JPS61173242A - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

Info

Publication number
JPS61173242A
JPS61173242A JP1411285A JP1411285A JPS61173242A JP S61173242 A JPS61173242 A JP S61173242A JP 1411285 A JP1411285 A JP 1411285A JP 1411285 A JP1411285 A JP 1411285A JP S61173242 A JPS61173242 A JP S61173242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
component
compd
meth
photopolymerizable composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1411285A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0427541B2 (en
Inventor
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Kazutaka Masaoka
正岡 和隆
Yoshitaka Minami
好隆 南
Yoji Tanaka
庸司 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP1411285A priority Critical patent/JPS61173242A/en
Publication of JPS61173242A publication Critical patent/JPS61173242A/en
Publication of JPH0427541B2 publication Critical patent/JPH0427541B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Abstract

PURPOSE:To form a photopolymerizable compsn. increased in photosensitivity by adding a combination of benzophenone, a specified aminophenyl ketone, and a specified amino compd. as a photopolymn. initiator to a compsn. contg. a compd. having an ethylenically unsatd. group. CONSTITUTION:The photopolymerizable compsn. contains 10-90wt% compd. (component 1) having >=100 deg.C b.p. at normal pressure, and at least one kind of ethylenically unsatd. group, 2-15wt% benzophenone (component 2), 0.01-5.0wt% compd. represented by formula I, 0.01-1.0wt% compd. (component 4) represented by formula II, and 0-80wt% thermoplastic org. polymer (component 5). Benzophenone (2) in combination with components (3), (4) is essential component, and they can obtain extremely increased photosensitivity, while the storage stability of the photopolymerizable compsn. is retained. As the compd. of component (3), e.g., p,p'-dimethylaminobenzophenone, etc., are used, and as the compd. of component (4), e.g., N-phenylglycine, etc., are used.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光重合性組成物に関し、更に詳しくは、光感度
の増大した新規な光重合性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a photopolymerizable composition, and more particularly to a novel photopolymerizable composition with increased photosensitivity.

(従来の技術) 光重合性組成物の重合速度を増大させること、即ち光重
合性組成物の光感度を増大させることは、活性光の露光
時間を短縮できるという点から有益なことであり、従来
、種々の方法が行なわれてきた。
(Prior Art) Increasing the polymerization rate of a photopolymerizable composition, that is, increasing the photosensitivity of the photopolymerizable composition, is beneficial in that the exposure time to actinic light can be shortened. Conventionally, various methods have been used.

例えば光感度を増大させるためにエチレン性不飽和基含
有化合物を含んでいる光重合性組成物に、光開始剤また
は増感剤を添加する方法が行なわれている。これらの光
開始剤または増感剤としては、2−エチルアントラキノ
ン、2−t−ブチルアントラキノン等の多核キノン類、
ヘンシフエノン、4.4′−ビス(ジメチルアミノ)ベ
ンゾフェノン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン誘導体
等が用いられる。しかしながら、これらの光開始剤また
は増感剤を使用して得られる従来の光重合性組成物の光
感度は、必ずしも十分なものではなかった。
For example, a method of adding a photoinitiator or sensitizer to a photopolymerizable composition containing an ethylenically unsaturated group-containing compound has been used to increase photosensitivity. These photoinitiators or sensitizers include polynuclear quinones such as 2-ethylanthraquinone and 2-t-butylanthraquinone;
Aromatic ketones such as hensifhenone and 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, and benzoin derivatives such as benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether are used. However, the photosensitivity of conventional photopolymerizable compositions obtained using these photoinitiators or sensitizers was not necessarily sufficient.

また光感度を増大させるために、アミノフェニルケトン
等の芳香族ケトンおよび2,4.5−  トリアリール
イミダゾールニ量体の組合わせを使用すること(特公昭
4日−38403号、米国特許731733号)、アミ
ノフェニルケトンと、活性メチレン化合物またはアミノ
化合物との組合わせを使用すること(特公昭49−11
936号、米国特許877853号)が知られている。
Furthermore, in order to increase photosensitivity, a combination of an aromatic ketone such as aminophenyl ketone and a 2,4.5-triarylimidazole dimer may be used (Japanese Patent Publication No. 4-38403, US Pat. No. 731,733). ), using a combination of aminophenyl ketone and an active methylene compound or an amino compound (Japanese Patent Publication No. 49-11
No. 936, US Pat. No. 877,853) are known.

しかしながら、これら従来の方法は、いずれも満足な光
感度を有する光重合性組成物を与えるものではなかった
However, none of these conventional methods provides a photopolymerizable composition with satisfactory photosensitivity.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し、光感度
の増大した新規な光重合性組成物を提供することにある
(Problems to be Solved by the Invention) An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the prior art and provide a novel photopolymerizable composition with increased photosensitivity.

(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、鋭意研究の結果、ベンゾフェノン、特定
のアミノフェニルケトンおよび特定のアミノ化合物を組
合わせたものを光開始剤として、エチレン性不飽和基含
有化合物を含んでいる組成物に添加することにより、前
記目的を達成することができることを見出して本発明に
到達した。
(Means for Solving the Problems) As a result of intensive research, the present inventors have discovered that a combination of benzophenone, a specific aminophenyl ketone, and a specific amino compound is used as a photoinitiator, and the ethylenically unsaturated group-containing The present invention was achieved by discovering that the above object can be achieved by adding the compound to a composition containing the compound.

本発明は常圧において100℃以上の沸点を有し、かつ
少なくとも1種のエチレン性不飽和基を有する化合物1
0〜90重量%、(2)ベンゾフェノン2〜15重量%
、(3)一般式(1)(式中R1、R2、R3およびR
4は水素原子または炭素数1〜3のアルキル基を意味す
る)で表わされる化合物0.01〜5.0重量%(4)
一般式%式%() (式中R5はアルキル基で置換されていてもよいフェニ
ル基、R4は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基
を意味する)で表わされる化合物0゜01〜1.0重量
%および(5)熱可塑性有機重合体0〜80重量%を含
有してなる光重合性組成物に関する。
The present invention provides a compound 1 having a boiling point of 100°C or higher at normal pressure and having at least one ethylenically unsaturated group.
0-90% by weight, (2) benzophenone 2-15% by weight
, (3) General formula (1) (wherein R1, R2, R3 and R
4 means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) 0.01 to 5.0% by weight (4)
Compounds represented by the general formula % formula % () (in the formula, R5 is a phenyl group which may be substituted with an alkyl group, and R4 means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) 0゜01-1 0% by weight and (5) 0 to 80% by weight of a thermoplastic organic polymer.

本発明の光重合性組成物に用いられる、常圧において1
00℃以上の沸点を有し、かつ少なくとも1種のエチレ
ン性不飽和基を含有する化合物(成分(1))としては
、例えば多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を
付加して得られる化合物、例えばテトラエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート(メタアクリレートまたは
アクリレートを意味する、以下同じ)、ポリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート(エチレン基の数が2
〜14のもの)、トリメチロールプロパンジ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ (メタ)ア
クリレート、テトラメチロールメタントリ (メタ)ア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート(プロピレン基の数が2〜14のもの)、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリ
シジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加
して得られる化合物、例えばトリメチロールプロパント
リグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノー
ルAジグリシジルエーテルジアクリレート等、多価カル
ボン酸、例えば無水フタル酸等と水酸基およびエチレン
性不飽和基を有する物質、例えばβ−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート等とのエステル化物、アクリル酸
またはメタクリル酸のアルキルエステル、例えば(メタ
)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチ
ルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メ
タ)アクリル酸2−エチルヘキシルエステル等が挙げら
れる。
1 at normal pressure used in the photopolymerizable composition of the present invention.
Examples of the compound (component (1)) having a boiling point of 00°C or higher and containing at least one ethylenically unsaturated group include compounds obtained by adding α,β-unsaturated carboxylic acids to polyhydric alcohols. compounds, such as tetraethylene glycol di(meth)acrylate (meaning methacrylate or acrylate, the same applies hereinafter), polyethylene glycol di(meth)acrylate (meaning methacrylate or acrylate, the same applies hereinafter),
~14), trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethanetetra(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate ( (having 2 to 14 propylene groups), dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, compound obtained by adding α,β-unsaturated carboxylic acid to a glycidyl group-containing compound , for example, trimethylolpropane triglycidyl ether triacrylate, bisphenol A diglycidyl ether diacrylate, etc., polyhydric carboxylic acids, such as phthalic anhydride, and substances having hydroxyl groups and ethylenically unsaturated groups, such as β-hydroxyethyl (meth) Esterified products with acrylate etc., alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid, such as (meth)acrylic acid methyl ester, (meth)acrylic acid ethyl ester, (meth)acrylic acid butyl ester, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl ester etc.

これらの成分(1)の配合量は、10〜90重量%、好
ましくは20〜80重量%である。この量が10重量%
より少ない場合には光硬化物がもろく、十分な物性が得
られず、90重量%より多い場合には相対的に他成分が
少なくなり、十分な光感度が得られない。
The blending amount of these components (1) is 10 to 90% by weight, preferably 20 to 80% by weight. This amount is 10% by weight
If the amount is less than 90% by weight, the photocured product will be brittle and sufficient physical properties will not be obtained, and if it is more than 90% by weight, the amount of other components will be relatively small and sufficient photosensitivity will not be obtained.

成分(2)のベンゾフェノンは、成分(3)および成分
(4〉と組合わせて用いられる必須成分であり、これら
3成分を組合わせて用いる場合に光重合性組成物の保存
安定性を保ちながら、非常に増大した光感度が得られる
Component (2) benzophenone is an essential component used in combination with component (3) and component (4), and when these three components are used in combination, it can be used while maintaining the storage stability of the photopolymerizable composition. , a greatly increased photosensitivity is obtained.

成分(2)の配合量は、2〜15重量%、好ましくは3
〜10重量%である。この量が2重量%より少ない場合
には、光感度の増大に大きな効果がなく、15重量%よ
り多い場合には光重合性組成物の保存安定性が低下する
The blending amount of component (2) is 2 to 15% by weight, preferably 3% by weight.
~10% by weight. When this amount is less than 2% by weight, there is no significant effect on increasing photosensitivity, and when it is more than 15% by weight, the storage stability of the photopolymerizable composition is reduced.

成分(3)の前記一般式(I)で表わされる化合物とし
ては、例えばp、p’−ジメチルアミノベンゾフェノン
、p、p’−ジエチルアミノベンゾフェノン等が用いら
れる。成分(3)の配合量は0.01〜5.0重量%、
好ましくは0.1〜3.0重量%である。この量が0.
01重量%より少ない場合には十分な光感度が得られず
、5.0重量%より多い場合には露光の際、組成物表面
での光吸収が増大し、内部の光硬化が不十分となる。
Examples of the compound represented by the general formula (I) as component (3) include p,p'-dimethylaminobenzophenone and p,p'-diethylaminobenzophenone. The blending amount of component (3) is 0.01 to 5.0% by weight,
Preferably it is 0.1 to 3.0% by weight. This amount is 0.
If it is less than 0.01% by weight, sufficient photosensitivity will not be obtained, and if it is more than 5.0% by weight, light absorption on the surface of the composition will increase during exposure, resulting in insufficient internal photocuring. Become.

成分(4)の前記一般式(If)で表わされる化合物と
しては、例えばN−フェニルグリシン、N−フェニルグ
リシンエチルエステル、N−フェニルグリシンメチルエ
ステル、N−フェニルグリシンブチルエステル、N−メ
チルフェニルグリシンエチルエステル等が用いられる。
Examples of the compound represented by the general formula (If) as component (4) include N-phenylglycine, N-phenylglycine ethyl ester, N-phenylglycine methyl ester, N-phenylglycine butyl ester, and N-methylphenylglycine. Ethyl ester etc. are used.

成分(4)の配合量は0.01〜1.0重量%、好まし
くは0.1〜0.7重量%である。この量が0.01重
量%より少ない場合には十分な光感度の増大が得られず
、1.0重量%より多い場合には光重合性組成物の保存
安定性を低下させ、更に組成物に熱が加わった場合揮散
するガスにより著しい臭気がある。
The blending amount of component (4) is 0.01 to 1.0% by weight, preferably 0.1 to 0.7% by weight. When this amount is less than 0.01% by weight, a sufficient increase in photosensitivity cannot be obtained, and when it is more than 1.0% by weight, the storage stability of the photopolymerizable composition is reduced, and furthermore, the composition There is a strong odor due to the gas that evaporates when heat is applied.

熱可塑性有機重合体としては、例えば(メタ)アクリル
@(メタアクリル酸またはアクリル酸を意味する、以下
同じ)アルキルエステルと(メタ)アクリル酸との共重
合体、(メタ)アクリル酸アルキルエステルと(メタ)
アクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーとの
共重合体等が用いられる。(メタ)アクリル酸アルキル
エステルとしては、例えば(メタ)アクリル酸メチルエ
ステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)
アクリル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エ
チルヘキシルエステル等が挙げられる。また(メタ)ア
クリル酸アルキルエステルや(メタ)アクリル酸と共重
合し得るビニルモノマーとしては、(メタ)アクリル酸
テトラヒドロフルフリルエステル、(メタ)アクリル酸
ジメチルエチルエステル、(メタ)アクリル酸ジエチル
エステル、メタクリル酸グリシジルエステル、2゜2.
1−)リフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2
,3.3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレー
トアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレ
ン、ビニルトルエン等が挙げられる。また熱可塑性有機
重合体としては、上記化合物のホモポリマーも用い名こ
とができ、更にコポリエステル、例えばテレフタル酸、
イソフタル酸およびセバシン酸のポリエステル等、また
ブタジェンとアクリロニトリルとの共重合体、セルロー
スアセテート、セルロースアセテートブチレート、メチ
ルセルロース、エチルセルロース等も用いることができ
る。    ゛ 成分(5)である熱可塑性有機重合体の配合量は、0〜
80重量%、好ましくは20〜70重量%である。熱可
塑性有機重合体の使用によって、塗膜性や得られる硬化
物の膜強度が向上される。
Examples of thermoplastic organic polymers include (meth)acrylic@(meaning methacrylic acid or acrylic acid, the same hereinafter) copolymers of alkyl esters and (meth)acrylic acid, and (meth)acrylic acid alkyl esters. (meta)
Copolymers of acrylic acid and vinyl monomers that can be copolymerized with these are used. Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester include (meth)acrylic acid methyl ester, (meth)acrylic acid ethyl ester, (meth)acrylic acid ethyl ester, and (meth)acrylic acid ethyl ester.
Examples include butyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, and the like. In addition, (meth)acrylic acid alkyl esters and vinyl monomers that can be copolymerized with (meth)acrylic acid include (meth)acrylic acid tetrahydrofurfuryl ester, (meth)acrylic acid dimethylethyl ester, and (meth)acrylic acid diethyl ester. , methacrylic acid glycidyl ester, 2°2.
1-) Lifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2
, 3.3-tetrafluoropropyl (meth)acrylate acrylamide, diacetone acrylamide, styrene, vinyltoluene and the like. Furthermore, as the thermoplastic organic polymer, homopolymers of the above compounds can also be used, and copolyesters such as terephthalic acid,
Polyesters of isophthalic acid and sebacic acid, etc., copolymers of butadiene and acrylonitrile, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, methyl cellulose, ethyl cellulose, etc. can also be used.゛The blending amount of the thermoplastic organic polymer, which is component (5), is 0 to 0.
80% by weight, preferably 20-70% by weight. The use of a thermoplastic organic polymer improves coating properties and the film strength of the resulting cured product.

この量が80重量%より多い場合には相対的に他成分が
少なくなるため光感度が低下する。またこの熱可塑性有
機重合体の重量平均分子量は、前記塗膜性や膜強度の点
から10,000以上が好ましい。上記の成分(1)、
成分(2)、成分(3)、成分(4)および成分(5)
は、上記の重量%の範囲内で総量が100重量%となる
量で用いられる。
If this amount is more than 80% by weight, the other components will be relatively small, resulting in a decrease in photosensitivity. Further, the weight average molecular weight of this thermoplastic organic polymer is preferably 10,000 or more from the viewpoint of the coating properties and film strength. The above ingredient (1),
Component (2), component (3), component (4) and component (5)
is used in an amount within the above weight % range such that the total amount is 100 weight %.

本発明の光重合性組成物には、例えばp−メトキシフェ
ノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミ
ン、フェノチアジン、t−ブチルカテコール等の熱重合
抑制剤を含有させることができる。
The photopolymerizable composition of the present invention can contain a thermal polymerization inhibitor such as p-methoxyphenol, hydroquinone, pyrogallol, naphthylamine, phenothiazine, and t-butylcatechol.

また本発明の光重合性組成物には、染料、顔料等の着色
剤を含有させてもよい。着色剤としては、例えばツクシ
ン、オーラミン塩基、クリスタルハイオレソト、ビグ1
−リアピアブルー、マラカイトグリーン、メチルオレン
ジ、アソシドバイオレツ) RRH等が用いられる。
The photopolymerizable composition of the present invention may also contain colorants such as dyes and pigments. Examples of coloring agents include Tsukushin, Auramine Base, Crystal Hioresotho, and Big 1.
- Reapia Blue, Malachite Green, Methyl Orange, Asocide Violet) RRH, etc. are used.

更に本発明の光重合性組成物には、可塑剤、接着促進剤
、タルクなどの公知の添加物を添加してもよく、また露
光部が変色するように四臭化炭素等のハロゲン化合物と
ロイコ染料との組合わせを添加してもよい。
Furthermore, known additives such as plasticizers, adhesion promoters, and talc may be added to the photopolymerizable composition of the present invention, and halogen compounds such as carbon tetrabromide may be added so as to discolor exposed areas. Combinations with leuco dyes may also be added.

本発明の光重合性組成物は、前記各成分を溶解する溶剤
、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ク
ロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチル
アルコール等を用いて溶解、混合させることにより、均
一な溶液状として得られる。
The photopolymerizable composition of the present invention can be dissolved and mixed using a solvent that dissolves each of the above-mentioned components, such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, chloroform, methylene chloride, methyl alcohol, and ethyl alcohol. By this, a uniform solution is obtained.

本発明の光重合性組成物は、そのまま銅板等の基体に塗
布し、乾燥した後、活性光に薙光し、光硬化させて用い
ることができる。また前記溶液状の組成物をポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に塗布し、乾燥した後、基
体上に積層し、光硬化させて用いることもできる。
The photopolymerizable composition of the present invention can be used by applying it as it is to a substrate such as a copper plate, drying it, exposing it to actinic light, and photocuring it. Alternatively, the composition in solution form may be applied onto a polyethylene terephthalate film, dried, and then laminated onto a substrate and photocured for use.

光硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波
長300〜4.50 n mの光を発光するものが用い
られ、例えば水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノ
ンアークが好ましい。
As a light source of active light used in photocuring, one that emits light with a wavelength of 300 to 4.50 nm is used, and for example, mercury vapor arc, carbon arc, and xenon arc are preferable.

(発明の効果) 本発明の光重合性組成物は高い光感度を示し、しかも溶
液の保存安定性にも優れたものである。
(Effects of the Invention) The photopolymerizable composition of the present invention exhibits high photosensitivity and also has excellent solution storage stability.

本発明の光重合性組成物は、光硬化膜をレリーフとして
使用したり、銅張積層板を基体として用い、エツチング
またはメッキのフォトレジストとして使用することがで
きる。
The photopolymerizable composition of the present invention can be used as a photoresist for etching or plating, using a photocured film as a relief, or using a copper-clad laminate as a substrate.

(実施例) 以下実施例により本発明を説明する。(Example) The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例1および2 テトラエチレングリコールジアクリレート 400g1
マラカイトグリーン 2g1硫酸バリウム 100g、
メチルアルコール 10gおよびジメチルボルムアミド
 30gを配合して溶液Aを得た。この溶液へに、第1
表に示す配合割合で光開始剤を熔解させて本発明の光重
合性組成物の溶液を得た。
Examples 1 and 2 Tetraethylene glycol diacrylate 400g1
Malachite green 2g1 barium sulfate 100g,
Solution A was obtained by blending 10 g of methyl alcohol and 30 g of dimethylbormamide. Add the first
A solution of the photopolymerizable composition of the present invention was obtained by melting the photoinitiator at the blending ratio shown in the table.

次いでこの溶液を銅板上にアプリケーターを用いて塗布
し、100℃で10分間熱風乾燥機で乾燥した。塗布厚
は約20μmであった。次いでこの銅板を7Kw高圧水
銀灯の20印下をコンベア速度3m/minで通過させ
、表面の指触タックがなくなるまでの通過回数を調べた
。その結果を第1表に示す。通過回数の少ないものほど
光感度が高いことを示している。比較のため光開始剤と
してN−フェニルグリシンを使用しない場合についても
同様にして硬化するまでの通過回数を調べ、その結果も
合わせて第1表に示す。
This solution was then applied onto a copper plate using an applicator and dried in a hot air dryer at 100°C for 10 minutes. The coating thickness was approximately 20 μm. Next, this copper plate was passed under 20 marks of a 7Kw high-pressure mercury lamp at a conveyor speed of 3 m/min, and the number of passes until there was no tack to the touch on the surface was measured. The results are shown in Table 1. It shows that the smaller the number of passes, the higher the photosensitivity. For comparison, the number of passes until curing was also investigated in the case where N-phenylglycine was not used as a photoinitiator, and the results are also shown in Table 1.

以下余白 第    1    表 第1表の結果から、本発明の光重合性組成物は比較例1
の場合に比して、光感度が高いことが示される。
From the results in Table 1, it can be seen that the photopolymerizable composition of the present invention was found in Comparative Example 1.
It is shown that the photosensitivity is higher than in the case of .

実施例3および4 メチルメタクリレ−1−/メタクリル酸/2−エチルへ
キシルアクリレート(重量比60/20/20)共重合
体(重量平均分子量−8万)52g、テトラエチレング
リコールジアクリレート 10g、ポリ (P#5)オ
キシエチレン化ビスフェノールAのジメタクリレート(
新中村化学工業(株)製 BPE−10)30g、マラ
カイトグリーン 0.2g、ハイドロキノン 0.1g
、ロイコクリスタルバイオレット 1.0g、四臭化炭
素 0゜5g1 トルエン 10g2メチルセロソルブ
 130g、メチルアルコール 5gおよびクロロホル
ム 10gを配合して溶液B24B、8g(不揮発分合
計93.8g)を得た。この溶液Bに、第2表に示す配
合割合で光開始剤を熔解させて本発明の光重合性組成物
の溶液を得た。
Examples 3 and 4 Methyl methacrylate-1-/methacrylic acid/2-ethylhexyl acrylate (weight ratio 60/20/20) copolymer (weight average molecular weight - 80,000) 52 g, tetraethylene glycol diacrylate 10 g, Poly (P#5) Dimethacrylate of oxyethylated bisphenol A (
Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. BPE-10) 30g, malachite green 0.2g, hydroquinone 0.1g
, 1.0 g of leuco crystal violet, 0.5 g of carbon tetrabromide, 10 g of toluene, 130 g of methyl cellosolve, 5 g of methyl alcohol, and 10 g of chloroform to obtain 8 g of solution B24B (non-volatile content total 93.8 g). A photoinitiator was dissolved in this solution B in the proportions shown in Table 2 to obtain a solution of the photopolymerizable composition of the present invention.

次いでこの溶液を25μm厚のポリエチレンテレツクレ
ートフィルム」二に均一に塗布し、100℃の熱風対流
式乾燥機で約5分間乾燥し、光重合性エレメントを得た
。光重合性組成物の乾燥後の膜厚は25μmであった。
Next, this solution was uniformly applied to a 25 μm thick polyethylene telescope film and dried for about 5 minutes in a hot air convection dryer at 100° C. to obtain a photopolymerizable element. The film thickness of the photopolymerizable composition after drying was 25 μm.

一方、銅はく (厚さ35μm)を両面に積層したガラ
エポキシ材である銅張積層板(日立化成工業(株)製 
MCL−E−61)の銅表面を#800のサンドペーパ
ーで研磨し、水洗して空気流で乾燥し、得られる銅張積
層板を60℃に加温し、その銅面上に前記光重合性エレ
メントを、120℃に加熱しながらラミネートした。そ
のとき発生する臭気の程度を評価した。光重合性組成物
層と銅表面との張りつき性は全て良好であった。
On the other hand, a copper-clad laminate (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), which is a glass epoxy material with copper foil (thickness 35 μm) laminated on both sides, was used.
The copper surface of MCL-E-61) was polished with #800 sandpaper, washed with water, and dried with an air stream. The resulting copper-clad laminate was heated to 60°C, and the photopolymerization was applied on the copper surface. The elements were laminated while being heated to 120°C. The degree of odor generated at that time was evaluated. The adhesion between the photopolymerizable composition layer and the copper surface was good in all cases.

次いでこのようにして得られた基板にネガフィルムを使
用し、3Kw高圧水銀灯(オーク製作所(社)製、フェ
ニソクス−3000)で50 m 、J/d露光を行な
った。この際光感度を評価できるように、光透過量が段
階的に少なくなるように作られたネガフィルム(光学密
度0.05を1段目とし1段毎に光学密度が0.15ず
つ増加するステップタブレット)を用いた。
Next, using a negative film on the substrate thus obtained, exposure was performed at 50 m and J/d using a 3 Kw high pressure mercury lamp (manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd., Fenisox-3000). At this time, in order to be able to evaluate the photosensitivity, a negative film was made so that the amount of light transmission decreased step by step (the first step is an optical density of 0.05, and the optical density increases by 0.15 with each step). Step tablet) was used.

次いでポリエチレンテレフタシーl−フィルムを除去し
、30℃で2%炭酸ナトリウム水溶液を50秒間スプレ
ーすることにより未露光部を除去した。更に銅張積層板
上に形成された光硬化膜のステソプクブレソトの段数を
測定することにより光重合性組成物の光感度を評価した
。このステソプクブレソトの段数が高いほど光感度が高
いことを示している。
The polyethylene terephthalate film was then removed, and the unexposed areas were removed by spraying a 2% aqueous sodium carbonate solution at 30° C. for 50 seconds. Furthermore, the photosensitivity of the photopolymerizable composition was evaluated by measuring the number of steps of the photocured film formed on the copper-clad laminate. The higher the number of steps in this step, the higher the photosensitivity.

一方、前記光重合性組成物の溶液を密閉容器に入れ、暗
所40℃で保存し、ゲル化するまでの日数を調べること
により保存安定性を評価した。
On the other hand, storage stability was evaluated by putting the solution of the photopolymerizable composition in a sealed container, storing it in a dark place at 40° C., and checking the number of days until gelatinization occurred.

これらの結果を比較例2〜11の場合と合わせて第2表
に示す。
These results are shown in Table 2 together with Comparative Examples 2 to 11.

以下余白 (註)1)○:48hr/40℃以上で保存してもゲル
化しない。
Margin below (note) 1) ○: Does not gel even if stored at 48 hr/40°C or higher.

x:48hr/40℃以内でゲル化す る。x: Gel within 48hr/40℃ Ru.

2)○:作業に影響する度合の臭気は発生しない。2) ○: No odor occurs to the extent that it affects work.

×:作業が困難になる程度の臭気発生。×: Odor generated to the extent that work becomes difficult.

第2表の結果から、本発明の光重合性組成物は光感度が
高く、また溶液の保存安定性にも優れていることが示さ
れる。比較例の場合には、いずれも十分な光感度が得ら
れないか、または保存安定手続補正書(自発) 昭和60イ「12  月19日 特許庁長官殿        ・ら 1、事件の表示 昭和60年特許願第14112号 2、発明の名称 光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係     特許出願人 名 称 (445)日立化成工業株式会社5、補正の対
象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 1)本願明細書第11頁第3行に「ビクトリアビアブル
ー」とあるのを「ビクトリアピュアブルー」と訂正しま
す。
The results in Table 2 show that the photopolymerizable composition of the present invention has high photosensitivity and also has excellent solution storage stability. In the case of the comparative examples, either sufficient photosensitivity cannot be obtained, or the storage stability procedure amendment (voluntary) ``December 19, 1985, Mr. Commissioner of the Japan Patent Office, et al. 1, Incident Indication'' Patent Application No. 14112 2, Name of the invention Photopolymerizable composition 3, Relationship with the case of the person making the amendment Name of patent applicant (445) Hitachi Chemical Co., Ltd. 5, Detailed description of the invention in the specification subject to the amendment Column 6, contents of amendment 1) In the third line of page 11 of the specification, "Victoria Beer Blue" is corrected to "Victoria Pure Blue."

2)同第15頁下から6行に「ガラエポキシ栃」とある
のを「ガラスエポキシ材」と訂正します。
2) In the 6th line from the bottom of page 15, the text "Glass epoxy horse chestnut" has been corrected to "Glass epoxy material."

以上 一り7つthat's all 7 each

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(1)常圧において100℃以上の沸点を有しかつ
少なくとも1種のエチレン性不飽和基を有する化合物1
0〜90重量%、(2)ベンゾフェノン2〜15重量%
、(3)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R_1、R_2、R_3およびR_4は水素原子
または炭素数1〜3のアルキル基を意味する)で表わさ
れる化合物0.01〜5.0重量%、(4)一般式(I
I) R_5−NHCH_2COO−R_6(II)(式中R_
5はアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、R
_6は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を意味
する)で表わされる化合物0.01〜1.0重量%およ
び(5)熱可塑性有機重合体0〜80重量%を含有して
なる光重合性組成物。
[Claims] 1. (1) Compound 1 having a boiling point of 100°C or higher at normal pressure and having at least one ethylenically unsaturated group
0-90% by weight, (2) benzophenone 2-15% by weight
, (3) General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I) (In the formula, R_1, R_2, R_3 and R_4 mean a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms) (4) General formula (I
I) R_5-NHCH_2COO-R_6(II) (R_
5 is a phenyl group optionally substituted with an alkyl group, R
_6 means a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms) 0.01 to 1.0% by weight of a compound and (5) 0 to 80% by weight of a thermoplastic organic polymer. Polymerizable composition.
JP1411285A 1985-01-28 1985-01-28 Photopolymerizable composition Granted JPS61173242A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1411285A JPS61173242A (en) 1985-01-28 1985-01-28 Photopolymerizable composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1411285A JPS61173242A (en) 1985-01-28 1985-01-28 Photopolymerizable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61173242A true JPS61173242A (en) 1986-08-04
JPH0427541B2 JPH0427541B2 (en) 1992-05-12

Family

ID=11852030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1411285A Granted JPS61173242A (en) 1985-01-28 1985-01-28 Photopolymerizable composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61173242A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62123450A (en) * 1985-07-09 1987-06-04 Hitachi Chem Co Ltd Photopolymerizable composition
JPH06148881A (en) * 1992-10-30 1994-05-27 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Photosensitive resin composition
WO1999064471A1 (en) * 1998-06-08 1999-12-16 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Photopolymerizable resin composition and use thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62123450A (en) * 1985-07-09 1987-06-04 Hitachi Chem Co Ltd Photopolymerizable composition
JPH0466503B2 (en) * 1985-07-09 1992-10-23 Hitachi Chemical Co Ltd
JPH06148881A (en) * 1992-10-30 1994-05-27 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Photosensitive resin composition
WO1999064471A1 (en) * 1998-06-08 1999-12-16 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Photopolymerizable resin composition and use thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0427541B2 (en) 1992-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1230004A (en) Photopolymerizable composition
JP2536594B2 (en) Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition using the same
JPH0466503B2 (en)
JP2536528B2 (en) Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition using the same
JPS61173242A (en) Photopolymerizable composition
JPH04271352A (en) Borate co-initiator for optical polymerizing composition
JP3111708B2 (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable element
JP2551232B2 (en) Novel photoinitiator system and photopolymerizable composition using the same
JPS63146903A (en) Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition using said initiator
JPS59229553A (en) Photopolymerizable composition
JP2003057812A (en) Photopolymerizable resin composition
JPH0588244B2 (en)
JPS628141A (en) Photopolymerizable composition
JPS61123602A (en) Photo-polymerizable composition
JPS61144641A (en) Photopolymerizable composition
JPS6057832A (en) Photopolymerizable composition
JPS60165647A (en) Photopolymerizable composition
JP4230209B2 (en) Photosensitive resin composition
JP2540910B2 (en) Photopolymerizable composition
JPH04172457A (en) Photosensitive resin composition and lamination using it
JPS63303342A (en) Photopolymerizable composition
JP2003177526A (en) Photosensitive element, method for producing photosensitive element, and method for producing resist pattern and method for producing printed wiring board by using the element
JPS6125138A (en) Photopolymerizable composition
JPH01163204A (en) Catalytic composition for photopolymerization
JPH08106161A (en) Photopolymerizable composition

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term