JPS60172144A - Electron gun structure - Google Patents

Electron gun structure

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Publication number
JPS60172144A
JPS60172144A JP2794284A JP2794284A JPS60172144A JP S60172144 A JPS60172144 A JP S60172144A JP 2794284 A JP2794284 A JP 2794284A JP 2794284 A JP2794284 A JP 2794284A JP S60172144 A JPS60172144 A JP S60172144A
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JP
Japan
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electron beam
cup
cathode
hole
electrode
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Expired - Lifetime
Application number
JP2794284A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazumasa Nomura
和正 野村
Takahiro Yugawa
湯川 孝博
Yasuhiro Tagawa
康弘 田川
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication of JPS60172144A publication Critical patent/JPS60172144A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/485Construction of the gun or of parts thereof

Abstract

PURPOSE:To obtain a stable highly precise cathode-ray tube by mechanically supporting a cup-like electrode body and a metallic pressing plate touching the outer surface of the terminal plate of said cup-like electrode by means of a common support strut through supporting pins. CONSTITUTION:A large diameter hole is formed in the center of the thick terminal plate 31 of a cup-like electrode body (G1a). Then a thin metallic plate 32 having an electron beam hole (h1) is welded to the terminal plate 31 in such a manner as to face the large diameter hole to the electron beam hole (h1). Next, a metallic pressing plate (G1b) having a hole (h) with a diameter sufficiently larger than electron beam holes (h1) and (h2) is brought into contact with the terminal plate 3 of the cup-like electrode body (G1a). The cup-like electrode (G1a) and the metallic pressing plate (G1b) are mechanically supported by burying the outer ends of their supporting pins 2 in a support strut 1. Owing to the above constitution, the shift of the electron beam hole (h1) of the terminal plate 3 in the axial direction is suppressed. As a result, the separation of the electron beam hole (h1) and a cathode (K) is maintained at a preset minute level.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、例えば1%11Ifj細度陰極線管に用いら
れる電子銃構体に係わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to an electron gun assembly used, for example, in a 1% 11Ifj fineness cathode ray tube.

背景技術とその問題点 陰極線管の電子銃は、例えば第1図に不ずように、カソ
ードに1第1グリツド電極Gt (制御電極)、第2グ
リツド電極G2 (加速電極)、更に主電子レンズ(図
示の例ではユニポテンシャル型電子レンズ)を構成する
第3グリツド電極G3(第1陽極)、第4グリツド電極
G4(集束電極)、及び第5グリツド電極Gs (第2
陽極)が順次配列され、第1〜第5グリツド電極01〜
G5が共通の支持柱すなわちビードガラス(11に夫々
各グリッド電極の外周面に溶接された支持ビン(2)の
各外端が埋込まれて相互に所定の位置関係が保持されて
連結されζ成る。hs、h2及びhsは夫々第1、第2
及び第3グリツド電極の電子ビーム通過イしを示す。
BACKGROUND ART AND PROBLEMS The electron gun of a cathode ray tube, for example, as shown in Fig. 1, has a cathode, a first grid electrode Gt (control electrode), a second grid electrode G2 (acceleration electrode), and a main electron lens. The third grid electrode G3 (first anode), the fourth grid electrode G4 (focusing electrode), and the fifth grid electrode Gs (second
anodes) are arranged sequentially, and the first to fifth grid electrodes 01 to
G5 is a common support pillar, that is, a bead glass (11), and each outer end of a support bottle (2) welded to the outer peripheral surface of each grid electrode is embedded and connected to each other while maintaining a predetermined positional relationship. hs, h2 and hs are the first and second
and shows the passage of the electron beam through the third grid electrode.

第1グリツド電極G1ば、カップ状電極より成り、その
端面板(3)に電子ビーム通過孔1i1が穿設されて成
る。カップ状電極は、例えば厚さ0.2mmの金属板を
絞り出し成型し゛ζ形成するが、その端面&(3)は、
カップ状電極自体による撮部(31)と、電子ビーム通
過孔h1を穿設する部分に溶接された例えば厚さ50μ
mの金属薄板(32)とによって構成し、ごの薄扱(3
2)に電子ビーム通過孔h1を穿設するごとによって、
微細な電子ビーム通過孔h1を面精度に穿設することが
できるようにしCいる。
The first grid electrode G1 consists of a cup-shaped electrode, and an electron beam passage hole 1i1 is formed in its end plate (3). The cup-shaped electrode is formed by drawing and molding a metal plate with a thickness of 0.2 mm, for example, and its end surface &(3) is
The imaging part (31) is made of the cup-shaped electrode itself, and the thickness is, for example, 50μ, welded to the part where the electron beam passage hole h1 is formed.
It consists of a thin metal plate (32) of
By drilling an electron beam passage hole h1 in 2),
The fine electron beam passage hole h1 can be formed with surface precision.

カソードには、カップ状の第1グリツド電極Gi内に配
置される。カソードには、例えば内部にヒータ(61が
収容配置されたカソードスリーブ(7)の上端に熱電子
放出体、例えばタングステンの多孔質焼結体にエミツタ
材が含浸されて成る含浸型のカソード体(8)が取着さ
れた傍熱型構成を採る。カップ状の第1グリツド電極G
l内には、例えばセラミックリング板より成る絶縁基板
(9)が、この絶縁基板(9)と端面板(3)との間に
スペーサα〔を介在させ°ζリテーナ(11)によって
支持される。基板(9)には透孔(12)が穿設され、
この透孔(12)内にカソードスリーブ(7)が挿通さ
れてこの状態でカソードスリーブ(7)が基り、(91
に機械的に支持される。カソードスリーブ(7)の基&
(91−1の支持は、基板(9)のFiMiに余ろう(
鑞)によって大径側開口端がろう付けされた漏斗状ボル
ダ−(13)の小径側開口部内に溶接されたスリーブ状
ホルダー(14)の上端にカソードスリーブ(7)が挿
入溶接されることによってなされる。
The cathode is disposed within a cup-shaped first grid electrode Gi. The cathode includes, for example, an impregnated cathode body (made of a thermionic emitter, for example, a porous sintered body of tungsten impregnated with an emitter material) at the upper end of the cathode sleeve (7) in which a heater (61 is housed). 8) has an indirectly heated configuration in which a cup-shaped first grid electrode G is attached.
In l, an insulating substrate (9) made of, for example, a ceramic ring plate is supported by a retainer (11) with a spacer α interposed between the insulating substrate (9) and the end plate (3). . A through hole (12) is bored in the substrate (9),
The cathode sleeve (7) is inserted into the through hole (12), and in this state, the cathode sleeve (7) rests, and the cathode sleeve (91)
mechanically supported. Base of cathode sleeve (7) &
(The support for 91-1 will be left over from the FiMi on the board (9).
By inserting and welding the cathode sleeve (7) into the upper end of the sleeve-shaped holder (14) welded into the small-diameter opening of the funnel-shaped boulder (13), the large-diameter opening end of which is brazed with solder (soldering). It will be done.

ところがこのようなカップ状第1グリツド電極G□によ
る電子銃におい°ζは、第2図に示すようにその動作時
、このグリッド電極G1が温度上昇して熱膨張すること
によって、その端面板(3)が実線図示の基i’(ji
状態から鎖線図ボのよう膨出するために、第1グリツド
電極G1の電子ビーム通過孔hlとカソードI(との間
の実質的な間隔が変化してしまう。このことは、近時、
特に要求されている高精細度の陰極線管においては、そ
の特性に大きな影響を与えるものである。すなわち、高
精細度陰極線管においては、特に電子ビームスポットの
径を小さくすることが要求され、これがため第1グリツ
ド電極Glの電子ビーム通過孔h1ば、充分小さくして
ビームを絞ることが行われる。ところがこのように、第
1グリツド電極G1の電子ビーム通過孔h1を小さくす
ると、カットオフ特性、及び電流特性の上から、第1グ
リツド電極G1の電子ビーム通過孔hlとカソードに間
の間隔d01を小さくすることが必要となる。
However, in an electron gun using such a cup-shaped first grid electrode G□, as shown in FIG. 3) is the group i'(ji
Since the electron beam bulges out from the state as shown by the dashed line box, the substantial distance between the electron beam passage hole hl of the first grid electrode G1 and the cathode I changes.
This has a great influence on the characteristics of cathode ray tubes, which are particularly required to have high definition. That is, in a high-definition cathode ray tube, it is particularly required to reduce the diameter of the electron beam spot, and for this reason, the electron beam passage hole h1 of the first grid electrode Gl is made sufficiently small to focus the beam. . However, when the electron beam passage hole h1 of the first grid electrode G1 is made smaller in this way, the distance d01 between the electron beam passage hole h1 of the first grid electrode G1 and the cathode is reduced in terms of cutoff characteristics and current characteristics. It is necessary to make it smaller.

すなわち、ビーム電流遮断カソード、電圧ずなわらカッ
トオフ電圧HKcoと、最大カソード電流MIKは、 紅Kco=A−M I K ’ = ・・+11の関係
を有するので、充分な輝度、すなわち充分大きなカソー
ド電流IKをとり出ずことができるようにMIKをでき
るだけ大とするには、カットオソ電)fEKcoができ
るだけ深いことが要求される。
In other words, the beam current cutoff cathode voltage, the cutoff voltage HKco, and the maximum cathode current MIK have the following relationship: Kco=A-MIK'=...+11, so if there is sufficient brightness, that is, a sufficiently large cathode In order to make MIK as large as possible so that the current IK can be taken out, it is required that the cut-off current (fEKco) be as deep as possible.

一方、このカットオフ電圧HKcoハ、の関係を有する
。ここにφは電子ビーム通過孔h1の経、d12は第1
及び第2グリッド電極間の間隔、tlは電子ビーム通過
孔h1の厚さ、すなわち端面板(3)の金属薄板(32
)の厚さである。これより明らかなように、電子ビーム
を絞り込んで、そのスポットを小さくしようとし°C電
子ビーム通過孔h1の径φを小さくすると、nKcoが
浅くなってしまう。そこで、電子ビーム通過孔h1の径
を小さくするにもかかわらず、深いEKcoを得るため
には、(2)式からEKcoに比較的大きく影響する厚
さtlと間隔aOt、特に厚さtlを小さくすることで
あるが、この厚さ1.は、機械的強度や電子ビーム通過
孔の加工上の問題から、これを薄くすることに制約があ
るので、この厚さtlを小さくすると共に第1及び第2
グリツド電極01及び02間の間隔dOZをも小さくす
ることが要求される。
On the other hand, this cutoff voltage HKco has the following relationship. Here, φ is the diameter of the electron beam passage hole h1, and d12 is the first diameter.
and the interval between the second grid electrodes, tl is the thickness of the electron beam passage hole h1, that is, the thin metal plate (32) of the end plate (3).
) thickness. As is clear from this, when the diameter φ of the °C electron beam passage hole h1 is reduced in an attempt to narrow down the electron beam and make its spot smaller, nKco becomes shallower. Therefore, in order to obtain a deep EKco despite reducing the diameter of the electron beam passage hole h1, it is necessary to reduce the thickness tl and the spacing aOt, especially the thickness tl, which have a relatively large influence on the EKco from equation (2). However, this thickness 1. Since there are restrictions on making this thin due to problems in mechanical strength and processing of the electron beam passage hole, the thickness tl is made small and the first and second
It is also required to reduce the distance dOZ between the grid electrodes 01 and 02.

また、カットオフ電圧EKcoは、これを深くするごと
によっ゛ζカソードのいわゆるワーキングエリアSを小
さくできるものであり、これによって電子ビームの発散
角θを小さくでき、ビームのスボソ1−サイスを小さく
する効果を得ることができる。
In addition, as the cutoff voltage EKco is increased, the so-called working area S of the ζ cathode can be made smaller, and thereby the divergence angle θ of the electron beam can be made smaller, and the width of the beam can be made smaller. You can obtain the effect of

ずなわら、カソードワーキングエリアSは、5=(ht
。の面積)XDr ・・・・(3)で与えられる。ここ
にDrはドライブ率で、このドライブ率Drは、 EKco 、1!Kc。
However, the cathode working area S is 5=(ht
. area)XDr... is given by (3). Here, Dr is the drive rate, and this drive rate Dr is EKco, 1! Kc.

ここにEKはカソード電圧、Edはドライブ電圧である
。したがゲてカットオフ電圧EKcoが深まれば、ドラ
イブ率Drは小さくなりカソードワーキングエリ′rS
は小さくなる。そして、dのようにカソードワーキング
エリアSが小さくなれば、電子ビームの発11に角θが
小さくなる。第3図及び第4図はこのワーキングエリア
の大小と電子ビームの発散角との関係をボしたもので図
中破線は等電位面を示している。Wl及びW2は夫々ワ
ーキングエリアの%tでwt >W2の関係にある。今
、ビーム電流が一定であるとすると、カソードにのワー
キングエリアから発射される電子の、カソードに一第1
グリッド電極G1−第2グリッド電極に2によるレンズ
糸によっ゛ζ形成されるクロスオーバポイントPからの
各発散角θ1及びθ2は、θ1〉θ2となる。
Here, EK is the cathode voltage and Ed is the drive voltage. However, as the cutoff voltage EKco deepens, the drive ratio Dr decreases and the cathode working area 'rS
becomes smaller. If the cathode working area S becomes smaller as shown in d, the angle θ at the emission 11 of the electron beam becomes smaller. 3 and 4 illustrate the relationship between the size of the working area and the divergence angle of the electron beam, and the broken lines in the figures indicate equipotential surfaces. Wl and W2 are each %t of the working area and have a relationship of wt > W2. Now, assuming that the beam current is constant, the electrons emitted from the working area of the cathode are
The divergence angles θ1 and θ2 from the crossover point P formed by the lens thread 2 between the grid electrode G1 and the second grid electrode are θ1>θ2.

このようにカットオフ電圧[!Kcoを小さくするとき
は、ワーキングエリアをも小さくでき、ビームの発II
&角を小さくできるのでビームのスポット経をより小さ
くすることができ、高精細度の陰極線管を得ることがで
きることになる。
In this way, the cutoff voltage [! When reducing Kco, the working area can also be reduced, and the beam emission II
& Since the angle can be made smaller, the beam spot diameter can be made smaller, making it possible to obtain a high-definition cathode ray tube.

上述したように、陰極線管の面精細度化には、その電子
銃構体のカットオフ電圧BKcoを深めることが望まれ
、これがためにカソードK及び第2グリッド電極間の間
隔d01を小さくすることが必要となるが、第2図で説
明したように、力・ノブ状グリッド電極G1による場合
、その端面板(3)が動作時に外方に膨出することによ
ゲて間隔(101が大となってしまって、EKcoが浅
くなってしまう。つまり陰極線管における精細度を低−
トさせ“ζしまう。
As mentioned above, in order to improve the surface definition of a cathode ray tube, it is desirable to deepen the cutoff voltage BKco of the electron gun assembly, and for this purpose, it is necessary to reduce the distance d01 between the cathode K and the second grid electrode. However, as explained in FIG. 2, when using the force/knob-shaped grid electrode G1, the end plate (3) bulges outward during operation, resulting in a gap (101 is large). As a result, the EKco becomes shallow.In other words, the definition of the cathode ray tube is lowered.
Let's put it away.

発明の目的 本発明は、上述した欠点を解消し、カソード及び第1グ
リッド電極間の間隔、すなわちカソード面と第1グリツ
ド電極に穿設された電子ビーム通過孔h1との間隔を動
作時においても、確実に初期の小なる間隔に保持し“乙
安定な乱積細度陰極線管を得ることができるようにした
電子銃構体を提供するものである。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned drawbacks and improves the distance between the cathode and the first grid electrode, that is, the distance between the cathode surface and the electron beam passage hole h1 formed in the first grid electrode, even during operation. The object of the present invention is to provide an electron gun assembly that can reliably maintain a small initial spacing and obtain a stable random density cathode ray tube.

発明の概要 本発明は、少くともカソードと、@1グリッド電極と、
第2グリツド電極とが順次配置されてなり、第1グリツ
ド電極は、電子ビーム通過孔を有する端面板を有するカ
ップ状電極本体とこの端面板の外面に当接させる抑え金
属体とより成り、カップ状電極本体と抑え金属体とは共
通の支持柱に支持ピンを介し°cB械的に支持されカソ
ードがカップ状電極本体内に電子ビーム通過孔に対向す
るように配置して構成する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides at least a cathode, an @1 grid electrode,
The first grid electrode is made up of a cup-shaped electrode body having an end plate having an electron beam passage hole, and a holding metal body that is brought into contact with the outer surface of the end plate. The cup-shaped electrode body and the holding metal body are mechanically supported by a common support column via support pins, and the cathode is arranged in the cup-shaped electrode body so as to face the electron beam passage hole.

実施例 本発明による電子銃構体の一例を第5図を参照して説明
する。この例においては、第1図で説明したと同様に、
カソードにと第1〜第5グリツド電極01〜G5が順次
配列されて成る場合で、第5図においC′NS1図と対
応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
Embodiment An example of an electron gun assembly according to the present invention will be described with reference to FIG. In this example, as explained in Figure 1,
In the case where the cathode and the first to fifth grid electrodes 01 to G5 are arranged in sequence, the parts in FIG. 5 corresponding to those in FIG.

本発明におい°ζは、第1グリツド電極GLを、特にカ
ップ状電極本体G1aと、これの端面板(3)の外向、
ずなわら第2グリツド電極G2側に当接する抑え金属体
Gzbとより構成する。カップ状電極本体Gsaの端m
1板[31は、例えばカップ状電極本体Cta自体の肉
厚の端面&(31)の中央部に大なる内径を有する透孔
(4)を穿設し、ごの透孔(4)に電子ビーム通過孔h
1の穿設部を構成する厚さ1.=50μMの金bA I
t9根(32)を溶接配置θして構成する。
In the present invention, °ζ defines the first grid electrode GL, in particular the cup-shaped electrode body G1a and the outward direction of the end plate (3) thereof;
It also includes a restraining metal body Gzb that comes into contact with the second grid electrode G2 side. End m of cup-shaped electrode body Gsa
1 plate [31, for example, has a thick end face of the cup-shaped electrode body Cta itself and a through hole (4) with a large inner diameter in the center of (31), and an electron is inserted into the through hole (4). Beam passage hole h
Thickness 1. =50 μM gold bA I
The t9 root (32) is configured by welding θ.

また、このカップ状電極本体01aの端面板(3)に抑
え金属体G11lを当接する。この抑え金属体Gxbは
肉厚の金属板より構成し得る。この金属体Gzbの電子
ビーム通過孔h1及びh2と対向する部分には、これら
電子ビーム通過孔hx及びh2より充分大なる径の透孔
りを穿設する。この金属体G1b及びカップ状電極本体
Qtaば、例えば同一金属材料の例えばステンレスのS
 U S 304 (8Nk −18Cr−残部Pe)
によって構成し得る。
Further, the holding metal body G11l is brought into contact with the end plate (3) of the cup-shaped electrode body 01a. This restraining metal body Gxb may be constructed from a thick metal plate. A through hole having a diameter sufficiently larger than the electron beam passage holes hx and h2 is bored in a portion of the metal body Gzb facing the electron beam passage holes h1 and h2. The metal body G1b and the cup-shaped electrode body Qta are made of the same metal material, for example, stainless steel.
US 304 (8Nk -18Cr - balance Pe)
It can be configured by

そしζ、この第1グリツド電極G1の、各カップ状電極
本体01aと抑え金属体Gtbの各外周向には、夫々支
持ヒン(2)を溶接し、各支持ピン(2)の外端を支持
柱、ずなわぢビードガラス(1)に埋込んで人々の機械
的支持がなされる。ここに第2〜第5グリツド電極02
〜G6と、第1グリツド電@4G1のカップ状電極本体
G1aと金属体Gzbとに対する支持ピン(2)の取付
は位置、したがってビードガラス(1)の配置W位置は
、電子銃の中心軸に対し等角間隔をもっζ、2本、或い
は3本配置し得る。
Then, ζ, support hinges (2) are welded to the outer peripheries of each cup-shaped electrode body 01a and the holding metal body Gtb of the first grid electrode G1, and support the outer ends of each support pin (2). Pillars are embedded in Zunawaji bead glass (1) to provide mechanical support for people. Here, the second to fifth grid electrodes 02
~G6, the mounting position of the support pin (2) to the cup-shaped electrode body G1a of the first grid electrode @4G1 and the metal body Gzb, and therefore the arrangement W position of the bead glass (1), are set to the central axis of the electron gun. On the other hand, ζ, two, or three can be arranged at equal angular intervals.

」−述したように第1グリツド電極G1の、その電子ビ
ーム通過孔h1を有する端面板(3)に仮状の抑え金属
体Gzbが当接配置された電子銃構体によれば、その動
作時、カソード側からの加熱によってカップ状の第1グ
リツド電極G1に温度上昇が生じてその端面板(3)が
膨出しようとし”ζも、その膨出側には金属体Gzbが
、ビードガラス(11に支持され°ζ配没されているご
とによって、その膨出が抑え込まれて抑制される。した
がって端面板(3)の電子ビーム通過孔h□の軸心方向
の変位が抑制され、これによってこの電子ビーム通過孔
hiとカソードに間の間隔d01は、予め設計された、
非動作時ないしは動作開始時の初期の微小間隔に保持さ
れる。
- As described above, according to the electron gun assembly in which the temporary holding metal body Gzb is disposed in contact with the end plate (3) of the first grid electrode G1 having the electron beam passage hole h1, during its operation. , a temperature rise occurs in the cup-shaped first grid electrode G1 due to heating from the cathode side, and its end plate (3) tends to bulge. 11, the bulge is suppressed and suppressed. Therefore, the displacement of the electron beam passage hole h□ of the end plate (3) in the axial direction is suppressed. The distance d01 between the electron beam passage hole hi and the cathode is designed in advance by
The interval is maintained at the initial minute interval during non-operation or at the start of operation.

尚、第5図にボした例では、金属体Grbが厚い板状体
をなす場合であるが、例えば第6図ないし第8図に夫々
下ず例のように、各金属体Gibをカップ状電極本体G
ta側に端面板(33)を有する比較的肉薄のカップ状
金属体によっ°C構成し、温度上昇に伴う熱膨張によっ
てその端面板(33)が、外側すなわちカップ状電極本
体G 1a’側に向っ′C膨出するようにし、抑え金属
体G1bの各端面板(33)のl:%膨張による膨出に
よる力によって本体Gtaの端面板(3)の膨出を抑え
込んで端面板(3)、したがって電子ビーム通過孔h1
が変位することなく初期の元位置に保持されるようにす
ることもできる。
In the example shown in FIG. 5, the metal body Grb is a thick plate-shaped body, but for example, as shown in the examples shown in FIGS. 6 to 8, each metal body Gib is shaped like a cup. Electrode body G
It is composed of a relatively thin cup-shaped metal body having an end plate (33) on the ta side, and the end plate (33) is formed on the outside, that is, on the cup-shaped electrode main body G 1a' side, due to thermal expansion due to temperature rise. The expansion of the end plate (3) of the main body Gta is suppressed by the force of the bulge caused by the l:% expansion of each end plate (33) of the holding metal body G1b. ), therefore the electron beam passing hole h1
It is also possible to maintain the initial position without being displaced.

尚、この場合、金属体Gzbは例えば第6図に不ずよう
に、比較的浅くするごとによってその熱容量を小さくし
、更にその面積を大とするごとによって、電極本体Gl
aの加熱時、この金属体Gtbの端面板(33)が本体
Gla側に向って効率良く膨出して、本体Ctaの端面
板(3)の膨出を確実に抑え込む大きな力が得られるよ
うになす。或いは第7図に示す例のように本体G1aと
金属体G1bとを同一材料によってほぼ同一形状、大き
さに形成することによって互いの端面板(33)及び(
31)が相M、に均等に膨出するようにして互いにこれ
ら膨出力が相殺するようにすることもできる。或いは例
えば第8図にネオように、空間的制約等から抑え金属体
G1bの面積を小さくする必要がある場合にGよ、抑え
金属体G1bを本体GxaO熱膨張率より人きむ)材料
より製出することによって小さい面積でも大きな膨出が
得られるようにし°ζ本体Gxaの端面板(3〉の膨出
の抑え込みを確実にできるようになし得る。例えば、本
体01aを42合金(42Ni I’e、熱膨張率α−
5,3X 1o−I′/ ”c )によつ′C作製し、
抑え金属体GsbをS U S 304 (8Ni −
L8Cr −Fe+α−16X 10−6/ ’C)に
よ10作製し得る。今、この構成において、第1グリツ
ド電極G1の電子ビーム通過孔+11を短辺が0.25
鮪、長辺が0.65mmの長方形状とし、これとカソー
ドにとの間の間隔aOtを70μmとした場合の電源投
入時からの動作時間と、カットオフ電圧1!Kcoとの
関係を初期値のEKcoを100%として測定したとこ
ろ第9し1中実線図示のように殆んど変動がみられなか
った。これに比し、従来構造のものは同図中破線図示の
ようにそのBKcoが大きく低ドしている。
In this case, as shown in FIG. 6, for example, the metal body Gzb is made relatively shallow to reduce its heat capacity, and by further increasing its area, the electrode body Gl
When heating the metal body Gtb, the end plate (33) of the metal body Gtb efficiently bulges toward the main body Gla, and a large force is obtained to reliably suppress the bulge of the end plate (3) of the main body Cta. Eggplant. Alternatively, as in the example shown in FIG. 7, the main body G1a and the metal body G1b are made of the same material and have substantially the same shape and size, so that the end plates (33) and (
31) can be made to bulge out evenly in the phase M, so that these bulging forces cancel each other out. Alternatively, for example, as shown in FIG. 8, if it is necessary to reduce the area of the holding metal body G1b due to spatial constraints, etc., the holding metal body G1b may be manufactured from a material whose thermal expansion coefficient is lower than the main body GxaO. By doing so, a large bulge can be obtained even in a small area, and the bulge of the end plate (3) of the main body Gxa can be reliably suppressed. For example, the main body 01a can be made of 42 alloy (42Ni I'e , thermal expansion coefficient α−
'C was prepared by 5,3X 1o-I'/'c),
Press the metal body Gsb to SUS 304 (8Ni −
10 can be prepared by L8Cr-Fe+α-16X 10-6/'C). Now, in this configuration, the short side of the electron beam passing hole +11 of the first grid electrode G1 is 0.25.
The tuna has a rectangular shape with a long side of 0.65 mm, and the distance aOt between it and the cathode is 70 μm. The operating time from power-on and the cutoff voltage 1! When the relationship with Kco was measured with the initial value of EKco as 100%, almost no fluctuation was observed as shown by the solid line in No. 9 and 1. In comparison, the BKco of the conventional structure is greatly reduced as indicated by the broken line in the figure.

尚、図示の例では、単ビーム電子銃構成とじた場合であ
るが共通のグリッド電極に対して複数のカソードが配置
される複ビーム電子銃構成とすることもできるし、電子
銃の構成も、上述したユニポテンシャル型に限られずパ
イボテンシャル型とするなど種々の構成を採ることがで
きる。
Although the illustrated example shows a single-beam electron gun configuration, it is also possible to use a double-beam electron gun configuration in which a plurality of cathodes are arranged with respect to a common grid electrode, and the electron gun configuration can also be It is not limited to the unipotential type described above, and various configurations such as a pipotential type can be adopted.

発明の効果 本発明は、上述したように動作時に、電子ビーム通過孔
を有する第1グリツド電極G1の端面板(3)の変位を
効果的に抑制したので、力・ノ1−オフ電圧の変動、特
にこれを浅くする変動を回避できるので、電子ビームス
ビット径が大となるような変動を回避でき、冷時、ビー
ムスポット径を所定の小なる径に保持できる。したがツ
′(、面精細度陰極線管に適用し°ζ安定したすぐれた
画像を得ることができる。
Effects of the Invention As described above, the present invention effectively suppresses the displacement of the end plate (3) of the first grid electrode G1 having the electron beam passage hole during operation, thereby reducing the fluctuation of the force/off voltage. In particular, since it is possible to avoid fluctuations that would make the beam spot shallower, it is possible to avoid fluctuations that would increase the electron beam spot diameter, and it is possible to maintain the beam spot diameter at a predetermined small diameter when it is cold. However, when applied to a high-resolution cathode ray tube, stable and excellent images can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の電子銃構体の路線的拡大断面図、第2図
はその説明図、第3y、l及び第4図は夫々カソードワ
ーキングエリア七ビーム発散角の関係を示す図、第5図
は本発明による電子銃構体の−例の路線的拡大11J+
面図、第6図ないし第8図は夫々本発明による電子銃構
体の他の例の要部の路線的拡大断面図、第9図はその特
性曲線図である。 Kばカソード、01〜G5ば第1〜第5グリツド電極、
(1)は支持柱、(2)は支持ピン、Gzaは第1グリ
ツドのカップ状電極本体、Gxbは金属体である。 同 松隈秀盛1・、、H:、’、l、、ζ。 If図
Figure 1 is an enlarged cross-sectional view of a conventional electron gun assembly, Figure 2 is an explanatory diagram thereof, Figures 3y, 1 and 4 are diagrams showing the relationship between seven beam divergence angles in the cathode working area, and Figure 5. is a linear enlargement of an example of an electron gun structure according to the present invention 11J+
FIGS. 6 to 8 are enlarged cross-sectional views of essential parts of other examples of the electron gun assembly according to the present invention, and FIG. 9 is a characteristic curve diagram thereof. K is a cathode, 01 to G5 are first to fifth grid electrodes,
(1) is a support column, (2) is a support pin, Gza is a cup-shaped electrode body of the first grid, and Gxb is a metal body. Same Hidemori Matsukuma 1, ,H:,',l,,ζ. If diagram

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 少くともカソードと、第1グリツド電極と、第2グリツ
ド電極とが順次配置され°ζなり、上記第1グリツド電
極は、電子ビーム通過孔を有する端面板を有するカップ
状電極本体と上記端面板の外面に当接させた抑え金属体
とより成り、上記カップ状電極本体と上記抑え金属体と
は共通の支持柱に支持ピンを介し゛ζ機械的に支持され
、上記カソードが上記カップ状電極本体内に上記電子ビ
ーム通過孔に対向するように配置されて成る電子銃構体
At least a cathode, a first grid electrode, and a second grid electrode are arranged in sequence, and the first grid electrode includes a cup-shaped electrode body having an end plate having an electron beam passage hole, and a cup-shaped electrode body having an end plate having an electron beam passage hole. The cup-shaped electrode body and the clamp metal body are mechanically supported by a common support column via a support pin, and the cathode is connected to the cup-shaped electrode body. an electron gun assembly disposed within the interior so as to face the electron beam passage hole;
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7409148B2 (en) 2004-11-08 2008-08-05 Sony Corporation Waterproof type electronic device

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