号101として指定された際ディスプレイ 69の画
面G9aの枠91には汎用仕込モジュール55に関連す
るパラメータPR1,PR2゜PR3、PR4が R1 R2 R3 R4 と表示されている。そして、枠89.90内に始点装置
及び終点装置としてST1及びR1が指定されると、枠
91内にはパラメターPRI、PR2゜PR3,PR4
のうちポンプを表わす機器パラメータPR1、弁を表わ
す機器パラメータPR2゜流1計を表わす機器パラメー
タPR3に対応する機器名P1.XV1.FQC1が生
成装置59によって生成され、以下のとおり表示される
When a specific module such as the general-purpose preparation module 55 is specified as the registration sequence number 101 as the general-purpose process sequence control module, parameters PR1, PR2, PR3, PR4 related to the general-purpose preparation module 55 are displayed in the frame 91 of the screen G9a of the display 69. are displayed as R1 R2 R3 R4. Then, when ST1 and R1 are specified as the start point device and end point device in the frames 89 and 90, the parameters PRI, PR2°PR3, PR4 are specified in the frame 91.
Among them, the device name P1. corresponds to the device parameter PR1 representing the pump, the device parameter PR2 representing the valve, and the device parameter PR3 representing the flow meter. XV1. FQC1 is generated by the generation device 59 and displayed as follows.

PRI    Pi PR2XVl PR3FqCl R4 数値パラメータPR4に対しては、カーソルをPR4と
表示されている右側に移動させてキーボード82から例
えばリットル単位で500と入力することにより対応付
を行なう。
PRI Pi PR2XVl PR3FqCl R4 Correspondence is established for the numerical parameter PR4 by moving the cursor to the right side where PR4 is displayed and inputting, for example, 500 in liters from the keyboard 82.

以上の如くして完成された枠91内のパラメータの対応
4j内容はディスプレイ69の画面69aの枠91に表
示されると共に制御装置83の記憶部83aに記憶され
、更にモジュールプログラム生成装置59によってモジ
ュールプログラム78として生成される。
The contents of the parameter correspondence 4j in the frame 91 completed as described above are displayed in the frame 91 of the screen 69a of the display 69, and are also stored in the storage section 83a of the control device 83, and are further processed by the module program generation device 59 into the module. It is generated as a program 78.

基本画像80において初期条件(初期条件1及び初期条
件2の両方)とは、工程シーケンス制御手順54のうち
モジュールプログラムの実行段階54dの前に初期条件
54cのチェック段階54bでチェックされるべき初期
条件を指し、例えば原料Aの仕込の場合、反応槽R1の
出口弁XV5を閉じておくこと、反応槽R1内にものが
残っていないこと(パーセント単位で液量がOであるこ
と)、及び原料AのタンクSTIに原料へが所定量以上
であること(パーセント単位で液量が20より多いこと
)が必要であるとすると、初期条件に対応する枠921
93にカーソルを移動させた後、キーボードからXV5
    閉止 LT2=0 LT3>20 とキーインする。この入力内容はディスプレイ69の画
面69aの所定の場所92及び93に表示されると共に
制t21Ii置83の記憶部83aに記憶せしめられる
In the basic image 80, the initial conditions (both initial conditions 1 and 2) are the initial conditions to be checked in the check step 54b of the initial conditions 54c before the module program execution step 54d in the process sequence control procedure 54. For example, when charging raw material A, it is necessary to close the outlet valve XV5 of reaction tank R1, to make sure that there is nothing left in reaction tank R1 (liquid level in percent units is O), and to make sure that the raw material If it is required that tank STI in A has a predetermined amount or more of raw material (liquid amount in percent units is greater than 20), then frame 921 corresponding to the initial condition is required.
After moving the cursor to 93, press XV5 from the keyboard.
Key in: Close LT2=0 LT3>20. This input content is displayed at predetermined locations 92 and 93 on the screen 69a of the display 69, and is also stored in the storage section 83a of the control unit 83.

尚、「閉止」と漢字入力するかわりに、例えば「ヘイシ
」もしくは「へいし」とカナ入力するようにしても、又
はrcLO8EJと英数字入力するようにしても他の記
号もしくは符号で入力するようにしてもよい。(他の枠
についても同)。
In addition, instead of inputting kanji as ``shusei'', for example, you can input ``heishi'' or ``heishi'' in kana, or even if you input alphanumeric characters as rcLO8EJ, you can input other symbols or codes. It's okay. (Same for other frames).

基本画像80において初期条件2とは、何らかの理由に
よって、ある工程シーケンス制御手順54の実行中に当
該シーケンス制御手順54が中断された場合、当該シー
ケンス制御を再開するための条件を指す。
In the basic image 80, the initial condition 2 refers to a condition for restarting a certain process sequence control procedure 54 when the sequence control procedure 54 is interrupted during its execution for some reason.

例えば原料Aの仕込に係る場合、初期条件2はrXV5
  閉止」である。
For example, in the case of preparing raw material A, initial condition 2 is rXV5
"closed".

基本画像80において、モニタリングとは、工程制御手
順54実行中4必要に応じて反応槽温度等をモニタする
ことを指す。
In the basic image 80, monitoring refers to monitoring the reaction tank temperature, etc., as necessary during execution of the process control procedure 54.

工程シーケンス制御が例えば原料Aの仕込の場合特別な
モニタリングは行なわれない故、モニタリングの指定欄
95に空欄のま)にしておく。
If the process sequence control is, for example, the preparation of raw material A, no special monitoring is performed, so the monitoring designation column 95 is left blank.

この枠95への指定、指定内容の表示及び記憶は他の枠
の場合と同様に行なわれる。
The designation, display and storage of the designated contents in this frame 95 are performed in the same manner as in the case of other frames.

基本画像80において異常処理とは、第4図の工程制御
手順54のうち主たる工程シーケンス制御モジュールプ
ログラムの実行による主たる工程シーケンス制御 54
dの実行中、モニタリングにより異常が検出されると(
54x)、無条件に実行される異常対処処理54Vを指
す。
In the basic image 80, the abnormality processing is the main process sequence control 54 by executing the main process sequence control module program among the process control procedures 54 in FIG.
If an abnormality is detected during the execution of d (
54x) refers to the abnormality handling process 54V that is executed unconditionally.

主たる工程シーケンス制御が原料Aの仕込の場合、異常
のモニタリング及び異常処理は行なわれない故、異常処
理の指定欄96は空欄のま)にしておく。
When the main process sequence control is the preparation of raw material A, abnormality monitoring and abnormality processing are not performed, so the abnormality processing specification column 96 is left blank.

この枠96への指定、指定内容の表示及び記憶は他の枠
の場合と同様にして行なわれる。
The designation, display and storage of the designated contents in this frame 96 are performed in the same manner as in the case of other frames.

以上のようにして、基本画像80の空欄84、・・・・
・・、96がうめられ例えば原料Aの仕込工程が特定さ
れた画像97が形成されると、制御装置83の制御下で
、モジュールプログラム生成装置59によって生成され
た原料Aの仕込制御モジュールプログラム78を組み込
んだ原料Aの仕込シーケンス制御プログラムが生成され
磁気ディスク等の周辺記憶装置98に格納される。
As described above, the blank space 84 of the basic image 80,...
. . , 96 is filled in and an image 97 specifying, for example, the preparation process of raw material A is formed, the preparation control module program 78 for raw material A generated by the module program generation device 59 under the control of the control device 83 A preparation sequence control program for raw material A incorporating the above is generated and stored in a peripheral storage device 98 such as a magnetic disk.

尚原料への仕込シーケンス制御プログラムにおいて、初
期化上カバターンiopの内容i 0DIが実行プログ
ラムの形でそのま)組み込まれていても、サブルーチン
として引用されるようにしておいてもよい。
In the raw material charging sequence control program, the content i0DI of the initialization cover turn iop may be incorporated as is in the form of an execution program, or may be cited as a subroutine.

第13図には符号110として工程番号2の触媒B仕込
の場合の工程制御プログラム生成のための指定例が示さ
れている。
In FIG. 13, reference numeral 110 shows an example of specification for generating a process control program in the case of charging catalyst B in process number 2.

この場合、登録シーケンス101すなわち汎用モジュー
ルとして仕込1を用いる点は原料Aの仕込の場合と同様
であるけれども、ポンプを用いない故PR1は空欄にな
っている。
In this case, the registration sequence 101, ie, the use of the preparation 1 as a general-purpose module, is the same as in the case of the preparation of the raw material A, but since no pump is used, PR1 is left blank.

また初期他出カバターンとしては1op2を用い、モー
タMを作動させて攪拌器3により反応槽R1内の原料A
と仕込中の触媒Bとを撹拌するようにする点、及び初期
条件の内容において原料Aの仕込の場合と異なっている
In addition, 1op2 is used as the initial output cover turn, and the motor M is operated to cause the raw material A in the reaction tank R1 to be stirred by the stirrer 3.
This differs from the case of charging raw material A in that the catalyst B and the catalyst B being charged are stirred, and in the content of the initial conditions.

第14図には、符号111として工程番号3の原料C仕
込の場合の工程制御プログラム生成のための指定例が示
されている。
In FIG. 14, reference numeral 111 shows an example of specification for generating a process control program in the case of charging raw material C of process number 3.

この場合、登録シーケンス101、すなわち汎用モジュ
ールとして仕込1を用いる点は原料への仕込の場合と同
様であるけれども始点装置及び配管系統が異なる故パラ
メータに対応する機器が異なる。もちろん初期条件も異
なる。
In this case, the registration sequence 101, that is, the use of the preparation 1 as a general-purpose module, is the same as in the case of material preparation, but since the starting point device and piping system are different, the equipment corresponding to the parameters is different. Of course, the initial conditions are also different.

また初期他出カバターンとしては1op3が用いられ、
原料Cの仕込開始と共に触媒Bの存在下での原料A、C
間の反応による発熱を必要に応じて除去し得るように弁
XV4の開度を調節して冷媒で冷却を行なう。
Also, 1op3 is used as the initial cover pattern,
Raw materials A and C in the presence of catalyst B with the start of charging raw material C
Cooling is performed with the refrigerant by adjusting the opening degree of valve XV4 so that the heat generated by the reaction during the reaction can be removed as necessary.

更に反応槽温度Tが温度検出器TEによってモニタされ
、温度Tが45℃以上の場合、無条件に直接的能動機器
が1op3によって指定される異常処理状態に設定され
、原料Cの仕込が中断される。
Furthermore, the reaction tank temperature T is monitored by the temperature detector TE, and if the temperature T is 45°C or higher, the direct active equipment is unconditionally set to the abnormal processing state specified by 1op3, and the charging of the raw material C is interrupted. Ru.

尚、原料Cの仕込の場合の初期条件2は、「T≦40」
である。
In addition, the initial condition 2 in the case of preparing raw material C is "T≦40"
It is.

第15図には符号112として工程番号4の後反応の場
合の工程制御プログラム生成のための指定例が示されて
いる。
In FIG. 15, reference numeral 112 shows an example of specification for generating a process control program for the post-reaction of process number 4.

この場合登録シーケンス104としては登録されている
モジュール名静置の静置モジュール56が用いられる。
In this case, as the registration sequence 104, the stationary module 56 with the registered module name stationary is used.

静置モジュール56では始点装置及び終点装置は無条件
に反応欄である故、図示の如く欄89.90を空欄にし
ておいても、汎用設備に複数の反応槽がある場合等を考
慮して欄89.90のいずれか一方又は両方にR1を指
定してもよい。
In the stationary module 56, the start point device and the end point device are unconditionally reaction columns, so even if columns 89 and 90 are left blank as shown in the figure, taking into consideration the case where there are multiple reaction vessels in general-purpose equipment, etc. R1 may be specified in either or both of columns 89 and 90.

静置モジュール56の場合数値パラメータPR1の指定
のみが要求される故、例えば分単位で60(即ち60分
間後反応)を枠91に入力する。
In the case of the stationary module 56, only the numerical parameter PR1 is required to be specified, so, for example, 60 in minutes (ie, 60 minutes post-reaction) is input in the box 91.

後反応の場合の初期他出カバターン、モニタリング条件
、及び異常処理は原料Cの仕込の場合と同様である。
In the case of the post-reaction, the initial output pattern, monitoring conditions, and abnormal treatment are the same as in the case of charging raw material C.

第16図には符号113として工程番号5の静置の場合
の工程制御プログラム生成のための指定例が示されてい
る。
In FIG. 16, reference numeral 113 shows an example of specification for generating a process control program in the case of process number 5, which is static.

この場合登録シーケンス104すなわち汎用モジュール
として「静置」を用いる点は後反応の場合と同様である
In this case, the point that "Stand" is used as the registration sequence 104, that is, the general-purpose module, is the same as in the case of the post-reaction.

なお製品2と廃液34との比重差による分離を行なわせ
るべく撹拌を行なわない(iopl)点で後反応の場合
と異なる。
Note that this differs from the post-reaction in that stirring is not performed (iopl) in order to separate the product 2 and waste liquid 34 based on the difference in specific gravity.

第17図には符号114として工程番号6の廃液分離の
場合の工程制御プログラム生成のための指定例が示され
ている。
In FIG. 17, reference numeral 114 shows an example of specification for generating a process control program in the case of waste liquid separation of process number 6.

この場合登録シーケンス106として登録されているモ
ジュール名「移送」の移送モジュール57が用いられ、
廃液34を反応槽R1からタンクD丁に移送するために
関連する始点装置R1,終点装置DTが指定されており
、関連機器名が機器パラメターとして自動的に生成指定
され、関連数値パラメータが指定されている。
In this case, the transport module 57 with the module name "transfer" registered as the registration sequence 106 is used,
In order to transfer the waste liquid 34 from the reaction tank R1 to the tank D, the related start point device R1 and end point device DT are specified, the related device name is automatically generated and specified as the device parameter, and the related numerical parameter is specified. ing.

廃液分離の場合の初期他出カバターンは静置の場合と同
様である。
In the case of waste liquid separation, the initial cover turn is the same as in the case of standing still.

(パーセント単位)である。(in percent).

第18図には符号115として工程番号7の製品移送の
場合の工程制御プログラム生成のための指定例が示され
ている。
In FIG. 18, reference numeral 115 shows an example of specification for generating a process control program in the case of product transfer of process number 7.

この場合、登録シーケンス106、すなわち汎用モジュ
ールとして「移送」を用いる点、初期他出カバターン、
モニタリング条件、異常処理の有無は廃液分離の場合と
同様であるけれども終点装置及び配管系統の一部が異な
る故パラメータに対応する機器等が”異なる。もちろん
初期条件も異なる。
In this case, the registration sequence 106, that is, the use of "transfer" as a general-purpose module, the initial export pattern,
Although the monitoring conditions and the presence or absence of abnormal treatment are the same as in the case of waste liquid separation, the end point equipment and part of the piping system are different, so the equipment corresponding to the parameters is different.Of course, the initial conditions are also different.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の好ましい一員体例の対象となるバッチ
生産設備の説明図、第2図は第1図の生産設備を用いた
バッチ生産プロセスの概要フローチャート、第3図は第
2図のバッチ生産プロセスのより詳細なフローチャート
、第4図は、標準的な工程制御シーケンスの概要フロー
チャート、第5図は汎用仕込シーケンス制御モジュール
のフローチャート、第6図は汎用静置シーケンス制御i
lモジュールのフローチャート、第7図は汎用移送シー
ケンス制御モジュールのフローチャート、第8図は冷却
シーケンス制御のフローチャート、第9図は本発明によ
る好ましい一具体例の工程シーケンス制御モジュールプ
ログラム生成装置の説明図、第10図は、第9図のモジ
ュールプログラム生成装置を用いた工程シーケンスi+
+制御プログラム生成装置の説明図、′1X11図は、
第10図の工程シーケンス制御プログラム生成装置を用
いたプログラム生成のための指定用基本表示画面の説明
図、第12図乃至第18図は各処理工程毎の指定用表示
画面の説明図である。 1・・・・・・生産設備、60.67・・・・・・記憶
機構、62.71・・・・・・指定機構、72・・・・
・・関連機器選択機構、74・・・・・・対応付機構、
77・・・・・・プログラム生成機構。 第2図 第4図 第7図 手続補正書 昭和61年8月74日 1、事件の表示   昭和60年特許願第240856
号2、発明の名称   バッチ生産プロセスのシーケン
ス制御プログラム生成装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名 称   (408)日本化薬株式会社6、補正によ
り増加する発明の数 7、補正の対象  明細書及び図面 8、補正の内容 (1)明細書中、第4頁第14行目、「入手により」と
あるを、「人手により」と補正する。 (2)間中、第6頁第1行目、「同店」とあるを、「同
種」と補正する。 (3)間中、第9頁第15行目、[反応槽R1にはJと
あるを、「反応槽R1には、」と補正する。 (4)間中、第10頁第5行目、「層RIJとあるを、
[槽Rljと補正する。 (5)間中、第11頁第11行目乃至第12行目、「閉
じるべくXV2Jとあるを、「閉じるべく弁Xv2」と
補正する。 (6)間中、第12頁第1行目、「26は、」とあるを
「26は」と補正する。 (7)間中、同頁第11行目、rPTは」とあるを、r
PTは、」と補正する。 (8)間中、第15頁第16行目、「51eには」とあ
るを、「51eには、」と補正する。 (9〉間中、第16頁第10行目、「53は」とあるを
、「53は、」と補正する。 (10)間中、同頁第11行目乃至第12行目、「右側
サブブロック」とあるを、「右側のサブブロック」と補
正する。 (11)間中、第20頁下から第7行目、「反応層」と
あるを、「反応槽」と補正する。 〈12)間中、第33頁第5行目乃至第6行目、r/)
選択機構であり、 例えば」とあるを、 「の選択機構であり、たとえば」と補正する。 (13)間中、第35頁第7行目、「74は一対」とあ
るを、「74は、一対」と補正する。 (14)間中、第41頁第9行目、「指定された際」と
あるを、「指定された際、」と補正する。 (15)間中、同頁最下行、「表示されている。」とあ
るを、「表示される。jと補正する。 〈16)間中、第49頁第2行目、「反応層」とあるを
、「反応槽」と補正する。 (17)添附図面中、第3図を別紙の通り補正する。
Fig. 1 is an explanatory diagram of batch production equipment that is a preferred example of the present invention, Fig. 2 is an overview flowchart of a batch production process using the production equipment shown in Fig. 1, and Fig. 3 is a batch production process of Fig. 2. A more detailed flowchart of the production process, Figure 4 is a general flowchart of the standard process control sequence, Figure 5 is a flowchart of the general-purpose preparation sequence control module, and Figure 6 is the general-purpose stationary sequence control i.
7 is a flowchart of a general-purpose transfer sequence control module, FIG. 8 is a flowchart of cooling sequence control, and FIG. 9 is an explanatory diagram of a process sequence control module program generation device according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 10 shows a process sequence i+ using the module program generation device shown in FIG.
+Explanatory diagram of the control program generation device, '1X11 diagram,
FIG. 10 is an explanatory diagram of a basic display screen for designation for program generation using the process sequence control program generation device, and FIGS. 12 to 18 are explanatory diagrams of display screens for designation for each processing step. 1...Production equipment, 60.67...Storage mechanism, 62.71...Specification mechanism, 72...
...Related equipment selection mechanism, 74...Matching mechanism,
77...Program generation mechanism. Figure 2 Figure 4 Figure 7 Procedural amendment August 74, 1985 1. Indication of the case 1985 Patent Application No. 240856
No. 2, Title of the invention Sequence control program generation device for batch production process 3, Relationship with the case of the person making the amendment Name of patent applicant (408) Nippon Kayaku Co., Ltd. 6, Number of inventions increased by amendment 7, Amendment Target Description and Drawing 8, Contents of amendment (1) In the specification, on page 4, line 14, the phrase "by acquisition" is amended to read "by hand." (2) In the first line of page 6, the phrase "same store" has been amended to read "same type." (3) In the middle, page 9, line 15, [The text "J" in reaction tank R1 is corrected to "in reaction tank R1."] (4) In the middle, page 10, line 5, “The layer RIJ is
[Corrected as tank Rlj. (5) In the meantime, on page 11, lines 11 to 12, "XV2J to close" is corrected to "valve Xv2 to close." (6) In the first line of page 12, "26 is" is corrected to "26 is." (7) In the middle, line 11 of the same page, rPT is
PT is corrected. (8) In the middle of page 15, line 16, "51e" is corrected to "51e". (During 9〉, page 16, line 10, "53 is" is corrected to ``53 is.''). (11) Throughout the text, in the 7th line from the bottom of page 20, the text "reaction layer" is corrected to "reaction tank." (12) Intermediate, page 33, lines 5 and 6, r/)
The phrase "It is a selection mechanism, for example," should be corrected to "It is a selection mechanism, for example." (13) In the middle, on page 35, line 7, the phrase "74 is a pair" is corrected to "74 is a pair." (14) In the middle of page 41, line 9, "when specified" is corrected to "when specified." (15) In the middle, on the bottom line of the same page, the phrase “Displayed.” is corrected to “Displayed. Correct the text to read "reaction tank." (17) In the attached drawings, Figure 3 is amended as shown in the attached sheet.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 バッチ生産用の汎用設備を構成する機器及び該機器間の
配管接続情報を記憶している第一の記憶機構と、 バッチ生産プロセスを構成する複数の工程のうち一組の
同種の別の機器間で同種の別の被処理物に対して施され
る類似の処理に対して共通であり、前記一組の同種の別
の機器間に位置する少なくとも一種類の同種の別の機器
に対する制御条件を規定している前記複数の類似工程の
シーケンス制御用の被生成汎用モジュールを記憶してい
る第二の記憶機構と、 前記複数の類似工程の夫々に対応する前記一組の機器を
指定する指定機構と、 前記指定機構によって指定された前記一組の機器情報、
並びに前記第一の記憶機構に記憶されているバッチ生産
用の汎用設備を構成する機器及び該機器間の配管接続情
報に基づいて、指定された前記一組の機器間に位置する
前記少なくとも一種類の機器をバッチ生産用の前記汎用
設備を構成する特定の機器に対応づけることによって、
第二の記憶機構に記憶された前記複数の類似工程のシー
ケンス制御用の被生成汎用モジュールから前記複数の類
似工程のうちの特定の工程のシーケンス制御用のプログ
ラムを生成するための生成機構とを有するバッチ生産プ
ロセスのシーケンス制御プログラム生成装置。
[Claims] A first storage mechanism that stores equipment constituting general-purpose equipment for batch production and piping connection information between the equipment; Common to similar processing performed on different processing objects of the same type between different equipment of the same type, and at least one type of processing that is located between the set of different equipment of the same type. a second storage mechanism that stores generated general-purpose modules for sequence control of the plurality of similar processes that define control conditions for the equipment; a designation mechanism for designating a device; and the set of device information designated by the designation mechanism;
and the at least one type of equipment located between the specified set of equipment based on the equipment constituting the general-purpose equipment for batch production and the piping connection information between the equipment stored in the first storage mechanism. By associating the equipment with specific equipment constituting the general-purpose equipment for batch production,
a generation mechanism for generating a program for sequence control of a specific process among the plurality of similar processes from a generated general-purpose module for sequence control of the plurality of similar processes stored in a second storage mechanism; A sequence control program generation device for batch production processes.
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Cited By (1)

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US5208743A (en) * 1989-12-28 1993-05-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Device and method for generating a sequence of industrial process

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