JPS6173156A - Water-free lithographic plate - Google Patents

Water-free lithographic plate

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JPS6173156A
JPS6173156A JP19488284A JP19488284A JPS6173156A JP S6173156 A JPS6173156 A JP S6173156A JP 19488284 A JP19488284 A JP 19488284A JP 19488284 A JP19488284 A JP 19488284A JP S6173156 A JPS6173156 A JP S6173156A
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JP
Japan
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silicone rubber
rubber layer
photosensitive layer
layer
bonds
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JP19488284A
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Tsutomu Ichijo
力 一條
Masaya Asano
浅野 昌也
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Toray Industries Inc
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Publication date
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Publication of JPH051934B2 publication Critical patent/JPH051934B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a printing plate having higher ink repellency by using a silicone rubber layer obtained by addition reaction between a H-Si compd. and unsatd. bonds. CONSTITUTION:The silicone rubber layer is obtained by the addition reaction between a compd. having >=2 H-Si bonds in one molecule and a compd. having >=2 C=C bonds in one molecule. This rubber layer is used for the ink repelling layer, and when it is thin, problems, such as deterioration in ink repellency and easy scratchability, occur, and when it is thick, developability is deteriorated. Therefore, it is desirable to have a thickness or 0.5-50mum. The silicone rubber layer is formed by the addition reaction between the Si-H and C=C bonds and hardening, and it has a small amt. of silanol groups in the rubber as compared with the one obtained by the condensation reaction, and it is superior in ink repellency.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は水なし平版印刷用原板に関するものであり、特
に、基板、感光層、シリコーンゴム層を順次積層したイ
ンキ反発性の優れた水なし平版印刷用原板に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate, and in particular, to a waterless lithographic printing original plate with excellent ink repulsion properties, in which a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer are sequentially laminated. Concerning master plates for lithographic printing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、シリコーンゴムをインキ反発層とする水なし平版
印刷版か種々知られているが、特に特公昭54 269
23に提案されているように、基板、感光層、シリコー
ンゴム層の順に積層してなる印刷版が画像再現性、耐刷
力の面で優れており。
Various types of waterless lithographic printing plates using silicone rubber as an ink repellent layer have been known in the past, but in particular, Japanese Patent Publication No. 54 269
As proposed in No. 23, a printing plate formed by laminating a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order has excellent image reproducibility and printing durability.

実用化されている。It has been put into practical use.

従来提案されているシリコーンゴム層の組成物および硬
化方法としては次のものがあげられる。
The following compositions and curing methods for silicone rubber layers have been proposed so far.

(1)両末端水酸基のオルガノポリシロキサンをケイ素
原子に直接結合した加水分解性官能基を有するシランも
しくはシロキサンにより架橋してシリコーンゴムとする
方法(以下縮合型と称する)(ここで加水分解性官能基
としては、アセトキシ基、ケトキシメート基、アルコキ
シ基、水素などがあげられる)。
(1) A method of crosslinking an organopolysiloxane having hydroxyl groups at both terminals with a silane or siloxane having a hydrolyzable functional group directly bonded to a silicon atom to form a silicone rubber (hereinafter referred to as condensation type) (hereinafter referred to as a condensation type). Examples of the group include an acetoxy group, a ketoximate group, an alkoxy group, and hydrogen).

(2)  オルガノポリシロキサンを過酸化物などのラ
ジカル開始剤により架橋してシリコーンゴムとする方法
(以下ラジカル架橋型と称する)。
(2) A method of crosslinking organopolysiloxane with a radical initiator such as peroxide to form silicone rubber (hereinafter referred to as radical crosslinking type).

などである。etc.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ここに提案されている方法は印刷版の性能においていく
つかの問題点を生じている。網台型では感光層に対する
接着力が高く、優れた耐刷性を提提するものであるが、
シリコーンゴム層の硬化時の雰囲気中の水分の多少によ
り、感光層との接着力が変動し、そのため露光感度が変
動しやすいことと、硬化したシリコーンゴム層中の未反
応シラノール基のためにインキ反発性は充分満足しうる
ものではないという問題点がある。ラジカル架橋型によ
り硬化して得られるシリコーンゴム層は。
The method proposed here causes several problems in printing plate performance. The net stand type has high adhesion to the photosensitive layer and offers excellent printing durability, but
Depending on the amount of moisture in the atmosphere when the silicone rubber layer is cured, the adhesion strength with the photosensitive layer fluctuates, and therefore the exposure sensitivity tends to fluctuate. Also, due to the unreacted silanol groups in the cured silicone rubber layer, the ink There is a problem in that the repulsion is not fully satisfactory. The silicone rubber layer is obtained by curing by radical crosslinking.

感光層との接着力が非常に低いため耐刷性が極端に劣り
実用性にとぼしいものであり、また硬化時に酸素によっ
て架橋の阻害を受けやすく、高温。
Because the adhesive strength with the photosensitive layer is extremely low, printing durability is extremely poor, making it impractical, and crosslinking is easily inhibited by oxygen during curing, resulting in high temperatures.

長時間の硬化条件を設定する必要があるという問題点が
ある。
There is a problem in that it is necessary to set curing conditions for a long time.

以上のように従来提案されているシリコーンゴム層の硬
化方法では、安定した接着力を保ち、かつ高いインキ反
発性を持つものは得られていないという状況である。
As described above, with the conventionally proposed methods of curing silicone rubber layers, it has not been possible to obtain a material that maintains stable adhesive strength and has high ink repellency.

本発明は高いインキ反発性を有し1版性能がシIJ コ
ーンゴムの硬化時の雰囲気の影響を受けに(い特徴を持
った水なし平版印刷用原板を開発することを目的とした
ものである。
The purpose of the present invention is to develop a waterless lithographic printing original plate that has high ink repulsion and one-plate performance that is not affected by the atmosphere during curing of IJ cone rubber. .

〔問題を解決するための手段] 本発明は、基板、該基板の上に設けた感光層。[Means to solve the problem] The present invention relates to a substrate and a photosensitive layer provided on the substrate.

および該感光層の上に設けたシリコーンゴム層からなる
水なし平版印刷用原板において、シリコーンゴム層が1
分子中に2個以上の水素−ケイ素結合を有する化合物と
1分子中に2個以上の炭素−炭素不飽和結合を有する化
合物との付加反応物から成ることを特徴とする水なし平
版印刷用原板に関する。
and a waterless planographic original plate comprising a silicone rubber layer provided on the photosensitive layer, the silicone rubber layer being one
A waterless lithographic printing original plate comprising an addition reaction product of a compound having two or more hydrogen-silicon bonds in a molecule and a compound having two or more carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule. Regarding.

本発明における基板、感光層、シリコーンゴム層の順に
積層して形成される積層体は、露光により感光層の特性
が変化して、シリコーンゴム層と感光層とめ接着力の変
化、もしくは感光層の現像液に対する溶解性の変化を引
きおこす。そこで露光部と非露光部との接着力の差、も
しくは溶解性の差を利用して現像によりシリコーンゴム
層が除去される部分と残存する部分とにわかれる。シリ
コーンゴム層が除去された部分は、感光層もしくは基板
が露出し、インキ着肉性であり9画像部を形成する。シ
リコーンゴム層が残存する部分はインキ反発性であり、
非画像部を形成し、水なし平版印刷版となる。
In the laminate formed by laminating the substrate, the photosensitive layer, and the silicone rubber layer in this order in the present invention, the characteristics of the photosensitive layer change due to exposure to light, resulting in a change in the adhesive strength between the silicone rubber layer and the photosensitive layer, or a change in the adhesive strength of the photosensitive layer. Causes a change in solubility in developer. Therefore, by utilizing the difference in adhesive strength or the difference in solubility between the exposed area and the unexposed area, the silicone rubber layer can be divided into areas where it is removed and areas where it remains by development. The photosensitive layer or substrate is exposed in the area where the silicone rubber layer is removed, and is ink receptive, forming nine image areas. The part where the silicone rubber layer remains is ink repellent,
It forms a non-image area and becomes a waterless lithographic printing plate.

本発明における基板としては、アルミ、スチールなどの
金属、ポリエステル、ポリアミドなどのプラスチック、
ゴム、コート紙あるいはこれらの複合材などが使用され
る。また基板と感光層との間に、接着力向上、もしくは
ハレーション防止のためにコート層を設定することは任
意である。
In the present invention, substrates include metals such as aluminum and steel, plastics such as polyester and polyamide,
Rubber, coated paper, or a composite material thereof is used. Further, it is optional to provide a coating layer between the substrate and the photosensitive layer in order to improve adhesive strength or prevent halation.

本発明における感光層の厚みは任意であるが。The thickness of the photosensitive layer in the present invention is arbitrary.

05ミクロンから100ミクロンであることが望ましい
。感光層の種類としては。
Preferably, the thickness is between 0.05 and 100 microns. As for the type of photosensitive layer.

(1)光重合性の不飽和結合を有するモノマー。(1) A monomer having a photopolymerizable unsaturated bond.

オリゴマーを含有するもの (21露光により、2量化しうる官能基を有する化合物
を含有するもの (3)  ジアゾ基を感光基とする化合物を含有するも
の (4)  アジド基を感光基とする化合物を含有するも
の などがあげられるが、特に感光層中に、エチレン性の不
飽和結合もしくは有機水酸基を含有することがシリコー
ンゴム層との接着力の安定性において望ましい。
Those containing oligomers (21) Those containing compounds that have a functional group that can be dimerized by exposure to light (3) Those containing compounds that have a diazo group as a photosensitive group (4) The compounds that have an azide group as a photosensitive group In particular, it is desirable to contain an ethylenically unsaturated bond or an organic hydroxyl group in the photosensitive layer in order to stabilize the adhesive force with the silicone rubber layer.

本発明におけるシリコーンゴム層はインキ反発層となる
ものであり、厚さが小さいとインキ反発性の低下、傷が
入りやすいなどの問題があり、厚さが大きい場合、現像
性が悪くなるという点から。
The silicone rubber layer in the present invention serves as an ink repellent layer, and if the thickness is small, there will be problems such as a decrease in ink repellency and the possibility of scratches, while if the thickness is large, the developability will be poor. from.

厚みとしては0.5ミクロンから50ミクロンであるこ
とが好ましい。
The thickness is preferably from 0.5 microns to 50 microns.

本発明におけるシリコーンゴム層の形成は。Formation of the silicone rubber layer in the present invention.

−5iHと炭素−炭素不飽和結合との付加反応により硬
化して得られるものであり、得られるシリコーンゴムは
、給金型により得られるものに比べてゴム中のシラノー
ル基が少なく、インキ反発性に優れているという特長を
もつものである。ここに炭素−炭素不飽和結合基として
は、それぞれ炭素優2〜10の置換もしくは非置換のア
ルケニル基。
-5iH and carbon-carbon unsaturated bonds, and the resulting silicone rubber has fewer silanol groups in the rubber than those obtained by molding, and has better ink repellency. It has the feature of being excellent in. Here, the carbon-carbon unsaturated bond group is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms.

アルケニレ7基、アルキニル基、アルキニレン基があげ
られ、芳香族の炭素−湿炭不飽和結合は含まれない。
Examples include alkenylene 7 groups, alkynyl groups, and alkynylene groups, and aromatic carbon-wet carbon unsaturated bonds are not included.

本発明のシリコーンゴムは、多価ハイドロジエンオルガ
ノポリシロキサンと、1分子中に2個以上の炭素−炭素
不飽和結合を有する非シロキサン化合物との反応によっ
ても得られるが、望ましくは。
The silicone rubber of the present invention can also be obtained, preferably, by the reaction of a polyvalent hydrogen organopolysiloxane with a non-siloxane compound having two or more carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule.

(a)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基(より望ましくはビニル基)を少なくとも2個有する
オルガノポリシロキサン100重量部 (b)1分子中に少なくともSi −H結合を2個有す
るオルガノハイドロジエンポリシロキサン0.1〜io
、ooo重量部 (O)  付加触媒    0.00001〜1重量部
からなる組成物を硬化したものである。成分(a)のア
ルケニル基は分子鎖末端、中間いずれにあってもよく、
アルケニル基以外の有機基としては、置換もしくは非置
換のアルキル基、アリール基である。成分(−)には水
酸基を微量有することも任意である。成分(b)は成分
(=)と反応してシリコーンゴムを形成するが、かつ感
光層に対する接着性の付与の役割も果たす。成分(b)
の水素基は分子鎖末端。
(a) 100 parts by weight of an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (more preferably vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule (b) Organopolysiloxane having at least two Si-H bonds in one molecule Hydrodiene polysiloxane 0.1~io
, ooo parts by weight (O) Addition catalyst 0.00001 to 1 part by weight is cured. The alkenyl group of component (a) may be located at the end or in the middle of the molecular chain,
Organic groups other than alkenyl groups include substituted or unsubstituted alkyl groups and aryl groups. Optionally, the component (-) may have a trace amount of hydroxyl group. Component (b) reacts with component (=) to form a silicone rubber, and also serves to provide adhesion to the photosensitive layer. Component (b)
The hydrogen group is at the end of the molecular chain.

中間いずれにあってもよく、水素以外の有機基としては
成分(a)と同様のものから選ばれる。成分Gl)と成
分(b)の有機基は、インキ反発性の向上の点で総じて
基数の60%以上がメチル基であることか好ましい。成
分(a)、成分(b)の分子構造は直鎖状。
It may exist anywhere in between, and organic groups other than hydrogen are selected from the same groups as those for component (a). It is preferable that 60% or more of the organic groups in component Gl) and component (b) be methyl groups in general, from the viewpoint of improving ink repellency. The molecular structures of component (a) and component (b) are linear.

環状1分校状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方
の分子量が1. OOOを超えることがゴム物性の面で
好ましく、さらに成分(a)の分子量が1.000を超
えることが好ましい。
It may be either cyclic or branched, and at least one of them has a molecular weight of 1. It is preferable from the viewpoint of rubber physical properties that the molecular weight exceeds OOO, and it is further preferable that the molecular weight of component (a) exceeds 1.000.

成分(−)としては、α、ω−ジビニルポリジメチルシ
ロキサン、両末端メチル基の(メチルビニルシロキサ/
)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示され、成
分(b)としては1両末端水素基のポリジメチルシロキ
サン、α、ω−ジメチルポリシロキサン、両末端メチル
基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重
合体、環状ポリメチルシロキサンなどが例示される。
As the component (-), α,ω-divinylpolydimethylsiloxane, (methylvinylsiloxane/
)(dimethylsiloxane) copolymers, etc., and component (b) includes polydimethylsiloxane having a hydrogen group at both ends, α,ω-dimethylpolysiloxane, and (methylsiloxane) having a methyl group at both ends. Examples include copolymers and cyclic polymethylsiloxanes.

成分(C)の付加触媒は、公知のもののなかから任意に
選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく。
The addition catalyst of component (C) may be arbitrarily selected from known ones, but platinum-based compounds are particularly preferred.

白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金
などが例示される。これらの組成物の硬化速度を制御す
る目的で、テトランクロ(メチルビニル)シロキサンな
どのビニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭
素31結合金有のアルコールなどの架橋抑制剤を添加す
ることも可能である。
Examples include simple platinum, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum. For the purpose of controlling the curing rate of these compositions, it is also possible to add crosslinking inhibitors such as organopolysiloxanes containing vinyl groups, such as tetrancro(methylvinyl)siloxane, and alcohols containing carbon-carbon 31 bonds. be.

これらの組成物は、6成分を混合した時点において付加
反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高
くなるに従い急激に大きくなる特徴を有する。ゆえに組
成物のゴム化までのポットライフを長<シ、かつ感光層
上での硬化時間を短くする目的で2組成物の硬化条件は
、基板、感光層の特性が変わらない範囲の温度条件で、
かつ完全に硬化するまで高温に保持しておくことが、感
光層との接着力の安定性の面で好ましい。
These compositions undergo an addition reaction and begin to cure when the six components are mixed, but the curing rate is characterized by rapidly increasing as the reaction temperature increases. Therefore, in order to lengthen the pot life of the composition until it becomes a rubber and to shorten the curing time on the photosensitive layer, the curing conditions for the two compositions were set at a temperature within a range that did not change the characteristics of the substrate and photosensitive layer. ,
In addition, it is preferable to maintain the temperature at a high temperature until it is completely cured in order to maintain the stability of the adhesive force with the photosensitive layer.

これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシシラ
ンなどの公知の接着付与剤を添加することや、縮合型シ
リコーンゴムの組成物である水酸基含有オルガノポリシ
ロキサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロ
キサン)を添加することも任意であり、またゴム強度を
向上させる目的で、シリカなどの公知の充てん剤を添加
することも任意である。
In addition to these compositions, known adhesion promoters such as alkenyltrialkoxysilanes may be added, or organopolysiloxanes containing hydroxyl groups, which are compositions of condensed silicone rubber, silanes containing hydrolyzable functional groups (or siloxanes) may be added. ) may be optionally added, and a known filler such as silica may also optionally be added for the purpose of improving rubber strength.

ここに説明した水なし平版印刷用原板において本発明の
特徴を有するシリコーンゴム層上に、さらに種々のシリ
コーンゴム層を塗工することも任意であり、また感光層
とシリコーンゴム層との間の接着力を上げる目的、もし
くはシリコーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目
的で、感光層とシリコーンゴム層の間に接着層を設ける
ことも任意である。シリコーンゴム層の表面保護のため
に、シリコーンゴム層上に、透明なフィルムのラミネー
トやポリマーのコーティングを施してもよい。
In the waterless lithographic printing master plate described herein, it is optional to further coat various silicone rubber layers on the silicone rubber layer having the characteristics of the present invention, and also to coat the silicone rubber layer between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. It is also optional to provide an adhesive layer between the photosensitive layer and the silicone rubber layer for the purpose of increasing adhesive strength or preventing poisoning of the catalyst in the silicone rubber composition. In order to protect the surface of the silicone rubber layer, a transparent film laminate or a polymer coating may be applied on the silicone rubber layer.

このようにして得られた印刷用原板は、公知の方法で露
光、現像が可能であり、現像するとシリコーンゴム層が
残存した非画線部と、シリコーンゴム層が剥離して感光
層もしくは基板が露出した画線部が形成された印刷版が
得られる。
The printing original plate obtained in this way can be exposed and developed by a known method, and when developed, the silicone rubber layer peels off from the non-image area where the silicone rubber layer remains and the photosensitive layer or substrate is removed. A printing plate with exposed image areas is obtained.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実施例を述べる。文中9部数は重量部を示す。 Examples will be described below. The number of copies in the text 9 indicates parts by weight.

実施例1 厚さ0.3 mmの砂目室て加工されたアルミニウム基
板上に (1)  アクリル酸エチル/メタクリル酸メチル共重
合体(共重合比70150)     60部(2) 
 グリシジルメタクリレートとキシリレンジアミンの4
モルフ1モル付加反応物  40部(3)  ミヒラー
氏ケトン      5重量部からなる組成物のエチル
セロソルブ溶液を塗布し50゛Oにて乾燥させ9重合性
感光層を設けた(厚さ5ミクロン) 感光層上に。
Example 1 60 parts (2) of ethyl acrylate/methyl methacrylate copolymer (copolymerization ratio 70150) were placed on an aluminum substrate processed with a grain chamber having a thickness of 0.3 mm (1)
4 of glycidyl methacrylate and xylylene diamine
An ethyl cellosolve solution of a composition consisting of 1 mole of Morph addition reaction product (3) and 5 parts by weight of Michler's ketone was applied and dried at 50°O to form a 9-polymerizable photosensitive layer (thickness: 5 microns). layer on top.

(4)  α、ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(
数平均分子量約12,000)    100部(5)
  α、ω−ジメチルポリメチル/−1イドロジエンシ
ロキサン(数平均重合度10)   3部(6)塩化白
金酸          0−1部からなる組成物のn
−へブタン溶液を塗布し、180℃、10%Rfiにて
5分間加熱し、乾燥、硬化させ、シリコ−/ゴム層を設
けた〔厚さ3ミクコン)。
(4) α,ω-Divinylpolydimethylsiloxane (
Number average molecular weight approximately 12,000) 100 parts (5)
n of a composition consisting of 3 parts of α,ω-dimethylpolymethyl/-1 hydrodiene siloxane (number average degree of polymerization 10) (6) 0-1 part of chloroplatinic acid
-A hebutane solution was applied and heated at 180° C. and 10% Rfi for 5 minutes, dried and cured, and a silicone/rubber layer was provided (thickness: 3 miccon).

上述のように作成した積層板に、厚さ10ミククンのポ
リプロピレンフィルム1トレフアン#(東し製)をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートシ、印刷用原板とし
た。
The laminate prepared as described above was laminated with a polypropylene film 1 Trefan # (manufactured by Toshi Co., Ltd.) having a thickness of 10 microns using a calendar roller, thereby forming a printing original plate.

この印刷用原板上にポジフィルムを密着し、3kW高圧
水銀燈(オーク製作所製)で1mの距離から3部秒間露
光した。“トレ7アン1を剥離してダイニック製「ソフ
バツド」を用い、n−へブタンで現像したところ、露光
部はシリコーンゴム層が残存し、非露光部はシリコーン
ゴム層が剥離して重合性感光層が露出した印刷版が得ら
れた。
A positive film was closely attached to this printing original plate, and exposed for 3 seconds from a distance of 1 m using a 3 kW high-pressure mercury lamp (manufactured by Oak Seisakusho). “When I peeled off Tre 7 Anne 1 and developed it with n-hebutane using Dynic's ``Sofbat'', the silicone rubber layer remained in the exposed areas, and the silicone rubber layer peeled off in the non-exposed areas, making it susceptible to polymerization. A printing plate with exposed layers was obtained.

この印刷版をオフセット印刷機にセットし、大日本イン
キ■製水あり平版用インキ「アペックスG」紅を用いて
、湿し水を与えず印刷したところ。
This printing plate was set in an offset printing machine and printed without adding dampening water using Dainippon Ink's lithographic ink "Apex G" red.

優れた画像再現性を有し、インキの非画像部への付着に
よる地汚れのない印刷版を得た。
A printing plate was obtained which had excellent image reproducibility and was free from scumming due to ink adhesion to non-image areas.

マタ、シリコーンゴムの硬化を100℃、80%R[で
行なって、上記と同様に露光、現像、印刷をしたか優れ
た画像再現性を有する印刷物を得た。
The silicone rubber was then cured at 100° C. and 80% R[, and exposed, developed and printed in the same manner as above to obtain printed matter with excellent image reproducibility.

比較例 実施例1↓こおいて、シリコーンゴム層の組成を口) 
μ、ω−ジヒドロキシポリジメチルクロキサン(数平均
分子量約12,000)   IClil部(2]  
エチルトリアセトキシシラ7   5部(3)  ジブ
チルスズジアセテート    0.5部として、10%
RHおよび80%RHの条件で硬化を行ない、“トレフ
ァZ″をラミネートシ、2種類の印刷用原板を得た。
Comparative Example Example 1 ↓ Check the composition of the silicone rubber layer)
μ, ω-dihydroxypolydimethylcloxane (number average molecular weight approximately 12,000) IClil portion (2)
Ethyltriacetoxysila 7 5 parts (3) Dibutyltin diacetate 0.5 parts, 10%
Curing was performed under conditions of RH and 80% RH, and "Torefa Z" was laminated to obtain two types of printing original plates.

前者の硬化条件で得られた印刷用原板を、実施例1と同
様に露光、現像を行なって印刷版とし。
The printing original plate obtained under the former curing conditions was exposed and developed in the same manner as in Example 1 to obtain a printing plate.

実施例1と同じインキ濃度、温度の条件で印刷したとこ
ろ、非画像部にインキの着く地汚れのある印刷物が得ら
れた。
When printing was carried out under the same ink density and temperature conditions as in Example 1, a printed matter with background smudges where the ink adhered to the non-image areas was obtained.

また後者の硬化条件で得られた印刷用原板を。Also, the original printing plate obtained under the latter curing conditions.

実施例1と同様の方法で露光、現像を行なったところ、
感度が低下し、非画線部を形成するシリコーンゴム層が
一部剥瑠してしまい、印刷版としては不適当なものが得
られた。
When exposure and development were performed in the same manner as in Example 1,
The sensitivity decreased and the silicone rubber layer forming the non-image area partially peeled off, resulting in a plate unsuitable for use as a printing plate.

実施例2 砂目室て加工された厚さ0.5−のアルミ板上にγ−シ
ンナモイロキ7−β−ヒドロキシ−n−プロピルアク1
ル−ト重合体(数平均分子量4,000)のトルエン、
メチルイソブチルケトン(1部1重量比)溶液を塗工し
、光2量化性感光層を設けた。光2量化性感光層上に実
施例1と同様のシリコーンゴム層、′トレファy″を順
次積層して印刷用原板を得た。
Example 2 γ-cinnamoyl 7-β-hydroxy-n-propyl lacquer 1 was deposited on a 0.5-thick aluminum plate processed with a grain chamber.
Toluene of root polymer (number average molecular weight 4,000),
A photodimerizable photosensitive layer was provided by coating a solution of methyl isobutyl ketone (1 part by weight). On the photodimerizable photosensitive layer, a silicone rubber layer similar to that in Example 1 and 'Trephay' were sequentially laminated to obtain a printing original plate.

得られた印刷用原板を実施例1と同様の方法で露光、現
像したところ、露光部はシリコーンゴム層が残存し、非
露光部はシリコーンゴムが剥離され光2量化性感光層が
露出している印刷版を得た。
When the obtained printing original plate was exposed and developed in the same manner as in Example 1, the silicone rubber layer remained in the exposed areas, and the silicone rubber was peeled off in the non-exposed areas, exposing the photodimerizable photosensitive layer. I got the printed version.

この印刷版を用いて実施例1と同様の方法で印刷したと
ころ、地汚れのない画像再現性のすぐれた印刷物を得た
When this printing plate was used for printing in the same manner as in Example 1, printed matter with no scumming and excellent image reproducibility was obtained.

実施例3 砂目立て加工した厚さ0.2−のアルミ板上に住友テュ
レス製フェノールホルムアルデヒドレソール樹脂「スミ
ライトレジンPC−1」を塗布し。
Example 3 A phenol formaldehyde resol resin "Sumilite Resin PC-1" manufactured by Sumitomo Thuleres was applied onto a grained aluminum plate having a thickness of 0.2 mm.

°  200℃の条件で3分間硬化させた。(厚さ1ミ
クロン)。
° It was cured for 3 minutes at 200°C. (1 micron thick).

この積層体を基板として1,2−ナフトキノン−2−ジ
アジド−5−スルホン酸クロリドとフェノールノボラッ
ク樹脂(数平均重合度4,2)とを反応させて得られる
部分スルホン酸エステル化物(エステル化率42%)の
テトラヒドラフラン溶液を塗布し乾燥させ、厚さ2ミク
ロンの感光層を設けた。続いて感光層上に実施例1と同
様にシリコーンゴム層および“トレ7アン″番設けて印
刷用原板を得た。
Using this laminate as a substrate, a partially sulfonic acid ester product (esterification rate A 42%) tetrahydrofuran solution was applied and dried to provide a 2 micron thick photosensitive layer. Subsequently, a silicone rubber layer and a "Tray 7" layer were provided on the photosensitive layer in the same manner as in Example 1 to obtain a printing original plate.

岩崎電機■製メタルハライドランプ「アイドルフィン2
000」を用い、ayメーター(オーク製作所ライトメ
ジャータイプuv402A)で11mw/iの照度で全
面露光を6秒間節した。
Iwasaki Electric's metal halide lamp "Idol Fin 2"
000'', the entire surface was exposed for 6 seconds at an illuminance of 11 mw/i using an AY meter (Oak Seisakusho Light Measure Type UV402A).

上記のように全面露光した印刷用原板上に、ネガフィル
ムを密着し、 11 m W 7m”の照度で60秒間
画像露光した。
A negative film was closely adhered to the printing original plate which had been entirely exposed as described above, and imagewise exposed for 60 seconds at an illuminance of 11 m x 7 m''.

次いで「トレファン」を剥離して、前処理液(分子量4
00のポリプロピレングリコール100部、モノエタノ
ールアミン0.5部)に1分間浸漬してから、ナイロー
ブラシを用いて現像液(水。
Next, "TOREFAN" is peeled off and pre-treatment liquid (molecular weight 4
00 (100 parts of polypropylene glycol, 0.5 parts of monoethanolamine) for 1 minute, and then immersed in a developer (water) using a nylon brush.

エタノール、90/10]i量比)で現像したところ。Developed with ethanol, 90/10] i amount ratio).

露光部はシリコーンゴム層および感光層か剥離し。Peel off the silicone rubber layer and photosensitive layer from the exposed area.

基板が露出した画線部を形成し、非露光部はシリコーン
ゴム層が残存した非画線部を形成する印刷版を得た。
A printing plate was obtained in which an image area was formed in which the substrate was exposed, and a non-image area in which the silicone rubber layer remained was formed in the non-exposed area.

得られた印刷版を用いて実施例1と同様の方法で印刷し
たところ優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
When the obtained printing plate was used for printing in the same manner as in Example 1, a printed matter with excellent image reproducibility was obtained.

実施例4 砂目立て加工した厚さ0.2 allのアルミ板上に実
施例3と同様の方法で「スミライトレジンPC−1」を
塗工した。
Example 4 "Sumilite Resin PC-1" was coated on a grained aluminum plate having a thickness of 0.2 all in the same manner as in Example 3.

この積層体を基板として。Use this laminate as a substrate.

(1)実施例乙の感光層組成物    100部+21
 4,4/−ジフェニルメタンジイソシアネート20部 (3)  ジブチルスズシラウリレート0.1部からな
る組成物のテトラヒドロフラン溶液を塗工し、110℃
、1分間乾燥、硬化させ、厚さ2ミクロンの感光層を設
けた。
(1) Photosensitive layer composition of Example B 100 parts + 21 parts
A tetrahydrofuran solution of a composition consisting of 20 parts of 4,4/-diphenylmethane diisocyanate (3) and 0.1 part of dibutyltinsilaurylate was applied and heated at 110°C.
, dried and cured for 1 minute to provide a 2 micron thick photosensitive layer.

次いで感光層上に実施例1と同様の方法でシリコーンゴ
ム層、1トレフアン”を順次積層し、印刷用原板を得た
Next, a silicone rubber layer and a 1 trepan" silicone rubber layer were sequentially laminated on the photosensitive layer in the same manner as in Example 1 to obtain a printing original plate.

得られた印刷用原板にネガフィルムを密着させ。A negative film is attached to the resulting printing plate.

実施例3と同様の露光機、照度で60秒間露光した。Exposure was carried out for 60 seconds using the same exposure machine and illumination intensity as in Example 3.

“トレファン″を剥離して、「ソフノくラド」を用いて
現像液(n−へキサン、エチルアルコール。
Peel off the "Trephan" and use a developer (n-hexane, ethyl alcohol) using "Sofunokurad".

40760重量比)で現像したところ、露光部はシリコ
ーンゴム層が剥離して感光層が露出した画線部を形成し
、非露光部はシリコーンゴム層が残存した非画線部を形
成する印刷版を得た。
40,760 weight ratio), the exposed area forms an image area where the silicone rubber layer peels off and the photosensitive layer is exposed, and the non-exposed area forms a non-image area where the silicone rubber layer remains. I got it.

得られた印刷版を実施例1と同様の方法で印刷したとこ
ろ、優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
When the obtained printing plate was printed in the same manner as in Example 1, a printed matter with excellent image reproducibility was obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

基板、感光層、シリコーンゴム層の順に積層して構成さ
れる水なし平版印刷用原板において、従来提案されてい
る縮合により硬化して得られるシリコーンゴム層と比べ
て9本発明におけるノ蔦イドロジエンケイ素化合物と、
不飽和結合との付加反応により得られるシリコーンゴム
層は、より高いインキ反発性を有する印刷版を提供する
ものである。
In a waterless lithographic original plate composed of a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer laminated in this order, compared to the conventionally proposed silicone rubber layer obtained by curing by condensation, the present invention's Notsuta Hydrodiene silicon compound,
The silicone rubber layer obtained by addition reaction with unsaturated bonds provides a printing plate with higher ink repellency.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板、該基板の上に設けた感光層、および該感光層の上
に設けたシリコーンゴム層からなる水なし平版印刷用原
板において、シリコーンゴム層が1分子中に2個以上の
水素−ケイ素結合を有する化合物と1分子中に2個以上
の炭素−炭素不飽和結合を有する化合物との付加反応物
から成ることを特徴とする水なし平版印刷用原板。
In a waterless planographic original plate consisting of a substrate, a photosensitive layer provided on the substrate, and a silicone rubber layer provided on the photosensitive layer, the silicone rubber layer has two or more hydrogen-silicon bonds in one molecule. 1. A waterless lithographic printing original plate comprising an addition reaction product of a compound having the following: and a compound having two or more carbon-carbon unsaturated bonds in one molecule.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63257760A (en) * 1987-04-15 1988-10-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd Original plate for dry type planography
JPH01214839A (en) * 1988-02-23 1989-08-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic plate free from damping water
JPH02236550A (en) * 1989-03-10 1990-09-19 Fuji Photo Film Co Ltd Damping-waterless photosensitive planographic printing plate
JPH0468353A (en) * 1990-07-09 1992-03-04 Fuji Photo Film Co Ltd Dampening waterless photosensitive planographic printing plate

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3894873A (en) * 1972-03-21 1975-07-15 Toray Industries Dry planographic printing plate
JPS5128119A (en) * 1974-09-03 1976-03-09 Sumitomo Chemical Co FUTAROSHIANINKEIGANRYO NO SEIZOHO
JPS5426923A (en) * 1977-08-02 1979-02-28 Ishikawajima Harima Heavy Ind Precision cast having little strain
JPS564908A (en) * 1979-06-15 1981-01-19 Siemens Ag Monolithic integrated transistor amplifier
JPS5612860A (en) * 1979-07-09 1981-02-07 Toshiba Corp Chopper circuit
JPS578249A (en) * 1980-06-20 1982-01-16 Toshiba Silicone Co Ltd Curable composition
JPS58191749A (en) * 1982-05-06 1983-11-09 Toray Silicone Co Ltd Organopolysiloxane composition for forming releasable film

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3894873A (en) * 1972-03-21 1975-07-15 Toray Industries Dry planographic printing plate
JPS5128119A (en) * 1974-09-03 1976-03-09 Sumitomo Chemical Co FUTAROSHIANINKEIGANRYO NO SEIZOHO
JPS5426923A (en) * 1977-08-02 1979-02-28 Ishikawajima Harima Heavy Ind Precision cast having little strain
JPS564908A (en) * 1979-06-15 1981-01-19 Siemens Ag Monolithic integrated transistor amplifier
JPS5612860A (en) * 1979-07-09 1981-02-07 Toshiba Corp Chopper circuit
JPS578249A (en) * 1980-06-20 1982-01-16 Toshiba Silicone Co Ltd Curable composition
JPS58191749A (en) * 1982-05-06 1983-11-09 Toray Silicone Co Ltd Organopolysiloxane composition for forming releasable film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63257760A (en) * 1987-04-15 1988-10-25 Toyo Ink Mfg Co Ltd Original plate for dry type planography
JPH01214839A (en) * 1988-02-23 1989-08-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic plate free from damping water
JPH02236550A (en) * 1989-03-10 1990-09-19 Fuji Photo Film Co Ltd Damping-waterless photosensitive planographic printing plate
JPH0468353A (en) * 1990-07-09 1992-03-04 Fuji Photo Film Co Ltd Dampening waterless photosensitive planographic printing plate

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