JPS61141442A - 光可溶化組成物 - Google Patents
光可溶化組成物Info
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- JPS61141442A JPS61141442A JP59264183A JP26418384A JPS61141442A JP S61141442 A JPS61141442 A JP S61141442A JP 59264183 A JP59264183 A JP 59264183A JP 26418384 A JP26418384 A JP 26418384A JP S61141442 A JPS61141442 A JP S61141442A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバーヘ
ッドプロジェクタ−用図面、ＩＣ回路、ホトマスクの製
造に適する売可溶化組成物に関する。更に詳しくは、（
ω活性光線の照射により、酸を発生し得る化合物、及び
（ｂ）酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくと
も７個有する化合物、を含有する新規な売可溶化組成物
に関する。
ッドプロジェクタ−用図面、ＩＣ回路、ホトマスクの製
造に適する売可溶化組成物に関する。更に詳しくは、（
ω活性光線の照射により、酸を発生し得る化合物、及び
（ｂ）酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくと
も７個有する化合物、を含有する新規な売可溶化組成物
に関する。
「従来の技術Ｊ
活性光線により可溶化する、いわゆるポジチブに作用す
る感光性物質としては、従来オルトキノ／ジアジド化合
物が知られておシ、笑際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第一、フィロ、１１１
号、同第−１７ご７，０９−号、同′！ｎ＝、７２コ、
り７コ号、同第、２．ｊ”！９．／／コ号、同第＝、り
０７．ぶご３号、同第３，０４ｔに、７１０号、同第３
，０ダ６．・７７７号、同第、！、０４ｔ４．／／！号
、同＠３，０ダｔ、／／ｒ号、同第Ｊ、０ダイ、７７２
号、同第３．０ダイ、７．２θ号、同第３，０ダ４ 、
／、２／号、同第ｊ、０４を乙、７２２号、同第３．
０４ｔｔ、７２３号、同第３，０乙／、９３０号、同第
３，１０．２．、！”０９号、同第３，１０４゜１７号
、同第３，６３！、７０９号、同第３゜４４ｔ７ 、４
ｔ４ｔＪ号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記され
ている。
る感光性物質としては、従来オルトキノ／ジアジド化合
物が知られておシ、笑際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第一、フィロ、１１１
号、同第−１７ご７，０９−号、同′！ｎ＝、７２コ、
り７コ号、同第、２．ｊ”！９．／／コ号、同第＝、り
０７．ぶご３号、同第３，０４ｔに、７１０号、同第３
，０ダ６．・７７７号、同第、！、０４ｔ４．／／！号
、同＠３，０ダｔ、／／ｒ号、同第Ｊ、０ダイ、７７２
号、同第３．０ダイ、７．２θ号、同第３，０ダ４ 、
／、２／号、同第ｊ、０４を乙、７２２号、同第３．
０４ｔｔ、７２３号、同第３，０乙／、９３０号、同第
３，１０．２．、！”０９号、同第３，１０４゜１７号
、同第３，６３！、７０９号、同第３゜４４ｔ７ 、４
ｔ４ｔＪ号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記され
ている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして！員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものでおるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率が７を越えないということに由来するものである。
射により分解を起こして！員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものでおるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率が７を越えないということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感光
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性を
高めることは非常に困雛であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭り♂−／ココ４ｔコ号、特開昭
！コー４ｔＯ／２ｊ号、米国特許第＠ 、３０７．７７
３号などの明細書に記載された内容を挙げることができ
る。
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性を
高めることは非常に困雛であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭り♂−／ココ４ｔコ号、特開昭
！コー４ｔＯ／２ｊ号、米国特許第＠ 、３０７．７７
３号などの明細書に記載された内容を挙げることができ
る。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポジ
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その７つとして、例えば特公昭！≦−
−乙？を号の明細書に記載されてｂるオルトニトロカル
ビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられ
る。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場合
と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これと
は別に接触作用により活性化される感光系を使用し、感
光性を高める方法として、光分解で生成する酸によって
′Ｓ−の反応を生起させ、それによ）露光域を可溶化す
る公知の原理が適用されている。
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その７つとして、例えば特公昭！≦−
−乙？を号の明細書に記載されてｂるオルトニトロカル
ビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられ
る。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場合
と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これと
は別に接触作用により活性化される感光系を使用し、感
光性を高める方法として、光分解で生成する酸によって
′Ｓ−の反応を生起させ、それによ）露光域を可溶化す
る公知の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解によＦ：Ｊ酸を発生
する化合物と、アセタール又はＯ，Ｎ−アセメール化合
物との組合せ（特開昭ａｔ−ｒり００３号）、オルトエ
ステル又はアミドアセタール化合物との組合せ（特開昭
！／−／λ０７７４を号）、主鎖に７セタール又はケタ
ール基を有するポリマーとの組合せ（！Ｒ開昭ｊ３−７
３３４１コツ号）、エノールエーテル化合物との組合せ
（特開昭ｊ！−／−？り３号）、Ｎ−アシルイミノ炭酸
化合物との組合せ（特開昭３！−７２ぶ一３４号）、及
び主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組合せ
（特開昭！ｄ−７７３４１ｊ号）を挙げることができる
。これらは原理的に量子収率が／を越える為、高い感光
性を示す可能性があるが、アセタール又はＯ，Ｎ−アセ
タール化合物の場合、及び主鎖にアセタール又はケター
ル基を有するポリマーの場合、光分解で生成する酸によ
る第コの反応の速度が遅い為、実際の使用に十分な感光
性を示さない。またオルトエステル又はアミドアセター
ル化合物の場合及び、エノールエーテル化合物の場合、
更にＮ−アシルイミノ炭酸化合物の場合は確かに高い感
光性を示すが、経時での安定が悪く、長期に保存するこ
とができない。主鎖にオルトエステル基を有するポリマ
ーの場合も、同じく高感度ではあるが、現像時の現像許
容性が狭いという欠点を有する。
する化合物と、アセタール又はＯ，Ｎ−アセメール化合
物との組合せ（特開昭ａｔ−ｒり００３号）、オルトエ
ステル又はアミドアセタール化合物との組合せ（特開昭
！／−／λ０７７４を号）、主鎖に７セタール又はケタ
ール基を有するポリマーとの組合せ（！Ｒ開昭ｊ３−７
３３４１コツ号）、エノールエーテル化合物との組合せ
（特開昭ｊ！−／−？り３号）、Ｎ−アシルイミノ炭酸
化合物との組合せ（特開昭３！−７２ぶ一３４号）、及
び主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組合せ
（特開昭！ｄ−７７３４１ｊ号）を挙げることができる
。これらは原理的に量子収率が／を越える為、高い感光
性を示す可能性があるが、アセタール又はＯ，Ｎ−アセ
タール化合物の場合、及び主鎖にアセタール又はケター
ル基を有するポリマーの場合、光分解で生成する酸によ
る第コの反応の速度が遅い為、実際の使用に十分な感光
性を示さない。またオルトエステル又はアミドアセター
ル化合物の場合及び、エノールエーテル化合物の場合、
更にＮ−アシルイミノ炭酸化合物の場合は確かに高い感
光性を示すが、経時での安定が悪く、長期に保存するこ
とができない。主鎖にオルトエステル基を有するポリマ
ーの場合も、同じく高感度ではあるが、現像時の現像許
容性が狭いという欠点を有する。
「発明が解決しようとする問題点」
本研究の目的は、これらの問題点が解決された新規な光
可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性を
有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成物
を提供することである。
可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性を
有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成物
を提供することである。
本研究の別の目的は、経時での安定性が優れ長期に保存
が可能な新規な光可溶化組成物を提供することである。
が可能な新規な光可溶化組成物を提供することである。
本研究の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規な光可溶化組成物を提供することである。
る新規な光可溶化組成物を提供することである。
「問題点を解決するための手段」
本発明者は、上記目的を達成すぺ〈鋭意検討を加えた結
果新規な光可溶化組成物を用いることで前記目的が達成
されることを見い出し本発明に到達した。
果新規な光可溶化組成物を用いることで前記目的が達成
されることを見い出し本発明に到達した。
即ち本発明は、次の（３１（２）の光可溶化組成物であ
る。
る。
ｍ （ａｌ活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物、及びら）分子中に下記一般式（Ｄで示される、酸に
より分解し得るシリルエーテル基を少なくとも７個有し
、なお且つウレタン基、ウレイド基、アミド基、エステ
ル基のうち少なくとも７個を有する化合物を含有するこ
とを特徴とする光可溶化組成物、 （２）（ω活性光線の照射により酸を発生し得る化合物
、及び（ｂ３分子中に下記一般式（Ｉ）で示される、酸
により分解し得るシリルエーテル基を少なぐとも７個有
し、なお且つウレタン基、ウレイド基、アミド基、エス
テル基のうち少なくとも７個を有し、更に親水性基を少
なくとも／個有する化合物を含有することを特徴とする
光可溶化組成物。
物、及びら）分子中に下記一般式（Ｄで示される、酸に
より分解し得るシリルエーテル基を少なくとも７個有し
、なお且つウレタン基、ウレイド基、アミド基、エステ
ル基のうち少なくとも７個を有する化合物を含有するこ
とを特徴とする光可溶化組成物、 （２）（ω活性光線の照射により酸を発生し得る化合物
、及び（ｂ３分子中に下記一般式（Ｉ）で示される、酸
により分解し得るシリルエーテル基を少なぐとも７個有
し、なお且つウレタン基、ウレイド基、アミド基、エス
テル基のうち少なくとも７個を有し、更に親水性基を少
なくとも／個有する化合物を含有することを特徴とする
光可溶化組成物。
本発明（２）の親水性基を有する化合物を含有した光可
溶化組成物は、特に親水性表面を持つ支持体に対して塗
布性が優れている。
溶化組成物は、特に親水性表面を持つ支持体に対して塗
布性が優れている。
なお本発明でいう親水性基としては、具体的には下記に
示されるものがある。
示されるものがある。
÷ＣＨ２ＣＨ２０ｗｎ ・
÷−＋ＣＨｚ＋２０＋ＦＦ＋ＣＨｚＣＨ２−０＋−ｎ（
ＣＨＣＨ２−０九れＣＨ２ＣＨ２−０）、 。
ＣＨＣＨ２−０九れＣＨ２ＣＨ２−０）、 。
（ＣＨ２ＣＨ２Ｈ２−０）ｎ 。
Ｈ
式中、ｌは／〜ダの整数を示し、ｍ、ｎｔｉ＝以上の整
数、好ましくは−〜１００（りＩｉ数、更に好ましくけ
−〜、２０の整数を示す。Ｒはアルキル基、又は置換も
しくは無置換のフェニル基を示す。特に好ましい親水性
基は＋ＣＨ２ＣＨ２−０＋。である。
数、好ましくは−〜１００（りＩｉ数、更に好ましくけ
−〜、２０の整数を示す。Ｒはアルキル基、又は置換も
しくは無置換のフェニル基を示す。特に好ましい親水性
基は＋ＣＨ２ＣＨ２−０＋。である。
また本発明に用いられる（ｂｌの化合物としては好まし
くは、一般式（Ｉ）で示される酸により分解し得るシリ
ルエーテル基及びウレタン基、ウレイド基、アミド基、
エステル基のうち少なくとも７個を有する化合物または
更に親水性基を少々くとも／個有する化合物でちシ、下
記一般式（ｎ）の繰返し単位によって化合物を表わすこ
とができる。
くは、一般式（Ｉ）で示される酸により分解し得るシリ
ルエーテル基及びウレタン基、ウレイド基、アミド基、
エステル基のうち少なくとも７個を有する化合物または
更に親水性基を少々くとも／個有する化合物でちシ、下
記一般式（ｎ）の繰返し単位によって化合物を表わすこ
とができる。
Ｉ（２
＋Ｒ１０Ｓｉ Ｏ＋ （ｎ）
式中、Ｒ】はウレタン基、ウレイド基、アミド基、エス
テル基のうち少なくとも７個を有し、更に必要により親
水性基を少なくとも／個有する、コ価の脂肪族又は、芳
香族炭化水素を示す。Ｒ２、Ｒ３は同一でも相異してい
てもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル
基、置換もしくは無置換のアリール基又はアラルキル基
、又は−ＯＲ４を示す。好ましくは炭素数／〜弘のアル
キル基、又は−０Ｒ４を示す。Ｒ４は置換もしくは無置
換のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基、好ま
しくは炭素数７〜２個のアルキル基、又は炭素数ｇ〜／
ｊのアリール基を示す。
テル基のうち少なくとも７個を有し、更に必要により親
水性基を少なくとも／個有する、コ価の脂肪族又は、芳
香族炭化水素を示す。Ｒ２、Ｒ３は同一でも相異してい
てもよく、それぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル
基、置換もしくは無置換のアリール基又はアラルキル基
、又は−ＯＲ４を示す。好ましくは炭素数／〜弘のアル
キル基、又は−０Ｒ４を示す。Ｒ４は置換もしくは無置
換のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基、好ま
しくは炭素数７〜２個のアルキル基、又は炭素数ｇ〜／
ｊのアリール基を示す。
更に本発明に用いられる化合物伽）は、一般式（Ｉｔ）
で示される繰返し単位を２種以上含有していてもよく、
また上記の一般式（ｎ）及び下記の（ｍ）で示される繰
返し単位をそれぞれ７種以上含有する化合物でもよい。
で示される繰返し単位を２種以上含有していてもよく、
また上記の一般式（ｎ）及び下記の（ｍ）で示される繰
返し単位をそれぞれ７種以上含有する化合物でもよい。
÷Ｒ５０８ｉ ０＋（Ｉｎ）
式中、Ｒ５はウレタン基、ウレイド基、アミド基、エス
テル基は有しないが、必要により親水性基を少なくとも
／個有する、コ価の脂肪族、又は芳香族炭化水素を示す
。
テル基は有しないが、必要により親水性基を少なくとも
／個有する、コ価の脂肪族、又は芳香族炭化水素を示す
。
本発明のわ）における化合物の具体例としては次に示す
ものが含まれる。
ものが含まれる。
なおＡ／〜３７は親水性基を含まない化合物を１扁３１
−１７は親水性基を含む化合物を示す。
−１７は親水性基を含む化合物を示す。
１Ｊ！
：Ｊ乙
しれ３
なお具体例中のｎは７以上の整数を示す。またＸ％ Ｙ
ｓ ｚはモル比を示し、化合物例扁弘０、ダ／、弘３
でけｘ＝ｊ〜ｉｏｏモル−１ｙ ＝ ０〜り！モルチ、
２＝０〜り！モルーである。また化合物例＆７６〜コ一
、−７〜コｔ％！！、！？、Ｊり、４ｔ！、及び４ｔ４
ｔＳ−４ｔ！ではｘ：ｊ〜１００モルチ、モル０〜りｊ
セル−を示す。
ｓ ｚはモル比を示し、化合物例扁弘０、ダ／、弘３
でけｘ＝ｊ〜ｉｏｏモル−１ｙ ＝ ０〜り！モルチ、
２＝０〜り！モルーである。また化合物例＆７６〜コ一
、−７〜コｔ％！！、！？、Ｊり、４ｔ！、及び４ｔ４
ｔＳ−４ｔ！ではｘ：ｊ〜１００モルチ、モル０〜りｊ
セル−を示す。
これらの酸により分解し得るシリルエーテル基を少なく
とも／個有する化合物と組合せて用いる、活性光線の照
射により酸を発生し得る化合物としては多くの公知化合
物及び混合物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、
スルホニウム、及ヒヨードニウムのＢＦ４−、ＰＦ、′
″、ｓ ｂ Ｆ ６− ＋５ｉＦ６−、ｃｔ０４−など
の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノンジアジドスル
ホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物組
合せ物が適当である。もちろん、米国特許第３，２７り
、７７ｒ号及び西ドイツ国特許第コ、乙１０．！ダコ号
の明細書中に記載された光分解により酸を発生させる化
合物も本発明の組成物として適する。更に適当な染料と
組合せて露光の際、未露光部と露光物の間に可視的コン
トラストを与えることを目的とした化合物、例えば特開
昭７フー７７７４（２号、同ｊ７−／４３コＪ４を号の
明細書に記載された化合物も本発明の組成物として使用
することができる。
とも／個有する化合物と組合せて用いる、活性光線の照
射により酸を発生し得る化合物としては多くの公知化合
物及び混合物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、
スルホニウム、及ヒヨードニウムのＢＦ４−、ＰＦ、′
″、ｓ ｂ Ｆ ６− ＋５ｉＦ６−、ｃｔ０４−など
の塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノンジアジドスル
ホニルクロリド、及び有機金属／有機ハロゲン化合物組
合せ物が適当である。もちろん、米国特許第３，２７り
、７７ｒ号及び西ドイツ国特許第コ、乙１０．！ダコ号
の明細書中に記載された光分解により酸を発生させる化
合物も本発明の組成物として適する。更に適当な染料と
組合せて露光の際、未露光部と露光物の間に可視的コン
トラストを与えることを目的とした化合物、例えば特開
昭７フー７７７４（２号、同ｊ７−／４３コＪ４を号の
明細書に記載された化合物も本発明の組成物として使用
することができる。
上記光分解により酸を発生させる化合物の中では特にオ
ルトキノンジアジドスルホニルクロリド、及びハロメチ
ル基が置換し九Ｓ−）リアジン誘導体、オキサジアゾー
ル誘導体が好ましい。というのは、例えばオルトキノン
ジアジドスルホニルクロリドの場合露光の際３つの数基
（即ち塩改、スルホン散、カルボン駿）が形成される為
、比較的大きい割合で前記シリルエーテル基を分解させ
ることができるからでらる・ これらの活性光線の照射により酸を発生し得る化合物と
前記酸によυ分解し得るシリルエーテル基を少なくとも
／個有する化合物との割合は、重量比で０．００／：／
−コニ／であり、好ましくは０．０コニ／〜０．？：／
で使用される。
ルトキノンジアジドスルホニルクロリド、及びハロメチ
ル基が置換し九Ｓ−）リアジン誘導体、オキサジアゾー
ル誘導体が好ましい。というのは、例えばオルトキノン
ジアジドスルホニルクロリドの場合露光の際３つの数基
（即ち塩改、スルホン散、カルボン駿）が形成される為
、比較的大きい割合で前記シリルエーテル基を分解させ
ることができるからでらる・ これらの活性光線の照射により酸を発生し得る化合物と
前記酸によυ分解し得るシリルエーテル基を少なくとも
／個有する化合物との割合は、重量比で０．００／：／
−コニ／であり、好ましくは０．０コニ／〜０．？：／
で使用される。
本発明の光可溶性組成物は、上記活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物と、酸により分解し得るシリルエ
ーテル基を少なくとも／個有する化合物の組合せのみで
使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し
て用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には
、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、
フェノ−ル、ｊｔ Ａ／Ａ ７ ルア”ヒト樹脂、ｏ−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭！１１７
−７２！！０６号公報に記されている様に上記のような
フェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような炭素数３〜ｔのアルキル基で置換
されたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒド
との縮合物とを併用すると、一層好ましい。アルカリ可
溶性樹脂は、感光性レジスト形成性組成物の全重量を基
準として約４ｔＯ〜約り０重量％、よシ好ましくは４０
〜ｒ０重量叫含有させられる。
酸を発生し得る化合物と、酸により分解し得るシリルエ
ーテル基を少なくとも／個有する化合物の組合せのみで
使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し
て用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には
、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、
フェノ−ル、ｊｔ Ａ／Ａ ７ ルア”ヒト樹脂、ｏ−
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭！１１７
−７２！！０６号公報に記されている様に上記のような
フェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような炭素数３〜ｔのアルキル基で置換
されたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒド
との縮合物とを併用すると、一層好ましい。アルカリ可
溶性樹脂は、感光性レジスト形成性組成物の全重量を基
準として約４ｔＯ〜約り０重量％、よシ好ましくは４０
〜ｒ０重量叫含有させられる。
本発明の光可溶性組成物には必要に応じて、更に染料、
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物（所謂増感剤）などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的ＫＨ、オイルイエロー＃１０／、
オイルイエロー＠／ ｊ Ｏ、オイルピンク＃Ｊ ／
Ｊ、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯ８，オイル
ブルー＃ｇ０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラック
ＢＳ１オイルブラックＴ−ｔθ！（以上、オリエント化
学工業株式会社製）クリスタルバイオレット（ＣＩダコ
ｊ！り、メチルバイオレット（ＣＩ４ｔ２！！！ ）、
ローダミンＢ（ＣＩダｊ／７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（ＣＩｅ、２ｏｏｏ）、メチレンブルー（ＣＩｊＪＯ
／ｌ）などをあげることができる〇 本発明の光可溶性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、−一メ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あシ、これらの溶媒を単独あるいは混合し、て使用する
・そして上記成分中の濃度（添加物を含む全固形分）は
、−〜ｊＯ重量係である。このうち、本発明の組成の好
ましい濃度（固形分）は０．／〜２Ｊ重量％である。ま
た、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印
刷版についていえば一般的に固形分としてθ、！〜ｊ
、 ０９ ／ ｆｆＬ２が好ましい。
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物（所謂増感剤）などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的ＫＨ、オイルイエロー＃１０／、
オイルイエロー＠／ ｊ Ｏ、オイルピンク＃Ｊ ／
Ｊ、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯ８，オイル
ブルー＃ｇ０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラック
ＢＳ１オイルブラックＴ−ｔθ！（以上、オリエント化
学工業株式会社製）クリスタルバイオレット（ＣＩダコ
ｊ！り、メチルバイオレット（ＣＩ４ｔ２！！！ ）、
ローダミンＢ（ＣＩダｊ／７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（ＣＩｅ、２ｏｏｏ）、メチレンブルー（ＣＩｊＪＯ
／ｌ）などをあげることができる〇 本発明の光可溶性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、−一メ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あシ、これらの溶媒を単独あるいは混合し、て使用する
・そして上記成分中の濃度（添加物を含む全固形分）は
、−〜ｊＯ重量係である。このうち、本発明の組成の好
ましい濃度（固形分）は０．／〜２Ｊ重量％である。ま
た、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印
刷版についていえば一般的に固形分としてθ、！〜ｊ
、 ０９ ／ ｆｆＬ２が好ましい。
塗布量が少くなるＫつれ感光性は大になるが、感光膜の
物性は低１する。
物性は低１する。
本発明の光可溶性組成物を用いて平版印刷版を製造する
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーバーへッドブロジエクター用フ
ィルム第−原図用フイルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。
ィルム第−原図用フイルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。
またホトレジストとして上記以外の種々の支持体、例え
ば鋼板、銅メツキ板、ガラス板上、に本発明の光可溶性
組成物を塗布して使用される。
ば鋼板、銅メツキ板、ガラス板上、に本発明の光可溶性
組成物を塗布して使用される。
本発明に用いられる活性光感の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーメンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム（レーザービーム又は電子線）による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−、アル
ゴンレ−ザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーメンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム（レーザービーム又は電子線）による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザ−、アル
ゴンレ−ザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。
本発明の光可溶性組成物にたいする現像液としては、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であシ、それらの濃度が０．７〜１０重量゛
チ、好ましくはＱ、！〜！重ｉｔ１になるように添加さ
れる。
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適当であシ、それらの濃度が０．７〜１０重量゛
チ、好ましくはＱ、！〜！重ｉｔ１になるように添加さ
れる。
また、該アルカリ性水溶液には、心安に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
「実施例」
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い◇ 合成例／（化合物例ＡＩの原料合成） エチレングリコール／ｌに触媒量のピリジンを加え、こ
れＫ Ｊ ｌ ” ）リレン−ジインシアナート／３
りＩを、攪拌しながら滴下ロートよシ約ｙＱ分間かけて
添加した。添加後７０°Ｃにて、更に１時間攪拌を続け
た。その後、反応溶液を氷−メタノール浴にて冷却し、
白色固体を析出せしめた。戸別後、約２１の水で再結晶
し、白色結晶コ／４ｔｆｌ（収率り０チ）を得た。ＮＭ
Ｒ及び元素分析により、この白色結晶が、ビス−（λ−
ヒドロキシエチル）、２．（ｔ−）リレンジカルバメー
トることを確認した。
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い◇ 合成例／（化合物例ＡＩの原料合成） エチレングリコール／ｌに触媒量のピリジンを加え、こ
れＫ Ｊ ｌ ” ）リレン−ジインシアナート／３
りＩを、攪拌しながら滴下ロートよシ約ｙＱ分間かけて
添加した。添加後７０°Ｃにて、更に１時間攪拌を続け
た。その後、反応溶液を氷−メタノール浴にて冷却し、
白色固体を析出せしめた。戸別後、約２１の水で再結晶
し、白色結晶コ／４ｔｆｌ（収率り０チ）を得た。ＮＭ
Ｒ及び元素分析により、この白色結晶が、ビス−（λ−
ヒドロキシエチル）、２．（ｔ−）リレンジカルバメー
トることを確認した。
合成例コ（化合物例Ｊｉ２Ｊの原料合成）七ノエタノー
ルアン／ｌに触媒量のトリエチルアミ／を加え、これに
−＋ ” −）リレン−ジインシアナート／Ｊ９ｆｌを
攪拌しながら滴下ロートよシ約／時間かけて添加した。
ルアン／ｌに触媒量のトリエチルアミ／を加え、これに
−＋ ” −）リレン−ジインシアナート／Ｊ９ｆｌを
攪拌しながら滴下ロートよシ約／時間かけて添加した。
添加後ｊ０°Ｃにて更に７時間攪拌を続けた。生成した
白色固体を戸別し、約３１の水で再結晶した。白色結晶
／！６ｇ（収率６６％）を得た・ＮＭＲ及び元素分析に
より、この白色結晶が２．４ｔ−トリレン−ビス−（コ
ーヒドロキシエチルカルパミト） と全確認した。
白色固体を戸別し、約３１の水で再結晶した。白色結晶
／！６ｇ（収率６６％）を得た・ＮＭＲ及び元素分析に
より、この白色結晶が２．４ｔ−トリレン−ビス−（コ
ーヒドロキシエチルカルパミト） と全確認した。
合成例３（化合物例扁／の合成）
合成例／にて得たビス−（，２−ヒドロキシエチル）Ｊ
、ｇ−トリレンジ力ルバメートコ？、♂ｙ（Ｏ，７００
ｍｏｌｅ）、ピリジン／７．４ｔｉ（０゜２２ｏｍｏ１
ｅ ）を酢酸エナル／♂Ｑｄ中で室温下撹拌し、ジクロ
ロジメチルシラン／−０りｇ（０゜１００ｍｏｌｅ）の
トルエン２０−溶液を滴下ロートよシ添加した。添加に
約３０分間を要した。添加後、！０°Ｃで１時間攪拌を
続けた。
、ｇ−トリレンジ力ルバメートコ？、♂ｙ（Ｏ，７００
ｍｏｌｅ）、ピリジン／７．４ｔｉ（０゜２２ｏｍｏ１
ｅ ）を酢酸エナル／♂Ｑｄ中で室温下撹拌し、ジクロ
ロジメチルシラン／−０りｇ（０゜１００ｍｏｌｅ）の
トルエン２０−溶液を滴下ロートよシ添加した。添加に
約３０分間を要した。添加後、！０°Ｃで１時間攪拌を
続けた。
生成したピリジンのＨα塩を戸別した後、反応溶液を！
−Ｎ ａ ＨＣＯｓ水溶液−〇〇−１更に飽和食塩水２
００＠ｌで洗浄し、Ｎａ２５ｏ４にて乾燥させた。その
後反応溶液を＠縮乾枯した結果、無色の樹脂３１ｇを得
た。ＮＭＲｉＣよシ、その構造が化合物例ＡＩであるこ
とを確認した。更にＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔ
ｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ ） Ｋよυ
分子量を測定したところ、ポリスチレン標準でダ、！Ｏ
０でらった。
−Ｎ ａ ＨＣＯｓ水溶液−〇〇−１更に飽和食塩水２
００＠ｌで洗浄し、Ｎａ２５ｏ４にて乾燥させた。その
後反応溶液を＠縮乾枯した結果、無色の樹脂３１ｇを得
た。ＮＭＲｉＣよシ、その構造が化合物例ＡＩであるこ
とを確認した。更にＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔ
ｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ ） Ｋよυ
分子量を測定したところ、ポリスチレン標準でダ、！Ｏ
０でらった。
合成例／と同様な方法により得たビス−（−２−ヒドロ
キシエチル）ｍ−キシレンジカルパメーはエチレングリ
コール濃ａ後、水再結晶で行った。）／ｅｒ、７ＩＩ（
０，０≦００ｍｏｌｅ）、ｐ −ｄＰ ’／ ＩＪＶン
グＩＪ＝ｙ−ルｊ 、！７７ （０，５４ｔ０５ｍｇ１
６）、ピリジン／７．ダｙ（Ｑ、ＪＪｏｍｏｌｅ）の酢
酸エチル／１０ｄの混合物を合成例３に示した方法で反
応、後処理゛した。無色の粘稠な液体２４ｔ９を得た。
キシエチル）ｍ−キシレンジカルパメーはエチレングリ
コール濃ａ後、水再結晶で行った。）／ｅｒ、７ＩＩ（
０，０≦００ｍｏｌｅ）、ｐ −ｄＰ ’／ ＩＪＶン
グＩＪ＝ｙ−ルｊ 、！７７ （０，５４ｔ０５ｍｇ１
６）、ピリジン／７．ダｙ（Ｑ、ＪＪｏｍｏｌｅ）の酢
酸エチル／１０ｄの混合物を合成例３に示した方法で反
応、後処理゛した。無色の粘稠な液体２４ｔ９を得た。
ＮＭＲにより、その構造が化合物倒産／７であることを
確認し、更にＧＰＣにより分子量を測定したところ、ポ
リスチレン標準でｘ、ｔｏ。
確認し、更にＧＰＣにより分子量を測定したところ、ポ
リスチレン標準でｘ、ｔｏ。
であった。
合成例−で得た一、４ｔ−）リレン−ビス−（λ−ヒド
ロキシエチルカルバミド）？、りＩ（ｏ、ｏｓｏｏｍｏ
ｌｅ）、テトラエチレングリコ−に／Ｊ、Ａ１１（０，
０７００ｍ０１ｅ ）、ピリジ７／７．４ｔｌｉ（０，
−コ０ｍｏｌｅ）の酢酸エチル／１０−混合物を合成例
３に示した方法と同様に反応、後処理した。無色の粘稠
な液体コ、２ｇを得た。ＮＭＲにより、その構造が化合
物例ｌ６４ｔコでであることを確認し、更ＫＧＰＣによ
り分子量を測定したところ、ポリスチレン標準で／、ｊ
σ０であった。
ロキシエチルカルバミド）？、りＩ（ｏ、ｏｓｏｏｍｏ
ｌｅ）、テトラエチレングリコ−に／Ｊ、Ａ１１（０，
０７００ｍ０１ｅ ）、ピリジ７／７．４ｔｌｉ（０，
−コ０ｍｏｌｅ）の酢酸エチル／１０−混合物を合成例
３に示した方法と同様に反応、後処理した。無色の粘稠
な液体コ、２ｇを得た。ＮＭＲにより、その構造が化合
物例ｌ６４ｔコでであることを確認し、更ＫＧＰＣによ
り分子量を測定したところ、ポリスチレン標準で／、ｊ
σ０であった。
Ｎ、Ｎ−ｍ−７二二レン ビス（−Ｊ−ヒドロキシプロ
ピロンアミド） ｏａｏｏｍｏｌｅ）、ｐ−キシリレングリ：ｒ−に／。
ピロンアミド） ｏａｏｏｍｏｌｅ）、ｐ−キシリレングリ：ｒ−に／。
１ｐ（ｏ、ｏｔｏｏｍｏｌｅ ）、ピリジン／７、ダｇ
（ｏ、ｓａｏｍｏｌｅ）の酢酸エチル／♂０−混合を合
成例３に示した方法と同様に反応、後処理した。無色の
粘稠な液体−０ｇを得た。ＮＭＲにより、その構造が化
合物例Ａ３３であることを確認し、更ＫＧＰＣＫより分
子量を測定したところ、ポリスチレン標準でコ、３０Ｑ
であった。
（ｏ、ｓａｏｍｏｌｅ）の酢酸エチル／♂０−混合を合
成例３に示した方法と同様に反応、後処理した。無色の
粘稠な液体−０ｇを得た。ＮＭＲにより、その構造が化
合物例Ａ３３であることを確認し、更ＫＧＰＣＫより分
子量を測定したところ、ポリスチレン標準でコ、３０Ｑ
であった。
ビス−（−−ヒドロキシエチル）イン７タレ（ｏ、１０
ｏｍｏｌｅ）、ピリジン／７，４ｔｆｌ（０゜、ｚａａ
ｍｏｌｅ）のトルエン１００−溶液にジクロロジｚｆル
シラ／／ ！ 、 ７ ｇ （０、／ ００ｍｏｌｅ）
のトルエン、２０ｄ溶液を室温下、攪拌しながら滴下ロ
ートよυ約３０分間かけて添加した。添加後！ＯＯＣに
て２時間攪拌を続けた。生成したピリジンのＨαを戸別
後、合成例Ｊに示した方法と同様に後処理を行い、無色
の粘稠な液体２２ｇを得た。ＮＭＲＫよ）、その構造が
化合物例４Ｊ、（であることを確認し、更にＧＰＣＫよ
シ分子量を測定したところ、ポリスチレン標準でｊ 、
０００であった。
ｏｍｏｌｅ）、ピリジン／７，４ｔｆｌ（０゜、ｚａａ
ｍｏｌｅ）のトルエン１００−溶液にジクロロジｚｆル
シラ／／ ！ 、 ７ ｇ （０、／ ００ｍｏｌｅ）
のトルエン、２０ｄ溶液を室温下、攪拌しながら滴下ロ
ートよυ約３０分間かけて添加した。添加後！ＯＯＣに
て２時間攪拌を続けた。生成したピリジンのＨαを戸別
後、合成例Ｊに示した方法と同様に後処理を行い、無色
の粘稠な液体２２ｇを得た。ＮＭＲＫよ）、その構造が
化合物例４Ｊ、（であることを確認し、更にＧＰＣＫよ
シ分子量を測定したところ、ポリスチレン標準でｊ 、
０００であった。
実施例／
厚さ０．２４１ｍｍのＪ９アルミニウム板をｔｏｏＣに
保った第３燐酸す） ｌラムの／Ｑチ水溶液に３分間浸
漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目室てした後アルミ
ン酸ナトリウムで約７０秒間エツチングして、値数水素
ナトリウム３憾水溶液でデスマット処理を行った。この
アルミニウム板を一２０％５に酸中で電流密度コ人／
ｄ ｆｆ！２において一分間陽極酸化を行いアルミニウ
ム板を作成した。
保った第３燐酸す） ｌラムの／Ｑチ水溶液に３分間浸
漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目室てした後アルミ
ン酸ナトリウムで約７０秒間エツチングして、値数水素
ナトリウム３憾水溶液でデスマット処理を行った。この
アルミニウム板を一２０％５に酸中で電流密度コ人／
ｄ ｆｆ！２において一分間陽極酸化を行いアルミニウ
ム板を作成した。
次に下記感光液（入〕の本発明の化合物の種類を変えて
乙種類の感光液（Ａ）−／〜（Ａ）−≦を調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
１０ｏｏｃで一分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版（Ａ）−／〜（Ａ）−４を作製した。このときの塗
布量は全て乾燥重量で／ 、 ｊ ｌｌ ／ ｙ１＠
２であった。
乙種類の感光液（Ａ）−／〜（Ａ）−≦を調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
１０ｏｏｃで一分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版（Ａ）−／〜（Ａ）−４を作製した。このときの塗
布量は全て乾燥重量で／ 、 ｊ ｌｌ ／ ｙ１＠
２であった。
また、感光液ｃ人〕−／〜（Ａ）−４に用いた本発明の
化合物は＠／表に示す。
化合物は＠／表に示す。
感光液（Ａ）
次に比較例として下記の感光液（Ｂ）を感光液（Ａ）と
同様に塗布し、感光性平版印刷版（Ｂ）を作成した。
同様に塗布し、感光性平版印刷版（Ｂ）を作成した。
感光液ＣＢ）
乾燥後の塗布重量は／、ｆｇ／、１２であった口感光性
平版印刷版（Ａ）−／〜（Ａ）−４及び（Ｂ）の感光層
上に濃度差０．７ｊのグレースケールを密着させ、３０
アンイアのカーボンアーク灯で７０ｃＩＩＬの距離から
露光を行った。
平版印刷版（Ａ）−／〜（Ａ）−４及び（Ｂ）の感光層
上に濃度差０．７ｊのグレースケールを密着させ、３０
アンイアのカーボンアーク灯で７０ｃＩＩＬの距離から
露光を行った。
本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平版
印刷版［Ａ］−／〜（Ａ）−ご及びＣＢ）をＤＰ−４ｔ
（商品名：富士写真フィルム■製）の２倍希釈水溶液で
コｔ ’Ｃにおいて１０秒間浸漬現像し、濃度差θ、／
！のグレースクールで！段目が完全にクリアーとなる露
光時間を求めたところ＠／表に示すとおυとなった。
印刷版［Ａ］−／〜（Ａ）−ご及びＣＢ）をＤＰ−４ｔ
（商品名：富士写真フィルム■製）の２倍希釈水溶液で
コｔ ’Ｃにおいて１０秒間浸漬現像し、濃度差θ、／
！のグレースクールで！段目が完全にクリアーとなる露
光時間を求めたところ＠／表に示すとおυとなった。
なお第７表における本発明の化合物Ｊ／Ｇ、Ｑ’コ、４
ｔｙでは、ｘ ／ ｙ ＝ ４ｔｏ ／ ｔ ｏ （モ
ル比）のものを使用した。また第１表の本発明の化合物
の分子量はいずれもＧＰＣ，ポリスチレン標準で／。
ｔｙでは、ｘ ／ ｙ ＝ ４ｔｏ ／ ｔ ｏ （モ
ル比）のものを使用した。また第１表の本発明の化合物
の分子量はいずれもＧＰＣ，ポリスチレン標準で／。
！００〜ｊ 、０００のものであった。
第１表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版（Ａ）−／〜（Ａ）−４はいずれもＣＢ）よ
シ露光時間が少なく、感度が高い。
平版印刷版（Ａ）−／〜（Ａ）−４はいずれもＣＢ）よ
シ露光時間が少なく、感度が高い。
実施側御
実施例／の感光液（Ａ）−／、（Ａ）−２、［Ａ］−ｇ
、（Ａ）−夕、及び本発明の化合物を変えた（Ａ）−７
〜（Ａ）−／を用い、実施例／と同様にして感光性平版
印刷版（Ａ）−／、（Ａ）−２、ｒＡ）−ダ、（Ａ）
’、及び（Ａ）−７〜（Ａ）−／を作製した。塗布量
は全て乾燥重量で／ 、 ｊ ｆｉ ／ ｆＦ！２であ
った０感光液（Ａ）−７〜（Ａ）−／に用いた本発明の
化合物は第２表に示す０ 現像許容性を見る為、感光性平版印刷版（Ａ）−／、（
Ａ）−Ｊ、［Ａ］−ダ、（Ａ）−１、（Ａ）−７〜（Ａ
）−／及びＣＢ）の感光層上に濃度差０．／！のグレー
スクールを密着させ、３Ｑア／イアのカーボンアーク灯
で７０ＣＩＬの距離から３０秒間露光を行った。露光さ
れた感光性平版印刷版（Ａ）−／１（Ａ）−Ｊ、〔人〕
−ダ、（Ａ）−ｊ、（Ａ）−７〜（Ａ）−／及び（Ｂ）
を実施例／と同じ現像液にて、λｒ ｏｃで４０秒間及
び３分間浸漬現偉した。濃度差Ｏ１／！のグレースケー
ルで６０秒間及び３分間現像液における完全クリアーと
なる段数の差を求めたところ第−表に示すとおシとなっ
た。
、（Ａ）−夕、及び本発明の化合物を変えた（Ａ）−７
〜（Ａ）−／を用い、実施例／と同様にして感光性平版
印刷版（Ａ）−／、（Ａ）−２、ｒＡ）−ダ、（Ａ）
’、及び（Ａ）−７〜（Ａ）−／を作製した。塗布量
は全て乾燥重量で／ 、 ｊ ｆｉ ／ ｆＦ！２であ
った０感光液（Ａ）−７〜（Ａ）−／に用いた本発明の
化合物は第２表に示す０ 現像許容性を見る為、感光性平版印刷版（Ａ）−／、（
Ａ）−Ｊ、［Ａ］−ダ、（Ａ）−１、（Ａ）−７〜（Ａ
）−／及びＣＢ）の感光層上に濃度差０．／！のグレー
スクールを密着させ、３Ｑア／イアのカーボンアーク灯
で７０ＣＩＬの距離から３０秒間露光を行った。露光さ
れた感光性平版印刷版（Ａ）−／１（Ａ）−Ｊ、〔人〕
−ダ、（Ａ）−ｊ、（Ａ）−７〜（Ａ）−／及び（Ｂ）
を実施例／と同じ現像液にて、λｒ ｏｃで４０秒間及
び３分間浸漬現偉した。濃度差Ｏ１／！のグレースケー
ルで６０秒間及び３分間現像液における完全クリアーと
なる段数の差を求めたところ第−表に示すとおシとなっ
た。
＠コ表
々お第２表における本発明の化合物Ａ３り、ダコ、ダグ
では、ｘ ／ ｙ ＝ ４ｔＯ／ ４θ（モル比）のも
のを使用した。また第２表の本発明の化合物の分子量は
いずれもＧＰＣ，ポリスチレン標準で、／ｊ００〜３０
００のものであった。
では、ｘ ／ ｙ ＝ ４ｔＯ／ ４θ（モル比）のも
のを使用した。また第２表の本発明の化合物の分子量は
いずれもＧＰＣ，ポリスチレン標準で、／ｊ００〜３０
００のものであった。
第−表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版（Ａ）−／、（Ａ）−コ、（Ａ）−ダ、（Ａ
）−１、及び（Ａ）−７〜（Ａ）−？はいずれも、クリ
ア一部のグレースケール段数変化が小さく、現像許容性
が大きく優れたものであった。
平版印刷版（Ａ）−／、（Ａ）−コ、（Ａ）−ダ、（Ａ
）−１、及び（Ａ）−７〜（Ａ）−？はいずれも、クリ
ア一部のグレースケール段数変化が小さく、現像許容性
が大きく優れたものであった。
実施例３
実施例／の感光液〔人〕−３、及び実施例／の感光液（
Ａ）において、本発明の化合物のみを下記シリルエーテ
ル化合物（１）に置き換えた感光液（Ｃ）を用い、実施
例／と同様にして感光性平版印刷版（Ａ） ’、及び
（Ｃ）を作製した。塗布量はいずれも乾燥重量で／ 、
ｊ ｊｉ ／ ｒｎ ２であった〇シリルエーテル化
合物 分子量はＧＰＣ１ポリスチレン標準で一１０００経時安
定性を見る為、感光性平版印刷版（Ａ）−３、及び〔Ｃ
〕の作製直後、及ヒ温度４ｔｊ ０Ｃ。
Ａ）において、本発明の化合物のみを下記シリルエーテ
ル化合物（１）に置き換えた感光液（Ｃ）を用い、実施
例／と同様にして感光性平版印刷版（Ａ） ’、及び
（Ｃ）を作製した。塗布量はいずれも乾燥重量で／ 、
ｊ ｊｉ ／ ｒｎ ２であった〇シリルエーテル化
合物 分子量はＧＰＣ１ポリスチレン標準で一１０００経時安
定性を見る為、感光性平版印刷版（Ａ）−３、及び〔Ｃ
〕の作製直後、及ヒ温度４ｔｊ ０Ｃ。
湿度７７％の条件下、３日放置後における現像許容性を
、それぞれ実施例コに示した方法により、濃度ＮＯ，／
ｊのグレースケールで６Ｃ秒間及ヒ３分間現像での完全
にクリアーとなる段数差で求めたところ、第３表に示す
とおりとなった。
、それぞれ実施例コに示した方法により、濃度ＮＯ，／
ｊのグレースケールで６Ｃ秒間及ヒ３分間現像での完全
にクリアーとなる段数差で求めたところ、第３表に示す
とおりとなった。
なお第３表における本発明の化合物＆／１では、Ｘ／＞
ｌ ＝ｊ Ｏ／ｊ Ｏ（モル比）のものを使用した。
ｌ ＝ｊ Ｏ／ｊ Ｏ（モル比）のものを使用した。
また分子量はＧＰＣ１ポリスチレン標準で一２！００の
ものであった〇 第３表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版（Ａ）−３は、作製直後と、温度ダｊＯ（：
”１湿度７ｊチの条件下、３日放置後の現像許容性に差
がなく、経時安定性が優れたものである。
ものであった〇 第３表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版（Ａ）−３は、作製直後と、温度ダｊＯ（：
”１湿度７ｊチの条件下、３日放置後の現像許容性に差
がなく、経時安定性が優れたものである。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
昭和１０年ｒ月λＺ日
心
Claims (2)
- （１）（ａ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物、及び（ｂ）分子中に下記一般式（ I ）で示される
、酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも１
個有し、なお且つウレタン基、ウレイド基、アミド基、
エステル基のうち少なくとも１個を有する化合物を含有
することを特徴とする光可溶化組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） - （２）（ａ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物、及び（ｂ）分子中に下記一般式（ I ）で示される
、酸により分解し得るシリルエーテル基を少なくとも１
個有し、なお且つウレタン基、ウレイド基、アミド基、
エステル基のうち少なくとも１個を有し、更に親水性基
を少なくとも１個有する化合物を含有することを特徴と
する光可溶化組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59264183A JPS61141442A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 光可溶化組成物 |
| US06/807,937 US4786577A (en) | 1984-12-14 | 1985-12-12 | Photo-solubilizable composition admixture with radiation sensitive acid producing compound and silyl ether group containing compound with either urethane, ureido, amido, or ester group |
| DE19853544165 DE3544165A1 (de) | 1984-12-14 | 1985-12-13 | Photosolubilisierbare zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59264183A JPS61141442A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 光可溶化組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61141442A true JPS61141442A (ja) | 1986-06-28 |
| JPH048782B2 JPH048782B2 (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=17399618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59264183A Granted JPS61141442A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | 光可溶化組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4786577A (ja) |
| JP (1) | JPS61141442A (ja) |
| DE (1) | DE3544165A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61166544A (ja) * | 1985-01-18 | 1986-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
| JPS61167946A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色光可溶化組成物 |
| JPS61169836A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
| JPS6225751A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS63236029A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
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|---|---|---|---|---|
| DE3760030D1 (en) * | 1986-02-07 | 1989-02-02 | Nippon Telegraph & Telephone | Photosensitive and high energy beam sensitive resin composition containing substituted polysiloxane |
| JPS62266537A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | マイクロカプセル及びそれを使用した感光性記録材料 |
| DE3716848A1 (de) * | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
| DE3730787A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| DE3730785A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| DE3730783A1 (de) * | 1987-09-13 | 1989-03-23 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| DE3927632A1 (de) * | 1989-08-22 | 1991-02-28 | Basf Ag | Umsetzungsprodukt, verfahren zu dessen herstellung und damit erhaltenes strahlungsempfindliches material |
| DE3930087A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-14 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| DE3930086A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-21 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| JP2599007B2 (ja) * | 1989-11-13 | 1997-04-09 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
| US5368931A (en) * | 1991-07-10 | 1994-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor of direct image type |
| DE4228790C1 (de) * | 1992-08-29 | 1993-11-25 | Du Pont Deutschland | Tonbares strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Mehrfarbenbildern mittels solch eines Gemischs |
| DE19709934B4 (de) | 1996-03-14 | 2008-04-17 | Denso Corp., Kariya | Kühlgerät zum Sieden und Kondensieren eines Kältemittels |
| TW457403B (en) * | 1998-07-03 | 2001-10-01 | Clariant Int Ltd | Composition for forming a radiation absorbing coating containing blocked isocyanate compound and anti-reflective coating formed therefrom |
| US6210856B1 (en) | 1999-01-27 | 2001-04-03 | International Business Machines Corporation | Resist composition and process of forming a patterned resist layer on a substrate |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1347759A (en) * | 1971-06-17 | 1974-02-27 | Howson Algraphy Ltd | Light sensitive materials |
| US3779778A (en) * | 1972-02-09 | 1973-12-18 | Minnesota Mining & Mfg | Photosolubilizable compositions and elements |
| FR2333650A1 (fr) * | 1975-12-05 | 1977-07-01 | Cellophane Sa | Amelioration des procedes de reproduction ou d'enregistrement thermiques faisant usage de phenols |
| DE2641099A1 (de) * | 1976-09-13 | 1978-03-16 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche kopierschicht |
| DE2829511A1 (de) * | 1978-07-05 | 1980-01-24 | Hoechst Ag | Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern |
| DE3144480A1 (de) * | 1981-11-09 | 1983-05-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
| DE3473359D1 (de) * | 1983-06-29 | 1988-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosolubilizable composition |
-
1984
- 1984-12-14 JP JP59264183A patent/JPS61141442A/ja active Granted
-
1985
- 1985-12-12 US US06/807,937 patent/US4786577A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-12-13 DE DE19853544165 patent/DE3544165A1/de active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61166544A (ja) * | 1985-01-18 | 1986-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
| JPS61167946A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色光可溶化組成物 |
| JPS61169836A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
| JPS6225751A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
| JPS63236029A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH048782B2 (ja) | 1992-02-18 |
| DE3544165C2 (ja) | 1992-07-16 |
| US4786577A (en) | 1988-11-22 |
| DE3544165A1 (de) | 1986-06-26 |
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