JPS6160725A - Low-thermal expansion resin and composite molding - Google Patents

Low-thermal expansion resin and composite molding

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JPS6160725A
JPS6160725A JP59180549A JP18054984A JPS6160725A JP S6160725 A JPS6160725 A JP S6160725A JP 59180549 A JP59180549 A JP 59180549A JP 18054984 A JP18054984 A JP 18054984A JP S6160725 A JPS6160725 A JP S6160725A
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俊一 沼田
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徳幸 金城
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純一 今泉
Yoshikatsu Mikami
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
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Abstract

PURPOSE:The title resin material having a coefficient of thermal expansion as low as that of an inorganic substance and excellent mechanical properties, comprising an oriented polyimide having a specified structure. CONSTITUTION:An aromatic aminodicarboxylic acid derivative is polymerized at 0-200 deg.C in a solvent such as N-methylpyrrolidone, or an aromatic diamine or an aromatic diisocyanate is reacted with an aromatic tetracarboxylic acid derivative to obtain a low-thermal expansion resin material comprising a polyimide having a chemical structure unit of an aromatic group which has at least one aromatic ring easily rotatable about the molecular axis but not flexible in other directions and is nearly linear within the region of 0+ or -40 deg. about the molecular axis and contains a region in which the polyamide molecules are uniaxially oriented at an order parameter >=0.07.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、特定の化学構造を有し、配向されたポリイミ
ドからなる低熱膨脹樹脂材料とこれを用いた複合成形品
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a low thermal expansion resin material having a specific chemical structure and made of oriented polyimide, and a composite molded article using the same.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

有機ボ゛リマーの熱膨張係数(線膨張係数)は、ガラス
転移温度以下の温度領域においても、はとんどのものが
4 X 10−3K”以上と、金属や無機物に比べては
るかに大きな値を有する。有機物の18膨張係数が大き
いととく起因する問題は、極めて多く、有機ポリマーの
用途展開が思うよ、5IC進行しない理由がすべてここ
lc4ると言っても過言ではない穆でおる。例えば、フ
ィルムと導体とからなるフレキシブルプリント基板(F
PC)において、衾属箔に可撓性フィルム材料をコート
あるいは熱圧着して得られるフィルムが望まれるが、コ
ーテイング後高温で硬化、乾燥、あるいは熱圧着しなけ
ればならないため、室温に冷却後熱膨張係数の差に起因
する熱応力のためカールしてしまう問題がある。通常、
この現象を起こさないために、低温硬化可能な接着剤で
貼シ合せて使用されている。しかし、耐熱性を要求され
るFPCの場合、一般に低温硬化可能な接着剤は耐熱性
が劣るため、基材にポリイミドフィルム等の耐熱フィル
ムを使用しても、本来の耐熱性を発揮出来ない。
The thermal expansion coefficient (linear expansion coefficient) of most organic polymers is 4 x 10-3K or more even in the temperature range below the glass transition temperature, which is a much larger value than that of metals and inorganic materials. There are many problems caused by the large expansion coefficient of organic materials, and it is no exaggeration to say that lc4 is the reason why 5IC does not progress, considering the development of applications for organic polymers.For example, , a flexible printed circuit board (F
In PC), a film obtained by coating or heat-pressing a flexible film material on a metal foil is desired, but since it is necessary to cure, dry, or heat-press at a high temperature after coating, it is necessary to heat it after cooling to room temperature. There is a problem of curling due to thermal stress caused by the difference in expansion coefficients. usually,
In order to prevent this phenomenon from occurring, they are bonded together using an adhesive that can be cured at low temperatures. However, in the case of FPCs that require heat resistance, adhesives that can be cured at low temperatures generally have poor heat resistance, so even if a heat-resistant film such as a polyimide film is used as a base material, the original heat resistance cannot be exhibited.

また、塗膜の場合、通常の有機ポリマーに比べて非常に
熱膨張係数が小さい金属板や無機質材の上に塗布すると
、熱膨張係数の差に起因する熱応力によって、変形、膜
のクランク、はぐり、基材の破壊などが起こる。例えば
、LSIやICの保護膜としてシリコンウニ/・上にコ
ート膜を形成すると、ウェハがそって、バターニングの
ためのフォトリングラフィが出来なかったり、あるいは
解像度が極めて悪くなる問題や、熱応力が大きい場合、
パンシペーション膜をはくシした)、シリコンウェハ自
体にへき開破環を起こさせることもある。
In addition, in the case of coating films, when applied to metal plates or inorganic materials whose coefficient of thermal expansion is extremely small compared to ordinary organic polymers, thermal stress caused by the difference in coefficient of thermal expansion may cause deformation, cranking of the film, or Peeling off, destruction of the base material, etc. may occur. For example, if a coating film is formed on a silicon wafer as a protective film for LSI or IC, the wafer may warp, making it impossible to perform photolithography for patterning, or causing problems such as extremely poor resolution and thermal stress. If is large,
In some cases, the silicon wafer itself may undergo cleavage and rupture.

このように、有機ポリマーの線膨張係数が太きいための
問題点は櫃めて多く、低膨張係数を有する有機ポリマー
はかなシ前から強く望まれていた。
As described above, there are many problems due to the large coefficient of linear expansion of organic polymers, and organic polymers having a low coefficient of expansion have been strongly desired for a long time.

本発明層らはこのような事情に鑑み、先ず、耐熱樹脂材
料、特にポリイミドについて多くの合成実験を試み、原
料成分と熱膨張係数との関係について詳細に検討した。
In view of these circumstances, the present inventors first attempted many synthesis experiments on heat-resistant resin materials, particularly polyimide, and studied in detail the relationship between raw material components and thermal expansion coefficients.

ポリイミドとしてはこれまで■米国特許第317961
4号(du Font )明細書、■C,E、 3ro
og 、 @polyimides”、 J、 pol
ym。
So far as polyimide ■U.S. Patent No. 317961
No. 4 (du Font) specification, ■C, E, 3ro
og, @polyimides”, J, pol
ym.

Sci、 : Macromol、 Rev、 、 1
1 、161−208 (1976)、■N、 A 、
Adrova and M、 M、 Koton 、 
Dokl 、Akad。
Sci, : Macromol, Rev, , 1
1, 161-208 (1976), ■N, A,
Adrova and M, M, Koton,
Dokl, Akad.

Nauk 、 3 f3 f3B、165.1069(
1965)、■M、 M。
Nauk, 3 f3 f3B, 165.1069 (
1965), ■M, M.

Koton  and Yu、N、5azonov、J
、Therm、人alys。
Koton and Yu, N., 5azonov, J.
, Therm, human lys.

7(1975)、165、■M、M、Koton、 p
olym、 Sci。
7 (1975), 165, ■M, M, Koton, p.
olym, Sci.

U、S、S、R,21,2756(1979)等に示さ
れているように多種多様のものが提供されている。しか
し、実際に合成され、あるいは実用に供されているもの
は極めて少ない。これまで、実際に合成が試みられ、報
告おるいは市販されているものとしてはジアミノジフェ
ニルエーテル、ジアミノシフエルメタン、′バラフェニ
レンジアミンあるいはジアミノジフェニルサルファイド
のような芳香族ジアミンとピロメリト酸二無水物、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、テトラカルポキ
シジフェニルエーテルニ無水物あるいはブタンテトラカ
ルボ/酸二無水物のようなテトラカルボン酸二無水物を
原料としたポリイミドがあるに過ぎない。
A wide variety of methods are available, as shown in U.S.S.R., 21, 2756 (1979). However, very few have been actually synthesized or put into practical use. So far, the synthesis of aromatic diamines such as diaminodiphenyl ether, diaminophenyl methane, diaminodiamine or diaminodiphenyl sulfide and pyromellitic dianhydride, which have been actually synthesized and reported or are commercially available, include There are only polyimides made from tetracarboxylic dianhydrides such as benzophenone tetracarboxylic dianhydride, tetracarpoxy diphenyl ether dianhydride, or butane tetracarbo/acid dianhydride.

しかし、これらのポリイミドの線膨張係数は4〜6 X
 10−IK−1と極めて大きい。
However, the linear expansion coefficient of these polyimides is 4 to 6
It is extremely large at 10-IK-1.

ところが、本発明者らはさらに合成実験を行った結果、
下記のような特定の芳香族ジアミンとテトラカルボン酸
二無水物とから得られるポリイミドが前述のポリイミド
よシも異常に小さな線膨張係数と極めてすぐれた引張)
強度とを有する事実を発見した。本発明゛はこのような
発見に基づいてなされたものである。
However, as a result of further synthetic experiments, the inventors found that
The polyimide obtained from the specific aromatic diamine and tetracarboxylic dianhydride shown below has an abnormally small coefficient of linear expansion and extremely high tensile strength (compared to the polyimide mentioned above).
We have discovered a fact that has strength. The present invention has been made based on this discovery.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は金属やセラミックわるいはガラス質のよ
うな無機物質と同等の極めて小さな熱膨張係数を有する
とともに、すぐれた機械的性質を有する低熱膨張性樹脂
材料とこれを用いた複合成形品を提供することにある。
The purpose of the present invention is to provide a low thermal expansion resin material that has an extremely small coefficient of thermal expansion equivalent to that of inorganic materials such as metals, ceramics, or glass, and has excellent mechanical properties, and a composite molded product using the same. It is about providing.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の低熱膨張性樹脂材料は、1ヶ以上の芳香環を有
し、該芳香環は分子軸を中心として回転容易であるが他
の方向には柔軟性がない構造(分子構造が、分子軸を中
心にO±40°の範囲でほぼ直線状を呈する)を有する
芳香族基で心って、該ポリイミド分子が少なくとも一軸
方向に配向されている部分を含むことを特徴とする。
The low thermal expansion resin material of the present invention has one or more aromatic rings, and the aromatic ring has a structure that allows easy rotation around the molecular axis but is inflexible in other directions (the molecular structure is The polyimide molecule is characterized by containing a portion in which the polyimide molecule is oriented in at least one axis, centered on an aromatic group having an aromatic group having a substantially linear shape in the range of 0±40° about the axis.

配向の程度はオーダーパラメータ(8)にして0.07
以上が好ましい。尚、Sは次式にて示される。
The degree of orientation is 0.07 as the order parameter (8)
The above is preferable. Note that S is expressed by the following formula.

E、y3は無限延伸のEで約4.OX 10” dyn
/c4)これは、熱膨張係数比(α/α   )で見る
と、uzg S値とα/α78gll;の相関性が有シ(本願発明者
は断性率と配向との関係を検討してこれを確認した)、
S値が0.07(7%)程度でαが約半分になるからで
ある。
E, y3 is E of infinite stretching and is approximately 4. OX 10” dyn
/c4) When looking at the thermal expansion coefficient ratio (α/α), there is a correlation between the uzg S value and α/α78gll (the inventor of the present application has studied the relationship between the fracture rate and the orientation). I confirmed this)
This is because when the S value is approximately 0.07 (7%), α is approximately halved.

本発明の低熱膨張性ポリイミドの化学構造として、例え
ば (R)t(R)、n 及びまたは (12)。
Examples of the chemical structure of the low thermal expansion polyimide of the present invention include (R)t(R), n and or (12).

からなるものが挙げられる。ここで、几はアルキル基、
フッ素化アルキル基、アルコキシル基、フッ素化アルコ
キシル基、アシル基、ハロゲン、tはO〜4、mは0〜
2、nはO〜3である。本発明の低熱膨張性樹脂材料は
、分子配列がランダムでも他ポリマーに比べ低熱膨張性
、高強度、高弾性、高耐熱性であるが、何らかの分子配
向処理を行うことによって格段にその性質が顕著になる
Examples include those consisting of. Here, 几 is an alkyl group,
Fluorinated alkyl group, alkoxyl group, fluorinated alkoxyl group, acyl group, halogen, t is O~4, m is 0~
2, n is O-3. The low thermal expansion resin material of the present invention has low thermal expansion, high strength, high elasticity, and high heat resistance compared to other polymers even when the molecular arrangement is random, but these properties are significantly improved by performing some kind of molecular orientation treatment. become.

ポリフェニレンなどの芳香族ポリマーは、一般にI’l
l直であるが脆いという欠点があシ、芳香環と芳香環の
間に、−〇−1−8−9−+cH2+p。
Aromatic polymers such as polyphenylene are generally
Although it is straight, it has the disadvantage of being brittle. Between the aromatic rings, there is -0-1-8-9-+cH2+p.

Hs CH30H3 −NH−C−0− などのフレキシブルな結合を導入し
て、ポリマー全体を可撓化されてbる。また、芳香環の
結合位置も、0−やm−位にすると可撓化される。ポリ
イミドも同様でメジ、現在工業化されているポリイミド
はすべてが、これらの中から選ばれた結合を有している
。それ故に、本発明の低熱膨張性ポリマーは見出されて
いなかった。
Flexible bonds such as HsCH30H3-NH-C-0- are introduced to make the entire polymer flexible. Further, the bonding position of the aromatic ring is also made flexible by setting it to the 0- or m-position. The same is true for polyimides; all polyimides currently being industrialized have bonds selected from these. Therefore, the low thermal expansion polymer of the present invention has not been found.

本発明の低熱膨張性ポリイミドとしては次のような例が
挙げられる。尚、下記の各式において、R,!、、m、
nは前述の定義の通プであり、kはO〜3のi数である
Examples of the low thermal expansion polyimide of the present invention include the following. In addition, in each formula below, R,! ,,m,
n is as defined above, and k is the i number from O to 3.

(R)n 第1図は、種々の材料の熱膨張係数を示したものである
。この図から一般的な有機ポリマーの熱膨張係数が金属
やセラミックスなどに比べて大きいが、本発明の配向さ
れたポリイミドの熱膨張係数が小さいかが一目瞭然と分
かる。熱膨張係数が金属やセラミックスなどの無機材料
と同程度に小さいと、これらの無機材料と有機材料を組
合た場合温度変化に対して同様に寸法変化が起こるため
熱応力やそりが起こらず、工業的には非常に有用である
。こ11.までの有機材料の最大の欠点は、熱膨張係数
が無機材料に比べてはるかく大きいことであると言って
決して過言ではない。
(R)n Figure 1 shows the coefficient of thermal expansion of various materials. From this figure, it can be clearly seen that while the coefficient of thermal expansion of general organic polymers is larger than that of metals and ceramics, the coefficient of thermal expansion of the oriented polyimide of the present invention is small. If the coefficient of thermal expansion is as small as that of inorganic materials such as metals and ceramics, when these inorganic materials and organic materials are combined, dimensional changes will occur in the same way due to temperature changes, so thermal stress and warpage will not occur, making it suitable for industrial use. It is extremely useful. This 11. It is no exaggeration to say that the biggest drawback of organic materials up until now is that their coefficient of thermal expansion is much larger than that of inorganic materials.

本発明の低熱膨張性ポリイミドは、芳香族アミノジカル
ボン酸誘導体の単独重合、または芳香族ジアミンあるい
は芳香族ジインシアナートと、芳香族テトラカルボン酸
誘導体の反応によって得ることが出来る。テトラカルボ
ン酸誘導体としてはエステル、酸無水物、酸塩化物があ
る。酸無水物を用いると、合成上好ましい。合成反応は
、一般的には、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメ
チルホルムアミド責DMF) 、ジメチルアセトアミl
’(DMAC)、ジメチルスルホキサイド(DM80)
、硫酸ジメチル、スルホラン、ブチロラクトン、クレゾ
ール、フェノール、ハロケン化フェノール、7クロヘキ
サノン、ジオキサンなどの溶液中で、0〜200Cの範
囲で行われる。
The low thermal expansion polyimide of the present invention can be obtained by homopolymerization of an aromatic aminodicarboxylic acid derivative or by reaction of an aromatic diamine or an aromatic diincyanate with an aromatic tetracarboxylic acid derivative. Tetracarboxylic acid derivatives include esters, acid anhydrides, and acid chlorides. The use of acid anhydrides is preferable in terms of synthesis. The synthesis reaction generally involves N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamyl
'(DMAC), dimethyl sulfoxide (DM80)
, dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol, 7-chlorohexanone, dioxane, etc., at a temperature ranging from 0 to 200C.

本発明に用いられるアミノジカルボン酸誘導体として具
体例を挙げると、4−7ミノフタル酸、4−アミノ−5
−メチルフタル酸、4−(p−アニリノ)−フタル酸、
4−(3,5−ジメチル−4−アニリノ)フタル酸など
、あるいはこれらのエステル、酸無水物、酸塩化物など
が挙げられる。
Specific examples of aminodicarboxylic acid derivatives used in the present invention include 4-7 minophthalic acid, 4-amino-5
-methyl phthalic acid, 4-(p-anilino)-phthalic acid,
Examples include 4-(3,5-dimethyl-4-anilino)phthalic acid, or esters, acid anhydrides, and acid chlorides thereof.

本発明に用いられる芳香族ジアミンとしては、次のもの
が挙げられる。
Examples of aromatic diamines used in the present invention include the following.

p−フ二二レンジアミン、2.5−ジアミノトルエン、
2.5−ジアミノキシレン、ジアミノキシレン(2* 
3 、5 、6− tetramethyl −p −
phemylenediamine ) 、2 、5−
ジアミノベンシトリフルオライド、2,5−ジアミノキ
シンール、2.5−ジアミノアセトフェノン、2.5−
ジアミノベンゾフェノン、2,5−ジアミノジフェニル
、2.5−ジアミノフルオロベンゼン、ベンジジン、0
−トリジン、m−トリジン、3.3’。
p-phinyl diamine, 2,5-diaminotoluene,
2.5-diaminoxylene, diaminoxylene (2*
3,5,6-tetramethyl-p-
phemylenediamine), 2, 5-
Diaminobencytrifluoride, 2,5-diaminoxinol, 2.5-diaminoacetophenone, 2.5-
Diaminobenzophenone, 2,5-diaminodiphenyl, 2,5-diaminofluorobenzene, benzidine, 0
-Tolidine, m-Tolidine, 3.3'.

5.5′−テトラメチルベンジジン、3.3’−ジフト
中7ベンジジン、3.3′−ジ(トリフルオロメチル)
ベンジジン、3.3′−ジアセチルベンジジン、3.3
’−ジフルオロベンジジン、オクタフルオロベンジジン
、4.4“−ジアミノターフェニル、4.4”−ジアミ
ノクォータフェニル。
5.5'-tetramethylbenzidine, 7benzidine in 3.3'-diphtho, 3.3'-di(trifluoromethyl)
Benzidine, 3.3'-Diacetylbenzidine, 3.3
'-difluorobenzidine, octafluorobenzidine, 4.4"-diaminoterphenyl, 4.4"-diaminoquarterphenyl.

また、これらのジイソシアナート化合物も同様に使用で
きる。
Further, these diisocyanate compounds can also be used in the same manner.

本発明に用いるテトラカルボン酸誘導体としては、ピロ
メリット酸、メチルピロメリット酸、ジメチルピロメリ
ット酸、ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸、3
.3’ 、4.4’−ビフェニルテトラカルボン酸、5
.5’−ジメチル−3゜3’ 、4.4’−ビフェニル
テトラカルボン酸、p−(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)ベンゼン、またはこれらの酸無水物、酸塩化物、エ
ステルなどが挙げられる。
Examples of the tetracarboxylic acid derivatives used in the present invention include pyromellitic acid, methylpyromellitic acid, dimethylpyromellitic acid, di(trifluoromethyl)pyromellitic acid,
.. 3', 4.4'-biphenyltetracarboxylic acid, 5
.. Examples include 5'-dimethyl-3°3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, p-(3,4-dicarboxyphenyl)benzene, and acid anhydrides, acid chlorides, and esters thereof.

本発明のポリイミドは、特に分子配向させなくても他の
ポリマーに比較して低熱膨張性で、高強度、高弾性であ
るが、分子鎖を配向させることによシ格段にその威力を
発揮することが出来る。例えば、フィルム状の成形品を
一軸または二軸延伸することKよって分子鎖を配列させ
ることが出来る。芳香族ポリイミドは一般に配向処理に
よって低熱膨張性、高弾性、高強度になることは知られ
ているが、本発明のポリイミドに比較し、その効果は全
く少ない。ポリマー鎖の配向させ方は、通常のフィルム
を延伸機で延伸させるだけでなく、ポリイミドまたはそ
の前駆体フェスからポリイミド成形体にする過程で、そ
の硬化反応や溶剤の揮発による収縮を利用しても出来る
。すなわち、フェスを塗布し、硬化させるrlA K 
s収縮を抑制することによって、分子鎖を配向させるこ
とが可能である。硬化収縮による延伸量は、従来の延伸
法に比較して非常に少ないが、本発明のポリイミドにお
いてはその程度の配向処理でも十分効果がある。
The polyimide of the present invention has low thermal expansion, high strength, and high elasticity compared to other polymers even without particular molecular orientation, but it exhibits its effectiveness significantly by orienting the molecular chains. I can do it. For example, molecular chains can be aligned by uniaxially or biaxially stretching a film-like molded product. Although it is known that aromatic polyimides generally have low thermal expansion, high elasticity, and high strength through orientation treatment, these effects are quite small compared to the polyimide of the present invention. Orientation of polymer chains can be achieved not only by stretching a normal film using a stretching machine, but also by utilizing the curing reaction and shrinkage caused by solvent volatilization during the process of turning polyimide or its precursor face into a polyimide molded product. I can do it. That is, applying the face and curing rlAK
By suppressing s-contraction, it is possible to orient the molecular chains. Although the amount of stretching due to curing shrinkage is very small compared to conventional stretching methods, the polyimide of the present invention is sufficiently effective even with such an orientation treatment.

また、フィルム状成形体を延伸させる場合、完全忙硬化
したものを延伸しようとすると、ポリイミドのガラス転
移温度は極めて高いため、非常に高い温度で延伸しなけ
ればならず、また高温で延伸するにしても分子間凝集力
が非常に強いため配向し難い。容易に配向させるために
は溶剤をある程度含んでいる状態あるいはガラス転移温
度が低いポリアミド酸の状態で延伸して分子を配向させ
、その後完全硬化することが好ましい。
In addition, when stretching a film-like molded product, if you try to stretch a completely cured product, it must be stretched at a very high temperature because the glass transition temperature of polyimide is extremely high. However, since the intermolecular cohesive force is extremely strong, it is difficult to align the molecules. In order to easily achieve orientation, it is preferable to orient the molecules by stretching the polyamic acid in a state containing a certain amount of solvent or in a state of polyamic acid having a low glass transition temperature, and then completely harden.

本発明のポリイミドがこのような従来のポリマ−の常識
から全くはずれた挙動を示す今理由は、次のように考え
られる。すなわち、本発明のポリイミド主鎖はほぼ直線
構造を有する。しかし、ポリアミド酸またはポリアミド
フエスの状態では溶媒和してランダムコイル状になって
おシ、硬化しても直線状構造はとれない。これが、配向
処理が加えられると、このポリイミド分子にとって最も
安定な直線状の構造をとれるようになったと考えられる
The reason why the polyimide of the present invention exhibits behavior that is completely different from the common sense of conventional polymers is considered to be as follows. That is, the polyimide main chain of the present invention has a substantially linear structure. However, in the state of polyamic acid or polyamide foam, it becomes solvated and becomes a random coil shape, and even when cured, a linear structure cannot be obtained. It is thought that when orientation treatment is applied, this polyimide molecule is able to assume the most stable linear structure.

本発明の低熱膨張性ポリイミドは、低熱膨張性でないポ
リマーをかなシの量ブレンドまたは共重合させても、そ
の性質をらまシ失わない。本発明のポリイミドの中には
多少機械的に脆いものも含まれるが、そのようなものに
対して、フレキシブルな低熱膨張性でないポリマーをブ
レンドあるいは共重合させることは好ましい場合もある
。ブレンドあるいは共重合し得るポリマーとしては、例
えば次のようなジアミンとテトラカルボン酸誘導体から
得られるポリイミドがある。芳香族ジアミンの具体例を
挙げると、m−フェニレンジアミン、4.4′−ジアミ
ノジフェニルメタン、1.2−ビス(アニリノ)エタン
、4.4’−ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジ
フェニルスルホン、2.2−ビス(p−アミノフェニル
)プロパン、2.2−ビス(p−アミノフェニル)へ−
?lフルオロプロパン、3.37−シメチルー4.4’
−ジアミノジフェニルエーテル、3.3’−ジメチル−
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノトルエ
ン、ジアミノベンシトリフルオライド、1.4−ビ2(
p−アミノフェノキシ)ベンゼン、4.4′−ビス(p
−アミノフェノキシ)ビフェニル、2.2−ビス(4−
(p−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、ジアミ
ノアントラキノン、4.4’−ビス(3−アミノフェノ
キシフェニル)ジフェニルスルホニ/、1.3−ビス(
アニリノ)へ−?テフルオロプロパン、1.4−ビス(
アニリノ)オクタフルオロブタ/、1.5−ビス(アニ
リノ)デカフルオロペンタン、1.7−ビス(アニリノ
)テトラデカフルオロへブタン、一般式 %式% (Rs 、 Rrは2価の有機基、R4、Rsは1価の
有機基、p、qは1よシ大きい整数)で示されるジアミ
ノシロキサン、2,2−ビス(4−(+)−アミノフェ
ノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパン、2,2−
ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)へキサ
フルオロプロパン、2゜2−ビス(4−(2−アミノフ
ェノキシ)フェニル−へキサフルオロプロパン、2.2
−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメ
チルフェニル)へキサフルオロプロパン、2.2−ビス
(4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジトリフル
オロメチルフェニル)へキサフルオロプロパン、p−ビ
ス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)
べ/ゼン、4.4’−ビス(4−アミノ−2−トリフル
オロメチルフェノキシ)ビフェニル、4.4′−ビス(
4−アミノ−3−) 17フルオロメチルフエノキシ)
ビフェニル、4、4′−ビス(4−アミノ−2−トリフ
ルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4.4
’−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ジフェニルスルホン、2.2−ビス(4−(4−
アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル
)へキサフルオロプロパンなどのジアミン類、並びにこ
れらのジアミンとホスゲンなどの反応によって得られる
ジイソシアナート例えばトリレンジインシアナート、ジ
フェニルメタンジイソシアナート、ナフタレンジインク
アナート、ジフェニルエーテルジインシアナート、フェ
ニレン−1,3−ジイソシアナートなどの芳香族ジイソ
シアナート類がある。また、テトラカルボン酸並び釦そ
の誘導体としては次のようなものが挙げられる。ここで
はテトラカルボン酸として例示するが、これらのエステ
ル化物、酸無水物、酸塩化物ももちろん使用出来る。2
,3.3’ 。
The low thermal expansion polyimide of the present invention does not lose its properties even if it is blended or copolymerized with a polymer that does not have low thermal expansion. Some of the polyimides of the present invention are mechanically fragile, and it may be preferable to blend or copolymerize such polyimides with flexible polymers that do not have low thermal expansion. Examples of polymers that can be blended or copolymerized include polyimides obtained from the following diamines and tetracarboxylic acid derivatives. Specific examples of aromatic diamines include m-phenylenediamine, 4.4'-diaminodiphenylmethane, 1.2-bis(anilino)ethane, 4.4'-diaminodiphenyl ether, diaminodiphenyl sulfone, and 2.2-bis. (p-aminophenyl)propane, to 2,2-bis(p-aminophenyl)-
? l fluoropropane, 3,37-cymethyl-4,4'
-Diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-
4,4'-diaminodiphenylmethane, diaminotoluene, diaminobensitrifluoride, 1,4-bi2(
p-aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(p
-aminophenoxy)biphenyl, 2,2-bis(4-
(p-aminophenoxy)phenyl)propane, diaminoanthraquinone, 4,4'-bis(3-aminophenoxyphenyl)diphenylsulfony/, 1,3-bis(
Anilino) to? Tefluoropropane, 1,4-bis(
Anilino)octafluorobuta/, 1.5-bis(anilino)decafluoropentane, 1.7-bis(anilino)tetradecafluorohbutane, general formula % formula % (Rs, Rr is a divalent organic group, R4 , Rs is a monovalent organic group, p and q are integers larger than 1), 2,2-bis(4-(+)-aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane, 2,2 −
Bis(4-(3-aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane, 2゜2-bis(4-(2-aminophenoxy)phenyl-hexafluoropropane, 2.2
-bis(4-(4-aminophenoxy)-3,5-dimethylphenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(4-(4-aminophenoxy)-3,5-ditrifluoromethylphenyl)hexafluoropropane Fluoropropane, p-bis(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)
be/zene, 4,4'-bis(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(
4-amino-3-) 17fluoromethylphenoxy)
Biphenyl, 4,4'-bis(4-amino-2-trifluoromethylphenoxy)diphenylsulfone, 4.4
'-bis(3-amino-5-trifluoromethylphenoxy)diphenylsulfone, 2,2-bis(4-(4-
Diamines such as amino-3-trifluoromethylphenoxy)phenyl)hexafluoropropane, and diisocyanates obtained by reacting these diamines with phosgene, etc. For example, tolylene diinocyanate, diphenylmethane diisocyanate, naphthalenedi ink There are aromatic diisocyanates such as annate, diphenyl ether diincyanate, and phenylene-1,3-diisocyanate. Examples of tetracarboxylic acids and their derivatives include the following. Although tetracarboxylic acids are exemplified here, esterified products, acid anhydrides, and acid chlorides thereof can of course also be used. 2
, 3.3'.

4’−fトラカルボキシジフェニル、a、3/ 14.
4’−fトラカルボキシジフェニルエーテル、2.3.
3’ 、4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル、
3.3’ 、4.4’−テトラカルボキシベンゾフェノ
ン、2,3.3’ 、4’ −テトラカルボキシベンゾ
フェノン、2,3,6.7−チトラカルボキシナフタレ
ン、1,4,5.7−チトラカルボキシナフタレン、1
.2,5.6=テトラカルボキシナフタレン、3.3’
 、4゜4′−テトラカルボキシジフェニルメタン、2
゜2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキ
サフルオロプロパン、3.3’ 、4゜4′−テトラカ
ルボキシジフェニルスルホン、3゜4.9.10−テト
ラカルボキシペリレン、2゜2−ビス(4−(3,4−
ジカルボキシフェノキシ)フェニル)フロパン、2.2
−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェ
ニル)へキサフルオロプロパン、ブタンテトラカルボン
酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などがある。
4'-f tracarboxydiphenyl, a, 3/14.
4'-f tracarboxydiphenyl ether, 2.3.
3',4'-tetracarboxydiphenyl ether,
3.3', 4.4'-tetracarboxybenzophenone, 2,3.3', 4'-tetracarboxybenzophenone, 2,3,6.7-titracarboxynaphthalene, 1,4,5.7-titracarboxy naphthalene, 1
.. 2,5.6=tetracarboxynaphthalene, 3.3'
, 4゜4'-tetracarboxydiphenylmethane, 2
゜2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane, 2.2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane, 3.3', 4゜4'-tetracarboxydiphenyl sulfone, 3゜4.9.10-tetracarboxyperylene, 2゜2-bis(4-(3,4-
dicarboxyphenoxy)phenyl)furopane, 2.2
-bis(4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl)hexafluoropropane, butanetetracarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, and the like.

また、反応性官能基を有する化合物で変性し、架橋構造
やラダー構造を導入することも出来る。例えば、次のよ
うな方法がある。
Furthermore, it is also possible to introduce a crosslinked structure or ladder structure by modifying with a compound having a reactive functional group. For example, there are the following methods.

(1)一般式(III)で表わされる化合物で変性する
ことによって、ピロロン環やイソインドロキナゾリンジ
オ/環などを導入する。
(1) By modifying with a compound represented by general formula (III), a pyrrolone ring, isoindoquinazoline di/ring, etc. are introduced.

ここで、几′は2+X価の芳香族有機基、2はN H2
基、CONHz基、5OzNHz基から選ばれた基でワ
シ、アミノ基に対して、オルン位である。Xは1または
2である。
Here, 几′ is a 2+X-valent aromatic organic group, 2 is N H2
It is a group selected from a group, a CONHz group, and a 5OzNHz group, and is in the orn position with respect to the eagle and amino groups. X is 1 or 2.

(11)重合性不飽和結合を有するアミン、ジアミン、
ジカルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸の誘
導体で変性して、硬化時に橋かけ構造を形成する。不飽
和化合物としては、マレイン酸、ナジック酸、テトラヒ
ドロフタル酸、エチニルアニリンなどが使用できる。
(11) Amine, diamine having a polymerizable unsaturated bond,
It is modified with dicarboxylic acid, tricarboxylic acid, and tetracarboxylic acid derivatives to form a crosslinked structure upon curing. As the unsaturated compound, maleic acid, nadic acid, tetrahydrophthalic acid, ethynylaniline, etc. can be used.

(liD  フェノール性水酸基、あるbはカルボン酸
を有する芳香族アミンで変性し、この水酸基またはカル
ボキシル基と反応しうる橋かけ剤を用い網目構造を形成
する。
(liD The phenolic hydroxyl group, certain b, is modified with an aromatic amine having a carboxylic acid, and a network structure is formed using a crosslinking agent that can react with this hydroxyl group or carboxyl group.

本発明において、低熱膨張ポリイミド無機質材料と一体
化する場合、接着性が重要である。無機質材料の材料の
表面を粗化したり、シランカップリング剤、チタネート
カップリング剤、アルミアルコレート、アルミニウムキ
レート、ジルコニウムキレート、アルミニウムアセチル
アセト/などにより表面処理することが好ましい。これ
らの表面処理剤を前記低熱膨張ポリイミドに添加しても
よい。
In the present invention, adhesiveness is important when integrating with a low thermal expansion polyimide inorganic material. It is preferable to roughen the surface of the inorganic material or to treat the surface with a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum alcoholate, an aluminum chelate, a zirconium chelate, an aluminum acetylacetate, or the like. These surface treating agents may be added to the low thermal expansion polyimide.

本発明において、よシ熱膨張係数を下げたり、弾性率を
上げたり、流動性をコントロールしたりするために、無
機質、有機質、または金属などの粉末、繊維、チョップ
トストランドなどを混合することも出来る。
In the present invention, inorganic, organic, or metal powders, fibers, chopped strands, etc. may be mixed in order to lower the coefficient of thermal expansion, increase the elastic modulus, and control fluidity. I can do it.

本発明の複合成形品は以上の低熱膨張樹脂と無機質材と
を一体化したものである。すなわち上記の本発明の低熱
膨張性ポリイミドは低熱膨張性、高強度、高弾性の特徴
を生かし、次に挙げる用途に極めて有用である。
The composite molded article of the present invention is a product in which the above-described low thermal expansion resin and inorganic material are integrated. That is, the above-described low thermal expansion polyimide of the present invention takes advantage of its characteristics of low thermal expansion, high strength, and high elasticity, and is extremely useful for the following uses.

α)  IC,LSIのキャリヤフィルム(2) フラ
ットケーブル (3)  フレキシブルプリント基板 (4)L8Iの配線絶縁膜 (5)L、9Iの耐湿保護膜 (6)LSIのα線遮蔽膜 (7)  フィルム絶縁コイル (8)  半導体のパッシベーション膜(9)ポリイミ
ド絶縁膜を有する金属芯プリント板αO太陽電池 (6)有機繊維 @ 低熱膨張性ポリイミド繊維補強F几P(2)有機充
填剤 〔発明の実施例〕 第2図は、銅箔1に直接低熱膨張性ポリイミド2の前駆
体フェスを塗布し、硬化収縮を抑制しながら硬化し、そ
の後銅箔をバターニングして得たフレキシブルプリント
基板の断面を示す。低熱膨優性のため、硬化後室温に冷
却しても熱膨張係数の差によるカールがなく、フラット
なフレキシブルプリント基板が得られる。通常のFPC
の場合接着剤を使うが、それによる耐熱性の大幅な低下
がなくなり、かつ接着力も非常に強い。
α) IC, LSI carrier film (2) Flat cable (3) Flexible printed circuit board (4) L8I wiring insulation film (5) L, 9I moisture-resistant protective film (6) LSI α-ray shielding film (7) Film Insulated coil (8) Semiconductor passivation film (9) Metal-core printed board αO solar cell with polyimide insulating film (6) Organic fiber @ Low thermal expansion polyimide fiber reinforcement FP (2) Organic filler [Embodiment of the invention ] Figure 2 shows a cross section of a flexible printed circuit board obtained by applying a precursor face of low thermal expansion polyimide 2 directly to copper foil 1, curing while suppressing curing shrinkage, and then buttering the copper foil. . Due to its low thermal expansion, even when cooled to room temperature after curing, there is no curling due to differences in thermal expansion coefficients, and a flat flexible printed circuit board can be obtained. normal FPC
In this case, adhesives are used, but there is no significant decrease in heat resistance due to adhesives, and the adhesive strength is also very strong.

第3図は、LSIの多層配線部の断面を示す。FIG. 3 shows a cross section of a multilayer wiring section of an LSI.

3はシリコンウェハ、4は熱駿化膜、5はアルミニウム
(A4)配線、6は低熱膨張性ポリイミドの絶縁薄膜で
ある。絶縁薄膜をスピンコードで形成するとAt配線の
段差を大幅に緩和し平坦な高信頼性の配線構造を与え、
かつ低熱膨張性故に素子への応力も非常に少ない。熱応
力が大きいと素子にクラックが生じる。
3 is a silicon wafer, 4 is a thermally cured film, 5 is aluminum (A4) wiring, and 6 is an insulating thin film of low thermal expansion polyimide. When an insulating thin film is formed using a spin cord, the level difference in the At wiring is greatly reduced, providing a flat and highly reliable wiring structure.
In addition, due to its low thermal expansion, stress on the element is extremely low. If the thermal stress is large, cracks will occur in the device.

また、本発明に用いる低熱膨張材は、ヒドラジ7などで
容易く加工できる。エツチング速度は従来のポリイミド
の2倍程度速い。
Furthermore, the low thermal expansion material used in the present invention can be easily processed using Hydrazi 7 or the like. The etching speed is about twice as fast as that of conventional polyimide.

第4図は、α線遮蔽膜を有するメモリ素子の断面図を示
したものである。7は配線層、8はリード線を示す。α
線遮蔽膜9として前記低熱膨張ボリイく、ドを用いると
、シリコンウェハ1や配線層7との熱膨張係数の差が小
さいため、従来のポリマーを用いたときに問題であった
熱応力によるクランクや剥離が発生せず、また、クエハ
が湾曲してフォトレジストのパターニングにおける解像
度の低下などの問題が起こらない。また、耐熱性が従来
のポリイミドに比べて極めて優れており、ガラス封止凰
半導体素子用に適する。450Cでの熱分解速度は従来
タイプの1/10程度である。
FIG. 4 shows a cross-sectional view of a memory element having an α-ray shielding film. 7 is a wiring layer, and 8 is a lead wire. α
When the low thermal expansion polymer is used as the wire shielding film 9, the difference in thermal expansion coefficient between the silicon wafer 1 and the wiring layer 7 is small, so that cranking due to thermal stress, which was a problem when using conventional polymers, is avoided. In addition, problems such as deterioration of resolution in photoresist patterning due to curving of the wafer do not occur. Furthermore, it has extremely superior heat resistance compared to conventional polyimide, making it suitable for glass-sealed semiconductor devices. The thermal decomposition rate at 450C is about 1/10 that of the conventional type.

第3図、第4図に示したLSI用の絶縁膜として本発明
の低熱膨張性ポリイミドを用いると、硬化時の収縮は、
シリコンウェハに抑制され低熱膨張性を示す。
When the low thermal expansion polyimide of the present invention is used as the insulating film for the LSI shown in FIGS. 3 and 4, the shrinkage upon curing is as follows.
It exhibits low thermal expansion suppressed by silicon wafer.

第5図に、LSI搭載金属板ペースのプリント配線板の
断面図を示す。10は金属基板、11はフィルムキャリ
ヤ方式で製造したLSIチップ、12は前記低熱膨張ポ
リイミドを用いたキャリヤフィルム、13は端子である
。低熱膨張ポリイミドをキャリヤフィルム12として採
用したために高精度高密度のり、9111が得られ、ま
たボンディング用半田ボール14にかかる応力の大幅な
減少によシ疲労破断の問題が低減した。また、金属基板
10上に形成した配線部15の絶縁膜16に、低熱膨張
ポリイミドを採用することによって、湾曲のないプリン
ト配線基板が得られ、そのため高精度高密度実装が可能
になる。
FIG. 5 shows a cross-sectional view of a printed wiring board based on an LSI-mounted metal plate. 10 is a metal substrate, 11 is an LSI chip manufactured by a film carrier method, 12 is a carrier film using the low thermal expansion polyimide, and 13 is a terminal. Since a low thermal expansion polyimide is employed as the carrier film 12, a high precision and high density adhesive, 9111, can be obtained, and the stress applied to the bonding solder balls 14 is significantly reduced, thereby reducing the problem of fatigue breakage. In addition, by employing low thermal expansion polyimide for the insulating film 16 of the wiring section 15 formed on the metal substrate 10, a printed wiring board without curvature can be obtained, which enables high-precision, high-density mounting.

第6図は、リード線ボンディング方式で実装した金属基
板モジュールを示したものである。17がリード線ボン
ディング方式のLSIチップである。
FIG. 6 shows a metal substrate module mounted using the lead wire bonding method. 17 is a lead wire bonding type LSI chip.

また、本発明は特に図面は示さないが、次のような用途
に有効である。
Further, although the drawings are not particularly shown, the present invention is effective for the following uses.

アモルファスシリコンを用いた太陽電他の基板として、
前記低熱膨張のポリイミド薄膜をコートしたステンレス
等の金属箔を使用すると、従来のポリイミドを用いた場
合に比べ、アモルファスシリツクスレジンとして使用す
る場合、繊維補強による沿層方向の熱膨張係数だけでな
く、それと直角の貫層方向の熱膨張係数も小さく出来る
。また、繊維材との熱膨張係数の差が小さいため、局部
的な熱応力がなく、ヒートショックなどによる界面はく
シなどの問題も起こらない。
As a substrate for solar power and other devices using amorphous silicon,
When using a metal foil such as stainless steel coated with the aforementioned low thermal expansion polyimide thin film, when used as an amorphous silicon resin, the coefficient of thermal expansion in the longitudinal direction due to fiber reinforcement is lower than when using conventional polyimide. , the coefficient of thermal expansion in the translayer direction perpendicular to this can also be made smaller. Furthermore, since the difference in thermal expansion coefficient with the fiber material is small, there is no local thermal stress, and problems such as interface peeling due to heat shock and the like do not occur.

成形材料として使用する場合、埋め込み材料が金属やセ
ラミックスのとき、同様にクランク発生や埋め込み物の
クランクや変形の問題が起こらない。
When used as a molding material, when the embedding material is metal or ceramic, the problems of cranking and cracking and deformation of the embedding do not occur.

また、低熱膨張性ポリイミドを繊維状にし、FRP用の
強化繊維として使用すると、ガラスクロスなどに比べよ
υ軽量になる。そして、コンピュータ用多層配線板用と
しては、ガラスクロスを用いたものに比較して、誘電率
が小さいなどの利点がある。
In addition, when low thermal expansion polyimide is made into fibers and used as reinforcing fibers for FRP, it becomes lighter than glass cloth or the like. For multilayer wiring boards for computers, it has advantages such as a lower dielectric constant than those using glass cloth.

このように本発明の複合成形品は前記低熱膨張ポリイミ
ドと無機質材とを直接あるいは接着剤やバインダを介在
して一体化される。
In this way, the composite molded article of the present invention is made by integrating the low thermal expansion polyimide and the inorganic material directly or through an adhesive or a binder.

以下、本発明の樹脂の合成に関してよシ詳細に例示する
The synthesis of the resin of the present invention will be illustrated in detail below.

実施例1〜8.比較例1〜1G 温度計、攪拌装置、還流コンデンサ、及び窒素吹込口を
有する4つロフラスコに1表IK示す量のジアミンを入
れ、N−メチル−2−ピロリドン(NMP ) 850
 gで溶解した。次いで、0〜50Cの水浴中にフラス
コを浸漬し、発熱を抑制しながらテトラカルボン酸二無
水物を投入した。
Examples 1-8. Comparative Examples 1 to 1G A four-bottle flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet was charged with diamine in the amount shown in Table 1, and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) 850
It was dissolved in g. Next, the flask was immersed in a water bath at 0 to 50 C, and tetracarboxylic dianhydride was added while suppressing heat generation.

テトラカルボン酸二無水物が溶解した後、水浴をはずし
、室温付近で約5時間反応を続け、表1に示すポリアミ
ド酸ワニスを得た。ワニス粘度が非常に高くなった場合
、25Cでの粘度が50ポアズになるまで80〜85C
Kて加熱攪拌(クツキング)した。
After the tetracarboxylic dianhydride was dissolved, the water bath was removed and the reaction was continued for about 5 hours at around room temperature to obtain the polyamic acid varnish shown in Table 1. If the varnish viscosity becomes very high, heat at 80-85C until the viscosity at 25C is 50 poise.
The mixture was heated and stirred at a high temperature.

これらのポリアミド酸を加熱して得られるポリイミドの
熱膨張係数は、次のように測定した。すなわち、ガラス
板にアプリケータを用いて均一に塗布し、80〜100
Cで30〜60分乾燥して60分間保持して、30〜2
00μm厚のポリイミドフィルムを得た。これを3mX
80mに切シ出し、2枚めガラス板にはさんで再び40
0CK加熱し、除冷して残留歪を除去した後、熱機械試
験機で、5C/−の条件で寸法変化を測定し、ガラス転
移点以下の寸法変化量から求めた。このようにして、フ
ィルムの吸湿水分や溶剤やイミド化反応による残留歪を
十分に除去、ならびにイミド化反応を実質的に完結しな
いと、正碓な熱膨張係数は測定できない。吸湿水分によ
って、几T〜150t:±40°の範囲において、脱湿
によって見掛は上フィルムの熱膨張係数が小さく観測さ
れる。また、残留歪またはイミド化反応が完結していな
いと、Tg付近で残留歪の除去または、イミド化反応に
よる脱水による収縮が起こシ、見掛は上の線膨張係数は
小さく観測される場合が多い。また、鉄枠に固定して硬
化しても、硬化途中で破れてしまった場合、配向処理が
不十分で熱膨張係数が多少大きくなるので注意を要する
The thermal expansion coefficient of polyimide obtained by heating these polyamic acids was measured as follows. That is, apply it uniformly to a glass plate using an applicator, and
Dry at C for 30-60 minutes, hold for 60 minutes, dry at 30-2
A polyimide film with a thickness of 0.00 μm was obtained. This is 3mX
Cut it out to 80m, sandwich it between the second glass plate and cut it again to 40m.
After heating to 0CK and slowly cooling to remove residual strain, dimensional changes were measured using a thermomechanical testing machine under conditions of 5C/-, and determined from the amount of dimensional change below the glass transition point. Unless hygroscopic moisture in the film, solvent, and residual strain caused by the imidization reaction are sufficiently removed, and the imidization reaction is not substantially completed, a proper coefficient of thermal expansion cannot be measured. Due to moisture absorption, the thermal expansion coefficient of the upper film appears to be small due to dehumidification in the range of T to 150t: ±40°. In addition, if the residual strain or imidization reaction is not completed, shrinkage may occur near Tg due to removal of residual strain or dehydration due to the imidization reaction, and the linear expansion coefficient above may appear to be small. many. Furthermore, even if it is fixed to an iron frame and cured, if it breaks during curing, the orientation treatment will be insufficient and the coefficient of thermal expansion will increase somewhat, so care must be taken.

次に、表1,2に前記ポリイミドフィルムの固定硬化と
自由硬化後の熱膨張係数を示す。
Next, Tables 1 and 2 show the thermal expansion coefficients of the polyimide film after fixed curing and free curing.

また、表1〜2のデータを横軸固定硬化での線膨張係数
、縦軸自由硬化での熱膨張係数でプロットした結果t−
717図に示した。一般的なポリイミドに比較して、本
発明のポリイミドは熱膨張係数が非常に小さいことが分
る。
In addition, the results of plotting the data in Tables 1 and 2 with the linear expansion coefficient for fixed hardening on the horizontal axis and the thermal expansion coefficient for free hardening on the vertical axis, t-
It is shown in Figure 717. It can be seen that the polyimide of the present invention has a very small coefficient of thermal expansion compared to general polyimide.

化学構造上の共通点をみると、低熱性になるジアミンは
、この中で、I)−PDA、DA’rP。
Looking at the common points in chemical structure, among these diamines that have low heat properties are I)-PDA and DA'rP.

o−TOLID、p−DATOLである。そして、テト
ラカルボン酸二無水物としては、PMD人がBPDAで
ある。すなわち、これらの実験データから低熱膨張性が
発現する条件は次の通りである。
o-TOLID, p-DATOL. As for the tetracarboxylic dianhydride, PMD is BPDA. That is, based on these experimental data, the conditions under which low thermal expansion is exhibited are as follows.

■ 骨格がベンゼン核とイミド環からなること■ ベン
ゼン核の結合がパラ結合であること■ ベンゼン核に側
鎖としてメチル基などの置換置があっても良い。
■ The skeleton consists of a benzene nucleus and an imide ring ■ The bond between the benzene nucleus is a para bond ■ The benzene nucleus may have a substituent such as a methyl group as a side chain.

実施例9〜14 本発明の低熱膨張性ポリイミドは、一般の熱膨張係数が
大きいポリイミドと共重合あるいはポリアミド酸の段階
で共重合することにより、熱膨張係数を適当にコントロ
ールすることも可能である。
Examples 9 to 14 It is also possible to appropriately control the thermal expansion coefficient of the low thermal expansion polyimide of the present invention by copolymerizing it with a general polyimide having a large thermal expansion coefficient or copolymerizing it at the polyamic acid stage. .

共重合体並びにブレンド物の熱膨張係数を表3に示した
。共重合6るいはブレンドの比に対して熱膨張係数は直
線に近い関係があシ、コントロールが楽に出来ることが
分る。
Table 3 shows the thermal expansion coefficients of the copolymers and blends. It can be seen that there is a nearly linear relationship between the coefficient of thermal expansion and the ratio of copolymerization or blending, making it easy to control.

実施例15(特性の検討) α)試料・・・表4に示した芳香族ジアミンと芳香族テ
トラカルボン酸二無水物とをN−メチル−2−ピロリパ
ン中で、室温で反応させてポリアミド酸ワニスとした。
Example 15 (Study of properties) α) Sample: Aromatic diamine shown in Table 4 and aromatic tetracarboxylic dianhydride were reacted in N-methyl-2-pyrrolipan at room temperature to produce polyamic acid. Made with varnish.

このワニスをガラス板上に塗布し、100Cで1時間乾
燥させた後、フィルムをはがし、200Cで1時間゛、
更に350Cで1時間窒素ガス中で硬化してポリイミド
フィルムを得た。
This varnish was applied onto a glass plate, dried at 100C for 1 hour, then the film was removed and dried at 200C for 1 hour.
It was further cured in nitrogen gas at 350C for 1 hour to obtain a polyimide film.

また、硬化時に、硬化収縮を自由にさせた場合(pre
e cure )と、鉄枠で収縮を一方或いは二方向に
抑えた場合(Unlz f ix 、 Bi f ix
 cure )とで熱膨張挙動が変わることが分かった
In addition, when curing shrinkage is allowed to occur during curing (pre
e cure), and when shrinkage is suppressed in one or two directions with an iron frame (Unlz f ix, Bi fix).
It was found that the thermal expansion behavior changes depending on the temperature (cure).

(2)  熱膨張係数・・・幅51Ili1厚さ20〜
100 pm。
(2) Coefficient of thermal expansion...width 51Ili1 thickness 20~
100pm.

長さ65m+(チャック間)のフィルムを試験片として
熱物理試験機(TMA1500、真空理工)を使用し、
5C/−の条件で測定した。熱膨張係数には温度依存性
があるので、代表値としては50〜250Cの間の平均
値を用いることにした。
Using a thermophysical testing machine (TMA1500, Shinku Riko) as a test piece, a film with a length of 65 m + (between chucks) was used.
It was measured under the condition of 5C/-. Since the coefficient of thermal expansion has temperature dependence, it was decided to use an average value between 50 and 250 C as a representative value.

(3)  広角X線回折・・・30wX40m、厚さ約
40μmft試験片として、ガイガーフレックス凡人D
(理学電機)を使用して測定した。
(3) Wide-angle X-ray diffraction...Geigerflex Ordinary D as a 30w x 40m, approximately 40μm thick test piece
(Rigaku Denki).

(4)  結果と検討 ポリイミドの熱膨張挙動は、ポリアミド酸フィルムから
ポリイミドへ加熱硬化する過程で、硬化収縮を抑制する
か否かによって様々に変化することが分かった。Fig
、8  は、DATPとPMDAからのポリイミドAD
1の熱膨張挙動である。ポリイミドの熱膨張係数は通常
4〜6 X 10−’ K”であり、50〜250Cの
温度変化に対して、0.8〜12%の寸法変化がある。
(4) Results and Discussion It was found that the thermal expansion behavior of polyimide varies depending on whether curing shrinkage is suppressed during the heat curing process from polyamic acid film to polyimide. Fig
, 8 is polyimide AD from DATP and PMDA
This is the thermal expansion behavior of 1. The coefficient of thermal expansion of polyimide is usually 4-6 x 10-'K'', and there is a dimensional change of 0.8-12% for a temperature change of 50-250C.

これに比較して/FLD1は、50〜250Cの温度範
囲で、preecureのものが0.2 俤、Bifi
x cureのものでは0.1憾程度しか寸法変化して
いない。Fig、9も低熱膨張性ポリイミド(AA2)
の例である。この場合も、Bifix cure(、た
ものは0.1係以下でおる。しかし、pree cur
e  のものは比較的熱膨張係数が大きくなシ、50〜
250Cの範囲で0.4チ程度である。この試料では、
硬化収縮の抑制を1軸のみ行ったものも検討した。この
結果によると、抑制方向(UFX−X)では更に熱膨張
係数が小さくなり寸法変化は250C近辺までほぼ0チ
である。但し、抑制方向に直角の方向(UFX−Y)で
はpree Cure とほぼ同様の挙動を示した。す
なわち、イミド化時のわずかな硬化収縮(線収縮約10
%)の方法によって、一般のプレポリマーフィルムを数
倍〜数10倍延伸したときと同様の効果が得られたこと
になる。同じく、黒人3.F3の各試料についての熱膨
張挙動をFig。
In comparison, /FLD1 has a temperature range of 50 to 250C, a precure one of 0.2 俤, and a Bifi
In the case of x cure, the dimension change was only about 0.1. Fig. 9 is also made of low thermal expansion polyimide (AA2)
This is an example. In this case as well, the Bifix cure is less than 0.1.
e has a relatively large coefficient of thermal expansion, 50~
It is about 0.4 inch in the range of 250C. In this sample,
We also investigated products in which curing shrinkage was suppressed in only one axis. According to this result, in the suppression direction (UFX-X), the coefficient of thermal expansion becomes even smaller, and the dimensional change is almost 0 degrees up to around 250C. However, in the direction perpendicular to the suppression direction (UFX-Y), it exhibited almost the same behavior as pre-Cure. In other words, slight curing shrinkage (linear shrinkage of about 10
%), the same effect as when stretching a general prepolymer film several times to several tens of times was obtained. Similarly, black people 3. Fig. shows the thermal expansion behavior of each sample of F3.

10.11に示す。10.11.

Fig、12にポリイミドの化学構造と熱膨張係数との
関係を示す。この結果よシ、ポリイミドの種類は大まか
に次の4つに分類できる。
Fig. 12 shows the relationship between the chemical structure of polyimide and the coefficient of thermal expansion. Based on these results, polyimide types can be roughly classified into the following four types.

■ Free、Bifix cure  のどちらも熱
膨張係数が小さいもの。このグループには、〇−TLD
またはDATPとPMDAの組合せのものが含まれる。
■ Both Free and Bifix cure have small thermal expansion coefficients. This group includes 〇-TLD
Or a combination of DATP and PMDA is included.

■ preecureの場合、多少熱膨張係数は大きい
が、Bifix cureすれば非常に小さくなるもの
。このグループには、pPD人。
■ In the case of precure, the coefficient of thermal expansion is somewhat large, but it becomes very small when bifix cured. This group includes people with pPD.

o  TLDsまたはDATPとBPDAの組合せのも
のが含まれる。
o Includes TLDs or a combination of DATP and BPDA.

■ pree cureの場合、かなり大きな熱膨張係
数を有するが、Bifix cureによ)約半分程度
になるもの、このグループには、p−PDA、o−TL
D、DATP、m−PDAとBTD人との組合せ、DD
EとPMDAとの組合せ、2.4−DA’I’OとBP
DAとの組合せのものが含まれる。
■ In the case of pre-cure, it has a fairly large coefficient of thermal expansion, but with Bifix cure, the coefficient of thermal expansion is reduced to about half.This group includes p-PDA, o-TL, etc.
D, DATP, combination of m-PDA and BTD person, DD
Combination of E and PMDA, 2.4-DA'I'O and BP
Includes combinations with DA.

■ pree cure、 13ifix cure 
 のいずれも熱膨張係数が大きいもの、その他の大半の
ポリイミドはこのグループに含まれる。
■ pre cure, 13ifix cure
All of these have a large coefficient of thermal expansion, and most other polyimides are included in this group.

ポリマーの熱膨張係数が、延伸結晶化によって小さくな
ることはよく知られている。そこで、ポリイミドの結晶
性を、広角X線回折によシ検討した。測定結果をl11
g、 13と14に示したaP’g。
It is well known that the coefficient of thermal expansion of polymers is reduced by stretch crystallization. Therefore, the crystallinity of polyimide was investigated using wide-angle X-ray diffraction. Measurement results l11
g, aP'g shown in 13 and 14.

13より、■のグループに含まれるDlはシャープな反
射がみられ、結晶性でおることが分かる。
From No. 13, it can be seen that Dl included in the group (■) exhibits sharp reflection and is crystalline.

C1もある程度結晶性と考えられる。これらに比べ、■
のグループのA2や■のグループの人3は、■のグルー
プのF3に比べれば、多少配向性有りと考えられるが、
DlやC1のような結晶性はないと考えられる。
C1 is also considered to be crystalline to some extent. Compared to these, ■
Person A2 in the group ``Group'' and person 3 in the ``Group ■'' are considered to have some orientation compared to F3 in the ``Group'', but
It is thought that it does not have crystallinity like Dl or C1.

またFig、14の結果から、A2についてpree−
cure、Bifix cure、 UFX、及びUF
Yの違いを検討したが、広角Xa1回折のデータにはほ
とんど違いが出ていない。強いて言えば、Free c
ureの場合山の大きさが小さいようである。これらの
結果から、結晶性は強い方が明らかに熱膨張係数が小さ
くなる傾向が与られるが、これだけでは硬化収縮の抑制
効果は説明できない。もつと長距離での秩序性が重要と
考えられる。
Also, from the results of Fig. 14, pre-
cure, Bifix cure, UFX, and UF
Although we investigated the difference in Y, there was almost no difference in the wide-angle Xa1 diffraction data. If I had to say, Free c
In the case of ure, the size of the mountain seems to be small. These results clearly show that the stronger the crystallinity, the smaller the coefficient of thermal expansion, but this alone cannot explain the effect of suppressing curing shrinkage. Orderliness over long distances is thought to be important.

次に、各グループのポリイミドのコンフォメ−ジョンを
検討してみると、Fig、15のようになシ、ある糧度
の共通性が認められた。■のグループに含まれるものは
、ジアミン、テトラカルボン酸成分の両者とも、直線的
にほぼ同一平面上に並ぶコンフォメーションしかとれな
い。そのため、分子軸方向く棒状で剛直で6シ、かつ結
晶化し易いと考えられる。■のグループのものは、BP
D人のビフェニルによって多少ジグザグ構造になるが、
かなり直線的なコンフォメーションを有する。■のグル
ープは更I/c2つKわかれる。1つはp−PD人。
Next, when we examined the conformation of the polyimide in each group, we found that there was some commonality in texture, as shown in Fig. 15. In the group (2), both diamine and tetracarboxylic acid components can only take conformations that are linearly aligned on almost the same plane. Therefore, it is thought that it is rod-shaped in the direction of the molecular axis, rigid and rigid, and easily crystallized. ■The ones in the group are BP
D's biphenyl creates a somewhat zigzag structure, but
It has a fairly straight conformation. The group (■) is separated by two additional I/Cs. One is a p-PD person.

o−TLD、DATPとBTD人からなるもので、(I
II)のようにほぼ同一平面上に並ぶが、ベンゾフェノ
ン骨格によって直線上には並び難い。もう一つは、(■
)のようにエーテル結合の部分で折曲プ同一平面上には
並べないが、エーテル結合間の骨格は直線上に並んでい
る。PMDAとDDM。
It consists of o-TLD, DATP and BTD people, (I
Although they are arranged on almost the same plane as shown in II), it is difficult to arrange them in a straight line due to the benzophenone skeleton. The other is (■
), the folds at the ether bonds are not lined up on the same plane, but the skeletons between the ether bonds are lined up on a straight line. PMDA and DDM.

DDSとの組合せも同様のタイプに類する。その他の大
半のポリイミドは(V)のように、エーテル、チオエー
テル、メチレン、ケトン等によって規則性はなくなる。
The combination with DDS is also of the same type. Most other polyimides, like (V), lose their regularity due to ether, thioether, methylene, ketone, etc.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明した通プ、本発明によれば無機物質と同等の極
めて小さな熱膨張係数を有する樹脂材料が得られ、従っ
てこれを用いた複合成形品は熱的。
As explained above, according to the present invention, a resin material having an extremely small coefficient of thermal expansion equivalent to that of an inorganic material can be obtained, and therefore, a composite molded article using this material can be made thermally stable.

機械的に優れるという効果がちる。It has the effect of being mechanically superior.

【図面の簡単な説明】 第1図は各種材料の熱膨張係数を示すグラフ、第2図は
、ダイレクトコート法で得たフレキシブルプリント基板
の断面図、第3図は、多層配線構造を有するLi9Iの
断面図、第4図は、α線遮蔽膜を有するメモリ素子の断
面図、第5図は、フィルムキャリヤ方式のLSIを搭載
した金属芯配線板の断面図、第6図は、リード線ボ/デ
ィング方式のLi9Iを搭載した金属板ベースブリ/ト
基板の断面図、第7図は本発明の樹脂の特性図、第8図
〜第11図は本発明の実施例材料の温度特性図、第12
図は同じく本実施例材料の熱膨張係数を整理した特注図
、第13図及び第14図は同じく本実施例材料の回折図
、第15図は同じく本実施例材料の分子の構造を示す模
式図でらる。
[Brief Description of the Drawings] Figure 1 is a graph showing the thermal expansion coefficients of various materials, Figure 2 is a cross-sectional view of a flexible printed circuit board obtained by direct coating, and Figure 3 is a graph showing the coefficient of thermal expansion of various materials. 4 is a sectional view of a memory element having an α-ray shielding film, FIG. 5 is a sectional view of a metal core wiring board on which a film carrier type LSI is mounted, and FIG. 6 is a sectional view of a lead wire box. FIG. 7 is a characteristic diagram of the resin of the present invention. FIGS. 8 to 11 are temperature characteristic diagrams of example materials of the present invention. 12
The figure is also a custom-made diagram arranging the thermal expansion coefficients of the material of this example, Figures 13 and 14 are diffraction diagrams of the material of this example, and Figure 15 is a schematic diagram showing the molecular structure of the material of this example. Illustrated.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、1ケ以上の芳香環を有し、該芳香環は分子軸を中心
に回転するが他の方向には柔軟性が無い構造である芳香
族基を化学構造単位とするポリイミドであって、該ポリ
イミド分子が少なくとも一軸方向に配向されている部分
を含むことを特徴とする低熱膨張樹脂材料。 2、特許請求の範囲第1項において、上記配向の程度は
オーダーパラメータが0.07以上であることを特徴と
する低熱膨張樹脂材料。 3、特許請求の範囲第1項において、上記ポリイミドは
、分子軸を中心に0±40°の範囲のほぼ直線状を呈す
る分子構造であることを特徴とする低熱膨張樹脂材料。 4、特許請求の範囲第1項において、前記ポリイミドの
主鎖は、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ および/または ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rはアルキル基、フッ素化アルキル基、アルコ
キシル基、フッ素化アルコキシル基、アシル基、ハロゲ
ンから選ばれ、lは0〜4の整数、mは0〜2の整数、
nは0〜3の整数である)から構成されていることを特
徴とする低熱膨張樹脂材料。 5、特許請求の範囲第1項において、前記ポリイミド分
子の単位構造は次の式から選ばれることを特徴とする低
熱膨張樹脂材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(3) ▲数式、化学式、表等があります▼(4) ▲数式、化学式、表等があります▼(5) ▲数式、化学式、表等があります▼(6) ▲数式、化学式、表等があります▼(7) ▲数式、化学式、表等があります▼(8) (式中、Rはアルキル基、フッ素化アルキル基、アルコ
キシル基、フッ素化アルコキシル基、アシル基、ハロゲ
ンから選ばれ、kは0〜3の整数、lは0〜4の整数、
mは0〜2の整数、nは0〜3の整数である。) 6、特許請求の範囲第1項において、前記のポリイミド
分子に更に他のポリマをブレンド或いは共重合させてな
るものであることを特徴とする低熱膨張樹脂材料。 7、特許請求の範囲第1項において、前記ポリイミドは
芳香族アミノジカルボン酸誘導体の単独重合、または芳
香族ジアミン若しくは芳香族ジイソシアナートと芳香族
テトラカルボン酸誘導体との反応物であることを特徴と
する低熱膨張樹脂材料。 8、特許請求の範囲第1項において、前記低熱膨張樹脂
材料を塗膜状フィルム状或いは繊維状に成形すると、配
向方向が一軸または二軸であることを特徴とする低熱膨
脹樹脂材料。 9、特許請求の範囲第6項において、他のポリマはジア
ミンとテトラカルボン酸誘導体から得られるポリイミド
であることを特徴とする低熱膨張樹脂材料。 10、無機質材とポリイミド系樹脂とを一体化してなる
複合成形品において、前記ポリイミド系樹脂が、分子軸
を中心に回転し他の方向には柔軟性がない構造の芳香族
基を化学構造単位として含むものであって、かつ少なく
とも一軸方向に配向されている部分を含むことを特徴と
する複合成形品。 11、特許請求の範囲第10項において、上記ポリイミ
ドは、分子軸が0±40°の範囲のほぼ直線状を呈する
分子構造であることを特徴とする低熱膨脹樹脂材料。 12、特許請求の範囲第11項において、上記配向の程
度はオーダーパラメータが0.07以上であることを特
徴とする低熱膨張樹脂材料。 13、特許請求の範囲第10項において、前記ポリイミ
ド系樹脂からなる基板上に前記無機質材として金属の配
線を設けてなるフレキシブルプリント板であることを特
徴とする複合成形品。 14、特許請求の範囲第10項において、シリコンウェ
ハと配線との間、或いは配線と配線との間に配線絶縁膜
として前記ポリイミド系樹脂を設けてなるLSIである
ことを特徴とする複合成形品。 15、特許請求の範囲第10項において、配線の施され
たシリコンウェハ上を前記ポリイミド系樹脂で覆ってな
るLSIであることを特徴とする複合成形品。 16、特許請求の範囲第10項において、前記ポリイミ
ドの主鎖は、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ および/または ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rはアルキル基、フッ素化アルキル基、アルコ
キシル基、フッ素化アルコキシル基、アシル基、ハロゲ
ンから選ばれ、lは0〜4の整数、mは0〜2の整数、
nは0〜3の整数である)から構成されていることを特
徴とする複合成形品。 17、特許請求の範囲第10項において、前記ポリイミ
ド分子の単位構造は次の式から選ばれる複合成形品。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(3) ▲数式、化学式、表等があります▼(4) ▲数式、化学式、表等があります▼(5) ▲数式、化学式、表等があります▼(6) ▲数式、化学式、表等があります▼(7) ▲数式、化学式、表等があります▼(8) (式中、Rはアルキル基、フッ素化アルキル基、アルコ
キシル基、フッ素化アルコキシル基、アシル基、ハロゲ
ンから選ばれ、kは0〜3の整数、lは0〜4の整数、
mは0〜2の整数、nは0〜3の整数である。) 18、特許請求の範囲第10項において、前記のポリイ
ミド分子に更に他のポリマをブレンド或いは共重合させ
てなるものであることを特徴とする複合成形品。 19、特許請求の範囲第10項において、前記ポリイミ
ドは芳香族アミノジカルボン酸誘導体の単独重合、また
は芳香族ジアミン若しくは芳香族ジイソシアナートと芳
香族テトラカルボン酸誘導体との反応物であることを特
徴とする複合成形品。 20、特許請求の範囲第10項において、前記低熱膨張
樹脂材料を塗膜状フィルム状、或いは繊維状に成形する
と、配向方向が一軸または二軸であることを特徴とする
複合成形品。 21、特許請求の範囲第20項において、他のポリマは
ジアミンとテトラカルボン酸誘導体から得られるポリイ
ミドであることを特徴とする複合成形品。
[Claims] An aromatic group having one or more aromatic rings, which rotates around the molecular axis but is inflexible in other directions, is defined as a chemical structural unit. 1. A low thermal expansion resin material comprising a polyimide having polyimide molecules oriented in at least one axis. 2. The low thermal expansion resin material according to claim 1, wherein the degree of orientation has an order parameter of 0.07 or more. 3. The low thermal expansion resin material according to claim 1, wherein the polyimide has a molecular structure exhibiting a substantially linear molecular structure within a range of 0±40° around the molecular axis. 4. In claim 1, the main chain of the polyimide has ▲a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc.▼, ▲a mathematical formula, a chemical formula,
There are tables, etc. ▼ and/or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. An integer of ~4, m is an integer of 0 to 2,
n is an integer of 0 to 3). 5. The low thermal expansion resin material according to claim 1, wherein the unit structure of the polyimide molecule is selected from the following formula. ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (1) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (2) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (3) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ( 4) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (5) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (6) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (7) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼(8) (wherein R is selected from an alkyl group, a fluorinated alkyl group, an alkoxyl group, a fluorinated alkoxyl group, an acyl group, and a halogen, k is an integer of 0 to 3, l is an integer of 0 to 4,
m is an integer of 0 to 2, and n is an integer of 0 to 3. 6. The low thermal expansion resin material according to claim 1, which is made by blending or copolymerizing the polyimide molecule with another polymer. 7. Claim 1, wherein the polyimide is a homopolymerization of an aromatic aminodicarboxylic acid derivative, or a reaction product of an aromatic diamine or an aromatic diisocyanate and an aromatic tetracarboxylic acid derivative. Low thermal expansion resin material. 8. The low thermal expansion resin material according to claim 1, characterized in that when the low thermal expansion resin material is molded into a coated film or fiber, the orientation direction is uniaxial or biaxial. 9. A low thermal expansion resin material according to claim 6, characterized in that the other polymer is a polyimide obtained from a diamine and a tetracarboxylic acid derivative. 10. In a composite molded product made by integrating an inorganic material and a polyimide resin, the polyimide resin has an aromatic group having a structure that rotates around the molecular axis and is not flexible in other directions as a chemical structural unit. What is claimed is: 1. A composite molded article comprising a portion oriented in at least one axis. 11. The low thermal expansion resin material according to claim 10, wherein the polyimide has a molecular structure in which the molecular axis is approximately linear in the range of 0±40°. 12. The low thermal expansion resin material according to claim 11, wherein the degree of orientation has an order parameter of 0.07 or more. 13. The composite molded product according to claim 10, which is a flexible printed board in which metal wiring is provided as the inorganic material on the substrate made of the polyimide resin. 14. A composite molded product according to claim 10, which is an LSI in which the polyimide resin is provided as a wiring insulating film between a silicon wafer and wiring, or between wirings. . 15. The composite molded product according to claim 10, which is an LSI formed by covering a silicon wafer with wiring with the polyimide resin. 16. In claim 10, the main chain of the polyimide has: ▲a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc.▼, ▲a mathematical formula, a chemical formula,
There are tables, etc. ▼ and/or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. An integer of ~4, m is an integer of 0 to 2,
n is an integer of 0 to 3). 17. The composite molded article according to claim 10, wherein the unit structure of the polyimide molecule is selected from the following formula. ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (1) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (2) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (3) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ( 4) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (5) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (6) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (7) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼(8) (wherein R is selected from an alkyl group, a fluorinated alkyl group, an alkoxyl group, a fluorinated alkoxyl group, an acyl group, and a halogen, k is an integer of 0 to 3, l is an integer of 0 to 4,
m is an integer of 0 to 2, and n is an integer of 0 to 3. 18. The composite molded article according to claim 10, which is obtained by blending or copolymerizing the polyimide molecule with another polymer. 19. Claim 10, wherein the polyimide is a homopolymerization of an aromatic aminodicarboxylic acid derivative, or a reaction product of an aromatic diamine or an aromatic diisocyanate and an aromatic tetracarboxylic acid derivative. Composite molded product. 20. The composite molded article according to claim 10, characterized in that when the low thermal expansion resin material is molded into a coat-like film shape or a fiber shape, the orientation direction is uniaxial or biaxial. 21. The composite molded article according to claim 20, wherein the other polymer is a polyimide obtained from a diamine and a tetracarboxylic acid derivative.
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