JPS61114440A - 高精細度シヤドウマスク - Google Patents
高精細度シヤドウマスクInfo
- Publication number
- JPS61114440A JPS61114440A JP23573684A JP23573684A JPS61114440A JP S61114440 A JPS61114440 A JP S61114440A JP 23573684 A JP23573684 A JP 23573684A JP 23573684 A JP23573684 A JP 23573684A JP S61114440 A JPS61114440 A JP S61114440A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- opening part
- diameter
- shadow mask
- phosphor
- small
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
- H01J29/076—Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
［産業上の利用分野］
本発明は、カラーブラウン管をつくるための、高精細度
シャドウマスクに関する。
シャドウマスクに関する。
［従来の技術］
カラーテレビで、現在のものより１場感や迫力を増した
画像を楽しむためには、画面を大型化し、その縦横比を
変えたり、走査線の数を増大したりする必要がある。
これを実現するには、ブラウン管の解像度を高めなけれ
ばならない。
画像を楽しむためには、画面を大型化し、その縦横比を
変えたり、走査線の数を増大したりする必要がある。
これを実現するには、ブラウン管の解像度を高めなけれ
ばならない。
同様な要求は、近年発展が著しいＯＡ機器、とくにキャ
ラクタ−ディスプレイ、グラフィックディスプレイに用
いるカラーブラウン管に対しても、強まっている。
ラクタ−ディスプレイ、グラフィックディスプレイに用
いるカラーブラウン管に対しても、強まっている。
ブラウン管の解像度を高めるには、まずシャドウマスク
の走査有効画面中の開孔を小さくしてその数を増大さぜ
た、高精細度ものをつくる必要がある。 高精細度シャ
ドウマスクは、耐衝撃性、性状保持性、寸法安定性、耐
熱変形性などに対する要求が、在来のものよりきびしく
、これをみたす上では材料の選択や加工技術が重要であ
る。
の走査有効画面中の開孔を小さくしてその数を増大さぜ
た、高精細度ものをつくる必要がある。 高精細度シャ
ドウマスクは、耐衝撃性、性状保持性、寸法安定性、耐
熱変形性などに対する要求が、在来のものよりきびしく
、これをみたす上では材料の選択や加工技術が重要であ
る。
シャドウマスクの性能それ自体についていえば、電子ビ
ームの乱反射や二次電子放射を極力防止し、ハレーショ
ンを避けるとともにコントラストを高く保てることが望
ましく、これには開孔の寸法や形状の設旧と、そのコン
トロールの良否が大きな影響をもつ。
ームの乱反射や二次電子放射を極力防止し、ハレーショ
ンを避けるとともにコントラストを高く保てることが望
ましく、これには開孔の寸法や形状の設旧と、そのコン
トロールの良否が大きな影響をもつ。
よく知られているように、シャドウマスクは、金属薄板
に封するフォトレジストを利用したエツチングで開孔を
設けることにより製作されている。
に封するフォトレジストを利用したエツチングで開孔を
設けることにより製作されている。
薄板の一方の側からのエツチングで貫通孔を得る一段法
もあるが、板厚の１５０％以下という小径の開孔を設け
る高精細度シャドウマスクは、孔径のコントロールの点
からも、両側からエツチングを行なう二段法によるべき
ことが常識となっている。 二段法は、薄板の両面にフ
ォトレジストを用いて耐食性被膜を設けたのち、どちら
か一方の面を被覆して他方の面だけ腐食させ、できた凹
みを被覆材で埋めるとともに上記一方の面の被覆を除き
、その面からの腐食を行なって、凹みが前記の凹みの底
に達するようにして孔を開通させてから、被覆材と被膜
とを溶かし去るという手法である。
もあるが、板厚の１５０％以下という小径の開孔を設け
る高精細度シャドウマスクは、孔径のコントロールの点
からも、両側からエツチングを行なう二段法によるべき
ことが常識となっている。 二段法は、薄板の両面にフ
ォトレジストを用いて耐食性被膜を設けたのち、どちら
か一方の面を被覆して他方の面だけ腐食させ、できた凹
みを被覆材で埋めるとともに上記一方の面の被覆を除き
、その面からの腐食を行なって、凹みが前記の凹みの底
に達するようにして孔を開通させてから、被覆材と被膜
とを溶かし去るという手法である。
このような製法で得られる従来のシャドウマスクの開孔
は、第２図に示すような断面形状を有し、小孔（直径ｄ
）の凹みと大孔（直径Ｄ）の凹みとが交叉する点が最小
径部（直径ｄｏ）となり、Ｄ〉ｄ＞ｄｏの関係がある。
は、第２図に示すような断面形状を有し、小孔（直径ｄ
）の凹みと大孔（直径Ｄ）の凹みとが交叉する点が最小
径部（直径ｄｏ）となり、Ｄ〉ｄ＞ｄｏの関係がある。
［発明が解決しようとする問題点」
本発明者は、研究の結果、第２図に示すような開孔断面
形状をもつ従来のシャドウマスクでは、一層の高解像度
をもったブラウン管を製作する上で、限界があることを
知った。 その理由は、シャドウマスクを用いてブラウ
ン管のフェースプレート上に三色の蛍光体を形成する工
程において、焼付けのための光が、開孔内壁に張り出し
た最小径部に当って反（ト）し、本来は露光してはなら
ない部分にもその反射光が当るため、現像によって完全
に除去すべき部分の蛍光膜まで光反応させてしまい、残
存膜を生じたり、蛍光体の寸法を不均一にしたり、ある
いは蛍光体の形状を歪ませたりするという現象が起るか
らである。
形状をもつ従来のシャドウマスクでは、一層の高解像度
をもったブラウン管を製作する上で、限界があることを
知った。 その理由は、シャドウマスクを用いてブラウ
ン管のフェースプレート上に三色の蛍光体を形成する工
程において、焼付けのための光が、開孔内壁に張り出し
た最小径部に当って反（ト）し、本来は露光してはなら
ない部分にもその反射光が当るため、現像によって完全
に除去すべき部分の蛍光膜まで光反応させてしまい、残
存膜を生じたり、蛍光体の寸法を不均一にしたり、ある
いは蛍光体の形状を歪ませたりするという現象が起るか
らである。
本発明の目的は、上記した問題を解消し、より高解像度
のブラウン管を実現する高精細度シャドウマスクを提供
することにある。
のブラウン管を実現する高精細度シャドウマスクを提供
することにある。
発明の構成
［問題点を解決するための手段］
本発明の高精細度シャドウマスクは、第１図に示すよう
に、開孔１の内壁２に、小孔部直径より小ざい最小径部
が存在しない断面形状を有すること、すなわち第２図に
みるような張り出し３がなく、小孔部直径ｄが最小径部
直径ｄｏより大ぎいか、またはそれに等しいことを特徴
とする。
に、開孔１の内壁２に、小孔部直径より小ざい最小径部
が存在しない断面形状を有すること、すなわち第２図に
みるような張り出し３がなく、小孔部直径ｄが最小径部
直径ｄｏより大ぎいか、またはそれに等しいことを特徴
とする。
し作 用」
シャドウマスク開孔内壁に第２図に示すような張り出し
がなく最小径が小孔部直径で決定されれば、蛍光体の露
光時に反射して好ましくない方向に進む光は、ゼロにな
る。 従って、現像後の蛍光体の残存膜や歪み、寸法の
不均一といった問題は、事実上解消する。
がなく最小径が小孔部直径で決定されれば、蛍光体の露
光時に反射して好ましくない方向に進む光は、ゼロにな
る。 従って、現像後の蛍光体の残存膜や歪み、寸法の
不均一といった問題は、事実上解消する。
このような開孔内壁の断面形状は、電子ビームに対すマ
スクとしての機能にとっても好ましいものであって、張
り出した屈曲点に当った電子ビームの乱反射や二次電子
の放出といった現象が避けられるので、ハレーションの
発生しない、コントラストの＾い画像を得ることができ
る。
スクとしての機能にとっても好ましいものであって、張
り出した屈曲点に当った電子ビームの乱反射や二次電子
の放出といった現象が避けられるので、ハレーションの
発生しない、コントラストの＾い画像を得ることができ
る。
［実施態様］
開孔内壁の断面形状は、第１図に示すような、最小径部
が板厚内に存在せず光の入射面く図では下側の面）にあ
る（ ｄ＝ｄｏ）ものが好ましく、この態様においては
、露光に用いる光の無用な反射は、すべてなくすことが
できる。 しかし、開孔の板厚内の直径が小孔部直径よ
り小さくなければ、つまり張り出しがなければ差支えな
い。
が板厚内に存在せず光の入射面く図では下側の面）にあ
る（ ｄ＝ｄｏ）ものが好ましく、この態様においては
、露光に用いる光の無用な反射は、すべてなくすことが
できる。 しかし、開孔の板厚内の直径が小孔部直径よ
り小さくなければ、つまり張り出しがなければ差支えな
い。
上記のような開孔内壁断面形状は、前記したシャドウマ
スク製作の二段エツチング工程において、まず小孔部の
腐食を行ない、その凹みを埋める被覆材が大孔部の腐食
に際して若干軟化し、その結果、小孔の凹みの底へも腐
食液が侵入して大孔の底に近い部分を蚕食するような条
件下に、エツチングを実施することによって得られる。
スク製作の二段エツチング工程において、まず小孔部の
腐食を行ない、その凹みを埋める被覆材が大孔部の腐食
に際して若干軟化し、その結果、小孔の凹みの底へも腐
食液が侵入して大孔の底に近い部分を蚕食するような条
件下に、エツチングを実施することによって得られる。
条件を選択することにより、第１図に記した好ましい
態様の断面形状をつくることとができる。
態様の断面形状をつくることとができる。
本発明の高精細度シャドウマスクの代表的な例をあげれ
ば、とくに高い精細度を有するものは、厚さ０．１ｍｎ
＋内外の金属薄板を材料とし、開孔ピッチ０．２ｍｍ、
小孔部径０．０８〜０．１０１１１１１大孔部径０．１
６〜０．１８１１１１１である。 それほど高度でない
精細度の製品は、やはり厚さ０．１１１１ｍの金属薄板
に０．２５〜０．３０１１１１のピッチで開孔を設けた
ものであって、小孔部径０．１１−０．１４１０１１１
、大孔部径０．２２〜０．２７１である。
ば、とくに高い精細度を有するものは、厚さ０．１ｍｎ
＋内外の金属薄板を材料とし、開孔ピッチ０．２ｍｍ、
小孔部径０．０８〜０．１０１１１１１大孔部径０．１
６〜０．１８１１１１１である。 それほど高度でない
精細度の製品は、やはり厚さ０．１１１１ｍの金属薄板
に０．２５〜０．３０１１１１のピッチで開孔を設けた
ものであって、小孔部径０．１１−０．１４１０１１１
、大孔部径０．２２〜０．２７１である。
開孔の平面形状は、円形が代表的であるが、六角形、あ
るいは長方形であってもよいことはもちろんである。
るいは長方形であってもよいことはもちろんである。
し実施例］
厚さＱ、ｉｍｉ＋のアンバー合金の薄板を材料とし、一
方の面に直径０．０９ｆｆｌＲ＋の大円ドツトを０．２
Ｉｌｌピツチで配列したパターンの第一レシストを、ま
た他方の面には、これに対応して、直径０．０６ｆｆｌ
ｌｌｌの小円ドツトを同じピッチで配列したパターンの
第ニレジストを設けた。
方の面に直径０．０９ｆｆｌＲ＋の大円ドツトを０．２
Ｉｌｌピツチで配列したパターンの第一レシストを、ま
た他方の面には、これに対応して、直径０．０６ｆｆｌ
ｌｌｌの小円ドツトを同じピッチで配列したパターンの
第ニレジストを設けた。
大円ドツトの第一レシストの上を被覆材で保護し、小円
ドツトの第ニレジストを利用して、ＦｅＣ９，３の４６
’８Ｂの腐食液を、温度５５℃、スプレィ圧力２ ｋｇ
／ ａＡの条件でスプレィして腐食した。
ドツトの第ニレジストを利用して、ＦｅＣ９，３の４６
’８Ｂの腐食液を、温度５５℃、スプレィ圧力２ ｋｇ
／ ａＡの条件でスプレィして腐食した。
第一レジスト上の被覆材を溶かし去ってから、上記の腐
食した面を被覆材で保護して小径の凹みを埋め、前記の
腐食液を、温度６．０℃においてスプレィすることによ
りエツチングした。 この温度は、小孔の凹みを埋めた
被覆材が軟化して、その周囲に腐食液が侵入できる温度
である。
食した面を被覆材で保護して小径の凹みを埋め、前記の
腐食液を、温度６．０℃においてスプレィすることによ
りエツチングした。 この温度は、小孔の凹みを埋めた
被覆材が軟化して、その周囲に腐食液が侵入できる温度
である。
小径の凹みを埋めた被覆、材および第一、第ニレジスト
を溶かし去って、第１図に示す断面形状の開孔壁をもっ
たシャドウマスクを得た。 小孔の直径ｄ＝０．Ｏ８ｌ
ｌ１ｍ、大孔の直径Ｄ−０，１５ｍｍであって、小孔部
が最小径をもっていた。
を溶かし去って、第１図に示す断面形状の開孔壁をもっ
たシャドウマスクを得た。 小孔の直径ｄ＝０．Ｏ８ｌ
ｌ１ｍ、大孔の直径Ｄ−０，１５ｍｍであって、小孔部
が最小径をもっていた。
発明の効果
本発明の高精細度シャドウマスクは、蛍光塗料焼付は時
の露光用原版としては、形状および寸法の均一な蛍光体
を与え、シャドウマスクとしては、ハレーションの起ら
ない高解像度ブラウン管を与える。
の露光用原版としては、形状および寸法の均一な蛍光体
を与え、シャドウマスクとしては、ハレーションの起ら
ない高解像度ブラウン管を与える。
第１図は、本発明のシャドウマスクの開孔の形状を示す
拡大断面図である。 第２図は、従来のシャドウマスクの開孔の形状を示す、
同様な拡大断面図である。 １・・・開孔 ２・・・開孔壁 ３・・・張り出し部 Ｄ・・・大孔部直径 ｄ・・・小孔部直径 ｄＯ・・・最小径部直径
拡大断面図である。 第２図は、従来のシャドウマスクの開孔の形状を示す、
同様な拡大断面図である。 １・・・開孔 ２・・・開孔壁 ３・・・張り出し部 Ｄ・・・大孔部直径 ｄ・・・小孔部直径 ｄＯ・・・最小径部直径
Claims (2)
- （１）高解像度ブラウン管用のシャドウマスクにおいて
、開孔内壁に小孔部直径より小さい最小径部が存在しな
い断面形状を有することを特徴とする高精細度シャドウ
マスク。 - （２）開孔内壁が大孔部から小孔部にかけて、屈曲点の
ない曲線で形成された断面形状を有する特許請求の範囲
第１項のシャドウマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23573684A JPS61114440A (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 | 高精細度シヤドウマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23573684A JPS61114440A (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 | 高精細度シヤドウマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61114440A true JPS61114440A (ja) | 1986-06-02 |
Family
ID=16990457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23573684A Pending JPS61114440A (ja) | 1984-11-08 | 1984-11-08 | 高精細度シヤドウマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61114440A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63226649A (ja) * | 1986-10-23 | 1988-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー拡散転写写真フイルムユニツト |
| US5635320A (en) * | 1993-08-25 | 1997-06-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color cathode ray tube and method manufacturing the same |
| KR100342250B1 (ko) * | 1994-05-03 | 2002-11-30 | 비엠시 인더스트리스 인코포레이티드 | 새도우마스크와그제조방법 |
| WO2004013887A1 (ja) * | 2002-08-06 | 2004-02-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | カラー陰極線管およびその製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5087571A (ja) * | 1973-12-05 | 1975-07-14 | ||
| JPS534465A (en) * | 1976-07-02 | 1978-01-17 | Hitachi Ltd | Shadow mask of color brown tube and its manufacture |
| JPS5772232A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-06 | Toshiba Corp | Production of shadow mask for color picture tube |
-
1984
- 1984-11-08 JP JP23573684A patent/JPS61114440A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5087571A (ja) * | 1973-12-05 | 1975-07-14 | ||
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| US5635320A (en) * | 1993-08-25 | 1997-06-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Color cathode ray tube and method manufacturing the same |
| KR100342250B1 (ko) * | 1994-05-03 | 2002-11-30 | 비엠시 인더스트리스 인코포레이티드 | 새도우마스크와그제조방법 |
| WO2004013887A1 (ja) * | 2002-08-06 | 2004-02-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | カラー陰極線管およびその製造方法 |
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