JPS6024533B2 - How to make a shadow mask - Google Patents

How to make a shadow mask

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JPS6024533B2
JPS6024533B2 JP48139463A JP13946373A JPS6024533B2 JP S6024533 B2 JPS6024533 B2 JP S6024533B2 JP 48139463 A JP48139463 A JP 48139463A JP 13946373 A JP13946373 A JP 13946373A JP S6024533 B2 JPS6024533 B2 JP S6024533B2
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JP
Japan
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axis
mask
spherical
light
shadow mask
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Application number
JP48139463A
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Japanese (ja)
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JPS5090284A (en
Inventor
勇治 斎藤
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS6024533B2 publication Critical patent/JPS6024533B2/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/076Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、カラーブラウン管特にブラックストライプ
型カラーブラウン管と呼ばれるカラーフラウン管用のシ
ャドウマスクの製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask for a color cathode ray tube, particularly a color cathode ray tube called a black stripe type color cathode ray tube.

ブラックストライプ型カラーブラウン管は、パネル内面
に縦に各1本宛々独立して連続した3色の後光体ストラ
イプを画面の横方向に繰返し配列形成し、第1図で示す
如きシャドウマスク1に形成したスロッテッドアパーチ
ャ2を通じて各色に対応した3本の電子ビームを各色の
蟹光体ストラィプに照射し、3原色を発光させるように
したもので、その特徴とするところは蟹光体を縦のスト
ライプ状となす事によって、電子ビームの縦方向のラン
デング余裕度を大となし、受像機のコンパーゼンス回路
を簡素化し得るようにした事と、加えてブラックマトリ
ックス型カラーブラウン管と同様にフェースプレート内
面に形成せしめる3色蟹光体の両側を黒鉛の如き光吸収
物質で充填し、各後光体ストライプの幅より大なる幅を
持つ電子ビームを用いて蟹光体ストライプの全幅を照射
せしめることにより、映像コントラスト並びに後光面輝
度の向上を図った事にある。
A black stripe type color cathode ray tube has three independent and continuous rear light stripes arranged vertically and repeatedly in the horizontal direction of the screen on the inner surface of the panel, forming a shadow mask 1 as shown in Fig. 1. Three electron beams corresponding to each color are irradiated onto the crab light strips of each color through the slotted aperture 2 that has been formed, so that the three primary colors are emitted. By creating a stripe shape, the vertical landing margin of the electron beam is increased and the comparability circuit of the receiver can be simplified. By filling both sides of the three-color crab light stripe with a light-absorbing material such as graphite, and by irradiating the entire width of the crab light stripe with an electron beam whose width is larger than the width of each halo stripe, an image can be created. The aim is to improve contrast and rear light surface brightness.

そのため3色蟹光体の発光バランスは、各々の蟹光体ス
トライプ幅を制約しているブラックストライプが3色間
が共に等しい幅を持ち、画面全域で正しい形状であるか
どうかが製品の品質を決定し、これが画面の均一性に最
も重要な要素である。ところで、蟹光体及びブラックス
トライプが各々縦方向に連続したストライプ状に形成す
るのに対し、シャドウマスク1に形成するアパーチャは
第1図に示す如く、縦方向に分割されたスロッテッドア
パーチャ2にて構成しなければならない。
Therefore, the light emitting balance of the three-color crab light body depends on whether the black stripes that restrict the width of each crab light body stripe have the same width between the three colors and whether the shape is correct across the entire screen. This is the most important factor in screen uniformity. By the way, while the crab light body and the black stripe are each formed in a continuous stripe shape in the vertical direction, the aperture formed in the shadow mask 1 is divided into vertically divided slotted apertures 2 as shown in FIG. must be configured.

これは、斯種カラーブラウン管では電子ビームのランデ
ングを正確に行なわせるためにパネル内面及びシャドウ
マスク1は球面乃至は球面に準ずる曲面に採られ、この
ためシャドウマスク1は球面乃至は、これに準ずる曲面
の形状を保持するためにスロッテッドァパーチャ2は縦
方向に連続させる事ができず、従って複数に分割して形
成し、この間にブリッジ部分9が介在形成される。この
ため、ブラックストライプ及び蟹光体ストライプを形成
するに当って一般に周知の如く光源からシャドウマスク
を通じてパネル内面に塗布した光硬化性樹脂に露光し、
露光された光硬化性樹脂乃至は蟹光体を残して他の部分
は除去する如くして、所要の蟹光体ストライプとブラッ
クストライプを形成するようになすものであるから、シ
ャドウマスクーを通じて露光する場合、パネル内面に結
像される光源の像は縦方向に連続したストライプ状とな
らなければならない。然しブリッジ部3の存在によって
この部分が影になってしまうため連続したストライプ像
が結像できない不都合がある。このため、ライン状光源
が用いられ、その長手方向をスロッテッドアパーチャ2
の長手方向と一致する向に配置して、このライン状光源
の像をスロッテッドアパーチャ2を通じてパネル内面に
結像させる事によってブリッジ部分3の影響のない連続
した結像を得る事ができる。然しながら、単にライン状
光源を用いるだけでは、第2図に示すようにパネル4の
周辺、特に4隅に近ず〈程、結像ストライプSは折曲り
、従って蟹光体ストライプ及びブラックストライプも共
にこの折曲つた形状に形成され、画質を著るしく阻害さ
れ、特にブラックストライプ型の場合はその影響が大き
い。
This is because in this type of color cathode ray tube, the inner surface of the panel and the shadow mask 1 are formed into a spherical surface or a curved surface similar to a spherical surface in order to accurately land the electron beam. In order to maintain the shape of the curved surface, the slotted aperture 2 cannot be made continuous in the vertical direction, so it is formed by dividing it into a plurality of parts, and the bridge part 9 is formed between them. For this reason, in forming the black stripes and crab light stripes, the photocurable resin coated on the inner surface of the panel is exposed to light from a light source through a shadow mask, as is generally known.
The exposed photocurable resin or crab photo material is left behind and the other parts are removed to form the desired crab photo material stripes and black stripes, so exposure is performed through a shadow mask. In this case, the image of the light source formed on the inner surface of the panel must be in the form of continuous stripes in the vertical direction. However, due to the presence of the bridge portion 3, this portion becomes a shadow, making it impossible to form a continuous stripe image. For this reason, a linear light source is used, and its longitudinal direction is defined by a slotted aperture 2.
By arranging the linear light source in the same direction as the longitudinal direction of the light source and forming an image of the linear light source on the inner surface of the panel through the slotted aperture 2, continuous image formation without the influence of the bridge portion 3 can be obtained. However, simply using a linear light source will cause the imaging stripe S to bend as it approaches the periphery of the panel 4, especially the four corners, as shown in FIG. Formed in this bent shape, the image quality is significantly impaired, and this effect is particularly large in the case of a black stripe type.

このため、従来ではこの折曲りを補正するために露光を
パネル面の一部に限定し、露光部分を移動させながら、
この露光部分のパネル面の傾斜と光源の軸線とが常に平
行する関係にある如く制御し、斯くしてストライプの折
曲りを防止するようにしている。
For this reason, in the past, in order to correct this bending, exposure was limited to a part of the panel surface, and while the exposed part was moved,
The inclination of the panel surface in the exposed area is controlled so that it is always parallel to the axis of the light source, thereby preventing the stripes from bending.

第3図はその補正機構を示し、パネル4の内面にはその
所定位置にシャドウマスクーを装着し、このシャドウマ
スクーに形成されたスロッテッドアパーチャ2の方向に
長いライン状光源5をパネル4の短軸方向に回動自在に
取付け、モ・‐夕6にてこの光源5を回動させると共に
、この回動と同期してシャツ夕7をパネル4の鏡軸方向
に移動させ、シャツ夕7のスリット部7aを通じて、パ
ネル4の内面に第4図に示す如く帯状の露光部8を照射
し、この帯状の露光部8をパネル4の短簸方向に移動さ
せ、パネル4の内面の全体を露光するようになす。従っ
て、露光部8の移動と共に光源5の鞠線の頃斜を変更し
、露光部8が位置するパネル面の傾斜と光源5の軸線と
が常に平行関係を保持する如くなす。斯くすれば、パネ
ル面4に形成されるストライプSは略々直線状となり、
折曲り形状を除去できる。
FIG. 3 shows the correction mechanism. A shadow mask is mounted on the inner surface of the panel 4 at a predetermined position, and a long linear light source 5 is attached to the panel 4 in the direction of the slotted aperture 2 formed in the shadow mask. The light source 5 is rotated by the motor 6, and in synchronization with this rotation, the shirt light source 7 is moved in the direction of the mirror axis of the panel 4. 7, the inner surface of the panel 4 is irradiated with a strip-shaped exposed portion 8 as shown in FIG. be exposed to light. Therefore, as the exposure section 8 moves, the slope of the marquee line of the light source 5 is changed so that the inclination of the panel surface on which the exposure section 8 is located and the axis of the light source 5 always maintain a parallel relationship. In this way, the stripe S formed on the panel surface 4 becomes approximately linear,
Bent shapes can be removed.

しかし、この装置による露光法では、シャツ夕7のスリ
ット部7aが非常に狭いため、光源5の発する光の有効
利用率が著しく低下し、このため露光時間が長く掛り非
能率であるため、量産する場合に非常に多数の斯種露光
装置を必要とする欠点がある。
However, in the exposure method using this device, since the slit portion 7a of the shirt cover 7 is very narrow, the effective utilization rate of the light emitted by the light source 5 is significantly reduced, and the exposure time is therefore long, resulting in inefficiency. In this case, there is a drawback that a very large number of such exposure apparatuses are required.

この発明の目的は、曲面マスク1のアパーチャ2を細長
い発光軸を持つ光源5の発光軸を含む光東の作る平面と
マスク1の曲面が交わって作る交線上に沿って配列する
ことにより、光源5の傾斜及びシャツ夕7の移動機機等
の機械的補正手段を用いることないこ折曲りのないスト
ライプを形成することのできるシャドウマスクの製造方
法を提供することにある。
The object of the present invention is to arrange the apertures 2 of the curved mask 1 along the intersection line formed by the intersection of the curved surface of the mask 1 and the plane created by the light source including the light emitting axis of the light source 5 having an elongated light emitting axis. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a shadow mask that can form stripes without bends without using mechanical correction means such as an inclination of 5 and a mobile device of 7.

本発明によれば、ブラウン管のパネル内面に設けられた
球面をなすシャドウマスクの短藤(Y軸)方向に細長い
発光鞠を持つ光源が蟹光体ストライプ形成用の露光中心
に置かれ、該発光軸を含む光東の作る平面と、半径Rm
の球面マスクの曲率中心を含んだY軸方向に拡がりを持
つ平面との、マスクの球面上にあって画面の中心から長
軸(X軸)上ふの距離にある点における交差角を8とす
るとき、略Y軸方向にブリッジを介して連続したスロッ
テッドアパーチャの列を次式の関係を満足する近似アパ
ーチャ配列線に沿ってアパ−チャを配列した原図を形成
し、該原図を金属平板に転写してスロッテッドアパーチ
ャを形成し、次いで前記金属平板を半径Rmの球面マス
クに成形することを特徴とするシャドウマスクの製造方
法が得られる。
According to the present invention, a light source having a light emitting ball elongated in the short width (Y-axis) direction of a spherical shadow mask provided on the inner surface of a panel of a cathode ray tube is placed at the exposure center for forming crab light stripes, and the light emitting The plane created by Koto including the axis and the radius Rm
The intersection angle at a point on the spherical surface of the mask at a distance above the long axis (X-axis) from the center of the screen with a plane extending in the Y-axis direction that includes the center of curvature of the spherical mask is 8. When doing so, an original drawing is formed in which a row of slotted apertures that are continuous in the Y-axis direction via a bridge is arranged along an approximate aperture arrangement line that satisfies the relationship of the following equation, and the original drawing is attached to a metal flat plate. A method for manufacturing a shadow mask is obtained, which is characterized in that the metal plate is transferred to form a slotted aperture, and then the metal flat plate is formed into a spherical mask with a radius Rm.

仇Rm物−X逆十(Sin煮)2=・ Rm2 tan28 以下、この発明の一実施例を図面について詳細に説明す
る。
Enemy Rm thing -

第5図は、本発明によるカラーブラウン管のシャドウマ
スクに形成するスロッテッドァパーチャ2の配列を説明
する図で、この例ではシャドウマスクーは球面状をなし
ている場合を示す。
FIG. 5 is a diagram illustrating the arrangement of slotted apertures 2 formed in the shadow mask of a color cathode ray tube according to the present invention. In this example, the shadow mask has a spherical shape.

この発明では光源5より発射される光のうち、露光中心
髄(Z軸)から、例えば額き角Qをなす光東の作る平面
10と、シャドウマスク1の面によって作られる交線1
3に沿ってアパーチャ2を形成するものである。
In this invention, among the light emitted from the light source 5, a line of intersection 1 made by a plane 10 made by Koto, which forms a forehead angle Q, and a surface of the shadow mask 1, is emitted from the exposure center (Z axis).
3 along which an aperture 2 is formed.

ここで、従釆のスロツテツドアパーチヤ2の配列につい
て説明すると、従来はシャドウマスク用板が未だ平板状
態においてアパーチャ2は直線に沿って配列され、アパ
ーチヤ2の形成後に板を球面に成形するようにしている
Here, to explain the arrangement of the secondary slotted apertures 2, conventionally, the apertures 2 are arranged along a straight line while the shadow mask plate is still in a flat state, and after the apertures 2 are formed, the plate is formed into a spherical surface. That's what I do.

このため球面上におけるアパーチャ2の配列は第5図で
示す如く、球心点15を通る面11とシャドウマスクー
とによって作られる文線12上にある。この交線12は
、地理学上で良く知られている大圏12上にあることに
なる。この大圏12を作る平面11は露光中心軸Z軸と
、例えば開き角3をなすものとすると面10と11の2
つの平面が球面マスク上の任意の′1点14を共有する
とき、その点14をPm(幻m、けm、zm)で表わせ
ば、Q、6は次式となる。Q=側I(毅)
m 3=ぬn「(毒害;) 【2} mはマスク球面のグラフを次式とするとき、球の中心座
標より与えられる。
Therefore, as shown in FIG. 5, the arrangement of the apertures 2 on the spherical surface is on the line 12 formed by the surface 11 passing through the spherical center point 15 and the shadow mask. This line of intersection 12 lies on the great circle 12, which is well known in geography. If the plane 11 forming this great circle 12 forms an opening angle of 3, for example, with the exposure center axis Z-axis, then the two planes 10 and 11
When two planes share an arbitrary '1 point 14 on the spherical mask, if that point 14 is expressed as Pm (phantom m, kem, zm), Q, 6 becomes the following equation. Q = Side I (Toshi)
m 3 = n' (poisonous damage;) [2} When the graph of the mask sphere is expressed as the following equation, m is given from the center coordinates of the sphere.

之十〆十(z+m)2:Rm2 糊また光東
面10は【1}式より傾きが与えられ、次式である。
10〆10(z+m)2:Rm2 The slope of the glue and light east face 10 is given by the formula [1}, and is given by the following formula.

Zm 【4,Z=寿市X
更に大圏12を作る平面11は■式から求められる懐き
で、球心15を通る平面である。
Zm [4, Z = Kotobukiichi X
Furthermore, the plane 11 that creates the great circle 12 is a plane that passes through the center of the sphere 15, which is determined from the equation (2).

Zm+m ■Z =−−−
×−m そこで光東平面10と球面マスクーの交線13上の1点
pmの近傍における交線1 3のx軸となす角8,(第
6図参照)は、{3}式【4}式より求められる交線グ
ラフの傾きより次式となる。
Zm+m ■Z =---
×-m Therefore, the angle 8 between the intersection line 13 and the x-axis in the vicinity of one point pm on the intersection line 13 of the Koto plane 10 and the spherical Masku (see Figure 6) is given by the {3} formula [4} From the slope of the intersection graph obtained from the formula, the following formula is obtained.

8,ニ−ねn一,(×m2十zm(zm+m))
【6,×mymまた、この点pmの近傍におけるアパー
チヤ2のx軸となす角82は‘3}式と(5)式より求
められる交線、即ち大圏12上のx軸との傾きより求め
られる。
8, knee n one, (×m2 10zm (zm+m))
6, Desired.

故に、82:−ねn−.(幻m2十(zm+mア)
【7}肌肌以上の結果より0,と82 は幻mMm
≠0で一致しない、即ち第5図に示すように、従来のア
パーチヤ配列線12に沿って形成されたアパーチヤ2に
よって投影されるストライプ像Sは交線13と平行し、
よって従来のアパーチャ2を通過する光東は連続しない
ため、露光されたストライプSは糟かに連続しない。
Therefore, 82:-n-. (phantom m20 (zm+ma)
[7} From the skin-to-skin result, 0, and 82 are illusions.
≠0, that is, as shown in FIG. 5, the stripe image S projected by the aperture 2 formed along the conventional aperture array line 12 is parallel to the intersection line 13,
Therefore, since the light beams passing through the conventional aperture 2 are not continuous, the exposed stripes S are not continuous at all.

そこで、第3図に示した補正機構による方法によれば、
このようなマスクのアパーチャ配列線12のなす角度0
2に、光東平面10の作る角8,を合わせるため、細長
い光源5を第5図におけるx軸を中心に額斜させること
により、光東平面10が作る交線13の点pm近傍にお
けるx軸となす角8,を、アパーチャ配列線12が点m
mの近傍においてx軸となす角a2に一致させてストラ
イプを滑らかに連続させている。
Therefore, according to the method using the correction mechanism shown in FIG.
The angle formed by the aperture array line 12 of such a mask is 0
2, in order to align the angle 8 formed by the Koto plane 10, by tilting the elongated light source 5 around the x-axis in FIG. The aperture array line 12 forms an angle 8 with the axis at a point m
The stripes are made to continue smoothly in the vicinity of m, matching the angle a2 formed with the x-axis.

一方、この発明によるシャドウマスクは、光東平面10
と球面マスク1の交線13上にアパーチャ2を配列する
ようにしたから、像のなす角8,はアパーチャ2のなす
角82に一致する。
On the other hand, the shadow mask according to the present invention has a light east plane 10
Since the apertures 2 are arranged on the intersection line 13 of the spherical mask 1 and the spherical mask 1, the angle 8 formed by the image coincides with the angle 82 formed by the apertures 2.

そこで、光東がアパーチャを通過しても光東平面10に
含まれているので、フェース内面4の投射した光は、光
束平面10とフェース内面4の交線上にあり、露光され
たストライプSは、この交線上で滑らかに連続する。か
くしてこの発明によれば、マスク1にこのような配列線
13を持つアパーチヤ2を配置することによって従来か
ら使用されてきた第3図で説明した如き幾何光学補正を
機械的に行なう非能率で複雑な構造の装置を用いること
なく、滑らかな連続ストライプを提供することが可能で
ある。
Therefore, even though the light beam passes through the aperture, it is included in the light beam plane 10, so the light projected by the face inner surface 4 is on the intersection line of the light flux plane 10 and the face inner surface 4, and the exposed stripe S is , continues smoothly on this intersection line. Thus, according to the present invention, by arranging the apertures 2 having such array lines 13 in the mask 1, it is possible to eliminate the inefficiency and complexity of mechanically performing geometric optical correction as explained in FIG. 3, which has been conventionally used. It is possible to provide smooth continuous stripes without using a device with a complex structure.

然も光源懐斜機構部及びシャツ夕7の移動機構部等の可
動部を持つ露光装置を必要とせず、シャツ夕7による狭
いスリット7aによる光の利用率の低下等が全くない露
光法が利用できるから高能率であって、しかも各種機構
を必要としない廉価な装置で良いため、量産時の設置台
数を非常に少なくでき、その上露光装置の価格が廉価で
あることは、設備費用の低減に著しい効果があり、それ
だけ製品価格の低減に役立つものである。更にアバーチ
ャ2をこの発明にかかる曲線配列とせしめることによっ
て、露光を受けたストライプはアパーチャ2の1ピッチ
単位で、補正を受けているためシャツタ開□部により露
光領域を制限した露光法によるストライプより飛躍的に
精度が向上し、それだけ良好なストライプ形状を持つ蟹
光体スクリーンを提供することが可能で、特にブラック
ストライプ型カラーブラウン管の品質を向上できる。ご
て現在、一般に行なわれているマスク板製造方法として
は、連続した金属平板に写真印刷技術を利用してアパー
チャの原図を転写し、化学的処理法によりアパーチャを
作り出している。
Moreover, an exposure method is used that does not require an exposure device having movable parts such as a light source tilting mechanism and a movement mechanism for the shirt cover 7, and there is no reduction in the light utilization rate due to the narrow slit 7a of the shirt cover 7. Because it can be used, it is highly efficient, and because it requires inexpensive equipment that does not require various mechanisms, the number of units installed during mass production can be extremely reduced.Furthermore, the low price of exposure equipment means that equipment costs can be reduced. This has a significant effect on the product and helps reduce the product price. Furthermore, by making the aperture 2 have a curved array according to the present invention, the exposed stripes are corrected in units of one pitch of the aperture 2, so that they are more accurate than stripes produced by an exposure method in which the exposure area is limited by the shutter opening. The precision is dramatically improved, and it is possible to provide a crab light screen with a better stripe shape, which in particular improves the quality of black stripe type color cathode ray tubes. Currently, the commonly used mask plate manufacturing method is to transfer an original pattern of apertures onto a continuous flat metal plate using photo printing technology, and then create apertures using a chemical treatment method.

そのため、マスク球面上にこの発明にかかるアパーチャ
配列を行なわせるための原図を作ることが本発明実施の
重要な問題である。そこで、第7図に示す球面マスク上
のアパーチャ配列線19のx軸を切る点22をpmo(
xmo、0、zmo)とするとき、pmoを通るy軸に
平行な面によって作られる大圏18は、成形された球面
マスク中心軸(z軸)の球面上の点23から点pmoの
円周上の長さをXoとすれば、平板マスク上で第9図に
示す如くマスク板1の原点23^より×軸上Xoの距離
にある点22″を通る直線18【となる。
Therefore, an important problem in implementing the present invention is to create an original pattern for arranging the apertures according to the present invention on the spherical surface of the mask. Therefore, the point 22 cutting the x-axis of the aperture array line 19 on the spherical mask shown in FIG.
xmo, 0, zmo), the great circle 18 created by the plane parallel to the y-axis passing through pmo is the circumference of the point pmo from point 23 on the spherical surface of the formed spherical mask center axis (z-axis). If the upper length is Xo, then a straight line 18 on the flat mask passes through a point 22'' located at a distance of Xo on the x axis from the origin 23^ of the mask plate 1, as shown in FIG.

この大圏18にきわめて近い範囲にある本発明にかかる
アパーチャ配列線19は、第7図において大圏18の接
円柱面2川こ投影された線21にほぼ等しい。
The aperture array line 19 according to the present invention, which is very close to the great circle 18, is approximately equal to the line 21 projected on the tangential cylindrical surface of the great circle 18 in FIG.

線21を含む綾円柱面20が第9図に示すようにXY座
標上に展開したとき球面上で大圏18である直線18^
上の1点p′から求めるァパーチャの配列線21^上の
1点pまでのX、Yの距離を求めることによって、この
配列線21rは決定される。そこでpmoを通る大圏1
8を導線とする円柱面を、第8図に示す如く新しい座標
系球′y′z′で定義するとき、大圏18をx′y′平
面上に、曲率の中心を座標原点に、点pmoをx鞠上に
あるものとする。
When the cylindrical surface 20 including the line 21 is developed on the XY coordinates as shown in FIG. 9, a straight line 18 which is the great circle 18 on the spherical surface
The array line 21r is determined by determining the distance in X and Y from one point p' on the aperture array line 21^ to the one point p on the aperture array line 21^. Therefore, great circle 1 passing through pmo
When defining a cylindrical surface with conductor 8 as a new coordinate system sphere 'y'z' as shown in Figure 8, the great circle 18 is placed on the x'y' plane, the center of curvature is the coordinate origin, and the point Let pmo be on x ball.

さて第7図において、大圏18を含む平面16と、この
発明にかかるアパーチヤ配列線19を含む光東平面17
のなす角を8とすれば、平面16と17の2つの平面が
、それぞれz軸とQ8角をなしているから8‘ま次式と
なる。
Now, in FIG. 7, a plane 16 including the great circle 18 and a light east plane 17 including the aperture array line 19 according to the present invention.
If the angle formed by is 8, the two planes 16 and 17 each form an angle Q8 with the z-axis, resulting in an 8' quadratic equation.

0=B−Q ■ ここでQ、8は、‘1’式【2}式により球面上の値で
与えられているから8‘ま次式となる。
0=B-Q ■Here, Q and 8 are given as values on the spherical surface by the '1' formula [2}, so it becomes an 8'-order formula.

8=ねn−1(Rm2一m票X蔓き2一Xm〆) ‘9
)そこで第8図の座標系において、アパーチャ配列線2
1′を含む平面17′は、大圏18′がXy′平面に含
まれていることから、傾き角が図示の通り−8角であり
、導線上の十x′軸を切る座標(Rm、0)の点22′
を含む平面となることから、光東平面17′はXy′z
′座標系において次式で与えられる。
8 = Ne n - 1 (Rm 2 1 m vote x Tsurugi 21 x m〆) '9
) Therefore, in the coordinate system of Fig. 8, aperture array line 2
Since the great circle 18' is included in the 0) point 22'
Therefore, the Koto plane 17' is Xy'z
′ coordinate system, it is given by the following equation.

Z′=−tan8・X′十Rmtan8
00ここで導線は半径Rmであるから、そのグラフ
は次式となる。
Z'=-tan8・X'0Rmtan8
00Here, since the radius of the conducting wire is Rm, its graph becomes the following equation.

x12十y12=Rm2 (11
)この導線上の1点をp′とし、この点を通る母線とこ
の発明にかかるアパーチャ配列線21′の交点をpとす
るとp′からpまでの距離pPは、z′値でありPの座
標が(x′y′)であれば‘IQ式より次式の関係とな
る。
x12 +y12=Rm2 (11
) If one point on this conducting wire is p', and the intersection of the generatrix passing through this point and the aperture array line 21' according to the present invention is p, then the distance pP from p' to p is the z' value, which is the value of P. If the coordinates are (x'y'), the 'IQ equation gives the following relationship.

pp′ニーtan8・x′十Rmはna (12)
円柱面20がマスク平板上に展開された時、第9図に示
すごとく展開された導線18″は前述の通り(ふ、0)
を通るから、p点のX座標は(12)式より次式となる
pp'knee tan8 x'10Rm is na (12)
When the cylindrical surface 20 is developed on the mask flat plate, the developed conductive wire 18'' as shown in FIG. 9 is as described above (fu, 0).
Since it passes through, the X coordinate of point p becomes the following equation from equation (12).

×=×。×=×.

一PPニふ十ねnOx′−Rmtan8 (13
)p点のY座標は、導線18′のx′軸を切る点22′
からp′までの周上の長さであり、次式となる。
1PP Nifuten nOx'-Rmtan8 (13
) The Y coordinate of point p is the point 22' that cuts the x' axis of the conductor 18'.
It is the length on the circumference from p' to p', and is expressed by the following formula.

Y:RmSin‐I論 (14) ここで(13)式(14)式より求められるx′y′は
第8図の導線上のp′点であることから点p(XY)は
次式の関係式となる。
Y: RmSin-I theory (14) Here, x'y' obtained from equations (13) and (14) is point p' on the conductor line in Figure 8, so point p(XY) is calculated by the following equation. It becomes a relational expression.

〆−Rmねna−X逆十(Sin煮)2=・(15)R
m2 tan20即ち、(15)式で表わされるグラフ
がこの発明実施にかかるマスク坂上のアパーチャ配列線
なのである。
〆-Rmnena-X reverse ten (Sin boiled) 2=・(15)R
m2 tan20, that is, the graph expressed by equation (15) is the aperture array line on the mask slope according to the present invention.

ただしtanaは、【9}式で与えられるが、Xmo、
ふは第7図の点pmoにかかわるx軸上の座標と、周の
長さであることから次の関係となり、ねnのまふの函数
として次式で求められる。
However, tana is given by formula [9}, but Xmo,
The relationship between the f and the circumferential length of the point pmo on the x-axis in FIG.

血=RmSin(誌) (16)例えば、球面マス
クの曲率半径Rm=80仇岬光源から球面マスクの中心
までの距離m=535側、アパーチャの配列線が×軸を
切る点がふ=190肋のときのアパーチャ配列線を求め
ると、(15)、(17)式より次のグラフとなる。
Blood = RmSin (magazine) (16) For example, the radius of curvature of the spherical mask Rm = 80. The distance from the light source to the center of the spherical mask is m = 535, and the point where the aperture array line cuts the x axis is F = 190 ribs. When the aperture array line is found, the following graph is obtained from equations (15) and (17).

竿害毒巽奉書艦十Si〆(毒。Poisonous Poison Tatsumi Hoshokan Ju Si〆 (Poison.

)=1 (18)次にこの(18)式の表わす近似アパ
ーチャ配列線21″と真の配列線19の誤差関係をマス
ク有効面の範囲で検討すると、2つの配列線が第7図に
おいて光東平面17に含まれていることから、誤差6X
は次式となる。6X=L−Rmtan−・(毒) (,
9)但し、Lは円柱面上における大圏18から近似ァパ
ーチャ配列線21までの最大値とする。
)=1 (18) Next, if we examine the error relationship between the approximate aperture array line 21'' and the true array line 19 expressed by equation (18) within the range of the effective mask surface, we can see that the two array lines are Since it is included in the east plane 17, the error is 6X.
is the following formula. 6X=L-Rmtan-・(poison) (,
9) However, L is the maximum value from the great circle 18 to the approximate aperture array line 21 on the cylindrical surface.

マスク有効面は次の通りである。lふlSI9仇岬 IYISI4仇吻 Lの最大をとる点は、Xo=190脚、Y=140帆で
あることから、このときのXの値は次の値となる。
The effective surface of the mask is as follows. Since the point where lflSI9仇嬬IYISI4仇吇L takes the maximum is Xo=190 feet and Y=140 sails, the value of X at this time is the following value.

X=184.4劫肋 故にLは、 L=190一184.49=5.51帆 (
20)誤差は(19)式と(20)式の値から求められ
る。
Since X = 184.4 kalpas, L is L = 190 - 184.49 = 5.51 sails (
20) The error is obtained from the values of equations (19) and (20).

6X二15,5I欄 −8岬ねn−・(船)l≦〇.物 故に誤差は0.01肋以下であって、近似アパーチャ配
列線21″は、実用上真のアパーチャ配列線19の展開
されたものとみなすことができる。
6X215, 5I column-8 Misaki n-・(ship) l≦〇. Therefore, the error is less than 0.01 square, and the approximate aperture array line 21'' can be regarded as an expansion of the true aperture array line 19 in practice.

以上この発明にかかるアパーチャ配列線について、マス
ク曲面が球面について説明を行なったがマスクが一般曲
面をなす場合でも、光東平面とマスク曲面の交線上にア
パーチャを配列することによってストライプは滑らかに
連続できる。
Regarding the aperture array line according to the present invention, the mask curved surface is a spherical surface. However, even when the mask has a general curved surface, the stripes can be smoothly continuous by arranging the apertures on the intersection line of the Koto plane and the mask curved surface. can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、ブラックストライプ型カラーブラウン管に使
用するシャドウマスクの一例を示す斜視図、第2図は、
補正されない光源によって形成された蟹光体ストライプ
乃至は、ブラックストライプの形状を示す正面図、第3
図は、従来用いられている補正装置による露光関係を示
す斜視図、第4図は、従釆の露光方法を説明する正面図
、第5図は、この発明にかかるアパーチャ配列線を説明
するための説明図、第6図は従来のアパーチャと投影像
の関係を表わす拡大平面図、第7図は、この発明の実施
にかかるアパーチャ配列を行なうため球面上のアパーチ
ャ配列線を展開する方法の説明図、第8図は、第7図の
展開法を単純化するため変換された座標系による説明図
、第9図は、この発明によって構成されたマスク坂上で
のアパーチャ配列線の説明図である。 1:シヤドウマスク、2:スロツテツドア/ぐーチャ、
3:ブリッジ部分、4:パネル、5:細長い光軸を持つ
光源、12,19:この発明によるカラーブラウン管に
使用されるスロッテッドアパーチャの配列線、13:従
釆のスロッテッドアパーチャの配列線、10,17:光
源の発光軸を含む光東の作る平面。 努′図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 努?図
Figure 1 is a perspective view showing an example of a shadow mask used in a black stripe type color cathode ray tube, and Figure 2 is a perspective view showing an example of a shadow mask used in a black stripe type color cathode ray tube.
Front view showing the shape of crab light stripes or black stripes formed by an uncorrected light source, 3rd
FIG. 4 is a perspective view showing the exposure relationship using a conventional correction device, FIG. 4 is a front view illustrating the secondary exposure method, and FIG. 5 is a perspective view illustrating the aperture array line according to the present invention. 6 is an enlarged plan view showing the relationship between a conventional aperture and a projected image, and FIG. 7 is an explanation of a method of developing aperture array lines on a spherical surface to perform aperture array according to the present invention. 8 is an explanatory diagram using a coordinate system converted to simplify the development method in FIG. 7, and FIG. 9 is an explanatory diagram of aperture array lines on a mask slope constructed according to the present invention. . 1: Shadow Mask, 2: Slots Door/Gucha,
3: bridge portion, 4: panel, 5: light source with an elongated optical axis, 12, 19: array line of slotted apertures used in the color cathode ray tube according to the present invention, 13: array line of slotted apertures of slave, 10, 17: Plane created by Koto including the light emission axis of the light source. Figure 2 Figure 3 Figure 5 Figure 6 Figure 7 Figure 8 Tsutomu? figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ブラウン管のパネル内面に設けられた球面をなすシ
ヤドウマスクの短軸(Y軸)方向に細長い発光軸を持つ
光源が螢光体ストライプ形成用の露光中心に置かれ、該
発光軸を含む光束の作る平面と、半径Rmの球面マスク
の曲率中心を含んだY軸方向に拡がりを持つ平面との、
マスクの球面上にあつて画面の中心から長軸(X軸)上
X_0の距離にある点における交差角をθとするとき、
次式の関係を満足する近似アパーチヤを配列線に沿つて
アパーチヤを配列した原図を形成し、該原図を金属平板
に転写してスロツテツドアパーチヤを形成し、次いで前
記金属平板を半径Rmの球面マスクに成形することを特
徴とするシヤドウマスクの製造方法。 ((X+Rmtanθ−X_0)^2)/(Rm^2t
an^2θ)+(sinY/(Rm))^2=1
[Scope of Claims] 1. A light source having an emitting axis elongated in the short axis (Y-axis) direction of a spherical shadow mask provided on the inner surface of the panel of a cathode ray tube is placed at the center of exposure for forming phosphor stripes, and the light emitting A plane formed by the light beam including the axis, and a plane extending in the Y-axis direction including the center of curvature of the spherical mask with radius Rm,
When the intersection angle at a point on the spherical surface of the mask at a distance of X_0 on the long axis (X axis) from the center of the screen is θ,
An original drawing of approximate apertures that satisfies the relationship of the following equation is formed, in which the apertures are arranged along the arrangement line, the original drawing is transferred to a metal flat plate to form a slotted aperture, and then the metal flat plate is transferred to a slotted aperture with a radius of Rm. A method for producing a shadow mask, characterized by forming it into a spherical mask. ((X+Rmtanθ-X_0)^2)/(Rm^2t
an^2θ)+(sinY/(Rm))^2=1
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