JPH117123A - Waterless photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Waterless photosensitive lithographic printing plate

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Publication number
JPH117123A
JPH117123A JP9158823A JP15882397A JPH117123A JP H117123 A JPH117123 A JP H117123A JP 9158823 A JP9158823 A JP 9158823A JP 15882397 A JP15882397 A JP 15882397A JP H117123 A JPH117123 A JP H117123A
Authority
JP
Japan
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printing plate
group
weight
compound
lithographic printing
Prior art date
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Pending
Application number
JP9158823A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsushi Kitatani
克司 北谷
Mitsumasa Tsuchiya
光正 土屋
Tsumoru Hirano
積 平野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9158823A priority Critical patent/JPH117123A/en
Publication of JPH117123A publication Critical patent/JPH117123A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide such a waterless photosensitive lithographic printing plate for direct print having excellent thermal stability which enables direct print making from digital data by using a solid laser or a semiconductor laser (heat mode) having the emission region from near infrared to infrared. SOLUTION: This printing plate is produced by successively forming a photosensitive layer and a silicone rubber layer on a supporting body. The photosensitive layer contains (a) at least one crosslinking compd. selected from (a-1) aromatic compds. with substitution of alkoxymethyl groups or hydroxymethyl groups, (a-2) compds. having N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups, or N-acryloxymethyl groups, (a-3) an epoxy resin, and (b) an alkali soluble binder, (c) an IR absorbent, and (d) a compd. which produces acid by heat.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いない
で印刷が可能な湿し水不要感光性平版印刷版に関し、特
にコンピュータ等のデジタル信号から直接描画できるダ
イレクト製版用の湿し水不要感光性平版印刷版に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate requiring no fountain solution and capable of printing without using a fountain solution, and more particularly to a fountain solution for direct plate making that can be directly drawn from digital signals from a computer or the like. Unnecessary photosensitive lithographic printing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展はめざましく
特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるよう
になってきている。これらのレーザはコンピュータ等の
デジタルデータから直接製版する際の露光光源として非
常に有用である。
2. Description of the Related Art In recent years, lasers have been remarkably developed. In particular, high-power and small-sized solid-state lasers and semiconductor lasers having a light-emitting region from near infrared to infrared have become easily available. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.

【0003】従来コンピュータのデジタルデータから直
接描画できる高感度な湿し水不要平版印刷版として、特
公昭57−3516号公報、特開昭53−55211号
公報には、シリコーン樹脂からなるインキ反撥層上に、
電子写真を利用してトナー画像形成し画像部とする印刷
版が開示されている。特開昭54−44905号公報に
は銀塩乳剤層を積層し、高感度かつ広範囲な波長光での
露光が可能な印刷版が開示されている。また米国特許第
4,958,562号には基体上にシリコーンゴム層を
積層し、放電破壊によって画像部を形成するタイプの印
刷版等が知られている。
Conventionally, as a lithographic printing plate having high sensitivity and requiring no dampening solution that can be directly drawn from digital data of a computer, Japanese Patent Publication No. 57-3516 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 53-55211 disclose an ink repellent layer made of a silicone resin. above,
A printing plate in which an image portion is formed by forming a toner image using electrophotography is disclosed. JP-A-54-44905 discloses a printing plate in which a silver salt emulsion layer is laminated and which can be exposed to light with a wide range of wavelengths with high sensitivity. Further, U.S. Pat. No. 4,958,562 discloses a printing plate of a type in which a silicone rubber layer is laminated on a substrate and an image portion is formed by discharge breakdown.

【0004】更にコンピュータのデジタルデータをレー
ザ光により直接製版する際にはポジ型の材料はかなりの
書き込み時間を必要とするため、ネガ型が有利である。
ネガ型の湿し水不要感光性平版印刷版として、特公昭6
1−54222号、特公昭61−616号には支持体に
裏打ちされたO−ナフトキノンジアジドからなる光分解
型感光層の上にシリコーンゴム層を設けた湿し水不要感
光性平版印刷版が提案されている。また特開昭59−1
7552号、特公平3−56223号には同様の印刷版
を処理方法を調節することによりポジ型及びネガ型両用
とすることが提案されている。
Further, when digital data of a computer is directly made by a laser beam, a negative type is advantageous because a positive type material requires a considerable writing time.
As a negative type photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution,
No. 1-54222 and JP-B-61-616 propose a photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution in which a silicone rubber layer is provided on a photolytic photosensitive layer comprising O-naphthoquinonediazide backed by a support. Have been. Also, Japanese Patent Laid-Open No. 59-1
No. 7552 and Japanese Patent Publication No. 3-56223 propose that a similar printing plate is used for both a positive type and a negative type by adjusting the processing method.

【0005】最近それらに代わるネガ型湿し水不要感光
性平版印刷版として、感光層に光により酸を発生する化
合物(光酸発生剤)及び酸により加水分解等を生じ溶解
度が変化する化合物、必要に応じてバインダー樹脂等を
含有する組成物が報告されている。例えば特開昭63−
88556号には支持体上に、光酸発生剤、酸により分
解可能なC−O−C結合を有する化合物および水不溶性
バインダーを含有する感光層、さらに無定型ケイ酸から
なる中間層を介しシリコーンゴム層を有する湿し水不要
感光性平版印刷版を露光した後、現像液を用いて可溶化
した感光層を溶解除去すると同時に、その上のシリコー
ンゴム層も除去し、アルミニウム基板を露出せしめ画像
部とすることが提案されている。しかしながらこの場
合、感度は低く、この技術において用いられる実用上有
効な光酸発生剤の多くが450nm以下にしか吸収がないた
め、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザによる書き込みには適さなかった。
[0005] Recently, as a negative type lithographic printing plate requiring no fountain solution, a compound capable of generating an acid by light in a photosensitive layer (a photoacid generator) and a compound which undergoes hydrolysis or the like by an acid to change the solubility, A composition containing a binder resin and the like as necessary has been reported. For example, JP-A-63-
No. 88556 discloses that a silicone is provided on a support via a photoacid generator, a photosensitive layer containing a compound having a C—O—C bond decomposable by an acid and a water-insoluble binder, and an interlayer made of amorphous silicic acid. After exposing the photosensitive lithographic printing plate which does not require dampening water with a rubber layer, the photosensitive layer solubilized using a developer is dissolved and removed, and at the same time, the silicone rubber layer on top is also removed, exposing the aluminum substrate. Department is proposed. However, in this case, the sensitivity is low, and most of the practically effective photoacid generators used in this technology absorb only at 450 nm or less. Not suitable for writing.

【0006】本発明者らは先に特開平9−120157
号に、レゾール樹脂/ノボラック樹脂/赤外線吸収剤/
熱で酸を発生させる化合物を含む感光層上にシリコーン
ゴム層を積層したデジタル記録可能な湿し水不要感光性
平版印刷版を開示している。ここで開示された印刷板は
デジタル記録可能ではあるものの、安定性、特に、真夏
や高温地域におけるような高温度下に長期間保存した場
合の安定性が必ずしも充分ではなく、均一な現像がしに
くいことが、見いだされた。
The present inventors have previously described Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-120157.
No., resol resin / novolak resin / infrared absorber /
There is disclosed a digitally recordable fountain solution-free photosensitive lithographic printing plate in which a silicone rubber layer is laminated on a photosensitive layer containing a compound capable of generating an acid by heat. Although the printing plate disclosed herein is digitally recordable, its stability, especially when stored for a long period of time at a high temperature such as midsummer or a high-temperature region, is not always sufficient, and uniform development is not possible. Difficult things have been found.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従っ
て、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導
体レーザ(熱モード)を用いてコンピュータ等のデジタ
ルデータを直接記録することが可能であるとともに、熱
安定性に優れた直接製版用湿し水不要感光性平版印刷版
を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to directly record digital data from a computer or the like using a solid-state laser or semiconductor laser (heat mode) having a light emitting region from near infrared to infrared. And a photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution for direct plate making and having excellent thermal stability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の湿し水不要感光
性平版印刷版は、支持体上に、感光層、シリコーンゴム
層を順次積層してなり、該感光層が少なくとも、(a)下
記架橋性化合物より選択される少なくとも1種、即ち、
(a-1) アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物、(a-2) N−ヒドロキシメチ
ル基、N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキ
シメチル基を有する化合物、及び、(a-3) エポキシ系化
合物からなる群より選択される少なくとも1種、(b) ア
ルカリ可溶性バインダー、(c) 赤外線吸収剤、及び(d)
熱で酸を発生させる化合物(以下、酸前駆体という)を
含有することを特徴とする。
The photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution of the present invention comprises a support, on which a photosensitive layer and a silicone rubber layer are sequentially laminated, wherein the photosensitive layer comprises at least (a) At least one selected from the following crosslinkable compounds:
(a-1) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group, (a-2) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, and (a -3) at least one selected from the group consisting of epoxy compounds, (b) an alkali-soluble binder, (c) an infrared absorber, and (d)
It is characterized by containing a compound that generates an acid by heat (hereinafter, referred to as an acid precursor).

【0009】本発明は、感光性皮膜の作成条件によりポ
ジ型またはネガ型の湿し水不要平版印刷版となる。ポジ
型の湿し水不要平版印刷版を作成する場合は、画像露光
により露光部の酸前駆体から酸を発生させた後、加熱を
施して架橋剤成分とアルカリ可溶性バインダー成分とを
反応させて露光部を不溶化すると同時にシリコーン層の
接着性を高め非画像部とする。一方ネガ型の湿し水不要
平版印刷版を作成する場合には画像露光を施し露光部の
溶解性を向上すると同時にシリコーンゴム層の接着性を
低下させ画像部とすることができる。
According to the present invention, a positive or negative type lithographic printing plate not requiring a dampening solution is obtained depending on the conditions for forming the photosensitive film. When creating a positive fountain solution-free lithographic printing plate, after generating an acid from the acid precursor in the exposed portion by image exposure, heat is applied to react the crosslinking agent component and the alkali-soluble binder component. At the same time, the exposed portion is insolubilized and, at the same time, the adhesiveness of the silicone layer is increased to make it a non-image portion. On the other hand, when preparing a negative type lithographic printing plate requiring no dampening solution, image exposure can be performed to improve the solubility of the exposed portion and at the same time reduce the adhesiveness of the silicone rubber layer to form an image portion.

【0010】このような本発明の構成、特に成分(c)
の特定の赤外線吸収剤を用いることにより、固体レー
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いてデジタルデータ
を直接記録しても良好な感度が得られ、更に成分(a)
の特定の架橋性化合物を成分(b)のアルカリ可溶性の
バインダーに適用することで、熱安定性に優れた印刷版
を得ることができ、且つ、該印刷版はポジ型及びネガ型
の両方で書き込み時間がかからず露光後の簡易な処理に
よりポジまたはネガの画像を良好に得ることができる。
The constitution of the present invention, particularly the component (c)
By using the specific infrared absorber, good sensitivity can be obtained even when digital data is directly recorded by using a solid-state laser or a semiconductor laser (thermal mode), and the component (a)
By applying the specific crosslinking compound to the alkali-soluble binder of the component (b), a printing plate excellent in heat stability can be obtained, and the printing plate can be used in both positive and negative printing plates. A positive or negative image can be satisfactorily obtained by simple processing after exposure without writing time.

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

【0011】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明に用いる感光層は、上記(a)、(b)、(c)及
び(d)の成分を含有する感光性組成物である。まず、
本発明の成分(a)の架橋性化合物について説明する。
(a-1) アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基、若しくはアルコキシ
メチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環
化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られ
るフェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で重縮
合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾール樹脂は架
橋性に優れるものの、熱安定性が充分でなく、特に感光
性の材料に含有させて高温下に長期間保存した場合、均
一な現像が困難となり好ましくない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The photosensitive layer used in the present invention is a photosensitive composition containing the above components (a), (b), (c) and (d). First,
The crosslinkable compound of the component (a) of the present invention will be described.
(a-1) Examples of the aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group include, for example, an aromatic compound and a heterocyclic compound poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. No. However, it does not include resinous compounds obtained by polycondensing phenols and aldehydes known as resol resins under basic conditions. Although the resole resin is excellent in crosslinkability, it does not have sufficient thermal stability. In particular, when the resol resin is contained in a photosensitive material and stored at a high temperature for a long period of time, uniform development becomes difficult, which is not preferable.

【0012】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のな
かでは、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチ
ル基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい
例として挙げることができる。アルコキシメチル基の場
合はアルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記一般式
(1)〜(4)で表される化合物を挙げることができ
る。
Among aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group, a compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxy group may be mentioned as a preferred example. it can. In the case of an alkoxymethyl group, the alkoxymethyl group is preferably a compound having 18 or less carbon atoms. Particularly preferred examples include compounds represented by the following general formulas (1) to (4).

【0013】[0013]

【化1】 Embedded image

【0014】[0014]

【化2】 Embedded image

【0015】前記各式中、L1 〜L8 はそれぞれ独立に
メトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数十八
以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又
はアルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高
く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上
記に例示された架橋性化合物は、単独で使用してもよ
く、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
In the above formulas, L 1 to L 8 each independently represent a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted by an alkoxy group having 18 or less carbon atoms, such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like. These are preferred because they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability. The crosslinking compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

【0016】(a-2) N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開(以下、EP−Aと
記載する)第0,133,216号、西独特許第3,6
34,671号、同第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A
第0,212,482号に開示されたアルコキシ置換化
合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例え
ば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル基、N
−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が挙げら
れ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。
(A-2) As the compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, European Patent Publication (hereinafter referred to as EP-A) 0,133,216 No. 3, West German Patent 3,6
No. 34,671, No. 3,711,264, monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensate, EP-A
And the alkoxy-substituted compounds disclosed in No. 0,212,482. More preferred examples include, for example, at least two free N-hydroxymethyl groups, N
Melamine-formaldehyde derivatives having an -alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group are exemplified, and among them, an N-alkoxymethyl derivative is particularly preferred.

【0017】(a-3) エポキシ系化合物としては、一つ以
上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号公報、英
国特許第1,539,192号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。
(A-3) Examples of the epoxy compound include monomer, dimer, oligomer, and polymer epoxy compounds containing one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A with epichlorohydrin, a reaction product of a low molecular weight phenol-formaldehyde resin with epichlorohydrin and the like can be mentioned. Other examples include epoxy resins described and used in U.S. Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.

【0018】本発明に係る架橋性化合物は水無し平板印
刷板材料の全固形分中、5〜80重量%、好ましくは1
0〜75重量%、特に好ましくは20〜70重量%の範
囲である。架橋性化合物の添加量が5重量%未満である
と得られる水無し平板印刷板材料の感光層の耐久性が悪
化し、また、80重量%を超えると保存時の安定性の観
点から好ましくない。
The crosslinkable compound according to the present invention is 5 to 80% by weight, preferably 1% by weight, based on the total solids of the waterless lithographic printing plate material.
The range is from 0 to 75% by weight, particularly preferably from 20 to 70% by weight. If the addition amount of the crosslinking compound is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the obtained waterless lithographic printing plate material is deteriorated, and if it exceeds 80% by weight, it is not preferable from the viewpoint of storage stability. .

【0019】本発明で使用される(b)アルカリ可溶性
バインダーとしては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシ
スチレン、アクリル樹脂等を挙げることができる。本発
明で使用されるノボラック樹脂は、フェノール類とアル
デヒド類を、酸性条件下で縮合させて得られる樹脂であ
る。好ましいノボラック樹脂としては、例えば、フェノ
ールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、
m−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラ
ック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドから得ら
れるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒ
ドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−/
p−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、フェノール/クレゾール(o−、m−、
p−又はm−/p−、m−/o−、o−/p−混合のい
ずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドから得られ
るノボラック樹脂等が挙げられる。これらのノボラック
樹脂は、重量平均分子量が800〜200,000で、
数平均分子量が400〜60,000のものが好まし
い。
As the alkali-soluble binder (b) used in the present invention, novolak resin, polyhydroxystyrene, acrylic resin and the like can be mentioned. The novolak resin used in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include, for example, novolak resins obtained from phenol and formaldehyde,
Novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, m− /
Novolak resin obtained from p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (o-, m-,
p- or m- / p-, m- / o- or o- / p-mixture) and a novolak resin obtained from formaldehyde. These novolak resins have a weight average molecular weight of 800 to 200,000,
Those having a number average molecular weight of 400 to 60,000 are preferred.

【0020】本発明において使用されるノボラック樹脂
以外のアルカリ可溶性バインダーとしては、例えばポリ
ヒドロキシスチレン類、ヒドロキシスチレン−N−置換
マレイミド共重合体、ヒドロキシスチレン−無水マレイ
ン酸共重合体、アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポ
リマー、アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリマー
等が挙げられる。ここでアルカリ可溶性基としてはカル
ボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、ホス
ホン酸基、イミド基等が挙げられる。
Examples of the alkali-soluble binder other than the novolak resin used in the present invention include polyhydroxystyrenes, hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymers, hydroxystyrene-maleic anhydride copolymers, and alkali-soluble groups. Acrylic polymer having the same, a urethane type polymer having an alkali-soluble group, and the like. Here, examples of the alkali-soluble group include a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, and an imide group.

【0021】また、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ポ
リ−m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン
−N−置換マレイミド共重合体、p−ヒドロキシスチレ
ン−無水マレイン酸共重合体等のヒドロキシスチレン系
ポリマーを用いる場合には重量平均分子量が2000〜
500,000、さらに、4000〜300,000の
ものが好ましい。
Also, hydroxystyrene polymers such as poly-p-hydroxystyrene, poly-m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene-N-substituted maleimide copolymer and p-hydroxystyrene-maleic anhydride copolymer are used. When used, the weight average molecular weight is
500,000, and more preferably 4000 to 300,000.

【0022】アルカリ可溶性基を有するアクリル系ポリ
マーの例としては、メタクリル酸−ベンジルメタクリレ
ート共重合体、ポリ(ヒドロキシフェニルメタクリルア
ミド)、ポリ(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシエ
チルアクリレート)、ポリ(2、4−ジヒドロキシフェ
ニルカルボニルオキシエチルアクリレート)や、特願平
8−211731明細書に記載のポリマー等が挙げられ
る。これらのアクリル系ポリマーは重量平均分子量が2
000〜500,000、好ましくは4000〜30
0,000のものが好ましい。
Examples of the acrylic polymer having an alkali-soluble group include methacrylic acid-benzyl methacrylate copolymer, poly (hydroxyphenylmethacrylamide), poly (hydroxyphenylcarbonyloxyethyl acrylate), poly (2,4-dihydroxy Phenylcarbonyloxyethyl acrylate), and the polymers described in Japanese Patent Application No. Hei 8-211731. These acrylic polymers have a weight average molecular weight of 2
000 to 500,000, preferably 4000 to 30
000 is preferred.

【0023】アルカリ可溶性基を有するウレタン型ポリ
マーの例としては、ジフェニルメタンジイソシアネート
とヘキサメチレンジイソシアネート、テトラエチレング
リコール、2、2一ビス(ヒドロキシメチル)プロピオ
ン酸を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。これら
のアルカリ可溶性ポリマーのうち、ヒドロキシスチレン
系ポリマーおよびアルカリ可溶性基を有するアクリル系
共重合体は現像性の点で好ましい。
Examples of urethane-type polymers having an alkali-soluble group include resins obtained by reacting diphenylmethane diisocyanate with hexamethylene diisocyanate, tetraethylene glycol, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, and the like. Among these alkali-soluble polymers, a hydroxystyrene-based polymer and an acrylic copolymer having an alkali-soluble group are preferred from the viewpoint of developability.

【0024】本発明において、これらのアルカリ可溶性
バインダーは全画像記録材料固形分中、10〜90重量
%、好ましくは20〜85重量%、特に好ましくは30
〜80重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性の
高分子化合物の添加量が10重量%未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、90重量%を越えると感度、
耐久性の両面で好ましくない。また、これらのアルカリ
可溶性バインダーは、1種類のみで使用しても良いし、
あるいは2種類以上を組み合わせて使用しても良い。
In the present invention, these alkali-soluble binders are used in an amount of 10 to 90% by weight, preferably 20 to 85% by weight, particularly preferably 30 to 90% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
It is used at an addition amount of 8080% by weight. When the amount of the alkali-soluble polymer compound is less than 10% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated.
It is not preferable in terms of durability. Also, these alkali-soluble binders may be used alone,
Alternatively, two or more types may be used in combination.

【0025】本発明において赤外線吸収剤(c)として
は、公知である種々の顔料もしくは染料が用いられる。
赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適
に用いられる。赤外光を吸収する染料としてはシアニン
系、メロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウ
ム系、金属ジチオレン類、ナフトキノン系、ピリリウム
系等が挙げられ、例えば「赤外増感色素」(松岡著 Ple
num Press,New York,NY(1990))に記載の増感色素、特
開昭58−125246号、同59−84356号、同
59−202829号、同60−78787号等に記載
されているシアニン染料、特開昭58−173696
号、同58−181690号、同58−194595号
等に記載されているメチン染料、特開昭58−1127
93号、同58−224793号、同59−48187
号、同59−73996号、同60−52940号、同
60−63744号等に記載されているナフトキノン染
料、特開昭58−112792号等に記載されているス
クアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシ
アニン染料等が好適に用いられる。また米国特許第5,
156,938号記載の近赤外吸収剤、米国特許第3,
881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チ
オ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号記載の
トリメチンチオピリリウム塩、特開昭58−18105
1号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号記載の
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号記載
のペンタメチンチオピリリウム塩や特公平5−1351
4号、同5−19702号公報に開示されているピリリ
ウム化合物は特に好ましく用いられる。
In the present invention, various known pigments or dyes are used as the infrared absorbent (c).
Carbon black is preferably used as a pigment that absorbs infrared light. Examples of dyes that absorb infrared light include cyanine-based, merocyanine-based, phthalocyanine-based, squarylium-based, metal dithiolenes, naphthoquinone-based, and pyrylium-based dyes.
num Press, New York, NY (1990)), and cyanines described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Dye, JP-A-58-173696
Methine dyes described in JP-A Nos. 58-181690 and 58-194595;
No. 93, No. 58-224793, No. 59-48187
Nos. 59-73996, 60-52940 and 60-63744, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and British Patent 434,875. The described cyanine dyes and the like are preferably used. U.S. Pat.
No. 156,938, a near-infrared absorber, U.S. Pat.
Substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in JP-A-881,924, trimethinethiopyrylium salts described in JP-A-57-142645, JP-A-58-18105.
No. 1, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061; pyrylium compounds described in JP-A-59-216146; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; U.S. Pat. No. 475, pentamethine thiopyrylium salt and JP-B 5-1351.
The pyrylium compounds disclosed in JP-A Nos. 4 and 5-19702 are particularly preferably used.

【0026】また特に好ましい別の例として米国特許
4,756,993号明細書中に式(I)(II)とし
て記載されている近赤外吸収染料をあげることができ
る。これらの顔料もしくは染料は、感光層組成物全固形
分に対し、0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜
20重量%の割合で添加することができる。
Another particularly preferred example is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer composition.
It can be added in a proportion of 20% by weight.

【0027】本発明で使用される(d)熱で酸を発生さ
せる化合物(酸前駆体)としては、公知の酸を発生する
化合物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用する
ことができる。例えば S. I. Schlesinger, Photogr. S
ci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polyme
r, 21, 423(1980) に記載のジアゾニウム塩、米国特許
第4,069,055 号、同4,069,056 号、特開平4-365049号の
明細書に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et al,
Macromolecules, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, T
eh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct
(1988)、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記
載のホスホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromor
ecules, 10(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, No
v. 28, p31 (1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許
第339,049 号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特
開平2-296514号に記載のヨードニウム塩、J. V. Crivel
lo et al,Polymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello
et al. J. Org. Chem., 43, 3055(1978)、W. R. Watt e
t al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789
(1984) 、J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14,
279 (1985) 、J. V. Crivello et al, Macromorecule
s, 14(5) ,1141(1981)、J. V. Crivelloet al, J. Pol
ymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧
州特許第370,693 号, 同3,902,114 号、同233,567 号、
同297,443 号、同297,442 号、米国特許第4,933,377
号、同161,811 号、同410,201 号、同339,049 号、同4,
760,013 号、同4,734,444 号、同2,833,827 号、独国特
許第2,904,626 号、同3,604,580 号、同3,604,581 号に
記載のスルホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macrom
orecules, 10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivello et a
l, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1
979) に記載のセレノニウム塩、C. S. Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. CuringASIA, p478 Tokyo, Oct (198
8)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第
3,905,815 号、特公昭46-4605 号、特開昭48-36281号、
特開昭55-32070号、特開昭60-239736 号、特開昭61-169
835 号、特開昭61-169837 号、特開昭62-58241号、特開
昭62-212401 号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339
号に記載の有機ハロゲン化合物、K. Meier et al, J. R
ad. Curing, 13(4), 26 (1986)、T. P. Gill et al, In
org . Chem., 19, 3007 (1980) 、D. Astruc, Acc. Ch
em.Res., 19(12), 377 (1896 ) 、特開平2-161445号に
記載の有機金属/有機ハロゲン化物、S. Hayase et al,
J. Polymer Sci., 25, 753 (1987) 、E. Reichmanis
et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1
(1985) 、Q. Q. Zhu et al, J. Photochem., 36, 85,
39, 317 (1987) 、B. Amit et al,Tetrahedron Lett.,
(24) 2205 (1973),D. H. R. Barton et al,J. Chem So
c., 3571 (1965) 、P. M. Collins et al, J. Chem. So
c., PerkinI, 1695 (1975)、M. Rudinstein et al, Tet
rahedron Lett., (17), 1445 (1975) 、J. W. Walker e
t al, J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988) 、S. C.
Busman et al, J. Imaging Technol., 11(4), 191 (198
5)、H. M. Houlihan et al, Macoromolecules, 21, 200
1 (1988)、P. M. Collins etal, J. Chem. Soc., Chem.
Commun., 532 (1972) 、S. Hayase et al,Macromolecu
les, 18, 1799 (1985) 、E. Reichmanis et al, J. Ele
ctrochem. Soc., Solid State Sci. Technol., 130
(6)、F. M. Houlihan et al,Macromolecules, 21, 2001
(1988) 、欧州特許第0290,750号、同046,083 号、同15
6,535 号、同271,851 号、同0,388,343 号、米国特許第
3,901,710 号、同4,181,531 号、特開昭60-198538 号、
特開昭53-133022 号に記載のo−ニトロベンジル型保護
基を有する光酸発生剤、M. Tunooka et al, Polymer Pr
eprints Japan,38(8)、G. Berner et al, J. Rad. Curi
ng, 13(4)、W. J. Mijs et al,Coating Technol., 55(6
97), 45 (1983)、Akzo, H. Adachi et al, PolymerPrep
rints, Japan, 37(3) 、欧州特許第0199,672号、同8451
5 号、同199,672 号、同044,115 号、同0101,122号、米
国特許第4,618,564 号、同4,371,605 号、同4,431,774
号、特開昭64-18143号、特開平2-245756号、特開平4-36
5048号に記載のイミノスルフォネート等に代表される、
光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166
544 号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。
As the compound (acid precursor) that generates an acid by heat (d) used in the present invention, known compounds that generate an acid and mixtures thereof can be appropriately selected and used. . For example, SI Schlesinger, Photogr. S
ci. Eng., 18, 387 (1974), TS Bal et al, Polyme
r, 21, 423 (1980), diazonium salts, U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, ammonium salts described in the specification of JP-A-4-365049, DC Necker et al.
Macromolecules, 17, 2468 (1984), CS Wen et al, T
eh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct
(1988), U.S. Patent Nos. 4,069,055 and 4,069,056, JV Crivello et al, Macromor
ecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, No.
v. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, U.S. Pat.Nos. 339,049 and 410,201, JP-A-2-150848, Iodonium salts described in JP-A-2-295514, JV Crivel
lo et al, Polymer J. 17, 73 (1985), JV Crivello
et al. J. Org. Chem., 43, 3055 (1978), WR Watt e
t al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789
(1984), JV Crivello et al, Polymer Bull., 14,
279 (1985), JV Crivello et al, Macromorecule
s, 14 (5), 1141 (1981), JV Crivelloet al, J. Pol
ymer Sci., Polymer Chem.Ed., 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 3,902,114, 233,567,
Nos. 297,443 and 297,442; U.S. Patent No. 4,933,377
Nos. 161,811, 410,201, 339,049, 4,
760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581, sulfonium salts described in JV Crivello et al, Macrom
orecules, 10 (6), 1307 (1977), JV Crivello et a
l, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1
979), CS Wen et al, Teh,
Proc. Conf. Rad. CuringASIA, p478 Tokyo, Oct (198
Onium salts such as arsonium salts described in 8), U.S. Pat.
3,905,815, JP-B-46-4605, JP-A-48-36281,
JP-A-55-32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169
835, JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339
Organohalogen compounds described in K. Meier et al, J. R
ad. Curing, 13 (4), 26 (1986), TP Gill et al, In
org.Chem., 19, 3007 (1980), D. Astruc, Acc. Ch.
em. Res., 19 (12), 377 (1896), and organometallic / organic halides described in JP-A-2-14145, S. Hayase et al,
J. Polymer Sci., 25, 753 (1987), E. Reichmanis
et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1
(1985), QQ Zhu et al, J. Photochem., 36, 85,
39, 317 (1987), B. Amit et al, Tetrahedron Lett.,
(24) 2205 (1973), DHR Barton et al, J. Chem So
c., 3571 (1965), PM Collins et al, J. Chem. So
c., PerkinI, 1695 (1975), M. Rudinstein et al, Tet.
rahedron Lett., (17), 1445 (1975), JW Walker e
t al, J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SC
Busman et al, J. Imaging Technol., 11 (4), 191 (198
5), HM Houlihan et al, Macoromolecules, 21, 200
1 (1988), PM Collins etal, J. Chem. Soc., Chem.
Commun., 532 (1972), S. Hayase et al, Macromolecu
les, 18, 1799 (1985), E. Reichmanis et al, J. Ele
ctrochem. Soc., Solid State Sci. Technol., 130
(6), FM Houlihan et al, Macromolecules, 21, 2001.
(1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, and 15
Nos. 6,535, 271,851, 0,388,343, U.S. Pat.
3,901,710, 4,181,531, JP-A-60-198538,
A photoacid generator having an o-nitrobenzyl type protecting group described in JP-A-53-133022, M. Tunooka et al, Polymer Pr.
eprints Japan, 38 (8), G. Berner et al, J. Rad. Curi
ng, 13 (4), WJ Mijs et al, Coating Technol., 55 (6
97), 45 (1983), Akzo, H. Adachi et al, PolymerPrep.
rints, Japan, 37 (3), European Patent Nos. 0199,672 and 8451
No. 5, No. 199,672, No. 044,115, No. 0101,122, U.S. Pat.Nos. 4,618,564, 4,371,605, 4,431,774
No., JP-A-64-18143, JP-A-2-245756, JP-A-4-36
Represented by iminosulfonate and the like described in No. 5048,
Compound that generates sulfonic acid by photolysis, JP-A-61-166
The disulfone compound described in No. 544 can be mentioned.

【0028】またこれらの酸を発生する基、あるいは化
合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. Soc., 104,
5586 (1982)、S. P. Pappas et al, J. Imaging Sci.,
30(5),218 (1986)、S. Kondo et al. Makromol. Che
m., Rapid Commun., 9,625 (1988)、Y. Yamada et al,M
akromol. Chem., 152, 153, 163 (1972)、J. V. Crivel
lo et al. J. PolymerSci., Polymer Chem. Ed., 17, 3
845 (1979) 、米国特許第3,849,137 号、独国特許第3,9
14,407 号、特開昭63-26653号、特開昭55-164824 号、
特開昭62-69263号、特開昭63-1460387号、特開昭63-163
452 号、特開昭62-153853 号、特開昭63-146029 号に記
載の化合物を用いることができる。
Compounds in which these acid-generating groups or compounds are introduced into the main chain or side chain of the polymer, for example, ME Woodhouse et al, J. Am. Chem. Soc., 104,
5586 (1982), SP Pappas et al, J. Imaging Sci.,
30 (5), 218 (1986), S. Kondo et al. Makromol. Che
m., Rapid Commun., 9,625 (1988), Y. Yamada et al, M.
akromol.Chem., 152, 153, 163 (1972), JV Crivel
lo et al. J. PolymerSci., Polymer Chem. Ed., 17, 3
845 (1979), U.S. Patent 3,849,137, German Patent 3,9
No. 14,407, JP-A-63-26653, JP-A-55-164824,
JP-A-62-69263, JP-A-63-1460387, JP-A-63-163
Compounds described in JP-A No. 452, JP-A-62-153853 and JP-A-63-146029 can be used.

【0029】更に、V. N. R. Pillai, Synthesis, (1),
1(1980)、A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47)45
55 (1971) 、D. H. R. Barton et al, J. Chem. Soc.,
(C),3 29 (1970) 、米国特許第3,779,778 号、欧州特許
第126,712 号に記載の光により酸を発生する化合物も使
用することができる。
Further, VNR Pillai, Synthesis, (1),
1 (1980), A. Abad et al, Tetrahedron Lett., (47) 45
55 (1971), DHR Barton et al, J. Chem. Soc.,
(C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, and EP 126,712 can also be used.

【0030】上記酸前駆体の中で、特に有効に用いられ
るものについて以下に説明する。 (1) トリハロメチル基が置換した下記一般式(I) で
表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式(II) で
表されるS−トリアジン誘導体。
Among the above-mentioned acid precursors, particularly effective ones will be described below. (1) An oxazole derivative represented by the following general formula (I) or an S-triazine derivative represented by the following general formula (II) substituted by a trihalomethyl group.

【0031】[0031]

【化3】 Embedded image

【0032】式中、R1 は置換もしくは未置換のアリー
ル基又はアルケニル基であり、R2は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−CY
3 を表す。Yは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体(I) 及びS−トリアジン誘導体(I
I) の具体例としては、以下のI−1〜8及びII−1
〜10の化合物を挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。
In the formula, R 1 is a substituted or unsubstituted aryl or alkenyl group, and R 2 is a substituted or unsubstituted aryl, alkenyl, alkyl or —CY.
Represents 3 . Y represents a chlorine atom or a bromine atom. The oxazole derivative (I) and the S-triazine derivative (I
Specific examples of I) include the following I-1 to 8 and II-1
However, the present invention is not limited thereto.

【0033】[0033]

【化4】 Embedded image

【0034】[0034]

【化5】 Embedded image

【0035】[0035]

【化6】 Embedded image

【0036】[0036]

【化7】 Embedded image

【0037】[0037]

【化8】 Embedded image

【0038】(2) 下記一般式(III)で表されるヨー
ドニウム塩又は下記一般式(IV)で表されるスルホニ
ウム塩。
(2) An iodonium salt represented by the following general formula (III) or a sulfonium salt represented by the following general formula (IV).

【0039】[0039]

【化9】 Embedded image

【0040】式中、Ar1 及びAr2 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。好ましい置換基として
は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプ
ト基及びハロゲン原子が挙げられる。R3 、R4 及びR
5 は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素数6〜14のアリー
ル基、炭素数1〜8のアルキル基又はそれらの置換誘導
体である。好ましい置換基は、アリール基に対しては炭
素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルキル
基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基又はハロ
ゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素1〜8のア
ルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基
である。
In the formula, Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group,
Examples include an aryl group, an alkoxy group, a nitro group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a mercapto group, and a halogen atom. R 3 , R 4 and R
5 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferably, it is an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a substituted derivative thereof. Preferred substituents are an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group or a halogen atom for the aryl group, and a carbon atom for the alkyl group. 1 to 8 alkoxy groups, carboxyl groups, and alkoxycarbonyl groups.

【0041】Z- は対アニオンを示し、例えば BF4−、
AsF6−、 PF6 − 、 SbF6 − 、 SiF6− 、ClO4− 、CF3SO
−、 BPh4−(Ph=フェニル)、ナフタレン−1−スルホ
ン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン、
9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸ア
ニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、スルホ
ン酸基含有染料等を挙げることができるが、これらに限
定されるものではない。
[0041] Z - represents a counter anion, for example BF 4 -,
AsF 6 −, PF 6 −, SbF 6 −, SiF 6 −, ClO 4 −, CF 3 SO
-, BPh 4 - (Ph = phenyl), naphthalene-1-sulfonic acid anion, anthraquinone sulfonic acid anion,
Examples thereof include, but are not limited to, condensed polynuclear aromatic sulfonic acid anions such as 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid anion, and a sulfonic acid group-containing dye.

【0042】また、R3 、R4 及びR5 のうちの2つ並
びにAr1 及びAr2 はそれぞれ単結合又は置換基を介
して結合してもよい。一般式(III)及び(IV)で
示される上記オニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Kn
apczyk et al, J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969) 、
A. L. Maycoket al, J. Org. Chem., 35, 2532 (197
0)、E. Goethas et al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73,
546, (1964) 、H.M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 5
1, 3587(1929) 、J. B. Crivello et al, J. Polym. Ch
em. Ed., 18, 2677 (1980) 、米国特許第2,807,648 号
及び同4,247,473 号、特開昭53-101331 号に記載の方法
により合成することができる。
Further, two of R 3 , R 4 and R 5 and Ar 1 and Ar 2 may be bonded through a single bond or a substituent. The onium salts represented by the general formulas (III) and (IV) are known, for example, JW Kn
apczyk et al, J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969),
AL Maycoket al, J. Org.Chem., 35, 2532 (197
0), E. Goethas et al, Bull. Soc. Chem. Belg., 73,
546, (1964), HM Leicester, J. Am. Chem. Soc., 5
1, 3587 (1929), JB Crivello et al, J. Polym. Ch
em. Ed., 18, 2677 (1980), U.S. Pat. Nos. 2,807,648 and 4,247,473, and JP-A-53-101331.

【0043】一般式(III)及び(IV)のオニウム
化合物の具体例としては、以下に示す化合物III−1
〜20及びIV−1〜34が挙げられるが、これに限定
されるものではない。
Specific examples of the onium compounds of the general formulas (III) and (IV) include the following compound III-1
-20 and IV-1 to 34, but are not limited thereto.

【0044】[0044]

【化10】 Embedded image

【0045】[0045]

【化11】 Embedded image

【0046】[0046]

【化12】 Embedded image

【0047】[0047]

【化13】 Embedded image

【0048】[0048]

【化14】 Embedded image

【0049】[0049]

【化15】 Embedded image

【0050】[0050]

【化16】 Embedded image

【0051】[0051]

【化17】 Embedded image

【0052】[0052]

【化18】 Embedded image

【0053】[0053]

【化19】 Embedded image

【0054】[0054]

【化20】 Embedded image

【0055】[0055]

【化21】 Embedded image

【0056】[0056]

【化22】 Embedded image

【0057】[0057]

【化23】 Embedded image

【0058】[0058]

【化24】 Embedded image

【0059】(3) 下記一般式(V)で表されるジスル
ホン誘導体又は下記一般式(VI)で表されるイミノス
ルホネート誘導体。 Ar3 −SO2 −SO2 −Ar4 (V)
(3) Disulfone derivatives represented by the following general formula (V) or iminosulfonate derivatives represented by the following general formula (VI). Ar 3 —SO 2 —SO 2 —Ar 4 (V)

【0060】[0060]

【化25】 Embedded image

【0061】式中、Ar3 及びAr4 は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。R 6 は置換もしくは未
置換のアルキル基又はアリール基を表す。A1 は置換も
しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基又はアリ
ーレン基を示す。一般式(V)及び(VI) で示される
化合物の具体例としては、以下に示す化合物V−1〜1
2及びVI−1〜12が挙げられるが、これらに限定さ
れるものではない。
Where ArThreeAnd ArFourAre each independently substituted
Or an unsubstituted aryl group. R 6Is replaced or not
Represents a substituted alkyl group or an aryl group. A1Also replace
Or an unsubstituted alkylene group, alkenylene group or
Represents a diene group. Represented by the general formulas (V) and (VI)
Specific examples of the compound include compounds V-1 to V-1 shown below.
2 and VI-1 to 12, but are not limited thereto.
It is not something to be done.

【0062】[0062]

【化26】 Embedded image

【0063】[0063]

【化27】 Embedded image

【0064】[0064]

【化28】 Embedded image

【0065】[0065]

【化29】 Embedded image

【0066】[0066]

【化30】 Embedded image

【0067】[0067]

【化31】 Embedded image

【0068】[0068]

【化32】 Embedded image

【0069】[0069]

【化33】 Embedded image

【0070】これらの酸前駆体の添加量は感光層組成物
の全固形分を基準として0.001 〜40重量%の範囲であ
り、好ましくは0.1 〜20重量%の範囲である。酸前駆体
の添加量が少なすぎると感度が低下し、また多すぎても
感度は一定以上あがらずコストの面で不利である。
The addition amount of these acid precursors is in the range of 0.001 to 40% by weight, preferably in the range of 0.1 to 20% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer composition. If the added amount of the acid precursor is too small, the sensitivity is lowered, and if it is too large, the sensitivity does not rise above a certain level, which is disadvantageous in cost.

【0071】露光後直ちに可視画像を得るための焼出し
剤として、露光による熱によって酸を放出する化合物と
塩を形成しうる有機染料との組合せを挙げることができ
る。具体的には特開昭50−36209号公報、特開昭
53−8128号公報記載のo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報記載のトリハロメチル化合物と塩形成性有
機染料の組合せを挙げることができる。画像の着色剤と
して前記の塩形成性有機染料以外の染料も用いることが
できる。塩形成性有機染料も含めて好適な染料としては
油溶性染料又は塩基性染料がある。具体的には、例えば
オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、オ
イルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブル
ーBOS、オイルブラックBY、オイルブラックBS、
オイルブラックT−505(以上オリエンタル化学工業
(株)製)、クリスタルバイオレット(CI4255
5)、メチルバイオレット(CI42535)、ローダ
ミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(C
I42000)、メチレンブルー(CI52015)な
どを挙げることができる。
Examples of the printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure include a combination of a compound which releases an acid by heat due to exposure and an organic dye which can form a salt. Specifically, a combination of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A-53-36223. JP-A-54-74
No. 728, a combination of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye. Dyes other than the salt-forming organic dyes described above can also be used as colorants for images. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes or basic dyes. Specifically, for example, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 130, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Black BY, Oil Black BS,
Oil black T-505 (all manufactured by Oriental Chemical Industry Co., Ltd.), crystal violet (CI4255)
5), methyl violet (CI42535), rhodamine B (CI45170B), malachite green (C
I42000), methylene blue (CI52015) and the like.

【0072】これらの染料は、感光層組成物の全固形分
に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3
重量%の割合で感光層組成物中に添加することができ
る。なお、本発明の赤外線吸収剤により十分な濃度の可
視画像が得られる場合、このような染料を添加する必要
はない。
These dyes are used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight, based on the total solid content of the photosensitive layer composition.
It can be added to the photosensitive layer composition in a proportion of% by weight. In addition, when a visible image having a sufficient density can be obtained by the infrared absorbent of the present invention, it is not necessary to add such a dye.

【0073】また本発明の感光層組成物には必要に応じ
て塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例えば
エチルセルロース、メチルセルロース)、シリコーン系
界面活性剤、フッ素系界面活性剤やフッ素系表面配向
剤、膜の柔軟性や耐摩耗性を付与するための可塑剤(例
えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、
リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸トリ
ブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等)及び追加の増感剤などを添加することができ
る。更にシリコーンゴム層との接着性を強化するためシ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤等を添加し
ても良い。添加量はその使用目的によって異なるが、一
般には感光層組成物の全固形分に対して0.3〜30重量%
である。
In the photosensitive layer composition of the present invention, alkyl ethers (for example, ethyl cellulose and methyl cellulose) for improving coating properties, silicone surfactants, fluorine surfactants and fluorine surface alignments may be used, if necessary. Agents, plasticizers for imparting film flexibility and abrasion resistance (for example, tricresyl phosphate, dimethyl phthalate,
Trioctyl phosphate, tributyl phosphate, tributyl citrate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) and additional sensitizers and the like. Further, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or the like may be added to enhance the adhesiveness with the silicone rubber layer. The amount added varies depending on the purpose of use, but is generally 0.3 to 30% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer composition.
It is.

【0074】本発明の感光層組成物は上記各成分を溶解
する溶剤に溶解し塗布に用いられる。ここで使用する溶
媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール
モノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、
1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエ
タン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチ
ルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、酢酸
エチル、ジオキサンなどがあり、これらの溶媒を単独あ
るいは混合して使用する。
The photosensitive layer composition of the present invention is dissolved in a solvent that dissolves the above-mentioned components and used for coating. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether,
1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate,
1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, There are toluene, ethyl acetate, dioxane and the like, and these solvents are used alone or as a mixture.

【0075】溶媒中の上記成分(添加物を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは2〜50重量%である。また
塗布量は一般的に固形分として好ましくは0.2〜5.
0g/m2 でありが、より好ましくは0.3〜3.0g
/m2 である。
The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 2 to 50% by weight. The coating amount is generally preferably 0.2 to 5.
0 g / m 2 , more preferably 0.3 to 3.0 g
/ M 2 .

【0076】上記の塗布用溶液は公知の塗布技術を用い
て支持体上に塗布される。塗布技術の例としては、回転
塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアー
ナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カーテ
ン塗布法及びスプレー塗布法等を挙げることができる。
The above coating solution is coated on a support using a known coating technique. Examples of the coating technique include spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, curtain coating, and spray coating.

【0077】本発明で用いられる支持体は、通常の印刷
機にセットできる程度のたわみ性と印刷時にかかる荷重
とに耐えるものでなければならない。従って代表的な支
持体としては、コート紙、アルミニウムのような金属
板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチック
フィルム、ゴム、あるいはそれらを複合させたものを挙
げることができ、より好ましくはアルミニウムおよびア
ルミニウム含有(例えばケイ素、銅、マンガン、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの
金属とアルミニウムとの合金)合金である。
The support used in the present invention must be flexible enough to be set in an ordinary printing press and withstand the load applied during printing. Accordingly, typical supports include coated paper, metal plates such as aluminum, plastic films such as polyethylene terephthalate, rubber, and composites thereof, and more preferably aluminum and aluminum-containing ( For example, it is an alloy (alloy) of aluminum with a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth and nickel.

【0078】本発明においては、支持体と感光層との間
にプライマー層を設けても良い。本発明に用いられるプ
ライマー層としては、基板と感光層間の接着性向上、ハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のために種
々のものを使用することができる。例えば特開昭60−
22903号公報に開示されているような種々の感光性
ポリマーを感光層を積層する前に露光して硬化せしめた
もの、特開昭62−50760号公報に開示されている
エポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭63−13
3151号公報に開示されているゼラチンを硬膜せしめ
たもの、さらに特開平3−200965号公報に開示さ
れているウレタン樹脂とシランカップリング剤を用いた
ものや特開平3−273248号公報に開示されている
ウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。
この他ゼラチンまたはカゼインを硬膜させたものも有効
である。更にプライマー層を柔軟化させる目的で、前記
のプライマー層中にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボン酸変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレン、アクリレート
ゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン等のポリマーを添加しても良い。その添加割
合は任意でありフィルム層を形成できる範囲であれば添
加剤だけでプライマー層を形成しても良い。またこれら
のプライマー層には前記の目的に沿って染料、pH指示
薬、焼き出し剤、光重合開始剤、接着助剤(例えば重合
性モノマー、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタ
ネートカップリング剤やアルミニウムカップリング
剤)、顔料、シリカ粉末や酸化チタン粉末等の添加剤を
含有させることもできる。また塗布後、露光によって硬
化させることもできる。一般にプライマー層の塗布量は
0.1〜20g/m2 の範囲が適当であり、好ましくは
1〜10g/m2 であり、より好ましくは1〜5g/m
2 である。
In the present invention, a primer layer may be provided between the support and the photosensitive layer. As the primer layer used in the present invention, various layers can be used for improving adhesion between the substrate and the photosensitive layer, preventing halation, dyeing an image, and improving printing characteristics. For example, JP
Various photosensitive polymers such as those disclosed in Japanese Patent No. 22903 are exposed and cured before laminating a photosensitive layer, and the epoxy resins disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-50760 are thermally cured. JP-A-63-13
No. 3,151, hardened gelatin, further disclosed in JP-A-3-200965, using a urethane resin and a silane coupling agent, and disclosed in JP-A-3-273248. And the like using a urethane resin.
In addition, those obtained by hardening gelatin or casein are also effective. For the purpose of further softening the primer layer, polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber having a glass transition temperature of room temperature or lower in the primer layer,
Polymers such as carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxylic acid-modified acrylonitrile / butadiene rubber, polyisoprene, acrylate rubber, polyethylene, chlorinated polyethylene, and chlorinated polypropylene may be added. The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed with only the additive as long as the film layer can be formed. In addition, these primer layers are provided with a dye, a pH indicator, a printing-out agent, a photopolymerization initiator, and an adhesion assistant (for example, polymerizable monomers, diazo resins, silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum Coupling agents), pigments, and additives such as silica powder and titanium oxide powder. After the application, it can be cured by exposure. Generally, the coating amount of the primer layer is suitably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 , preferably 1 to 10 g / m 2 , and more preferably 1 to 5 g / m 2.
2

【0079】本発明において用いられる架橋を行ったシ
リコーンゴム層は、下記組成物A、またはBを硬化して
形成した皮膜である。
The crosslinked silicone rubber layer used in the present invention is a film formed by curing the following composition A or B.

【0080】 組成物A ジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000〜40,000) 100重量部 縮合型架橋剤 3〜70重量部 触媒 0.01〜40重量部 前記成分のジオルガノポリシロキサンは、下記一般式
で示されるような繰り返し単位を有するポリマーで、R
7 およびR8 は炭素数1〜10のアルキル基、ビニル
基、アリール基であり、またその他の適当な置換基を有
していても良い。一般的には、R7 およびR8 の60%
以上がメチル基、あるいはハロゲン化ビニル基、ハロゲ
ン化フェニル基などであるものが好ましい。
Composition A Diorganopolysiloxane (number average molecular weight is 3,000 to 40,000) 100 parts by weight Condensation type crosslinking agent 3 to 70 parts by weight Catalyst 0.01 to 40 parts by weight A polymer having a repeating unit represented by the formula:
7 and R 8 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a vinyl group or an aryl group, and may have other suitable substituents. Generally, 60% of R 7 and R 8
The above are preferably a methyl group, a vinyl halide group, a halogenated phenyl group, or the like.

【0081】[0081]

【化34】 Embedded image

【0082】このようなジオルガノポリシロキサンは両
末端に水酸基を有するものを用いるのが好ましい。また
前記成分f、数平均分子量が3,000 〜40,000であり、
より好ましくは5,000 〜36,000である。また成分は縮
合型のものであればいずれであっても良いが、次の一般
式で示されるようなものが好ましい。
It is preferable to use a diorganopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends. In addition, the component f has a number average molecular weight of 3,000 to 40,000,
More preferably, it is 5,000 to 36,000. The components may be of any type as long as they are of the condensation type, but those represented by the following general formula are preferred.

【0083】 R7 m ・Si・Xn (m+n=4,nは2以上)
ここでR7 は先に説明したR7 と同じ意味であり、Xは
次に示すような置換基である。 ・Cl,Br,Iなどのハロゲン ・HまたはOH、OCOR9 、OR9 、−O−N=CR
1011、−NR1011などの有機置換基。
R 7 m · Si · X n (m + n = 4, n is 2 or more)
Here, R 7 has the same meaning as R 7 described above, and X is a substituent as shown below. Halogen such as Cl, Br, I, etc. H or OH, OCOR 9 , OR 9 , -ON = CR
10 R 11, an organic substituent such as -NR 10 R 11.

【0084】ここでR9 は炭素数1〜10のアルキル基
および炭素数6〜20のアリール基、R10、R11は炭素
数1〜10のアルキル基を示す。成分は錫、亜鉛、
鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、例
えばラウリン酸ジブチル、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛
など、あるいは塩化白金酸のような公知の触媒があげら
れる。
Here, R 9 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 10 and R 11 are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. The components are tin, zinc,
Examples of the metal carboxylate such as lead, calcium, and manganese include known catalysts such as dibutyl laurate, lead octylate, and lead naphthenate, and chloroplatinic acid.

【0085】 組成物B 付加反応性官能基を有するジオルガノポリシロキサン (数平均分子量が3,000 〜100,000) 100重量部 オルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.1〜10重量部 付加触媒 0.00001〜1重量部Composition B Diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group (number average molecular weight: 3,000 to 100,000) 100 parts by weight Organohydrogenpolysiloxane 0.1 to 10 parts by weight Addition catalyst 0.00001 to 1 part by weight

【0086】上記の付加反応性官能基を有するジオル
ガノポリシロキサンとは、1分子中にケイ素原子に直接
結合したアルケニル基(より好ましくはビニル基)を少
なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(数平均分
子量が3,000 〜40,000)で、アルケニル基は分子鎖末
端、中間いずれにあってもよく、アルケニル基以外の有
機基としては、置換もしくは非置換の炭素数1〜10の
アルキル基、アリール基である。また成分には水酸基
を微量有することも任意である。成分は数平均分子量
が3,000 〜40,000であり、より好ましくは5,000 〜36,0
00である。
The above-mentioned diorganopolysiloxane having an addition-reactive functional group is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (more preferably, vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule (number-average molecular weight). Is 3,000 to 40,000), and the alkenyl group may be at the terminal of the molecular chain or in the middle, and the organic group other than the alkenyl group is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group having 1 to 10 carbon atoms. The component may optionally have a small amount of hydroxyl groups. The components have a number average molecular weight of 3,000 to 40,000, more preferably 5,000 to 36,0
00.

【0087】成分としては、両末端水酸基のポリジメ
チルシロキサン、α,ω−ジメチルポリシロキサン、両
末端メチル基の(メチルシロキサン)(ジメチルシロキ
サン)共重合体、環状ポリメチルシロキサン、両末端ト
リメチルシリル基のポリメチルシロキサン、両末端トリ
メチルシリル基の(ジメチルシロキサン)(メチルシロキ
サン)共重合体などが例示される。
The components include polydimethylsiloxane having hydroxyl groups at both terminals, α, ω-dimethylpolysiloxane, (methylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, cyclic polymethylsiloxane, and trimethylsilyl group having both terminals. Examples thereof include polymethylsiloxane and a (dimethylsiloxane) (methylsiloxane) copolymer of trimethylsilyl groups at both terminals.

【0088】成分としては、公知のものの中から任意
に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、白金単
体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金などが
例示される。これらの組成物の硬化速度を制御する目的
で、テトラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビ
ニル基含有のオルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重
結合含有のアルコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルなどの架橋抑制剤を添加することも可
能である。
The component is arbitrarily selected from known ones, and a platinum compound is particularly desirable, and examples thereof include platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, and olefin-coordinated platinum. In order to control the curing rate of these compositions, organopolysiloxanes containing vinyl groups such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, alcohols containing carbon-carbon triple bonds, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether It is also possible to add a crosslinking inhibitor such as.

【0089】なおシリコーンゴム層には必要に応じてシ
リカ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機物の粉末、
前記のシランカップリング剤、チタネートカップリング
剤やアルミニウム系カップリング剤等の接着助剤や光重
合開始剤を添加しても良い。本発明におけるシリコーン
ゴム層は印刷インキ反撥層となるものであり、厚さが小
さいとインキ反撥性の低下、傷が入りやすい等の問題が
あり、厚さが大きい場合現像性が悪くなるという点か
ら、厚みとしては0.5〜5g/m2 が好適であり、好
ましくは1〜3g/m2 である。
The silicone rubber layer may optionally contain inorganic powders such as silica, calcium carbonate, and titanium oxide.
An adhesion aid such as the above-mentioned silane coupling agent, titanate coupling agent or aluminum-based coupling agent, or a photopolymerization initiator may be added. The silicone rubber layer in the present invention serves as a printing ink repellent layer. If the thickness is small, there are problems such as a decrease in ink repellency and easy damage, and if the thickness is large, the developability deteriorates. from, the thickness is preferably 0.5 to 5 g / m 2, preferably from 1 to 3 g / m 2.

【0090】ここに説明した湿し水不要感光性平版印刷
版において、シリコーンゴム層の上に更に種々のシリコ
ーンゴム層を塗工しても良い。また、感光層とシリコー
ンゴム層との間の接着力を上げる目的で、感光層もしく
はシリコーンゴム層にシラン系もしくはチタネート系の
カップリング剤を添加するか、または感光層とシリコー
ンゴム層との間に上記カップリング剤を含有する中間層
を設けて感光層とシリコーンゴム層との接着を促進させ
ることが好ましい。
In the photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution described above, various silicone rubber layers may be further coated on the silicone rubber layer. Also, in order to increase the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a silane-based or titanate-based coupling agent is added to the photosensitive layer or the silicone rubber layer, or the photosensitive layer and the silicone rubber layer are It is preferable to provide an intermediate layer containing the above coupling agent to promote the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer.

【0091】本発明に用いられるシランカップリング剤
としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシランなどのビニルシラ
ン類、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどのエ
ポキシシラン類、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β
(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシランなどのアミノシラン類、γ−メタ
クリロキシプロピルメトキシシラン、γ−メタクリロキ
シプロピルメチルジエトキシシランなどの(メタ)アク
リロイルシラン類などが挙げられる。
Examples of the silane coupling agent used in the present invention include vinyl silanes such as vinyl trichlorosilane, vinyl trimethoxy silane and vinyl triethoxy silane, γ-glycidoxypropyl trimethoxy silane,
Epoxysilanes such as γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β
Aminosilanes such as (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane (Meth) acryloylsilanes.

【0092】本発明に用いられるチタネートカップリン
グ剤としては、テトラ−i−プロピルチタネート、テト
ラ−n−ブチルチタネート、テトラステアリルチタネー
トなどのアルキルチタネート、ジ−i−プロポキシ・ビ
ス(アセチルアセトナト)チタン、ジ−n−ブトキシ・
ビス(アセトナト)チタン、ジ−n−ブトキシ・ビス
(トリエタノールアミナト)チタン、ジヒドロキシ・ビ
ス(ラクタト)チタン、テトラキス(2−エチルヘキサ
ンジオライト)チタンなどのチタニウムキレート、トリ
−n−ブトキシチタンモノステアレート、チタニウムテ
トラベンゾエートなどのチタニウムアシレート、もしく
はこれらの会合体及び重合体も含まれる。更にi−プロ
ピルトリ(ジオクチルフォスフェート)チタネート、ビ
ス(ジオクチルフォスフエート)エチレンチタネート、
i−プロピルトリス(ジオクチルパイロフォスフェー
ト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェー
ト)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパ
イロフォスフェート)エチレンチタネートなどのリンを
含むチタネートも使用することができる。
The titanate coupling agents used in the present invention include alkyl titanates such as tetra-i-propyl titanate, tetra-n-butyl titanate and tetrastearyl titanate, and di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium. , Di-n-butoxy
Titanium chelates such as bis (acetonato) titanium, di-n-butoxybis (triethanolaminato) titanium, dihydroxybis (lactato) titanium, tetrakis (2-ethylhexanediolite) titanium, and tri-n-butoxytitanium mono Also included are stearate, titanium acylate such as titanium tetrabenzoate, or an association or polymer thereof. Further, i-propyl tri (dioctyl phosphate) titanate, bis (dioctyl phosphate) ethylene titanate,
Phosphorus-containing titanates such as i-propyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate can also be used.

【0093】更にシリコーンゴム層の表面保護のため
に、シリコーンゴム層上に透明なフィルム、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレ
フタレート、セロファン等をラミネートしたりポリマー
のコーティングを施しても良い。これらのフィルムは延
伸して用いても良い。またこれらのフィルムにはマット
を施しても良い。
Further, in order to protect the surface of the silicone rubber layer, a transparent film such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, cellophane, etc. is laminated on the silicone rubber layer, A coating may be applied. These films may be used after being stretched. These films may be provided with a mat.

【0094】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版は通
常、像露光、現像工程を施される。本発明の印刷版に用
いられる活性光線の光源としては、近赤外から赤外領域
に発光波長を持つ光源が好ましく、例えば固体レーザ、
半導体レーザが特に好ましい。ただし、使用される酸前
駆体の種類によっては、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯の紫外線の他、電子線、X線、イオンビーム、遠紫外
線などでも画像形成は可能である。フォトレジスト用の
光源に使われるg線、i線、Deep−UV光も使用する事
ができ、また高密度エネルギービーム(レーザービーム
又は電子線)による走査露光も本発明に使用することが
できる。このようなレーザービームとしてはヘリウム・
ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンイオン
レーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキ
シマレーザーなどが挙げられる。
The photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution of the present invention is usually subjected to image exposure and development steps. The light source for the actinic rays used in the printing plate of the present invention is preferably a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region, for example, a solid laser,
Semiconductor lasers are particularly preferred. However, depending on the type of acid precursor used, it is possible to form an image with an electron beam, X-ray, ion beam, far ultraviolet, etc., in addition to ultraviolet rays of a mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, chemical lamp, carbon arc lamp. is there. G-line, i-line, and Deep-UV light used as a light source for a photoresist can be used, and scanning exposure using a high-density energy beam (laser beam or electron beam) can also be used in the present invention. Such a laser beam is helium
Examples include a neon laser, an argon laser, a krypton ion laser, a helium / cadmium laser, and a KrF excimer laser.

【0095】本発明においてポジ型の湿し水不要平版印
刷版を作成する場合には露光した後、酸前駆体から発生
した酸による不溶化反応を促進するため加熱が施され
る。この加熱工程は80〜150℃の温度範囲で、5秒
〜20分の範囲で行われることが好ましい。
In the present invention, when a positive type lithographic printing plate requiring no dampening solution is prepared, it is heated after exposure to promote the insolubilization reaction by the acid generated from the acid precursor. This heating step is preferably performed at a temperature in the range of 80 to 150 ° C. for 5 seconds to 20 minutes.

【0096】露光及び必要に応じて加熱工程を経た湿し
水不要感光性平版印刷版は、画像部の感光層の一部ある
いは全部を溶解あるいは膨潤しうる現像液、あるいはシ
リコーンゴム層を膨潤しうる現像液で現像される。この
場合画像部の感光層およびその上のシリコーンゴム層が
除去される場合と画像部のシリコーンゴム層のみが除去
される場合があり、これは現像液の強さによって制御す
ることができる。
The photosensitive lithographic printing plate which does not require dampening water after exposure and, if necessary, a heating step is capable of dissolving or swelling part or all of the photosensitive layer in the image area, or swelling the silicone rubber layer. Developed with a developing solution. In this case, the photosensitive layer in the image area and the silicone rubber layer thereon may be removed, or only the silicone rubber layer in the image area may be removed, which can be controlled by the strength of the developer.

【0097】本発明の感光層組成物の現像に用いる現像
液としては、湿し水不要感光性平版印刷板の現像液とし
て公知のものが使用できる。例えば、脂肪族炭化水素類
[ヘキサン、ヘプタン、“アイソパーE、H、G”[エ
ッソ化学製、脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソ
リン、灯油など]、芳香族炭化水素類(トルエン、キシ
レンなど)、あるいはハロゲン化炭化水素(トリクレン
など)に下記の極性溶媒を添加したものや極性溶媒その
ものが好適である。 ・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテル、2−メトキシエタノール、2−エトキシ
エタノール、カルビトールモノメチルエーテル、カルビ
トールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール) ・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン) ・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、カルビトールアセテート、ジメチルフタレ
ート、ジエチルフタレート) ・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレシジル
フォスフェート) また上記有機溶剤系現像液に水を添加したり、上記溶剤
を界面活性剤を用いて水に可溶化したものや、更にその
上にアルカリ剤、例えば珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ
珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水など
のような無機アルカリ剤や、テトラアルキルアンモニウ
ムハイドライド、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミンなどのような有機アルカ
リ剤を添加することができる。
As the developer used for developing the photosensitive layer composition of the present invention, those known as developers for photosensitive lithographic printing plates requiring no dampening solution can be used. For example, aliphatic hydrocarbons [hexane, heptane, "Isoper E, H, G" (trade name of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene) Or the like, or a mixture of a halogenated hydrocarbon (such as tricrene) with the following polar solvent or the polar solvent itself.・ Alcohols (methanol, ethanol, propanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, carbitol monomethyl ether, carbitol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl Ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, polypropylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol) Ketones (acetone, methyl ethyl ketone) Esters (ethyl acetate, methyl lactate) , Ethyl lactate,
Butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, carbitol acetate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate) Others (triethyl phosphate, tricresidyl phosphate) Also, water is added to the organic solvent-based developer or the solvent is added to the interface. Solubilized in water using an activator, and further an alkali agent such as sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate Inorganic alkaline agents such as ammonium tribasic acid, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, tetraalkyl ammonium hydride, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine. It may be added an organic alkali agent such as emissions.

【0098】また場合によっては単に水道水やアルカリ
水を現像液として使用することができ、必要に応じて界
面活性剤や上記のような有機溶媒を加えることもでき
る。またクリスタルバイオレット、アストラゾンレッド
などの染料を現像液に加えて現像と、画像部の染色を同
時に行うことも可能である。現像は、例えば上記のよう
な現像液を含む現像用パッドで版面をこすったり、現像
液を版面に注いだ後に水中で現像ブラシでこするなど、
公知の方法で行うことができる。現像液温は任意の温度
で現像できるが好ましくは10℃〜50℃である。
In some cases, tap water or alkaline water can be used simply as a developer, and a surfactant or an organic solvent as described above can be added as necessary. Further, it is also possible to add a dye such as crystal violet or Astrazone Red to the developing solution and simultaneously carry out development and dyeing of the image area. Developing, for example, rubbing the plate surface with a developing pad containing a developer as described above, or rubbing with a developing brush in water after pouring the developer onto the plate surface,
It can be performed by a known method. The developer can be developed at any temperature, but is preferably from 10C to 50C.

【0099】このようにして得られた刷版は、その画像
形成性を確認するため露出画像部を染色液で染色し、検
知しうるようにできる。現像液に露出画像部の染色のた
めの染料を含有しない場合には現像後に染色液で染色さ
れる。染色液を軟らかいパッドにしみこませ、画像部を
軽くこすることにより、画像部のみが染色され、これに
よりハイライト部まで現像が十分に行われていることを
確認できる。染色液としては水溶性の分散染料、酸性染
料および塩基性染料のうちから選ばれる1種または2種
以上を水、アルコール類、ケトン類、エーテル類などの
単独または2種以上の混合液に溶解または分散せしめた
ものが用いられる。染色性を向上させるためにカルボン
酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤、消泡剤などを
加えることも効果的である。
The printing plate thus obtained can be detected by dyeing the exposed image portion with a dyeing solution in order to confirm the image forming property. When the developing solution does not contain a dye for dyeing the exposed image portion, it is dyed with the dyeing solution after development. By impregnating the dyeing solution with a soft pad and gently rubbing the image area, only the image area is dyed, whereby it can be confirmed that development is sufficiently performed up to the highlight area. As the dyeing solution, one or more selected from water-soluble disperse dyes, acid dyes and basic dyes are dissolved in water, alcohols, ketones, ethers or the like alone or in a mixture of two or more. Alternatively, those dispersed are used. It is also effective to add carboxylic acids, amines, surfactants, dyeing auxiliaries, defoamers and the like in order to improve the dyeability.

【0100】染色液により染色された刷版は、次いで水
洗し、その後乾燥することが望ましく、これにより版面
のべとつきを抑えることができ、刷版の取り扱い性を向
上させることができる。またこのように処理された刷版
を積み重ねて保管する場合には版面を保護するために合
紙を挿入して挟んでおくことが好ましい。
The printing plate dyed with the dyeing solution is preferably washed with water and then dried, whereby the stickiness of the printing plate surface can be suppressed and the handling of the printing plate can be improved. When printing plates thus processed are stacked and stored, it is preferable to insert and insert a slip sheet to protect the plate surface.

【0101】以上のような現像処理と染色処理、またそ
れに続く水洗乾燥処理は自動処理機で行うことが好まし
い。このような自動処理機の好ましいものは特開平2−
220061号公報に記載されている。
The above-described development and dyeing, and subsequent washing and drying are preferably performed by an automatic processor. A preferable example of such an automatic processor is disclosed in
No. 220061.

【0102】[0102]

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.

【0103】実施例1〜5 〔ポジ型湿し水不要感光性平版印刷版の作成〕 (基板の作成)厚さ0.24mmの2Sアルミニウム板を8
0℃に保った第三燐酸ナトリウムの10%水溶液に3分
間浸漬して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後、
アルミン酸ナトリウムで約10分間エッチングして、硫
酸水素ナトリウム3%水溶液でデスマット処理を行っ
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 において2分間陽極酸化を行った。
Examples 1 to 5 [Preparation of a photosensitive lithographic printing plate requiring no positive dampening solution] (Preparation of a substrate) A 0.24 mm thick 2S aluminum plate was prepared using 8
After immersion in a 10% aqueous solution of sodium tertiary phosphate maintained at 0 ° C. for 3 minutes to degrease, and grained with a nylon brush,
Etching was performed with sodium aluminate for about 10 minutes, and desmutting was performed with a 3% aqueous solution of sodium hydrogen sulfate. This aluminum plate is subjected to a current density of 2 A in 20% sulfuric acid.
Anodization was performed at / dm 2 for 2 minutes.

【0104】上記支持体上に、下記組成の塗布液を乾燥
膜厚1μmとなるように塗布し、加熱(100℃、1
分)、乾燥してプライマー層を形成した。 ・ポリウレタン(サンプレンIB1700D、三洋化成(株)製)10重量部 ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの 縮重合物のヘキサフルオロリン酸塩 0.1重量部 ・界面活性剤(ディフェンサーMCF323、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.03重量部 ・プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 50重量部 ・乳酸メチル 20重量部 ・純水 1重量部
A coating solution having the following composition was applied on the above support so as to have a dry film thickness of 1 μm, and heated (at 100 ° C., 1 ° C.).
Min) and dried to form a primer layer. 10 parts by weight of polyurethane (SAMPLEN IB1700D, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 0.1 part by weight of hexafluorophosphate of a condensation polymer of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde ・ Surfactant (Defenser MCF323, large 0.03 parts by weight-Propylene glycol methyl ether acetate 50 parts by weight-Methyl lactate 20 parts by weight-Pure water 1 part by weight

【0105】その後、ネアーク社製 FT261V UDNS ULTRA
-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER 真空露光機を用いて、20
カウント露光した。
Thereafter, FT261V UDNS ULTRA manufactured by Neark Co., Ltd.
-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER Using a vacuum exposure machine, 20
The count was exposed.

【0106】(カーボンブラック分散液の作成)下記重
量比による組成物をガラスビーズにより30分間分散
し、濾過によりガラスビーズを除き、カーボンブラック
分散液を得た。 ・カーボンブラック 1重量部 ・m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 1.6重量部 ・シクロヘキサノン 1.6重量部 ・メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
(Preparation of Carbon Black Dispersion) A composition having the following weight ratio was dispersed with glass beads for 30 minutes, and the glass beads were removed by filtration to obtain a carbon black dispersion. -1 part by weight of carbon black-1.6 parts by weight of m-cresol formaldehyde novolak resin-1.6 parts by weight of cyclohexanone-3.8 parts by weight of methoxypropyl acetate

【0107】(架橋剤の合成)1−[α−メチル−α−
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α,α−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼン20
gを水酸化カリウム水溶液(10%)100mlに溶解
させた。この反応液にホルマリン(37%)60mlを
室温で攪拌しながら1時間かけて滴下した。反応液を室
温にてさらに6時間攪拌した後、硫酸水溶液中に投入
し、晶析させた。得られたペースト状沈殿をよく水洗し
た後、メタノール30mlを用いて再結晶することによ
り、白色粉末を得た。収量は20gであった。得られた
化合物は、NMRにより1−[α−メチル−α−(4−
ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α,α−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンのヘキサ
メチロール化物であることがわかった。逆相HPLC
(カラム:Shimpac CLC−ODS、島津製作所製、溶
媒:メタノール/水=60/40→90/10)による
ヘキサメチロール化物の純度は92%であった。
(Synthesis of Crosslinking Agent) 1- [α-methyl-α-
(4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-
Bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene 20
g was dissolved in 100 ml of an aqueous potassium hydroxide solution (10%). 60 ml of formalin (37%) was added dropwise to this reaction solution over 1 hour while stirring at room temperature. After the reaction solution was further stirred at room temperature for 6 hours, it was poured into an aqueous sulfuric acid solution to cause crystallization. The obtained paste-like precipitate was thoroughly washed with water, and then recrystallized from 30 ml of methanol to obtain a white powder. The yield was 20 g. The obtained compound was analyzed by NMR for 1- [α-methyl-α- (4-
It was found to be a hexamethylolated product of [hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene. Reversed phase HPLC
(Column: Shimpac CLC-ODS, manufactured by Shimadzu Corporation, solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10), the purity of the hexamethylol compound was 92%.

【0108】このヘキサメチロール化物20gをメタノ
ール1000mlに加熱溶解させ、濃硫酸1mlを加
え、12時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭酸カリ
ウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エチル3
00mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、白色固
体を得た。収量は22gであった。得られた化合物は、
NMRにより1−[α−メチル−α−(4−ヒドロキシ
フェニル)エチル]−4−[α,α−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エチル]ベンゼンのヘキサメトキシメチ
ル化物であることがわかった。逆相HPLC(カラム:
Shimpac CLC−ODS、島津製作所製、溶媒:メタノ
ール/水=60/40→90/10)によるヘキサメト
キシメチル化物の純度は90%であった。この化合物は
本発明の架橋性化合物(a−1)に該当する。
20 g of this hexamethylol compound was dissolved by heating in 1000 ml of methanol, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 12 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, and the mixture was further stirred and concentrated.
After adding 00 ml, washing with water and drying, the solvent was distilled off to obtain a white solid. The yield was 22 g. The resulting compound is
NMR revealed that it was a hexamethoxymethylated product of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene. Reversed phase HPLC (column:
The purity of hexamethoxymethylated compound by Shimpac CLC-ODS, manufactured by Shimadzu Corporation, solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) was 90%. This compound corresponds to the crosslinkable compound (a-1) of the present invention.

【0109】(感光層)上記アルミ板上に、下記組成の
感光液を塗布し、90℃で1分間乾燥した。乾燥後の重
量は2g/m2 であった。 ・前記のカーボンブラック分散液 10重量部 ・前記の架橋剤 5重量部 ・m−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 5重量部 ・表−1の酸前駆体 10重量部 ・界面活性剤(ディフェンサーMCF323、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.1重量部 ・メチルエチルケトン 50重量部
(Photosensitive Layer) A photosensitive solution having the following composition was coated on the aluminum plate and dried at 90 ° C. for 1 minute. The weight after drying was 2 g / m 2 . 10 parts by weight of the carbon black dispersion 5 parts by weight of the crosslinking agent 5 parts by weight of m-cresol formaldehyde novolak resin 10 parts by weight of the acid precursor in Table 1 Surfactant (Defenser MCF323, Dainippon Japan) 0.1 parts by weight ・ Methyl ethyl ketone 50 parts by weight

【0110】(シリコーンゴム層)上記感光層上に、下
記のシリコーンゴム組成液を乾燥重量2g/m2 になる
よう塗布し、100℃、2分間乾燥した。 ・α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度 約700)9重量部 ・(CH 3 ) 3 -Si-O-(SiH(CH 3 )-O)8 -Si(CH3 ) 3 0.5重量部 ・ポリジメチルシロキサン(重合度 約8,000) 0.5重量部 ・オレフィン−塩化白金酸 0.08重量部 ・抑制剤(CH≡C-Si(CH3)2 OSi(CH3)3) 0.3重量部 ・γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 140重量部
(Silicone Rubber Layer) The following silicone rubber composition was applied on the above photosensitive layer to a dry weight of 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 2 minutes. 9 parts by weight of α, ω-divinyl polydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 700) ・ 0.5 parts by weight of (CH 3 ) 3 -Si-O- (SiH (CH 3 ) -O) 8 -Si (CH 3 ) 3 Parts ・ Polydimethylsiloxane (degree of polymerization approx. 8,000) 0.5 parts by weight ・ Olefin-chloroplatinic acid 0.08 parts by weight ・ Inhibitor (CH≡C-Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 3 ) 0.3 parts by weight ・ γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.3 parts by weight ・ Isoper E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.) 140 parts by weight

【0111】上記のようにして得られたシリコーンゴム
層の表面に、厚さ8μmの二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムをラミネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得
た。得られた印刷版を、版面出力2Wに調節したYAG
レーザで露光した後、ラミネートされたフィルムを剥離
し、オーブン中、100℃、3分の条件で加熱した。加
熱済みの印刷版をトリプロピレングリコールの40℃の
液に印刷版を1分間浸漬した後に、水中で現像パッドに
より版面をこすったところ、いずれの実施例の印刷版に
おいても露光部ではシリコーンゴムが残存し、未露光部
では感光層が露出したポジ型の湿し水不要平版印刷版を
得た。
An 8 μm-thick biaxially oriented polypropylene film was laminated on the surface of the silicone rubber layer obtained as described above to obtain a photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water. The printing plate obtained was adjusted to a plate surface output of 2 W by YAG.
After exposure with a laser, the laminated film was peeled off and heated in an oven at 100 ° C. for 3 minutes. After the heated printing plate was immersed in a liquid of tripropylene glycol at 40 ° C. for 1 minute, the surface of the printing plate was rubbed with a developing pad in water. A positive-type fountain solution-free lithographic printing plate was obtained in which the photosensitive layer was exposed in the remaining unexposed areas.

【0112】[0112]

【表1】 [Table 1]

【0113】実施例7 実施例1で用いた架橋剤の代わりに架橋剤の合成例の中
間体である1−〔α−メチル−α−(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチル〕−4−〔α,α−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)エチル〕ベンゼンのヘキサメチロール化物
を用い、実施例1と同様の操作により感光性平版を得
た。この化合物は本発明の架橋性化合物(a−1)に該
当する。実施例1と同様の露光、加熱、現像処理を行
い、ポジ型の平版印刷版を得た。
Example 7 Instead of the crosslinking agent used in Example 1, an intermediate of a synthesis example of the crosslinking agent, 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, A photosensitive lithographic plate was obtained in the same manner as in Example 1 using hexamethylolate of [alpha] -bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene. This compound corresponds to the crosslinkable compound (a-1) of the present invention. Exposure, heating, and development were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a positive planographic printing plate.

【0114】実施例8 実施例1で用いた架橋剤の代わりにヘキサメトキシメチ
ルメラミンを用い、実施例1と同様の操作により感光性
平版を得た。この化合物は本発明の架橋性化合物(a−
2)に該当する。実施例1と同様の露光、加熱、現像処
理を行い、ポジ型の平版印刷版を得た。
Example 8 A photosensitive lithographic plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that hexamethoxymethylmelamine was used in place of the crosslinking agent used in Example 1. This compound is a crosslinkable compound (a-
This corresponds to 2). Exposure, heating, and development were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a positive planographic printing plate.

【0115】実施例9 実施例1で用いた架橋剤の代わりにビスフェノールAと
エピクロロヒドリンの反応物であるエポキシ樹脂(エピ
コート1002、油化シェルエポキシ社製)を用い、実
施例1と同様の操作により感光性平版を得た。この化合
物は本発明の架橋性化合物(a−3)に該当する。実施
例1と同様の露光、加熱、現像処理を行い、ポジ型の平
版印刷版を得た。
Example 9 An epoxy resin (Epicoat 1002, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.), which is a reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, was used in place of the crosslinking agent used in Example 1, and To obtain a photosensitive lithographic plate. This compound corresponds to the crosslinkable compound (a-3) of the present invention. Exposure, heating, and development were performed in the same manner as in Example 1 to obtain a positive planographic printing plate.

【0116】実施例10 実施例1で用いたm−クレゾールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂の代わりにポリヒドロキシスチレンを用い、
実施例1と同様の操作により感光性平版を得た。実施例
1と同様の露光、加熱、現像処理を行い、ポジ型の平版
印刷版を待た。
Example 10 Polyhydroxystyrene was used in place of the m-cresol formaldehyde novolak resin used in Example 1,
A photosensitive lithographic plate was obtained in the same manner as in Example 1. Exposure, heating, and development were performed in the same manner as in Example 1, and a positive planographic printing plate was waited.

【0117】比較例1 実施例1で用いた架橋剤の代わりにビスフェノールAと
ホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂(重量平均
分子量1600)を用い、実施例1と同様の操作により
感光性平版を得た。この平版は製造直後は実施例1と同
様のポジ型の湿し水不要平版印刷版を与えるが、高温条
件下(60度)に長期間(3日間)保存することによ
り、シリコーンゴム層か均一に剥離しなくなる欠点を有
していた。実施例1〜10の印刷版はそのような欠点を
有していなかった。
Comparative Example 1 A resole resin (weight average molecular weight: 1600) obtained from bisphenol A and formaldehyde was used in place of the crosslinking agent used in Example 1, and a photosensitive lithographic plate was obtained in the same manner as in Example 1. Immediately after production, this lithographic plate gives the same positive-type fountain solution-free lithographic printing plate as in Example 1, but by storing it for a long time (3 days) under high temperature conditions (60 ° C.), However, it had a disadvantage that it did not peel off. The printing plates of Examples 1 to 10 did not have such a defect.

【0118】実施例11 実施例1で用いたカーボンブラック分散液の代わりに下
記染料を用い、実施例1と同様の操作により感光性平版
印刷版を得た。
Example 11 A photosensitive lithographic printing plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the following dye was used in place of the carbon black dispersion used in Example 1.

【0119】 染料:2,6-ジ-t−ブチル-4−{5-(2,6−ジ-t−ブチル-4H-チオピラン-4−イリデ ン)−ペンタ-1,3−ジエニル}チオピリリウムテトラフルオロボレート (米国特許第4,283,475号記載の化合物) 0.02重量部Dye: 2,6-di-t-butyl-4- {5- (2,6-di-t-butyl-4H-thiopyran-4-ylidene) -penta-1,3-dienyl} thio Pyrilium tetrafluoroborate (the compound described in US Pat. No. 4,283,475) 0.02 parts by weight

【0120】得られた感光性平版印刷版を半導体レーザ
(波長825nm、スポット径:1/e2 =11.9 μm)を用い線
速度8m/sec, 版面出力110mW で露光した。実施例1と同
様の現像処理を行ったところポジ型の湿し水不要平版印
刷版を得た。
The obtained photosensitive lithographic printing plate was exposed at a linear velocity of 8 m / sec and a plate surface output of 110 mW using a semiconductor laser (wavelength: 825 nm, spot diameter: 1 / e 2 = 11.9 μm). When the same developing treatment as in Example 1 was performed, a positive type lithographic printing plate requiring no dampening solution was obtained.

【0121】比較例2 実施例11の感光液組成中の染料の代わりに油溶性染料
(ビクトリアピュアブル−BOH)0.02重量部を用
いた以外は実施例9と同様にして、印刷版を作成した。
この印刷版を実施例9と同様に露光、現像処理したとこ
ろシリコーンゴム層が全面で剥離し、画像が得られなか
った。
Comparative Example 2 A printing plate was prepared in the same manner as in Example 9 except that 0.02 parts by weight of an oil-soluble dye (Victoria Pure-BOH) was used in place of the dye in the photosensitive solution composition of Example 11. did.
When this printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 9, the silicone rubber layer was peeled off over the entire surface, and no image was obtained.

【0122】実施例12 実施例1で用いたシリコーンゴム層の代わりに、下記組
成よりなるシリコーンゴム液を乾燥重量2g/m2 とな
るように実施例1の感光層上に塗布し、90℃、2分間
乾燥させ、カバーフィルムを設けて水無し平版印刷版を
得た。
Example 12 Instead of the silicone rubber layer used in Example 1, a silicone rubber solution having the following composition was applied on the photosensitive layer of Example 1 so as to have a dry weight of 2 g / m 2 , After drying for 2 minutes, a cover film was provided to obtain a waterless planographic printing plate.

【0123】 ・両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(重合度700)9重量部 ・メチルトリアセトキシシラン 0.3重量部 ・トリメトキシシリルプロピル−3,5−ジアリルイソシアヌレート 0.3重量部 ・ジブチル錫ジオクタノエート 0.1重量部 ・γ−アミノプロピルトリメトキシシラン 0.3重量部 ・アイソパーE(エッソ化学(株)製) 160重量部9 parts by weight of dimethylpolysiloxane having a hydroxyl group at both terminals (polymerization degree 700) 0.3 parts by weight of methyltriacetoxysilane 0.3 parts by weight of trimethoxysilylpropyl-3,5-diallyl isocyanurate 0.1 parts by weight of dibutyltin dioctanoate 0.3 parts by weight of γ-aminopropyltrimethoxysilane 160 parts by weight of Isopar E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.)

【0124】この印刷版を実施例1と同様に露光、現像
処理を行ったところポジ型の湿し水不要平版印刷版を得
た。
This printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 1 to obtain a positive type lithographic printing plate requiring no dampening solution.

【0125】実施例13 〔ネガ型湿し水不要感光性平版印刷版の作成〕実施例1
で用いたプライマー層上に、実施例11で用いた感光層
の塗布液の色素を下記構造式の化合物に替えて、120
℃、2分の乾燥条件で塗布乾燥し、塗布重量2g/m2
の感光層を得た。
Example 13 [Preparation of a photosensitive lithographic printing plate requiring no negative dampening solution] Example 1
On the primer layer used in the above, the dye of the coating solution for the photosensitive layer used in Example 11 was replaced with a compound having the following structural formula, and
At 2 ° C. for 2 minutes, and dried at a coating weight of 2 g / m 2.
Was obtained.

【0126】[0126]

【化35】 Embedded image

【0127】その上に、実施例1で用いたシリコーンゴ
ム層を塗布液を140℃、2分の乾燥条件で塗布乾燥
し、塗布重量2g/m2 のシリコーンゴム層を得た。上
記のようにして得られたシリコーンゴム層の表面に、厚
さ6μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをラミ
ネートし、湿し水不要感光性平版印刷版を得た。
The silicone rubber layer used in Example 1 was further applied and dried under the drying conditions of 140 ° C. for 2 minutes to obtain a silicone rubber layer having a coating weight of 2 g / m 2 . A 6 μm-thick polyethylene terephthalate film was laminated on the surface of the silicone rubber layer obtained as described above to obtain a photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water.

【0128】得られた印刷版を、版面出力2Wに調節し
たYAGレーザで露光した後、ラミネートされたフィル
ムを剥離し、トリプロピレングリコールの40℃の液に
印刷版を1分間浸漬した後、水中で現像パッドにより版
面をこすったところ、未露光部ではシリコーンゴムが残
存し、露光部では感光層が露出したネガ型湿し水不要平
版印刷版を得た。
After the obtained printing plate was exposed to a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, the laminated film was peeled off, and the printing plate was immersed in a liquid of tripropylene glycol at 40 ° C. for 1 minute, and then immersed in water. After rubbing the plate surface with a developing pad, a negative type fountain solution-free lithographic printing plate was obtained in which the silicone rubber remained in the unexposed areas and the photosensitive layer was exposed in the exposed areas.

【0129】比較例3 実施例13で用いた架橋剤の代わりにビスフェノールA
とホルムアルデヒドから得られるレゾール樹脂(重量平
均分子量1600)を用い、実施例13と同様の操作に
より感光性平版を得た。この平版は製造直後は実施例1
3と同様のポジ型の湿し水不要平版印刷版を与えるが、
高温条件下(60℃)に長期間(3日間)保存すること
により、シリコーンゴム層か均一に剥離しなくなる欠点
を有していた。実施例11〜13の印刷版はそのような
欠点を有していなかった。
Comparative Example 3 Bisphenol A was used in place of the crosslinking agent used in Example 13.
And a resole resin obtained from formaldehyde (weight average molecular weight: 1600), and a photosensitive lithographic plate was obtained in the same manner as in Example 13. This lithographic plate was prepared in Example 1 immediately after production.
The same positive type fountain solution-free lithographic printing plate as in 3 is given,
When stored under a high temperature condition (60 ° C.) for a long time (3 days), the silicone rubber layer was not uniformly peeled off. The printing plates of Examples 11 to 13 did not have such a defect.

【0130】比較例4 実施例13の感光液組成中染料の代わりに油溶性染料
(ビクトリアピュアブル−BOH)0.02重量部を用
いた以外は実施例8と同様にして、印刷版を作成した。
この印刷版を実施例13と同様に露光、現像処理したと
ころシリコーンゴム層が全面で剥離せず画像が得られな
かった。
Comparative Example 4 A printing plate was prepared in the same manner as in Example 8, except that 0.02 part by weight of an oil-soluble dye (Victoria Pure-BOH) was used in place of the dye in the photosensitive solution composition of Example 13. .
When this printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 13, the silicone rubber layer did not peel off on the entire surface and no image was obtained.

【0131】[0131]

【発明の効果】本発明の湿し水不要感光性平版印刷版に
より、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半
導体レーザを用いてコンピュータ等のデジタル信号から
直接製版可能であり、更にポジ型またはネガ型の両方に
使用可能であり、且つ、熱安定性に優れた直接製版用湿
し水不要平版印刷版を得ることができる。
According to the present invention, the photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution can directly make a plate from a digital signal of a computer or the like using a solid-state laser or semiconductor laser having a light emitting region from near infrared to infrared. Further, a lithographic printing plate which can be used for both a positive type and a negative type and which does not require dampening solution for direct plate making and has excellent thermal stability can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/038 G03F 7/038 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G03F 7/038 G03F 7/038

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、感光層、シリコーンゴム層
を順次積層してなり、該感光層が少なくとも、 (a)下記架橋性化合物より選択される少なくとも1種、 (a-1) アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 (a-2) N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (a-3) エポキシ系化合物 (b) アルカリ可溶性バインダー、 (c) 赤外線吸収剤、 (d) 熱で酸を発生させる化合物、 を含有することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷
版。
1. A photosensitive layer and a silicone rubber layer are sequentially laminated on a support, wherein the photosensitive layer comprises: (a) at least one kind selected from the following crosslinkable compounds; Aromatic compound substituted with methyl group or hydroxymethyl group (a-2) Compound having N-hydroxymethyl group, N-alkoxymethyl group or N-acyloxymethyl group (a-3) Epoxy compound (b) Alkali A lithographic printing plate requiring no dampening solution, comprising: a soluble binder; (c) an infrared absorber; and (d) a compound capable of generating an acid by heat.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1169357A1 (en) * 1999-03-12 2002-01-09 Arch Specialty Chemicals, Inc. Hydroxy-epoxide thermally cured undercoat for 193 nm lithography
US11482383B2 (en) 2017-08-31 2022-10-25 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electrolytic capacitor

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EP1169357A4 (en) * 1999-03-12 2004-03-17 Arch Spec Chem Inc Hydroxy-epoxide thermally cured undercoat for 193 nm lithography
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