JPH1173614A - Thin film magnetic head using ferrum based metal glass alloy - Google Patents

Thin film magnetic head using ferrum based metal glass alloy

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JPH1173614A
JPH1173614A JP9235278A JP23527897A JPH1173614A JP H1173614 A JPH1173614 A JP H1173614A JP 9235278 A JP9235278 A JP 9235278A JP 23527897 A JP23527897 A JP 23527897A JP H1173614 A JPH1173614 A JP H1173614A
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JP
Japan
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thin film
magnetic
effect element
magnetic field
film
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9235278A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Mizushima
隆夫 水嶋
Teruhiro Makino
彰宏 牧野
Akihisa Inoue
明久 井上
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a magnetic impedance effect element thin film comprising a Fe-based metal glass alloy which shows ferromagnetism at a room temp. and a magnetic impedance effect, by using a Fe-based metal glass alloy which has specified or larger temp. difference in a supercooled liquid state expressed by a specified formula. SOLUTION: The Fe-based metal glass alloy essentially consists of Fe and contains other metal elements and semimetal elements. The temp. interval in its supercooled liquid state is expressed by ΔTx=Tx-Tg (wherein Tx is the initiation temp. of crystallization and Tg is the glass transition temp.). As for the metals, one or more kinds of Al, Ga, In, Sn are used. As for semimetals, one or more kinds of P, C, B, Ge are used. The Fe-based metal glass alloy has >=20 K temp. interval ΔTx in its supercooled liquid state, and has 35 to 60 K or more depending on the compsn., and shows magnetism at a room temp. The alloy exhibits better magnetism by heat treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属ガラスからな
る磁気インピーダンス効果素子薄膜を利用した薄膜磁気
ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin-film magnetic head using a magneto-impedance effect element thin film made of metallic glass.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年において、コンピュータの外部記憶
装置であるハードディスクや、デジタルオーディオテー
プレコーダ、デジタルビデオテープレコーダ等に代表さ
れる磁気記録装置は、一層の小型化とともに、記録密度
の向上が要望されている。上述の要望に対応するために
は、磁気ヘッドの高性能化が不可欠であり、最近では、
再生ヘッドに磁気抵抗素子(以下MR素子と略記す
る。)を用いた磁気ヘッドが開発されている。MR素子
を用いた磁気ヘッドは、記録媒体との相対速度の依存性
が無く、低い相対速度での記録信号の読み出しに向いて
いるが、記録媒体の記録磁化の変化に対する抵抗変化率
が低いために出力信号の感度が低いので、将来の更なる
高密度化への対応が難しいという課題がある。
2. Description of the Related Art In recent years, magnetic recording devices such as a hard disk, a digital audio tape recorder, and a digital video tape recorder, which are external storage devices of a computer, are required to be further miniaturized and have an improved recording density. ing. In order to respond to the above demands, it is essential to improve the performance of magnetic heads.
A magnetic head using a magnetoresistive element (hereinafter abbreviated as MR element) as a reproducing head has been developed. A magnetic head using an MR element has no dependency on the relative speed with respect to the recording medium and is suitable for reading a recording signal at a low relative speed, but has a low resistance change rate with respect to a change in the recording magnetization of the recording medium. However, since the sensitivity of the output signal is low, there is a problem that it is difficult to cope with further higher density in the future.

【0003】そこで、最近注目を集めているのが、磁気
インピーダンス効果(Magneto-Impedance Effect:MI
効果)を有する素子(磁気インピーダンス効果素子:M
I効果素子)である。磁気インピーダンス効果(MI効
果)とは、ワイヤ状またはリボン状の磁性体に電源から
MHz帯域の交流電流を印加し、この状態で磁性体の長
さ方向に外部磁界を印加すると、外部磁界が数ガウス程
度の微弱磁界であっても、磁性体の両端に素材固有のイ
ンピーダンスによる電圧が発生し、その振幅が外部磁界
の強度に対応して数10%の範囲で変化する、すなわち
インピーダンス変化を起こす現象をいう。従来のMR素
子の磁気検出感度が0.1 Oe程度であるのに対し、磁
気インピーダンス効果を有する素子(MI効果素子)
は、10-5 Oe程度の磁化を検出することが可能であ
ることから、高感度の磁気ヘッドとしての応用が期待さ
れている。
[0003] Recently, attention has been focused on a magneto-impedance effect (MI).
(Magnetic impedance effect element: M)
I effect element). The magnetic impedance effect (MI effect) means that when an alternating current in the MHz band is applied from a power supply to a wire-shaped or ribbon-shaped magnetic material and an external magnetic field is applied in the length direction of the magnetic material in this state, the external magnetic field becomes several Even with a weak magnetic field of the order of Gauss, a voltage is generated at both ends of the magnetic material due to the impedance inherent in the material, and the amplitude changes within a range of several tens of percent corresponding to the strength of the external magnetic field. A phenomenon. While the magnetic detection sensitivity of the conventional MR element is about 0.1 Oe, an element having a magnetic impedance effect (MI effect element)
Is capable of detecting about 10 −5 Oe of magnetization, and is therefore expected to be applied as a high-sensitivity magnetic head.

【0004】また、従来から本発明者らは、種々の合金
の開発を進めており、この合金開発のテーマの1つとし
て金属ガラスの研究を行っている。従来から多元素合金
のある種のものは、結晶化の前の過冷却液体の状態にお
いてある広い温度領域を有し、これらは、金属ガラス合
金(glassy alloy)を構成するものとして知られてい
る。そして、この種の金属ガラス合金は、従来公知の液
体急冷法で製造したアモルファス合金の薄帯に比べては
るかに厚いバルク状の合金となることも知られている。
例えば従来、このような金属ガラス合金として、Ln-
Al-TM、Mg-Ln-TM、Zr-Al-TM、Hf-A
l-TM、Ti-Zr-Be-TM(ただしLnは希土類元
素、TMは遷移金属を示す。)系等の組成のものが知ら
れている。
The present inventors have been developing various alloys, and have been studying metallic glass as one of the themes of the alloy development. Conventionally, certain types of multi-element alloys have a wide temperature range in the supercooled liquid state prior to crystallization, and these are known to constitute metallic glassy alloys . It is also known that this kind of metallic glass alloy becomes a bulk alloy much thicker than a thin ribbon of an amorphous alloy manufactured by a conventionally known liquid quenching method.
For example, conventionally, as such a metallic glass alloy, Ln-
Al-TM, Mg-Ln-TM, Zr-Al-TM, Hf-A
Compositions such as l-TM and Ti-Zr-Be-TM (where Ln represents a rare earth element and TM represents a transition metal) are known.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ここで各種の組成の合
金において、過冷却液体状態を示すとしても、これらの
過冷却液体の温度間隔ΔTx、即ち、結晶化開始温度
(Tx)と、ガラス遷移温度(Tg)との差、即ち、(T
x−Tg)の値は一般に小さく、現実的には、金属ガラス
形成能に乏しく、実用性のないものであることを考慮す
ると、前記の通りの広い過冷却液体の温度領域を持ち、
冷却によって金属ガラスを構成することのできる合金の
存在は、従来公知のアモルファス合金の薄帯としての厚
さの制約を克服可能なことから、冶金学的には大いに注
目されるものである。また、合金が大きなΔTxを有す
ることはスパッタリング等の手段により合金薄膜を形成
する際に、広い成膜条件での成膜が可能となり、工業的
に有用である。しかし、工業材料として発展できるか否
かは、室温で強磁性を示す金属ガラス合金の発見が鍵と
なっている。しかしながら、従来知られているこれらの
金属ガラス合金は、いずれも、室温において磁性を持つ
ことはなく、この点において磁性材料として見た場合に
工業的には大きな制約があった。従って、従来より室温
で磁性を有し、厚いバルク状のものを得ることができる
金属ガラス合金の研究開発が進められていた。このよう
な背景に基づいて研究を進めた結果、本発明者らは、室
温で強磁性を有するとともに、MI効果をも示す金属ガ
ラスを発見し、本願発明に到達した。
In THE INVENTION solve problems you try Here alloys various compositions, even showing a supercooled liquid state, the temperature interval [Delta] T x of these supercooled liquid, i.e., a crystallization starting temperature (T x), Difference from the glass transition temperature (T g ), that is, (T g
x −T g ) is generally small, and in reality, has a wide supercooled liquid temperature range as described above, considering that it has poor metallic glass forming ability and is not practical.
The existence of an alloy capable of forming a metallic glass by cooling is of great interest in metallurgy since it can overcome the thickness limitation of a conventionally known amorphous alloy as a ribbon. Further, when the alloy has a large ΔT x , it is possible to form a film under a wide range of film forming conditions when forming an alloy thin film by means such as sputtering, which is industrially useful. However, whether it can be developed as an industrial material depends on finding a metallic glass alloy that exhibits ferromagnetism at room temperature. However, none of these conventionally known metallic glass alloys has magnetism at room temperature, and in this regard, when viewed as a magnetic material, there is a great industrial limitation. Therefore, conventionally, research and development of a metallic glass alloy which has magnetism at room temperature and can obtain a thick bulk material has been promoted. As a result of conducting research based on such a background, the present inventors have found a metallic glass having ferromagnetic properties at room temperature and also exhibiting the MI effect, and have reached the present invention.

【0006】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、室温で強磁性を示し、MI効果を示す金属ガラス合
金からなる薄膜を外部磁界検出用として用いた薄膜磁気
ヘッドを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a thin film magnetic head using a thin film made of a metallic glass alloy which exhibits ferromagnetism at room temperature and exhibits the MI effect for detecting an external magnetic field. And

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、ΔTx=Tx−Tg(ただし、Txは結晶化開
始温度、Tgはガラス遷移温度を示す。)の式で表され
る過冷却液体の温度間隔ΔTxが20K以上のFe基金
属ガラス合金を主体としてなり、外部磁界によってイン
ピーダンスの変化を生じる磁気インピーダンス効果素子
薄膜を外部磁界検出用として備えたことを特徴とする。
本発明は、磁気媒体に媒体対向面を向けて相対移動する
スライダに書込ヘッドと読出ヘッドが設けられ、前記書
込ヘッドが薄膜状の上部コアと下部コアとそれらの間に
介在された磁気ギャップとコイル導体とを具備する磁気
誘導型構造とされ、前記読出ヘッドが磁気インピーダン
ス効果素子薄膜とこのインピーダンス効果素子薄膜に接
続された電極膜を具備して構成されたことを特徴とす
る。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, ΔT x = T x -T g (where T x indicates a crystallization start temperature and T g indicates a glass transition temperature). The temperature interval ΔT x of the supercooled liquid represented by the formula is mainly composed of an Fe-based metallic glass alloy having a temperature of 20 K or more, and a magneto-impedance effect element thin film that changes impedance by an external magnetic field is provided for detecting an external magnetic field. Features.
According to the present invention, a write head and a read head are provided on a slider that relatively moves toward a medium facing surface toward a magnetic medium, and the write head is a thin film-shaped upper core and lower core and a magnetic head interposed therebetween. The magnetic head has a magnetic induction type structure including a gap and a coil conductor, and the read head includes a magneto-impedance effect element thin film and an electrode film connected to the impedance effect element thin film.

【0008】本発明は前記構造において、前記磁気イン
ピーダンス効果素子薄膜にバイアス印加手段が付設され
てなることを特徴とする。本発明において前記バイアス
印加手段が、前記磁気インピーダンス効果素子薄膜に接
続された永久磁石からなるものでも良い。更に本発明に
おいて、前記バイアス印加手段が、前記磁気インピーダ
ンス効果素子薄膜に積層された強磁性体薄膜と、この強
磁性体薄膜に積層された反強磁性体薄膜とを具備して構
成され、前記バイアスが前記反強磁性体薄膜により前記
強磁性体薄膜に誘起させた交換結合磁界により印加され
てなるものでも良い。
The present invention is characterized in that in the above structure, a bias applying means is provided on the magneto-impedance effect element thin film. In the present invention, the bias applying means may be composed of a permanent magnet connected to the magneto-impedance effect element thin film. Further, in the present invention, the bias applying means comprises a ferromagnetic thin film laminated on the magneto-impedance effect element thin film, and an antiferromagnetic thin film laminated on the ferromagnetic thin film, A bias may be applied by an exchange coupling magnetic field induced in the ferromagnetic thin film by the antiferromagnetic thin film.

【0009】本発明において、前記Fe基軟磁性金属ガ
ラス合金が、Fe以外の他の金属元素と半金属元素とを
含有することが好ましい。本発明において、半金属元素
として、P、C、B及びGeのうちの少なくとも1種以
上を含有してなることが好ましい。本発明において、半
金属元素として、P、C、B及びGeのうちの少なくと
も1種以上およびSiを含有してなることが好ましい。
本発明において、他の金属元素が、周期律表IIIB族
及びIVB族の金属元素のうちの少なくとも1種以上で
あることが好ましい。本発明において、他の金属元素
が、Al、Ga、In及びSnのうちの少なくとも1種
以上であることが好ましい。従って本発明は、前記Fe
基金属ガラス合金がFe以外の他の金属元素と半金属元
素を含有してなり、前記他の金属元素としてAl、G
a、In、Snのうちの1種または2種以上が含有さ
れ、前記半金属元素としてP、C、B、Geのうちの1
種または2種以上が含有されてなることを特徴とする。
In the present invention, the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy preferably contains a metal element other than Fe and a metalloid element. In the present invention, it is preferable that at least one of P, C, B and Ge is contained as a metalloid element. In the present invention, it is preferable that at least one of P, C, B and Ge and Si and the metalloid element are contained.
In the present invention, it is preferable that the other metal element is at least one or more of metal elements belonging to Groups IIIB and IVB of the periodic table. In the present invention, the other metal element is preferably at least one of Al, Ga, In, and Sn. Therefore, the present invention
The base metal glass alloy contains a metal element other than Fe and a metalloid element, and the other metal elements include Al, G
a, In, or Sn, one or more of P, C, B, and Ge as the metalloid element.
It is characterized by comprising at least one species or two or more species.

【0010】更に本発明において、前記Fe基金属ガラ
ス合金の組成が原子%で、Al:1〜10%、Ga:
0.5〜4%、P:0〜15%、C:2〜7%、 B:2
〜10%、Fe:残部の組成であることを特徴とする。
本発明において、前記Fe基金属ガラス合金の組成が原
子%で、Al:1〜10%、Ga:0.5〜4%、P:
9〜15%、C:5〜7%、B:2〜10%、Si:0
〜15%、Fe:残部であることを特徴とするものでも
良い。
Further, in the present invention, the composition of the Fe-based metallic glass alloy is atomic%, Al: 1 to 10%, Ga:
0.5-4%, P: 0-15%, C: 2-7%, B: 2
-10%, Fe: the balance of the composition.
In the present invention, the composition of the Fe-based metallic glass alloy is atomic%, Al: 1 to 10%, Ga: 0.5 to 4%, P:
9 to 15%, C: 5 to 7%, B: 2 to 10%, Si: 0
~ 15%, Fe: balance may be used.

【0011】本発明において、更に前記Fe基軟磁性金
属ガラス合金の組成に、原子%でGeが0〜4%含有さ
れていることが好ましい。本発明において、前記Fe基
軟磁性金属ガラス合金の組成に、原子%でNb、Mo、
Hf、Ta、W、Zr及びCrの少なくとも1種以上が
7%以下含有されていることを特徴とすることが好まし
い。本発明において、前記Fe基軟磁性金属ガラス合金
の組成に、原子%で10%以下のNiと30%以下のC
oの少なくとも一方が含有されていることが好ましい。
次に、本発明において、前記Fe基軟磁性金属ガラス合
金のX線回折像がハローパターンを具備することが好ま
しく、前記Fe基軟磁性金属ガラス合金に、300〜5
00℃の温度範囲の熱処理が施されてなることが好まし
い。
In the present invention, the composition of the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy preferably further contains 0 to 4% of Ge in atomic%. In the present invention, in the composition of the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy, Nb, Mo,
It is preferable that at least one of Hf, Ta, W, Zr, and Cr is contained in an amount of 7% or less. In the present invention, the composition of the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy may be such that the atomic percentage of Ni is 10% or less and the atomic percentage of C is 30% or less.
It is preferable that at least one of o is contained.
Next, in the present invention, the X-ray diffraction image of the Fe-based soft magnetic metal glass alloy preferably has a halo pattern.
It is preferable that a heat treatment in a temperature range of 00 ° C. is performed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の一形
態の薄膜磁気ヘッドについて説明する。この例の薄膜磁
気ヘッドHAは、ハードディスク装置等に搭載される浮
上式のもので、この磁気ヘッドHAのスライダ51は、
図1の(イ)で示す側がディスク面の移動方向の上流側
に向くリーディング側で、図1の(ロ)で示す側がトレ
ーリング側である。このスライダ51のディスクに対向
する面では、レール状のレール面51a、51a、51
bと、エアーグルーブ51c、51cが形成されてい
る。そして、このスライダ51のトレーリング側の端面
51d側に薄膜磁気ヘッドコア50が設けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A thin film magnetic head according to one embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The thin-film magnetic head HA of this example is of a floating type mounted on a hard disk device or the like.
The side shown in FIG. 1A is the leading side facing the upstream side in the moving direction of the disk surface, and the side shown in FIG. 1B is the trailing side. On the surface of the slider 51 facing the disk, rail-shaped rail surfaces 51a, 51a, 51a are provided.
b, and air grooves 51c, 51c are formed. The thin-film magnetic head core 50 is provided on the trailing end surface 51d of the slider 51.

【0013】この例で示す薄膜磁気ヘッドコア50は、
図2と図3に断面構造を示すような複合型磁気ヘッドで
あり、スライダ51のトレーリング側端面51d上に、
MI効果素子ヘッド(読出ヘッド)h1と、インダクテ
ィブヘッド(磁気誘導型磁気ヘッド:書込ヘッド)h2
とが順に積層されて構成されている。
The thin-film magnetic head core 50 shown in this example has
This is a composite type magnetic head whose sectional structure is shown in FIG. 2 and FIG.
MI effect element head (read head) h 1 and inductive head (magnetic induction type magnetic head: write head) h 2
Are sequentially laminated.

【0014】この例のMI効果素子ヘッドh1はMI効
果を利用して磁気ディスクなどの記録媒体からの漏れ磁
束を検出し、磁気信号を読み取るものである。図2に示
すようにMI効果素子ヘッドh1において、スライダ5
1のトレーリング側端部に形成されたセンダスト(Fe
-Al-Si)等の磁性合金からなる下部ギャップ層53
上に、アルミナ(Al23)などの非磁性材料により形
成された上部ギャップ層54が積層されている。そし
て、この上部ギャップ層54上に、図4等に断面構造を
示す後述のMI効果素子10が形成されている。また、
更にMI効果素子10の上には、アルミナなどからなる
上部ギャップ層54がMI効果素子10を覆うように連
続形成され、その上に上部シールド層が形成されてお
り、この上部シールド層は、その上に設けられるインダ
クティブヘッドh2の下部コア55と兼用にされてい
る。
[0014] MI effect element head h 1 in this example detects the leakage flux from a recording medium such as a magnetic disk by utilizing an MI effect to read the magnetic signals. In MI effect element head h 1, as shown in FIG. 2, the slider 5
Sendust (Fe) formed at the trailing end of
Lower gap layer 53 made of a magnetic alloy such as -Al-Si)
An upper gap layer 54 made of a non-magnetic material such as alumina (Al 2 O 3 ) is laminated thereon. On the upper gap layer 54, a later-described MI effect element 10 having a sectional structure shown in FIG. 4 and the like is formed. Also,
Further, on the MI effect element 10, an upper gap layer 54 made of alumina or the like is continuously formed so as to cover the MI effect element 10, and an upper shield layer is formed thereon. the lower core 55 of the inductive head h 2 provided above are also used.

【0015】図4はMI効果素子ヘッドh1に適用され
たMI効果素子10の一例を示すもので、この例のMI
効果素子10は、以下に説明する金属ガラスからなるM
I効果素子薄膜12と、このMI効果素子薄膜12上に
積層された強磁性体薄膜13と、この強磁性体薄膜13
の両端部上にトラック幅に相当する間隙Twをあけて積
層された反強磁性体薄膜14、14とそれらの反強磁性
体薄膜14上に積層された電極膜15とから構成されて
いる。
[0015] Figure 4 shows an example of a MI effect elements 10 applied to the MI effect element head h 1, MI for this example
The effect element 10 is made of M made of metallic glass described below.
I effect element thin film 12, ferromagnetic thin film 13 laminated on MI effect element thin film 12, and ferromagnetic thin film 13
And a antiferromagnetic thin film 14, 14 with their antiferromagnetic thin film 14 laminated on an electrode layer 15 which are laminated at a gap T w which corresponds to the track width on the both end portions of the .

【0016】ここで以下に、本発明で用いるMI効果素
子薄膜12を構成する金属ガラスについて説明する。従
来からFe系の合金として、Fe-P-C系、Fe-P-B
系、Fe-Ni-Si-B系等の組成のものがガラス遷移
を起こすものとして知られているが、これらの合金の過
冷却液体の領域は観察されず、金属ガラス合金として構
成することはできない。
Here, the metallic glass constituting the MI effect element thin film 12 used in the present invention will be described below. Conventionally, Fe-based alloys such as Fe-PC-based alloys and Fe-P-B
It is known that those having a composition such as a Fe-Ni-Si-B system cause a glass transition, but a region of a supercooled liquid of these alloys is not observed, and it is not possible to constitute a metallic glass alloy. Can not.

【0017】これに対して、本発明に係るFe基軟磁性
金属ガラス合金は、この過冷却液体の温度間隔ΔT
xが、20K以上、組成によっては35〜60K以上と
いう顕著な温度間隔を有し、これまでの知見から知られ
るFe基合金からは全く予期されないものである。しか
も、軟磁性についても室温で優れた特性を有し、MI効
果をも示す本発明に係るFe基軟磁性金属ガラス合金
は、これまでの知見に見られない全く新規なものであ
る。
On the other hand, in the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy according to the present invention, the temperature interval ΔT
x has a remarkable temperature interval of 20K or more and 35 to 60K or more depending on the composition, which is completely unexpected from the Fe-based alloy known from the findings so far. In addition, the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy according to the present invention, which has excellent soft magnetism at room temperature and also exhibits the MI effect, is a completely novel one not seen in the previous findings.

【0018】本発明に係るFe基軟磁性金属ガラス合金
は、その組成については、Feを主成分とし、更に、他
の金属と半金属とを含有したものとして示すことができ
る。このうち他の金属とは、周期律表のIIA族、II
IA族及びIIIB族、IVA族及びIVB族、VA
族、VIA族、VIIA族のうちか選択できるものであ
るが、中でも、IIIB族、IVB族の金属元素が好適
なものとして示される。例えば、Al、Ga、In、S
nである。また、本発明に係るFe基軟磁性金属ガラス
合金に対し、Ti、Hf、Cu、Mn、Nb、Mo、C
r、Ni、Co、Ta、W、Zrの中から選択される1
種以上の金属元素を配合することができる。前記半金属
元素としては、例えばP、C、B、Si、Geを例示で
きる。より具体的に例示すると、本発明では、その組成
が原子%で、Al:1〜10%、Ga:0.5〜4%、
P:0〜15%、C:2〜7%、B:2〜10%、F
e:残部であって、不可避不純物が含有されていても良
いFe基金属ガラス合金である。
The composition of the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy according to the present invention can be described as containing Fe as a main component and further containing other metals and metalloids. Of these, other metals are group IIA of the periodic table, II
Groups IA and IIIB, IVA and IVB, VA
The metal element can be selected from Group III, Group VIA, and Group VIIA, and among them, the metal elements of Group IIIB and Group IVB are shown as preferable ones. For example, Al, Ga, In, S
n. Further, Ti, Hf, Cu, Mn, Nb, Mo, and C are added to the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy according to the present invention.
1 selected from among r, Ni, Co, Ta, W, and Zr
More than one kind of metal element can be blended. Examples of the metalloid element include P, C, B, Si, and Ge. More specifically, in the present invention, the composition is atomic%, Al: 1 to 10%, Ga: 0.5 to 4%,
P: 0 to 15%, C: 2 to 7%, B: 2 to 10%, F
e: Fe-based metallic glass alloy which is the remainder and may contain unavoidable impurities.

【0019】また、前記の組成に更にSiを添加するこ
とにより、過冷却液体の温度間隔ΔTxを向上させ、ア
モルファス単相となる臨界厚さを増大させることができ
る。その結果、室温で優れた軟磁気特性を有するFe基
軟磁性金属ガラス合金の厚さをさらに厚くすることが可
能となる。Siの含有量は多すぎると過冷却液体領域Δ
xが消滅するので、15%以下が好ましい。より具体
的に例示すると、本発明のFe基金属ガラス合金は、そ
の組成が原子%で、Al:1〜10%、Ga:0.5〜
4%、P:0〜15%、C:2〜7%、B:2〜10
%、Si:0〜15%、Fe:残部であって、不可避不
純物が含有されていても良い。
Further, by adding Si to the above composition, the temperature interval ΔT x of the supercooled liquid can be improved, and the critical thickness of the amorphous single phase can be increased. As a result, it is possible to further increase the thickness of the Fe-based soft magnetic metallic glass alloy having excellent soft magnetic properties at room temperature. If the content of Si is too large, the supercooled liquid region Δ
Since T x disappears, preferably 15% or less. More specifically, the Fe-based metallic glass alloy of the present invention has a composition of atomic%, Al: 1 to 10%, and Ga: 0.5 to 0.5%.
4%, P: 0 to 15%, C: 2 to 7%, B: 2 to 10
%, Si: 0 to 15%, Fe: balance, and may contain unavoidable impurities.

【0020】なお、前記の組成において、更にGeを0
〜4%、好ましくは0.5〜4%の範囲で含有していて
も良い。更に、より広い過冷却液体領域ΔTxを得るた
め、PとCの添加量を原子%でp:6〜15%、C:5
〜7%とするとより好ましい。 また、前記組成におい
て、更に、Nb、Mo、Cr、Hf、W、Zrの少なく
とも1種を7%以下含有していても良く、更に、Ni1
0%以下、Co30%以下を含んでいても良い。これら
のいずれの場合の組成においても、本発明においては、
過冷却液体の温度間隔ΔTxは、20K以上、組成によ
っては35〜60K以上が得られる。
In the above composition, Ge is further reduced to 0.
To 4%, preferably 0.5 to 4%. Furthermore, in order to obtain a wider supercooled liquid region [Delta] T x, p the amount of P and C in atomic%: 6~15%, C: 5
More preferably, it is set to 77%. The composition may further contain at least one of Nb, Mo, Cr, Hf, W, and Zr in an amount of 7% or less.
It may contain 0% or less and Co 30% or less. In the composition of any of these cases, in the present invention,
The temperature interval ΔT x of the supercooled liquid is 20K or more, and 35 to 60K or more depending on the composition.

【0021】これらの組成のFe基軟磁性金属ガラス合
金は、室温において磁性を有し、また、熱処理により、
より良好な磁性を示す。このため、優れたSoft magneti
c特性(軟磁気特性)を有する材料として使用できるも
のとなる。また、これらの組成系の金属ガラス合金の薄
膜を成膜した後で必要に応じて熱処理を行うこともでき
る。この場合の熱処理温度としては、磁気特性が劣化し
ない温度範囲として300〜結晶化温度、より好ましく
は300〜400℃の範囲が好ましい。
The Fe-based soft magnetic metallic glass alloys having these compositions have magnetism at room temperature.
Shows better magnetism. For this reason, the excellent Soft magneti
It can be used as a material having c characteristics (soft magnetic characteristics). Further, after forming a thin film of a metallic glass alloy of these composition systems, a heat treatment can be performed if necessary. The heat treatment temperature in this case is preferably from 300 to the crystallization temperature, more preferably from 300 to 400 ° C., as a temperature range at which the magnetic properties do not deteriorate.

【0022】前記強磁性体薄膜13は、Ni-Fe合
金、Co-Fe合金、Ni-Co合金、Co、Ni-Fe-
Co合金などの薄膜からなる。また、強磁性体薄膜13
をCo薄膜とNi-Fe合金薄膜との積層構造から構成
することもできる。前記反強磁性体薄膜14は、例え
ば、FeMn、NiO、Cr-Alあるいは、不規則構
造を有するX-Mn系合金などからなることが好まし
い。ここで前記組成式においてXは、Ru、Rh、I
r、Pd、Ptのいずれか1種または2種以上からなる
ことが好ましい。前記各種合金の反強磁性体薄膜14で
あるならば強磁性体薄膜13に接するMI効果素子薄膜
12に交換結合性磁界によるバイアスを印加することが
できる。
The ferromagnetic thin film 13 is made of a Ni—Fe alloy, a Co—Fe alloy, a Ni—Co alloy, Co, Ni—Fe—
It is made of a thin film such as a Co alloy. The ferromagnetic thin film 13
Can be configured as a laminated structure of a Co thin film and a Ni—Fe alloy thin film. The antiferromagnetic thin film 14 is preferably made of, for example, FeMn, NiO, Cr-Al, or an X-Mn-based alloy having an irregular structure. Here, in the above composition formula, X is Ru, Rh, I
It is preferable to be composed of one or more of r, Pd, and Pt. If the antiferromagnetic thin film 14 is made of any of the above alloys, a bias due to the exchange coupling magnetic field can be applied to the MI effect element thin film 12 in contact with the ferromagnetic thin film 13.

【0023】一方、この実施形態のインダクティブヘッ
ドh2は、下部コア55の上に、ギャップ層64が形成
され、その上に平面的に螺旋状となるようにパターン化
されたコイル層66が形成され、コイル層66は絶縁材
料層67に囲まれている。更に、絶縁材料層67の上に
形成された層状の上部コア68は、その先端部68aを
レール面51bにて層状の下部コア55に微小間隙をあ
けて対向し、磁気ギャップGを構成するとともに、上部
コア68の基端部68bを下部コア55と磁気的に接続
させて設けられている。また、上部コア68の上にはア
ルミナなどからなる保護層69が設けられている。
On the other hand, the inductive head h 2 of this embodiment, on the lower core 55, the gap layer 64 is formed, a coil layer 66 that is patterned such that the planar spiral thereon formed The coil layer 66 is surrounded by an insulating material layer 67. Further, the layered upper core 68 formed on the insulating material layer 67 has its tip 68a opposed to the layered lower core 55 on the rail surface 51b with a small gap therebetween to form a magnetic gap G. , The base end 68 b of the upper core 68 is magnetically connected to the lower core 55. Further, a protective layer 69 made of alumina or the like is provided on the upper core 68.

【0024】前述のインダクティブヘッドh2では、コ
イル層66に記録電流が与えられ、コイル層66からコ
ア層に記録電流が与えられる。そして、磁気ギャップG
の部分での下部コア55と上部コア68の先端部からの
漏れ磁界によりハードディスクなどの記録媒体に磁気信
号を記録することができる。また、MI効果素子ヘッド
1においては、ハードディスクなどの磁気記録媒体か
らの微小の漏れ磁界の有無によりMI効果素子薄膜12
のインピーダンスが変化するので、このインピーダンス
変化を読み取ることで記録媒体の記録内容を読み取るこ
とができる。
[0024] In the above-described inductive head h 2, the recording current is applied to the coil layer 66, a recording current is supplied from the coil layer 66 to the core layer. And the magnetic gap G
A magnetic signal can be recorded on a recording medium such as a hard disk by the leakage magnetic field from the distal ends of the lower core 55 and the upper core 68 at the portion. In the MI effect element head h 1, MI effect elements thin film 12 by the presence or absence of micro-leakage magnetic field from the magnetic recording medium such as a hard disk
Of the recording medium can be read by reading the impedance change.

【0025】図6は、MI効果素子薄膜12のMI効果
を測定するための回路系の一例を示すもので、図6
(A)に示す回路構成ではMI効果素子薄膜12に対し
て電源EacからMHz帯域の交流電流Iacを印加し、こ
の状態でMI効果素子薄膜12の長さ方向に外部磁界H
exを印加すると、外部磁界Hexが数ガウス程度の微弱磁
界であってもMI効果素子薄膜12の両端に素材固有の
インピーダンスによる電圧Emiが発生し、その振幅が外
部磁界Hexの強度に対応して大きな割合で変化するの
で、微弱磁界検出ができる。
FIG. 6 shows an example of a circuit system for measuring the MI effect of the MI effect element thin film 12.
In the circuit configuration shown in FIG. 2A, an alternating current Iac in the MHz band is applied from the power supply Eac to the MI effect element thin film 12, and in this state, an external magnetic field H is applied in the longitudinal direction of the MI effect element thin film 12.
When ex is applied, even when the external magnetic field Hex is a weak magnetic field of about several gauss, a voltage Emi due to the material-specific impedance is generated at both ends of the MI effect element thin film 12, and the amplitude thereof corresponds to the intensity of the external magnetic field Hex Since it changes at a large rate, a weak magnetic field can be detected.

【0026】次に、MI効果素子薄膜12を用いて薄膜
磁気ヘッドHAを実際に構成する際には、高周波電流を
使用するので回路の浮遊インピーダンスなどで感度が不
安定にならないように配慮する必要がある。この問題の
一つの解決策として、前述の構成のMIヘッドにあって
は、MIヘッドと高周波電源とを一体化した自己発振方
式の磁界検知回路を採用することが好ましい。この自己
発振回路を有する磁界検知回路の一例を図6(B)に示
す。
Next, when actually constructing the thin film magnetic head HA using the MI effect element thin film 12, it is necessary to take care that the sensitivity is not unstable due to the floating impedance of the circuit because a high frequency current is used. There is. As one solution to this problem, in the MI head having the above-described configuration, it is preferable to employ a self-oscillation type magnetic field detection circuit in which the MI head and a high-frequency power supply are integrated. FIG. 6B shows an example of a magnetic field detection circuit having this self-oscillation circuit.

【0027】図6(B)に示す回路では、ブロックa、
b、cはそれぞれ高周波電源部、外部磁界検出部、増幅
出力部であり、外部磁界検出部bに薄膜磁気ヘッドHA
のMI効果素子薄膜12が接続された構造とされてい
る。高周波電源部aは、高周波交流電流を発生し外部磁
界検知部bに供給するための回路であってその方式は特
に限定されない。ここでは一例として、安定化コルビッ
ツ発振回路を採用したものを掲げる。自己発振方式では
この他に磁気変調を利用した振幅変調(AM)、周波数
変調(FM)、または位相変調(PM)をかけて磁界感
知作動をさせることもできる。外部磁界検知部bは、薄
膜磁気ヘッドHAのMI効果素子ヘッドh1に設けられ
ているMI効果素子薄膜12と復調回路とからなり、高
周波電源部aから供給された高周波交流電流により待機
状態とされたMI効果素子薄膜12が外部磁界(Hex)
に感応して発生したインピーダンス変化を、復調回路に
より復調し、増幅出力部cに伝送する。増幅出力部cは
差動増幅回路と出力端子とを有する。この磁気センサ回
路は、図示しないが負帰還ループ回路が設けてあり、強
い負帰還をかけることによって高精度・高感度・高速応
答・高安定の微弱磁気センサ回路が形成される。
In the circuit shown in FIG. 6B, blocks a,
b and c are a high-frequency power supply unit, an external magnetic field detection unit, and an amplification output unit, respectively.
Are connected to each other. The high-frequency power supply unit a is a circuit for generating a high-frequency AC current and supplying the high-frequency AC current to the external magnetic field detection unit b, and the type thereof is not particularly limited. Here, an example employing a stabilized Colwitz oscillation circuit will be described as an example. In the self-oscillation system, the magnetic field sensing operation can be performed by applying amplitude modulation (AM), frequency modulation (FM), or phase modulation (PM) using magnetic modulation. External magnetic field detection unit b is composed of a MI effect elements thin film 12 provided to the MI effect element head h 1 of the thin-film magnetic heads HA and demodulation circuit, a standby state by supplying high-frequency alternating current from the high-frequency power supply a The applied MI effect element thin film 12 has an external magnetic field (Hex).
Is demodulated by the demodulation circuit and transmitted to the amplification output section c. The amplification output section c has a differential amplifier circuit and an output terminal. This magnetic sensor circuit is provided with a negative feedback loop circuit (not shown), and by applying strong negative feedback, a weak magnetic sensor circuit with high accuracy, high sensitivity, high speed response, and high stability is formed.

【0028】図7は、本発明で用いるMI素子薄膜12
の磁界感応性を示す図である。本発明のMI効果素子薄
膜12は、図7に示したように、外部磁界の極性に係わ
らず同様のパラメータ変化を示す。従って、線形応答が
可能なリニア検出型の薄膜磁気ヘッドを構成する場合に
直流磁界バイアスを印加することが好ましい。本発明の
MI効果素子薄膜12は微弱磁界における直線性が高い
ため、バイアス磁界も軽微でよい。
FIG. 7 shows the MI element thin film 12 used in the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing the magnetic field sensitivity of FIG. As shown in FIG. 7, the MI effect element thin film 12 of the present invention shows similar parameter changes regardless of the polarity of the external magnetic field. Therefore, it is preferable to apply a DC magnetic field bias when configuring a linear detection type thin film magnetic head capable of linear response. Since the MI effect element thin film 12 of the present invention has high linearity in a weak magnetic field, the bias magnetic field may be small.

【0029】このバイアス磁界を印加するために図4に
示す反強磁性体薄膜14が作用させる交換結合性磁界を
利用する。図4に示す構造においては、強磁性体薄膜1
3と反強磁性体薄膜14の両層の境界面での交換異方性
結合により、強磁性体薄膜13にバイアスが与えられて
図4のB領域(強磁性体薄膜13と反強磁性体薄膜14
が接触した領域)はX方向へ単磁区化され、これに誘発
されてトラック幅Tw内のA領域にて強磁性体薄膜13
がX方向へ単磁区化されてバイアスが印加される。この
ようにバイアス磁界により磁化された強磁性体薄膜13
に隣接するMI効果素子薄膜12に磁気記録媒体からの
漏れ磁界が与えられると、この漏れ磁界の大きさに比例
してインピーダンス変化が起こるので漏れ磁界を検出で
きる。
In order to apply the bias magnetic field, an exchange coupling magnetic field exerted by the antiferromagnetic thin film 14 shown in FIG. 4 is used. In the structure shown in FIG.
The bias is applied to the ferromagnetic thin film 13 by the exchange anisotropic coupling at the interface between both layers of the ferromagnetic thin film 3 and the antiferromagnetic thin film 14, and the region B in FIG. Thin film 14
Is in the X direction and is induced into a single magnetic domain, which induces the ferromagnetic thin film 13 in the region A within the track width Tw.
Are made into single magnetic domains in the X direction, and a bias is applied. The ferromagnetic thin film 13 thus magnetized by the bias magnetic field
When the leakage magnetic field from the magnetic recording medium is applied to the MI effect element thin film 12 adjacent to the element, the impedance change occurs in proportion to the magnitude of the leakage magnetic field, so that the leakage magnetic field can be detected.

【0030】本発明のMI効果素子薄膜を用いた薄膜磁
気ヘッドHAは金属ガラスを用いたMI効果素子薄膜1
2の長さ方向(図4のX方向)の磁界変化に感応する。
そして、数10〜100%/Oeのインピーダンス変化
率と、10-6 Oeの高い分解能と、数MHzの遮断周
波数とを持つ、高感度な薄膜磁気ヘッドを構成すること
ができる。そして、例えばヘッド長が極小寸法であって
も磁界検出感度は劣化せず、1Hz以上の交流磁界に対
する最小検出磁界は10-6に達する。
The thin film magnetic head HA using the MI effect element thin film of the present invention is an MI effect element thin film 1 using metallic glass.
2 responds to a magnetic field change in the length direction (X direction in FIG. 4).
A highly sensitive thin-film magnetic head having an impedance change rate of several tens to 100% / Oe, a high resolution of 10 -6 Oe, and a cutoff frequency of several MHz can be configured. For example, even if the head length is extremely small, the magnetic field detection sensitivity does not deteriorate, and the minimum detection magnetic field for an AC magnetic field of 1 Hz or more reaches 10 -6 .

【0031】また、この形態の薄膜磁気ヘッドHAは、
応答の速い磁化の回転による磁束変化を利用することに
なるので高速応答性である。即ち、通過電流を高周波に
すると、表皮効果によってインピーダンスが外部磁界に
依存して鋭敏に変化し高感度化すると共に、磁壁の移動
が強い過電流制動により抑制され、磁化ベクトルの移動
によって磁束が発生するので高速応答性となる。本発明
のMI効果素子薄膜12を用いてコルピッツ発振回路な
どの自己発振回路を構成し、振幅変調方式のセンサを形
成すると、その遮断周波数は発振周波数の1/10程度
であり、数十MHzの発振周波数では直流磁界から数M
Hzの高周波磁界に至るまで、分解能が約10-6Oeの
高感度で安定に検出できるようになり、磁気記録媒体か
らの微小磁界でも好感度で検出可能な薄膜磁気ヘッドを
提供できる。
The thin-film magnetic head HA of this embodiment has the following features.
Since the magnetic flux change due to the rotation of the fast-response magnetization is used, high-speed response is achieved. In other words, when the passing current is set to a high frequency, the impedance changes sharply depending on the external magnetic field due to the skin effect and the sensitivity increases, and the movement of the domain wall is suppressed by strong overcurrent braking, and the movement of the magnetization vector generates a magnetic flux. Therefore, high-speed response is achieved. When a self-oscillation circuit such as a Colpitts oscillation circuit is formed using the MI effect element thin film 12 of the present invention to form an amplitude modulation type sensor, its cutoff frequency is about 1/10 of the oscillation frequency, and several tens of MHz. At oscillation frequency, several M from DC magnetic field
Up to a high frequency magnetic field of Hz, the resolution can be detected stably with high sensitivity of about 10 -6 Oe, and a thin film magnetic head capable of detecting even a small magnetic field from a magnetic recording medium with good sensitivity can be provided.

【0032】図5は、本発明に係るMI効果素子薄膜の
他の形態を示すもので、この形態の構造は、金属ガラス
からなるMI効果素子薄膜22の両側に磁石層(永久磁
石)23、23が配置され、磁石層23、23上に電極
膜25が積層された構造とされていて、磁石層23から
の漏れ磁束を利用してMI効果素子薄膜23にバイアス
を印加する構造とされている。ここで用いられる磁石層
23は、Co-Pt、Co-Cr-Pt合金などの硬質磁
性材料(磁石材料)の層から形成されている。図5に示
す構造においても先の形態の場合と同様にバイアスを印
加することができ、MI効果を利用して先の形態の構造
と同様に磁気記録媒体の磁気情報の読み出しを行うこと
ができる。
FIG. 5 shows another embodiment of the MI effect element thin film according to the present invention. The structure of this embodiment is such that a magnet layer (permanent magnet) 23 is provided on both sides of the MI effect element thin film 22 made of metallic glass. 23, and a structure in which an electrode film 25 is laminated on the magnet layers 23, 23, and a structure in which a bias is applied to the MI effect element thin film 23 by utilizing magnetic flux leakage from the magnet layer 23. I have. The magnet layer 23 used here is formed from a layer of a hard magnetic material (magnet material) such as Co-Pt or Co-Cr-Pt alloy. In the structure shown in FIG. 5, a bias can be applied in the same manner as in the previous embodiment, and magnetic information can be read from the magnetic recording medium using the MI effect in the same manner as in the structure in the previous embodiment. .

【0033】[0033]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する。 (実施例1)高周波マグネトロンスパッタ装置を用い、
Al23膜を被覆したAl23-TiC(アルチック)
基板(磁気ヘッドのスライダ用として常用される基板)
上に、複数のターゲットを用いて以下に示す構造になる
ようにスパッタして積層体を作成し、それをエッチング
により加工して図4に示す構造のMI効果素子を製造し
た。この際、Fe72Al5Ga21164なる組成の厚
さ1000ÅのMI素子薄膜とNi80Fe20合金からな
る厚さ100Åの強磁性体薄膜を積層し、更にそれらの
上に厚さ200Åの反強磁性層(Pt50Mn50)と厚さ
1000Åの電極層をスパッタにより積層し、フォトリ
ソグラフィープロセスとイオンミリングによりトラック
幅(Tw=2μm)に相当する部分の電極膜と反強磁性
体薄膜を除去して図4に示す構造のMI効果素子薄膜を
得た。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. (Example 1) Using a high-frequency magnetron sputtering apparatus,
Al 2 O 3 -TiC (Altic) coated with an Al 2 O 3 film
Substrate (substrate commonly used for sliders in magnetic heads)
A plurality of targets were sputtered using a plurality of targets so as to have the following structure to form a laminate, which was processed by etching to produce an MI effect element having a structure shown in FIG. At this time, an MI element thin film having a composition of Fe 72 Al 5 Ga 2 P 11 C 6 B 4 having a thickness of 1000 ° and a ferromagnetic thin film having a thickness of 100 ° made of a Ni 80 Fe 20 alloy are laminated, and further thereon. An antiferromagnetic layer (Pt 50 Mn 50 ) having a thickness of 200 ° and an electrode layer having a thickness of 1000 ° are laminated by sputtering, and the electrode film corresponding to the track width (Tw = 2 μm) is removed by photolithography and ion milling. The MI effect element thin film having the structure shown in FIG. 4 was obtained by removing the ferromagnetic thin film.

【0034】前記MI効果素子薄膜を図6(B)に示す
磁界検知回路に挿入し、3MHzの交流電流を印加した
状態で、MI効果素子薄膜の長さ方向(図4の 方
向)に外部磁界Hexを印加し、外部磁界Hex(Oe)と
発生した出力電圧(mV)との関係をプロットした。外
部磁界Hexは、0 Oeからスタートし、5 Oe、0O
e、−5 Oe、0 Oeと連続的に往復変化させた。増
幅倍率は10倍に設定した。測定結果を図8に示す。こ
の結果からこの例のMI効果素子は、−2 Oe〜+2
Oe程度の微弱磁界帯域においても高感度でかつ良好な
定量性を示すことがわかる。
The above-mentioned MI effect element thin film is inserted into the magnetic field detecting circuit shown in FIG. 6 (B), and an external magnetic field is applied in the length direction of the MI effect element thin film (the direction of FIG. 4) while an AC current of 3 MHz is applied. Hex was applied, and the relationship between the external magnetic field Hex (Oe) and the generated output voltage (mV) was plotted. The external magnetic field Hex starts from 0 Oe, 5 Oe,
e, −5 Oe, and 0 Oe were continuously changed back and forth. The amplification magnification was set to 10 times. FIG. 8 shows the measurement results. From these results, the MI effect element of this example has a value of -2 Oe to +2.
It can be seen that even in a weak magnetic field band of about Oe, high sensitivity and good quantitativeness are exhibited.

【0035】(実施例2)前記MI素子薄膜に代えてF
72Al5Ga21064Si1なる組成の薄膜を用い
て図4に示す積層体を得た。実施例1の場合と同様にこ
の例のMI効果素子を図6(B)に示す磁界検知回路に
挿入し、3MHzの交流電流を印加した状態で、試料の
長さ方向に外部磁界Hexを印加し、外部磁界Hex(O
e)と発生した出力電圧(mV)との関係をプロットし
た。外部磁界Hexは、0 Oeからスタートし、5 O
e、0 Oe、−5 Oe、0 Oeと連続的に往復変化
させた。増幅倍率は10倍に設定した。測定結果を図9
に示す。この結果から実施例2のMI効果素子は、−2
Oe〜+2 Oe程度の微弱磁界帯域においても高感度
でかつ良好な定量性を示すことがわかる。
(Embodiment 2) Instead of the MI element thin film, F
to obtain a laminated body shown in FIG. 4 with a thin film of e 72 Al 5 Ga 2 P 10 C 6 B 4 Si 1 having a composition. As in the case of the first embodiment, the MI effect element of this example is inserted into the magnetic field detection circuit shown in FIG. 6B, and an external magnetic field Hex is applied in the longitudinal direction of the sample in a state where an alternating current of 3 MHz is applied. And an external magnetic field Hex (O
The relationship between e) and the generated output voltage (mV) was plotted. The external magnetic field Hex starts from 0 Oe and
e, 0 Oe, −5 Oe, and 0 Oe were continuously changed back and forth. The amplification magnification was set to 10 times. Figure 9 shows the measurement results.
Shown in From this result, the MI effect element of Example 2 was -2.
It can be seen that high sensitivity and good quantitativeness are exhibited even in a weak magnetic field band of about Oe to +2 Oe.

【0036】次に、図7に、先に説明した本発明に係る
MI効果素子薄膜を用いた積層体の磁界感応性と、従来
知られているMI効果素子薄膜の磁界感応性を比較して
示した。MI効果を示すMI効果素子薄膜として、従来
から知られているFe−Si−B系(Fe78Si913
の組成の薄膜)、Fe−Co−Si−B系((Fe6
Co9472.5Si12.515の組成の非晶質薄膜)を用
いた。
Next, FIG. 7 compares the magnetic field sensitivity of the laminate using the MI effect element thin film according to the present invention described above with the magnetic field sensitivity of the conventionally known MI effect element thin film. Indicated. As an MI effect element thin film exhibiting the MI effect, a conventionally known Fe—Si—B-based (Fe 78 Si 9 B 13
Thin film), a Fe—Co—Si—B system ((Fe 6
Co 94 ) 72.5 Si 12.5 B 15 amorphous thin film).

【0037】図7に示す結果から明らかなように、曲
線で示すFe−Si−B系、曲線で示すFe−Co−
Si−B系のMI効果素子薄膜を使用するに際し、それ
ぞれ以下に説明する問題を生じることが判る。即ち、図
7に示すように、正負の印加磁界(Oe)に対する出力
電圧Emi(mV)を測定するとき、曲線で示すFe−
Si−B系の薄膜は磁界検出感度が低く、増幅倍率を1
00倍程度と高くする必要があり、増幅倍率を上げた場
合はノイズの混入などのため高感度の磁界検知素子を得
ることが困難である。また、曲線で示すFe−Co−
Si−B系の薄膜は、図7に示すように感度は十分に高
いが、印加磁界が例えば−2 Oe〜+2 Oe程度の微
弱磁界の範囲内では、感度がきわめて急峻に立ち上がる
ため、この間での定量性が得られず微弱磁界検知素子と
しては使用困難である。また絶対値で2 Oeを越える
磁界帯域においては曲線の勾配が滑らかであるので使
用可能ではあるが、この部分の曲線を使用するために
は、検出磁界と同じ程度の約2 Oe程度のバイアス磁
界を印加する必要があった。これに対して本願発明に係
る金属ガラス合金のMI効果素子薄膜を用いた場合は、
−2 Oe〜+2 Oe程度の微弱磁界の範囲内で正負対
称で、しかも検出用として適切な大きさの勾配を得るこ
とができるので、微弱磁界を感度良く検出可能であるこ
とが明かである。
As is clear from the results shown in FIG. 7, the Fe--Si--B system shown by the curve and the Fe--Co--
When using the Si-B based MI effect element thin film, it is found that the following problems occur. That is, as shown in FIG. 7, when the output voltage Emi (mV) with respect to the positive and negative applied magnetic fields (Oe) is measured, the Fe-
Si-B based thin films have low magnetic field detection sensitivity and have an amplification factor of 1
When the amplification magnification is increased, it is difficult to obtain a high-sensitivity magnetic field detecting element due to the incorporation of noise and the like. In addition, Fe-Co-
Although the sensitivity of the Si-B thin film is sufficiently high as shown in FIG. 7, the sensitivity rises very sharply when the applied magnetic field is within a weak magnetic field of, for example, about -2 Oe to +2 Oe. And it is difficult to use it as a weak magnetic field detecting element. In a magnetic field band exceeding an absolute value of 2 Oe, the curve can be used because the slope of the curve is smooth. However, in order to use the curve of this portion, a bias magnetic field of about 2 Oe, which is about the same as the detection magnetic field, is required. Had to be applied. In contrast, when the MI effect element thin film of the metallic glass alloy according to the present invention is used,
It is clear that a weak magnetic field can be detected with high sensitivity because a positive / negative symmetrical gradient having an appropriate magnitude for detection can be obtained within the range of a weak magnetic field of about −2 Oe to +2 Oe.

【0038】一方、本発明者らの実験により、原子組成
比がFe73Al5Ga21154の組成の金属ガラス合
金であるならば、結晶化開始温度Txは約506℃であ
り、ガラス遷移温度Tgは458℃であることを確認し
ているので、この組成の金属ガラス合金の過冷却液体の
温度間隔は、ΔTx=Tx−Tg=506−458=48
℃である。
On the other hand, according to experiments by the present inventors, if the metallic glass alloy has an atomic composition ratio of Fe 73 Al 5 Ga 2 P 11 C 5 B 4 , the crystallization start temperature T x is about 506 ° C. , and the the glass transition temperature the T g is confirmed to be 458 ° C., the temperature interval of the supercooled liquid of the metallic glass alloy of this composition, ΔT x = T x -T g = 506-458 = 48
° C.

【0039】次に、前記組成の金属ガラス合金の薄膜
(厚さ35μm)の磁気特性、「透磁率μ'(1kH
z):保磁力(Hc):飽和磁化(σs)」について、
熱処理の依存性を測定した。その結果を図10に示す。
図10から、300℃を超える処理温度から透磁率の向
上が見られ、350℃付近にピークを有し、400℃程
度までは熱処理しないものよりも向上する傾向を示して
いるが、450℃熱処理においては透磁率が大幅に低下
する傾向を示した。これらの熱処理による軟磁気特性の
変化については、熱処理無しの試料において存在する内
部応力が熱処理を行うことによって緩和されるためであ
ると思われる。また、最適熱処理温度は、今回の試験組
成においては350℃付近にあると言える。なお、キュ
リー温度Tc以下の熱処理では、磁区固着による特性劣
化が起こる可能性があるので、熱処理温度は少なくとも
300℃以上とすることが好ましいと思われる。また、
450℃における熱処理では、熱処理なしの試料の値よ
りも劣化する傾向にあるので、この系の結晶化温度(約
500℃)に近く、結晶核の生成開始(構造的短範囲秩
序化)または結晶析出開始による磁壁のピンニングに起
因して劣化するものと思われる。従って、本発明に係る
金属ガラス合金の薄膜を熱処理する場合の温度は300
〜500℃、換言すると、300℃〜結晶化開始温度の
範囲であることが好ましく、300〜450℃がより好
ましい。
Next, the magnetic properties of the thin film (thickness: 35 μm) of the metallic glass alloy having the above composition, “magnetic permeability μ ′ (1 kHz)
z): coercive force (Hc): saturation magnetization (σs) ”
The dependence of the heat treatment was measured. The result is shown in FIG.
FIG. 10 shows that the magnetic permeability is improved from the processing temperature exceeding 300 ° C., has a peak at around 350 ° C., and shows a tendency to increase as compared with the case where no heat treatment is performed up to about 400 ° C. Showed a tendency that the magnetic permeability was significantly reduced. It is considered that the change in the soft magnetic properties due to these heat treatments is because the internal stress existing in the sample without heat treatment is alleviated by performing the heat treatment. In addition, it can be said that the optimum heat treatment temperature is around 350 ° C. in the test composition in this case. In the heat treatment at the Curie temperature Tc or lower, there is a possibility that the characteristics may be degraded due to the magnetic domain sticking. Therefore, it is considered that the heat treatment temperature is preferably at least 300 ° C or higher. Also,
Since the heat treatment at 450 ° C. tends to deteriorate from the value of the sample without heat treatment, the temperature is close to the crystallization temperature of this system (about 500 ° C.), and the onset of crystal nucleation (structural short-range ordering) or It is thought that it deteriorates due to the domain wall pinning due to the start of precipitation. Therefore, the temperature at which the thin film of the metallic glass alloy according to the present invention is heat-treated is 300
To 500 ° C, in other words, preferably from 300 ° C to the crystallization onset temperature, more preferably from 300 to 450 ° C.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように本発明の薄膜磁気ヘ
ッドは、過冷却液体の温度間隔ΔTxが35K以上のF
e基金属ガラス合金からなり、外部磁界によってインピ
ーダンスの変化を生じる磁気インピーダンス効果素子薄
膜を外部磁界検出用として備えているので、磁気抵抗効
果よりも遥かに大きな変化を示すMI効果を利用して磁
気記録媒体からの微小な磁界に線形応答して高感度な読
出性能を得ることができる薄膜磁気ヘッドを得ることが
できる。また、本発明に係る金属ガラス合金からなるM
I効果素子薄膜は、正負磁界に対するインピーダンス変
化の対称性が良好であり、かつ微弱磁界域での定量性が
良好なために、高感度な読出性能を得ることができる薄
膜磁気ヘッドを得ることができる。
As described above, in the thin-film magnetic head of the present invention, the temperature difference ΔT x of the supercooled liquid is 35K or more.
It is made of e-base metallic glass alloy, and has a magneto-impedance effect element thin film for generating an impedance change due to an external magnetic field for detecting an external magnetic field. It is possible to obtain a thin-film magnetic head capable of obtaining high-sensitivity read performance in a linear response to a minute magnetic field from a recording medium. In addition, the metal glass alloy of the present invention
Since the I effect element thin film has good symmetry of impedance change with respect to positive and negative magnetic fields and good quantification in a weak magnetic field region, it is possible to obtain a thin film magnetic head capable of obtaining high-sensitivity read performance. it can.

【0041】次に、スライダに書込ヘッドと読出ヘッド
を設け、書込ヘッドを磁気誘導型構造とし、読出ヘッド
を磁気インピーダンス効果素子薄膜と電極膜から構成す
ることで、磁気記録媒体に対する磁気情報の書き込みが
できるとともに、磁気記録媒体からの漏れ磁界を高感度
で読出可能な薄膜磁気ヘッドを提供できる。
Next, a write head and a read head are provided on the slider, the write head has a magnetic induction type structure, and the read head is composed of a magneto-impedance effect element thin film and an electrode film. And a thin film magnetic head capable of reading out a leakage magnetic field from a magnetic recording medium with high sensitivity.

【0042】次に本発明において、磁気インピーダンス
効果素子薄膜にバイアス印加手段を付設してなるもの
は、金属ガラスのMI効果素子薄膜の正負磁界に対する
インピーダンス変化の対称性が良好であることを利用
し、インピーダンス変化の線形変化部分を磁界検出領域
に合致させることで良好な線形応答性を利用できるの
で、高感度かつ正確な読出性能を発揮する薄膜磁気ヘッ
ドを得ることができる。前記バイアス印加手段として、
磁気インピーダンス効果素子薄膜に接続された永久磁石
を用いる構造、あるいは、前記磁気インピーダンス効果
素子薄膜に部分的に積層された強磁性体薄膜と反強磁性
体薄膜を利用することで強磁性体薄膜に誘起させた交換
結合磁界を利用する構造のいずれかを用いることができ
る。
Next, in the present invention, the magneto-impedance effect element thin film provided with a bias applying means utilizes the fact that the symmetry of the impedance change of the metallic glass MI effect element thin film with respect to the positive and negative magnetic fields is good. By matching the linearly changing portion of the impedance change with the magnetic field detection region, good linear response can be used, so that a thin film magnetic head exhibiting high sensitivity and accurate reading performance can be obtained. As the bias applying means,
A structure using a permanent magnet connected to the magneto-impedance effect element thin film, or using a ferromagnetic thin film and an anti-ferromagnetic thin film partially laminated on the magneto-impedance effect element thin film to form a ferromagnetic thin film Any of the structures utilizing the induced exchange coupling magnetic field can be used.

【0043】次に前記金属ガラス合金として、Fe基金
属ガラス合金がFe以外の他の金属元素と半金属元素を
含有してなり、前記他の金属元素としてAl、Ga、I
n、Snのうちの1種または2種以上が含有され、さら
に半金属元素としてP、C、B、Geのうちの1種また
は2種以上が含有されてなるものを利用できる。更に本
発明において、前記Fe基金属ガラス合金として、原子
%で、Al:1〜10%、Ga:0.5〜4%、P:0
〜15%、C:2〜7%、B:2〜10%、Fe:残部
の組成であるものを用いることができ、前記組成に加え
てSiを0〜15%の範囲で添加したものを用いること
ができる。これらの組成系の金属ガラス合金を用いるこ
とで、微弱磁界においても線形性の良好な大きなMI効
果を得ることが確実にできるので、外部磁界検出用とし
て好適なMI効果素子薄膜を備えた薄膜磁気ヘッドを得
ることができる。
Next, as the metallic glass alloy, an Fe-based metallic glass alloy contains a metal element other than Fe and a metalloid element, and Al, Ga, I
One or more of n and Sn may be contained, and one or more of P, C, B and Ge as metalloid elements may be used. Further, in the present invention, as the Fe-based metallic glass alloy, in atomic%, Al: 1 to 10%, Ga: 0.5 to 4%, P: 0
1515%, C: 277%, B: 2〜1010%, Fe: the remaining composition can be used. In addition to the above composition, Si added in the range of 01515% is used. Can be used. By using metallic glass alloys of these compositions, it is possible to reliably obtain a large MI effect with good linearity even in a weak magnetic field. You can get a head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る磁気インピーダンス効果素子薄
膜を備えた薄膜磁気ヘッドの一実施形態の斜視図。
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of a thin-film magnetic head including a magneto-impedance effect element thin film according to the present invention.

【図2】 図1に示す薄膜磁気ヘッドの要部の断面図。FIG. 2 is a sectional view of a main part of the thin-film magnetic head shown in FIG. 1;

【図3】 図1に示す薄膜磁気ヘッドの要部の一部を断
面とした斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing a cross section of a part of a main part of the thin-film magnetic head shown in FIG. 1;

【図4】 図1に備えられる磁気インピーダンス効果素
子薄膜の一例を示す断面図。
FIG. 4 is a sectional view showing an example of a magneto-impedance effect element thin film provided in FIG.

【図5】 同磁気インピーダンス効果素子薄膜の他の例
を示す断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing another example of the magneto-impedance effect element thin film.

【図6】 磁気インピーダンス特性の測定回路を示すも
ので、図6(A)はその一例を示す回路図、図6(B)
は他の例を示す回路図。
6A and 6B show a circuit for measuring a magnetic impedance characteristic. FIG. 6A is a circuit diagram showing an example of the circuit, and FIG.
Is a circuit diagram showing another example.

【図7】 本発明のMI効果素子の一例における磁界感
応性を示すグラフ。
FIG. 7 is a graph showing magnetic field sensitivity in an example of the MI effect element of the present invention.

【図8】 本発明のMI効果素子の一例における磁界感
応性を示すグラフ。
FIG. 8 is a graph showing magnetic field sensitivity in an example of the MI effect element according to the present invention.

【図9】 本発明のMI効果素子の他の一例における磁
界感応性を示すグラフ。
FIG. 9 is a graph showing magnetic field sensitivity in another example of the MI effect element of the present invention.

【図10】 金属ガラス合金の磁気特性の熱処理温度依
存性を示すグラフ。
FIG. 10 is a graph showing the heat treatment temperature dependence of the magnetic properties of a metallic glass alloy.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

HA・・・薄膜磁気ヘッド、h1・・・MI効果素子ヘッド
(読出ヘッド)、h2・・・インダクティブヘッド(磁気誘
導型磁気ヘッド:書込ヘッド)、10・・・MI効果素
子、12・・・MI効果素子薄膜、13・・・強磁性体薄膜、
14・・・反強磁性体薄膜、15・・・電極膜、22・・・MI
効果素子薄膜、23・・・磁石層(永久磁石)25・・・電極
膜、50・・・磁気ヘッドコア、51・・・スライダ。
HA · · · thin film magnetic head, h 1 · · · MI effect element head (read head), h 2 · · · inductive head (magnetic induction type magnetic head: write head), 10 · · · MI effect elements, 12 ... MI effect element thin film, 13 ... ferromagnetic thin film,
14: antiferromagnetic thin film, 15: electrode film, 22: MI
Effect element thin film, 23: magnet layer (permanent magnet) 25: electrode film, 50: magnetic head core, 51: slider.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牧野 彰宏 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 アルプ ス電気株式会社内 (72)発明者 井上 明久 宮城県仙台市青葉区川内元支倉35番地 川 内住宅11−806 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Akihiro Makino Alps Electric Co., Ltd., 1-7 Yukitani Otsuka-cho, Ota-ku, Tokyo (72) Inventor Akihisa Inoue 35 Kawamoto Moto Hasekura, Aoba-ku, Sendai, Miyagi Prefecture, Japan House 11-806

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ΔTx=Tx−Tg(ただし、Txは結晶化
開始温度、Tgはガラス遷移温度を示す。)の式で表さ
れる過冷却液体の温度間隔ΔTxが20K以上のFe基
金属ガラス合金を主体としてなり、外部磁界によってイ
ンピーダンスの変化を生じる磁気インピーダンス効果素
子薄膜を外部磁界検出用として備えたことを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。
1. A temperature interval ΔT x of a supercooled liquid represented by an equation of ΔT x = T x −T g (where T x represents a crystallization start temperature and T g represents a glass transition temperature) is 20K. A thin-film magnetic head comprising a magneto-impedance effect element thin film mainly composed of the above-mentioned Fe-based metallic glass alloy, the impedance of which changes due to an external magnetic field, for detecting an external magnetic field.
【請求項2】 磁気媒体に媒体対向面を向けて相対移動
するスライダに書込ヘッドと読出ヘッドが設けられ、前
記書込ヘッドが薄膜状の上部コアと下部コアとそれらの
間に介在された磁気ギャップとコイル導体とを具備する
磁気誘導型構造とされ、前記読出ヘッドが磁気インピー
ダンス効果素子薄膜とこのインピーダンス効果素子薄膜
に接続された電極膜を具備して構成されたことを特徴と
する請求項1記載の薄膜磁気ヘッド。
2. A write head and a read head are provided on a slider which moves relatively to a magnetic medium with the medium facing surface facing the magnetic medium, and the write head is interposed between a thin-film upper core and a lower core. A magnetic induction type structure having a magnetic gap and a coil conductor, wherein the read head includes a magneto-impedance effect element thin film and an electrode film connected to the impedance effect element thin film. Item 7. The thin film magnetic head according to Item 1.
【請求項3】 前記磁気インピーダンス効果素子薄膜に
バイアス印加手段が付設されてなることを特徴とする請
求項1または2に記載の薄膜磁気ヘッド。
3. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein a bias applying means is provided on the magneto-impedance effect element thin film.
【請求項4】 前記バイアス印加手段が、前記磁気イン
ピーダンス効果素子薄膜に接続された永久磁石からなる
ことを特徴とする請求項3記載の薄膜磁気ヘッド。
4. The thin-film magnetic head according to claim 3, wherein said bias applying means comprises a permanent magnet connected to said magneto-impedance effect element thin film.
【請求項5】 前記バイアス印加手段が前記磁気インピ
ーダンス効果素子薄膜に積層された強磁性体薄膜とこの
強磁性体薄膜に積層された反強磁性体薄膜とを具備して
構成され、前記バイアスが前記反強磁性体薄膜により前
記強磁性体薄膜に誘起させた交換結合磁界により印加さ
れてなることを特徴とする請求項3記載の薄膜磁気ヘッ
ド。
5. The bias applying means includes a ferromagnetic thin film laminated on the magneto-impedance effect element thin film and an antiferromagnetic thin film laminated on the ferromagnetic thin film. 4. The thin-film magnetic head according to claim 3, wherein the thin-film magnetic head is applied by an exchange coupling magnetic field induced in the ferromagnetic thin film by the antiferromagnetic thin film.
【請求項6】 前記Fe基金属ガラス合金がFe以外の
他の金属元素と半金属元素を含有してなり、前記他の金
属元素としてAl、Ga、In、Snのうちの1種また
は2種以上が含有され、前記半金属元素としてP、C、
B、Geのうちの1種または2種以上が含有されてなる
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の薄膜
磁気ヘッド。
6. The Fe-based metallic glass alloy contains a metal element other than Fe and a metalloid element, and the other metal element is one or two of Al, Ga, In, and Sn. Containing the above, P, C, as the metalloid element
6. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein one or more of B and Ge are contained.
【請求項7】 前記Fe基金属ガラス合金の組成が原子
%で Al: 1 〜10% Ga: 0.5〜 4% P: 0 〜15% C: 2 〜 7% B: 2 〜10% Fe: 残部 であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載
の薄膜磁気ヘッド。
7. The composition of the Fe-based metallic glass alloy in atomic%: Al: 1 to 10% Ga: 0.5 to 4% P: 0 to 15% C: 2 to 7% B: 2 to 10% Fe The thin film magnetic head according to any one of claims 1 to 6, wherein:
【請求項8】 前記Fe基金属ガラス合金の組成が原子
%で Al: 1 〜10% Ga: 0.5〜 4% P: 0 〜15% C: 2 〜 7% B: 2 〜10% Si: 0 〜15% Fe: 残部 であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載
の薄膜磁気ヘッド。
8. The composition of the Fe-based metallic glass alloy in atomic%: Al: 1 to 10% Ga: 0.5 to 4% P: 0 to 15% C: 2 to 7% B: 2 to 10% Si The thin film magnetic head according to any one of claims 1 to 6, wherein: 0 to 15% Fe: balance.
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