JPS6191076A - Porous silicon carbide sintered body and manufacture - Google Patents

Porous silicon carbide sintered body and manufacture

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JPS6191076A
JPS6191076A JP59212645A JP21264584A JPS6191076A JP S6191076 A JPS6191076 A JP S6191076A JP 59212645 A JP59212645 A JP 59212645A JP 21264584 A JP21264584 A JP 21264584A JP S6191076 A JPS6191076 A JP S6191076A
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JP
Japan
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silicon carbide
sintered body
crystals
average
porous
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輝代隆 塚田
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Ibiden Co Ltd
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Ibiden Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は炭化ケイ素の板状結晶からなり、低密度で高い
強度ならびに通気性を有する多孔質炭化ケイ素焼結体と
その製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a porous silicon carbide sintered body made of plate-shaped crystals of silicon carbide and having low density, high strength and air permeability, and a method for producing the same.

従来、炭化ケイ素は高い硬度、浸れた耐摩耗性、優れた
耐酸化性、優れた耐蝕性、良好な熱伝導率、低い熱膨張
率、高い耐熱衝撃性並びに高温での高い強度等の化学的
および物理的に優れた特性を有し、メカニカルシールや
軸受は等の耐摩耗材料、高温炉用の耐火材、熱交換器、
燃焼管等の耐熱構造材料、酸およびアルカリ等の強い腐
蝕性を有する溶液のポンプ部品等の耐蝕性材料として広
く使用することができる材料である。
Traditionally, silicon carbide is known for its chemical properties such as high hardness, soaked wear resistance, good oxidation resistance, good corrosion resistance, good thermal conductivity, low coefficient of thermal expansion, high thermal shock resistance as well as high strength at high temperatures. and have excellent physical properties, wear-resistant materials such as mechanical seals and bearings, refractory materials for high-temperature furnaces, heat exchangers, etc.
It is a material that can be widely used as a heat-resistant structural material such as combustion pipes, and as a corrosion-resistant material for pump parts for highly corrosive solutions such as acids and alkalis.

一方、これらの性質を有する炭化ケイ素とその結晶が形
成する通気性を有するところの気孔すなわち開放気孔(
以下単に気孔と略す)とから成る多孔質炭化ケイ素焼結
体は、前記炭化ケイ素の特徴を生かして、高温雰囲気、
酸化性雰囲気およ〃または腐蝕性雰囲気で、使用される
濾過フィルター、酸化発熱反応あるいは高温下における
化学反応用の触媒あるいは触媒担体として利用可能な材
料であり、例えば内燃機関の排気ガス、特にディーゼル
エンジン排気ガス等の高温気体中に含まれる微粒子カー
ボン等の可燃性微粒子物質の除去のために使用されるフ
ィルターとして利用しうろことが考えられる。
On the other hand, silicon carbide with these properties and its crystals form pores that have air permeability, that is, open pores (
A porous silicon carbide sintered body consisting of pores (hereinafter simply referred to as pores) is produced by taking advantage of the characteristics of silicon carbide in a high-temperature atmosphere.
Materials that can be used as filtration filters, catalysts or catalyst supports for oxidative exothermic reactions or chemical reactions at high temperatures in oxidizing and/or corrosive atmospheres, such as exhaust gas from internal combustion engines, especially diesel It is conceivable that it could be used as a filter to remove combustible particulate matter such as particulate carbon contained in high-temperature gas such as engine exhaust gas.

上記のようなフィルターの用途に対しては、単に耐熱性
、耐蝕性が必要であるばかりでなく、流体の通過時の抵
抗が小さく、しかも高効率で異粒子を取り除くことがで
き耐用期間が長い等の特性が必要とされる。一方、触媒
、触媒担体あるいは熱交換等の用途に対しては化学反応
、熱移動あるいは物質移動の生成を有効に行なわせるた
めの表面積が多いこと、しかもその表面が長期間の使用
に対して安定であることが必要とされる。
For the above-mentioned filter applications, it is not only necessary to have heat resistance and corrosion resistance, but also to have low resistance when fluid passes through, remove foreign particles with high efficiency, and have a long service life. The following characteristics are required. On the other hand, for applications such as catalysts, catalyst supports, or heat exchange, it is important that the surface area is large enough to effectively generate chemical reactions, heat transfer, or mass transfer, and that the surface is stable for long-term use. is required.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、多孔質炭化ケイ素焼結体の製造方法として、(1
)骨材となる炭化ナイ素粒子にガラス質7ラツクスある
いは粘土質などの結合材を加え成形した後、その形成体
を前記結合材が溶融する温度で焼き固めて製造する方法
、(2)粗大粒の炭化ケイ素粒子と微細な炭化ケイ素粒
子を混合し成形した後、2000℃以上の高温で焼成し
て製造する方法あるいは(8)特開昭48−89515
号公報で開示されている「炭化珪素粉に炭素粉を加え又
は加えずに炭素質バインダーを加えると共にこの炭素粉
及び焼成時に生成されるバインダーからの遊離炭素と反
応する理論量の珪素質粉を添加して形成し、しかる後こ
の成形体の炭素粉中で1900〜2400°Cに加熱し
て成形体中の炭素分を珪素化することを特徴とする均質
多孔性再結晶炭化珪素体の製造方法。」等が知られてい
る。
Conventionally, as a method for producing porous silicon carbide sintered bodies, (1
) A method in which a binder such as vitreous 7 lux or clay is added to nylon carbide particles serving as aggregate, and the resulting product is then baked and solidified at a temperature at which the binder melts. (2) Coarse A method in which granular silicon carbide particles and fine silicon carbide particles are mixed, molded, and then fired at a high temperature of 2000°C or higher, or (8) JP-A-48-89515
Disclosed in the publication, "A carbonaceous binder is added to silicon carbide powder with or without carbon powder, and a stoichiometric amount of silicone powder is added to react with this carbon powder and free carbon from the binder produced during firing. Production of a homogeneous porous recrystallized silicon carbide body, characterized in that the carbon content in the molded body is silicified by heating the molded body to 1900 to 2400°C in carbon powder. method.'' etc. are known.

前記(1)の如き結合材としてガラス質7ラツクスあ□
るいは粘土を加え製造した多孔質体の強度は結合材が1
000〜1400℃で溶融するため、多孔質体はこの温
度域、特にガラス化転移温度付近で変形し、著しく強度
が低下するだけでなく耐薬品性、耐酸化性が要求される
分野における使用がかぎられるという欠点がある。
Glassy 7 lux is used as a bonding material as in (1) above.
The strength of the porous body manufactured by adding clay to the binding material is 1.
Since the porous material melts at temperatures between 000 and 1,400 degrees Celsius, it deforms in this temperature range, especially around the vitrification transition temperature, which not only significantly reduces its strength but also makes it difficult to use in fields that require chemical resistance and oxidation resistance. It has the disadvantage of being limited.

一方、上述の(2)や(3)の方法で製造された多孔質
体の構造をモデル的に図示すれば第8図に示すようであ
り、炭化ケイ素質骨材(4)と骨材を被覆して、骨材同
志を結合する炭化ケイ素質結合材あるいは炭素質結合材
の)および間隙(0)とから構成される。
On the other hand, if the structure of the porous body produced by the above-mentioned methods (2) and (3) is illustrated as a model, it is shown in Fig. 8, in which the silicon carbide aggregate (4) and the aggregate are It consists of a silicon carbide binder or a carbonaceous binder which covers and binds the aggregates together) and a gap (0).

前記多孔質体の間隙(C)すなわち気孔はほとんど成形
時に骨材粒子の配置はによって決定され、焼結体中に占
める気孔率は30〜4(lとなり小さい。
The gaps (C) or pores in the porous body are mostly determined by the arrangement of aggregate particles during molding, and the porosity in the sintered body is small, being 30 to 4 (l).

このため、この多孔質体を流体が通過する際の抵抗は著
しく高いものとなる。一方、焼結体中の気孔率を大きく
すると、骨材粒子の接触点が少なくなり、多孔質体の強
度は著しく低下し、流体との接触面積は著しく小さくな
る傾向がある。
Therefore, the resistance when fluid passes through this porous body becomes extremely high. On the other hand, when the porosity of the sintered body is increased, the number of contact points between aggregate particles decreases, the strength of the porous body decreases significantly, and the contact area with fluid tends to decrease significantly.

一方、(2)および(3)の多孔質体における気孔径の
制御は骨材の粒度配合により行なわれる。この方法によ
れば、比較的大きい断面積を持つ気孔を有する多孔質体
とするためには大きな骨材を必要とし、このため粒子の
接触点が少なくなり粒子の結合強度が低下するため、多
孔質体の強度は著しく低い。一方、比較的小さい断面積
を持つ気孔を有する多孔質体 とするためには骨材の粒
度配合を粗粒と中程度の粒子および/または微粒子と適
度に混合し成形することが必要であり、成形体の気孔率
は著しく小さくなり、極端な場合一部の気孔が閉塞して
しまう傾向がある。このため、このような多孔質体を流
体が通過する際の抵抗は著しく高い。
On the other hand, the pore diameter in the porous bodies (2) and (3) is controlled by the particle size composition of the aggregate. According to this method, a large aggregate is required to create a porous body with pores with a relatively large cross-sectional area, which reduces the number of contact points between particles and reduces the bonding strength of the particles. The strength of the body is extremely low. On the other hand, in order to create a porous body with pores with a relatively small cross-sectional area, it is necessary to mix the aggregate particle size appropriately with coarse particles, medium particles, and/or fine particles, and then form the material. The porosity of the molded body becomes significantly small, and in extreme cases, some of the pores tend to become clogged. Therefore, the resistance when fluid passes through such a porous body is extremely high.

また、比較的大きな気孔断面積を有する多孔質焼結体と
して、例えば特開昭58−122016号公報によれば
、「高分子発泡体材料に炭化珪素素地泥漿を含浸し、該
高分子発泡体材料を熱処理により消失せしめて炭化珪素
素地スケルトン構造体を形成し、該構造体を1900〜
2300℃の温度においてアルゴン中にて一次焼成し次
いで160 ON2100℃の温度にて1〜200気圧
の窒素ガス中にて二次焼成しその後その両端に耐熱性1
極を形成し通電可能として成る通電発熱可能な炭化珪素
フィルタの製造法。」が開示されており、また、特開昭
48−81905号公報によれば、[致細に粉砕された
セラミック材料を含むスラリーを有機質発泡体に含浸さ
せ、こうして含浸された発泡体を乾燥し、焼成し、その
際発泡体にスラリーを含浸さ亡るに先立ち、発泡体はス
ラリー中の粒子状材料が発泡溝造物の表面に粘着するに
至るように部層されることを特徴とする多孔性セラミッ
ク材料の製造方法。」が開示されている。
In addition, as a porous sintered body having a relatively large pore cross-sectional area, for example, according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-122016, "a polymer foam material is impregnated with silicon carbide base slurry, The material is eliminated by heat treatment to form a silicon carbide skeleton structure, and the structure is
Firstly fired in argon at a temperature of 2,300°C, then secondarily fired at a temperature of 2,100°C in nitrogen gas of 1 to 200 atmospheres, and then heat resistant 1 on both ends.
A method for manufacturing a silicon carbide filter that can generate heat when energized by forming a pole and being energized. '', and according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-81905, [an organic foam is impregnated with a slurry containing a finely ground ceramic material, and the impregnated foam is dried. , prior to firing and impregnating the foam with the slurry, the foam is layered such that the particulate material in the slurry adheres to the surface of the foam channel. A method for producing a ceramic material. ' has been disclosed.

このような多孔質体は第4図に示すような、いわゆるス
ケルトン構造体と呼ばれる大小のセル状骨格で構成され
ている。そのため、比較的大きいセル状骨格CD)で占
められた場合、その多孔質体の気孔率は80〜90引0
と高くなり、流体の通過抵抗は小さくなる反面、強度が
10〜15I9/ c−であり、実用的な而から見れば
、機械的強度に乏しく、流体との接触画壇は著しく小さ
い欠点があった。また、これらの装造方法によればポリ
ウレタンなどの高分子発泡体が構成する気泡は100 
sm以上のものになり易く、それ以下の気孔を形成する
ことは高分子の発泡性の制御、分散の点で非常に困難で
あり、また、一部気孔の独立気泡化や内部空隙に対して
隔壁部に生じた連続気孔径が小さくなる場合があるので
、流体を通過せしめるには通過抵抗が大となる欠点があ
った。
Such a porous body is composed of large and small cellular skeletons called a so-called skeleton structure, as shown in FIG. Therefore, when the porous body is occupied by a relatively large cellular skeleton CD), the porosity of the porous body is 80 to 90 minus 0.
Although the resistance to passage of the fluid is small, the strength is 10 to 15 I9/c-, which means that from a practical point of view, the mechanical strength is poor, and the contact surface with the fluid is extremely small. . Furthermore, according to these packaging methods, the number of cells formed by polymeric foam such as polyurethane is 100.
sm or larger, and forming smaller pores is extremely difficult in terms of controlling the foamability of the polymer and dispersing it. Since the diameter of the continuous pores formed in the partition wall may become small, there is a drawback that passage resistance becomes large for allowing fluid to pass through.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明は上記従来技術の欠点を除去、改善し、外部に対
し通気性を有する多孔質炭化ケイ素焼結体であって種々
の用途に応じて任意の気孔径と気孔率を有し、良好な機
械的強度と、流体の通過特注を有し、流体の分離、吸着
、吸収等の物質移動、熱移動あるいは化学反応浄を有効
に働かすことのできる多孔質炭化ナイ素焼結体とその製
造方法を提供するものである。
The present invention eliminates and improves the drawbacks of the prior art, and provides a porous silicon carbide sintered body that is permeable to the outside and has arbitrary pore diameters and porosity according to various uses. We have developed a porous sintered silicon carbide body that has mechanical strength, a custom-made fluid passage, and can effectively perform mass transfer such as fluid separation, adsorption, and absorption, heat transfer, and chemical reaction purification, and a method for producing the same. This is what we provide.

前記目的に対し本発明者は炭化ケイ素粉末を主成分とす
る原料組成物を成形し、その成形体を密閉した黒鉛ルツ
ボ中に装入して2000〜230O℃の間で焼結したと
ころ、アスペクト比の著しく大きな板状結晶が発達した
網目(薄情をなし、しかも高い気孔率を有する多孔質炭
化ケイ素焼結体が得られることを知見し、長袖方向の平
均長さが0.5〜1000μmであり、平均アスペクト
比が3〜50の炭化ケイ素質板状結晶から主として構成
されてなる三次元の網目構造を有し、前記網目構造の開
放気孔の平均断面積が0.01〜250000μm2で
ある多孔質炭化ケイ素焼結体とその製造方法を完成した
For the above purpose, the present inventor molded a raw material composition containing silicon carbide powder as a main component, charged the molded body into a closed graphite crucible, and sintered it at 2000 to 230 O℃. It was discovered that a porous silicon carbide sintered body with a developed network of plate-like crystals with a significantly large ratio (low-temperature) and high porosity can be obtained, and the average length in the long sleeve direction is 0.5 to 1000 μm. porous, which has a three-dimensional network structure mainly composed of silicon carbide plate crystals with an average aspect ratio of 3 to 50, and in which the average cross-sectional area of open pores of the network is 0.01 to 250,000 μm2. A quality silicon carbide sintered body and its manufacturing method have been completed.

〔間:・貝点を解決するための手段〕[Pause: Means for solving shell points]

以下、本発明の多孔質炭化ケイ素焼結体を詳細に説明す
る。
Hereinafter, the porous silicon carbide sintered body of the present invention will be explained in detail.

第1図は本発明の1つの多孔質炭化ケイ素焼結体の結晶
構造の走査を電子顕微鏡写真(X75)である。図面か
ら明らかなように本発明の多孔質炭化ケイ素焼結体はア
スペクト比が10〜20、長さが約500μmに及ぶ炭
化クイ素質板状結晶が多方向に複雑に絡み合った三次元
A4目構造を有し、さらに気孔が連続しかつ直線的でな
い開放気孔であって、しかも通気性に富んでいる。ここ
でいう炭化ケイ素質板状結晶の長さとは焼結体の任意の
断面において観察される蘭々の板状結晶の最大長さくX
)であり、同様に個々の板状結晶のアスペクト比(R)
は板状結晶の最大厚み(Y)と前記結晶長さくX)との
比として、すなわち、RwamX/Yで表わされる。
FIG. 1 is an electron micrograph (X75) scanning the crystal structure of one porous silicon carbide sintered body of the present invention. As is clear from the drawings, the porous silicon carbide sintered body of the present invention has a three-dimensional A4 mesh structure in which silica carbide plate crystals with an aspect ratio of 10 to 20 and a length of approximately 500 μm are intricately intertwined in multiple directions. Furthermore, the pores are continuous and non-linear open pores, and are highly breathable. The length of the silicon carbide plate crystals herein refers to the maximum length of the orchid plate crystals observed in any cross section of the sintered body.
), and similarly the aspect ratio (R) of each individual plate crystal is
is expressed as the ratio of the maximum thickness (Y) of the plate crystal to the crystal length (X), that is, RwamX/Y.

本発明の多孔質体は平均アスペクト比が3〜50の炭化
ケイ素板状結晶で構成された三次元の網目構造となって
いることが特徴である。前記多孔質体の平均アスペクト
比を8以上とする理由は炭化ケイ素質板状結晶によって
構成される気孔が結晶の占める容積に比べて大きな多孔
質体、すなわち高い気孔率を有する多孔質体となすため
である。
The porous body of the present invention is characterized by having a three-dimensional network structure composed of silicon carbide plate crystals having an average aspect ratio of 3 to 50. The reason why the average aspect ratio of the porous body is set to 8 or more is that the pores formed by the silicon carbide plate crystals are larger than the volume occupied by the crystals, that is, the porous body has a high porosity. It's for a reason.

なお従来の多孔質炭化ケイ素焼結体は第3図に示したよ
うに成形時の骨材の配置によって決定されており、本発
明の如き板状結晶が発達した多孔質体と異なり、その結
晶のアスペクト比はせいぜい2前後に過ぎず、高い気孔
率あるいは大きな気孔断面積を有していない。
Note that the conventional porous silicon carbide sintered body is determined by the arrangement of aggregate during molding, as shown in Figure 3, and unlike the porous body in which plate-like crystals are developed as in the present invention, the crystals are The aspect ratio is only around 2 at most, and it does not have a high porosity or a large pore cross-sectional area.

ところで従来、比較的板状結晶が発達した構造を有する
焼結体がたとえば、USP、A4QO49a4およびJ
ournal Anxerican Ceramic 
5ociety rs 9巻pp、336−43(19
76)に示されている。
By the way, conventionally, sintered bodies having a structure in which plate-like crystals are relatively developed are, for example, USP, A4QO49a4 and J
ouranxericanceramic
5ocity rs vol. 9 pp. 336-43 (19
76).

しかし前記焼結体は比較的緻密化した炭化ケイ素焼結体
であり、その板状結晶は緻密化に伴って生じるものであ
る。したがって本発明の焼結体の如く板状結晶のみを発
達させた焼結体とは構造がまったく異なっている。
However, the sintered body is a relatively densified silicon carbide sintered body, and the plate-like crystals are generated as the sintered body becomes densified. Therefore, the structure is completely different from a sintered body in which only plate crystals are developed, such as the sintered body of the present invention.

一方、本発明の多孔質体の平均アスペクト比を50以下
とする理由は平均アスペクト比が50よりも大きい板状
結晶で構成された多孔質体は結晶相互の接合部が少ない
ため、多孔室体自体の強度が低いからである。なかでも
前記板状結晶の平均アスペクト比は5〜30であること
がより好適であり、この範囲内で本発明の多孔質体を種
々の用途に応じて選択することができる。
On the other hand, the reason why the average aspect ratio of the porous body of the present invention is set to 50 or less is that a porous body composed of plate-shaped crystals with an average aspect ratio larger than 50 has few joints between the crystals, so the porous body This is because the strength itself is low. Among these, it is more preferable that the average aspect ratio of the plate crystals is 5 to 30, and the porous body of the present invention can be selected within this range depending on various uses.

また、前記板状結晶の長袖方向の平均長さは0.5〜1
000μmであることが必要である。その理由は長軸方
向の平均長さが0.5μmより小さいと前記板状結晶に
より形成される気孔が小さく、場合によっては気孔の一
部が独立気孔になっていることがあり、流体の通過抵抗
が大きいためである。
Further, the average length of the plate crystals in the long sleeve direction is 0.5 to 1
000 μm. The reason for this is that when the average length in the major axis direction is smaller than 0.5 μm, the pores formed by the plate-like crystals are small, and in some cases, some of the pores may become independent pores, allowing fluid to pass through. This is because the resistance is large.

一方、1000μmより長くなると、板状結晶の接合部
の強度が小さく、多孔室体自体の強度が低いためである
。なかでも、前記板状結晶の長袖方向の平均長さは1〜
800μmであることがより好適であり、この範囲内で
本発明の多孔質体を種々の用途に応じて選択することが
できる。
On the other hand, if the length is longer than 1000 μm, the strength of the joint between the plate crystals is low, and the strength of the porous chamber body itself is low. Among them, the average length of the plate crystals in the long sleeve direction is 1 to
More preferably, it is 800 μm, and the porous body of the present invention can be selected within this range depending on various uses.

また、前記網目構造の開放気孔の平均断面積は0.01
〜250000μ♂であることが必要である。
Further, the average cross-sectional area of the open pores of the network structure is 0.01
It is necessary that the diameter is ~250,000μ♂.

その理由は開放気孔の平均断面積が0.01μ−以上で
あると、流体の通過抵抗が小さいためである。
The reason for this is that when the average cross-sectional area of the open pores is 0.01 μm or more, the resistance to passage of fluid is small.

一方、開放気孔の平均断面積が250000μげより大
きいと、多孔室体自体の強度が低く、なかでも前記網目
構造の開数気孔の平均断面[aは0.25〜90000
μげであることがより好ましく、この範囲内で本発明の
多孔質体を種々の用途に応じて選択することができる。
On the other hand, if the average cross-sectional area of the open pores is larger than 250,000μ, the strength of the porous chamber body itself is low.
It is more preferable that the porous material of the present invention be within this range depending on various uses.

そして前記多孔質体の結晶100重量部のうち3〜50
のアスペクト比を有する板状結晶は少くとも20重置部
を占めることが好ましい。ところで、前記板状結晶の含
有量は結晶の構造写真を解析することにより求められる
。ここで、前記多孔質体が20重量部以上の3〜50の
アスペクト比を有する板状結晶で占められていることが
好ましい理由は、前記板状結晶が20重量部より少いと
、アスペクト比の小さい炭化ケイ素結晶が多く含まれる
ことになり、流体の通過抵抗が大きいからである。なか
でも前記板状結晶は前記多孔質体の結晶100重量部の
うち少くとも40重量部を占めることが有利である。
and 3 to 50 parts by weight of 100 parts by weight of crystals in the porous body.
It is preferable that the plate-like crystals having an aspect ratio of occupies at least 20 overlapping parts. Incidentally, the content of the plate crystals can be determined by analyzing a structural photograph of the crystals. Here, the reason why the porous body is preferably occupied by 20 parts by weight or more of plate crystals having an aspect ratio of 3 to 50 is that if the plate crystals are less than 20 parts by weight, the aspect ratio This is because a large number of small silicon carbide crystals are included, and the resistance to passage of fluid is large. In particular, it is advantageous for the plate crystals to account for at least 40 parts by weight of 100 parts by weight of the crystals in the porous body.

そして、前記多孔質炭化ケイ素焼結体の開放気孔率は焼
結体の全容積に対し20〜95容量チであることが好ま
しい。その理由は開放気孔率が20容量チよりも小さい
と気孔の一部が独立気孔であり、焼結体を流体が通過す
る時の抵抗が大きく、また、流体と接触する面積が小さ
いためであり、一方95容量チよりも大きいと、流体と
の接触面積は大きい反面、前記多孔質焼結体の強度が低
く、使用が困難となるためであり、なかでも耐熱構造材
、熱交換器、フィルター等の用途に対して前記多孔質体
の開放気孔率は焼結体の全容量に対し80〜90容量チ
であることが有利である。
The open porosity of the porous silicon carbide sintered body is preferably 20 to 95% by volume based on the total volume of the sintered body. The reason for this is that when the open porosity is smaller than 20% by volume, some of the pores are independent, and the resistance when fluid passes through the sintered body is large, and the area in contact with the fluid is small. On the other hand, if the capacity is larger than 95 cm, the contact area with the fluid is large, but the strength of the porous sintered body is low, making it difficult to use, especially for heat-resistant structural materials, heat exchangers, filters. For such uses, it is advantageous that the open porosity of the porous body is 80 to 90% by volume based on the total volume of the sintered body.

そして、前記炭化ケイ素焼結体の比表面積は少くとも0
,05 wl/qであることが好ましい。ここで比表面
積は窒素吸着によるBET法によって求められる値であ
る。比表面積が0.05 I11″/g以上が好ましい
理由は、熱交換器、触媒担体あるいは吸着材などの用途
では、焼結体と流体との接触面積が多い方が好ましいた
めであり、なかでもこれらの用途に対しては少くとも0
.2♂/gの比表面積であることが最も好適に使用でき
る。
The specific surface area of the silicon carbide sintered body is at least 0.
,05 wl/q. Here, the specific surface area is a value determined by the BET method using nitrogen adsorption. The reason why a specific surface area of 0.05 I11''/g or more is preferable is that in applications such as heat exchangers, catalyst carriers, or adsorbents, it is preferable to have a large contact area between the sintered body and the fluid. At least 0 for these applications
.. A specific surface area of 2♂/g can be most preferably used.

次に本発明における多孔質炭化ナイ素焼結体の製造方法
について詳細に説明する。
Next, a method for producing a porous sintered nium carbide body according to the present invention will be described in detail.

本発明によれば、 (a)  平均粒径が10μm以下の炭化ケイ素粉末で
あってβ型、2HfJ1および非晶質の炭化ケイ素を少
くとも60重量%富有する炭化ケイ素粉末を所望の形状
に成形する工程;および (b)前記(a)工程により得られた成形体を耐熱性の
容器内に装入して外気の侵入を遮断しつつ1900〜2
300℃の温度範囲内で焼成する工程によって長軸方向
の平均長さが10〜1000μm1平均アスペクト比が
3〜50の炭化ケイ素板状結晶から主として1成されて
なる三次元網目構造を有し、前記網目構造の開放気孔の
平均断面積が400〜250000μゼの範囲内の平均
断面積を有する多孔質炭化ケイ素焼結体を得ることがで
きる。
According to the present invention, (a) silicon carbide powder having an average particle size of 10 μm or less and containing at least 60% by weight of β-type, 2HfJ1 and amorphous silicon carbide is formed into a desired shape; and (b) the molded product obtained in step (a) is placed in a heat-resistant container and heated at 1900 to 200°C while blocking the intrusion of outside air.
It has a three-dimensional network structure mainly composed of silicon carbide plate-like crystals with an average length in the major axis direction of 10 to 1000 μm and an average aspect ratio of 3 to 50, which is obtained by firing within a temperature range of 300 ° C. A porous silicon carbide sintered body can be obtained in which the average cross-sectional area of the open pores of the network structure is within the range of 400 to 250,000 microns.

本発明によれば、出発原料は少くとも60重量%のβ型
、2I(型および非晶質の炭化ケイ素焼結体を含有する
炭化ケイ素の出発原料の1つとすることが必要である。
According to the invention, it is necessary that the starting material be one of the silicon carbide starting materials containing at least 60% by weight of type β, 2I (type) and amorphous silicon carbide sintered body.

この理由はβ型結晶、2H型結晶および非晶質の炭化ケ
イ素結晶は比較的低温で合成される低温安定型結晶であ
り、焼結に際し、その一部が4H,6Hあるいは15R
型等の高温安定型α型結晶に相転移しC1板状結晶を生
じやすいばかりでなく、結晶の成長性にも優れた特性を
有し、特に60重イ1チ以上のβ型炭化ケイ素からなる
出発原料を用いることによって本発明の目的とする多孔
質体を製造することができるからである。なかでも少く
とも70重量%のβ型、2H型および非晶質炭化ケイ素
を含有する出発原料を眉いることが好適である。
The reason for this is that β-type crystals, 2H-type crystals, and amorphous silicon carbide crystals are low-temperature stable crystals that are synthesized at relatively low temperatures.
Not only does it easily undergo a phase transition to a high-temperature stable α-type crystal such as C1 plate crystals, but it also has excellent crystal growth properties. This is because the porous body targeted by the present invention can be produced by using the starting materials. Among these, it is preferable to use a starting material containing at least 70% by weight of β-type, 2H-type and amorphous silicon carbide.

そして、前記出発原料は平均粒径が10μm以下の微粉
末であることが必要である。平均粒径が10μmよりも
小さい粉末は、粒子相互の接触点が比較的多く、また炭
化ケイ素の焼成温度において、熱的活性が大であり、炭
化ケイ素粒子間での原子の移動が著しく大きいため、炭
化ケイ素粒子相互の結合が極めて起りやすい。したがっ
て板状結晶の成長性が著しく高い。特に、前記出発原料
の平均粒径は54m以下であることが板状結晶の成長性
により好ましい結果を与える。
The starting material needs to be a fine powder with an average particle size of 10 μm or less. Powders with an average particle size of less than 10 μm have a relatively large number of contact points between particles, and at the sintering temperature of silicon carbide, the thermal activity is large and the movement of atoms between silicon carbide particles is extremely large. , bonding between silicon carbide particles is extremely likely to occur. Therefore, the growth rate of plate crystals is extremely high. In particular, it is preferable that the average particle size of the starting material is 54 m or less, which gives more favorable results in the growth of plate crystals.

そして、前記出発原料により所望の形状に成形された炭
化ケイ素成杉体はたとえば黒鉛、炭化ケイ素等の耐熱1
生の容器内に装入しC外気の侵入を遮断しつつ1900
〜2300”Cの温度・範囲内で焼成することが必要で
ある。このように耐熱性の容器内に装入し゛で外気の侵
入を遮断しつつ焼成を行う理由は、隣接する炭化ケイ素
結晶同志を融合させかつ板状結晶の成長を促進させるこ
とができるからである。前述の如く耐熱性の容器内に装
入して外気の侵入を遮断しつつ焼成することによって隣
接する炭化ケイ素結晶同志を融合させ板状結晶の成長を
促進させることのできる理由は、炭化ケイ素粒子間にお
ける炭化ケイ素原子の蒸発−再凝縮および/または表面
拡散による移動を促進することができるためと考えられ
る。これに対し、従来知られている常圧焼結、雰囲気加
圧焼結あるいは減圧下における焼結法を試みたところ、
板状結晶の成長が困難であるばかりでなく炭化ケイ素粒
子の接合部がネック状にくびれた形状となり、焼結体の
強度が低くなった。前記耐熱性の容器としては、黒鉛・
、炭化ケイ素、炭化タングステン。
The silicon carbide cedar body molded into a desired shape from the starting materials is made of heat resistant 1.
1900 while blocking the intrusion of outside air by charging it in a raw container.
It is necessary to perform firing within a temperature range of ~2300"C.The reason why the firing is performed while blocking the intrusion of outside air by charging the container in a heat-resistant container is because the adjacent silicon carbide crystals This is because it is possible to fuse adjacent silicon carbide crystals and promote the growth of plate-shaped crystals.As mentioned above, by charging the silicon carbide crystals in a heat-resistant container and firing while blocking the intrusion of outside air, adjacent silicon carbide crystals can be fused together. The reason why the growth of plate-shaped crystals can be promoted through fusion is thought to be because the movement of silicon carbide atoms between silicon carbide particles by evaporation-recondensation and/or surface diffusion can be promoted. When we tried conventional pressureless sintering, atmospheric pressure sintering, or sintering under reduced pressure, we found that
Not only was it difficult to grow the plate-like crystals, but the joints of the silicon carbide particles had a constricted neck shape, and the strength of the sintered body was reduced. As the heat-resistant container, graphite
, silicon carbide, tungsten carbide.

モリブデン、炭化モリブデンのうち少くとも1種以上の
材質からなる耐熱性容器を使用することがより好適であ
る。
It is more preferable to use a heat-resistant container made of at least one material selected from molybdenum and molybdenum carbide.

本発明によれば、前記生成形体を外気を遮断することの
できる耐熱性容器中に装入して・焼成することにより、
焼成時における炭化ケイ素の揮散率を5重清面以下とす
ることが有利である。
According to the present invention, by charging the formed body into a heat-resistant container that can block outside air and firing it,
It is advantageous that the volatilization rate of silicon carbide during firing is 5 times higher or lower.

また本発明の多孔質体において、比較的大きな平均断面
積の開放気孔を有する多孔質体を得るには焼成時の昇温
速度を比較的ゆっくりとした速度で焼成すること、最高
温度を比較的高くすることおよび/または最高温度での
保持時間を長くすることが好ましい。この条件によれば
個々の炭化ケイ素の板状結晶を大きく成長させることが
でき、その結果、大きな気孔断面積を有する多孔質体を
得ることができる。
In addition, in the porous body of the present invention, in order to obtain a porous body having open pores with a relatively large average cross-sectional area, the temperature increase rate during firing must be relatively slow, and the maximum temperature must be set relatively low. It is preferable to increase the temperature and/or to increase the holding time at the maximum temperature. Under these conditions, individual silicon carbide plate crystals can be grown to a large size, and as a result, a porous body having a large pore cross-sectional area can be obtained.

一方、本発明の多孔質体において比較的小さな  ”平
均断面積の開放気孔を有する多孔質体を得るには、焼成
時の昇温速度を比較的速くすること、最高温度を比較的
小さくすることおよび/または最高温度における保持時
間を短くすることが好ましい。この条件によれば個々の
炭化ケイ素の板状結晶をそれほど成長させることがない
からである。
On the other hand, in order to obtain a porous body having open pores with a relatively small average cross-sectional area in the porous body of the present invention, the heating rate during firing must be relatively fast and the maximum temperature must be relatively low. And/or it is preferable to shorten the holding time at the maximum temperature, since this condition does not allow individual silicon carbide plate crystals to grow as much.

また、本発明によれば1900〜2300°Cの温度範
囲で焼成することが必要である。この理由は焼成温度が
1900℃よりも低いと粒子の成長が不十分であり、高
い強度を有する多孔質体を有ることが困難であり、23
00℃よりも高い温度になると炭化ケイ素の昇華が盛ん
になり、発達した板状結晶が逆にやせ細ってしまい、そ
の結果高い強度を持った多孔質体を得ることが困難とな
るためであり、なかでも1950〜2250°Cの間で
焼成することがより好適である。
Further, according to the present invention, it is necessary to perform firing at a temperature range of 1900 to 2300°C. The reason for this is that if the firing temperature is lower than 1900°C, particle growth will be insufficient and it will be difficult to create a porous body with high strength.
This is because when the temperature is higher than 00°C, the sublimation of silicon carbide increases, and the developed plate-like crystals become thinner, making it difficult to obtain a porous body with high strength. Among these, firing at a temperature between 1950 and 2250°C is more preferable.

本発明によれば、 (〜 平均粒径が10μm以下の炭化ケイ素であって、
この粉末はα型、β型および/または非晶質炭化ケイ素
と不可避的不純物とからなる炭化ノー素粉末である出発
原料であって、この粉末′、00重量部に対し、アルミ
ニウム、ニホウ1rアルミニウム。
According to the present invention, (~ silicon carbide having an average particle size of 10 μm or less,
This powder is a starting material which is a carbon carbide powder consisting of α-type, β-type and/or amorphous silicon carbide and unavoidable impurities. .

炭化アルミニウム、窒化アルミ°、ウム、酸化アルミニ
ウム、ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素、酸化ホウ素、
酸化カルシウム、炭化カルシウム、クロム、ホウ化クロ
ム、窒化クロム、酸化クロム。
Aluminum carbide, aluminum nitride, aluminum, aluminum oxide, boron, boron carbide, boron nitride, boron oxide,
Calcium oxide, calcium carbide, chromium, chromium boride, chromium nitride, chromium oxide.

鉄、炭化鉄、酸化鉄、ホウ化ランタン、酸化ランタン、
酸化リチウム、ケイ素、窒化ケイ素、チタン、酸化チタ
ン、二酸化チタン、三酸化チタンおよび酸化イツトリウ
ムのなかから選ばれるいずれか1種または28i以上を
lθ重λ部以下を均一に混合する工程; ■) 前記(〜工程により得られた混合物を成形する工
程;および (C)  前記の)工程により得られた成形体を耐熱性
容器内に装入して外気の侵入を遮断しつつ1700〜2
300℃の温度範囲内で焼成する工程により、長軸方向
の平均長さが0.5〜200μm1平均アスペク:比が
3〜50の炭化ケイ素板状結晶から主として構成されて
なる三次元網目構造を有し、前記網目構造の開放気孔の
平均断面積が0.01〜10000μm2の範囲内の平
均断面積を有する多孔質炭化ケイ素焼結体を得ることが
できる。
Iron, iron carbide, iron oxide, lanthanum boride, lanthanum oxide,
(2) A step of uniformly mixing 28i or more of any one selected from lithium oxide, silicon, silicon nitride, titanium, titanium oxide, titanium dioxide, titanium trioxide, and yttrium oxide in an amount of 1θ weight or less; (a step of molding the mixture obtained in the step ~; and (C) the molded product obtained in the above step) is charged into a heat-resistant container and heated to 1700~2
By firing within a temperature range of 300°C, a three-dimensional network structure mainly composed of silicon carbide plate crystals with an average length in the long axis direction of 0.5 to 200 μm and an average aspect ratio of 3 to 50 is formed. It is possible to obtain a porous silicon carbide sintered body having an average cross-sectional area of open pores in the network structure within a range of 0.01 to 10,000 μm 2 .

本発明によれば、前記出発原料は平均粒径が10μm以
下の微粉末であることが必要で元る。平均粒径が10μ
mよりも小さい粉末は、粒子相互の接触点が比較的多く
、また炭化ケイ素の焼成温度においC1熱的活性が大で
あり、炭化ケイ素粒子間での原子の移動が著しく大きい
ため、炭化ケイ素粒子相互の結合が極めて起りやすい。
According to the present invention, the starting material is required to be a fine powder with an average particle size of 10 μm or less. Average particle size is 10μ
Powders smaller than m have a relatively large number of contact points between particles, and C1 thermal activity is large at the sintering temperature of silicon carbide, and the movement of atoms between silicon carbide particles is extremely large, so silicon carbide particles Mutual coupling is extremely likely to occur.

したがって板状結晶の成長性が著しく高い。特に、前記
出発原料の平均粒径は5μm以下であることが板状結晶
の成長性により好ましい結果を与える。
Therefore, the growth rate of plate crystals is extremely high. In particular, it is preferable that the average particle size of the starting material is 5 μm or less, which gives more favorable results in the growth of plate-shaped crystals.

本発明によれば、アルミニウム、ニホウ化アルミニウム
、炭化アルミニウム、窒化アルミニウム。
According to the invention, aluminum, aluminum diboride, aluminum carbide, aluminum nitride.

酸化アルミニウム、ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホや素、
酸化ホウ素、酸化カルシウム、炭化カルシウム、クロム
、ホウ化クロム、窒化クロム、酸化クロム、鉄、炭化鉄
、三酸化鉄、ホウ化ランタン。
Aluminum oxide, boron, boron carbide, boron nitride,
Boron oxide, calcium oxide, calcium carbide, chromium, chromium boride, chromium nitride, chromium oxide, iron, iron carbide, iron trioxide, lanthanum boride.

酸化ランタン、酸化リチウム、ケイ素、窒化ケイ素、チ
タン、酸化チタン、二酸化チタン、三酸化チタンおよび
酸化イツトリウムの中から選ばれるいずれか1種または
2種以上を添加することが必要である。前記物質は炭化
ケイ素の結晶成長の速度を著しく高める働きがあり、一
方、前記物質は前記炭化ケイ素成形体の焼成温度170
0〜2300℃において前記物質の蒸気および/または
分解生成物の蒸気が生成し、前記炭化ケイ素成形体のす
みずみまで拡散し、極めて多くの板状結晶の核が形成さ
れ、各々の部分で板状結晶の発達が起こり、その結果形
成される板状結晶の大きさが制限され細かい組織の三次
元網目構造となるためである。
It is necessary to add one or more selected from lanthanum oxide, lithium oxide, silicon, silicon nitride, titanium, titanium oxide, titanium dioxide, titanium trioxide, and yttrium oxide. The substance has the function of significantly increasing the rate of crystal growth of silicon carbide, and on the other hand, the substance has the effect of increasing the sintering temperature of the silicon carbide compact to 170°C.
At 0 to 2300°C, the vapor of the substance and/or the vapor of the decomposition product are generated and diffused throughout the silicon carbide molded body, forming a large number of plate-like crystal nuclei, and forming plate-like crystals in each part. This is because the development of plate-like crystals occurs, and as a result, the size of the plate-like crystals formed is restricted, resulting in a fine three-dimensional network structure.

前記化合物のうち、特にホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ
素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム。
Among said compounds, in particular boron, boron carbide, boron nitride, aluminum oxide, aluminum nitride.

鉄、炭化アルミニウム、ニホウ化アルミニウム。Iron, aluminum carbide, aluminum diboride.

アルミニウムを有利に使用することができる。Aluminum can be used advantageously.

一方、前記物質の添加量は前記炭化ケイ素を主体として
なる出発原料100重量部に対し、10重量部以下であ
ることが必要である。その理由は、10重量部よりも多
く添加しても、前記炭化ケイ素成形体の焼成温度範囲内
において前記化合物および/またはその分解生成物の蒸
気分圧はほとんど変らない。逆に前記物質が前記成形体
内で残留する量が多くなるため炭化ケイ素本来の特性が
失なわれるからである。さらに板状結晶の成長に適した
前記化合物の添加量は炭化ケイ素出発原料100重1部
に対し、5′&量部以下が好適である。
On the other hand, the amount of the substance added needs to be 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the starting material mainly consisting of silicon carbide. The reason is that even if more than 10 parts by weight is added, the vapor partial pressure of the compound and/or its decomposition product hardly changes within the firing temperature range of the silicon carbide molded body. On the contrary, since the amount of the substance remaining in the molded body increases, the original properties of silicon carbide are lost. Further, the amount of the compound suitable for growth of plate crystals is preferably 5' parts or less per 1 part by weight of 100 parts by weight of silicon carbide starting material.

また、前記出発原料として使用される炭化ケイ素はα型
、β型および/または非晶質炭化ケイ素のいずれも使用
することができる。
Furthermore, the silicon carbide used as the starting material may be any of α-type, β-type and/or amorphous silicon carbide.

本発明によれば焼成時に遊離カーボンを残す炭JA源を
添加することができる。このような炭素源としては、焼
結開始時に炭素の状態で存在するものであれば使用する
ことができ、例えばフェノール樹脂、リグニンスルホン
酸塩、ポリビニルアルコール、コンスターチ、糖蜜、コ
ールタールピッチ、アルギン酸塩のような各種有機物質
あるいはカーボンブラック、アセチレンブラックのよう
な熱分解炭素を有利に使用することができる。
According to the present invention, a charcoal JA source that leaves free carbon during firing can be added. As such a carbon source, any carbon source that exists in the carbon state at the start of sintering can be used, such as phenolic resin, lignin sulfonate, polyvinyl alcohol, corn starch, molasses, coal tar pitch, and alginate. Various organic substances such as carbon black, pyrolytic carbon such as acetylene black can be advantageously used.

遊離カーボンは前記物質と同時に存在すると、結晶の成
長性を抑え、微細な炭化ケイ素板状結晶を形成するため
、微細な気孔を有する多孔質体を得るのに効果がある。
When free carbon exists simultaneously with the above substances, it suppresses crystal growth and forms fine silicon carbide plate crystals, which is effective in obtaining a porous body having fine pores.

また、前記遊離炭素分としては出発原料100重量部に
対し、5重量部以下であることが有利である。その理由
は、5重−軟部より多く添加してもその効果には変わら
ず逆に前記多孔体に残留する量が多くなり、多孔質体の
耐酸化性を低下させるためであり、なかでも3重量部以
下であることがより効果的である。
Further, it is advantageous that the free carbon content is 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the starting material. The reason for this is that even if more than the 5-fold soft part is added, the effect will not change, but on the contrary, the amount remaining in the porous body will increase, reducing the oxidation resistance of the porous body. It is more effective that the amount is less than parts by weight.

本発明によれば、前記耐熱性容器としC1黒鉛。According to the invention, the heat-resistant container is C1 graphite.

炭化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭
化タングステン、炭化チタン、酸化マグネシウム、炭化
モリブデン、モリブデン、炭化タンタル、タンタル、炭
化ジルコニウム、黒鉛−炭化ケイ素複合体の中から選ば
れるいずれか141からなる容器を使用することができ
る。
Use a container made of any one selected from silicon carbide, aluminum nitride, zirconium oxide, tungsten carbide, titanium carbide, magnesium oxide, molybdenum carbide, molybdenum, tantalum carbide, tantalum, zirconium carbide, and graphite-silicon carbide composite. can do.

これらの容器は前記焼成温度範囲内で溶融することがな
く、その形を保持することが可能であり、また、前記添
加物の蒸気および/または分解生成物の蒸気の系外への
漏出を抑制し、前記添加物の効果を炭化ケイ素成形体の
すみずみまで行きわたらせる効果がある。なかでも、黒
鉛、炭化ケイ素。
These containers do not melt within the firing temperature range and can maintain their shape, and also prevent the vapors of the additives and/or decomposition products from leaking out of the system. However, the effect of the additive can be spread to every corner of the silicon carbide molded body. Among them, graphite and silicon carbide.

黒鉛−炭化ケイ素複合体、炭化タングステン、窒化アル
ミニウム、炭化チタン   、モリブデン。
Graphite-silicon carbide composite, tungsten carbide, aluminum nitride, titanium carbide, molybdenum.

炭化モリブデンを有効に使用することができる。Molybdenum carbide can be used effectively.

また本発明の多孔質体において、比較的大きな平均断面
積の開放気孔を有する多孔質体を得るには焼成時の昇温
速度を比較的ゆっくりとした速度で焼成すること、最高
温度を比較的高くすることおよび/または最高温度での
保持時間を長くすることが好ましい。この条件によれば
個々の炭化ケイ素の板状結晶を大きく成長させることが
でき、その結果、大きな気孔断面積を有する多孔質体を
得ることができる。
In addition, in the porous body of the present invention, in order to obtain a porous body having open pores with a relatively large average cross-sectional area, the temperature increase rate during firing must be relatively slow, and the maximum temperature must be set relatively low. It is preferable to increase the temperature and/or to increase the holding time at the maximum temperature. Under these conditions, individual silicon carbide plate crystals can be grown to a large size, and as a result, a porous body having a large pore cross-sectional area can be obtained.

一方、本発明の多孔質体において比較的小さな平均断面
積の開放気孔を有する多孔質体を得るには、焼成時の昇
温速度を比較的速くすること、最高温度を比較的小さく
することおよび/または最高温度における保持時間を短
くすることが好ましい。この条件によ−れば個々の炭化
ケイ素の板状結晶をそれほど成長させることがないから
である。
On the other hand, in order to obtain a porous body having open pores with a relatively small average cross-sectional area in the porous body of the present invention, the heating rate during firing should be relatively fast, the maximum temperature should be relatively low, and It is preferable to shorten the holding time at the maximum temperature. This is because, under these conditions, individual plate-like crystals of silicon carbide are not allowed to grow much.

また、本発明によれば1700〜2300℃の温度範囲
で焼成することが心安である。この理由は焼成温度が1
700℃よりも低いと粒子の成長が不十分であり、高い
強度を有する多孔質体を得  ′ることが困難であり、
2300℃よりも高い温度になると炭化ケイ素の昇華が
盛んになり、発達した板状結晶が逆にやせ細つ°Cしま
い、その結果高い強度を持った多孔質体を得ることが困
難となるためであり、なかでも1750〜2250″C
の間で焼成することがより好適である。
Further, according to the present invention, it is safe to perform firing at a temperature range of 1700 to 2300°C. The reason for this is that the firing temperature is 1
If the temperature is lower than 700°C, particle growth will be insufficient and it will be difficult to obtain a porous body with high strength.
At temperatures higher than 2,300°C, silicon carbide sublimates rapidly, and the developed plate-like crystals become thin and thin, making it difficult to obtain a porous body with high strength. Among them, 1750~2250″C
It is more preferable to perform the firing between

次に本発明を実施例および比較例について説明する。Next, the present invention will be explained with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1 出発原料として使用した炭化ケイ素微粉末は94.6重
量%がβ型結晶で残部が実質的に2Hを結晶よりなり、
0.39’[量チの遊雇炭素、0.17重量%の酸素、
0.03重量%の鉄、0.03重量%のアルミニウムを
主とし°C含有し、0.28μmの平均粒径を有してい
た。
Example 1 The silicon carbide fine powder used as a starting material contained 94.6% by weight of β-type crystals and the remainder substantially consisted of 2H crystals,
0.39' [quantity of free carbon, 0.17% by weight of oxygen,
It mainly contained 0.03% by weight of iron and 0.03% by weight of aluminum at °C, and had an average particle size of 0.28 μm.

前記炭化ケイ素微粉末1ooi−i部に対し、ポリビニ
ルアルコール5重量部、水300重量部を配合し、ボー
ルミル中で5時1wI混合した後乾燥した。
5 parts by weight of polyvinyl alcohol and 300 parts by weight of water were blended with 100 parts by weight of the silicon carbide fine powder, mixed for 5:1 wI in a ball mill, and then dried.

この乾燥混合物を適量採堰し、頂粒化した後金肩製押し
型を用いて5019 / cdの圧力で成形した。
An appropriate amount of this dry mixture was sampled, top granulated, and then molded at a pressure of 5019/cd using a press die made by Kanekata.

この生成形体の密度は1,2り/ cJ 、乾燥重量は
21りであった。 ・ 前記生成形体を外気を遮断することのできる黒鉛製ルツ
ボに装入し、タンマン型情成炉を使用して1気圧のアル
ゴンガス雰囲気中で焼成した。なお、前記黒鉛製ルツボ
は内容積が50−のもの゛を[走用した。
The resulting product had a density of 1.2 l/cJ and a dry weight of 21 l/cJ. - The resulting green body was placed in a graphite crucible that can be shut off from outside air, and fired in an argon gas atmosphere at 1 atm using a Tammann type furnace. The graphite crucible used was one with an internal volume of 50.

焼成は2.5°C/分で2200℃まで昇温し、最高温
度2200°Cで6時間保持した。
For firing, the temperature was raised to 2200°C at a rate of 2.5°C/min and maintained at the maximum temperature of 2200°C for 6 hours.

得られた焼結体の重量は19.69であり、その結晶溝
造は第1図の走査型1子顕微鏡写真(75倍)に示した
ように、平均アスペクト比が12で長袖方向の平均長さ
が380μmの板状結晶が多方向に複雑に絡み合った三
次元溝造を有しており、3〜50のアスペクト比を有す
る板状結晶の含有量は多孔質体全重:Itの98%であ
った。また、この多孔質体の気孔は直線的でない開放気
孔であり、その開放気孔率は全容積の64%を占めてお
り、比表面積は1.2 rl/りであった。
The weight of the obtained sintered body was 19.69, and its crystal groove structure had an average aspect ratio of 12 and an average of It has a three-dimensional groove structure in which plate crystals with a length of 380 μm are complicatedly intertwined in multiple directions, and the content of plate crystals with an aspect ratio of 3 to 50 is 98% of the total weight of the porous body: It. %Met. Further, the pores of this porous body were non-linear open pores, the open porosity accounted for 64% of the total volume, and the specific surface area was 1.2 rl/liter.

この焼結体の曲げ強度は180 kg / crdと高
く、またこの多孔質体の通気特性を肉厚5朋の試検片を
使用し、20℃の空気をl m / SeCの流速で通
過させて測定したところ、その圧力損失は480謁水柱
以下であった。
The bending strength of this sintered body is as high as 180 kg/crd, and the ventilation characteristics of this porous body were investigated using a test specimen with a wall thickness of 5 mm and air at 20°C passing through it at a flow rate of 1 m/SeC. When measured, the pressure loss was less than 480 columns of water.

比較例1 実施例1と同様な方法であるが、成形体を黒鉛製のルツ
ボに入れず、そのままアルゴン雰囲気中で常圧焼結を行
ったところ、i s、s pの焼結体が得られ、その結
晶溝造は平均アスペクト比が1.8、長袖方向の平均長
さ30μmのほとんど粒状の炭化−ケイ素からなる溝造
であった。この焼結体の開放気孔率は全容積の67容量
チであったが、曲げ強度は4 kg/ c++fであり
著しく低いものとなった。
Comparative Example 1 A method similar to Example 1 was used, but the molded body was not placed in a graphite crucible and sintered under normal pressure in an argon atmosphere. A sintered body of i s, sp was obtained. The crystal groove structure was made of mostly granular silicon carbide with an average aspect ratio of 1.8 and an average length in the long sleeve direction of 30 μm. The open porosity of this sintered body was 67% of the total volume, but the bending strength was 4 kg/c++f, which was extremely low.

実施例2.3 実施例1と同様であるが、3000kg/cJ。Example 2.3 Same as Example 1, but 3000 kg/cJ.

lQkg/cJの成形圧で成形した生成形体をそれぞれ
炭化タングステン製のルツボおよび95%の理論密度を
有する炭化ケイ素製ルツボに装入して焼成した。結果は
表1に示した。
The green bodies molded at a molding pressure of 1Q kg/cJ were charged into a tungsten carbide crucible and a silicon carbide crucible having a theoretical density of 95%, and fired. The results are shown in Table 1.

実施例4および比較例2 実施例1と同様な方法であるが、出発原料として実施例
1で使用した炭化ケイ素粉末とα型炭化ケイ素粉末を表
2に示した混合比で混合した炭化ケイ素粉末を使用して
多孔質焼結体を製造した。
Example 4 and Comparative Example 2 A method similar to Example 1 was used, but silicon carbide powder was prepared by mixing the silicon carbide powder used in Example 1 and α-type silicon carbide powder as starting materials at the mixing ratio shown in Table 2. A porous sintered body was manufactured using the following method.

なお、前記α型炭化ケイ素粉末は市販のα型炭化ケイ素
粉末(GO#3000)を粉砕し、さらに精製、粒度分
級したものであつ°ζ、0.jl且量チの遊離炭素と0
.1 a fi墳%の酸素を含有し、平均粒径は8.4
μmであった。
The α-type silicon carbide powder is obtained by pulverizing a commercially available α-type silicon carbide powder (GO #3000), further refining it, and classifying the particle size. jl and the amount of free carbon and 0
.. Contains 1% oxygen and has an average particle size of 8.4
It was μm.

実すち例5,6 実施例1と同様であるが、表8に示した如き、′tjt
Practical Examples 5 and 6 Same as Example 1, but as shown in Table 8, 'tjt
.

温速度、最高焼成温度および最高温度における保持時間
でもつで多孔質炭化ケイ素焼結体を調造した0 /′ /′ 実確列7 出発原i′+としC使用した炭化ケイ素微分末は94.
6屯量チがβ型結晶で残部が実質的に2H型結晶よりな
り、0.3 f)重量%の遊離炭素、0.17’、Ii
 il %の1竣素、l) 、Oa 7fl jL1%
の鉄、o、oai=sのアルミニウムを主として含有し
、0.28μmの平均粒径を有していた。
A porous silicon carbide sintered body was prepared using temperature rate, maximum firing temperature, and holding time at maximum temperature. ..
6 tonnage units consist of β-type crystals and the remainder consists essentially of 2H-type crystals, 0.3 f) wt% free carbon, 0.17', Ii
il % of 1 finished element, l) , Oa 7fl jL1%
of iron, o, oai=s of aluminum, and had an average particle size of 0.28 μm.

1ガ記炭化ケイ累倣扮末100重d部に対し、0.3市
楚部の非晶質ホウ素と成形用バインダーとしてポリエチ
レングリコール1重量部、ポリアクリル順エステル4重
量部、ペンゼ/100fi量部を配合し、ボールミル中
で20時間混合した後乾燥した。
1. For 100 parts by weight of silicon carbide imitation powder, 0.3 parts by weight of amorphous boron, 1 part by weight of polyethylene glycol as a molding binder, 4 parts by weight of polyacrylic normal ester, amount of penze/100 fi The mixture was mixed in a ball mill for 20 hours and then dried.

この乾燥混合物を適量採取し、顆粒化した後金可彊押し
型を用いて50 kg/ cぜの圧力で成形した。
An appropriate amount of this dry mixture was taken, granulated, and then molded using a metal press mold at a pressure of 50 kg/cm.

この生成形体の・訂度は1.2り/cr11乾燥重量は
21りであった。
The degree of precision of this product was 1.2 l/cr11 and the dry weight was 21 l.

前記生成形体を外気を遮断することのできる黒鉛製ルツ
ボに装入し、タンマン型焼成炉を使用して1気圧のアル
ゴンガス雰囲気中で焼成した。なお前記黒鉛製ルツボは
内容積が50−のものを使用した。
The formed body was placed in a graphite crucible that can be shut off from outside air, and fired in an argon gas atmosphere at 1 atm using a Tammann type firing furnace. The graphite crucible used had an internal volume of 50.

焼成は5°C/分で2200°Cまで昇温し、最適温度
2100″Cで4時間保持した。
For firing, the temperature was increased to 2200°C at a rate of 5°C/min and maintained at the optimum temperature of 2100″C for 4 hours.

得られた焼結体の結晶構造は第2図の走査型′1子顕微
鏡写真(500倍)に示したように、平均アスペクト比
が10で長袖方向の平均長さが13μmの板状結晶が多
方向に複雑に絡み合った三次元構造を有しており、3〜
50のアスペクト比を有する板状結晶の含有量は多孔室
体全重量の96%であった。また、この多孔質体の気孔
は直線的でない開放気孔であり、その開放気孔率は全容
積の61俤を占めており、比表面積はa、s+++”/
りであった。
The crystal structure of the obtained sintered body is a plate-shaped crystal with an average aspect ratio of 10 and an average length in the long direction of 13 μm, as shown in the scanning type micrograph (500x) in Figure 2. It has a three-dimensional structure that is intricately intertwined in multiple directions, and has three to
The content of plate crystals with an aspect ratio of 50 was 96% of the total weight of the porous chamber body. In addition, the pores of this porous material are non-linear open pores, and the open porosity occupies 61 ㎜ of the total volume, and the specific surface area is a, s+++''/
It was ri.

この焼結体の曲げ強度は2870 kg/crlと高く
、またこの多孔質体の通気特性を肉厚5鴎の試験片を使
用し、20°Cの空気を1m/secの流速で通過させ
て測定したところ、その圧力損失は780脂水柱以下で
あった。
The bending strength of this sintered body is as high as 2870 kg/crl, and the ventilation characteristics of this porous body were tested using a test piece with a wall thickness of 5 mm and air at a temperature of 20°C passing through it at a flow rate of 1 m/sec. When measured, the pressure loss was less than 780 fat water columns.

’4 ・・’m 19!I s 実晦例7と同様であるが、添加向とじで非晶質ホウ素G
こかえてアルミニウム、ニホウ化アルミニウム、1災化
アルミニウム、窒化アルミニウムr +1il化アルミ
ニウム、炭化ホウ素、】化ホウ素、!化ホウR,1’J
(ヒカルシウム、災比カルシウム、クロム、ホウfヒク
ロム、窒化クロム、1−炭化クロム、鉄。
'4...'m 19! I s Same as Example 7, but amorphous boron G is added in the direction of addition.
On the contrary, aluminum, aluminum diboride, aluminum nitride, aluminum nitride, boron carbide, boron oxide,! Chemistry R, 1'J
(Hycalcium, chromium chloride, chromium, chromium nitride, 1-chromium carbide, iron.

1犬化秩、酸化鉄、ホウ化ランタン、1疫化ランタン。1 Inukachichi, iron oxide, lanthanum boride, 1 oxidized lanthanum.

、俊fヒリチウム、ケイ素、窒化ケイ素、チタン、酸化
チタン、二液化チタン、三酸化チタンおよび酸化イツ)
 IJウムを使用して多孔質焼結体を製造した。これら
の多孔質炭化ケイ素焼結体はいずれも板状結晶が良く発
達した結晶構造を有しており、曲げ強度、通気特性等に
著しく優れていた。
, silicon, silicon nitride, titanium, titanium oxide, two-component titanium, titanium trioxide, and titanium oxide)
A porous sintered body was manufactured using IJum. All of these porous silicon carbide sintered bodies had a crystal structure in which plate crystals were well developed, and were extremely excellent in bending strength, air permeability, etc.

以上に述べた如く、本発明によれば、雰囲気の制御によ
りアスペクト比、気孔径等が均一にそろった多孔質炭化
ケイ素焼結体は、各種濾過フィルター、集塵装置あるい
は分級装置に対し、より精密な分離効率を与うろことが
可能となり、また、化学反応工業における触媒あるいは
触媒担体、熱交換器等の分野に対し向−でしかも請磐な
制御を可能とするものであるっ
As described above, according to the present invention, the porous silicon carbide sintered body whose aspect ratio, pore diameter, etc. are uniform by controlling the atmosphere is more suitable for various filtration filters, dust collectors, or classifiers. It is possible to achieve precise separation efficiency, and it also enables efficient and reliable control in fields such as catalysts, catalyst supports, and heat exchangers in the chemical reaction industry.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は実施例1に記載の・尭結体の走査型1子顕微鏡
写真(75倍)、第21’Wは実施例7に記載の焼結体
の走査型1子顕微鏡写真(500培)、第8図は従来法
による炭化ケイ素多孔質焼結体の構造を示す模式図、第
4図はスケルトン構造を有する多孔質体の構造を示す模
式図である。 A・・・炭化ケイ素質骨材、B・・・結合材、C・・・
多孔質体の間隙、D・・・セル状骨格。
Figure 1 is a scanning single micrograph (75x magnification) of the sintered body described in Example 1, and No. 21'W is a scanning single micrograph (500x magnification) of the sintered body described in Example 7. ), FIG. 8 is a schematic diagram showing the structure of a porous sintered body of silicon carbide obtained by a conventional method, and FIG. 4 is a schematic diagram showing the structure of a porous body having a skeleton structure. A...Silicon carbide aggregate, B...Binding material, C...
Gaps in porous body, D...Cellular skeleton.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、主として炭化ケイ素よりなる焼結体であつて、平均
アスペクト比が3〜50であり、かつ長軸方向の平均長
さが0.5〜1000μmの炭化ケイ素質板状結晶から
主として構成されてなる三次元網目構造を有し、前記網
目構造の開放気孔の平均断面積が0.01〜25000
0μm^2である多孔質炭化ケイ素焼結体。 2、前記多孔質炭化ケイ素焼結体100重量部のうち3
〜50のアスペクト比を有する板状結晶は少くとも20
重量部である特許請求の範囲第1項記載の焼結体。 3、前記三次元網目構造の開放気孔率は焼結体の全容積
に対し20〜95容量%である特許請求の範囲第1〜2
項いずれかに記載の焼結体。 4、前記焼結体の比表面積は少くとも0.05m^2/
gである特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の
焼結体。 5、下記(a)〜(b)工程のシーケンスからなる長軸
方向の平均長さが10〜1000μm、平均アスペクト
比が3〜50の炭化ケイ素板状結晶から主として構成さ
れてなる三次元網目構造を有し、前記網目構造の開放気
孔の平均断面積が400〜250000μm^2の範囲
内の平均断面積を有する多孔質炭化ケイ素焼結体の製造
方法: (a)平均粒径が10μm以下の炭化ケイ素粉末であつ
てβ型、2H型および非晶質の炭化 ケイ素を少くとも60重量%含有する炭化 ケイ素粉末を所望の形状に成形する工程; および (b)前記(a)工程により得られた成形体を耐熱性の
容器内に装入して外気の侵入を遮断し つつ1900〜2300℃の温度範囲内で 焼成する工程。 6、下記(a)〜(c)工程のシーケンスからなる長軸
方向の平均長さが0.5〜200μm、平均アスペクト
比が3〜50の炭化ケイ素板状結晶から主として構成さ
れてなる三次元網目構造を有し、前記網目構造の開放気
孔の平均断面積が0.01〜10000μm^2の範囲
内の平均断面積を有する多孔質炭化ケイ素焼結体の製造
方法; (a)平均粒径が10μm以下の炭化ケイ素であつて、
この粉末はα型、β型および/また は非晶質炭化ケイ素と不可避的不純物とか らなる炭化ケイ素粉末である出発原料であ つて、この粉末100重量部に対し、アル ミニウム、ニホウ化アルミニウム、炭化ア ルミニウム、窒化アルミニウム、酸化アル ミニウム、ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ 素、酸化ホウ素、酸化カルシウム、炭化カ ルシウム、クロム、ホウ化クロム、窒化ク ロム、酸化クロム、鉄、炭化鉄、酸化鉄、 ホウ化ランタン、酸化ランタン、酸化リチ ウム、ケイ素、窒化ケイ素、チタン、酸化 チタン、二酸化チタン、三酸化チタンおよ び酸化イットリウムのなかから選ばれるい ずか1種または2種以上を10重量部以下 を均一に混合する工程; (b)前記(a)工程により得られた混合物を成形する
工程;および (c)前記(b)工程により得られた成形体を耐熱性容
器内に装入して外気の侵入を遮断しつ つ1700〜2300℃の温度範囲内で焼 成する工程。
[Claims] 1. A sintered body mainly made of silicon carbide, having an average aspect ratio of 3 to 50 and an average length in the long axis direction of 0.5 to 1000 μm. It has a three-dimensional network structure mainly composed of crystals, and the average cross-sectional area of open pores in the network structure is 0.01 to 25,000.
Porous silicon carbide sintered body with a diameter of 0 μm^2. 2. 3 out of 100 parts by weight of the porous silicon carbide sintered body
Plate crystals with an aspect ratio of ~50 are at least 20
The sintered body according to claim 1, which is in parts by weight. 3. Claims 1 to 2, wherein the open porosity of the three-dimensional network structure is 20 to 95% by volume based on the total volume of the sintered body.
The sintered body according to any one of paragraphs. 4. The specific surface area of the sintered body is at least 0.05 m^2/
The sintered body according to any one of claims 1 to 3, which is g. 5. A three-dimensional network structure mainly composed of silicon carbide plate-like crystals with an average length in the major axis direction of 10 to 1000 μm and an average aspect ratio of 3 to 50, which consists of the following sequence of steps (a) to (b) A method for producing a porous silicon carbide sintered body having an average cross-sectional area of open pores in the network structure within the range of 400 to 250,000 μm^2: (a) having an average particle size of 10 μm or less; A step of molding a silicon carbide powder containing at least 60% by weight of β-type, 2H-type and amorphous silicon carbide into a desired shape; and (b) a step of forming the silicon carbide powder obtained in step (a) above. A process of charging the molded body into a heat-resistant container and firing it within a temperature range of 1900 to 2300°C while blocking the intrusion of outside air. 6. A three-dimensional silicon carbide crystal mainly composed of plate-shaped silicon carbide crystals having an average length in the major axis direction of 0.5 to 200 μm and an average aspect ratio of 3 to 50, consisting of the sequence of steps (a) to (c) below. A method for producing a porous silicon carbide sintered body having a network structure, in which the average cross-sectional area of open pores in the network structure is within the range of 0.01 to 10,000 μm^2; (a) Average particle size is silicon carbide with a diameter of 10 μm or less,
This powder is a starting material which is a silicon carbide powder consisting of α-type, β-type and/or amorphous silicon carbide and unavoidable impurities. , aluminum nitride, aluminum oxide, boron, boron carbide, boron nitride, boron oxide, calcium oxide, calcium carbide, chromium, chromium boride, chromium nitride, chromium oxide, iron, iron carbide, iron oxide, lanthanum boride, lanthanum oxide ( b) molding the mixture obtained in the step (a); and (c) placing the molded product obtained in the step (b) in a heat-resistant container for 1700 minutes while blocking the intrusion of outside air. Firing within a temperature range of ~2300°C.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61191575A (en) * 1985-02-19 1986-08-26 イビデン株式会社 Porous silicon carbide sintered body and manufacture
US5298467A (en) * 1991-08-19 1994-03-29 Solvay Deutschland Gmbh Granulated product composed of silicon carbide powder and silicon carbide ceramic formed therefrom
JP2002329774A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Kyocera Corp Wafer support member
EP1364930A1 (en) 2001-02-02 2003-11-26 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure and method for preparation thereof
JP2006001799A (en) * 2004-06-18 2006-01-05 National Institute For Materials Science Method for manufacturing silicon carbide porous body
WO2006095564A1 (en) * 2005-03-08 2006-09-14 Bridgestone Corporation Porous body composed of silicon carbide sintered body and method for manufacturing same
US7427309B2 (en) 1999-09-29 2008-09-23 Ibiden Co., Ltd. Honeycomb filter and ceramic filter assembly
JP2009012005A (en) * 2008-08-11 2009-01-22 Ibiden Co Ltd Honeycomb filter and filter aggregate
JP2014062031A (en) * 2012-09-03 2014-04-10 Ngk Insulators Ltd Lanthanum boride sintered compact, and method for producing the same
WO2016152687A1 (en) * 2015-03-23 2016-09-29 日本碍子株式会社 Ceramic material and method for producing same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60255671A (en) * 1984-05-29 1985-12-17 イビデン株式会社 High strength porous silicon carbide sintered body and manufacture
JPS60264365A (en) * 1984-06-13 1985-12-27 イビデン株式会社 Porous silicon carbide sintered body and manufacture

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60255671A (en) * 1984-05-29 1985-12-17 イビデン株式会社 High strength porous silicon carbide sintered body and manufacture
JPS60264365A (en) * 1984-06-13 1985-12-27 イビデン株式会社 Porous silicon carbide sintered body and manufacture

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61191575A (en) * 1985-02-19 1986-08-26 イビデン株式会社 Porous silicon carbide sintered body and manufacture
JPH0379310B2 (en) * 1985-02-19 1991-12-18 Ibiden Co Ltd
US5298467A (en) * 1991-08-19 1994-03-29 Solvay Deutschland Gmbh Granulated product composed of silicon carbide powder and silicon carbide ceramic formed therefrom
US7427309B2 (en) 1999-09-29 2008-09-23 Ibiden Co., Ltd. Honeycomb filter and ceramic filter assembly
EP1364930A1 (en) 2001-02-02 2003-11-26 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure and method for preparation thereof
JP2002329774A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Kyocera Corp Wafer support member
JP4683759B2 (en) * 2001-04-27 2011-05-18 京セラ株式会社 Wafer support member and manufacturing method thereof
JP2006001799A (en) * 2004-06-18 2006-01-05 National Institute For Materials Science Method for manufacturing silicon carbide porous body
WO2006095564A1 (en) * 2005-03-08 2006-09-14 Bridgestone Corporation Porous body composed of silicon carbide sintered body and method for manufacturing same
JP2009012005A (en) * 2008-08-11 2009-01-22 Ibiden Co Ltd Honeycomb filter and filter aggregate
JP2014062031A (en) * 2012-09-03 2014-04-10 Ngk Insulators Ltd Lanthanum boride sintered compact, and method for producing the same
WO2016152687A1 (en) * 2015-03-23 2016-09-29 日本碍子株式会社 Ceramic material and method for producing same

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