JPS5978428A - Mask for color picture tube - Google Patents

Mask for color picture tube

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JPS5978428A
JPS5978428A JP18815382A JP18815382A JPS5978428A JP S5978428 A JPS5978428 A JP S5978428A JP 18815382 A JP18815382 A JP 18815382A JP 18815382 A JP18815382 A JP 18815382A JP S5978428 A JPS5978428 A JP S5978428A
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mask
masks
picture tube
color picture
flat
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Eiji Kanbara
蒲原 英治
Kazuyuki Kiyono
和之 清野
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/80Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching
    • H01J29/81Arrangements for controlling the ray or beam after passing the main deflection system, e.g. for post-acceleration or post-concentration, for colour switching using shadow masks

Abstract

PURPOSE:To obtain a mask which provides no deformation and displacement and assures good insulation property by forming the of non-effective part of skirt and curved surface of mask in the opposing side among a plurality of masks thinner than the other part and by disposing an insulator to such portion. CONSTITUTION:A greater part 37 of the non-effective area 36 having no aperture provided at the periphery of effective area 35 having aperture 34 of the first flat mask 31 is formed thinner than the effective area 35 of the intrinsic flat mask by the half-etching process. An insulating film sheet 38 is placed on this thinner part 37, another second flat mask 40 having the reference holes 30 is also placed thereon through alignment with the reference pins 32. Finally an upper plate 41 is placed thereon. Thereby, the mask for a color picture tube which assures excellent insulation characteristics.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はスクリーン面に近接対向して複数枚のマスクを
それぞれ所定間隔を有して対向せしめ、且つ前記複数枚
のマスクの各アパーチャを電子ビームが通過するように
配置した構造なイ」するカラー受像管用マスクに関し、
特にそのマスク構造に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention comprises a plurality of masks that face each other at a predetermined distance from each other in close proximity to a screen surface, and each aperture of the plurality of masks is exposed to an electron beam. Concerning a color picture tube mask that has a structure that allows it to pass through,
In particular, it concerns the mask structure.

〔発明の技術的背景と問題点〕[Technical background and problems of the invention]

複数枚のマスク構造を有するカラー受像管としてはマス
ク集束型カラー受像管が良く知られている。
A mask focusing type color picture tube is well known as a color picture tube having a plurality of mask structures.

マスク集束型カラー受像管はB[定間隔を有して対向せ
しめた複数枚のマスクC二それぞれ所定の電位差を与え
、マスクの各アパーチャを通過する電子ビームに対して
静電レンズを形成させることによって電子ビームの利用
率を著るしく高めることができるもので、この様なマス
ク集束型カラー受像管は、例えば米国特許第2.971
.117号、米国特許第3.398.309号、特公昭
38−22030号公報、実公昭47−20451号公
報などに示されている。
A mask-focusing color picture tube consists of a plurality of masks C facing each other at regular intervals, each applying a predetermined potential difference to form an electrostatic lens for the electron beam passing through each aperture of the mask. The utilization rate of the electron beam can be significantly increased by this method, and such a mask focusing type color picture tube is disclosed in, for example, U.S. Pat. No. 2.971.
.. No. 117, US Pat. No. 3,398,309, Japanese Patent Publication No. 38-22030, Japanese Utility Model Publication No. 47-20451, etc.

また前記構造を有するカラー受像管の他の例としては特
公昭55−2698号公報、特開昭50−57575号
公報、実開昭48−93769号公報等に示されている
様な2枚マスク構成のカラー受像管がある。
Further, as other examples of color picture tubes having the above structure, there are two masks such as those shown in Japanese Patent Publication No. 55-2698, Japanese Patent Application Laid-open No. 57575-1982, Japanese Utility Model Application No. 93769-1983, etc. There is a color picture tube in the composition.

これは通常の1枚マスク構成のカラー受像管では、マス
クへの電子ビーム衝撃によってマスクが熱変形をおこし
電子ビームがスクリーン上の所定の螢光体を衝¥しない
ため謂ゆるミスランディングをおこし色純度が劣化して
しまうので、これを防ぐため2枚マスク構成として螢光
体の衝撃に不必要な電子ビームを1枚目のマスクで遮断
して色純度機能に重装な2枚目のマスクの温度上昇を極
力抑える様にしたものである。
This is because in a color picture tube with a normal one-mask configuration, the mask is thermally deformed due to the impact of the electron beam on the mask, and the electron beam does not hit the designated phosphor on the screen, causing so-called mislanding. In order to prevent this, the purity is degraded, so in order to prevent this, the first mask blocks unnecessary electron beams due to the impact of the phosphor, and the second mask is equipped with a heavy-duty color purity function. It is designed to suppress the temperature rise as much as possible.

前記マスク集束型カラー受像管や前記ミスランディング
防止のための2枚マスクを鳴するカラー受像管では、複
数枚のマスクの各アパーチャをマスク全面においてそれ
ぞれ対応させて配置した構造となさねばならないが、こ
の様な構造を有するマスクの製作は極めて困難である。
In the mask-focusing color picture tube and the color picture tube with two masks for preventing mislanding, the apertures of the plurality of masks must be arranged in correspondence with each other on the entire surface of the mask. It is extremely difficult to manufacture a mask having such a structure.

例えば特公昭47−8261号公報、特公昭47−28
188号公報などに上記構造を有するマスクの製作法が
提案されているが、これはマスク全面にアパーチャ部を
除いて絶縁体、例えばガラス絶縁体を配賦するためマス
クの成形性に欠けることや、上記絶縁体部にビーム衝撃
による帯電現象がおこりアパーチャ部を通過するビーム
(二恋影響な力える等実用性C二欠けるものである。
For example, Japanese Patent Publication No. 47-8261, Japanese Patent Publication No. 47-28
A method for manufacturing a mask having the above structure has been proposed in Publication No. 188, but this method involves distributing an insulator, such as a glass insulator, over the entire surface of the mask except for the aperture portion, which may result in poor formability of the mask. , a charging phenomenon occurs in the insulator section due to the beam impact, and the beam passes through the aperture section.

これに対し、平坦な複数枚のフラットマスクを重ね合せ
同時5ニブレス成形することによって複数枚のマスクの
各アパーチャをそれぞれ一対一(二正しく対応させるこ
とができる実用的なマスク成形法が特開昭57−138
746号に提案されている。
In contrast, a practical mask forming method has been proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-120001 that allows the apertures of the plurality of masks to correspond one-to-one by stacking a plurality of flat masks and performing five nibless molding at the same time. 57-138
No. 746 is proposed.

前記マスク成形法番二おいて通常のマスクと同様のプレ
ス成形を行ないマスクの周辺部謂ゆるスカート部を深く
折り込んだ場合、成形された複数枚マスクを所定間隔を
もって固定してもスカート部においては各成形マスクが
接触してしまう危険性がある。従って複数枚のマスクの
各々に異なった電位を印加することができないことや、
複数枚のマスクを同電位にするにしても各マスクが接触
しているため1枚のマスクの温度変化が他のマスクに迅
速に伝達してしまうこと等の問題が生ずる0この様な問
題を解消するためC:マスクのスカート部に予め絶縁体
を挿入しておく方法が考えられるが、複数枚のフラット
マスクを密着させて同時にプレス成形を行なう様な前記
マスク成形法においては、複数枚のマスクのそれぞれの
マスクの間に絶縁体を挿入すると絶縁体の厚みによるプ
レス成形時の変形や位置ずれの不都合が生ずる。
In the above-mentioned mask molding method No. 2, when press molding is performed in the same way as a normal mask, and the peripheral part of the mask, the so-called skirt part, is deeply folded, even if the plurality of molded masks are fixed at a predetermined interval, the skirt part will not work properly. There is a risk that each molded mask will come into contact with each other. Therefore, it is not possible to apply different potentials to each of multiple masks,
Even if multiple masks are made to have the same potential, since each mask is in contact with each other, problems such as temperature changes in one mask will be quickly transmitted to other masks will occur. To solve this problem, C: A method of inserting an insulator into the skirt portion of the mask in advance can be considered, but in the above-mentioned mask forming method in which multiple flat masks are pressed together and press-molded at the same time, If an insulator is inserted between the masks, the thickness of the insulator may cause deformation or misalignment during press molding.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、a数枚のマスクを密着させて同時にプ
レス成形しても変形や位置ずれがなく、且つ良好な絶縁
性を保持したカラー受像管用マスクを得るととにある。
An object of the present invention is to obtain a color picture tube mask that does not deform or shift in position even when a number of masks are brought into close contact with each other and press-molded at the same time, and that maintains good insulation properties.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明す伏数枚のマスクのうち少くとも1枚のマスクの
他のマスクとの対向面側のスカート部或はスカート部を
含み、且つ曲面上の非有効部の少くとも一部のマスクの
板厚を他の部分のマスク本来の板厚より薄く形成し、且
つその部分に絶縁体を配置することζ:よって、複数枚
のマスクを密着して同時プレス成形することを可能とし
、変形のない絶縁性良好なカラー受像管用マスクとする
ものである。
According to the present invention, at least one of the several masks includes a skirt portion on the side facing the other mask, or at least a portion of the ineffective portion on the curved surface. The thickness of the mask is made thinner than the original thickness of other parts of the mask, and an insulator is placed in that part.This makes it possible to press multiple masks closely together at the same time, reducing deformation. This is a color picture tube mask with good insulation properties.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下図面を参照しつつ本発明の実施例について詳細に説
明する。第1図は本発明(二より製作したマスクな゛適
用したカラー受像管の一例で、マスク集束型カラー受像
管の概略構成を示すものである。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is an example of a color picture tube to which the present invention (a mask made from the second method) is applied, and shows the schematic structure of a mask focusing type color picture tube.

第1図に示すマスク集束型カラー受像管は主としてスク
リーン面(1)をもつフェースプレート(2)と、前記
フェースプレート(2)の側壁部にファンネル(8)を
弁して連結されたネック(4)と、前記ネック(4)に
内装された電子銃(5)と、前記ファンネル(Illか
らネック(4)にかけての外壁に装着された偏向装f(
6)と、前記スクリーン(1)に所定間隔をもって対設
された多数のアパーチャ+14)を有するマスク(γ)
と、前記マスク(γ)から前記電子銃(6)側に所定間
隔をもって対設された多数のアパーチャ(I5)を有す
るマスク(8)と、前記ファンネル部(8)の内壁C二
前記ネック部(4)の一部寸で一様に塗布された導電膜
(9)とから構成されている。スクリーン面(1)には
メタルバックされた三色の螢光体(18)が規則正しく
配列されている。7エースプレート(2)の倒曲内壁に
はフレーム(16)を保持するビン(17)が設けてあ
り、フレーム(16)に溶接されている弾性体θ8)が
ビンa7) r二嵌合することによってフレーム06勝
(保持されている。フレーム(16)にはマスク(8)
が溶接1.制定されておりマスク(8)には接着剤(ユ
て他のマスク(7)が固定されている。
The mask focusing type color picture tube shown in FIG. 1 mainly consists of a face plate (2) having a screen surface (1), and a neck (2) connected to the side wall of the face plate (2) with a funnel (8). 4), an electron gun (5) built into the neck (4), and a deflection device f() mounted on the outer wall from the funnel (Ill) to the neck (4).
6) and a mask (γ) having a large number of apertures +14) arranged opposite to the screen (1) at predetermined intervals.
a mask (8) having a large number of apertures (I5) arranged oppositely at a predetermined distance from the mask (γ) toward the electron gun (6); and an inner wall C2 of the funnel portion (8) and the neck portion. (4) and a conductive film (9) uniformly coated with a certain dimension. Three-color metal-backed phosphors (18) are regularly arranged on the screen surface (1). A bin (17) that holds the frame (16) is provided on the bent inner wall of the 7 ace plate (2), and the elastic body θ8) welded to the frame (16) fits into the bin a7) r2. By this frame 06 wins (retained. Frame (16) has mask (8)
is welding 1. The other mask (7) is fixed to the mask (8) with adhesive.

ファンネル部(815二は2個のボタンα1.(20)
が埋め込まれており、1つのボタンα11は導電膜(9
)と接触し、もう1つのボタン(イ)は導電膜(9)と
絶縁されており外部より異なった電位が印加できる様l
二なっている。
Funnel part (8152 has two buttons α1. (20)
is embedded, and one button α11 has a conductive film (9
), and the other button (a) is insulated with a conductive film (9) so that different potentials can be applied from the outside.
It's two.

電子銃側のマスク(8)はフレーム(16)を介してコ
ネクタ(21)によってファンネル部に塗布された導電
膜(9)と接触していると同時にフレーム(10)及び
ビンa7)を介してスクリーン面(1)とも接触してお
り、外部よりアノード高電圧が印加されている。
The mask (8) on the electron gun side is in contact with the conductive film (9) applied to the funnel part by the connector (21) through the frame (16), and at the same time, through the frame (10) and via the bottle a7). It is also in contact with the screen surface (1), and a high anode voltage is applied from the outside.

一方スクリーン側のマスク(7)はコネクターによって
導電膜と絶縁されているボタン(社)と直接接触してお
り、外部からアノード高電圧より少し低い雷、圧が印加
されている。
On the other hand, the mask (7) on the screen side is in direct contact with the Button Co., Ltd., which is insulated from the conductive film by a connector, and a lightning voltage slightly lower than the anode high voltage is applied from the outside.

以上の構成において、電子銃(6)より発生した3本の
電子ビーム’Qo+ 、 DI) 、 (旧は偏向装置
(6)−より偏向され、一枚目のマスク(8)のアノ(
−チャ(15)を通りレンズ効果を受けながら二枚目の
マスク(γ)のアノく−チャQ→を通ってスクリーン面
(1)C到達し対応する螢光体を衝撃発光させる。従っ
て2枚のマスク(7)、 (81の各アパーチャに)、
05)はそれぞれ一対−C二対応していなければならな
い。この様に構成されたマスクの製作は例えば以下の方
法による。
In the above configuration, three electron beams 'Qo+, DI), (formerly deflected by the deflection device (6)-) generated from the electron gun (6) are deflected by the first mask (8).
-Cha (15), receives the lens effect, passes through the anode (Q) of the second mask (γ), reaches screen surface (1)C, and causes the corresponding phosphor to emit light by impact. Therefore two masks (7), (for each aperture of 81),
05) must have a one-to-C2 correspondence, respectively. A mask configured as described above can be manufactured, for example, by the following method.

第2図に示す様C二基準孔1’1tl)を有する平坦な
第1のフラットマスク131)を基準ビン(amを有す
る箱型の定板(83)の上に基準ピン132+と基準孔
(8fllを一致させて載せる。このとき第1のフラッ
トマスク(81)のアノく一チャ(州の存在する有効部
9mの周囲(二設けられたアパーチャの存在しない非有
効部(判の大部分(37)は、ハーフエツチングによっ
てその厚さが本来のフラットマスクの板厚である有効部
(至))の板厚より薄く形成されている。この薄肉部1
871 に絶縁体フィルムシート(881を載せ、つい
で同じく基準孔(判を有するもう1枚の駆2のフラット
マスクWζを基準ピンイaに合せて載せ、糸層に上板用
)を載せる。2枚のフラットマスク1llll、Mと上
板fl)は鉄板でまた定板(88)6ステンレスなどで
形成されている。
As shown in FIG. 2, a flat first flat mask 131) having two reference holes 1'1tl) is placed on a box-shaped fixed plate (83) having a reference pin 132+ and a reference hole (1'1tl). At this time, the first flat mask (81) is placed around the effective part 9m where the aperture is present (2) and the non-effective part where the aperture is not present (the majority of the size ( 37) is formed by half-etching so that its thickness is thinner than the thickness of the effective part (end), which is the original thickness of the flat mask.
Place the insulating film sheet (881) on 871, then place another flat mask Wζ of Kaku2 which also has a reference hole (size), aligning it with the reference pin a, and place the upper plate on the thread layer. 2 sheets The flat mask 1llll, M and the upper plate fl) are made of iron plate or fixed plate (88)6 stainless steel or the like.

前記箱型の定板(83Iの下にはヒーター■が、またそ
の下には電磁石−が設値されていて1足板の上に2枚の
フラットマスク如)、鴎及び上板…)を載せた后電磁石
(6))を動作させこれら3枚の鉄板を密着させる。そ
の后ヒーター晴を動作させ箱型の定板188)を含め3
枚の鉄板を加熱し、その后熱溶解したパラフィンに・)
を2枚のマスクのアパーチャ部に注入する。
The above-mentioned box-shaped fixed plate (under 83I there is a heater ■, and below it an electromagnet - is set, and there are two flat masks on one foot plate), a seagull and an upper plate...) The placed electromagnet (6) is operated to bring these three iron plates into close contact. After that, the heater was operated and the box-shaped fixed plate 188) was removed.
Heating a sheet of iron plate, then turning it into melted paraffin.)
is injected into the apertures of the two masks.

次いでヒーター囮を止め、マスクのアパーチャ部に注入
した前記パラフィン4$41が冷却して固形化した后電
磁石(ト))の動作を止める。その后パラフィンによっ
て密着固定された2枚のフラットマスク+1’lll、
Hを定板(88)より取り出す。この様にして製作され
た2枚のフラットマスクは、第3図6二示す様にそれぞ
れのマスクのアパーチャー、倒が正しく一対一に対応し
て配置され且つ2枚の7ラツトマスク1811.M打全
面において密着した状態で2枚のマスクのそれぞれのア
パーチャ例、60部にパラフィン淋)が充填固形化して
、2枚のフラットマスクは非有効部C二組縁フィルムシ
ート(囮を挾んでしっかりと固定されている。尚、第3
図は第2図におけるX−X断面図である。
Next, the heater decoy is stopped, and after the paraffin 4$41 injected into the aperture of the mask is cooled and solidified, the operation of the electromagnet (g) is stopped. After that, two flat masks + 1'lll that were tightly fixed with paraffin,
Take out H from the fixed plate (88). The two flat masks manufactured in this manner have the apertures and inclinations of each mask arranged in a correct one-to-one correspondence as shown in FIG. 3, and two 7-rat masks 1811. The apertures of each of the two masks are filled and solidified with 60 parts of paraffin in a state where they are in close contact with each other on the entire surface of the two flat masks. It is firmly fixed.In addition, the third
The figure is a sectional view taken along the line XX in FIG. 2.

この様1ユして製作された2枚のフラットマスクをプレ
ス成形によって同時に成形して第4図に示す様に一定の
曲率をもつ面1161とそれを支えるスカート部斬)を
有する形状とする。前記同時【ニブレス成形された2枚
のマスクは、その后マスクのアパーチャ部に殉、06)
に充填固形化しているパラフィン間を熱溶解又は化学的
溶解(例えばトリクレン液洗浄)により除去し、2枚の
マスクをずらしマスクの曲面部tia+を所定間隔C二
設定固定する。このときJ5;、形されたマスクのコー
ナ一部間1にはプレス歪による皺←Q)ができるので成
形された2枚のマスクをずらし易くするため一方のマス
クの4つのコーナ一部を予め除去したマスク構造として
おくこともできる。2枚のマスクの固定は、第3図6二
示す様にまず第2のマスク曲を予め治具に固定されたフ
レーム(醐に溶接固定し、次いで所定間隔だけずらした
第1のマスク(81)を第2のマスク―又d゛フレーム
リ0)へ接着剤等で固定すればよい。第5図は第4図の
Z−Z断面を示す。
The two flat masks produced in this manner are simultaneously press-molded to form a shape having a surface 1161 with a constant curvature and a skirt portion supporting the surface 1161, as shown in FIG. At the same time [the two nibless-molded masks were later destroyed in the aperture part of the mask, 06]
The space between the paraffins filled and solidified is removed by thermal dissolution or chemical dissolution (for example, washing with a trichloride solution), the two masks are shifted, and the curved surface portions tia+ of the masks are set and fixed at a predetermined interval C2. At this time, wrinkles ←Q) are formed between some of the corners of the shaped mask due to press distortion, so in order to make it easier to shift the two molded masks, some of the four corners of one mask are cut in advance. It is also possible to leave the mask structure removed. To fix the two masks, first, as shown in Fig. 3, the second mask curve is welded to the frame (frame 81) fixed to the jig, and then the first mask (81 ) may be fixed to the second mask or d frame frame 0) with adhesive or the like. FIG. 5 shows a Z-Z cross section of FIG. 4.

前ロ1:実施例の詳細な仕様は例えば以下の様になる。Part 1: Detailed specifications of the embodiment are as follows, for example.

フラットマスクの外形は第1のフラットマスク(31)
が約421 X 328 m 、第2の7ラツトマスク
顛が約423 X 330 m 、板厚は第1.第2の
フラットマスク共に本来の鉄板の板厚が0.3 m 、
第1のフラットマスクの薄肉部飯)の板厚は0.2 m
 、絶縁体フィルムシート■の厚さは0.1 m 、成
形された第1のマスクのスカート部(ロ)の長さは約1
5鞘1曲面上の絶縁体フィルムシートの幅は約311J
である。
The outline of the flat mask is the first flat mask (31)
is about 421 x 328 m, the second 7-rat mask size is about 423 x 330 m, and the plate thickness is the same as the first. The original thickness of the iron plate for both the second flat mask is 0.3 m,
The thickness of the thin part of the first flat mask is 0.2 m.
, the thickness of the insulating film sheet (■) is 0.1 m, and the length of the skirt portion (b) of the molded first mask is approximately 1 m.
The width of the insulating film sheet on the curved surface of 5 sheaths is approximately 311J
It is.

オた成形された2枚のマスクの曲面部の間隔1d0.5
緒である。絶縁体フィルムシートとしてはポリイミド系
フィルムシートを用いている。
The distance between the curved parts of two over-molded masks is 1d0.5
It's the same. A polyimide film sheet is used as the insulating film sheet.

とのill二して製作された2枚マスク構成のものtl
、2枚のマスクがスカート部において絶縁体フィルムシ
ートによって絶縁され、2枚のマスクに異なった電圧を
容易に印加するととができる。また絶縁体フィルムシー
) 6Mがスカート部W!+のみならず曲面上@句の一
部まで延びていることからこの部分で2枚のマスク間の
沿面距離を稼ぐことができるという利点をも有する。
The one with two mask composition made by illumination with
, the two masks are insulated by an insulating film sheet at the skirt portion, and different voltages can be easily applied to the two masks. Also, the insulating film sheet) 6M is the skirt part W! Since it extends not only to the + but also to a part of the @ phrase on the curved surface, this part has the advantage of increasing the creepage distance between the two masks.

以上の実施例では絶縁体フィルムシートの厚さが第1の
フラットマスクの薄肉部のハーフエツチングされた厚さ
と同等としたが、本発明けこれに限らずハーフエツチン
グされた厚さが絶縁体フィルムシートの厚さより厚くて
もよい。この場合C二は他の金属で全厚さを一定とする
こともできる。
In the above embodiments, the thickness of the insulating film sheet was set to be equal to the half-etched thickness of the thin part of the first flat mask, but the present invention is not limited to this. It may be thicker than the sheet thickness. In this case, C2 can be made of another metal and the total thickness can be made constant.

一般にフラットマスクにハーフエツチングを行なうとき
には有効部のアパーチャをエツチングするときと同時に
行なうためハーフエツチングの量は有効部のアパーチャ
のエツチングの進み具合1−よって大きく影響される。
Generally, when half-etching a flat mask, it is performed at the same time as etching the apertures in the effective area, so the amount of half-etching is greatly influenced by the progress of etching the apertures in the effective area.

このため必ずしもこのハーフエツチングの量を絶縁体フ
ィルムシートの厚さと同じε二することはできないので
エツチング保さに応じて上記のように調整するとよい。
Therefore, it is not necessarily possible to make the amount of half-etching equal to the thickness of the insulating film sheet, so it is preferable to adjust it as described above depending on the etching retention.

また前記実施例では第1のフラットマスクの方にハーフ
エツチングによる薄肉部を設けているが、本発明はこオ
Ll−限らず第2のフラットマスクの方に薄肉部を設け
ても良いことは1う迄もない。
Further, in the above embodiment, the thin wall portion is provided on the first flat mask by half etching, but the present invention is not limited to this, and the thin wall portion may be provided on the second flat mask. It's not even until 1.

前記実施例では2枚のフラットマスクのそれぞれのアパ
ーチャを一対一に対応させ磁力によって密着させパラフ
ィンl二よって固定しているカ、本発明幻これζ二限ら
れるものではkく特に磁力やパラフィンを用いなくても
例えば特開昭57−138746号公報に記載されてい
る様な方法でもよい。
In the above embodiment, the apertures of the two flat masks are placed in a one-to-one correspondence, brought into close contact with each other by magnetic force, and fixed with paraffin. Even if it is not used, a method such as that described in JP-A-57-138746, for example, may be used.

さらに前記実施例ではマスク集束型カラー受像管f二本
発明のマスク構造を適用した例であるが、本発明はこれ
に限らず前述した様なマスクの熱変形によるミスランデ
ィング防止用2枚マスク構成のマスクにも適用すること
ができる。
Furthermore, although the above embodiment is an example in which the mask structure of the present invention is applied to the mask focusing type color picture tube f2, the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to this, but the present invention is also applicable to a two-mask structure for preventing mislanding due to thermal deformation of the mask as described above. It can also be applied to masks.

ま永前記実施例では2枚マスク構成について述べている
が本発明はこれに限らず複数枚のマスク構成の場合にも
適用できることは貫う迄もない。
Although the above embodiment describes a two-mask configuration, the present invention is not limited to this, but it goes without saying that it can also be applied to a plurality of mask configurations.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の様に本発明によれば、複数枚のフラットマスクの
それぞれのマスクの間に予め絶縁体フィルムシートを設
fif L、たまま複数枚のフラットマスクを沖ね合せ
全面均一の厚さとし同時1ニブレス成形してもそれぞれ
のマスクを1h、気的に接触させるとと々く所定間隔に
固定保持することができ、実用性に富んだ複数枚マスク
構成のカラー受像管を得ることができる。
As described above, according to the present invention, an insulating film sheet is set in advance between each of a plurality of flat masks, and then the plurality of flat masks are laid together to form a uniform thickness over the entire surface. Even with nibless molding, if each mask is brought into gas contact for 1 hour, it can be fixed and held at a predetermined interval, and a highly practical color picture tube having a multi-mask configuration can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明を適用したカラー受像管の一例を示す概
略構成図、第2図は本発明を説明するためのマスクの組
立法を示す概略分解組立図、第3図は第2図のX−X断
面図、第4図はプレス成形層のマスクの概観図、第5図
は複数マスクの組立を説明するための概略断面図である
。 31・・・第1のマスク  36・・・非有効部37・
・・薄肉部  38・・・絶縁体フィルムシート40・
・・第2のマスク
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a color picture tube to which the present invention is applied, FIG. 2 is a schematic exploded assembly diagram showing a method of assembling a mask to explain the present invention, and FIG. XX sectional view, FIG. 4 is a general view of the mask of the press molding layer, and FIG. 5 is a schematic sectional view for explaining the assembly of a plurality of masks. 31... First mask 36... Ineffective part 37.
・Thin wall part 38 ・Insulator film sheet 40・
・Second mask

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] それぞれ一定の曲面上に多数のアパーチャを有する有効
部及びその周囲にアパーチャの存在しない非有効部を有
し且つそれらを保持するスカート部とからなる複数枚の
マスクを所定IMJ隔をもって固定保持したカラー受像
管用マスクにおいて、前−QiL複数枚のマスクのうち
少なくとも1枚のマスクの他のマスクとの対向面側の前
記スカート部或いは前記スカート部を含み且つ前記曲m
i上の前記非有効部の少なくとも一部のマスクの板厚を
他の部分のマスク本来の板厚より薄く形成し且つその部
分C二絶縁体が配置されていることを特徴とするカラー
受像管用マスク。
A collar in which a plurality of masks are fixedly held at a predetermined IMJ interval, each consisting of an effective part having a large number of apertures on a certain curved surface and a skirt part that has an ineffective part around which there is no aperture and holds them. In the picture tube mask, the front-QiL includes the skirt portion of at least one of the plurality of masks on the side facing the other mask, or the skirt portion and the curve m
For a color picture tube, characterized in that the thickness of at least a part of the mask in the ineffective part on i is formed to be thinner than the original thickness of the mask in other parts, and an insulator is disposed in that part C. mask.
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